WO2013183557A1 - 近赤外線カットフィルタ - Google Patents

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WO2013183557A1
WO2013183557A1 PCT/JP2013/065184 JP2013065184W WO2013183557A1 WO 2013183557 A1 WO2013183557 A1 WO 2013183557A1 JP 2013065184 W JP2013065184 W JP 2013065184W WO 2013183557 A1 WO2013183557 A1 WO 2013183557A1
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refractive index
film
optical multilayer
wavelength
index film
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満幸 舘村
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旭硝子株式会社
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters

Definitions

  • the present invention relates to a near-infrared cut filter, and particularly to a near-infrared cut filter having an optical multilayer film formed on a transparent substrate.
  • CCD Charged Coupled Device
  • CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • solid-state imaging devices are used for digital cameras and digital video.
  • the spectral characteristics of these solid-state imaging devices are more sensitive to infrared light than human visual sensitivity characteristics. Therefore, in digital cameras, digital videos, and the like, spectral correction is performed using a near-infrared cut filter.
  • the near-infrared cut filter for example, a near-infrared absorption type color glass filter such as fluorophosphate glass containing Cu 2+ ions as a coloring component has been used.
  • a color glass filter alone cannot sufficiently cut light in the near infrared region and ultraviolet region, at present, an optical multilayer film having a characteristic capable of cutting near infrared light is used in combination.
  • the optical multilayer film is required not to cause a phenomenon (ripple) in which the transmittance falls in the transmission band at 400 to 700 nm required for the solid-state imaging device.
  • Techniques for suppressing ripples in optical multilayer films have been conventionally proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
  • the ripple described above increases the drop in transmittance as the incident angle of light is inclined.
  • Patent Documents 1 and 2 since the suppression of the ripple accompanying the change in the incident angle is not taken into consideration, if the incident angle of light to the solid-state imaging device is 30 ° or less, the ripple is extremely large. Although it does not increase, there is a possibility that ripples that cannot be ignored are generated when the incident angle exceeds 30 °.
  • This invention is made
  • the near-infrared cut filter according to the present invention is a near-infrared cut filter comprising a transparent substrate and an optical multilayer film provided on at least one main surface of the transparent substrate, and the optical multilayer film has a wavelength of 500 nm.
  • L L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-L-
  • the optical multilayer film has a maximum value of 2T L / (T H + 2T M ) of 100% where there is no portion where the transmittance is locally reduced by 5% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm in the spectral characteristics under normal incidence conditions.
  • a near-infrared cut filter comprising an optical multilayer film provided on at least one main surface of a transparent substrate, wherein the optical multilayer film has a refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 500 nm.
  • the high refractive index film is H
  • the medium refractive index film is M
  • the low refractive index film is L
  • a transmission band having an average transmittance of 85% or more in a wavelength range of 400 to 700 nm, and a width of a region having an average transmittance of 10% or less in a wavelength range of 750 to 1100 nm is 100 to 280 nm.
  • a stopband Has the optical multilayer film wherein the high refractive index QWOT the T H of the membrane, QWOT the T M of the medium refractive index layer, and the case where the QWOT of low refractive index film was T L, the middle refractive index film
  • the refractive index of the optical multilayer film is equal to or greater than the intermediate value of the refractive index of the high refractive index film and the refractive index of the low refractive index film
  • the optical multilayer film has a spectral characteristic within a wavelength range of 400 to 700 nm under normal incidence conditions.
  • the transmittance was set to 0% to 100%, the minimum value the maximum value of the 2T L / no place to drop locally or 5% (T H + 2T M ) to, 2T L / (T H + 2T M ) Is in the range of 100% to 70%, and the refractive index of the medium refractive index film is less than the intermediate value of the refractive index of the high refractive index film and the refractive index of the low refractive index film, the optical multilayer The film has a spectral transmission characteristic within the wavelength range of 400 to 700 nm with spectral characteristics under normal incidence conditions.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical multilayer film according to a first embodiment. It is sectional drawing of the 1st SWPF part of the optical multilayer film concerning 1st Embodiment. It is a partial block diagram of an imaging device.
  • 3 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 1 under 0 ° incidence conditions. 3 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 1 under a 45 ° incidence condition. 3 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 2 under a 0 ° incidence condition.
  • 3 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 2 under a 45 ° incidence condition.
  • 4 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 3 under a 0 ° incidence condition.
  • 4 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 3 under a 45 ° incidence condition.
  • 6 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 4 under a 0 ° incidence condition.
  • 6 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 4 under 45 ° incidence conditions.
  • 7 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 5 under 0 ° incidence conditions.
  • FIG. 6 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 5 under a 45 ° incident condition.
  • 7 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 6 under a 0 ° incidence condition.
  • 7 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 6 under a 45 ° incidence condition.
  • 8 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 7 under 0 ° incidence conditions.
  • 8 is a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 7 under a 45 ° incidence condition.
  • FIG. 1 is a sectional view of a near-infrared cut filter 10 (hereinafter referred to as IRCF 10) according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical multilayer film 12 included in the IRCF 10.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the first SWPF portion 12B of the optical multilayer film 12. The configuration of the IRCF 10 will be described below with reference to FIGS.
  • the IRCF 10 includes a transparent substrate 11 and an optical multilayer film 12 provided on at least one main surface of the transparent substrate 11.
  • the optical multilayer film 12 may be provided on one main surface of the transparent substrate 11 or may be provided separately on each main surface of the transparent substrate 11.
  • the material of the transparent substrate 11 is not particularly limited as long as it can transmit at least light in the visible wavelength region.
  • Examples of the material of the transparent substrate 11 include crystals such as glass, crystal, lithium niobate, and sapphire, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymer.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PBT polybutylene terephthalate
  • Polyethylene polypropylene
  • a substrate that absorbs light in the near-infrared wavelength region is particularly preferable. This is because by using the transparent substrate 11 that absorbs light in the near-infrared wavelength region, an image quality close to human visibility characteristics can be obtained.
  • the transparent substrate 11 that absorbs light in the near-infrared wavelength region include absorption glass in which Cu 2+ (ion) is added to fluorophosphate glass or phosphate glass. Moreover, you may use what added the absorber which absorbs near-infrared rays in the resin material.
  • the absorbent include dyes, pigments, and metal complex compounds, and specifically include phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, and dithiol metal complex compounds.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical multilayer film 12.
  • the optical multilayer film 12 includes a UV cut unit 12A that cuts ultraviolet light (UV), a first SWPF unit 12B, and a second SWPF unit 12C.
  • the first SWPF part 12B and the second SWPF part 12C are composed of a transmission band having an average transmittance of 85% or more in a wavelength range of 400 to 700 nm, and a wavelength range of 750 to 1100 nm on the near infrared side of the transmission band.
  • a stop band having a width of 100 to 280 nm in a region having an average transmittance of 10% or less.
  • a layer for adjusting spectral characteristics may be added to the structure of the optical multilayer film 12.
  • the UV cut portion 12A may have any film configuration as long as it cuts ultraviolet rays in a wavelength range of less than 400 nm with a predetermined wavelength width and transmittance.
  • it has a structure in which a high refractive index film H having a refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 500 nm and a low refractive index film L having a refractive index of less than 1.6 at a wavelength of 500 nm are laminated.
  • FIG. 3 is a sectional view of a first SWPF (Short Wide Pass Filter) 12B.
  • the SWPF portion 12B includes a high refractive index film having a refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 500 nm, H, and a medium refractive index film having a refractive index of 1.6 or more at a wavelength of 500 nm and less than the refractive index of the high refractive index film H.
  • M, and a low refractive index film having a refractive index of less than 1.6 at a wavelength of 500 nm is L, it has a structure represented by the following formula (1).
  • the transmittance is locally 5 in the wavelength range of 400 to 700 nm in terms of spectral characteristics under 0 ° incidence (normal incidence) conditions.
  • the transmittance is locally 5 in the wavelength range of 400 to 700 nm in terms of spectral characteristics at 0 ° incidence condition.
  • the refractive index of the medium refractive index film was defined as an intermediate value between the refractive index of the high refractive index film and the refractive index of the low refractive index film. This is because when the refractive index of the medium refractive index film is not less than the intermediate value between the refractive index of the high refractive index film and the refractive index of the low refractive index film, the increase / decrease in QWOT of the medium refractive index film gives the above ratio. This is because the influence is the same as the tendency of the high refractive index film.
  • the refractive index of the medium refractive index film is less than the intermediate value between the refractive index of the high refractive index film and the refractive index of the low refractive index film, the influence of the increase / decrease in QWOT of the medium refractive index film on the above ratio This is because the same as the tendency of the low refractive index film.
  • the balance between the optical film thicknesses of the two is that the optical film thickness of the high refractive index film is excessive and the low refractive index is low.
  • the optical film thickness of the film is too small.
  • SWPF tends to generate a ripple with respect to the film thickness change of each refractive index.
  • the ratio of the optical film thickness of each refractive index changes, there is always a ratio range in which ripple does not occur, and this can be used to suppress ripple.
  • the QWOT of each refractive index film is increased or decreased, and the occurrence of ripples in the wavelength range of 400 to 700 nm is examined by the spectral characteristics of the SWPF at 0 ° incidence condition.
  • the QWOT of each refractive index film is increased or decreased, the range in which ripple starts to be generated can be grasped.
  • each refractive index is set so that 2T L / (T H + 2T M ) is in the range of 100% to 70%. Determine the QWOT of the membrane.
  • the transmittance is locally reduced by 5% or more, which defines the amount of change in transmittance when the QWOT of each refractive index film is increased or decreased in the wavelength range of 400 to 700 nm.
  • the transmittance fluctuates by adjusting the QWOT of each refractive index film, the ratio of the QWOT is confirmed within a range where the fluctuation amount does not locally decrease by 5% or more, The maximum and minimum values are set.
  • each refractive index film has a range of 100% to 70%.
  • Determine QWOT The process for determining the QWOT of each refractive index film described above may actually produce an optical multilayer film having a plurality of film configurations, or use software capable of simulating the spectral characteristics of the optical multilayer film from the film structure. May be.
  • SWPF part 12C Since the SWPF unit 12C has the same structure as the SWPF unit 12B, a duplicate description is omitted.
  • the high refractive index film H is not particularly limited as long as it is made of a material having a refractive index of 2.0 or more at a wavelength of 500 nm. Suitable examples of such a high refractive index material include titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), or a composite oxide thereof. Moreover, if a refractive index is 2.0 or more, you may contain the additive. A higher refractive index is advantageous for suppressing the wavelength shift at the time of oblique incidence, extending the stop band, and the like.
  • the medium refractive index film M is not particularly limited as long as it is made of a material having a refractive index of 1.6 or more and less than the refractive index of the high refractive index film H at a wavelength of 500 nm.
  • a medium refractive index material include tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), and aluminum oxide ( A mixture with Al 2 O 3 ) is preferred.
  • the said material may contain the additive.
  • the low refractive index film L is not particularly limited as long as it is made of a material having a low refractive index of less than 1.6 at a wavelength of 500 nm. Suitable examples of such a low refractive index material include silicon oxide (SiO 2 ). Moreover, if a refractive index is less than 1.6, you may contain the additive.
  • Combination 1 High refractive index film: titanium oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 2.47), middle refractive index film: tantalum oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 2.19), low refractive index film: silicon oxide (Refractive index at a wavelength of 500 nm: 1.48)
  • 2T L / (T H + 2T M ) is preferably in a range of 0.870 to 0.845.
  • High refractive index film titanium oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 2.47), middle refractive index film: aluminum oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 1.64), low refractive index film: silicon oxide (Refractive index at a wavelength of 500 nm: 1.48)
  • (2T L + 2T M) / T H in the combination the preferred range is from 1.215 to 1.186.
  • High refractive index film niobium oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 2.38), middle refractive index film: aluminum oxide (refractive index at a wavelength of 500 nm: 1.64), low refractive index film: silicon oxide (Refractive index at a wavelength of 500 nm: 1.48)
  • (2T L + 2T M) / T H in the combination the preferred range is from 1.229 to 1.186.
  • the high refractive index film H, medium refractive index film M, and low refractive index film L constituting the optical multilayer film 12 can be formed by sputtering, vacuum evaporation, ion beam, ion plating, or CVD. However, it is particularly preferable to form by sputtering or vacuum evaporation.
  • the transmission band is a wavelength band used for light reception by a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS, and its film thickness accuracy is important.
  • the sputtering method and the vacuum deposition method are excellent in controlling the film thickness when forming a thin film.
  • films other than those constituting the optical multilayer film 12 such as an adhesion enhancement layer and an antistatic layer on the outermost surface layer (air side), may be included in the optical multilayer film 12.
  • the optical multilayer film 12 has a transmission band having an average transmittance of 85% or more in a wavelength range of 400 to 700 nm under a 0 ° incidence condition, and a stop band on the near infrared side of the transmission band.
  • the stop band has a width of 100 to 280 nm in the region where the average transmittance is 10% or less in the wavelength range of 750 to 1100 nm.
  • the difference between the half-value wavelength on the ultraviolet side and the half-value wavelength on the near infrared side of the transmission band of the optical multilayer film 12 is 200 nm or more. Further, the difference in half-value wavelength of the transmission band of the optical multilayer film 12 between the 0 ° incidence condition and the 30 ° incidence condition is less than 10 nm on the ultraviolet side and less than 22 nm on the near infrared side.
  • the optical multilayer film 12 further satisfies the following requirements in the spectral characteristics under the 0 ° incidence condition.
  • the difference between the ultraviolet half-value wavelength and the near-infrared half-value wavelength of the transmission band of the optical multilayer film 12 is preferably 350 nm or less, and more preferably 300 nm or less.
  • the half-value wavelength on the ultraviolet side is preferably in the range of 390 to 430 nm, and the half-value wavelength on the near infrared side is preferably in the range of 640 to 720 nm.
  • the width of the stop band on the ultraviolet side is preferably 30 nm or more, and the width of the stop band on the near infrared side is preferably 200 nm or more.
  • the range of the transmission band of the optical multilayer film 12 (the range for obtaining the average transmittance) is the wavelength at which the transmittance starts to decrease from the transmission band toward the ultraviolet-side stop band (the base point on the ultraviolet side). ) To the wavelength (base point on the near infrared side) when the transmittance starts to decrease from the transmission band toward the stop band on the near infrared side.
  • the range of the stop band of the optical multilayer film 12 (the range for obtaining the average transmittance and width) is that the stop band on the ultraviolet side of the optical multilayer film 12 is transmitted from the stop band on the ultraviolet side toward the transmission band. From the wavelength when the rate starts to rise (base point on the transmission band side) to the wavelength when the rate when the transmittance first reaches 40% toward the ultraviolet side (base point on the ultraviolet side) To do.
  • the near-infrared side stop band of the optical multilayer film 12 has its near red color from the wavelength (base point on the transmission band side) when the transmittance starts to increase from the near-infrared side stop band toward the transmission band. Up to the wavelength (base point on the near infrared side) at which the rise starts when the transmittance first reaches 40% toward the outside.
  • IRCF 10 preferably has no part where the transmittance in the transmission band (within a wavelength range of 400 to 700 nm) is locally reduced by 20% or more in the spectral characteristics under an incident condition of 0 ° to 45 °. Since the spectral characteristics of the IRCF 10 mainly depend on the spectral characteristics of the optical multilayer film 12, it is preferable that the optical multilayer film 12 alone has the above-mentioned characteristics. You may make it provide the said characteristic by providing in the other surface.
  • the amount of local decrease in the transmittance in the transmission band (within the wavelength range of 400 to 700 nm) is more preferably 15% or less, more preferably 12% or less, in the spectral characteristics at 0 ° to 45 ° incidence conditions. preferable.
  • the amount of local decrease in transmittance means a local transmittance loss amount due to ripple.
  • the flat portion of the transmission band or a continuous transmittance variation portion similar thereto for example, in the absorption glass, the transmission band has a gentle mountain shape.
  • the optical multilayer film may include two SWPFs having the same film configuration, or may be configured by one SWPF and a SWPF having another film configuration (other than the above-described repeated laminated structure).
  • it may be an optical multilayer film composed of SWPF having a (LMMHML) repeated layered structure and SWPF having a (HL) repeated layered structure.
  • the number of repetitions of (LMMHML) is arbitrarily set according to desired spectral characteristics.
  • the (LMMHML) medium refractive index film may be divided into a high refractive index film and a low refractive index film (equivalent film configuration) so as to have substantially the same film configuration.
  • the IRCF 10 described with reference to FIGS. 1 to 3 is used as, for example, a visibility correction filter in an imaging device such as a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, an in-vehicle camera, a web camera, or an automatic exposure meter.
  • an imaging apparatus such as a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, an in-vehicle camera, or a web camera, for example, it is disposed between an imaging lens and a solid-state imaging device.
  • the automatic exposure meter for example, it is arranged in front of the light receiving element.
  • the IRCF 10 may be disposed at a position away from the front surface of the solid-state imaging device, or may be directly attached to the solid-state imaging device or the package of the solid-state imaging device, or a cover that protects the solid-state imaging device. May be IRCF10. Alternatively, it may be directly attached to a low-pass filter using a crystal such as quartz or lithium niobate for suppressing moire or false color.
