JPWO2013183557A1 - 近赤外線カットフィルタ - Google Patents
近赤外線カットフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2013183557A1 JPWO2013183557A1 JP2014519965A JP2014519965A JPWO2013183557A1 JP WO2013183557 A1 JPWO2013183557 A1 JP WO2013183557A1 JP 2014519965 A JP2014519965 A JP 2014519965A JP 2014519965 A JP2014519965 A JP 2014519965A JP WO2013183557 A1 JPWO2013183557 A1 JP WO2013183557A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- film
- optical multilayer
- wavelength
- index film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 98
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 69
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 154
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 96
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 claims description 2
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 312
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 59
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 40
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 34
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 28
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 9
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 6
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
本発明に係る近赤外線カットフィルタは、高屈折率膜、中屈折率膜及び低屈折率膜の繰り返し積層構造を有し、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを有する。
Description
本発明は、近赤外線カットフィルタに関し、特に、透明基板上に形成された光学多層膜を有する近赤外線カットフィルタに関する。
デジタルカメラやデジタルビデオ等には、Charge Coupled Device（ＣＣＤ）イメージセンサやComplementary Metal Oxide Semiconductor（ＣＭＯＳ）イメージセンサ等（以下、固体撮像素子と称する）が使用される。しかしながら、これら固体撮像素子の分光特性は、人間の視感度特性に比べて赤外光に強い感度を有する。そこで、デジタルカメラやデジタルビデオ等では、近赤外線カットフィルタによる分光補正を行っている。
近赤外線カットフィルタとしては、例えば、Ｃｕ２＋イオンを着色成分として含有するフツリン酸系ガラス等の近赤外線吸収タイプの色ガラスフィルタが使用されてきた。しかしながら、色ガラスフィルタ単体では、近赤外域及び紫外域の光を十分にカットすることができないことから、現在では、近赤外線をカットできる特性を有する光学多層膜が併用されている。
光学多層膜には、固体撮像素子が必要とする４００〜７００ｎｍにおける透過帯において、透過率が落ち込む現象（リップル）が生じないことが求められる。光学多層膜において、リップルを抑制する技術が従来から提案されている（例えば、特許文献１〜２参照）。
しかしながら、光学多層膜には、特定角度で入射する光のリップルを抑制できたとしても、光の入射角度が変化するとリップルが発生することがある。特許文献１〜２に記載の技術は、特定角度で入射する光のリップルの抑制には対応できるものの、光の入射角度が変化することに起因して発生するリップルに対しては全く考慮されていない。
このような状況において、近年では、デジタルカメラやデジタルビデオ等がさらに小型化、薄型化しており、デジタルカメラやデジタルビデオ等のレンズの広角化が進んでいる。このため、固体撮像素子へ光がより傾斜した状態で入射するようになっている。例えば、従来では、固体撮像素子への光の入射角度が３０°以下であったものが、近年では、３０°を超える入射角への対応を強く求められるようになってきている。
上述したリップルは、光の入射角度が傾斜するに従い、透過率の落ち込み量も大きくなる。特許文献１〜２に開示される提案では、入射角度変化に伴うリップルの抑制について考慮がなされていないことから、固体撮像素子への光の入射角度が３０°以下であれば、リップルが極端に大きくなることはないが、３０°を超えるような入射角度になると無視できないほどのリップルが発生するおそれがある。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、リップルが抑制された近赤外線カットフィルタを提供することを目的とする。
本発明に係る近赤外線カットフィルタは、透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、前記光学多層膜は、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを有し、前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴ（Quater-wave Optical Thickness）をＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内であり、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層したことを特徴とする。
本発明によれば、透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、前記光学多層膜は、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを有し、前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴをＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内であり、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層しているので、リップルが抑制された近赤外線カットフィルタを提供することができる。
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る近赤外線カットフィルタ１０（以下、ＩＲＣＦ１０）の断面図である。図２は、ＩＲＣＦ１０が備える光学多層膜１２の断面図である。図３は、光学多層膜１２の第１のＳＷＰＦ部１２Ｂの断面図である。以下、図１〜図３を参照してＩＲＣＦ１０の構成について説明する。
図１は、第１の実施形態に係る近赤外線カットフィルタ１０（以下、ＩＲＣＦ１０）の断面図である。図２は、ＩＲＣＦ１０が備える光学多層膜１２の断面図である。図３は、光学多層膜１２の第１のＳＷＰＦ部１２Ｂの断面図である。以下、図１〜図３を参照してＩＲＣＦ１０の構成について説明する。
図１に示すようにＩＲＣＦ１０は、透明基板１１と、透明基板１１の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜１２とを備える。なお、光学多層膜１２は、透明基板１１の一方の主面に設けるようにしてもよいし、透明基板１１のそれぞれの主面に分割して設けるようにしてもよい。
（透明基板１１）
透明基板１１の材料は、少なくとも可視波長域の光を透過できるものであれば特に限定されない。透明基板１１の材料として、例えば、ガラス、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等の結晶、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
透明基板１１の材料は、少なくとも可視波長域の光を透過できるものであれば特に限定されない。透明基板１１の材料として、例えば、ガラス、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等の結晶、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
透明基板１１としては、特に、近赤外波長域の光を吸収するものが好ましい。近赤外波長域の光を吸収する透明基板１１を用いることで、人間の視感度特性に近い画質を得ることができるためである。なお、近赤外波長域の光を吸収する透明基板１１としては、例えば、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラスにＣｕ２＋（イオン）が添加された吸収型ガラスが挙げられる。また、樹脂材料中に近赤外線を吸収する吸収剤を添加したものを使用してもよい。吸収剤としては、例えば、染料、顔料、金属錯体系化合物が挙げられ、具体的には、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物が挙げられる。
（光学多層膜２２の構造）
図２は、光学多層膜１２の断面図である。図２に示すように、光学多層膜１２は、紫外光（ＵＶ）をカットするＵＶカット部１２Ａ、第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃを備える。第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃは、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを形成する。その他、分光特性を調整する層を光学多層膜１２の構造に追加してもよい。
図２は、光学多層膜１２の断面図である。図２に示すように、光学多層膜１２は、紫外光（ＵＶ）をカットするＵＶカット部１２Ａ、第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃを備える。第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃは、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを形成する。その他、分光特性を調整する層を光学多層膜１２の構造に追加してもよい。
（ＵＶカット部１２Ａ）
ＵＶカット部１２Ａは、４００ｎｍ未満の波長範囲の紫外線を所定の波長幅と透過率でカットするものであれば、どのような膜構成のものであってもよい。例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜Ｈと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜Ｌとが積層された構造を有する。
ＵＶカット部１２Ａは、４００ｎｍ未満の波長範囲の紫外線を所定の波長幅と透過率でカットするものであれば、どのような膜構成のものであってもよい。例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜Ｈと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜Ｌとが積層された構造を有する。
（ＳＷＰＦ部１２Ｂ）
図３は、第１のＳＷＰＦ（Short Wide Pass Filter）部１２Ｂの断面図である。ＳＷＰＦ部１２Ｂは、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜をＨ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜Ｈの屈折率未満である中屈折率膜をＭ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜をＬとしたときに、以下の（１）式で表される構造を有する。
（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは、１以上の自然数）・・・（１）
図３は、第１のＳＷＰＦ（Short Wide Pass Filter）部１２Ｂの断面図である。ＳＷＰＦ部１２Ｂは、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜をＨ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜Ｈの屈折率未満である中屈折率膜をＭ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜をＬとしたときに、以下の（１）式で表される構造を有する。
（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは、１以上の自然数）・・・（１）
ＳＷＰＦ部１２Ｂの高屈折率膜ＨのＱＷＯＴをＴＨ、中屈折率膜ＭのＱＷＯＴをＴＭ、低屈折率膜ＬのＱＷＯＴをＴＬとしたとき、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上場合、０°入射（垂直入射）条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内となるよう前記各膜を積層する。
また、ＳＷＰＦ部１２の高屈折率膜ＨのＱＷＯＴをＴＨ、中屈折率膜ＭのＱＷＯＴをＴＭ、低屈折率膜ＬのＱＷＯＴをＴＬとしたときに、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内となるよう前記各膜を積層する。
上述の各膜のＱＷＯＴの比を決める際、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値をしきい値として規定した。これは、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合は、中屈折率膜のＱＷＯＴの増減が上記比率に与える影響が高屈折率膜の傾向と同様であるためである。また、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合は、中屈折率膜のＱＷＯＴの増減が上記比率に与える影響が低屈折率膜の傾向と同様であるためである。
ＳＷＰＦ部１２の各膜のＱＷＯＴを上記のように設定する理由を以下に述べる。光学多層膜の入射角度に依存する可視域の局所的な透過率減少（いわゆるリップル）の発生は、ｎｄ×ｃｏｓθによる光学的膜厚の減少が、屈折率が異なる膜どうしで相違することによるものと考えられる。光学多層膜の分光特性は、スネルの法則（ｎ１×ｃｏｓθ１＝ｎ２×ｃｏｓθ２）により、入射角度は屈折率が大きい膜の方が小さく、屈折率の小さい膜では入射角度が大きくなることが分かる。
従って、入射角度が大きくなるに従い、例えば高屈折率膜Ｈと低屈折率膜Ｌとで考えると、両者の光学的膜厚のバランスは高屈折率膜の光学的膜厚が過多、低屈折率膜の光学的膜厚が過小に働く。そして、ＳＷＰＦは各屈折率の膜厚変化に対してリップルが発生し易い傾向がある。しかしながら、各屈折率の光学的膜厚の比率が変化した場合であっても、リップルが発生しない比率範囲が必ず存在するので、これを用いてリップルの抑制を行うことが出来る。
具体的には、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し積層構造をもつＳＷＰＦにおいて、各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させ、ＳＷＰＦの０°入射条件の分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内にリップルの発生を調べる。各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させると、リップルが発生し始める範囲が把握できる。
そして、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。
また、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。
なお、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない、とは、４００〜７００ｎｍの波長範囲において、上記各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させた際の透過率の変化量を規定するものである。具体的には、上記各屈折率膜のＱＷＯＴの調整により透過率が変動するため、その変動量が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない範囲内における、上記ＱＷＯＴの比率を確認し、最大値及び最小値を設定するものである。
上記において、１００％の値を選ぶと、０°から入射角度を大きくして（傾けて）いった時、最も大きな角度までリップルが発生しない設計となる。７０％未満の値を選ぶと、０°から入射角度を大きくして（傾けて）いった時、１００％の値を選んだ場合よりも小さい角度でリップルが発生する。光学多層膜の透過帯（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）における、０°〜４５°入射条件でのリップルの発生および製造上の余裕も考慮に入れ、１００％〜７０％の範囲となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。なお、上述した各屈折率膜のＱＷＯＴを決定するプロセスは、複数の膜構成の光学多層膜を実際に作製してもよいし、膜構造から光学多層膜の分光特性をシミュレーションできるソフトウエアを活用してもよい。
（ＳＷＰＦ部１２Ｃ）
ＳＷＰＦ部１２Ｃは、ＳＷＰＦ部１２Ｂと同じ構造を有するため重複する説明を省略する。
ＳＷＰＦ部１２Ｃは、ＳＷＰＦ部１２Ｂと同じ構造を有するため重複する説明を省略する。
高屈折率膜Ｈとしては、波長５００ｎｍにおいて、屈折率が２．０以上となる材料からなるものであれば特に限定されない。このような高屈折率の材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、またはこれらの複合酸化物からなるものが好適に挙げられる。また、屈折率が２．０以上であれば、添加物を含有していても構わない。なお、屈折率が高いほうが、斜入射時の波長シフト量抑制、阻止帯の拡張等に有利である。
中屈折率膜Ｍとしては、波長５００ｎｍにおいて、屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜Ｈの屈折率未満である材料からなるものであれば特に限定されない。このような中屈折率の材料としては、例えば、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）と酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）との混合物が好適に挙げられる。なお、上記材料は、添加物を含有していても構わない。
低屈折率膜Ｌとしては、波長５００ｎｍにおいて、低屈折率が１．６未満となる材料からなるものであれば特に限定されない。このような低屈折率の材料としては、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ２）が好適に挙げられる。また、屈折率が１．６未満であれば、添加物を含有していても構わない。
各屈折率膜の組合せの好適な例として、以下が挙げられる。
組合せ１・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化タンタル（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．１９）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）は、０．８７０〜０．８４５が好ましい範囲である。
組合せ２・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２１５〜１．１８６が好ましい範囲である。
組合せ３・・・高屈折率膜：酸化ニオブ（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．３８）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２２９〜１．１８６が好ましい範囲である。
組合せ１・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化タンタル（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．１９）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）は、０．８７０〜０．８４５が好ましい範囲である。
組合せ２・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２１５〜１．１８６が好ましい範囲である。
組合せ３・・・高屈折率膜：酸化ニオブ（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．３８）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２２９〜１．１８６が好ましい範囲である。
光学多層膜１２を構成する高屈折率膜Ｈ、中屈折率膜Ｍ、低屈折率膜Ｌは、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法により形成することができるが、特に、スパッタリング法、真空蒸着法により形成することが好ましい。透過帯は、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の固体撮像素子の受光に利用される波長帯域であり、その膜厚精度が重要となる。スパッタリング法、真空蒸着法は、薄膜を形成する際の膜厚制御に優れる。このため、光学多層膜１２を構成する高屈折率膜Ｈ、中屈折率膜Ｍ、低屈折率膜Ｌの膜厚の精度を高めることができ、その結果、リップルを抑制することができる。
なお、付着力強化層、最表面層（空気側）での帯電防止層など、光学多層膜１２を構成する以外の膜が、光学多層膜１２に含まれていてもよい。
（光学多層膜１２の分光特性）
次に、光学多層膜１２の分光特性について説明する。
光学多層膜１２は、０°入射条件において、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、該透過帯の近赤外側に阻止帯を有する。阻止帯は、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍとなっている。
次に、光学多層膜１２の分光特性について説明する。
光学多層膜１２は、０°入射条件において、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、該透過帯の近赤外側に阻止帯を有する。阻止帯は、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍとなっている。
また、光学多層膜１２の透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差は２００ｎｍ以上となっている。さらに、０°入射条件と３０°入射条件とにおける光学多層膜１２の透過帯の半値波長の差は、紫外側で１０ｎｍ未満、近赤外側で２２ｎｍ未満となっている。
なお、光学多層膜１２は、０°入射条件での分光特性において、さらに以下の要件を満たすことが好ましい。具体的には、光学多層膜１２の透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差は３５０ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下が更に好ましい。また、紫外側の半値波長は３９０〜４３０ｎｍの範囲にあることが好ましく、近赤外側の半値波長は６４０〜７２０ｎｍの範囲にあることが好ましい。さらに、紫外側の阻止帯の幅は３０ｎｍ以上、近赤外側の阻止帯の幅は２００ｎｍ以上であることが好ましい。
ここで、光学多層膜１２の透過帯の範囲（平均透過率を求めるための範囲）は、透過帯から紫外側の阻止帯に向かって透過率の低下が開始するときの波長（紫外側の基点）から、透過帯から近赤外側の阻止帯に向かって透過率の低下が開始するときの波長（近赤外側の基点）までとする。
また、光学多層膜１２の阻止帯の範囲（平均透過率や幅を求めるための範囲）は、光学多層膜１２の紫外側の阻止帯については、紫外側の阻止帯から透過帯に向かって透過率の上昇が開始するときの波長（透過帯側の基点）から、その紫外側に向かって透過率が最初に４０％に達するときの上昇が開始するときの波長（紫外側の基点）までとする。
さらに、光学多層膜１２の近赤外側の阻止帯については、近赤外側の阻止帯から透過帯に向かって透過率の上昇が開始するときの波長（透過帯側の基点）から、その近赤外側に向かって透過率が最初に４０％に達するときの上昇が開始するときの波長（近赤外側の基点）までとする。
（近赤外線カットフィルタ（ＩＲＣＦ）１０の分光特性）
ＩＲＣＦ１０は、０°〜４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に２０％以上低下する箇所がないことが好ましい。ＩＲＣＦ１０の分光特性は、主には光学多層膜１２の分光特性に依存するため、光学多層膜１２のみで上記特性を備えることが好ましいが、光学多層膜１２以外に反射防止膜等を透明基板の他方の面に設けることで上記特性を備えるようにしてもよい。ＩＲＣＦ１０は、０°〜４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量は、１５％以下がより好ましく、１２％以下がさらに好ましい。
なお、本発明において、透過率が局所的に低下する量は、リップルによる局所的な透過率損失量を意味する。具体的には、短波長から長波長側への透過率変動において、透過帯の平坦部もしくはそれに類する連続的な透過率変動部（例えば吸収ガラスなどでは透過帯はなだらかな山形状を描いている）から、リップルによって形成される極小値に向かう最初の変曲点の透過率を（Ａ）、リップルによる透過率の極小値を（Ｂ）、リップルの極小値から上記透過帯平坦部に透過率が上昇し、この上昇の終端であり、透過帯平坦部に戻った最初の変曲点の透過率を（Ｃ）とした時（Ａ）−（Ｂ）、（Ｃ）−（Ｂ）の絶対値のうち、大きいものをいう。
ＩＲＣＦ１０は、０°〜４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に２０％以上低下する箇所がないことが好ましい。ＩＲＣＦ１０の分光特性は、主には光学多層膜１２の分光特性に依存するため、光学多層膜１２のみで上記特性を備えることが好ましいが、光学多層膜１２以外に反射防止膜等を透明基板の他方の面に設けることで上記特性を備えるようにしてもよい。ＩＲＣＦ１０は、０°〜４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量は、１５％以下がより好ましく、１２％以下がさらに好ましい。
なお、本発明において、透過率が局所的に低下する量は、リップルによる局所的な透過率損失量を意味する。具体的には、短波長から長波長側への透過率変動において、透過帯の平坦部もしくはそれに類する連続的な透過率変動部（例えば吸収ガラスなどでは透過帯はなだらかな山形状を描いている）から、リップルによって形成される極小値に向かう最初の変曲点の透過率を（Ａ）、リップルによる透過率の極小値を（Ｂ）、リップルの極小値から上記透過帯平坦部に透過率が上昇し、この上昇の終端であり、透過帯平坦部に戻った最初の変曲点の透過率を（Ｃ）とした時（Ａ）−（Ｂ）、（Ｃ）−（Ｂ）の絶対値のうち、大きいものをいう。
（その他の実施形態）
以上のように、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
以上のように、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
例えば、光学多層膜は、２つの同一の膜構成によるＳＷＰＦを備えてもよいし、１つのＳＷＰＦおよび他の膜構成（上記繰り返し積層構造以外）によるＳＷＰＦにて構成されてもよい。具体的には、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し積層構造を備えるＳＷＰＦと（ＨＬ）の繰り返し積層構造を備えるＳＷＰＦとからなる光学多層膜であってもよい。また、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し数は、所望の分光特性に応じて任意に設定されるものである。また、（ＬＭＨＭＬ）の中屈折率膜を高屈折率膜と低屈折率膜とに振り分ける（等価膜構成）を用いて、実質的に同一の膜構成となるようにしてもよい。
（撮像装置１００）
図１〜図３を参照して説明したＩＲＣＦ１０は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置や自動露出計等における視感度補正フィルタとして用いられる。デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置においては、例えば、撮像レンズと固体撮像素子との間に配置される。自動露出計においては、例えば受光素子の前面に配置される。
図１〜図３を参照して説明したＩＲＣＦ１０は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置や自動露出計等における視感度補正フィルタとして用いられる。デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置においては、例えば、撮像レンズと固体撮像素子との間に配置される。自動露出計においては、例えば受光素子の前面に配置される。
撮像装置では、固体撮像素子の前面から離れた位置にＩＲＣＦ１０を配置してもよいし、固体撮像素子、または固体撮像素子のパッケージに直接貼着してもよいし、固体撮像素子を保護するカバーをＩＲＣＦ１０としてもよい。また、モアレや偽色を抑制するための水晶やニオブ酸リチウム等の結晶を使用したローパスフィルタに直接貼着してもよい。
次に、具体例を示す。図４は、撮像装置１００の一部構成図である。
撮像装置１００は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラである。撮像装置１００は、固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０、絞り１４０、筐体１５０を備える。固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０及び絞り１４０は、光軸ｘに沿って配置されている。
撮像装置１００は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラである。撮像装置１００は、固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０、絞り１４０、筐体１５０を備える。固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０及び絞り１４０は、光軸ｘに沿って配置されている。
固体撮像素子１１０は、例えば、Charge Coupled Device（ＣＣＤ）イメージセンサやComplementary Metal Oxide Semiconductor（ＣＭＯＳ）イメージセンサである。固体撮像素子１１０は、入力される光を電気信号に変換して、図示しない画像信号処理回路へ出力する。
カバーガラス１２０は、固体撮像素子１１０の撮像面側（レンズ群１３０側）に配置され、外部環境から固体撮像素子１１０を保護する。
レンズ群１３０は、固体撮像素子１１０の撮像面側に配置される。レンズ群１３０は、複数のレンズＬ１〜Ｌ４で構成され、入射する光を固体撮像素子１１０の撮像面へと導光する。
絞り１４０は、レンズ群１３０のレンズＬ３とレンズＬ４との間に配置される。絞り１４０は、通過する光の量を調整可能に構成されている。
筐体１５０は、固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０及び絞り１４０を収容する。
撮像装置１００では、被写体側より入射した光は、レンズＬ１、レンズＬ２、第３のレンズＬ３、絞り１４０、レンズＬ４、及びカバーガラス１２０を通って固体撮像素子１１０に入射する。この入射した光が固体撮像素子１１０にて電気信号に変換され、画像信号として出力される。
ＩＲＣＦ１０は、例えば、カバーガラス１２０、レンズ群１３０、すなわちレンズＬ１、レンズＬ２、レンズＬ３、もしくはレンズＬ４として用いられる。言い換えれば、ＩＲＣＦ１０の光学多層膜１２は、従来の撮像装置のカバーガラスやレンズ群を透明基板１１とし、この透明基板１１の表面に設けられる。また、透明基板１１の表面に光学多層膜１２を設けたＩＲＣＦ１０（図４には図示しない）を前述のカバーガラスやレンズ群とは別部材として設けてもよい。
撮像装置１００のカバーガラス１２０やレンズ群１３０にＩＲＣＦ１０を適用することで、入射角度依存性（リップルの発生）を抑制しつつ、可視域の透過帯ならびに紫外域および近赤外域の阻止帯を拡張でき、その特性を向上することができる。
次に実施例を参照して具体的に説明する。
実施例に係る近赤外線カットフィルタ（ＩＲＣＦ）は、透明基板（白板ガラス、Ｂ２７０、板厚０．３ｍｍ、ショット社製）と、透明基板の一方の面に設けられた光学多層膜とを備える。これらのＩＲＣＦについて、光学多層膜の０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない条件を、光学薄膜シミュレーションソフト（ＴＦＣａｌｃ、Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ社製）を用いて検証した。また、本願では波長５００ｎｍにおける各膜の屈折率を代表値として使用しているが、シミュレーション上は屈折率の波長依存性を考慮してシミュレーションを行った。
実施例に係る近赤外線カットフィルタ（ＩＲＣＦ）は、透明基板（白板ガラス、Ｂ２７０、板厚０．３ｍｍ、ショット社製）と、透明基板の一方の面に設けられた光学多層膜とを備える。これらのＩＲＣＦについて、光学多層膜の０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない条件を、光学薄膜シミュレーションソフト（ＴＦＣａｌｃ、Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ社製）を用いて検証した。また、本願では波長５００ｎｍにおける各膜の屈折率を代表値として使用しているが、シミュレーション上は屈折率の波長依存性を考慮してシミュレーションを行った。
屈折率には、分散などと呼ばれる波長依存性がある。例えば、３００〜１３００ｎｍの波長範囲において、本出願が対象とする膜物質などでは、波長が短いほど屈折率が大きく、波長が長くなると屈折率は小さくなる傾向がある。これら波長−屈折率の関係は線形関係ではなく、一般的にはHartmann、Sellmeierなどの近似式を用いて表されることが多い。また、膜物質の屈折率（分散）は、各種成膜条件によって変わる。そのため、蒸着法、イオンアシスト蒸着法、スパッタ法などで実際に成膜を行い、得られた各膜の屈折率の分散データを以下のシミュレーションにて用いた。
（実施例１）
光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化タンタル（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７８０〜１０００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表１に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６７であり、０％（最小値）は０．８１６であり、７０％は０．８５２であった。
光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化タンタル（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７８０〜１０００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表１に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６７であり、０％（最小値）は０．８１６であり、７０％は０．８５２であった。
図５は、表１に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図６は、表１に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も９．９％と低いことがわかる。また、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２２．２％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例２）
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９２０〜１１７０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表２に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６５あり、０％（最小値）は０．８０７であり、７０％は０．８４７であった。
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９２０〜１１７０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表２に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６５あり、０％（最小値）は０．８０７であり、７０％は０．８４７であった。
図７は、表２に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図７は、表２に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１２．４％と低いことがわかる。また、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２４．６％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例３）
光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７０〜１０２０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表３に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１８であり、０％（最小値）は１．１５３であり、７０％は１．１９７であった。
光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７０〜１０２０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表３に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１８であり、０％（最小値）は１．１５３であり、７０％は１．１９７であった。
図９は、表３に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１０は、表３に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１８．８％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が３８．４％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例４）
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９６０〜１２６０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表４に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、で１．１８７あり、０％（最小値）は１．１２０であり、７０％は１．１６７であった。
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９６０〜１２６０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表４に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、で１．１８７あり、０％（最小値）は１．１２０であり、７０％は１．１６７であった。
図１１は、表４に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１２は、表４に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１３．５％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２９．７％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例５）
光学多層膜は、酸化ニオブ（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７４〜１０１０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨを１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表５に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２３４であり、０％（最小値）は１．１６５であり、７０％は１．２１２であった。
光学多層膜は、酸化ニオブ（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７４〜１０１０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨを１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表５に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２３４であり、０％（最小値）は１．１６５であり、７０％は１．２１２であった。
図１３は、表５に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１４は、表５に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１４．９％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が３１．４％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例６）
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９８３〜１２８４ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。前記（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１６であり、０％（最小値）は１．１３２であり、７０％は１．１９１であった。
光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９８３〜１２８４ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。前記（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１６であり、０％（最小値）は１．１３２であり、７０％は１．１９１であった。
図１５は、表６に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１６は、表６に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１０．７％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２６．２％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（比較例）
次いで、比較例として次に述べる光学多層膜について検証した。光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＨＬ）の１０層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、９００〜１２００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。ＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）は、０．９９７であり、０％（最小値）は０．９６０であり、７０％は０．９８６であった。この光学多層膜の膜構成を以下の表７に示す。
次いで、比較例として次に述べる光学多層膜について検証した。光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＨＬ）の１０層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、９００〜１２００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。ＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）は、０．９９７であり、０％（最小値）は０．９６０であり、７０％は０．９８６であった。この光学多層膜の膜構成を以下の表７に示す。
図１７は、表７に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１８は、表７に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬ／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、ＴＬ／ＴＨが１００％であったとしても４５°入射条件では透過帯の透過率の局所的な低下量が３１．２％となり、リップルを十分に抑制することができない。また、ＴＬ／ＴＨが１００％未満の場合は、ＴＬ／ＴＨが１００％の場合と比較して４５°入射条件では透過帯の透過率の局所的な低下量が大きくなる傾向があるため、当然これら範囲においてもリップルを十分に抑制することができない。
よって、表７に示す光学多層膜の膜構成では、光の入射角度が４５°となった際の透過帯のリップルの抑制は困難であることがわかる。
よって、表７に示す光学多層膜の膜構成では、光の入射角度が４５°となった際の透過帯のリップルの抑制は困難であることがわかる。
（実施例７）
次に、本発明の光学多層膜をガラス基板上に形成し、分光特性をシミュレーションした。なお、ガラス基板には、近赤外線カットガラス（ＮＦ５０Ｔ、旭硝子社製：厚み０．３ｍｍ）を使用した。
次に、本発明の光学多層膜をガラス基板上に形成し、分光特性をシミュレーションした。なお、ガラス基板には、近赤外線カットガラス（ＮＦ５０Ｔ、旭硝子社製：厚み０．３ｍｍ）を使用した。
初めに、ガラス基板上に形成した光学多層膜の膜構成について説明する。この実施例７では、ガラス基板の両面（フロント側及びリア側）に光学多層膜を形成している。
フロント側に形成した光学多層膜の膜構成を以下の表８に示す。フロント側に形成した光学多層膜は、本発明のＩＲＣＦとは異なる、本出願人が出願した国際出願（ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０７４０８７）に記載の発明に包含されるＩＲＣＦを用いた。なお、各層の膜厚は、物理膜厚（ｎｍ）である。
次に、リア側に形成した光学多層膜の膜構成を以下の表９に示す。各層の膜厚は、物理膜厚（ｎｍ）である。なお、リア側に形成した光学多層膜のうち第１層から第１８層は、ＵＶカットフィルタ（ＵＶカット部１２Ａに相当）であり、第１８層から第８６層までは、本発明の光学多層膜（第１，第２のＳＷＰＦ部１２Ｂ，１２Ｃに相当）になる。以下、それぞれの光学多層膜を、ＵＶカット（ＵＶカット部１２Ａに相当）、ＳＷＰＦ１（第１のＳＷＰＦ部１２Ｂに相当）、ＳＷＰＦ２（第２のＳＷＰＦ部１２Ｃに相当）と称する。
なお、第１８層の物理膜厚１４０．２３ｎｍのうち、９０ｎｍがＵＶカット用の膜であり、残りの５０．２３ｎｍがＳＷＰＦ１用の膜である。また、第５４層の物理膜厚１５９．６４ｎｍのうち、７５ｎｍがＳＷＰＦ１用の膜であり、残りの８４．６４ｎｍがＳＷＰＦ２用の膜である。
図１９は、表８、表９に示す光学多層膜を備えたガラス基板（ＮＦ５０Ｔ）の０°（実線）及び４５°（鎖線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。
図１９に示すように、本発明の光学多層膜を実際の製品に適用した場合でも、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７８０〜１０００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することがわかった。また、０°及び４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量が、１２％以下であることがわかった。
次に、表８に示すＩＲＣＦのみを備えた白板ガラス基板（Ｂ２７０、板厚０．３ｍｍ、ショット社製、以下同様）の０°（実線）及び４５°（鎖線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を図２０に示す。このフロント側のＩＲＣＦは、図２０からもわかるように、入射角度依存性が抑制されており、可視域の光の斜入射時のリップルが非常に小さい。しかしながら、近赤外領域をカットする阻止帯の幅が狭い。
次に、リア側に形成したＵＶカットのみを備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果を図２１に示す。図２１に示すように、ＵＶカットだけの光学特性をシミュレーションしたが、０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性において、透過帯（４００〜７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量が、１２％以下であることがわかった。
次に、ＳＷＰＦ１について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）の膜構成をシミュレーションにより調べた。ＳＷＰＦ１の膜構成及びシミュレーションで算出した１００％、０％における膜構成を以下の表１０に示す。
ここで、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．７６１であり、０％（最小値）は０．７０２であった。また、ＳＷＰＦ１の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、０．７５３であった。よって、ＳＷＰＦ１の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、８７．１％であり。１００％〜７０％の範囲内となっている。
図２２は、ＳＷＰＦ１のみを備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２２からは、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。
なお、参考のため、１００％及び０％における膜構成を備えた白板ガラス基板のシミュレーション結果を、それぞれ図２３（１００％）及び図２４（０％）に示す。図２３（１００％）では、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制できているが、図２４（０％）では、４５°入射条件において、４００ｎｍ近辺にリップルが発生しているのがわかる。
次に、ＳＷＰＦ２について、０°入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）の膜構成をシミュレーションにより調べた。ＳＷＰＦ２の膜構成及びシミュレーションで算出した１００％、０％における膜構成を以下の表１１に示す。
ここで、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．７８４であり、０％（最小値）は０．７３２であった。また、ＳＷＰＦ２の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、０．７７８であった。よって、ＳＷＰＦ２の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、８７．９％であり。１００％〜７０％の範囲内となっている。
図２５は、ＳＷＰＦ２のみを備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２５からは、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。
なお、参考のため、１００％及び０％における光学多層膜を備えた白板ガラス基板のシミュレーション結果を、それぞれ図２６（１００％）及び図２７（０％）に示す。図２６（１００％）では、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制できているが、図２７（０％）では、４５°入射条件において、５００ｎｍ近辺にリップルが発生しているのがわかる。
図２８は、リア側に形成した全ての光学多層膜（ＵＶカット、ＳＷＰＦ１、ＳＷＰＦ２）を備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２８からは、４５°入射条件であっても４００〜７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。また、近赤外域の波長範囲において、確実に光をカットできることがわかる。
以上のことから、本発明の近赤外線カットフィルタは、リップルを非常に効率よく抑制できることがわかる。
本発明の近赤外線カットフィルタは、光の入射角度に依存する透過帯のリップルを抑制することができる。このため、デジタルカメラやデジタルビデオ等の固体撮像素子（例えば、ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサ等）の分光補正に好適に使用できる。
１０：近赤外線カットフィルタ、１１：透明基板、１２：光学多層膜、１００：撮像装置、１１０：固体撮像素子、１２０：カバーガラス、１３０：レンズ群、１５０：筐体、Ｌ１〜Ｌ４：レンズ。
Claims (10)
- 透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、
前記光学多層膜は、
波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、
４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０〜１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００〜２８０ｎｍである阻止帯とを有し、
前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴ（Quater-wave Optical Thickness）をＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、
前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、
前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％〜７０％の範囲内であり、
前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、
前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００〜７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％〜７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層したことを特徴とする近赤外線カットフィルタ。 - 前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＴｉＯ２、前記中屈折率膜がＴａ２Ｏ５、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０．８５２〜０．８６７の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＴｉＯ２、前記中屈折率膜がＡｌ２Ｏ３、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１．１６７〜１．２１８の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＮｂ２Ｏ５、前記中屈折率膜がＡｌ２Ｏ３、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１．１９１〜１．２３４の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透過帯は、０°〜４５°入射条件の分光特性において、透過率が局所的に２０％低下する箇所が存在しないことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 少なくとも２種以上の前記光学多層膜から構成されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透明基板は、近赤外波長域に吸収を有する光学特性を備えることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透明基板は、Ｃｕ２＋イオンを着色成分として含有するフツリン酸塩系ガラスもしくはリン酸塩系ガラスであることを特徴とする請求項７に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透明基板は、近赤外線を吸収する色素を含有した樹脂材であることを特徴とする請求項７に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記光学多層膜と同一面もしくは前記透明基板の他方の主面に設けられ、
波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の屈折率が異なる２種以上の膜と波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である膜とからな近赤外線カット膜を備え、
前記近赤外線カット膜は、４００〜７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の紫外側および近赤外側のそれぞれに平均透過率が５％以下となる阻止帯とを有し、
前記透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差が２００ｎｍ以上であり、垂直入射条件と３０°入射条件における前記透過帯の半値波長の差が紫外側の半値波長で１０ｎｍ未満、近赤外側の半値波長で２２ｎｍ未満である請求項１ないし９のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014519965A JP6119747B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-05-31 | 近赤外線カットフィルタ |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012126855 | 2012-06-04 | ||
| JP2012126855 | 2012-06-04 | ||
| JP2014519965A JP6119747B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-05-31 | 近赤外線カットフィルタ |
| PCT/JP2013/065184 WO2013183557A1 (ja) | 2012-06-04 | 2013-05-31 | 近赤外線カットフィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2013183557A1 true JPWO2013183557A1 (ja) | 2016-01-28 |
| JP6119747B2 JP6119747B2 (ja) | 2017-04-26 |
Family
ID=49711949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014519965A Active JP6119747B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-05-31 | 近赤外線カットフィルタ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9726797B2 (ja) |
| JP (1) | JP6119747B2 (ja) |
| CN (1) | CN104204873B (ja) |
| WO (1) | WO2013183557A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013183557A1 (ja) | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| WO2014084167A1 (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| JP5617063B1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-10-29 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| JP5884953B2 (ja) * | 2013-10-17 | 2016-03-15 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール |
| WO2016114362A1 (ja) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
| CN106104319B (zh) * | 2015-02-18 | 2018-12-07 | Ａｇｃ株式会社 | 光学滤波器和摄像装置 |
| CN111665583B (zh) * | 2015-05-12 | 2022-03-15 | Ａｇｃ株式会社 | 近红外线吸收色素和吸收层 |
| CN109477921B (zh) * | 2016-07-28 | 2021-06-18 | 京瓷株式会社 | 光学滤波器及光学元件用封装件 |
| WO2018123705A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過フィルタ |
| KR101931731B1 (ko) | 2017-09-28 | 2018-12-24 | 주식회사 엘엠에스 | 광학 물품 및 이를 포함하는 광학 필터 |
| CN107592445A (zh) * | 2017-11-13 | 2018-01-16 | 戴承萍 | 光学滤波器模块及光学滤波器系统 |
| CN111954833B (zh) * | 2018-03-30 | 2022-07-12 | Ａｇｃ株式会社 | 光学滤波器 |
| TWI705269B (zh) * | 2019-03-27 | 2020-09-21 | 群光電子股份有限公司 | 影像擷取裝置、濾光膜及濾光膜的製作方法 |
| CN110221373B (zh) * | 2019-05-17 | 2024-07-09 | 杭州科汀光学技术有限公司 | 一种消偏振的立方棱镜截止滤光片 |
| JP7305439B2 (ja) * | 2019-06-07 | 2023-07-10 | キヤノン株式会社 | 光学素子、およびそれを有する光学系、撮像装置 |
| JP7353099B2 (ja) * | 2019-08-19 | 2023-09-29 | キヤノン電子株式会社 | 光源角度測定装置及び人工衛星 |
| JP7350301B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-09-26 | 東海光学株式会社 | フィルタ並びに眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板及びサンバイザ |
| WO2023282184A1 (ja) * | 2021-07-07 | 2023-01-12 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタ |
| WO2023248040A1 (en) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical films for lidar systems |
| TWI800421B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-04-21 | 吳鳳學校財團法人吳鳳科技大學 | 可擴充帶寬的組合式帶通濾光片組 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH085833A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 光干渉体、管球およびハロゲン電球ならびに照明装置 |
| JPH11202127A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-30 | Canon Inc | ダイクロイックミラー |
| JP2000100391A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Stanley Electric Co Ltd | 赤外線反射被膜付き光学物品及び電球 |
| JP2000147248A (ja) * | 1998-11-16 | 2000-05-26 | Canon Inc | 多層膜ローパスフィルタおよびこれを用いた光学部品 |
| JP2006511838A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-04-06 | テールズ ユーケー ピーエルシー | 光学フィルタ |
| JP2008139693A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Pentax Corp | 赤外カットフィルタ |
| WO2013042738A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルター |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3423147A (en) * | 1963-10-14 | 1969-01-21 | Optical Coating Laboratory Inc | Multilayer filter with wide transmittance band |
| JP4672101B2 (ja) | 2000-02-14 | 2011-04-20 | 株式会社トプコン | 赤外フィルター |
| WO2013015303A1 (ja) | 2011-07-28 | 2013-01-31 | 旭硝子株式会社 | 光学部材 |
| WO2013183557A1 (ja) | 2012-06-04 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
-
2013
- 2013-05-31 WO PCT/JP2013/065184 patent/WO2013183557A1/ja active Application Filing
- 2013-05-31 JP JP2014519965A patent/JP6119747B2/ja active Active
- 2013-05-31 CN CN201380018137.3A patent/CN104204873B/zh active Active
-
2014
- 2014-12-01 US US14/556,338 patent/US9726797B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH085833A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 光干渉体、管球およびハロゲン電球ならびに照明装置 |
| JPH11202127A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-30 | Canon Inc | ダイクロイックミラー |
| JP2000100391A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Stanley Electric Co Ltd | 赤外線反射被膜付き光学物品及び電球 |
| JP2000147248A (ja) * | 1998-11-16 | 2000-05-26 | Canon Inc | 多層膜ローパスフィルタおよびこれを用いた光学部品 |
| JP2006511838A (ja) * | 2002-12-19 | 2006-04-06 | テールズ ユーケー ピーエルシー | 光学フィルタ |
| JP2008139693A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Pentax Corp | 赤外カットフィルタ |
| WO2013042738A1 (ja) * | 2011-09-21 | 2013-03-28 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9726797B2 (en) | 2017-08-08 |
| CN104204873A (zh) | 2014-12-10 |
| US20150085354A1 (en) | 2015-03-26 |
| CN104204873B (zh) | 2016-08-24 |
| JP6119747B2 (ja) | 2017-04-26 |
| WO2013183557A1 (ja) | 2013-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6119747B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP6206410B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP6241419B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| KR102061477B1 (ko) | 근적외선 커트 필터 | |
| JP6003895B2 (ja) | 近赤外線カットフィルター | |
| KR101815823B1 (ko) | 광학 필터 및 촬상 장치 | |
| US20140139912A1 (en) | Optical member | |
| JP5973747B2 (ja) | 近赤外線カットフィルター | |
| US20150116832A1 (en) | Optical component | |
| CN109975905B (zh) | 近红外线截止滤波器 | |
| JP6136661B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP2015227963A (ja) | 光学フィルタ及びその製造方法 | |
| JP7326738B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP6467895B2 (ja) | 光学フィルタ | |
| CN112051633B (zh) | 光学元件、光学系统和图像拾取装置 | |
| JP2013200519A (ja) | 光学フィルタおよび撮像デバイス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160217 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170228 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170313 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6119747 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |