JP2006511838A - 光学フィルタ - Google Patents
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Abstract
第1の屈折率を有する第1の材料と、
第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の1つまたは両方からそれぞれが形成される複数の材料層を自身の上に積層させた基板を含む光学フィルタであって、
複数の材料層が、第1の材料および第2の材料の不均一混合物からそれぞれ形成される第1層および第2層と、第1の材料から形成され、第1層および第2層間に積層される第3層とを含み、
第1層および第2層それぞれの光学的厚さが、前記第3層の光学的厚さよりも大きい光学フィルタを提供する。
Description
したがって、所定の波長を適切なIR波長になるように選択することにより、このような四分の一波長積層をIR放射線を反射するための光学フィルタとして用いて、反射帯域が、所望のスペクトル通過帯域に隣接して形成されるようにしてもよい。しかしながら、このような干渉フィルタの欠点は、前述の「より高次」の反射帯域が、しばしば、所望のスペクトル通過帯域内にかなり入って存在するということである。したがって、このようなフィルタが、反射するのが望ましくない放射線を反射することも当然あり得る。
多層積層が単に2つではなく3つの異なる屈折率を有する材料から構成されている、他のタイプの多重積層光学干渉フィルタが提案された。層の積層内の繰り返しパターンに3つの異なる層タイプを適切に配置することによって、結果として得られる構造は、上述のような単純な四分の一波長積層では通常生じる、障害となる「より高次」の反射帯域の最初のいくつかを抑制できる。
第1の屈折率を有する第1の材料と、
第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の1つまたは両方からそれぞれが形成される複数の材料層を自身の上に積層させた基板を含む光学フィルタであって、
複数の材料層が、第1の材料および第2の材料の不均一混合物からそれぞれ形成される第1層および第2層と、第1の材料から形成され、第1層および第2層間に積層される第3層とを含み、第1層および第2層それぞれの光学的厚さが、第3層の光学的厚さよりも大きい光学フィルタを提供することができる。
第1および第2層を形成するときには、第1の材料および第2の材料の異種混合のために、これらの層の屈折率は、第2の屈折率より大きな値と第1の屈折率より小さな値との間で、層の深さと共に変化する。
したがって、繰り返し現れる層グループを含む(基板上の)多層積層形状をした干渉フィルタを構築し、かつこのグループが、変化する(しかし低い)屈折率の2層間に挟まれた少なくとも1つの比較的高い屈折率の層を含むことによって、たとえば、非ゼロ光反射率のリップル、振動または過渡現象を実質的に低減または抑制する干渉フィルタを提供することが可能であり、そうでなければこれらのリップル、振動または過渡現象は、多層積層の主な反射率帯域および「より高次」の反射率帯域の外側に生じる傾向がある。すなわち、結果として得られる多積層フィルタの透過スペクトルは、フィルタの通過帯域内で/両端に渡って本質的にはより単調に変化する傾向となるか、または単調でない場合には、その内部で、少なくともより小さな振幅で振動する。
第1の屈折率を有する第1の材料と、
第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の不均一混合物から形成される層を自身に配置した基板を含む光学フィルタであって、
不均一混合物が、層の屈折率値が第2の屈折率より大きな値と第1の屈折率より小さな値との間で層の深さと共に振動するように、なっている光学フィルタを提供することができる。これは、多層積層タイプフィルタの代替であっても、またはそのようなフィルタの一部を形成してもよい。前者の場合では、屈折率における振動する変化によって、1つの主な反射帯域(IR周波数を中心にしてもよい)を有し、「より高次」なタイプの反射帯域がほぼないフィルタが結果として得られる。このような場合に、「より高次」の反射帯域が抑制されるので、フィルタは、IRフィルタとしてのみ動作することができ、単一の反射帯域外の他の波長をほとんどまたは実質的には全く反射しない。
基板を提供することと、
第1の屈折率を有する第1の材料と、
第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の1つまたは両方からそれぞれが形成される複数の材料層を、基板上に積層することと、
第1の材料および第2の材料の不均一混合物から、複数の層のうちの第1層および第2層を形成することと、
第1および第2層間に積層される、複数の層のうちの第3層を第1の材料から形成することと、
を含み、
第1および第2層それぞれの光学的厚さが、第3層の光学的厚さよりも大きい方法を提供することができる。
第1および第2層を形成するとき、第1の材料および第2の材料の異種混合のために、第1および第2層の屈折率は、第2の屈折率より大きい値と第1の屈折率より小さい値との間で、中間層の深さと共に変化する。
本方法によれば、第1層および第2層はそれぞれ、大きさにおいて、値2QとQ/2未満だけ異なる光学的厚さで形成してもよく、第3層は、大きさにおいて、値QとQ/2未満だけ異なる光学的厚さで形成してもよく、この場合、Qは、光学的厚さが決定される共通基準波長の光放射の波長のほぼ四分の一で横断される所与の層の光学的厚さである。
第1層および第2層は、それらの光学的厚さが異なるようにか、またはそれらの光学的厚さが、値においてほぼ等しいように形成してもよい。第1層および第2層がそれぞれ、等しい値の光学的厚さを有するように形成される場合には、この値は、2Qとほぼ等しいか、または2QとQ/2未満だけ異なる何か他の値と等しくてもよい。第3層は、Qとほぼ等しい光学的厚さを有するように形成してもよい。
本方法には、複数の層の一部であり、それぞれ第2の材料から形成される一対の外側層を形成するステップを含んでもよく、この場合、外側層は、第1、第2および第3層が外側層の間に積層されるように、形成される。対の外側層は、このような各層の光学的厚さが、値において、大きさQとQ/2未満だけ異なるように形成してもよい。対の外側層のそれぞれの光学的厚さは、互いにほぼ等しくてもよいし、また値Qにほぼ等しくてもよい。
SiO2−1.46、
HfO2−2.09。
SiO2−58.2nm、
HfO2−40.6nm。異種混合材料SiO2およびHfO2の各傾斜層(層2および4)の物理的厚さは95.7nmであり、そしてこの例では、2つの混合層(層2および4)それぞれの屈折率は、屈折率1.46(外側層1または5に隣接した)から、高屈折率層3に隣接する屈折率2.09まで傾斜する。
Claims (39)
- 第1の屈折率を有する第1の材料と、
前記第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の1つまたは両方からそれぞれが形成される複数の材料層を自身の上に積層させた基板を含む光学フィルタであって、
前記複数の材料層が、前記第1の材料および前記第2の材料の不均一混合物からそれぞれ形成される第1層および第2層と、前記第1の材料から形成され、前記第1層および前記第2層間に積層される第3層とを含み、
前記第1層および前記第2層それぞれの光学的厚さが、前記第3層の光学的厚さよりも大きい光学フィルタ。 - 前記第1層および前記第2層の光学的厚さがそれぞれ、大きさにおいて、値2QとQ/2未満だけ異なり、前記第3層の光学的厚さが、大きさにおいて、値QとQ/2未満だけ異なり、Qが、前記光学的厚さが決定される共通基準波長の光放射の波長のほぼ四分の一で横断される所与の前記層の厚さである、請求項1に記載の光学フィルタ。
- 前記第1層の光学的厚さが前記第2層の光学的厚さとほぼ等しい、請求項1または請求項2に記載の光学フィルタ。
- 前記第1層および前記第2層の光学的厚さがそれぞれ、2Qにほぼ等しく、前記第3層の光学的厚さがQにほぼ等しい、請求項2に記載の光学フィルタ。
- 前記複数の材料層が、前記第2の材料からそれぞれが形成された一対の外側層であって、その間に前記第1、第2および第3層が積層された外側層を含む、請求項2〜4のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記対の外側層のそれぞれの光学的厚さが、値において、大きさQとQ/2未満だけ異なる、請求項5に記載の光学フィルタ。
- 前記対の外側層のうちのそれぞれ一方の光学的厚さが、前記対の他方の光学的厚さとほぼ等しい、請求項5または6に記載の光学フィルタ。
- 前記外側層のそれぞれの光学的厚さがQとほぼ等しい、請求項7に記載の光学フィルタ。
- 前記第1および/または第2層の屈折率が、前記それぞれの層の深さの少なくとも一部を通して連続的に変化する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記第1および/または第2層の屈折率が、前記それぞれの層の深さの少なくとも一部を通してほぼ段階的に変化する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記第1および/または第2層の屈折率における全ての変化がほぼ段階的に生じる、請求項1〜8および10のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記第1および/または第2層が、前記第1の材料および前記第2の材料の均一混合物からそれぞれが形成されて前記層内に積層される複数のサブ領域を含み、それによって、いずれか1つのサブ領域を形成する前記均一混合物が、前記第1および/または第2層内の直に隣接するサブ領域を形成する均一混合物と異なり、そして前記複数のサブ領域それぞれの屈折率が、前記サブ領域の深さに応じてほぼ一定であり、かつ前記第1および/または第2層の屈折率が、前記層の連続するサブ領域間の深さと共にほぼ段階的に変化するようにする、請求項10または請求項11に記載の光学フィルタ。
- 前記第1および/または第2層の屈折率における全ての変化が、前記それぞれの層の深さが前記第3層から離れたその領域から前記第3層に隣接するその領域へと増加するにつれて、その屈折率を増加させる、請求項1〜12のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記複数の層が、連続する層が前記積層の深さに渡って周期的に繰り返す順序で配置される前記層の積層を、形成する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタが、少なくとも赤外線をほぼ反射し、かつ少なくとも可視光スペクトルにおける光放射を透過するように構成されている、請求項1〜14のいずれか一項に記載の光学フィルタ。
- 前記フィルタが、少なくとも赤外線および紫外線をほぼ反射するように構成されている、請求項15に記載の光学フィルタ。
- 請求項1〜16のいずれか一項に記載のフィルタを含む光電池用のカバー。
- 請求項17に記載のカバーを含む光電池。
- 前記光電池が太陽電池である、請求項18に記載の光電池。
- 光電池と共に用いる光学フィルタの製造方法であって、
基板を提供することと、
第1の屈折率を有する第1の材料と、
前記第1の屈折率より小さい第2の屈折率を有する第2の材料と、
の1つまたは両方からそれぞれが形成される複数の材料層を、前記基板上に積層することと、
前記第1の材料および前記第2の材料の不均一混合物から、前記複数の層のうちの第1層および第2層を形成することと、
前記第1および第2層間に積層される、前記複数の層のうちの第3層を前記第1の材料から形成することと、
を含み、
前記第1および第2層それぞれの光学的厚さが、前記第3層の光学的厚さよりも大きい方法。 - 前記第1層および前記第2層がそれぞれ、大きさにおいて、値2QとQ/2未満だけ異なる光学的厚さで形成され、前記第3層が、大きさにおいて、値QとQ/2未満だけ異なる光学的厚さで形成され、Qが、前記光学的厚さが決定される共通基準波長の光放射の波長のほぼ四分の一で横断される所与の前記層の厚さである、請求項20に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1層の光学的厚さが、前記第2層の光学的厚さとほぼ等しいように形成され、逆の場合も同様である、請求項20または請求項21に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1層および前記第2層がそれぞれ、2Qにほぼ等しい光学的厚さを有するように形成され、前記第3層が、Qにほぼ等しい光学的厚さを有するように形成される、請求項21に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第2の材料からそれぞれが形成される、前記複数の層の内の一対の外側層であって、その間に前記第1、第2および第3層が積層される外側層を形成するステップをさらに含む、請求項21〜23のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記対の外側層が、それぞれの光学的厚さが値において大きさQとQ/2未満だけ異なるように、形成される、請求項24に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記対の外側層のそれぞれが、いずれか1つのこのような層が他方のこのような層の光学的厚さとほぼ等しい光学的厚さを有するように、形成される、請求項24または請求項25に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記対の外側層の各層が、Qとほぼ等しい光学的厚さで形成される、請求項26に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1および/または第2層が、その屈折率が前記それぞれの層の深さの少なくとも一部を通して連続的に変化するように、形成される、請求項20〜27のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1および/または第2層が、その屈折率が前記それぞれの層の深さの少なくとも一部を通してほぼ段階的に変化するように、形成される、請求項28に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1および/または第2層が、その屈折率における全ての変化がほぼ段階的に生じるように、形成される、請求項20〜27および29のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1および/または第2層が、前記第1の材料および前記第2の材料の均一混合物からそれぞれ形成されて前記層内に積層される複数のサブ領域を含むように形成され、それによって、いずれか1つのサブ領域を形成する前記均一混合物が、前記第1および/または第2層内の直に隣接するサブ領域を形成する均一混合物と異なり、そして前記複数のサブ領域それぞれの屈折率が、前記サブ領域の深さに応じてほぼ一定であり、かつ前記第1および/または第2層の屈折率が、前記層の連続するサブ領域間の深さと共にほぼ段階的に変化するようにする、請求項29または請求項30に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記第1および/または第2層の深さが、前記第3層から離れたその領域から前記第3層に隣接したその領域へと増加するにつれて、前記第1および/または第2層の屈折率における全ての変化がその屈折率を増加させるように、前記第1および/または前記第2層が形成される、請求項20〜31のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記方法が、前記複数の層を積層層に形成することを含み、前記積層層において連続的な層が、前記積層の深さに渡って周期的に繰り返す順序で配置される、請求項20〜32のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記複数の層が、少なくとも赤外線をほぼ反射し、かつ少なくとも可視光スペクトルにおける光放射を透過するように配置されている、請求項20〜33のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 前記複数の層が、少なくとも赤外線および紫外線をほぼ反射するように配置されている、請求項34に記載の光学フィルタの製造方法。
- 光電池に入射する放射線の光フィルタリング方法であって、
請求項20〜35のいずれか一項に記載の光学フィルタを製造することと、
入射放射線が、入射放射線が通過できるように形成された前記複数の層を通過するのを可能とすることと、
を含む方法。 - 太陽電池を効果的に設計してそれが感受できるようにした波長帯域内の太陽放射線を透過させるため、かつ前記帯域外の太陽放射線を反射するために、前記光学フィルタのスペクトル応答を最適化する目的で、前記複数の層の1つか、いくつか、または全ての層の光学的厚さを変化させることを含む、請求項20〜35のいずれか一項に記載の光学フィルタの製造方法。
- 添付の図面のうちの図2a、2b、2c、3または4に関連した前述のいずれか一実施形態でほぼ記載した光学フィルタ。
- 添付の図面のうちの図2a、2b、2c、3または4に関連した前述のいずれか一実施形態でほぼ記載した光学フィルタの製造方法。
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