JP2009265579A - 多層膜ｎｄフィルター - Google Patents

Abstract

【課題】可視域から近赤外域にかけて平坦な特性を与える設計ができ、可視域のみならず近赤外域まで広くカバーすることが可能な多層膜ＮＤフィルターを提供すること。
【解決手段】透明な基板の両面に複数の光吸収膜と複数の誘電体膜を積層状に成膜させて構成される多層膜ＮＤフィルターにおいて、前記光吸収膜として単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）の少なくともいずれか一方を使用するようにした。これによって従来の可視域を重視した特性に設計することもでき、可視域に加えて赤外域までをも平坦とするような設計も可能な多層膜ＮＤフィルターを提供することが可能となる。
【選択図】なし

Description

本発明はカメラの光量の絞り等の用途に用いられる均一に透過光量を減衰させることができる多層膜ＮＤフィルターに関するものである。

従来から透過光量を減衰させるために多層膜ＮＤ（Neutral Density）フィルターが、例えばカメラやビデオのような撮影機器の撮影系（光学系）の一部に使用されている。ＮＤフィルターは特に可視域での光をほぼ均等に減衰させて透過させるため平坦な光学特性を備えた光学フィルターであって、例えば晴天下での光量が多すぎる場合において絞りだけでは想定する光量に抑えることが難しい場合や、低速でシャッターを切りたい場合や絞りを開放したい場合に露出過多にならないようにするために使用することを主目的としている。ＮＤフィルターは平坦な光学特性を備えるとともに、更に良好な反射防止特性を兼ね備える必要がある。
このような多層膜ＮＤフィルターの一例として特許文献１〜３を示す。特許文献１の多層膜ＮＤフィルターは光吸収膜として２種類以上の金属酸化物を用いたものである。また、特許文献２の多層膜ＮＤフィルターは光吸収膜として１種類の金属酸化物と基板に隣接する位置に屈折率が２．０以上の高屈折率膜を配置し透過率を１０％以上３０％以下とするとともに反射率を３％以上としたものである。また、特許文献３はニッケルを主成分とした光吸収膜と誘電体膜の交互層から多層膜ＮＤフィルターを構成するようにしたものである。
特開平７−６３９１５号公報 特開２００３−３４４６１２号公報 特開２００６−５８８５４号公報 特開２００７−２３５４１６号公報

ところで、従来のＮＤフィルターは上記のように主として可視域での光をほぼ均等に減衰させることを目的とするため、可視域である４００〜７００ｎｍ波長付近で平坦な特性を備えれば足りるわけであった。
しかし、実際には、例えばＣＣＴＶ（監視カメラシステム）のように通常の可視域に加えて夜間において近赤外域である１１００ｎｍ波長付近までを撮影するようになってきているため（例えば特許文献４）、暗所撮影のために赤外線投光器を用いる場合では赤外線の光量を抑制する等の目的から近赤外域である１１００ｎｍ波長付近までの光に対応できるＮＤフィルターの要請がある。
しかしながら、従来ではこのような可視域に加えて近赤外域までの広い帯域での平坦な特性を持ったＮＤフィルターは提供されていなかった。例えば、上記特許文献に開示されるような光吸収膜と誘電体膜からなる従来のＮＤフィルターでは１１００ｎｍ波長付近の近赤外域の波長の光について十分な反射防止を図りながらなおかつ平坦性を与えるような設計は不可能であった。
そのため、従来の可視域を重視した設計も可能であり、要請によって近赤外域まで平坦性を与えることのできるような高性能のＮＤフィルターが求められていた。
本発明は、上記課題を解消するためになされたものであり、その目的は可視域から近赤外域にかけて平坦な特性を与える設計ができ、可視域のみならず近赤外域まで広くカバーすることが可能な多層膜ＮＤフィルターを提供することにある。

上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明では、透明な基板の一方の面あるいは両面に複数の光吸収膜と複数の誘電体膜を積層状に成膜させて構成される多層膜ＮＤフィルターにおいて、前記光吸収膜として単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）の少なくともいずれか一方を使用することをその要旨とする。
請求項２に記載の発明では請求項１に記載の発明において、前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は前記単体シリコン（Ｓｉ）以外の光吸収膜として金属材料が使用されることをその要旨とする。
請求項３に記載の発明では請求項２に記載の発明において、前記光吸収膜として使用される金属材料はニッケル（Ｎｉ）であることをその要旨とする。
請求項４に記載の発明では請求項１〜３のいずれかに記載の発明において、前記光吸収膜として前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び前記単体シリコン（Ｓｉ）の両方を使用することをその要旨とする。
請求項５に記載の発明では請求項１〜４のいずれかに記載の発明において、前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は前記単体シリコン（Ｓｉ）から構成される前記光吸収膜は前記基板に隣接する位置に同単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は同単体シリコン（Ｓｉ）以外の他の前記光吸収膜を間に介在させることなく少なくとも１層の前記誘電体膜を介して配置されていることをその要旨とする。
請求項６に記載の発明では請求項１〜５のいずれかに記載の発明において、４００〜７００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が４．０以下であることをその要旨とする。
請求項７に記載の発明では請求項１〜６のいずれかに記載の発明において、４００〜１１００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が８．０以下であることをその要旨とする。

本発明に使用される基材は特に限定されるものではなくガラス素材もプラスチック素材も使用可能である。例えばプラスチック基材であればポリイミド、ポリメチルメタクレート及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）、セルロースアセテート、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン、その他硫黄含有樹脂等あるいはこれらの複合体が一例として挙げられる。基材形状はフィルム状でも板状でも構わない。
光吸収膜としては本発明では単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）の少なくともいずれか一方を使用することが必要である。
ここに単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）の単層膜の特性を表１に示す。
単体ゲルマニウム（Ｇｅ）に対して単体シリコン（Ｓｉ）の透過率は可視域である４００〜７００ｎｍ付近でより平坦である。従って、単体ゲルマニウム（Ｇｅ）よりも単体シリコン（Ｓｉ）の方が特に可視域を狙って多層膜ＮＤフィルターを設計する場合には有利と考えられる。しかし、一方で単体シリコン（Ｓｉ）は単体ゲルマニウム（Ｇｅ）に比べて透過率の立ち上がりが急峻な特性を有している。透過率と反射率と吸収の関係は簡易的に、
１００（％）−（透過率＋反射率）＝吸収
として評価することができるので、単体シリコン（Ｓｉ）は単体ゲルマニウム（Ｇｅ）に比べてより短波長側でのみ強い吸収があると考えてもよい。
単体シリコン（Ｓｉ）を使用して多層膜ＮＤフィルターを設計した場合この急峻性の影響は長波長側に発生すると考えられる。従って、可視域だけではなく近赤外域まで広く平坦性を求める場合には単体ゲルマニウム（Ｇｅ）の方が有利と考えられる。
尚、「平坦性」という場合本発明では透過率の最大値と最小値の差で評価され、その数値が小さいほど平坦性が高いとしてＮＤフィルターとしてより好適と判定される。

本発明の多層膜ＮＤフィルターとしては、４００〜７００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が４．０以下であることが好ましい。このような条件を備えることで特に可視域での多層膜ＮＤフィルターとして好適なものが得られる。また、４００〜１１００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が８．０以下であることが好ましい。このような条件を備えることで特に可視域から近赤外域での広範囲の多層膜ＮＤフィルターとして好適なものが得られる。４００〜１１００ｎｍの波長帯域においては反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が４．０以下であることがより好ましい。
また、単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）以外の光吸収膜を使用することも可能である。そのような光吸収膜としては一般に金属材料が使用されることとなる。光吸収膜として使用される金属材料としては例えば、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）等が挙げられる。このうち、最も好ましいものとしてニッケル（Ｎｉ）とニッケル系合金及びそれらの酸化物が挙げられる。ニッケル系合金としてニッケル（Ｎｉ）に添加される金属ではクロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）が好ましい。尚、本発明ではゲルマニウム（Ｇｅ）及びシリコン（Ｓｉ）のような半導体は金属の範疇に含めていない。
誘電体膜としては具体的には例えばＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂等の金属酸化物、フッ化物が挙げられる。このうち特にＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃が本発明に使用される誘電体膜として好ましい。

本発明の多層膜ＮＤフィルターの膜構成として、単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は単体シリコン（Ｓｉ）から構成される光吸収膜は基板に隣接する位置に同単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は同単体シリコン（Ｓｉ）以外の他の前記光吸収膜を間に介在させることなく少なくとも１層の誘電体膜を介して配置することが好ましい。特に基板がプラスチック素材である場合には密着性の点から基板と直接単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は単体シリコン（Ｓｉ）を配置するよりも誘電体膜が介在することが好ましい。
また、光吸収膜として単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）を併用することも可能である。両者を併用することで広い帯域に渡ってより好適な特性の多層膜ＮＤフィルターを設計することが可能となる。
また、膜構成としては最外層に誘電体膜が配置されることが好ましく、２層以上の光吸収膜を有し、それら光吸収膜は相互に隣接していないことが好ましい。層の数は特に限定されることはないが、平坦な特性を創出するためには基板の一方の面に少なくとも５層以上の積層が必要である。膜厚はフィルター特性に応じて適宜設計する。
本発明の多層膜ＮＤフィルターは蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の既知の方法で成膜することが可能である。

上記各請求項に記載の発明によれば、従来の可視域を重視した特性に設計することもでき、可視域に加えて赤外域までをも平坦とするような設計も可能な多層膜ＮＤフィルターを提供することが可能となる。

（実施例１）
実施例１の多層膜ＮＤフィルターは基材を挟んでその両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ８層の交互多層膜として構成した。実施例１の膜構成は表２の通りである。
実施例１では厚み１００μｍのポリイミド製基材（屈折率1.6（於：波長589.3nm））の両面にそれぞれ多層膜を真空蒸着法により成膜させた。本実施例では基板温度100℃、真空度8×10^-4Paの雰囲気中にて蒸着を実行した。光吸収膜としては単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及びニッケル（Ｎｉ）とその酸化物（ＮｉＯ_x）の混合体（以下、ニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）とする）の２種類を使用した。ニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）はニッケルを蒸着材料として、酸素を含む混合ガス体を導入しながら成膜するため、正確なニッケル単体とその酸化物の混合比率は不明である。本実施例１ではニッケル及び酸素の蒸着条件としてNi蒸着レートを3Å/sとし、蒸着中においてＯ₂ガスを20sccmで導入した。誘電体膜としてはＳｉＯ₂を使用した。膜の構成としては基本的に光吸収膜と誘電体膜を交互に配置し、基盤に接した最内層位に単体ゲルマニウム（Ｇｅ）膜を配置し、最外層にＳｉＯ₂膜を配置した。
表３は実施例１の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例１は比較的低い透過率（平均２．６％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例１では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は２．３％、最大値は３．３％であったためその平坦性は１．０と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表３のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は２．４％、平均反射率は０．８％であった。

（実施例２）
実施例２では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（於：波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ９層の交互多層膜として構成した。実施例２の膜構成は表４の通りである。実施例２でも実施例１と同様単体ゲルマニウム（Ｇｅ）、ニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）、ＳｉＯ₂によって膜を構成した。実施例２では実施例１とは単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及びニッケル（Ｎｉ）の膜の位置が異なっている。また、基板に接した最内層位と最外層にそれぞれＳｉＯ₂膜を配置した。
表５は実施例２の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例２は中程度の透過率（平均１４．８％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例２では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は１４．２％、最大値は１５．６％であったためその平坦性は１．４と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表５のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は１．９％、平均反射率は１．３％であった。

（実施例３）
実施例３では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（於：波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ９層の交互多層膜として構成した。実施例３の膜構成は表６の通りである。実施例３でも実施例１と同様単体ゲルマニウム（Ｇｅ）、ニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）、ＳｉＯ₂によって膜を構成した。実施例３は実施例２と同じ膜構成である。
表７は実施例３の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例３は比較的高い透過率（平均２９．７％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例３では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は２９．０％、最大値は３０．６％であったためその平坦性は１．６と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表７のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は２．６％、平均反射率は２．１％であった。

（実施例４）
実施例４では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ９層の交互多層膜として構成した。実施例４の膜構成は表８の通りである。実施例４では上記実施例と異なりニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）の光吸収膜の代わりにニッケルクロム合金の膜を配置した。実施例４ではニッケルクロム合金及び酸素の蒸着条件としてNiCr蒸着レートを3Å/sとし、蒸着中においてＯ₂ガスを20sccmで導入した。
表９は実施例４の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例４は中程度の透過率（平均１４．７％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例４では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は１３．７％、最大値は１６．８％であったためその平坦性は３．１と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表９のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は１．９％、平均反射率は１．４％であった。

（実施例５）
実施例５では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ９層の交互多層膜として構成した。実施例５の膜構成は表１０の通りである。実施例５では上記実施例２又は３と同じ膜構成において単体ゲルマニウム（Ｇｅ）の光吸収膜の代わりに単体シリコン（Ｓｉ）膜を配置した。
表１１は実施例４の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例５は中程度の透過率（平均１４．８％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例５では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は１３．７％、最大値は１６．９％であったためその平坦性は３．１と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表１１のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は２．８％、平均反射率は１．５％であった。

（実施例６）
実施例６では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ９層の交互多層膜として構成した。実施例６の膜構成は表１２の通りである。実施例６では上記実施例５と同じ膜構成において最外層のニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）の光吸収膜の代わりに単体ゲルマニウム（Ｇｅ）膜を配置した。
表１３は実施例６の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例６は中程度の透過率（平均１５．０％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例６では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は１４．０％、最大値は１６．０％であったためその平坦性は２．０と評価された。また、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表１３のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は３．７％、平均反射率は１．９％であった。

（実施例７）
実施例７では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（於：波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなるそれぞれ６層の交互多層膜として構成した。実施例７の膜構成は表１４の通りである。実施例７では実施例５と同様単体シリコン（Ｓｉ）、ニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）、ＳｉＯ₂によって膜を構成した。実施例７では実施例５と異なり直接基板に単体シリコン（Ｓｉ）が成膜されている。
表１５は実施例７の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。実施例７は中程度の透過率（平均１３．５％）で、かつ４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて良好な光学特性を実現できた例である。実施例７では４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は１３．４％、最大値は１３．９％であったためその平坦性は０．６と評価された。また、４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける表裏両面の反射率は表１５のように同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は１．６％、平均反射率は０．８％であった。

（比較例１）
比較例１では厚み０．１ｍｍのPET基板（屈折率１．５９（波長５５０nm））の片面に光吸収膜と誘電体膜からなる片面のみ５層の交互多層膜として構成した。比較例１の膜構成は表１６の通りである。比較例１では光吸収膜としてチタン（Ｔｉ）とその酸化物（ＴｉＯ_x）の混合体（以下、チタン混合体（Ｔｉ＋ＴｉＯ_x）とする）を使用した。チタン混合体（Ti＋TｉＯ_x）はチタンを蒸着材料として酸素を含む混合ガス体を導入しながら成膜するため、正確なチタン単体とその酸化物の混合比率は不明である。本比較例１ではチタン及び酸素の蒸着条件としてＴｉ蒸着レートを3Å/sとし、Ｎ₂とＯ₂の混合比が８：２のガスを蒸着中に55sccmで導入した。誘電体膜としてはＳｉＯ₂を使用した。
表１７は比較例１の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。比較例１は比較的高い透過率（平均２５．２％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける光学特性を示した例である。比較例１では平坦性を重視した設計とした。比較例１では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は２４．６％、最大値は２６．０％であったためその平坦性は１．４と評価された。一方で、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける成膜面側の最大反射率は１２．９％、平均反射率は４．３％であった。

（比較例２）
比較例２では実施例１と同じ蒸着条件で厚み１．０ｍｍのガラス基板（屈折率1.52（波長587.6nm））の両面に光吸収膜と誘電体膜からなる７層の交互多層膜として構成した。比較例２の膜構成は表１８の通りである。比較例２では光吸収膜として実施例１と同じ条件で成膜したニッケル混合体（Ｎｉ＋ＮｉＯ_x）を使用した。誘電体膜としてはＳｉＯ₂を使用した。
表１９は比較例２の多層膜ＮＤフィルターの透過率及び反射率に関する光学特性を示したグラフである。比較例２は中程度の透過率（平均１３．３％）で、かつ４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける光学特性を示した例である。比較例２では反射率を重視した設計とした。比較例２では４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率の最小値は１０．９％、最大値は２１．０％であったためその平坦性は１０．１と評価された。一方で、４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける表裏両面の反射率は同じ特性を示し、例えば第１面側では最大反射率は１．８％、平均反射率は１．２％であった。

＜結果＞
上記実施例１〜実施例６ではいずれもＮＤフィルターとして要求される低い反射率内で４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける帯域で十分な平坦性を備えることが確認できた。上記実施例１〜実施例６では４００ｎｍ〜７００ｎｍの帯域のみの平坦性をとってみても評価値は４以内に収まっている。また、実施例７によって４００ｎｍ〜７００ｎｍの帯域に特化させることで非常に平坦性が高く、かつ反射率の低いＮＤフィルターを得ることができることが確認できた。単体ゲルマニウム（Ｇｅ）あるいは単体シリコン（Ｓｉ）以外の光吸収膜では今回実施例で挙げたニッケル系が他の金属よりも特に良好であるという結果が得られた。
一方、比較例１では平坦性を重視したため反射率は平均値においても最大値においても不良であり、特に長波長側で極めて高くなってしまう傾向となり設計上無理が生じていることが確認できた。また、比較例２では反射率を重視したため平坦性がなく、特に短波長側で透過率の変化量が大きくやはり設計上無理が生じていることが確認できた。

Claims (7)

1. 透明な基板の一方の面あるいは両面に複数の光吸収膜と複数の誘電体膜を積層状に成膜させて構成される多層膜ＮＤフィルターにおいて、
   前記光吸収膜として単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び単体シリコン（Ｓｉ）の少なくともいずれか一方を使用することを特徴とする多層膜ＮＤフィルター。
2. 前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は前記単体シリコン（Ｓｉ）以外の光吸収膜として金属材料が使用されることを特徴とする請求項１に記載の多層膜ＮＤフィルター。
3. 前記光吸収膜として使用される金属材料はニッケル（Ｎｉ）であることを特徴とする請求項２に記載の多層膜ＮＤフィルター。
4. 前記光吸収膜として前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）及び前記単体シリコン（Ｓｉ）の両方を使用することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の多層膜ＮＤフィルター。
5. 前記単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は前記単体シリコン（Ｓｉ）から構成される前記光吸収膜は前記基板に隣接する位置に同単体ゲルマニウム（Ｇｅ）又は同単体シリコン（Ｓｉ）以外の他の前記光吸収膜を間に介在させることなく少なくとも１層の前記誘電体膜を介して配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の多層膜ＮＤフィルター
6. ４００〜７００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が４．０以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の多層膜ＮＤフィルター。
7. ４００〜１１００ｎｍの波長帯域において反射率が平均４％以下であり、かつこの波長帯域での平坦性が８．０以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の多層膜ＮＤフィルター。