JP2003327646A - アミノ基含有フェノール誘導体 - Google Patents

アミノ基含有フェノール誘導体

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリイミド樹脂の欠点を解決し、かつ従来の
ポリイミド樹脂の利点を備えた材料を提供する。 【解決手段】 下記一般式(1)で示されるアミノ基含
有フェノール誘導体を用いてポリイミド前駆体を構成す
る。 【化1】 (式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜9のアルキル
基、炭素数2〜10のアルコキシ基、COOR(Rは炭
素数1〜6のアルキル基を示す)または水素であり、相
互に異なっていても同一でもよく;R4、R5は炭素数
1〜9のアルキル基または水素であり、相互に異なって
いても同一でもよく;Xは−O−、−S−、−SO
2−、−C(CH32−、−CH2−、−C(CH 3
(C25)−、または−C(CF32−を示し;nは1
以上の整数である。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアミノ基含有フェノ
ール誘導体とこれを用いたポリイミド前駆体又はポリイ
ミド樹脂と感光性ポリイミド前駆体または感光性ポリイ
ミド樹脂、および複合材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、IT機器の高機能化により、莫大
な情報を処理する携帯機器の高密度化が重要になってき
ている。また、この様な電子部品等に用いられる材料に
ついても環境への影響が重視され、脱ハロゲン難燃化
や、鉛フリーによる半田耐熱の上昇等、要求は日々厳し
いものになってきている。この様な用途で材料に要求さ
れる性能としては、具体的には、低応力化、低誘電率、
高耐熱性、高接着性、難燃性等が挙げられる。また、従
来、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜などの電子部
品に使用されているポリイミド樹脂は、耐熱性、機械特
性、低誘電性、難燃性、塗膜性、フィルム性などに優れ
ていることから、次世代用途への応用が期待されてい
る。しかしながら、現状では、ポリイミド樹脂はシリコ
ンウェハ、酸化金属等との密着性(接着性)が悪い、ガ
ラス転移後の熱膨張が大きい等の欠点もある。また、そ
のままではポリイミド樹脂の改質が難しく、有機溶剤に
難溶なため、加工性が悪く、その用途は比較的狭かっ
た。そこで、これらのポリイミド樹脂の欠点を改良する
ために、例えば、特開平5−255480号公報には、
ポリイミド樹脂本来の耐熱性を確保しつつ、難燃性を確
保できる、バランスの良いエポキシ変性ポリイミド樹脂
が開示されている。特開平6−345866号公報に
は、低応力化の改質を行うために、ポリイミド主鎖中に
シロキサン骨格を導入したシロキサン変性ポリイミド樹
脂が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例え
ば、特開平5−255480号公報に記載のエポキシ変
性ポリイミド樹脂においては、実際にはポリイミド樹脂
本来の分子量、塗膜性、機械特性は低下しており、要求
される特性を満足しているとは言えない。また、特開平
6−345866号公報に記載のシロキサン変性ポリイ
ミド樹脂においては、このシロキサン変性により耐熱性
が低下してしまい、ポリイミド樹脂本来の特性が損なわ
れている。本発明は前記事情に鑑てなされたもので、基
板との密着性、可とう性等の従来のポリイミド樹脂の欠
点を解決し、かつ従来のポリイミド樹脂の利点を維持し
た材料を提供することを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記ポリ
イミド樹脂に不足する特性を補うためには、例えば他の
化合物と複合化することが有効ではないかと考えて鋭意
検討した。しかし、従来のポリイミド樹脂及びその材料
は他の化合物との反応性が低く、この様な改良が困難で
あった。そこで、さらに検討した結果、アミノ基含有フ
ェノール誘導体を用いてポリイミド樹脂の骨格にフェノ
ール化合物を導入することにより、他の化合物との複合
化が可能となり、ポリイミド樹脂に不足した特性を複合
化した化合物によって補うことができることを見い出
し、本発明を完成させた。すなわち、本発明のアミノ基
含有フェノール誘導体は、下記一般式(1)で表される
アミノ基含有フェノール誘導体である。
【0005】
【化3】
【0006】(式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜9
のアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシ基、COO
R(Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す)または水素
であり、相互に異なっていても同一でもよく;R4、R5
は炭素数1〜9のアルキル基または水素であり、相互に
異なっていても同一でもよく;Xは−O−、−S−、−
SO2−、−C(CH32−、−CH2−、−C(C
3)(C25)−、または−C(CF32−を示し;
nは1以上の整数である。)
【0007】また、本発明のポリイミド前駆体は、下記
一般式(2)で表される繰り返し単位からなるものであ
る。
【0008】
【化4】
【0009】(式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜9
のアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシ基、COO
R(Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す)または水素
であり、相互に異なっていても同一でもよく;R4、R5
は炭素数1〜9のアルキル基または水素であり、相互に
異なっていても同一でもよく;Xは−O−、−S−、−
SO2−、−C(CH32−、−CH2−、−C(C
3)(C25)−、または−C(CF32−を示し;
6は芳香族テトラカルボン酸二無水物残基を示し;n
は1以上の整数である。)
【0010】また、本発明のポリイミド樹脂は、前記ポ
リイミド前駆体を脱水縮合反応させて得られるものであ
る。また、本発明のポリイミド前駆体またはポリイミド
樹脂は、1以上のフェノール性水酸基の水素がポリイミ
ド前駆体に感光性を付与する官能基で置換された感光性
ポリイミド前駆体または感光性ポリイミド樹脂とするこ
ともできる。また本発明のポリイミド前駆体またはポリ
イミド樹脂は、他の化合物と複合させて複合材料を構成
することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下本発明の構成について詳細に
説明する。 (A)アミノ基含有フェノール誘導体 前記一般式(1)で表されるアミノ基含有フェノール誘
導体において、式中、R1、R2、R3は、 ・炭素数1〜9、好ましくは1〜4の直鎖または分岐鎖
状のアルキル基; ・炭素数1〜10、好ましくは1〜4のアルコキシ基
(アルコキシ基のアルキル残基は直鎖または分岐鎖状の
いずれでもよい。); ・COOR(Rは炭素数1〜6、好ましくは3〜6の直
鎖または分岐鎖状のアルキル基を示す);または ・水素 であり、相互に異なっていても同一でもよい。
【0012】このうち、R1、R2、R3がアルキル基の
場合は耐水性を向上させることができる。アルコキシ基
またはCOORの場合は後述する様に電子部品用として
用いた場合に基板との密着性を向上させることができ
る。COORの場合は、さらに後述する複合材料とする
際にポリエステルとの複合化が可能になる。また、アル
コキシ基またはCOORの加水分解により、アルカリ溶
解性をさらに向上させることができ、例えばアルカリ現
像用途に適用する場合に好ましい。よって、R1、R2
3は用途に応じて適宜選択することが好ましい。特
に、R1、R2 、R3のうち、1つまたは2つが水素で、
残りが水素以外のものであると特性上好ましい。また、
水素以外のものがメチル基であると好ましい。例えばR
1、R2 、R3のうち、ふたつが水素で、ひとつがメチル
基の組み合わせ、またはひとつが水素でふたつがメチル
基の組み合わせの場合、耐湿性が向上するため、好まし
い。
【0013】また、R1、R2、R3は、前記一般式
(1)に示した2〜6位の炭素原子のうち、いずれに結
合していてもよいが、規則的繰り返し単位を必要とする
場合は構造的に対称性がよいものが好ましい。特に、ふ
たつが水素でひとつが水素以外のものである場合には、
水素原子以外のものが4位の炭素原子に結合していると
構造的に対称性がよい点から、規則的繰り返し単位を必
要とする場合は好ましい。また、R1、R2 、R3が全て
メチル基であると、耐湿性がさらに向上し、また、溶剤
に対する溶解性も向上するため、好ましい。
【0014】R4、R5は炭素数1〜9、好ましくは1〜
4の直鎖状あるいは分岐鎖状のアルキル基または水素で
あり、相互に異なっていても同一でもよい。この様にR
4、R5にアルキル基を導入することにより、耐水性を向
上させることができ、好ましい。また、アミノ基の反応
性の点から、R4、R5がメチル基であると好ましい。
【0015】また、両端のアミノ基が結合したベンゼン
環に結合したR4どうし、R5どうし、およびXと−CH
2−とが、それぞれ同一番号の炭素原子に結合してお
り、両端のアミノ基が結合したベンゼン環、およびこれ
らとフェノール性水酸基が結合したベンゼン環とを結合
するXと−CH2−が対称形になっていると高分子量の
ポリイミド前駆体を形成できるため、好ましい。なお、
Xは、−O−、−S−、−SO2−、−C(CH3
2−、−CH2−、−C(CH3)(C25)−、または
−C(CF32−であるが、そのうち、−CH2−であ
ると反応プロセスが容易であり、好ましい。好ましくは ・2つのR4が、それぞれ2位と6位の炭素原子のうち
の一方の炭素原子に結合し、 ・2つのR5が、それぞれ2位と6位の炭素原子のうち
の他方の炭素原子に結合し、 ・Xとメチレン基とが、それぞれ4位の炭素原子に結合
していると、アミノ基の吸湿性がガードされるため、耐
湿性が向上し、また、隣接するフェノール水酸基との相
互作用がないため、アミノ基の反応性が高くなり、好ま
しい。
【0016】nは1以上の整数であるが、実質的には2
0以下とされる。また、1以上、15以下が好ましい。
なお、nは要求特性よって適宜選択される。
【0017】本発明のアミノ基含有フェノール誘導体の
うち、最も好ましいものの例を以下に示す。
【化5】
【0018】本発明のアミノ基含有フェノール誘導体の
製造方法について、前記一般式(1)において、Xが−
CH2−の場合について説明する。アミノ基含有フェノ
ール誘導体は、下記[化6]で示したフェノール類化合
物(すなわち、一般式(1)において、アミノ基が結合
したベンゼン環、X、及びメチレン基を除いたもの)
に、ホルマリンを反応させて、下記[化7]に示した様
に、2つの−CH2OHが結合したジメチロールフェノ
ール誘導体を製造する。なお、[化7]に示した一般式
中、nが2以上の場合は、2以上のフェノール類化合物
がメチレン基によって接続された構造となる。nの数は
前記[化6]で示した原料のフェノール類化合物の特
性、反応条件等によって変更することができる。つい
で、このジメチロールフェノール誘導体の2つの−CH
2OHにおいて、それぞれ下記[化8]に示したアニリ
ン誘導体のアミノ基と縮合反応させことにより、前記一
般式(1)で示したアミノ基含有フェノール誘導体が得
られる。
【0019】なお、下記[化6]乃至[化8]中のR
1 、R2 、R3、R4 、R5 及びnは前記一般式(1)
中のものと同様であり、製造するアミノ基含有フェノー
ル誘導体に応じて適宜選択される。
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】
【化8】
【0023】具体的な反応条件は例えば以下の通りであ
る。撹拌機、温度形、コンデンサー、滴下ロートを備え
た反応器に、材料のフェノール類化合物と、このフェノ
ール類化合物に対して、2〜4倍モルのホルマリンを含
むホルマリン水溶液(好ましくは約50質量%濃度)を
仕込み、撹拌しながら、例えば0〜50℃、1〜2時間
の反応条件で、アルカリを滴下する。アルカリとして
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ水
溶液などが好ましく、例えば約30質量%程度の水酸化
ナトリウム水溶液などを用いることができる。また、ア
ルカリはフェノール類化合物に対して等モル程度の割合
で用いられる。その後、昇温し、例えば反応温度20〜
80℃、反応時間2〜4時間の条件で反応させる。
【0024】ついで、好ましくは30℃以下になる様に
冷却し、酸で中和し、生成物を析出させる。酸は特に限
定せず例えば約10質量%濃度の酢酸水溶液などを用い
ることができる。ついで、濾過し、生成物を水洗し、好
ましくは50℃以下の温度条件で減圧乾燥して生成物
(ジメチロールフェノール誘導体)を得る。さらに、温
度計、コンデンサー、撹拌機を備えた反応器に、前記生
成物、アニリン誘導体、酸触媒、必要に応じて有機溶媒
を仕込み、120〜200℃、好ましくは140〜18
0℃で、4〜8時間程度反応させる。
【0025】アニリン誘導体は、ジメチロールフェノー
ル誘導体に対して2〜4倍モル、好ましくは2.2〜
3.0倍モル用いられる。酸触媒としては、一般的な有
機酸、無機酸を用いることができ、例えば塩酸、パラト
ルエンスルホン酸、シュウ酸などが用いられ、中でもシ
ュウ酸が好ましい。使用量はその種類などによって適宜
変更されるが、シュウ酸の場合は例えば総仕込み量の1
質量%程度が好ましい。また、有機溶媒は必須ではない
が、例えばアルコール類、セロソルブ類、トルエンなど
が好ましい。使用量は例えば総仕込量に対して10〜2
0質量%とされる。その後冷却し、必要に応じて蒸留、
再結晶等の公知の方法で精製すると、本発明のアミノ基
含有フェノール誘導体が得られる。再結晶に用いる有機
溶媒としては、例えばセロソルブ類、アルコール類、酢
酸エステル、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。
【0026】なお、前記一般式(1)において、Xが−
CH2−以外の場合には、例えばビスフェノール−S、
ヒドロキシジフェニルエーテル、ビスフェノールAFな
どのフェノール核体化合物を用い、上述の場合と同様に
ジメチロール化し、ついでアニリン誘導体と反応させる
ことにより、アミノ基含有フェノール誘導体を製造する
ことができる。
【0027】(B)ポリイミド前駆体及びポリイミド樹
脂 本発明のポリイミド前駆体は前記一般式(2)で表され
る繰り返し単位からなるものである。また、これを脱水
縮合反応させると、前記一般式(2)において、R6
結合するふたつのカルボキシル基とイミノ基とが、それ
ぞれ脱水縮合反応して環状になり、以下の一般式(3)
