JP2003043211A - 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法Info
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 131
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 18
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 5
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000013461 design Methods 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 7
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910001610 cryolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可視域において均一に光量を減衰可能であり
且つ耐久性に優れた薄膜型ＮＤフィルタを提供する。 【解決手段】 ＮＤフィルタは、光吸収膜３，５と誘電
体膜２，４，６を透明基板１上に積層した薄膜型であ
る。記光吸収膜３，５は、金属材料Ｔｉを原料として蒸
着により成膜されたものであり、酸素を含む混合ガスを
成膜時に導入し、真空度を１×１０-3Ｐａないし１×１
０-2Ｐａの間で一定に維持した状態で生成した金属材料
の酸化物ＴｉＯｘを含有する。尚、混合ガスの酸素比率
は５０％以下である。光吸収膜３，５と誘電体膜２，
４，６を透明基板１に積層した後、酸素を１０％以上含
む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和させると
よい。
且つ耐久性に優れた薄膜型ＮＤフィルタを提供する。 【解決手段】 ＮＤフィルタは、光吸収膜３，５と誘電
体膜２，４，６を透明基板１上に積層した薄膜型であ
る。記光吸収膜３，５は、金属材料Ｔｉを原料として蒸
着により成膜されたものであり、酸素を含む混合ガスを
成膜時に導入し、真空度を１×１０-3Ｐａないし１×１
０-2Ｐａの間で一定に維持した状態で生成した金属材料
の酸化物ＴｉＯｘを含有する。尚、混合ガスの酸素比率
は５０％以下である。光吸収膜３，５と誘電体膜２，
４，６を透明基板１に積層した後、酸素を１０％以上含
む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和させると
よい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜型ＮＤフィル
タ及びその製造方法に関する。ＮＤ（ニュートラル デ
ンシティ）フィルタは、光量絞り用として可視域全般に
亘り均一に透過光量を減衰させる目的で使用するもので
ある。
タ及びその製造方法に関する。ＮＤ（ニュートラル デ
ンシティ）フィルタは、光量絞り用として可視域全般に
亘り均一に透過光量を減衰させる目的で使用するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来より撮影系において、被写体輝度が
高過ぎる時は絞りを最小径に絞っても（開口径を最小に
しても）感光面へ所定量以上の光量が入射してしまう場
合がある。この為、撮影系の一部にＮＤフィルタを装着
して感光面への入射光量を規制することがしばしば行な
われている。この場合、ＮＤフィルタの分光特性は単に
入射光量を減少させるということから、可視領域全般に
亘り均一な透過率を有していることが必要となってい
る。カメラやビデオなどの撮像系においては、可視域全
般に亘り均一に光量を減衰させる目的で、プラスチック
フィルムベースのＮＤフィルタが多用されている。この
ＮＤフィルタは二種類に大別でき、プラスチックフィル
ムにカーボン粒子や染料などを塗布もしくは練り込んだ
タイプと、プラスチックフィルム上に薄膜のＮＤフィル
タを成膜したタイプである。
高過ぎる時は絞りを最小径に絞っても（開口径を最小に
しても）感光面へ所定量以上の光量が入射してしまう場
合がある。この為、撮影系の一部にＮＤフィルタを装着
して感光面への入射光量を規制することがしばしば行な
われている。この場合、ＮＤフィルタの分光特性は単に
入射光量を減少させるということから、可視領域全般に
亘り均一な透過率を有していることが必要となってい
る。カメラやビデオなどの撮像系においては、可視域全
般に亘り均一に光量を減衰させる目的で、プラスチック
フィルムベースのＮＤフィルタが多用されている。この
ＮＤフィルタは二種類に大別でき、プラスチックフィル
ムにカーボン粒子や染料などを塗布もしくは練り込んだ
タイプと、プラスチックフィルム上に薄膜のＮＤフィル
タを成膜したタイプである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
にカーボン粒子や染料などを塗布または練り込んだ第１
のタイプは、フィルム表面に塗布した場合膜硬度に乏し
く傷つきやすい。又、カーボン粒子や染料などを練り込
んだ場合、ＴＡＣ（トリアセテートセルロース又はトリ
アセチルセルロース）など吸水性の大きいフィルムを使
用している為、環境の変化により反りや歪みを生じる。
従って、この様なＮＤフィルタを、最近のコンパクト化
が進んでいるシャッタユニットに組み込んだ場合、駆動
時に他の構成部品と接触する可能性があり、破損の恐れ
がある。又、第１のタイプに共通の問題として、撮影系
にて使用する波長領域（４００〜６５０ｎｍ程度）にお
いて、近年の高度な撮影系で必要とされる均一な光量減
衰が得られず、色バランスの調整工程を入れなければな
らない為、製造コストが高くなる問題もある。
にカーボン粒子や染料などを塗布または練り込んだ第１
のタイプは、フィルム表面に塗布した場合膜硬度に乏し
く傷つきやすい。又、カーボン粒子や染料などを練り込
んだ場合、ＴＡＣ（トリアセテートセルロース又はトリ
アセチルセルロース）など吸水性の大きいフィルムを使
用している為、環境の変化により反りや歪みを生じる。
従って、この様なＮＤフィルタを、最近のコンパクト化
が進んでいるシャッタユニットに組み込んだ場合、駆動
時に他の構成部品と接触する可能性があり、破損の恐れ
がある。又、第１のタイプに共通の問題として、撮影系
にて使用する波長領域（４００〜６５０ｎｍ程度）にお
いて、近年の高度な撮影系で必要とされる均一な光量減
衰が得られず、色バランスの調整工程を入れなければな
らない為、製造コストが高くなる問題もある。
【０００４】プラスチックフィルム上に薄膜を成膜して
ＮＤフィルタを形成した第２のタイプは、特開昭５７-
１９５２０７号公報や特開昭６１−１８３６０４号公報
にみられる光吸収性の薄膜として金属膜を用いる場合
と、特開昭６４-５１３４７号公報や特開平７-６３９１
５号公報に示される金属酸化膜を用いる場合がある。金
属材料を吸収膜として使用した場合、金属膜の厚みが１
０ｎｍ以下と非常に薄く、目的の光学特性を得る為の膜
厚制御が困難になる。更に、成膜後通常の使用環境下に
長時間放置すると、金属膜の酸化が原因となってＮＤフ
ィルタの透過率増大及び波長に対する透過率平坦性の低
下現象が発生する。対応策として、金属膜の経時変化を
抑える為に接着剤などで封止する場合や氷晶石を使用し
て積層する場合があるが、工程が増えるとともにフィル
タが厚くなるという欠点が生じる。一方光吸収膜に金属
酸化物を用いる場合、一般に金属酸化物材料を蒸着源と
して真空蒸着によりプラスチックフィルム上に成膜して
いた。この場合、膜硬度が大きくなる利点があるが、逆
に全体の膜応力の調整が困難である為、膜表面にクラッ
クが発生したり薄膜自体が剥離する場合がある。又、膜
が硬い為に、製品形状に加工する際、膜面に割れやクラ
ックが発生するなどの問題も上げられる。
ＮＤフィルタを形成した第２のタイプは、特開昭５７-
１９５２０７号公報や特開昭６１−１８３６０４号公報
にみられる光吸収性の薄膜として金属膜を用いる場合
と、特開昭６４-５１３４７号公報や特開平７-６３９１
５号公報に示される金属酸化膜を用いる場合がある。金
属材料を吸収膜として使用した場合、金属膜の厚みが１
０ｎｍ以下と非常に薄く、目的の光学特性を得る為の膜
厚制御が困難になる。更に、成膜後通常の使用環境下に
長時間放置すると、金属膜の酸化が原因となってＮＤフ
ィルタの透過率増大及び波長に対する透過率平坦性の低
下現象が発生する。対応策として、金属膜の経時変化を
抑える為に接着剤などで封止する場合や氷晶石を使用し
て積層する場合があるが、工程が増えるとともにフィル
タが厚くなるという欠点が生じる。一方光吸収膜に金属
酸化物を用いる場合、一般に金属酸化物材料を蒸着源と
して真空蒸着によりプラスチックフィルム上に成膜して
いた。この場合、膜硬度が大きくなる利点があるが、逆
に全体の膜応力の調整が困難である為、膜表面にクラッ
クが発生したり薄膜自体が剥離する場合がある。又、膜
が硬い為に、製品形状に加工する際、膜面に割れやクラ
ックが発生するなどの問題も上げられる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題に鑑み、本発明は可視域において均一に光量を減衰可
能であり且つ耐久性に優れた薄膜型ＮＤフィルタを提供
することを目的とする。係る目的を達成するために以下
の手段を講じた。即ち本発明は、光吸収膜と誘電体膜を
透明基板上に積層した薄膜型ＮＤフィルタであって、前
記光吸収膜は、金属材料を原料として蒸着により成膜さ
れたものであり、酸素を含む混合ガスを成膜時に導入
し、真空度を１×１０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間
で一定に維持した状態で生成した金属材料の酸化物を含
有することを特徴とする。尚、混合ガスの酸素比率は５
０％以下である。好ましくは、光吸収膜と誘電体膜を透
明基板に積層した後、酸素を１０％以上含む酸素雰囲気
で加熱し、光学特性の変化を飽和させるとよい。このア
ニール後、可視域波長に対し透過濃度の変化が±０．０
１以下となる様に、あらかじめ初期光学特性を設計する
とよい。好ましくは、前記光吸収膜の金属材料はＴｉ，
Ｃｒ及びＮｉから選択され、前記誘電体膜はＳｉＯ2及
びＡｌ2Ｏ3から形成される。この場合、前記誘電体膜及
び光吸収膜を所定の膜厚及び所定の順番で積層して反射
防止機能を付与することもできる。
題に鑑み、本発明は可視域において均一に光量を減衰可
能であり且つ耐久性に優れた薄膜型ＮＤフィルタを提供
することを目的とする。係る目的を達成するために以下
の手段を講じた。即ち本発明は、光吸収膜と誘電体膜を
透明基板上に積層した薄膜型ＮＤフィルタであって、前
記光吸収膜は、金属材料を原料として蒸着により成膜さ
れたものであり、酸素を含む混合ガスを成膜時に導入
し、真空度を１×１０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間
で一定に維持した状態で生成した金属材料の酸化物を含
有することを特徴とする。尚、混合ガスの酸素比率は５
０％以下である。好ましくは、光吸収膜と誘電体膜を透
明基板に積層した後、酸素を１０％以上含む酸素雰囲気