  • FIG. 4 is a partial configuration diagram of the imaging apparatus 100.
  • the imaging device 100 is, for example, a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, an in-vehicle camera, or a web camera.
  • the imaging apparatus 100 includes a solid-state imaging device 110, a cover glass 120, a lens group 130, a diaphragm 140, and a housing 150.
  • the solid-state imaging device 110, the cover glass 120, the lens group 130, and the diaphragm 140 are disposed along the optical axis x.
  • the solid-state imaging device 110 is, for example, a Charge-Coupled Device (CCD) image sensor or a Complementary Metal-Oxide Semiconductor (CMOS) image sensor.
  • CCD Charge-Coupled Device
  • CMOS Complementary Metal-Oxide Semiconductor
  • the cover glass 120 is disposed on the imaging surface side (the lens group 130 side) of the solid-state imaging device 110, and protects the solid-state imaging device 110 from the external environment.
  • the lens group 130 is disposed on the imaging surface side of the solid-state imaging device 110.
  • the lens group 130 includes a plurality of lenses L1 to L4, and guides incident light to the imaging surface of the solid-state imaging device 110.
  • the diaphragm 140 is disposed between the lens L3 and the lens L4 of the lens group 130.
  • the diaphragm 140 is configured to be able to adjust the amount of light passing therethrough.
  • the housing 150 accommodates the solid-state image sensor 110, the cover glass 120, the lens group 130, and the diaphragm 140.
  • the imaging apparatus 100 light incident from the subject side enters the solid-state imaging device 110 through the lens L1, the lens L2, the third lens L3, the diaphragm 140, the lens L4, and the cover glass 120.
  • the incident light is converted into an electrical signal by the solid-state imaging device 110 and output as an image signal.
  • the IRCF 10 is used as, for example, the cover glass 120 and the lens group 130, that is, the lens L1, the lens L2, the lens L3, or the lens L4.
  • the optical multilayer film 12 of the IRCF 10 is provided on the surface of the transparent substrate 11 using the cover glass or lens group of the conventional imaging device as the transparent substrate 11.
  • the IRCF 10 (not shown in FIG. 4) provided with the optical multilayer film 12 on the surface of the transparent substrate 11 may be provided as a separate member from the above-described cover glass and lens group.
  • the transmission band in the visible region and the stopband in the ultraviolet region and the near infrared region are expanded while suppressing the incident angle dependency (ripple generation). And its characteristics can be improved.
  • the near-infrared cut filter (IRCF) includes a transparent substrate (white plate glass, B270, plate thickness 0.3 mm, manufactured by Schott) and an optical multilayer film provided on one surface of the transparent substrate.
  • TFCalc optical thin film simulation software
  • TFCalc optical thin film simulation software
  • membrane in wavelength 500nm is used as a representative value in this application, it simulated in consideration of the wavelength dependence of a refractive index on simulation.
  • the refractive index has a wavelength dependency called dispersion.
  • dispersion For example, in the wavelength range of 300 to 1300 nm, in the film substance or the like targeted by the present application, the refractive index tends to increase as the wavelength decreases, and the refractive index tends to decrease as the wavelength increases.
  • These wavelength-refractive index relationships are not linear, and are generally expressed using approximate equations such as Hartmann and Sellmeier. Further, the refractive index (dispersion) of the film substance varies depending on various film forming conditions.
  • a film was actually formed by a vapor deposition method, an ion-assisted vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and the obtained dispersion data of the refractive index of each film was used in the following simulation.
  • the optical multilayer film is a repeating laminate of 9 layers of (LMMHML) made of titanium oxide (high refractive index film), tantalum oxide (medium refractive index film), and silicon oxide (low refractive index film).
  • the optical multilayer film has a transmission band having an average transmittance of 85% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm, and an average transmittance of 10% in the wavelength range of 780 to 1000 nm on the near infrared side of the transmission band. It has the following zone stopbands.
  • FIG. 5 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 1 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 6 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 1 under a 45 ° incidence condition. From the above, the optical multilayer film has 2T L / (T H + 2T M ) where there is no portion where the transmittance is locally reduced by 5% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm in the spectral characteristics at 0 ° incidence condition.
  • Example 2 The optical multilayer film has the same repetitive laminated structure as in Example 1, and has only a stop band having a mean transmittance of 10% or less in the wavelength range of 920 to 1170 nm on the near infrared side of the transmission band. Is different. With respect to this optical multilayer film, 100% of 2T L / (T H + 2T M ) where there is no portion where the transmittance is locally reduced by 5% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm in terms of spectral characteristics at 0 ° incidence condition. The film configurations of (maximum value), 0% (minimum value), and 70% were examined by simulation.
  • FIG. 7 is a diagram showing simulation results of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 2 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 7 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 2 under a 45 ° incidence condition. From the above, the optical multilayer film has 2T L / (T H + 2T M ) where there is no portion where the transmittance is locally reduced by 5% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm in the spectral characteristics at 0 ° incidence condition.
  • the optical multilayer film is a repeating laminate of 9 layers of (LMMHML) made of titanium oxide (high refractive index film), aluminum oxide (medium refractive index film), and silicon oxide (low refractive index film).
  • the optical multilayer film has a transmission band having an average transmittance of 85% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm, and an average transmittance of 10% in the wavelength range of 770 to 1020 nm on the near infrared side of the transmission band. It has the following zone stopbands.
  • This optical multilayer film 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally above 5% (2T L + 2T M ) / T 100% of H
  • the film configurations of (maximum value), 0% (minimum value), and 70% were examined by simulation. Transmittance of the optical multilayer film no place to drop locally more than 5% 100% of the (2T L + 2T M) / T H ( maximum value), 0% (minimum), the following film structure in 70% Table 3 shows. 100% (2T L + 2T M) / T H ( maximum value) is 1.218, 0% (minimum value) is 1.153, 70% was 1.197.
  • FIG. 9 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 3 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 10 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 3 under a 45 ° incidence condition.
  • the optical multilayer film, 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally more than 5% of the (2T L + 2T M) / T H the maximum value of 100%, if the minimum value was set to 0%, (2T L + 2T M) / T when H is within the range of 100% ⁇ 70% 45 ° wavelength of a be 400 ⁇ 700 nm incident condition It can be seen that ripple in the transmission band in the range can be suppressed, and the local decrease in transmittance is as low as 18.8%. Also, if (2T L + 2T M) / T H is 0% in the spectral characteristics in the 45 ° incidence condition becomes localized reduction in transmission band 38.4% seen may not be sufficiently suppressed ripples.
  • the optical multilayer film has the same repetitive laminated structure as in Example 1, and only has a stop band in the near infrared side of the transmission band in the wavelength range of 960 to 1260 nm with an average transmittance of 10% or less. Is different.
  • This optical multilayer film 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally above 5% (2T L + 2T M ) / T 100% of H
  • the film configurations of (maximum value), 0% (minimum value), and 70% were examined by simulation.
  • FIG. 11 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 4 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 12 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 4 under a 45 ° incidence condition.
  • the optical multilayer film, 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally more than 5% of the (2T L + 2T M) / T H the maximum value of 100%, if the minimum value was set to 0%, (2T L + 2T M) / T when H is within the range of 100% ⁇ 70% 45 ° wavelength of a be 400 ⁇ 700 nm incident condition It can be seen that ripple in the transmission band in the range can be suppressed, and the local decrease in transmittance is as low as 13.5%. Further, (2T L + 2T M) / T if H is 0% becomes 29.7 percent localized reduction in transmission band in the spectral characteristics in the 45 ° incidence condition, it can be seen that not be sufficiently suppressed ripples.
  • the optical multilayer film is a repetitive laminate of nine layers (LMMHML) made of niobium oxide (high refractive index film), aluminum oxide (medium refractive index film), and silicon oxide (low refractive index film).
  • the optical multilayer film has a transmission band having an average transmittance of 85% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm, and an average transmittance of 10% in the wavelength range of 774 to 1010 nm on the near infrared side of the transmission band. It has the following zone stopbands.
  • This optical multilayer film the transmittance is no point to be lowered locally 5% or more within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral characteristics of at 0 ° incidence condition (2T L + 2T M) / T H 100%
  • the film configurations of (maximum value), 0% (minimum value), and 70% were examined by simulation. Transmittance of the optical multilayer film no place to drop locally more than 5% 100% of the (2T L + 2T M) / T H ( maximum value), 0% (minimum), the following film structure in 70% It shows in Table 5.
  • 100% (2T L + 2T M) / T H ( maximum value) is 1.234
  • 0% (minimum value) is 1.165
  • FIG. 13 is a diagram showing simulation results of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 5 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 14 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 5 under a 45 ° incidence condition.
  • the optical multilayer film, 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally more than 5% of the (2T L + 2T M) / T H the maximum value of 100%, if the minimum value was set to 0%, (2T L + 2T M) / T when H is within the range of 100% ⁇ 70% 45 ° wavelength of a be 400 ⁇ 700 nm incident condition It can be seen that ripple in the transmission band in the range can be suppressed, and the local decrease in transmittance is as low as 14.9%. Further, (2T L + 2T M) / T if H is 0% becomes 31.4 percent localized reduction in transmission band in the spectral characteristics in the 45 ° incidence condition, it can be seen that not be sufficiently suppressed ripples.
  • the optical multilayer film has the same repetitive laminated structure as in Example 1, and has only a stop band in the region where the average transmittance is 10% or less in the wavelength range of 983-1284 nm on the near infrared side of the transmission band. Is different.
  • This optical multilayer film 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally above 5% (2T L + 2T M ) / T 100% of H
  • the film configurations of (maximum value), 0% (minimum value), and 70% were examined by simulation.
  • FIG. 15 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 6 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 16 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 6 under a 45 ° incidence condition.
  • the optical multilayer film, 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions no portion to decrease locally more than 5% of the (2T L + 2T M) / T H the maximum value of 100%, if the minimum value was set to 0%, (2T L + 2T M) / T when H is within the range of 100% ⁇ 70% 45 ° wavelength of a be 400 ⁇ 700 nm incident condition It can be seen that ripple in the transmission band in the range can be suppressed, and the local decrease in transmittance is as low as 10.7%. Further, (2T L + 2T M) / T if H is 0% becomes 26.2% local reduction in transmission band in the spectral characteristics in the 45 ° incidence condition, it can be seen that not be sufficiently suppressed ripples.
  • the optical multilayer film is a repeating stack of 10 layers of (HL) made of titanium oxide (high refractive index film) and silicon oxide (low refractive index film).
  • the optical multilayer film has a transmission band in which the average transmittance is 85% or more in the wavelength range of 400 to 700 nm and a stop band in a region in which the average transmittance is 10% or less in the wavelength range of 900 to 1200 nm. .
  • This optical multilayer film 0 ° transmittance within a wavelength range of 400 ⁇ 700 nm in the spectral properties of the incident conditions 100% T L / T H there is no point to be lowered locally more than 5% (maximum) 0% (minimum value) and 70% film structure were examined by simulation.
  • 100% T L T H the transmittance of the optical multilayer film is no point to be lowered locally more than 5% (maximum value), 0% (minimum), shown in Table 6 below the membrane structure of 70% .
  • 100% T L / T H (maximum value) is 0.997
  • 0% (minimum value) is 0.960
  • 70% was 0.986.
  • Table 7 The film configuration of this optical multilayer film is shown in Table 7 below.
  • FIG. 17 is a diagram showing a simulation result of the spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 7 under the 0 ° incidence condition.
  • FIG. 18 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of the optical multilayer film shown in Table 7 under a 45 ° incidence condition.
  • Example 7 the optical multilayer film of the present invention was formed on a glass substrate, and the spectral characteristics were simulated.
  • the near-infrared cut glass NF50T, Asahi Glass Co., Ltd. product: thickness 0.3mm
  • optical multilayer films are formed on both surfaces (front side and rear side) of the glass substrate.
  • Table 8 below shows the film configuration of the optical multilayer film formed on the front side.
  • the film thickness of each layer is a physical film thickness (nm).
  • the film configuration of the optical multilayer film formed on the rear side is shown in Table 9 below.
  • the film thickness of each layer is a physical film thickness (nm).
  • the first layer to the 18th layer are UV cut filters (corresponding to the UV cut portion 12A), and the 18th layer to the 86th layer are the optical multilayer films of the present invention. It becomes a film (corresponding to the first and second SWPF parts 12B and 12C).
  • the respective optical multilayer films are referred to as UV cut (corresponding to the UV cut part 12A), SWPF1 (corresponding to the first SWPF part 12B), and SWPF2 (corresponding to the second SWPF part 12C).
  • the 18th layer physical thickness of 140.23 nm 90 nm is a UV-cutting film, and the remaining 50.23 nm is a SWPF1 film.
  • the physical thickness of 159.64 nm of the 54th layer 75 nm is a film for SWPF1, and the remaining 84.64 nm is a film for SWPF2.
  • FIG. 19 is a diagram showing simulation results of spectral characteristics of glass substrates (NF50T) provided with the optical multilayer films shown in Tables 8 and 9 under 0 ° (solid line) and 45 ° (chain line) incidence conditions.
  • a transmission band having an average transmittance of 85% or more in a wavelength range of 400 to 700 nm, and a near infrared side of the transmission band has a stop band in the region where the average transmittance is 10% or less in the wavelength range of 780 to 1000 nm. It was also found that the amount of local decrease in the transmittance in the transmission band (within the wavelength range of 400 to 700 nm) was 12% or less in the spectral characteristics at 0 ° and 45 ° incidence conditions.
  • FIG. 21 shows a simulation result of spectral characteristics of the white glass substrate provided with only the UV cut formed on the rear side.
  • the optical characteristics of only the UV cut were simulated, but the transmittance in the transmission band (within the wavelength range of 400 to 700 nm) was observed in the spectral characteristics at 0 ° (solid line) and 45 ° (dashed line) incidence conditions. It has been found that the amount of locally reduced is 12% or less.
  • FIG. 22 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of a white glass substrate provided with only SWPF 1 under incident conditions of 0 ° (solid line) and 45 ° (broken line).
  • FIG. 22 shows that ripples in the transmission band in the wavelength range of 400 to 700 nm can be suppressed even under 45 ° incidence conditions, and the local decrease in transmittance is low.
  • FIGS. 23 (100%) and 24 (0%) simulation results of a white glass substrate having a film configuration at 100% and 0% are shown in FIGS. 23 (100%) and 24 (0%), respectively.
  • FIG. 23 (100%) the ripple in the transmission band in the wavelength range of 400 to 700 nm can be suppressed even under 45 ° incidence conditions, but in FIG. 24 (0%), around 400 nm under 45 ° incidence conditions. It can be seen that there is a ripple in.
  • FIG. 25 is a diagram showing a simulation result of spectral characteristics of a white glass substrate provided with only SWPF2 under incident conditions of 0 ° (solid line) and 45 ° (broken line). From FIG. 25, it can be seen that the ripple in the transmission band in the wavelength range of 400 to 700 nm can be suppressed even under 45 ° incidence conditions, and the local decrease in transmittance is low.
  • FIG. 26 For reference, simulation results of a white glass substrate having an optical multilayer film at 100% and 0% are shown in FIG. 26 (100%) and FIG. 27 (0%), respectively.
  • ripple in the transmission band in the wavelength range of 400 to 700 nm can be suppressed even under 45 ° incidence conditions, but in FIG. 27 (0%), around 500 nm under 45 ° incidence conditions. It can be seen that there is a ripple in.
  • FIG. 28 shows a simulation result of spectral characteristics of a white glass substrate provided with all optical multilayer films (UV cut, SWPF1, SWPF2) formed on the rear side under incident conditions of 0 ° (solid line) and 45 ° (broken line).
  • FIG. 28 From FIG. 28, it can be seen that the ripple in the transmission band in the wavelength range of 400 to 700 nm can be suppressed even under 45 ° incidence conditions, and the local decrease in transmittance is low. It can also be seen that light can be cut reliably in the near-infrared wavelength range.
  • the near-infrared cut filter of the present invention can suppress ripples very efficiently.
  • the near-infrared cut filter of the present invention can suppress the ripple of the transmission band depending on the incident angle of light. Therefore, it can be suitably used for spectral correction of a solid-state imaging device (for example, a CCD image sensor or a CMOS image sensor) such as a digital camera or a digital video.
  • a solid-state imaging device for example, a CCD image sensor or a CMOS image sensor
  • 10 near-infrared cut filter
  • 11 transparent substrate
  • 12 optical multilayer film
  • 100 imaging device
  • 110 solid-state imaging device
  • 120 cover glass
  • 130 lens group
  • 150 housing
  • L1 to L4 lens

Landscapes

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Abstract

　本発明に係る近赤外線カットフィルタは、高屈折率膜、中屈折率膜及び低屈折率膜の繰り返し積層構造を有し、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍである阻止帯とを有する。

Description

近赤外線カットフィルタ
　本発明は、近赤外線カットフィルタに関し、特に、透明基板上に形成された光学多層膜を有する近赤外線カットフィルタに関する。
　デジタルカメラやデジタルビデオ等には、Charge Coupled Device（ＣＣＤ）イメージセンサやComplementary Metal Oxide Semiconductor（ＣＭＯＳ）イメージセンサ等（以下、固体撮像素子と称する）が使用される。しかしながら、これら固体撮像素子の分光特性は、人間の視感度特性に比べて赤外光に強い感度を有する。そこで、デジタルカメラやデジタルビデオ等では、近赤外線カットフィルタによる分光補正を行っている。
　近赤外線カットフィルタとしては、例えば、Ｃｕ２＋イオンを着色成分として含有するフツリン酸系ガラス等の近赤外線吸収タイプの色ガラスフィルタが使用されてきた。しかしながら、色ガラスフィルタ単体では、近赤外域及び紫外域の光を十分にカットすることができないことから、現在では、近赤外線をカットできる特性を有する光学多層膜が併用されている。
　光学多層膜には、固体撮像素子が必要とする４００～７００ｎｍにおける透過帯において、透過率が落ち込む現象（リップル）が生じないことが求められる。光学多層膜において、リップルを抑制する技術が従来から提案されている（例えば、特許文献１～２参照）。
特許第４６７２１０１号公報 特開２００８－１３９６９３号公報
　しかしながら、光学多層膜には、特定角度で入射する光のリップルを抑制できたとしても、光の入射角度が変化するとリップルが発生することがある。特許文献１～２に記載の技術は、特定角度で入射する光のリップルの抑制には対応できるものの、光の入射角度が変化することに起因して発生するリップルに対しては全く考慮されていない。
　このような状況において、近年では、デジタルカメラやデジタルビデオ等がさらに小型化、薄型化しており、デジタルカメラやデジタルビデオ等のレンズの広角化が進んでいる。このため、固体撮像素子へ光がより傾斜した状態で入射するようになっている。例えば、従来では、固体撮像素子への光の入射角度が３０°以下であったものが、近年では、３０°を超える入射角への対応を強く求められるようになってきている。
　上述したリップルは、光の入射角度が傾斜するに従い、透過率の落ち込み量も大きくなる。特許文献１～２に開示される提案では、入射角度変化に伴うリップルの抑制について考慮がなされていないことから、固体撮像素子への光の入射角度が３０°以下であれば、リップルが極端に大きくなることはないが、３０°を超えるような入射角度になると無視できないほどのリップルが発生するおそれがある。本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、リップルが抑制された近赤外線カットフィルタを提供することを目的とする。
　本発明に係る近赤外線カットフィルタは、透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、前記光学多層膜は、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍである阻止帯とを有し、前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴ（Quater-wave Optical Thickness）をＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内であり、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層したことを特徴とする。
　本発明によれば、透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、前記光学多層膜は、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍである阻止帯とを有し、前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴをＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内であり、前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層しているので、リップルが抑制された近赤外線カットフィルタを提供することができる。
第１の実施形態に係る近赤外線カットフィルタの断面図である。 第１の実施形態に係る光学多層膜の断面図である。 第１の実施形態に係る光学多層膜の第１のＳＷＰＦ部の断面図である。 撮像装置一部構成図である。 表１に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表１に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表２に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表２に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表３に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表３に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表４に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表４に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表５に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表５に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表６に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表６に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表７に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表７に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表８、表９に示す光学多層膜を備えたガラス基板（ＮＦ５０Ｔ）の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表８に示す光学多層膜（ＩＲＣＦ）を備えた白板ガラス基板の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表９に示す光学多層膜のうち、ＵＶカット備えた白板ガラス基板の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 表９に示す光学多層膜のうち、ＳＷＰＦ１を備えた白板ガラス基板の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 ２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値が１００％の場合におけるＳＷＰＦ１を備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果である。 ２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値が０％の場合におけるＳＷＰＦ１を備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果である。 表９に示す光学多層膜のうち、ＳＷＰＦ２を備えた白板ガラス基板の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。 ２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値が１００％の場合におけるＳＷＰＦ２を備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果である。 ２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値が０％の場合におけるＳＷＰＦ２を備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果である。 表９に示す光学多層膜を備えた白板ガラス基板の０°及び４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果である。
（第１の実施形態）
　図１は、第１の実施形態に係る近赤外線カットフィルタ１０（以下、ＩＲＣＦ１０）の断面図である。図２は、ＩＲＣＦ１０が備える光学多層膜１２の断面図である。図３は、光学多層膜１２の第１のＳＷＰＦ部１２Ｂの断面図である。以下、図１～図３を参照してＩＲＣＦ１０の構成について説明する。
　図１に示すようにＩＲＣＦ１０は、透明基板１１と、透明基板１１の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜１２とを備える。なお、光学多層膜１２は、透明基板１１の一方の主面に設けるようにしてもよいし、透明基板１１のそれぞれの主面に分割して設けるようにしてもよい。
（透明基板１１）
　透明基板１１の材料は、少なくとも可視波長域の光を透過できるものであれば特に限定されない。透明基板１１の材料として、例えば、ガラス、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等の結晶、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
　透明基板１１としては、特に、近赤外波長域の光を吸収するものが好ましい。近赤外波長域の光を吸収する透明基板１１を用いることで、人間の視感度特性に近い画質を得ることができるためである。なお、近赤外波長域の光を吸収する透明基板１１としては、例えば、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラスにＣｕ２＋（イオン）が添加された吸収型ガラスが挙げられる。また、樹脂材料中に近赤外線を吸収する吸収剤を添加したものを使用してもよい。吸収剤としては、例えば、染料、顔料、金属錯体系化合物が挙げられ、具体的には、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物が挙げられる。
（光学多層膜２２の構造）
　図２は、光学多層膜１２の断面図である。図２に示すように、光学多層膜１２は、紫外光（ＵＶ）をカットするＵＶカット部１２Ａ、第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃを備える。第１のＳＷＰＦ部１２Ｂ及び第２のＳＷＰＦ部１２Ｃは、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍである阻止帯とを形成する。その他、分光特性を調整する層を光学多層膜１２の構造に追加してもよい。
（ＵＶカット部１２Ａ）
　ＵＶカット部１２Ａは、４００ｎｍ未満の波長範囲の紫外線を所定の波長幅と透過率でカットするものであれば、どのような膜構成のものであってもよい。例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜Ｈと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜Ｌとが積層された構造を有する。
（ＳＷＰＦ部１２Ｂ）
　図３は、第１のＳＷＰＦ（Short Wide Pass Filter）部１２Ｂの断面図である。ＳＷＰＦ部１２Ｂは、波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の高屈折率膜をＨ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜Ｈの屈折率未満である中屈折率膜をＭ、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満の低屈折率膜をＬとしたときに、以下の（１）式で表される構造を有する。
（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは、１以上の自然数）・・・（１）
　ＳＷＰＦ部１２Ｂの高屈折率膜ＨのＱＷＯＴをＴＨ、中屈折率膜ＭのＱＷＯＴをＴＭ、低屈折率膜ＬのＱＷＯＴをＴＬとしたとき、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上場合、０°入射（垂直入射）条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内となるよう前記各膜を積層する。
　また、ＳＷＰＦ部１２の高屈折率膜ＨのＱＷＯＴをＴＨ、中屈折率膜ＭのＱＷＯＴをＴＭ、低屈折率膜ＬのＱＷＯＴをＴＬとしたときに、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内となるよう前記各膜を積層する。
　上述の各膜のＱＷＯＴの比を決める際、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値をしきい値として規定した。これは、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合は、中屈折率膜のＱＷＯＴの増減が上記比率に与える影響が高屈折率膜の傾向と同様であるためである。また、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合は、中屈折率膜のＱＷＯＴの増減が上記比率に与える影響が低屈折率膜の傾向と同様であるためである。
　ＳＷＰＦ部１２の各膜のＱＷＯＴを上記のように設定する理由を以下に述べる。光学多層膜の入射角度に依存する可視域の局所的な透過率減少（いわゆるリップル）の発生は、ｎｄ×ｃｏｓθによる光学的膜厚の減少が、屈折率が異なる膜どうしで相違することによるものと考えられる。光学多層膜の分光特性は、スネルの法則（ｎ１×ｃｏｓθ１＝ｎ２×ｃｏｓθ２）により、入射角度は屈折率が大きい膜の方が小さく、屈折率の小さい膜では入射角度が大きくなることが分かる。
　従って、入射角度が大きくなるに従い、例えば高屈折率膜Ｈと低屈折率膜Ｌとで考えると、両者の光学的膜厚のバランスは高屈折率膜の光学的膜厚が過多、低屈折率膜の光学的膜厚が過小に働く。そして、ＳＷＰＦは各屈折率の膜厚変化に対してリップルが発生し易い傾向がある。しかしながら、各屈折率の光学的膜厚の比率が変化した場合であっても、リップルが発生しない比率範囲が必ず存在するので、これを用いてリップルの抑制を行うことが出来る。
　具体的には、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し積層構造をもつＳＷＰＦにおいて、各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させ、ＳＷＰＦの０°入射条件の分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内にリップルの発生を調べる。各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させると、リップルが発生し始める範囲が把握できる。
　そして、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。
　また、中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。
　なお、透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない、とは、４００～７００ｎｍの波長範囲において、上記各屈折率膜のＱＷＯＴを増減させた際の透過率の変化量を規定するものである。具体的には、上記各屈折率膜のＱＷＯＴの調整により透過率が変動するため、その変動量が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない範囲内における、上記ＱＷＯＴの比率を確認し、最大値及び最小値を設定するものである。
　上記において、１００％の値を選ぶと、０°から入射角度を大きくして（傾けて）いった時、最も大きな角度までリップルが発生しない設計となる。７０％未満の値を選ぶと、０°から入射角度を大きくして（傾けて）いった時、１００％の値を選んだ場合よりも小さい角度でリップルが発生する。光学多層膜の透過帯（４００ｎｍ～７００ｎｍ）における、０°～４５°入射条件でのリップルの発生および製造上の余裕も考慮に入れ、１００％～７０％の範囲となるよう各屈折率膜のＱＷＯＴを決定する。なお、上述した各屈折率膜のＱＷＯＴを決定するプロセスは、複数の膜構成の光学多層膜を実際に作製してもよいし、膜構造から光学多層膜の分光特性をシミュレーションできるソフトウエアを活用してもよい。
（ＳＷＰＦ部１２Ｃ）
　ＳＷＰＦ部１２Ｃは、ＳＷＰＦ部１２Ｂと同じ構造を有するため重複する説明を省略する。
　高屈折率膜Ｈとしては、波長５００ｎｍにおいて、屈折率が２．０以上となる材料からなるものであれば特に限定されない。このような高屈折率の材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、またはこれらの複合酸化物からなるものが好適に挙げられる。また、屈折率が２．０以上であれば、添加物を含有していても構わない。なお、屈折率が高いほうが、斜入射時の波長シフト量抑制、阻止帯の拡張等に有利である。
　中屈折率膜Ｍとしては、波長５００ｎｍにおいて、屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜Ｈの屈折率未満である材料からなるものであれば特に限定されない。このような中屈折率の材料としては、例えば、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）と酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）との混合物が好適に挙げられる。なお、上記材料は、添加物を含有していても構わない。
　低屈折率膜Ｌとしては、波長５００ｎｍにおいて、低屈折率が１．６未満となる材料からなるものであれば特に限定されない。このような低屈折率の材料としては、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ２）が好適に挙げられる。また、屈折率が１．６未満であれば、添加物を含有していても構わない。
　各屈折率膜の組合せの好適な例として、以下が挙げられる。
　組合せ１・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化タンタル（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．１９）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
　なお、この組合せにおける２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）は、０．８７０～０．８４５が好ましい範囲である。
　組合せ２・・・高屈折率膜：酸化チタン（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．４７）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
　なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２１５～１．１８６が好ましい範囲である。
組合せ３・・・高屈折率膜：酸化ニオブ（波長５００ｎｍにおける屈折率：２．３８）、中屈折率膜：酸化アルミニウム（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．６４）、低屈折率膜：酸化珪素（波長５００ｎｍにおける屈折率：１．４８）
　なお、この組合せにおける（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨは、１．２２９～１．１８６が好ましい範囲である。
　光学多層膜１２を構成する高屈折率膜Ｈ、中屈折率膜Ｍ、低屈折率膜Ｌは、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法により形成することができるが、特に、スパッタリング法、真空蒸着法により形成することが好ましい。透過帯は、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の固体撮像素子の受光に利用される波長帯域であり、その膜厚精度が重要となる。スパッタリング法、真空蒸着法は、薄膜を形成する際の膜厚制御に優れる。このため、光学多層膜１２を構成する高屈折率膜Ｈ、中屈折率膜Ｍ、低屈折率膜Ｌの膜厚の精度を高めることができ、その結果、リップルを抑制することができる。
　なお、付着力強化層、最表面層（空気側）での帯電防止層など、光学多層膜１２を構成する以外の膜が、光学多層膜１２に含まれていてもよい。
（光学多層膜１２の分光特性）
　次に、光学多層膜１２の分光特性について説明する。
　光学多層膜１２は、０°入射条件において、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、該透過帯の近赤外側に阻止帯を有する。阻止帯は、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍとなっている。
　また、光学多層膜１２の透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差は２００ｎｍ以上となっている。さらに、０°入射条件と３０°入射条件とにおける光学多層膜１２の透過帯の半値波長の差は、紫外側で１０ｎｍ未満、近赤外側で２２ｎｍ未満となっている。
　なお、光学多層膜１２は、０°入射条件での分光特性において、さらに以下の要件を満たすことが好ましい。具体的には、光学多層膜１２の透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差は３５０ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下が更に好ましい。また、紫外側の半値波長は３９０～４３０ｎｍの範囲にあることが好ましく、近赤外側の半値波長は６４０～７２０ｎｍの範囲にあることが好ましい。さらに、紫外側の阻止帯の幅は３０ｎｍ以上、近赤外側の阻止帯の幅は２００ｎｍ以上であることが好ましい。
　ここで、光学多層膜１２の透過帯の範囲（平均透過率を求めるための範囲）は、透過帯から紫外側の阻止帯に向かって透過率の低下が開始するときの波長（紫外側の基点）から、透過帯から近赤外側の阻止帯に向かって透過率の低下が開始するときの波長（近赤外側の基点）までとする。
　また、光学多層膜１２の阻止帯の範囲（平均透過率や幅を求めるための範囲）は、光学多層膜１２の紫外側の阻止帯については、紫外側の阻止帯から透過帯に向かって透過率の上昇が開始するときの波長（透過帯側の基点）から、その紫外側に向かって透過率が最初に４０％に達するときの上昇が開始するときの波長（紫外側の基点）までとする。
　さらに、光学多層膜１２の近赤外側の阻止帯については、近赤外側の阻止帯から透過帯に向かって透過率の上昇が開始するときの波長（透過帯側の基点）から、その近赤外側に向かって透過率が最初に４０％に達するときの上昇が開始するときの波長（近赤外側の基点）までとする。
（近赤外線カットフィルタ（ＩＲＣＦ）１０の分光特性）
　ＩＲＣＦ１０は、０°～４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００～７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に２０％以上低下する箇所がないことが好ましい。ＩＲＣＦ１０の分光特性は、主には光学多層膜１２の分光特性に依存するため、光学多層膜１２のみで上記特性を備えることが好ましいが、光学多層膜１２以外に反射防止膜等を透明基板の他方の面に設けることで上記特性を備えるようにしてもよい。ＩＲＣＦ１０は、０°～４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００～７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量は、１５％以下がより好ましく、１２％以下がさらに好ましい。
　なお、本発明において、透過率が局所的に低下する量は、リップルによる局所的な透過率損失量を意味する。具体的には、短波長から長波長側への透過率変動において、透過帯の平坦部もしくはそれに類する連続的な透過率変動部（例えば吸収ガラスなどでは透過帯はなだらかな山形状を描いている）から、リップルによって形成される極小値に向かう最初の変曲点の透過率を（Ａ）、リップルによる透過率の極小値を（Ｂ）、リップルの極小値から上記透過帯平坦部に透過率が上昇し、この上昇の終端であり、透過帯平坦部に戻った最初の変曲点の透過率を（Ｃ）とした時（Ａ）－（Ｂ）、（Ｃ）－（Ｂ）の絶対値のうち、大きいものをいう。
（その他の実施形態）
　以上のように、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
　例えば、光学多層膜は、２つの同一の膜構成によるＳＷＰＦを備えてもよいし、１つのＳＷＰＦおよび他の膜構成（上記繰り返し積層構造以外）によるＳＷＰＦにて構成されてもよい。具体的には、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し積層構造を備えるＳＷＰＦと（ＨＬ）の繰り返し積層構造を備えるＳＷＰＦとからなる光学多層膜であってもよい。また、（ＬＭＨＭＬ）の繰り返し数は、所望の分光特性に応じて任意に設定されるものである。また、（ＬＭＨＭＬ）の中屈折率膜を高屈折率膜と低屈折率膜とに振り分ける（等価膜構成）を用いて、実質的に同一の膜構成となるようにしてもよい。
（撮像装置１００）
　図１～図３を参照して説明したＩＲＣＦ１０は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置や自動露出計等における視感度補正フィルタとして用いられる。デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ等の撮像装置においては、例えば、撮像レンズと固体撮像素子との間に配置される。自動露出計においては、例えば受光素子の前面に配置される。
　撮像装置では、固体撮像素子の前面から離れた位置にＩＲＣＦ１０を配置してもよいし、固体撮像素子、または固体撮像素子のパッケージに直接貼着してもよいし、固体撮像素子を保護するカバーをＩＲＣＦ１０としてもよい。また、モアレや偽色を抑制するための水晶やニオブ酸リチウム等の結晶を使用したローパスフィルタに直接貼着してもよい。
　次に、具体例を示す。図４は、撮像装置１００の一部構成図である。
　撮像装置１００は、例えば、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラである。撮像装置１００は、固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０、絞り１４０、筐体１５０を備える。固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０及び絞り１４０は、光軸ｘに沿って配置されている。
　固体撮像素子１１０は、例えば、Charge Coupled Device（ＣＣＤ）イメージセンサやComplementary Metal Oxide Semiconductor（ＣＭＯＳ）イメージセンサである。固体撮像素子１１０は、入力される光を電気信号に変換して、図示しない画像信号処理回路へ出力する。
　カバーガラス１２０は、固体撮像素子１１０の撮像面側（レンズ群１３０側）に配置され、外部環境から固体撮像素子１１０を保護する。
　レンズ群１３０は、固体撮像素子１１０の撮像面側に配置される。レンズ群１３０は、複数のレンズＬ１～Ｌ４で構成され、入射する光を固体撮像素子１１０の撮像面へと導光する。
　絞り１４０は、レンズ群１３０のレンズＬ３とレンズＬ４との間に配置される。絞り１４０は、通過する光の量を調整可能に構成されている。
　筐体１５０は、固体撮像素子１１０、カバーガラス１２０、レンズ群１３０及び絞り１４０を収容する。
　撮像装置１００では、被写体側より入射した光は、レンズＬ１、レンズＬ２、第３のレンズＬ３、絞り１４０、レンズＬ４、及びカバーガラス１２０を通って固体撮像素子１１０に入射する。この入射した光が固体撮像素子１１０にて電気信号に変換され、画像信号として出力される。
　ＩＲＣＦ１０は、例えば、カバーガラス１２０、レンズ群１３０、すなわちレンズＬ１、レンズＬ２、レンズＬ３、もしくはレンズＬ４として用いられる。言い換えれば、ＩＲＣＦ１０の光学多層膜１２は、従来の撮像装置のカバーガラスやレンズ群を透明基板１１とし、この透明基板１１の表面に設けられる。また、透明基板１１の表面に光学多層膜１２を設けたＩＲＣＦ１０（図４には図示しない）を前述のカバーガラスやレンズ群とは別部材として設けてもよい。
　撮像装置１００のカバーガラス１２０やレンズ群１３０にＩＲＣＦ１０を適用することで、入射角度依存性（リップルの発生）を抑制しつつ、可視域の透過帯ならびに紫外域および近赤外域の阻止帯を拡張でき、その特性を向上することができる。
　次に実施例を参照して具体的に説明する。
　実施例に係る近赤外線カットフィルタ（ＩＲＣＦ）は、透明基板（白板ガラス、Ｂ２７０、板厚０．３ｍｍ、ショット社製）と、透明基板の一方の面に設けられた光学多層膜とを備える。これらのＩＲＣＦについて、光学多層膜の０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない条件を、光学薄膜シミュレーションソフト（ＴＦＣａｌｃ、Ｓｏｆｔｗａｒｅ　Ｓｐｅｃｔｒａ社製）を用いて検証した。また、本願では波長５００ｎｍにおける各膜の屈折率を代表値として使用しているが、シミュレーション上は屈折率の波長依存性を考慮してシミュレーションを行った。
　屈折率には、分散などと呼ばれる波長依存性がある。例えば、３００～１３００ｎｍの波長範囲において、本出願が対象とする膜物質などでは、波長が短いほど屈折率が大きく、波長が長くなると屈折率は小さくなる傾向がある。これら波長－屈折率の関係は線形関係ではなく、一般的にはHartmann、Sellmeierなどの近似式を用いて表されることが多い。また、膜物質の屈折率（分散）は、各種成膜条件によって変わる。そのため、蒸着法、イオンアシスト蒸着法、スパッタ法などで実際に成膜を行い、得られた各膜の屈折率の分散データを以下のシミュレーションにて用いた。
（実施例１）
　光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化タンタル（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７８０～１０００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表１に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６７であり、０％（最小値）は０．８１６であり、７０％は０．８５２であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　図５は、表１に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図６は、表１に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も９．９％と低いことがわかる。また、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２２．２％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例２）
　光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９２０～１１７０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表２に示す。２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．８６５あり、０％（最小値）は０．８０７であり、７０％は０．８４７であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　図７は、表２に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図７は、表２に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１２．４％と低いことがわかる。また、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２４．６％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例３）
　光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７０～１０２０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表３に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１８であり、０％（最小値）は１．１５３であり、７０％は１．１９７であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　図９は、表３に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１０は、表３に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１８．８％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が３８．４％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例４）
　光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９６０～１２６０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表４に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、で１．１８７あり、０％（最小値）は１．１２０であり、７０％は１．１６７であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　図１１は、表４に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１２は、表４に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１３．５％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２９．７％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例５）
　光学多層膜は、酸化ニオブ（高屈折率膜）、酸化アルミニウム（中屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＬＭＨＭＬ）の９層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７７４～１０１０ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨを１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表５に示す。（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２３４であり、０％（最小値）は１．１６５であり、７０％は１．２１２であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　図１３は、表５に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１４は、表５に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１４．９％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が３１．４％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（実施例６）
　光学多層膜は、実施例１と同様の繰り返し積層構造を備え、前記透過帯の近赤外側に、９８３～１２８４ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することのみ相違する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。前記（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの１００％（最大値）は、１．２１６であり、０％（最小値）は１．１３２であり、７０％は１．１９１であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　図１５は、表６に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１６は、表６に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内の場合、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も１０．７％と低いことがわかる。また、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが０％の場合、４５°入射条件における分光特性では透過帯の局所的な低下が２６．２％となり、リップルを十分に抑制できないことがわかる。
（比較例）
　次いで、比較例として次に述べる光学多層膜について検証した。光学多層膜は、酸化チタン（高屈折率膜）、酸化珪素（低屈折率膜）からなる、（ＨＬ）の１０層の繰り返し積層である。また、この光学多層膜は、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、９００～１２００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有する。この光学多層膜について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％の膜構成をシミュレーションにより調べた。光学多層膜の透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬＴＨの１００％（最大値）、０％（最小値）、７０％における膜構成を以下の表６に示す。ＴＬ／ＴＨの１００％（最大値）は、０．９９７であり、０％（最小値）は０．９６０であり、７０％は０．９８６であった。この光学多層膜の膜構成を以下の表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　図１７は、表７に示す光学多層膜の０°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。また、図１８は、表７に示す光学多層膜の４５°入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。以上から、光学多層膜が、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しないＴＬ／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、ＴＬ／ＴＨが１００％であったとしても４５°入射条件では透過帯の透過率の局所的な低下量が３１．２％となり、リップルを十分に抑制することができない。また、ＴＬ／ＴＨが１００％未満の場合は、ＴＬ／ＴＨが１００％の場合と比較して４５°入射条件では透過帯の透過率の局所的な低下量が大きくなる傾向があるため、当然これら範囲においてもリップルを十分に抑制することができない。
　よって、表７に示す光学多層膜の膜構成では、光の入射角度が４５°となった際の透過帯のリップルの抑制は困難であることがわかる。
（実施例７）
　次に、本発明の光学多層膜をガラス基板上に形成し、分光特性をシミュレーションした。なお、ガラス基板には、近赤外線カットガラス（ＮＦ５０Ｔ、旭硝子社製：厚み０．３ｍｍ）を使用した。
　初めに、ガラス基板上に形成した光学多層膜の膜構成について説明する。この実施例７では、ガラス基板の両面（フロント側及びリア側）に光学多層膜を形成している。
　フロント側に形成した光学多層膜の膜構成を以下の表８に示す。フロント側に形成した光学多層膜は、本発明のＩＲＣＦとは異なる、本出願人が出願した国際出願（ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／０７４０８７）に記載の発明に包含されるＩＲＣＦを用いた。なお、各層の膜厚は、物理膜厚（ｎｍ）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　次に、リア側に形成した光学多層膜の膜構成を以下の表９に示す。各層の膜厚は、物理膜厚（ｎｍ）である。なお、リア側に形成した光学多層膜のうち第１層から第１８層は、ＵＶカットフィルタ（ＵＶカット部１２Ａに相当）であり、第１８層から第８６層までは、本発明の光学多層膜（第１，第２のＳＷＰＦ部１２Ｂ，１２Ｃに相当）になる。以下、それぞれの光学多層膜を、ＵＶカット（ＵＶカット部１２Ａに相当）、ＳＷＰＦ１（第１のＳＷＰＦ部１２Ｂに相当）、ＳＷＰＦ２（第２のＳＷＰＦ部１２Ｃに相当）と称する。
　なお、第１８層の物理膜厚１４０．２３ｎｍのうち、９０ｎｍがＵＶカット用の膜であり、残りの５０．２３ｎｍがＳＷＰＦ１用の膜である。また、第５４層の物理膜厚１５９．６４ｎｍのうち、７５ｎｍがＳＷＰＦ１用の膜であり、残りの８４．６４ｎｍがＳＷＰＦ２用の膜である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　図１９は、表８、表９に示す光学多層膜を備えたガラス基板（ＮＦ５０Ｔ）の０°（実線）及び４５°（鎖線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。
　図１９に示すように、本発明の光学多層膜を実際の製品に適用した場合でも、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の近赤外側に、７８０～１０００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の阻止帯とを有することがわかった。また、０°及び４５°入射条件における分光特性において、透過帯（４００～７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量が、１２％以下であることがわかった。
　次に、表８に示すＩＲＣＦのみを備えた白板ガラス基板（Ｂ２７０、板厚０．３ｍｍ、ショット社製、以下同様）の０°（実線）及び４５°（鎖線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を図２０に示す。このフロント側のＩＲＣＦは、図２０からもわかるように、入射角度依存性が抑制されており、可視域の光の斜入射時のリップルが非常に小さい。しかしながら、近赤外領域をカットする阻止帯の幅が狭い。
　次に、リア側に形成したＵＶカットのみを備えた白板ガラス基板の分光特性のシミュレーション結果を図２１に示す。図２１に示すように、ＵＶカットだけの光学特性をシミュレーションしたが、０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性において、透過帯（４００～７００ｎｍの波長範囲内）の透過率が局所的に低下する量が、１２％以下であることがわかった。
　次に、ＳＷＰＦ１について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）の膜構成をシミュレーションにより調べた。ＳＷＰＦ１の膜構成及びシミュレーションで算出した１００％、０％における膜構成を以下の表１０に示す。
　ここで、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．７６１であり、０％（最小値）は０．７０２であった。また、ＳＷＰＦ１の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、０．７５３であった。よって、ＳＷＰＦ１の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、８７．１％であり。１００％～７０％の範囲内となっている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　図２２は、ＳＷＰＦ１のみを備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２２からは、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。
　なお、参考のため、１００％及び０％における膜構成を備えた白板ガラス基板のシミュレーション結果を、それぞれ図２３（１００％）及び図２４（０％）に示す。図２３（１００％）では、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制できているが、図２４（０％）では、４５°入射条件において、４００ｎｍ近辺にリップルが発生しているのがわかる。
　次に、ＳＷＰＦ２について、０°入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）、０％（最小値）の膜構成をシミュレーションにより調べた。ＳＷＰＦ２の膜構成及びシミュレーションで算出した１００％、０％における膜構成を以下の表１１に示す。
　ここで、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の１００％（最大値）は、０．７８４であり、０％（最小値）は０．７３２であった。また、ＳＷＰＦ２の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、０．７７８であった。よって、ＳＷＰＦ２の２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の値は、８７．９％であり。１００％～７０％の範囲内となっている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
　図２５は、ＳＷＰＦ２のみを備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２５からは、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。
　なお、参考のため、１００％及び０％における光学多層膜を備えた白板ガラス基板のシミュレーション結果を、それぞれ図２６（１００％）及び図２７（０％）に示す。図２６（１００％）では、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制できているが、図２７（０％）では、４５°入射条件において、５００ｎｍ近辺にリップルが発生しているのがわかる。
　図２８は、リア側に形成した全ての光学多層膜（ＵＶカット、ＳＷＰＦ１、ＳＷＰＦ２）を備えた白板ガラス基板の０°（実線）及び４５°（破線）入射条件における分光特性のシミュレーション結果を示す図である。図２８からは、４５°入射条件であっても４００～７００ｎｍの波長範囲における透過帯のリップルを抑制でき、透過率の局所的な低下も低いことがわかる。また、近赤外域の波長範囲において、確実に光をカットできることがわかる。
　以上のことから、本発明の近赤外線カットフィルタは、リップルを非常に効率よく抑制できることがわかる。
　本発明の近赤外線カットフィルタは、光の入射角度に依存する透過帯のリップルを抑制することができる。このため、デジタルカメラやデジタルビデオ等の固体撮像素子（例えば、ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサ等）の分光補正に好適に使用できる。
　１０：近赤外線カットフィルタ、１１：透明基板、１２：光学多層膜、１００：撮像装置、１１０：固体撮像素子、１２０：カバーガラス、１３０：レンズ群、１５０：筐体、Ｌ１～Ｌ４：レンズ。

Claims (10)

  1. 　透明基板と、前記透明基板の少なくとも一方の主面に設けられた光学多層膜とを備える近赤外線カットフィルタであって、
    　前記光学多層膜は、
    　波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上である高屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以上で前記高屈折率膜の屈折率未満である中屈折率膜と、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である低屈折率膜とを備え、前記高屈折率膜をＨ、前記中屈折率膜をＭ、前記低屈折率膜をＬとしたとき、（ＬＭＨＭＬ）＾ｎ（ｎは１以上の自然数）の繰り返しで表される繰り返し積層構造を有し、
    　４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、７５０～１１００ｎｍの波長範囲において平均透過率が１０％以下の領域の幅が１００～２８０ｎｍである阻止帯とを有し、
    　前記光学多層膜の前記高屈折率膜のＱＷＯＴ（Quater-wave Optical Thickness）をＴＨ、前記中屈折率膜のＱＷＯＴをＴＭ、前記低屈折率膜のＱＷＯＴをＴＬとした場合、
    　前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値以上の場合、
    　前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）の最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が１００％～７０％の範囲内であり、
    　前記中屈折率膜の屈折率が前記高屈折率膜の屈折率と前記低屈折率膜の屈折率との中間値未満の場合、
    　前記光学多層膜は、垂直入射条件での分光特性で４００～７００ｎｍの波長範囲内に透過率が局所的に５％以上低下する箇所が存在しない（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨの最大値を１００％、最小値を０％と設定した場合、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１００％～７０％の範囲内となるように、前記高屈折率膜、前記中屈折率膜及び前記低屈折率膜を積層したことを特徴とする近赤外線カットフィルタ。
  2. 　前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＴｉＯ２、前記中屈折率膜がＴａ２Ｏ５、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、２ＴＬ／（ＴＨ＋２ＴＭ）が０．８５２～０．８６７の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
  3. 　前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＴｉＯ２、前記中屈折率膜がＡｌ２Ｏ３、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１．１６７～１．２１８の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
  4. 　前記光学多層膜は、前記高屈折率膜がＮｂ２Ｏ５、前記中屈折率膜がＡｌ２Ｏ３、前記低屈折率膜がＳｉＯ２からなり、（２ＴＬ＋２ＴＭ）／ＴＨが１．１９１～１．２３４の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線カットフィルタ。
  5. 　前記透過帯は、０°～４５°入射条件の分光特性において、透過率が局所的に２０％低下する箇所が存在しないことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
  6. 　少なくとも２種以上の前記光学多層膜から構成されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
  7. 　前記透明基板は、近赤外波長域に吸収を有する光学特性を備えることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
  8. 　前記透明基板は、Ｃｕ２＋イオンを着色成分として含有するフツリン酸塩系ガラスもしくはリン酸塩系ガラスであることを特徴とする請求項７に記載の近赤外線カットフィルタ。
  9. 　前記透明基板は、近赤外線を吸収する色素を含有した樹脂材であることを特徴とする請求項７に記載の近赤外線カットフィルタ。
  10. 　前記光学多層膜と同一面もしくは前記透明基板の他方の主面に設けられ、
    波長５００ｎｍにおける屈折率が２．０以上の屈折率が異なる２種以上の膜と波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６未満である膜とからな近赤外線カット膜を備え、
    　前記近赤外線カット膜は、４００～７００ｎｍの波長範囲に平均透過率が８５％以上となる透過帯と、前記透過帯の紫外側および近赤外側のそれぞれに平均透過率が５％以下となる阻止帯とを有し、
    　前記透過帯の紫外側の半値波長と近赤外側の半値波長との差が２００ｎｍ以上であり、垂直入射条件と３０°入射条件における前記透過帯の半値波長の差が紫外側の半値波長で１０ｎｍ未満、近赤外側の半値波長で２２ｎｍ未満である請求項１ないし９のいずれか１項に記載の近赤外線カットフィルタ。
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