で表される繰り返し単位からなる、ポリイミド樹脂が得
られる。
【0028】
【化9】
【0029】一般式(2)、(3)において、R1
2、R3、R4、R5、X、およびnは前記アミノ基含有
フェノール誘導体について記載したものと同じである。
【0030】また、一般式(2)、(3)中において、
6は芳香族テトラカルボン酸二無水物残基を示す。芳
香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロ
メリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、ナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二
無水物、ナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン
酸二無水物、ナフタレン−1,2,4,5−テトラカル
ボン酸二無水物、ナフタレン−1,4,5,8−テトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−1,2,6,7−テ
トラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−
ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,
4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,
3”,4,4”−p−テルフェニルテトラカルボン酸、
2,2”,3,3”−p−テルフェニルテトラカルボン
酸、2,3,3”,4”−p−テルフェニルテトラカル
ボン酸、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)−プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)−プロパン二無水物、ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二
無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エタン二無水物などが好ましい。これら
の中でも、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,
4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物などが一般
的であり、かつ低熱膨張化の点から好ましい。
【0031】ポリイミド前駆体とポリイミド樹脂の質量
平均分子量はほぼ同じ範囲とされる。それぞれの質量平
均分子量は目的とする用途などによって適宜変更可能で
あるが、1万〜10万であることが好ましく、2万〜6
万であることがより好ましい。なお、本発明のポリイミ
ド前駆体またはポリイミド樹脂は、反応条件によって、
上述の様に1万〜10万程度、好ましくは2万〜6万の
範囲で自由に質量平均分子量をコントロールすることが
できる。よって、従来のポリイミド樹脂と遜色のない分
子量が得られる。
【0032】また、この様に質量平均分子量が従来のポ
リイミド樹脂と同等であるのに加えて、本発明のポリイ
ミド樹脂は、それ自体が有機溶剤に可溶であるという非
常に有効な特性を備えていることが判明した。すなわ
ち、一般に、従来の芳香族ポリイミド樹脂は有機溶剤に
溶解しにくい。そのため、例えば、予め有機溶剤に可溶
のポリイミド前駆体(すなわち、ポリアミック酸)を、
有機溶剤に溶解した溶液を基材に塗布し、加熱により脱
水環化し、さらに乾燥処理してポリイミド化を行うこと
により、ポリイミド樹脂からなる塗膜を製造する方法が
採用されている。このときの加熱、乾燥処理の条件は、
ポリイミド前駆体を脱水縮合反応によって環化させてポ
リイミド樹脂を得るため、高温かつ長時間の条件が必要
とされる。これに対して、本発明のポリイミド樹脂は有
機溶剤に可溶であるため、ポリイミド前駆体ではなく、
脱水縮合反応させた後のポリイミド樹脂自体を有機溶剤
に溶解した溶液を例えば基材に塗布して、上記の加熱、
乾燥処理条件よりもはるかに低温、短時間で乾燥するこ
とにより、ポリイミド樹脂からなる塗膜が得られる。
よって、従来よりもはるかに簡便な操作で短時間に塗膜
を得ることができる。また、脱溶剤の処理のみで、脱水
縮合反応させる必要がないため、脱水による膜厚の減少
や、膜厚のばらつきが生じることがない、という効果も
得られる。
【0033】なお、このとき使用する有機溶剤として
は、ポリアミド樹脂を溶解可能なものであれば特に限定
することはなく、1種あるいは2種以上のものを混合し
て用いることができる。例えばN−メチル−2−ピロリ
ドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
ホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、γ−ブチロ
ラクトン、p−クロルフェノール等の有機溶媒やメチル
ジグライム、メチルトリグライム等のグライム系溶媒等
が挙げられる。この様に本発明のポリイミド前駆体とポ
リイミド樹脂においては、膜形成が容易であったり、膜
の表面を平坦化できるという、塗膜形成におけるポリイ
ミド樹脂自身の利点をも十分に兼ね備えたものを提供す
ることができる。そして、さらに、脱水縮合反応させて
ポリイミド樹脂とした後に溶剤に溶解して、乾燥を経
て、所定の形状に成形することができるため、ポリイミ
ド前駆体の溶液を塗布した後に脱水縮合反応させる場合
等の様に加熱処理の途中で脱水縮合反応の水が生じるこ
とがない。そのため、膜などの成形体に水を除去する際
に生じるボイド等が生じにくいという利点もある。薄膜
状のものは脱水縮合反応で生じた水が大気中に抜けやす
いが、厚膜状のものや、直方体状などの厚い成形体にお
いては水が抜けにくく、ボイド等が生じやすい。したが
って、この様な用途にポリイミド樹脂を溶解した溶液を
用いると、そのボイドのない均一な成形体が得られ、好
ましい。そのため、本発明のポリイミド前駆体、及びポ
リイミド樹脂は、単独でも、水性現像用、電子材料の接
着剤、絶縁材用、成形材用等として優れた特性を有す
る。
【0034】本発明のポリイミド前駆体は、例えば以下
の様にして製造することができる。まず、反応器にアミ
ノ基含有フェノール誘導体と有機溶媒を仕込み、例えば
室温で約30分程度撹拌してアミノ基含有フェノール誘
導体を溶解する。有機溶媒としては、材料と反応物を均
一に溶解できるものであれば特に限定することはなく、
1種あるいは2種以上のものを混合して用いることがで
きる。例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、
テトラメチレンスルホン、γ−ブチロラクトン、p−ク
ロルフェノール等の有機溶媒やメチルジグライム、メチ
ルトリグライム等のグライム系溶媒等が挙げられる。有
機溶媒は、アミノ基含有フェノール誘導体の濃度が35
〜10質量%、好ましくは15〜25程度となる様に用
いられる。
【0035】ついで、30℃以下(好ましくは20〜2
5℃)の温度条件下で0.5〜1時間程度かけて、撹拌
しながら芳香族テトラカルボン酸二無水物を添加する。
ついで、同じ温度条件で1〜20時間程度撹拌すること
により、ポリイミド前駆体の溶液が得られる。ポリイミ
ド前駆体として用いる場合には、溶液のまま用いること
が好ましい。芳香族テトラカルボン酸二無水物に対する
アミノ基含有フェノール誘導体のモル比は1.2〜0.
9、好ましくは約1.0、さらに好ましくは1.01〜
0.99とされる。
【0036】ついで、ポリイミド前駆体を脱水縮合反応
させて、ポリイミド樹脂とする場合には、上述の様にし
て得られたポリイミド前駆体の溶液を、例えば170〜
200℃の温度条件下、2〜4時間、脱水縮合反応させ
ると、ポリイミド樹脂が得られる。
【0037】(C)感光性ポリイミド前駆体及び感光性
ポリイミド樹脂 本発明の感光性ポリイミド前駆体は、前記一般式(2)
で表される繰り返し単位からなるポリイミド前駆体にお
いて、フェノール性水酸基の水素原子の1つ以上が、当
該ポリイミド前駆体に感光性を付与する官能基で置換さ
れたものである。本発明の感光性ポリイミド樹脂は、前
記一般式(3)で表される繰り返し単位からなるポリイ
ミド樹脂において、フェノール性水酸基の水素原子の1
つ以上が、当該ポリイミド樹脂に感光性を付与する官能
基で置換されたものである。当該感光性ポリイミド前駆
体及び感光性ポリイミド樹脂は、水性現像用、電子材料
のソルダーレジスト用、感光材用などとして優れた特性
を有する。特に感光性ポリイミド樹脂は、塗膜を形成す
る前に既に脱水縮合反応を経ているので、塗膜形成時に
水が生じず、膜減りが生じないという利点を有してい
る。上述のポリイミド樹脂の場合と同様、厚膜などの脱
水しにくい形状のものに適用する場合に特に優れた効果
を発揮する。
【0038】感光性ポリイミド前駆体を用いる場合、ア
ルカリ現像におけるコントラストを出すため、多量の感
光基の導入が必要となる場合がある。感光性ポリイミド
前駆体の場合はフェノール性水酸基の10〜90%、好
ましくは40〜80%が前記感光性を付与する置換基で
置換されていると好ましい。感光性ポリイミド樹脂の場
合はフェノール性水酸基の10〜70%、好ましくは2
0〜40%が前記感光性を付与する置換基で置換されて
いると好ましい。
【0039】感光性ポリイミド前駆体と感光性ポリイミ
ド樹脂の質量平均分子量は同程度の範囲とされ、良好な
塗膜性を得るために、1〜10万、好ましくは2〜6万
とされる。
【0040】ポリイミド前駆体またはポリイミド樹脂に
感光性を付与する官能基としてはキノンジアジド系感光
基、アクリロイル基などが挙げられる。キノンジアジド
系感光基としては、例えば、1,2−ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,1−ナフ
トキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,1−
ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどが
好ましい。
【0041】一例として、キノンジアジド系感光基で置
換した本発明の感光性ポリイミド前駆体は、上述の様に
して本発明のポリイミド前駆体を製造した後、例えばこ
の反応物100質量部に、キノンジアジドスルホニルク
ロライドを好ましくは1〜50質量部、特に好ましくは
5〜25質量部反応させることにより、得られる。この
反応においては、キノンジアジドスルホニルクロライド
添加後、さらに1.2当量分のトリエチルアミンを好ま
しくは30℃以下、特に好ましくは25℃以下で、約3
0分かけて滴下し、2〜12時間反応させることが好ま
しい。これを、反応溶液の10倍量の0.2%シュウ酸
水溶液中に投入し、析出してきた固形分を濾過、イオン
交換水洗浄、乾燥して感光性ポリイミド前駆体が得られ
る。また、例えばキノンジアジド系感光基で置換した本
発明の感光性ポリイミド樹脂は、上述の様にして、本発
明のポリイミド樹脂を製造した後、上述の感光性ポリイ
ミド前駆体と同様にして、キノンジアジドスルホニルク
ロライドを反応させることにより、得られる。また、前
記感光性ポリイミド前駆体を脱水縮合反応させて製造す
ることもできる。アクリロイル基で置換した感光性ポリ
イミド前駆体または感光性ポリイミド樹脂は、上述のキ
ノンジアジドスルホニルクロライドにかえてアクリル酸
クロライドを用いることにより、得ることができる。
【0042】なお、目的とする用途にもよるが最も好ま
しい感光性ポリイミド前駆体または感光性ポリイミド樹
脂は、前記[化5]に示した好ましいアミノ基含有フェ
ノール誘導体を用いたものであり、その中でも、熱膨張
率の影響が重要な用途に用いる場合は、芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物として、特にピロメリット酸二無水
物、3,3’,4,4’−ジフェニルテトラカルボン酸
二無水物などを用いたものが好ましい。
【0043】(D)複合材料 本発明のポリイミド前駆体またはポリイミド樹脂は、他
の化合物と複合化した複合材料とすることができる。本
発明において、複合化するための他の化合物としては、
フェノール性水酸基と反応する官能基を備えたものであ
れば特に限定することなく用いることができ、用途にも
よるが、例えば合成樹脂が好ましい。具体的には、例え
ばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などを
挙げることができ、これらは1種または2種以上混合し
て用いることができる。本発明においては、エポキシ樹
脂、あるいはシリコーン樹脂と複合化すると特に半導体
素子の表面保護膜、層間絶縁膜等の電子部品用途などに
おいて、ポリイミド樹脂の耐熱性、機械特性、電気絶縁
性、難燃性、良好な膜形成性、平坦な膜の形成など、好
ましい特性を付加できるため望ましい。また、一般式
(2)、(3)において、R1、R2、R3のいずれかひ
とつがCOORである場合にはポリエステル樹脂との複
合化も可能である。なお、ポリイミド前駆体またはポリ
イミド樹脂のうち、ひとつ以上のフェノール性水酸基が
あれば、複合化が可能であるため、2以上のフェノール
性水酸基を有し、その一部の水素原子がキノンジアジド
系感光基で置換された感光性ポリイミド前駆体または感
光性ポリイミド樹脂であっても複合化は可能である。
【0044】複合材料は例えば以下の様にして製造する
ことができる。まず、本発明のポリイミド前駆体または
ポリイミド樹脂と、複合化する他の化合物とを、例えば
エポキシ樹脂の様にグリシジル基を有する化合物の場
合、40〜80℃、好ましくは60℃程度の温度で20
〜60分、好ましくは30分程度均一に混合する。その
後、トリフェニルホスフィン、トリエチルアミン、その
他一般的な硬化促進剤(好ましくはトリフェニルホスフ
ィン)などの触媒を添加し、例えば40〜80℃、好ま
しくは60℃程度の温度で20〜60分、好ましくは約
30分間撹拌して、複合化させる。ついで170〜35
0℃に昇温し、3〜5時間維持し、硬化させて、複合材
料を得る。例えば180℃で1時間維持し、昇温し、2
50℃で1時間維持し、さらに昇温し、320℃で1時
間維持して、硬化させることができる。なお、フィルム
状にする場合には、昇温、硬化する前に、基板などの基
体上にスピンコートなどによって塗布し、これを上述の
様な条件で硬化させることにより、基体に密着した塗膜
を簡単に得ることができる。
【0045】複合材料製造時の本発明のポリイミド前駆
体またはポリイミド樹脂と他の化合物との配合比率は他
の化合物の種類や用途などによって適宜変更可能である
が、例えば合成樹脂と複合化する場合、10:1〜1:
10、好ましくは4:1〜1:4(質量比)とされる。
【0046】エポキシ樹脂と複合化する場合、エポキシ
樹脂の種類は特に限定するものではなく目的とする用途
によって適宜選択される。例えばフェノールノボラック
型エポキシ樹脂;o−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェ
ノールF、ビフェノール等のエポキシ化物と、ジアミノ
フェニルメタン等のポリアミンと、エピクロルヒドリン
の反応によって得られるグリヂジルアミン型エポキシ樹
脂;などを挙げることができ、これらを1種または2種
以上組み合わせて用いることができる。例えば成形材用
途の場合は各種ノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、
フィルム、接着剤用途の場合には、各種ビスフェノール
を用いたダイマータイプのエポキシ樹脂が好ましい。エ
ポキシ樹脂のエポキシ当量は用途によって適宜変更可能
であるが、例えば150〜250、好ましくは160〜
200とされる。特に、エポキシ樹脂と複合化した複合
材料は、驚くべきことに、複合化前のポリイミド前駆体
のガラス転移点よりも高いガラス転移点を示し、耐熱性
が向上することが明らかになった。したがって、基板な
どの電子部品との密着性が良好であり、かつ非常に耐熱
性が良好な材料が得られる。
【0047】電子部品用途に適用する場合は、従来、電
子部品用途に用いられているエポキシ樹脂の中から選択
すると好ましい。この場合、本発明のポリイミド前駆体
またはポリイミド樹脂とエポキシ樹脂との配合比率は例
えば1:4〜4:1、好ましくは2:1〜1:2(質量
比)とされる。また、最近はIC封止材としてフィルム
状のものも提案されているが、本発明の複合材料はポリ
イミド樹脂の良好な膜形成性を備えているため、この場
合にも好適である。
【0048】シリコーン樹脂と複合化する場合も、シリ
コーン樹脂の種類は特に限定するものではなく用途によ
って適宜選択される。シリコーン樹脂の数平均分子量は
用途によって適宜変更可能であるが、例えば3000〜
30000、好ましくは5000〜20000とされ
る。最近は、電子部品用途において、ICの集積度の向
上により、低応力化樹脂としてシリコーン樹脂が用いら
れている。そのため、シリコーン樹脂を複合化すると、
可とう性があり、低応力で、かつポリイミド樹脂の高い
耐熱性、良好な誘電率、膜形成性などの好ましい特性を
備えたフィルムなどを得ることができる。特に、上述の
様に、この複合材料はポリイミド樹脂の良好な膜形成性
を備えており、かつシリコーン樹脂の可とう性を発揮す
るため、フィルム状の封止材やフレキシブルプリント基
板などを構成するのに好適である。この場合は、従来、
電子部品用途に用いられているシリコーン樹脂の中から
選択すると好ましい。例えばフェニルメチルシリコーン
樹脂、メチルシリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂など
が挙げられる。この場合、本発明のポリイミド前駆体ま
たはポリイミド樹脂とシリコーン樹脂との配合比率は例
えば10:10〜10:1、好ましくは10:4〜1
0:2(質量比)とされる。
【0049】この様に、本発明のアミノ基含有フェノー
ル誘導体を用いて、ポリイミド前駆体又はポリイミド樹
脂を構成すると、フェノール性水酸基の導入により、耐
熱性、機械特性、電気絶縁性、難燃性などのポリイミド
樹脂の優れた特性を維持しつつ、他の化合物との複合化
が可能となる。なお、複合化とは、アミノ基含有フェノ
ール誘導体残基の前記フェノール性水酸基が他の化合物
の官能基と反応し、結合することをいう。例えば他の樹
脂と複合化することにより、この樹脂が有する優れた特
性を付加することができる。さらに具体的には、エポキ
シ樹脂と複合化することにより、熱膨張係数が低く、ガ
ラス、金属、金属酸化物等の基材に対して高接着性の材
料が得られる。また、シリコーン樹脂と複合化すること
により、シリコンウェハやガラス板との接着性が良好
で、かつ可とう性に優れた材料を提供できる。また、本
発明のアミノ基含有フェノール誘導体を用いたポリイミ
ド前駆体またはポリイミド樹脂においては、フェノール
性水酸基の水素をポリイミド前駆体またはポリイミド樹
脂に感光性を付与する官能基で置換することができ、そ
の結果、感光性ポリイミド前駆体あるいは感光性ポリイ
ミド樹脂が得られる。
【0050】
【実施例】以下、本発明を実施例を示して詳しく説明す
る。 (アミノ基含有フェノール誘導体の合成) 合成例1 (1)ジメチロールフェノール誘導体の合成 以下の様にしてジメチロールフェノール誘導体として、
下記[化9]に示した2,2′−メチレンビス(4−メ
チルー6−ヒドロキシメチルフェノール)を合成した。
【0051】
【化10】
【0052】温度計、コンデンサー、撹拌機及び滴下ロ
ートを備えた2L4つロフラスコに、p−クレゾール:
162gと、50%ホルマリン水溶液:360gを仕込
んだ。その後、30質量%NaOH水溶液200gを、
30℃以下、2時間の条件で滴下した。ついで、昇温
し、60℃、4時間の条件で反応させた後、30℃以下
まで冷却した。そして、10質量%酢酸水溶液900g
を滴下して中和し、生成物を析出させ、濾過、水洗(1
回につき300gの水を使用し、4回操作を行った。)
し、50℃以下(約40℃)で減圧乾燥し、生成物を得
た。収量は200g、生成物の性状は白色、粉状であっ
た。
【0053】(2)アミノ基含有フェノール誘導体の合
成 上記生成物を用いて、アミノ基含有フェノール誘導体と
して、下記[化10]で示される2,2′−メチレンビ
ス{4−メチル−6−(3,5−ジメチル−4−アミノ
ベンジル)フェノール}を合成した。
【0054】
【化11】
【0055】まず、温度計、コンデンサー、撹拌機を備
えた500ml4つロフラスコに、上記生成物:200
g、2,6−ジメチルアニリン:190g、シュウ酸:
3.0g、エチルセロソルブ:20gを仕込み、120
℃、4時間反応させた。ついで冷却し、エチルセロソル
ブ800gを用いて再結晶し、アミノ基含有フェノール
誘導体を得た。収量は315g、生成物の性状は淡黄
色、固体であった。化合物の同定は、マススペクトル、
IRスペクトル及び融点によって行った。融点はセイコ
ーインスツルメンツ株式会社製 DSC 220を用
い、温度範囲20〜550℃、昇温速度10℃/mi
n、試料3〜5mgの条件で測定した。IRスペクトル
を図1に示した。また、生成物の融点は201℃であっ
た。
【0056】合成例2 (1)ジメチロールフェノール誘導体の合成 下記[化11]で示される2,6−ジビドロキシメチル
−4−n−プロピルカルボキシフェノールを合成した。
【0057】
【化12】
【0058】以下の条件を変更した以外は、合成例1と
同様の操作を行って生成物を得た。生成物の収量は10
0g、性状は白色、粉状であった。
【0059】・仕込みの条件; p−ヒドロキシ安息香酸プロピル:90g、 50質量%ホルマリン水溶液:120g ・滴下の条件; 40℃以下、2時間 30質量%NaOH水溶液:67g使用 ・昇温、反応条件; 75℃、3時間 ・中和の条件; 10質量%酢酸水溶液540g使用
【0060】(2)アミノ基含有フェノール誘導体の合
成 この生成物を用いて、アミノ基含有フェノール誘導体と
して、下記[化13]で示される2,6−ビス(3,5
−ジメチルー4−アミノベンジル)−4−n−プロピル
カルボキシフェノールを合成した。
【0061】
【化13】
【0062】以下の条件を変更した以外は、合成例1と
同様の操作を行って生成物を得た。生成物の収量は12
5g、性状は淡黄色、固体であった。IRスペクトルを
図2に示した。また、生成物の融点は127.8℃であ
った。
【0063】・仕込みの条件; 生成物:72g 2,6−ジメチルアニリン:80g シュウ酸:1.5g ・反応条件; 140℃、4時間
【0064】合成例3 (1)ジメチロールフェノール誘導体の合成 ジメチロールフェノール誘導体として、下記[化14]
で示される2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−
ヒドロキシメチルフェノール)を合成した。
【0065】
【化14】
【0066】以下の条件を変更した以外は、合成例1と
同様の操作を行って生成物を得た。生成物の収量は67
g、性状は赤黄、粉状であった。
【0067】・仕込みの条件; p−メトキシフェノール:61g 37質量%ホルマリン水溶液:162g ・滴下の条件; 40℃以下、2時間 30質量%NaOH水溶液:67g使用 ・昇温、反応条件; 60℃、2時間 ・中和の条件; 10質量%酢酸水溶液540g使用
【0068】(2)アミノ基含有フェノール誘導体の合
成 アミノ基含有フェノール誘導体として、下記の[化1
5]で示される2,2’−メチレンビス[4−メチル−
6−(3,5−ジメトキシ−アミノベンジル)フェノー
ル]を合成した。
【0069】
【化15】
【0070】以下の条件を変更した以外は、合成例1と
同様の操作を行って生成物を得た。生成物の収量は12
0g、性状は淡赤色、固体であった。IRスペクトルを
図3に示した。また、生成物の融点は180.7℃であ
った。
【0071】・仕込みの条件; 生成物:32g 2,6−ジメチルアニリン:30g シュウ酸:0.6g ・反応条件; 140℃、4時間 ・精製(再結晶)の条件; エチルセロソルブ:150g使用
【0072】合成例4 (1)ジメチロールフェノール誘導体の合成 ジメチロールフェノール誘導体として、下記[化16]
で示されるレゾール型オルソクレゾール樹脂を製造し
た。
【0073】
【化16】
【0074】以下の条件を変更した以外は、合成例1と
同様の操作を行って生成物を得た。生成物の収量は10
0g、性状は褐色、粘調な液状であった。
【0075】・仕込みの条件; o−クレゾール:81g 50質量%ホルマリン水溶液:99g ・滴下の条件; 30℃以下、2時間 30質量%NaOH水溶液:100g使用 ・昇温、反応条件; 70℃、1時間 ・中和の条件; 10%酢酸水溶液450g使用
【0076】(2)アミノ基含有フェノール誘導体の合
成 アミノ基含有フェノール誘導体として、下記の[化1
7]で示される両末端アミノベンジル化オルソクレゾー
ルノボラックを合成した。
【0077】
【化17】
【0078】まず、温度計、コンデンサー、撹拌機を備
えた500ml4つ口フラスコに、生成物:100g、
アニリン:180g、シュウ酸:2.8gを仕込み、1
80℃、4時間の条件で反応させた後、−720mmH
g/180℃、30分の条件で未反応物の除去した。そ
して、生成物を取り出したところ、生成物の収量は25
0g、性状は褐色、固体であった。軟化点は113℃で
あった。IRスペクトルを図4に示した。また、質量平
均分子量をGPC(ゲルパーミネーションクロマトグラ
フィー)にて測定したところ770であった。
【0079】(ポリイミド前駆体の合成) 合成例5 合成例1で得られたアミノ基含有フェノール誘導体を用
いて、以下の様にしてポリイミド前駆体を合成した。合
成例1で得られたアミノ基含有フェノール誘導体:4.
940g、NMP溶媒(N−メチルピロリドン):4
0.30gを仕込み、室温で30分撹拌して溶解した。
ついで30℃以下の温度条件で、ピロメリット酸二無水
物:2.180gを添加し、さらに24時間、25〜2
8℃の条件で撹拌しながら反応させ、ポリイミド前駆体
を得た。IRスペクトルを図5に示した。また、生成物
の質量平均分子量は34500であった。
【0080】(ポリイミドワニスの合成) 合成例6 合成例4で得られたアミノ基含有フェノール誘導体を用
いて、以下の様にしてポリイミドワニス(ポリイミド樹
脂の溶液)を合成した。合成例4で得られたアミノ基含
有フェノール誘導体:6.180g、NMP溶媒32.
57gを仕込み、室温で30分攪拌して溶解した。つい
で、30℃以下の温度条件でピロメリット酸二無水物:
2.180gを添加し1時間攪拌した。その後窒素雰囲
気下、1時間かけて180℃まで昇温し、3時間かけて
脱水縮合反応(脱水環化)させ、ポリイミドワニスを得
た。生成物のIRスペクトルを図6に示した。また、生
成物の質量平均分子量は32000であった。
【0081】(後述する比較例2で用いるポリイミド前
駆体の合成) 合成例7 p,p’−メチレンジアニリン4.00g、ピロメリッ
ト酸二無水物4.36g、NMP溶媒47.3gを用
い、合成例5と同様の方法によりポリイミド前駆体を得
た。
【0082】(後述する比較例3で用いるポリイミド前
駆体の合成) 合成例8 p,p’−メチレンジアニリン20.0g(0.10m
ol)、及び質量平均分子量6000のα,ω−ビス
(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン6.0
0g(0.001mol)をNMP溶媒272gに溶解
させ、ピロメリット酸二無水物22.02g(0.10
1mol)を添加し、24時間反応させ、ポリイミド前
駆体を得た。
【0083】実施例1(合成例5のポリイミド前駆体と
エポキシ樹脂の複合化) エポキシ樹脂(エピコート828(商品名、油化シェル
エポキシ社製)):10gと、合成例5で得られたポリ
イミド前駆体:50gを60℃、30分の条件で均一に
混合し、ついで、触媒としてトリフェニルホスフィン:
0.1gを添加し、60℃にて30分撹拌した。つい
で、得られ複合ポリイミド前駆体溶液をシリコンウェハ
上およびCu基板上にスピン塗布した後、180℃/1
時間、250℃/1時間の熱処理を行い、ポリイミド−
エポキシ複合化ポリマーの被膜を得た。このポリイミド
被膜のIRスペクトルを図7に示した。ついで、このポ
リイミド被膜付シリコンウェハを121℃、100%R
H下にてプレッシャークッカーを用いて48時間の熱処
理を行い、この前後(表1にはPCT前と、PCT後と
記載)における碁盤目剥離試験を実施した。その結果、
剥離は観察されず、高度な接着性を保持していることが
わかった。碁盤目剥離試験は、前記被膜にカッターを用
いてサイズ5mm×5mmの正方形を碁盤の目状に10
0個形成し、これにセロハンの粘着テープを貼り付け
て、引き剥がし、このとき剥がれる正方形の個数を数え
ることにより、行った。また、銅基板についての同様の
試験を行い、結果を表1にあわせて示した。
【0084】この生成物について、以下の様にしてガラ
ス転移点、熱分解温度(示差走査熱量測定[DS
C])、線膨張係数をそれぞれ測定した。前記複合ポリ
イミド前駆体溶液をアルミ箔上にロールコータにて塗布
し、熱処理した後、アルミ箔から引き剥がし、厚さ50
μmのフィルムを作成した。これを用いてガラス転移点
および線膨張係数を測定した。すなわち、TMA(商品
名、SII社製)を用いて、温度200〜400℃、昇
温速度2℃/min、荷重10g、引張りモードの条件
で測定した。熱分解温度はTG/DTA320(商品
名、SII社製)を用い、サンプル量10mg、温度1
00〜800℃、昇温速度10℃/minの条件で測定
した。
【0085】比較のために合成例7で得られたポリイミ
ド前駆体を、実施例1で用いたエポキシ樹脂とを1:1
(質量比)の割合で、実施例1と同様の複合化の操作を
行った生成物について、同様の試験を行った(比較例
1)。また、この汎用ポリイミド樹脂のみについても同
様の試験を行った(比較例2)。なお、ガラス転移点
は、実施例1のポリイミド前駆体を脱水縮合反応させた
ポリイミド樹脂についても測定した。結果を表1に示し
た。
【0086】
【表1】
【0087】表1の結果より、複合材料の方が複合して
いないポリイミド樹脂よりもガラス転移点が高く、耐熱
性が向上していることが確認できた。また、密着性も良
好であった。また、線膨張係数も小さく、温度変化に対
して体積変化が小さいことが確認できた。
【0088】実施例2(合成例5のポリイミド前駆体と
シリコーン樹脂の複合化) シリコーン樹脂 (KF1001(商品名、信越化学社
製)):2.0gと、合成例5で得られたポリイミド前
駆体:50gを実施例1と同様にして混合し、触媒とし
てトリフェニルホスフィン0.01gを添加し、150
℃、1時間反応させた。一部を取り出し、後述する可と
う性の試験に用いた。さらに、反応物の残りの部分につ
いては、180℃、3時間の条件で反応を完結させて、
冷却後、多量のメタノール中に投入して、析出させ、濾
過し、乾燥し、生成物を取り出した。生成物のIRを図
8に示した。1000〜1200cm-1のSi−Oのピ
ークにより、複合化されていることが確認できた。この
複合材料の質量平均分子量は37000であった。ま
た、実施例1と同様にしてガラス転移点を測定したとこ
ろ260℃であった。
【0089】(応力の測定:可とう性の評価)実施例2
で得られたポリイミド前駆体を、5インチシリコンウェ
ハ上にスピン塗布し、ついで180℃、3時間の熱処理
を行ってポリイミド被膜を形成させ、5インチシリコン
ウェハの曲率半径を測定し、下記式にてシリコンウェハ
上の応力を算出した。また、比較例3として、合成例8
で得られたポリイミド前駆体を用いて、同様の条件で5
インチシリコンウェハ上にポリイミド被膜を形成し、同
様に5インチシリコンウェハの曲率半径を測定し、下記
式にてシリコンウェハ上の応力を算出した。結果を表2
に示した。
【0090】
【数1】
【0091】
【表2】
【0092】表2の結果より、実施例2においては、低
応力化と高いガラス転移点(耐熱性)を両立できている
ことがわかる。これに対して比較例3においては、低応
力化は実現できているが、主骨格のシロキサンユニット
によりガラス転移点が低くなっており、耐熱性が不充分
であった。
【0093】実施例3(感光性ポリイミド樹脂の合成) 合成例6で得られたポリイミドワニス26.7gを反応
容器に仕込み、ついで1,2−ナフトキノン−2−ジア
ジド−5−スルホニルクロリド0.269gを添加し、
均一に攪拌、混合した。さらに、冷却下、アセトン溶媒
にて10質量%に希釈したトリエチルアミン1.01g
を30分かけて滴下し、滴下終了後、室温にて24時間
反応させた。反応終了後、この反応液を0.02質量%
蓚酸水溶液250g中に投入し、析出してきた黄色固形
物を濾過、イオン交換水にて洗浄後、乾燥して、感光性
ポリイミド樹脂を得た。この生成物のIRを図9に示し
た。これにより、感光基が導入されていることが確認で
きた。この感光性ポリイミド樹脂3.0gをエチルセロ
ソルブ12gに溶解し、20質量%溶液を作成した。こ
の感光性ポリイミド樹脂溶液をシリコウェハ上にスピン
コートし、90℃ホットプレート上で10分間加熱後、
膜厚を測定したところ5.2μmであった。ついで、U
V露光機(ウシオ電機(株)製、ML−251C/A)
により、365nmで65mJ/cm2 の光照射後、
1.98%TMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド)水溶液中に60秒浸漬し、更に20秒間水洗し
た。露光部及び未露光部の膜厚を測定し、残膜率を求め
た結果、露光部0%、未露光部100%であった。
【0094】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
フェノール性水酸基を備えたアミノ基含有フェノール誘
導体を用いることにより、他の化合物との複合化が可能
となり、ポリイミドの良好な特性を維持しつつ、ポリイ
ミドのみでは得られなかった特性を備えた種々の材料を
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 合成例1の生成物のIRスペクトルである。
【図2】 合成例2の生成物のIRスペクトルである。
【図3】 合成例3の生成物のIRスペクトルである。
【図4】 合成例4の生成物のIRスペクトルである。
【図5】 合成例5の生成物のIRスペクトルである。
【図6】 合成例6の生成物のIRスペクトルである。
【図7】 実施例1の生成物のIRスペクトルである。
【図8】 実施例2の生成物のIRスペクトルである。
【図9】 実施例3の生成物のIRスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 CD00X CM04W CP03X GQ00 GQ05 4J033 CA02 CA12 CA20 CA24 CA44 CB18 HA13 HA27 HA28 HB03 HB06 4J043 PA02 PA19 PC025 PC026 PC075 PC076 PC115 PC116 QB31 RA06 RA34 SA06 SA63 SA71 SA72 SB01 TA14 TB01 UA122 UA132 UA181 UB011 UB021 UB061 UB121 UB281 UB301 WA01 YA05 ZB02 ZB47

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるアミノ基含
    有フェノール誘導体。 【化1】 (式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜9のアルキル
    基、炭素数1〜10のアルコキシ基、COOR(Rは炭
    素数1〜6のアルキル基を示す)または水素であり、相
    互に異なっていても同一でもよく;R4、R5は炭素数1
    〜9のアルキル基または水素であり、相互に異なってい
    ても同一でもよく;Xは−O−、−S−、−SO2−、
    −C(CH32−、−CH2−、−C(CH 3)(C
    25)−、または−C(CF32−を示し;nは1以上
    の整数である。)
  2. 【請求項2】 両端のベンゼン環に結合したR4どう
    し、R5どうし、およびXと−CH2−とが、それぞれ同
    一番号の炭素原子(炭素原子の位置を示す番号は前記一
    般式(1)に示された番号である)に結合していること
    を特徴とする請求項1に記載のアミノ基含有フェノール
    誘導体。
  3. 【請求項3】 Xが−CH2−であることを特徴とする
    請求項1または2に記載のアミノ基含有フェノール誘導
    体。
  4. 【請求項4】 R4、R5がメチル基であることを特徴と
    する請求項1〜3のいずれか一項に記載のアミノ基含有
    フェノール誘導体。
  5. 【請求項5】 R1、R2 、R3のうち、1つまたは2つ
    が水素で、残りが水素以外のものであることを特徴とす
    る請求項1〜4のいずれか一項に記載のアミノ基含有フ
    ェノール誘導体。
  6. 【請求項6】 請求項5において、前記水素以外のもの
    がメチル基であることを特徴とするアミノ基含有フェノ
    ール誘導体。
  7. 【請求項7】 R1、R2 、R3が全てメチル基であるこ
    とを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のア
    ミノ基含有フェノール誘導体。
  8. 【請求項8】 下記一般式(2)で表される繰り返し単
    位からなるポリイミド前駆体。 【化2】 (式中、R1、R2、R3は、炭素数1〜9のアルキル
    基、炭素数1〜10のアルコキシ基、COOR(Rは炭
    素数1〜6のアルキル基を示す)または水素であり、相
    互に異なっていても同一でもよく;R4、R5は炭素数1
    〜9のアルキル基または水素であり、相互に異なってい
    ても同一でもよく;Xは−O−、−S−、−SO2−、
    −C(CH32−、−CH2−、−C(CH 3)(C
    25)−、または−C(CF32−を示し;R6は芳香
    族テトラカルボン酸二無水物残基を示し;nは1以上の
    整数である。)
  9. 【請求項9】 アミノ残基が結合したベンゼン環に結合
    したR4どうし、R5どうし、およびXと−CH2−と
    が、それぞれ同一番号の炭素原子(炭素原子の位置を示
    す番号は前記一般式(2)に示された番号である)に結
    合していることを特徴とする請求項8に記載のポリイミ
    ド前駆体。
  10. 【請求項10】 Xが−CH2−であることを特徴とす
    る請求項8または9に記載のポリイミド前駆体。
  11. 【請求項11】 R4、R5がメチル基であることを特徴
    とする請求項8〜10のいずれか一項に記載のポリイミ
    ド前駆体。
  12. 【請求項12】 R1、R2 、R3のうち、1つまたは2
    つが水素で、残りが水素以外のものであることを特徴と
    する請求項8〜11のいずれか一項に記載のポリイミド
    前駆体。
  13. 【請求項13】 請求項12において、前記水素以外の
    ものがメチル基であることを特徴とするポリイミド前駆
    体。
  14. 【請求項14】 R1、R2 、R3が全てメチル基である
    ことを特徴とする請求項8〜11のいずれか一項に記載
    のポリイミド前駆体。
  15. 【請求項15】 請求項8〜14のいずれか一項に記載
    のポリイミド前駆体を脱水縮合反応させて得られること
    を特徴とするポリイミド樹脂。
  16. 【請求項16】 請求項8〜14のいずれか一項に記載
    のポリイミド前駆体において、1以上のフェノール性水
    酸基の水素が、当該ポリイミド前駆体に感光性を付与す
    る官能基で置換されていることを特徴とする感光性ポリ
    イミド前駆体。
  17. 【請求項17】 請求項16に記載の感光性ポリイミド
    前駆体を脱水縮合反応させて得られることを特徴とする
    感光性ポリイミド樹脂。
  18. 【請求項18】 請求項15に記載のポリイミド樹脂の
    1以上のフェノール性水酸基の水素が、当該ポリイミド
    樹脂に感光性を付与する官能基で置換されていることを
    特徴とする感光性ポリイミド樹脂。
  19. 【請求項19】 請求項8〜18のいずれか一項に記載
    のポリイミド前駆体またはポリイミド樹脂と、他の化合
    物とを、複合させた複合材料。
  20. 【請求項20】 前記他の化合物がエポキシ樹脂を含む
    ことを特徴とする請求項19に記載の複合材料。
  21. 【請求項21】 前記他の化合物がシリコーン樹脂を含
    むことを特徴とする請求項19に記載の複合材料。
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