で加熱し、光学特性の変化を飽和させるとよい。このア
ニール後、可視域波長に対し透過濃度の変化が±０．０
１以下となる様に、あらかじめ初期光学特性を設計する
とよい。好ましくは、前記光吸収膜の金属材料はＴｉ，
Ｃｒ及びＮｉから選択され、前記誘電体膜はＳｉＯ2及
びＡｌ2Ｏ3から形成される。この場合、前記誘電体膜及
び光吸収膜を所定の膜厚及び所定の順番で積層して反射
防止機能を付与することもできる。
【０００６】本発明は薄膜法にてＮＤフィルタを形成し
ている。この為、塗布又は練り込み型タイプの欠点であ
った、表面硬度不足による傷の発生を抑えることができ
る。又、透明基板として耐久性が高いプラスチックフィ
ルム基板を利用すれば、反りや歪みなどの形状変化を抑
えることができる。更に、本発明では、光吸収膜を作成
する際の原材料として金属を用いているが、成膜時に酸
素を含む混合ガスを導入している。混合ガスの酸素分圧
及び導入圧力を最適化することで、再現性よく金属酸化
物を金属膜中に混入することができる。金属材料のみで
構成された吸収膜と比較すると、金属酸化物を導入した
分吸収係数を下げることが可能となり、その分膜厚を厚
くすることで目的の光学特性を得る為の膜厚制御が容易
になる。金属材料を光吸収膜に使用した場合に問題とな
る光学特性の経時変化に対しては、あらかじめ酸素を含
んだ雰囲気にて熱処理を施すことで、金属材料の酸化に
よる光学特性の変化を強制的に飽和させ、長期的に安定
したＮＤフィルタを得ることができる。尚、熱処理を施
すと光学特性が変化する。何ら対策を施さないと、熱処
理により波長に対する平坦性が失われる恐れがある。そ
こで、成膜段階で熱処理による変化量をあらかじめ想定
した膜設計を行なうことで、熱処理後における透過特性
の良好な平坦性を実現している。具体的には、４００〜
６５０ｎｍの波長域において、透過濃度の変動は±０．
０１以下に抑えることができる。又、光吸収膜に金属酸
化物を用いた場合に問題となる、成膜後のクラックや剥
離に対しては、基板側の第１層目に、付着力の高い誘電
体材料（例えばＳｉＯ2）を用いることで対処可能であ
る。更には、積層膜全体の応力調整を行なうことで、良
好な表面状態を示すＮＤフィルタを得ることができる。
ている。この為、塗布又は練り込み型タイプの欠点であ
った、表面硬度不足による傷の発生を抑えることができ
る。又、透明基板として耐久性が高いプラスチックフィ
ルム基板を利用すれば、反りや歪みなどの形状変化を抑
えることができる。更に、本発明では、光吸収膜を作成
する際の原材料として金属を用いているが、成膜時に酸
素を含む混合ガスを導入している。混合ガスの酸素分圧
及び導入圧力を最適化することで、再現性よく金属酸化
物を金属膜中に混入することができる。金属材料のみで
構成された吸収膜と比較すると、金属酸化物を導入した
分吸収係数を下げることが可能となり、その分膜厚を厚
くすることで目的の光学特性を得る為の膜厚制御が容易
になる。金属材料を光吸収膜に使用した場合に問題とな
る光学特性の経時変化に対しては、あらかじめ酸素を含
んだ雰囲気にて熱処理を施すことで、金属材料の酸化に
よる光学特性の変化を強制的に飽和させ、長期的に安定
したＮＤフィルタを得ることができる。尚、熱処理を施
すと光学特性が変化する。何ら対策を施さないと、熱処
理により波長に対する平坦性が失われる恐れがある。そ
こで、成膜段階で熱処理による変化量をあらかじめ想定
した膜設計を行なうことで、熱処理後における透過特性
の良好な平坦性を実現している。具体的には、４００〜
６５０ｎｍの波長域において、透過濃度の変動は±０．
０１以下に抑えることができる。又、光吸収膜に金属酸
化物を用いた場合に問題となる、成膜後のクラックや剥
離に対しては、基板側の第１層目に、付着力の高い誘電
体材料（例えばＳｉＯ2）を用いることで対処可能であ
る。更には、積層膜全体の応力調整を行なうことで、良
好な表面状態を示すＮＤフィルタを得ることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に係る薄膜型
ＮＤフィルタの構成を示す模式的な断面図である。図示
する様に、本ＮＤフィルタ０は、光吸収膜３，５と誘電
体膜２，４，６を透明基板１上に積層した薄膜型となっ
ている。光吸収膜３，５は、金属材料を原料として蒸着
により成膜されたものである。特徴事項として、酸素を
含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を１×１０-3Ｐ
ａないし１×１０-2Ｐａの間で一定に維持した状態で金
属材料の酸化物を生成している。換言すると、吸収膜
３，５は、金属とその酸化物とで構成された複合材料構
成となっている。好ましくは、光吸収膜３，５と誘電体
膜２，４，６を透明基板１に積層した後、酸素を１０％
以上含む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和さ
せるとよい。光吸収膜３，５の金属材料はＴｉ，Ｃｒ及
びＮｉから選択される。一方、誘電体膜２，４，６はＳ
ｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から形成される。この場合、誘電体
膜２，４，６及び光吸収膜３，５を所定の膜厚及び所定
の順番で積層して反射防止機能を付与することができ
る。
の形態を詳細に説明する。図１は、本発明に係る薄膜型
ＮＤフィルタの構成を示す模式的な断面図である。図示
する様に、本ＮＤフィルタ０は、光吸収膜３，５と誘電
体膜２，４，６を透明基板１上に積層した薄膜型となっ
ている。光吸収膜３，５は、金属材料を原料として蒸着
により成膜されたものである。特徴事項として、酸素を
含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を１×１０-3Ｐ
ａないし１×１０-2Ｐａの間で一定に維持した状態で金
属材料の酸化物を生成している。換言すると、吸収膜
３，５は、金属とその酸化物とで構成された複合材料構
成となっている。好ましくは、光吸収膜３，５と誘電体
膜２，４，６を透明基板１に積層した後、酸素を１０％
以上含む酸素雰囲気で加熱し、光学特性の変化を飽和さ
せるとよい。光吸収膜３，５の金属材料はＴｉ，Ｃｒ及
びＮｉから選択される。一方、誘電体膜２，４，６はＳ
ｉＯ2及びＡｌ2Ｏ3から形成される。この場合、誘電体
膜２，４，６及び光吸収膜３，５を所定の膜厚及び所定
の順番で積層して反射防止機能を付与することができ
る。
【０００８】引続き図１を参照して、ＮＤフィルタ０の
具体的な膜構成を説明する。まず、透明基板１は厚みが
０．１ｍｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）か
らなる。但し、本発明はこれに限られるものではなくＰ
ＥＴ以外のポリエステルフィルムやポリカーボネート
（ＰＣ）フイルムを用いることができる。光量絞り用と
してはＰＥＴなどポリエステルフィルムやポリカーボネ
ートフイルムが好ましいが、特に用途を限定しなければ
透明基板１として使用波長領域において透明であるガラ
スやプラスチックを適宜使うことができる。透明基板１
の上に形成された第１の誘電体膜２はＳｉＯ2からな
り、その物理膜厚は７５．８ｎｍである。その上に成膜
された第１の光吸収膜３は、金属Ｔｉとその酸化物Ｔｉ
Ｏｘとで構成されており、物理膜厚は２０．０ｎｍであ
る。その上に成膜された第２の誘電体膜４はＡｌ2Ｏ3か
らなり、その物理膜厚は３８．７ｎｍである。その上に
成膜された第２の光吸収膜５は、同じく金属Ｔｉとその
酸化物ＴｉＯｘの混合物からなり、物理膜厚は３８．０
ｎｍである。その上に成膜された第３の誘電体膜６は、
ＳｉＯ2からなりその物理膜厚は６６．４ｎｍである。
尚、係る積層構成は例示であって、本発明の範囲を限定
するものではない。光学薄膜の場合、通常使用波長にお
いて透明なセラミックス材料を誘電体膜と表現してい
る。光の干渉効果が現われる厚さ（波長の数倍程度）の
誘電体膜を積層することで、入射する光線の光学特性
（反射量、透過量、偏光、位相など）を自由に調節する
ことができる。本実施形態では、図１に示す層構成とす
ることで、ＮＤフィルタに反射防止機能を付与してい
る。一方光吸収膜は、使用波長領域において文字通り光
を吸収する働きがあり、可視域では通常金属を用いる。
本発明では、特に金属材料にその酸化物を導入すること
で、光学特性並びに物理特性を改善している。
具体的な膜構成を説明する。まず、透明基板１は厚みが
０．１ｍｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）か
らなる。但し、本発明はこれに限られるものではなくＰ
ＥＴ以外のポリエステルフィルムやポリカーボネート
（ＰＣ）フイルムを用いることができる。光量絞り用と
してはＰＥＴなどポリエステルフィルムやポリカーボネ
ートフイルムが好ましいが、特に用途を限定しなければ
透明基板１として使用波長領域において透明であるガラ
スやプラスチックを適宜使うことができる。透明基板１
の上に形成された第１の誘電体膜２はＳｉＯ2からな
り、その物理膜厚は７５．８ｎｍである。その上に成膜
された第１の光吸収膜３は、金属Ｔｉとその酸化物Ｔｉ
Ｏｘとで構成されており、物理膜厚は２０．０ｎｍであ
る。その上に成膜された第２の誘電体膜４はＡｌ2Ｏ3か
らなり、その物理膜厚は３８．７ｎｍである。その上に
成膜された第２の光吸収膜５は、同じく金属Ｔｉとその
酸化物ＴｉＯｘの混合物からなり、物理膜厚は３８．０
ｎｍである。その上に成膜された第３の誘電体膜６は、
ＳｉＯ2からなりその物理膜厚は６６．４ｎｍである。
尚、係る積層構成は例示であって、本発明の範囲を限定
するものではない。光学薄膜の場合、通常使用波長にお
いて透明なセラミックス材料を誘電体膜と表現してい
る。光の干渉効果が現われる厚さ（波長の数倍程度）の
誘電体膜を積層することで、入射する光線の光学特性
（反射量、透過量、偏光、位相など）を自由に調節する
ことができる。本実施形態では、図１に示す層構成とす
ることで、ＮＤフィルタに反射防止機能を付与してい
る。一方光吸収膜は、使用波長領域において文字通り光
を吸収する働きがあり、可視域では通常金属を用いる。
本発明では、特に金属材料にその酸化物を導入すること
で、光学特性並びに物理特性を改善している。
【０００９】図２は、図１に示したＮＤフィルタの作成
に使用する真空蒸着装置の一例を示す模式的なブロック
図である。図示する様に、本装置は真空チャンバ１１を
主体に構成されており、その上には膜厚モニタ１２と膜
厚制御器１３が取り付けられている。チャンバ１１内に
は処理対象となる基板を支持固定する基板ホルダ１４
と、膜厚測定用基板１５、と蒸着源１６とが組み込まれ
ている。膜厚モニタ１２は光源と分光器と受光器とを備
えている。分光器から出射した光は膜厚測定用基板１５
に入射し、これから反射した光が受光器に入射し、その
出力が膜厚制御器１３に送られる。この様に、膜厚をリ
アルタイムでモニタすることにより、基板上に所望の厚
みの光吸収膜や誘電体膜を成膜する様にしている。
に使用する真空蒸着装置の一例を示す模式的なブロック
図である。図示する様に、本装置は真空チャンバ１１を
主体に構成されており、その上には膜厚モニタ１２と膜
厚制御器１３が取り付けられている。チャンバ１１内に
は処理対象となる基板を支持固定する基板ホルダ１４
と、膜厚測定用基板１５、と蒸着源１６とが組み込まれ
ている。膜厚モニタ１２は光源と分光器と受光器とを備
えている。分光器から出射した光は膜厚測定用基板１５
に入射し、これから反射した光が受光器に入射し、その
出力が膜厚制御器１３に送られる。この様に、膜厚をリ
アルタイムでモニタすることにより、基板上に所望の厚
みの光吸収膜や誘電体膜を成膜する様にしている。
【００１０】チャンバ１１には真空計ゲージ部１７、真
空計制御部１８、ガス導入ユニット１９及び排気ユニッ
ト２０が接続している。本実施例では、チャンバ１１内
の真空度を一定に保つ為に、ＡＰＣ方式を採用してい
る。具体的には、真空計ゲージ部１７及び真空計制御部
１８を介してフィードバックをかけ、ガス導入ユニット
１９を制御して、チャンバ１１内に導入される混合ガス
の量を調整している。但し、本発明はこれに限られるも
のではなく、導入量をニードルバルブにて一定に調整す
る方式を採用してもよい。
空計制御部１８、ガス導入ユニット１９及び排気ユニッ
ト２０が接続している。本実施例では、チャンバ１１内
の真空度を一定に保つ為に、ＡＰＣ方式を採用してい
る。具体的には、真空計ゲージ部１７及び真空計制御部
１８を介してフィードバックをかけ、ガス導入ユニット
１９を制御して、チャンバ１１内に導入される混合ガス
の量を調整している。但し、本発明はこれに限られるも
のではなく、導入量をニードルバルブにて一定に調整す
る方式を採用してもよい。
【００１１】図３は、図２に示した真空蒸着装置を用い
て、図１に示したＮＤフィルタを作成する場合の成膜条
件を表わした表図である。図示する様に、基板温度は１
００℃としている。又、チャンバの到達真空度は１×１
０-3Ｐａに設定している。ここで、光吸収膜３，５を成
膜する為に、原料としてＴｉを用い、蒸着速度は１ｎｍ
／ｓｅｃに設定している。Ｔｉを蒸着する際に導入する
ガスとして、本実施例では窒素と酸素を４：１で混合し
た空気を用いている。但し、本発明はこれに限られるも
のではなく、一般的には酸素を５０％以下の割合で含有
する混合ガスが用いられる。尚、酸素を含有した混合ガ
スを導入した場合の蒸着真空度は、４×１０-3Ｐａに設
定した。但し、本発明はこれに限られるものではなく、
一般に１×１０-3Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの間で一定に維
持すれば、良好な光学特性並びに物理特性を有し且つ金
属とその酸化物の混合物よりなる光吸収膜を成膜するこ
とができる。次に、誘電体膜２，６を成膜する場合に
は、蒸着源としてＳｉＯ2を用い、蒸着速度は１ｎｍ／
ｓｅｃに設定している。ＳｉＯ2を成膜する場合には特
に反応性のガスを導入していない。又、誘電体膜４の成
膜には、蒸着源としてＡｌ2Ｏ3を用い蒸着速度を１ｎｍ
／ｓｅｃに設定している。この場合も、反応性ガスは特
に導入しない。
て、図１に示したＮＤフィルタを作成する場合の成膜条
件を表わした表図である。図示する様に、基板温度は１
００℃としている。又、チャンバの到達真空度は１×１
０-3Ｐａに設定している。ここで、光吸収膜３，５を成
膜する為に、原料としてＴｉを用い、蒸着速度は１ｎｍ
／ｓｅｃに設定している。Ｔｉを蒸着する際に導入する
ガスとして、本実施例では窒素と酸素を４：１で混合し
た空気を用いている。但し、本発明はこれに限られるも
のではなく、一般的には酸素を５０％以下の割合で含有
する混合ガスが用いられる。尚、酸素を含有した混合ガ
スを導入した場合の蒸着真空度は、４×１０-3Ｐａに設
定した。但し、本発明はこれに限られるものではなく、
一般に１×１０-3Ｐａ〜１×１０-2Ｐａの間で一定に維
持すれば、良好な光学特性並びに物理特性を有し且つ金
属とその酸化物の混合物よりなる光吸収膜を成膜するこ
とができる。次に、誘電体膜２，６を成膜する場合に
は、蒸着源としてＳｉＯ2を用い、蒸着速度は１ｎｍ／
ｓｅｃに設定している。ＳｉＯ2を成膜する場合には特
に反応性のガスを導入していない。又、誘電体膜４の成
膜には、蒸着源としてＡｌ2Ｏ3を用い蒸着速度を１ｎｍ
／ｓｅｃに設定している。この場合も、反応性ガスは特
に導入しない。
【００１２】図４は、図３に挙げた条件で成膜した光吸
収膜の光学特性を示すグラフである。横軸に波長を取
り、縦軸に屈折率、吸収係数を取ってある。グラフから
明らかな様に、ＴとＴｉＯｘの混合物からなる光吸収膜
は、可視域において波長が長くなるにつれ吸収係数が高
くなる傾向を有している。
収膜の光学特性を示すグラフである。横軸に波長を取
り、縦軸に屈折率、吸収係数を取ってある。グラフから
明らかな様に、ＴとＴｉＯｘの混合物からなる光吸収膜
は、可視域において波長が長くなるにつれ吸収係数が高
くなる傾向を有している。
【００１３】図５は、図３に示した成膜条件で、図１に
示した積層構造を作成した場合における、ＮＤフィルタ
の光学特性を示すグラフである。横軸に可視域の波長を
取り、左側の縦軸には反射率及び透過率の尺度を表わす
光量（％）を取り、右側の縦軸には透過濃度を取ってあ
る。尚、透過率Ｔと透過濃度Ｄとの間には、Ｄ＝ｌｏｇ
（１／Ｔ）の関係がある。図５は実際に作成されたＮＤ
フィルタの光学特性ではなく、設計段階におけるシミュ
レーション結果を表わしている。最終的には、可視波長
域において透過率は平坦になることが理想である。設計
段階では、後工程で行なわれる熱処理の影響を考慮し
て、短波長側から長波長側へ行くに従い、次第に透過率
が増加する設計としている。これは、熱処理後、５層構
成のＮＤフィルタの光学特性は、可視域であれば短波長
側へ近づくに従い透過率が増加する傾向になることが予
想される為である。
示した積層構造を作成した場合における、ＮＤフィルタ
の光学特性を示すグラフである。横軸に可視域の波長を
取り、左側の縦軸には反射率及び透過率の尺度を表わす
光量（％）を取り、右側の縦軸には透過濃度を取ってあ
る。尚、透過率Ｔと透過濃度Ｄとの間には、Ｄ＝ｌｏｇ
（１／Ｔ）の関係がある。図５は実際に作成されたＮＤ
フィルタの光学特性ではなく、設計段階におけるシミュ
レーション結果を表わしている。最終的には、可視波長
域において透過率は平坦になることが理想である。設計
段階では、後工程で行なわれる熱処理の影響を考慮し
て、短波長側から長波長側へ行くに従い、次第に透過率
が増加する設計としている。これは、熱処理後、５層構
成のＮＤフィルタの光学特性は、可視域であれば短波長
側へ近づくに従い透過率が増加する傾向になることが予
想される為である。
【００１４】図６は、図３に示す成膜条件で図１に示し
た積層構造のＮＤフィルタを実際に成膜した場合におけ
る初期特性を表わしている。尚、理解を容易にする為図
４と同様に反射率、透過率及び透過濃度を測定してい
る。グラフから明らかな様に、ほぼ設計通りの光学特性
が得られており、短波長側から長波長側へ行くに従い次
第に透過率が増加している。
た積層構造のＮＤフィルタを実際に成膜した場合におけ
る初期特性を表わしている。尚、理解を容易にする為図
４と同様に反射率、透過率及び透過濃度を測定してい
る。グラフから明らかな様に、ほぼ設計通りの光学特性
が得られており、短波長側から長波長側へ行くに従い次
第に透過率が増加している。
【００１５】図７は、熱処理後の光学特性を表わしてお
り、理解を容易にする為図５及び図６と同様に透過率、
反射率及び透過濃度を測定している。この熱処理では、
窒素と酸素の混合比が４：１の酸化雰囲気（大気）中
で、８０℃に５０時間放置した。但し、本発明はこれに
限られるものではなく、一般的な熱処理条件は酸素濃度
が１０％以上のガスで、熱処理温度は基板に損傷を与え
ない程度で設定する。一般的には、酸素濃度を増やし高
温加熱をした方が、光学特性の経時変化を出し切る上で
は効果的である。グラフに示す様に、熱処理後では可視
域において波長依存性はなく均一に透過光を減衰し、フ
ィルタ面での反射を抑えたＮＤフィルタを得ることがで
きた。前述した様に、あらかじめ熱処理後の光学特性の
変化を補償する様に、設計段階では短波長側から長波長
側へ行くに従い次第に透過率が増加する様にしている。
この様な設計は、図１に示した積層構造を構成する各誘
電体膜及び各光吸収膜の成膜順並びに厚みを最適化する
ことで、自在に得ることができる。熱処理を行なうと、
長波長側から短波長側へ近づくに従い透過率が増加する
傾向が生じる。これにより、初期の偏りが打ち消され、
結果的に可視域で極めて平坦性に優れた透過特性を得る
ことが可能になる。
り、理解を容易にする為図５及び図６と同様に透過率、
反射率及び透過濃度を測定している。この熱処理では、
窒素と酸素の混合比が４：１の酸化雰囲気（大気）中
で、８０℃に５０時間放置した。但し、本発明はこれに
限られるものではなく、一般的な熱処理条件は酸素濃度
が１０％以上のガスで、熱処理温度は基板に損傷を与え
ない程度で設定する。一般的には、酸素濃度を増やし高
温加熱をした方が、光学特性の経時変化を出し切る上で
は効果的である。グラフに示す様に、熱処理後では可視
域において波長依存性はなく均一に透過光を減衰し、フ
ィルタ面での反射を抑えたＮＤフィルタを得ることがで
きた。前述した様に、あらかじめ熱処理後の光学特性の
変化を補償する様に、設計段階では短波長側から長波長
側へ行くに従い次第に透過率が増加する様にしている。
この様な設計は、図１に示した積層構造を構成する各誘
電体膜及び各光吸収膜の成膜順並びに厚みを最適化する
ことで、自在に得ることができる。熱処理を行なうと、
長波長側から短波長側へ近づくに従い透過率が増加する
傾向が生じる。これにより、初期の偏りが打ち消され、
結果的に可視域で極めて平坦性に優れた透過特性を得る
ことが可能になる。
【００１６】図８は、透過率及び透過濃度に関し、設計
値、初期値及び熱処理後の値をまとめて表に表わしたも
のである。設計値では平坦性が±０．７５％、実際の初
期値は±１．０１％であるのに対し、熱処理後は平坦性
が±０．１５％まで改善されている。又実際に、成膜直
後及び熱処理後の成膜面は良好であり、膜面に粘着テー
プを貼り付け急激に引き剥がしても、膜剥離は生じなか
った。又、作成したＮＤフィルタの耐久性を調べる目的
で、高温高湿条件下（６０℃９０％ＲＨ）に２４０時間
投入したが、光学特性の変化量は０．５％程度と小さ
く、膜面にも変化が現われなかった。尚、作成したＮＤ
フィルタに対して、製品形状への切り抜き加工を実施し
た場合でも、膜割れや膜剥離などの欠陥は発生しなかっ
た。以上により、可視域において透過特性が平坦であり
且つ耐久性にも優れたＮＤフィルタを作成できることが
確認された。
値、初期値及び熱処理後の値をまとめて表に表わしたも
のである。設計値では平坦性が±０．７５％、実際の初
期値は±１．０１％であるのに対し、熱処理後は平坦性
が±０．１５％まで改善されている。又実際に、成膜直
後及び熱処理後の成膜面は良好であり、膜面に粘着テー
プを貼り付け急激に引き剥がしても、膜剥離は生じなか
った。又、作成したＮＤフィルタの耐久性を調べる目的
で、高温高湿条件下（６０℃９０％ＲＨ）に２４０時間
投入したが、光学特性の変化量は０．５％程度と小さ
く、膜面にも変化が現われなかった。尚、作成したＮＤ
フィルタに対して、製品形状への切り抜き加工を実施し
た場合でも、膜割れや膜剥離などの欠陥は発生しなかっ
た。以上により、可視域において透過特性が平坦であり
且つ耐久性にも優れたＮＤフィルタを作成できることが
確認された。
【００１７】図９は、本ＮＤフィルタをカメラ用絞り装
置に適用した模式図である。一対に形成された内の一枚
を示した絞り羽根１００の凹部には、ＮＤフィルタ１０
５が接着剤１０６又は熱溶着等により固設されている。
絞り羽根１００は駆動部１０３により、枢支ピン１０４
の周りを回動して、開口部１０１を開閉するように構成
されている。
置に適用した模式図である。一対に形成された内の一枚
を示した絞り羽根１００の凹部には、ＮＤフィルタ１０
５が接着剤１０６又は熱溶着等により固設されている。
絞り羽根１００は駆動部１０３により、枢支ピン１０４
の周りを回動して、開口部１０１を開閉するように構成
されている。
【００１８】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、金
属材料を原料として蒸着により光吸収膜を成膜する際、
酸素を含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を１×１
０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間で一定に維持した状
態で該金属材料の酸化物を生成している。即ち、本発明
に係る薄膜型ＮＤフィルタは金属とその酸化物とで構成
された光吸収膜を備えており、従来の塗布又は練り込み
型ＮＤフィルタの欠点であった、反りや歪みなどの形状
変化を抑制することができる。又、薄膜型のＮＤフィル
タを形成する際に、成膜条件の最適化を図ることで、吸
収膜に金属材料を用いた場合の欠点であった、再現性が
得られにくい点を解決することができる。更に、酸素雰
囲気中で熱処理を実施することにより、光学特性の経時
変化を抑えるとともに、熱処理時の光学変化を想定した
膜設計を行なうことで、可視域において透過特性の平坦
性に優れたＮＤフィルタを得ることができる。加えて、
光吸収膜に金属酸化物を使用した場合に問題となる、膜
割れや膜剥離などのない表面状態の良好なＮＤフィルタ
を得ることができる。
属材料を原料として蒸着により光吸収膜を成膜する際、
酸素を含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を１×１
０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間で一定に維持した状
態で該金属材料の酸化物を生成している。即ち、本発明
に係る薄膜型ＮＤフィルタは金属とその酸化物とで構成
された光吸収膜を備えており、従来の塗布又は練り込み
型ＮＤフィルタの欠点であった、反りや歪みなどの形状
変化を抑制することができる。又、薄膜型のＮＤフィル
タを形成する際に、成膜条件の最適化を図ることで、吸
収膜に金属材料を用いた場合の欠点であった、再現性が
得られにくい点を解決することができる。更に、酸素雰
囲気中で熱処理を実施することにより、光学特性の経時
変化を抑えるとともに、熱処理時の光学変化を想定した
膜設計を行なうことで、可視域において透過特性の平坦
性に優れたＮＤフィルタを得ることができる。加えて、
光吸収膜に金属酸化物を使用した場合に問題となる、膜
割れや膜剥離などのない表面状態の良好なＮＤフィルタ
を得ることができる。
【図１】本発明に係るＮＤフィルタの層構成を示す模式
的な断面図である。
的な断面図である。
【図２】本発明に係るＮＤフィルタの作成に用いる真空
蒸着装置を示す模式的なブロック図である。
蒸着装置を示す模式的なブロック図である。
【図３】本発明に係るＮＤフィルタの成膜条件を示す表
図である。
図である。
【図４】本発明に係るＮＤフィルタに含まれる光吸収膜
の光学特性を示すグラフである。
の光学特性を示すグラフである。
【図５】本発明に係るＮＤフィルタの光学特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図６】本発明に係るＮＤフィルタの光学特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図７】本発明に係るＮＤフィルタの光学特性を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図８】本発明に係るＮＤフィルタの光学特性を示す表
図である。
図である。
【図９】本発明に係るＮＤフィルタをカメラ用絞り装置
に適用した模式図である。
に適用した模式図である。
０・・・ＮＤフィルタ、１・・・透明基板、２・・・誘
電体膜、３・・・光吸収膜、４・・・誘電体膜、５・・
・光吸収膜、６・・・誘電体膜
電体膜、３・・・光吸収膜、４・・・誘電体膜、５・・
・光吸収膜、６・・・誘電体膜
Claims (5)
- 【請求項１】 光吸収膜と誘電体膜を透明基板上に積層
した薄膜型ＮＤフィルタであって、 前記光吸収膜は、金属材料を原料として蒸着により成膜
されたものであり、 酸素を含む混合ガスを成膜時に導入し、真空度を１×１
０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間で一定に維持した状
態で生成した金属材料の酸化物を含有することを特徴と
する薄膜型ＮＤフィルタ。 - 【請求項２】 光吸収膜と誘電体膜を透明基板に積層し
た後、酸素を１０％以上含む酸素雰囲気で加熱し、光学
特性の変化を飽和させたことを特徴とする請求項１記載
の薄膜型ＮＤフィルタ。 - 【請求項３】 前記光吸収膜の金属材料はＴｉ，Ｃｒ及
びＮｉから選択され、前記誘電体膜はＳｉＯ2及びＡｌ2
Ｏ3から形成されることを特徴とする請求項１記載の薄
膜型ＮＤフィルタ。 - 【請求項４】 前記誘電体膜及び光吸収膜を所定の膜厚
及び所定の順番で積層して反射防止機能を付与したこと
を特徴とする請求項３記載の薄膜型ＮＤフィルタ。 - 【請求項５】 光吸収膜と誘電体膜を透明基板上に積層
した薄膜型ＮＤフィルタの製造方法であって、 金属材料を原料として蒸着により前記光吸収膜を成膜す
る蒸着工程を含み、 前記蒸着工程は、酸素を含む混合ガスを成膜時に導入
し、真空度を１×１０-3Ｐａないし１×１０-2Ｐａの間
で一定に維持した状態で該金属材料の酸化物を生成し、
以って該金属材料とその酸化物を含む光吸収膜を形成す
ることを特徴とする薄膜型ＮＤフィルタの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001226999A JP4855602B2 (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 |
| US10/202,635 US6671109B2 (en) | 2001-07-27 | 2002-07-25 | ND filter having composite PVD film of metal and its oxide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001226999A JP4855602B2 (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043211A true JP2003043211A (ja) | 2003-02-13 |
| JP4855602B2 JP4855602B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=19059722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001226999A Expired - Fee Related JP4855602B2 (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6671109B2 (ja) |
| JP (1) | JP4855602B2 (ja) |
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- 2001-07-27 JP JP2001226999A patent/JP4855602B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-25 US US10/202,635 patent/US6671109B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JP4692548B2 (ja) * | 2006-01-20 | 2011-06-01 | 住友金属鉱山株式会社 | 吸収型多層膜ｎｄフィルターおよびその製造方法 |
| US7894148B2 (en) | 2006-01-20 | 2011-02-22 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Absorption type multi-layer film ND filter and process for producing the same |
| JP2007240790A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 吸収型多層膜ｎｄフィルター及びその製造方法 |
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| US10663634B2 (en) | 2016-02-23 | 2020-05-26 | Tokai Optical Co., Ltd. | ND filter with plastic base material, and ND filter with plastic base material for eyeglasses |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6671109B2 (en) | 2003-12-30 |
| US20030026014A1 (en) | 2003-02-06 |
| JP4855602B2 (ja) | 2012-01-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080707 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100914 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100921 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101120 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111018 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111027 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4855602 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |