WO2011158635A1 - 赤外線カットフィルタ - Google Patents

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WO2011158635A1
WO2011158635A1 PCT/JP2011/062225 JP2011062225W WO2011158635A1 WO 2011158635 A1 WO2011158635 A1 WO 2011158635A1 JP 2011062225 W JP2011062225 W JP 2011062225W WO 2011158635 A1 WO2011158635 A1 WO 2011158635A1
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infrared
wavelength
transmittance
cut filter
light transmission
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秀史 齊藤
大西 学
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株式会社大真空
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Definitions

  • the present invention relates to an infrared cut filter that transmits light in the visible range and cuts infrared rays.
  • an imaging optical system In an optical system of an electronic camera typified by a general video camera or a digital still camera, an imaging optical system, an infrared cut filter, an optical low-pass filter, a CCD (Charge Coupled Device) or CCD from the subject side along the optical axis.
  • An imaging device such as a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) is sequentially disposed (for example, refer to Patent Document 1).
  • the imaging device here has a sensitivity characteristic that responds to light in a wider wavelength band than light in the wavelength band (visible range) visible to the human eye. In addition to the visible range, light in the infrared range Also respond to.
  • the human eye responds to light having a wavelength in the range of about 400 nm to 620 nm in the dark place and responds to light having a wavelength in the range of about 420 nm to 700 nm in the bright place.
  • a CCD responds to light having a wavelength in the range of 400 nm to 700 nm and further to light having a wavelength exceeding 700 nm.
  • an infrared cut filter is provided in addition to the CCD that is the imaging device so that infrared rays do not reach the imaging device, and the captured image is close to the human eye. Is to be obtained.
  • transmits the light ray (visible light) of visible region and absorbs the light ray (infrared ray) of infrared region, and permeate
  • an infrared cut coat to do.
  • the infrared absorbing glass for example, blue glass in which a pigment such as copper ion is dispersed is listed.
  • a high refractive index material such as TiO 2 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , and Nb 2 O 5 and a low refractive index material such as SiO 2 and MgF 2 are alternately formed on a transparent substrate.
  • a dielectric multilayer film having several tens of layers is listed.
  • FIG. 7 shows light transmission characteristics L11 and L12 of two infrared absorbing glasses having different thicknesses. Specifically, the thickness of the infrared absorption glass showing the light transmission characteristics of L11 is set to be half or less of the thickness of the infrared absorption glass showing the light transmission characteristics of L12.
  • infrared absorbing glass is used as the infrared cut filter, as shown by L11 and L12 in FIG. 7, “a characteristic that the transmittance gradually decreases, close to the sensitivity characteristic of the human eye, from the visible region to the infrared region. Can be obtained. Further, as can be seen from the comparison between L11 and L12, the transmittance in the visible region of the infrared absorbing glass, particularly the transmittance in the wavelength band of 600 nm to 700 nm, is higher as the thickness is thinner.
  • the infrared absorbing glass having the light transmission characteristic indicated by L11 in FIG. 7 has a transmittance of about 10% with respect to a light beam having a wavelength of 700 nm and transmits a light beam having a wavelength of about 750 nm. For this reason, the infrared rays cannot be sufficiently cut, and the imaging device is caused to pick up an infrared region image that cannot be detected by human eyes.
  • the transmittance with respect to a light beam having a wavelength of 700 nm is about It is 0%, and it is possible to sufficiently cut light having a wavelength exceeding 700 nm.
  • an infrared absorbing glass having the light transmission characteristics shown in L12 has been used for the conventional infrared cut filter.
  • the transmittance is about 650 nm at a wavelength of 640 nm because the light transmission characteristics are about 50% at a wavelength of 600 nm.
  • the transmittance for red visible light having a wavelength of 600 nm to 700 nm is low, and the red visible light is sufficiently transmitted.
  • An imaging element of an imaging device such as a CCD or a CMOS has a lower red sensitivity than blue or green. For this reason, if the transmission of red visible light is insufficient, the image sensor cannot sufficiently detect red, and the image captured by the imaging device is a dark image with weak redness.
  • the point at which the transmittance was about 0% could not be adjusted to 700 nm while sufficiently transmitting red visible light.
  • the infrared cut coat does not absorb and block infrared rays but reflects and blocks infrared rays. For this reason, the infrared cut coat urges generation of a ghost due to repeated reflection of light between the infrared cut coat and the imaging optical system.
  • the present invention has been made in view of such a situation, and is capable of cutting light having a wavelength exceeding 700 nm while sufficiently transmitting red visible light having a wavelength of 600 nm to 700 nm, and
  • An object of the present invention is to provide an infrared cut filter that can suppress the generation of ghosts.
  • An infrared cut filter is an infrared cut filter that cuts infrared rays, and includes an infrared absorber that absorbs infrared rays and an infrared reflector that reflects infrared rays, and the infrared absorber has a wavelength of 620 nm to 670 nm.
  • the infrared reflector has a light transmission characteristic with a transmittance of 50% at a wavelength in the wavelength band of 670 nm to 690 nm;
  • the wavelength at which the infrared reflector exhibits a transmittance of 50% is longer than the wavelength at which the infrared absorber exhibits a transmittance of 50%.
  • the wavelength may be 620 nm to 670 nm. It has a light transmission characteristic that the transmittance is 50% at a wavelength in the band and the transmittance is less than 5% at a wavelength of 700 nm.
  • an infrared absorber exhibiting a light transmission characteristic having a transmittance of 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm, and a transmittance of 50% at a wavelength in the wavelength band of 670 nm to 690 nm.
  • the transmittance gradually decreases from the visible range to the infrared range, and the sensitivity characteristic of the human eye has a transmittance of about 0% at a wavelength of 700 nm. It is possible to obtain light transmission characteristics close to.
  • the infrared absorber includes an infrared absorber having a light transmission characteristic with a transmittance of 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm, for example, L11 in FIG.
  • Infrared absorbing glass having light transmission characteristics is used, and the point at which the transmittance becomes about 0% (less than 5%) is that the infrared absorbing action of the infrared absorbing body is combined with the infrared reflecting action of the infrared reflecting body. Therefore, it is adjusted to 700 nm.
  • the infrared cut filter of the present invention is higher in the visible region, particularly in the wavelength band of 600 nm to 700 nm, as compared with the conventional infrared cut filter made of infrared absorbing glass having the light transmission characteristics shown in L12 of FIG.
  • the transmittance can be maintained. That is, it is possible to transmit a sufficient amount of red light (wavelength of 600 nm to 700 nm) that can be sensed by the imaging device of the imaging device while cutting infrared rays having a wavelength exceeding 700 nm.
  • the infrared cut filter of the present invention to the infrared cut filter of the image pickup apparatus, the red sensitivity of the image pickup device is weak, and the disadvantage that the image picked up by the image pickup device tends to be a dark image can be solved. It becomes possible.
  • the amount of light reflected by the infrared reflector is suppressed by combining the infrared reflector with the infrared reflector.
  • the half-value wavelength (wavelength at which the transmittance is 50%) of the infrared reflector 3 is longer than the half-value wavelength of the infrared absorber 2, and the infrared reflector 3 absorbs infrared rays, thereby causing the infrared reflector 3 to
  • the amount of reflected light (infrared light) is suppressed. For this reason, generation
  • the thickness of the infrared absorbing glass having the light transmission characteristics shown in L11 of FIG. 7 having a transmittance of 50% at a wavelength of 640 nm has the light transmission characteristics shown in L12 of FIG. 7 used as a conventional infrared cut filter. As taught that the thickness is less than half of the thickness of the infrared absorbing glass, an infrared ray having a light transmission characteristic with a transmittance of 50% at a wavelength within the wavelength band of 620 nm to 670 nm constituting the infrared cut filter of the present invention.
  • an absorber having a thickness smaller than that of an infrared cut filter made of a conventional infrared absorbing glass having a light transmission characteristic indicated by L12 in FIG. 7 can be used. For this reason, with the same thickness or thin thickness as a conventional infrared cut filter composed only of an infrared absorber, the infrared ray is cut while sufficiently transmitting red visible light, and in the visible range, An infrared cut filter having near light transmission characteristics can be provided.
  • the infrared absorber has a light transmission characteristic such that the transmittance is 10% to 40% at a wavelength of 700 nm, and the infrared reflector has a transmittance at a wavelength of 700 nm. It may have a light transmission characteristic of less than 15%.
  • an infrared absorber having a light transmission characteristic with a transmittance of 10% to 40% at a wavelength of 700 nm, and an infrared reflector having a light transmission characteristic with a transmittance of less than 15% at a wavelength of 700 nm In combination, it is possible to reliably obtain high transmittance in the wavelength band of red visible light (600 nm to 700 nm).
  • the infrared reflector exhibits a transmittance of 80% or more at each wavelength within the wavelength band of 450 nm to 650 nm, and an average of the transmittance in the wavelength band of 450 nm to 650 nm. You may have the light transmission characteristic which is 90% or more.
  • the light transmission characteristic depending on the light transmission characteristic of the infrared absorber is obtained in the wavelength band of 450 nm to 650 nm. Therefore, the transmittance gradually decreases from the visible region to the infrared region, and the wavelength of 700 nm is reduced.
  • Light transmission characteristics close to the sensitivity characteristics of the human eye with a transmittance of about 0% at the wavelength can be obtained, and also high transmittance in the visible range, particularly in the wavelength band of red visible light (600 nm to 700 nm). Can be obtained.
  • one infrared reflector may be provided on one main surface of the one infrared absorber.
  • the imaging device incorporating the infrared cut filter can be reduced in thickness.
  • an infrared cut filter capable of cutting light having a wavelength exceeding 700 nm while sufficiently transmitting red visible light having a wavelength of 600 nm to 700 nm and suppressing generation of a ghost.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of an imaging apparatus using the infrared cut filter according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a partially enlarged view showing a schematic configuration of the infrared reflector of the infrared cut filter according to Embodiment 1.
  • FIG. 3 is a diagram showing the light transmission characteristics of the infrared cut filter according to Example 1 of the first embodiment.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating the light transmission characteristics of the infrared cut filter according to Example 2 of the first embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram showing the light transmission characteristics of the infrared cut filter according to Example 3 of the first embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an imaging apparatus using the infrared cut filter according to the second embodiment.
  • FIG. 7 is a diagram showing the light transmission characteristics of the infrared absorbing glass.
  • FIG. 8 is a diagram showing the light transmission characteristics of the infrared cut coat.
  • the infrared cut filter 1 As shown in FIG. 1, the infrared cut filter 1 according to the first exemplary embodiment is disposed between the imaging optical system 4 and the imaging device 5 arranged along the optical axis of the imaging optical path in the imaging apparatus.
  • the infrared cut filter 1 is formed by bonding an infrared absorber 2 that transmits visible light and absorbs infrared light, and an infrared reflector 3 that transmits visible light and reflects infrared light. That is, the infrared cut filter 1 is configured such that one infrared reflector 3 is provided on one main surface of one infrared absorber 2 (another main surface 212 of an infrared absorbing glass 21 described later).
  • the infrared absorber 2 is formed by forming an antireflection film 22 (AR coating) on one main surface 211 of the infrared absorbing glass 21.
  • AR coating antireflection film 22
  • the infrared absorbing glass 21 is a blue glass in which a pigment such as copper ions is dispersed, and for example, a rectangular thin glass having a thickness of 0.2 mm to 1.2 mm is used.
  • the antireflection film 22 with respect to one main surface 211 of the infrared absorbing glass 21, a single layer made of MgF 2, multilayer film made of Al 2 O 2 and ZrO 2 and MgF 2 Prefecture, TiO 2 and SiO 2 It is formed by vacuum-depositing any one of the multilayer films composed of the above by a known vacuum deposition apparatus (not shown).
  • the antireflection film 22 performs a vapor deposition operation while monitoring the film thickness, and closes a shutter (not shown) provided near the vapor deposition source (not shown) when the predetermined film thickness is reached. This is done by stopping the deposition.
  • Such an antireflection film 22 is formed so as to have a refractive index larger than the refractive index of the atmosphere (about 1.0) and smaller than the refractive index of the infrared absorbing glass 21 in the N atmosphere. .
  • Such an infrared absorber 2 has a light transmission characteristic in which the transmittance is 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm and the transmittance is 10% to 40% at a wavelength of 700 nm. Note that in the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 described above, the transmittance has a maximum value of 90% or more at a wavelength within the wavelength band of 400 nm to 550 nm.
  • the infrared reflector 3 has an infrared reflecting film 32 formed on one main surface 311 of the transparent substrate 31.
  • the transparent substrate 31 is a colorless transparent glass that transmits visible light and infrared light, for example, a rectangular thin plate glass having a thickness of 0.2 mm to 1.0 mm.
  • the infrared reflection film 32 is a multilayer film in which a plurality of first thin films 321 made of a high refractive index material and a plurality of second thin films 322 made of a low refractive index material are alternately stacked.
  • the TiO 2 used in the first thin film 321 has been using the SiO 2 to the second thin film 322, the odd layer in TiO 2, an even layer with SiO 2, the final layer is SiO While a 2, film design, if the final layer is a SiO 2, odd-numbered layers is in SiO 2, the even layer may be a TiO 2.
  • the infrared reflecting film 32 As a method of manufacturing the infrared reflecting film 32, TiO 2 and SiO 2 are alternately vacuum-deposited on a main surface 311 of the transparent substrate 31 by using a known vacuum deposition apparatus (not shown), and shown in FIG. Such a method of forming the infrared reflecting film 32 is used.
  • the film thickness of each thin film 321 and 322 is adjusted by performing a vapor deposition operation while monitoring the film thickness, and when a predetermined film thickness is reached, a shutter (not shown) provided in the vicinity of the vapor deposition source (not shown) is closed. For example, the deposition of the deposition material (TiO 2 , SiO 2 ) is stopped.
  • the infrared reflection film 32 includes a plurality of layers defined by ordinal numbers in order from the one main surface 311 side of the transparent substrate 31, one layer, two layers, three layers in the first embodiment. ⁇ It is composed of.
  • Each of the first layer, the second layer, the third layer,... Is formed by laminating a first thin film 321 and a second thin film 322.
  • the first thin film 321 and the second thin film 322 to be laminated have different optical thicknesses so that the thicknesses of the first layer, the second layer, the third layer,.
  • the optical film thickness here is calculated
  • the infrared reflector 3 exhibits a transmittance of 80% or more at each wavelength within the wavelength band of 450 nm to 650 nm, and exhibits an average transmittance of 90% or more in the wavelength band of 450 nm to 650 nm.
  • the transmittance is 50% at a wavelength in the wavelength band of 670 nm to 690 nm, and the transmittance is less than 15% at a wavelength of 700 nm.
  • the wavelength at which the infrared reflector 3 exhibits 50% transmittance is longer than the wavelength at which the infrared absorber 2 exhibits 50% transmittance.
  • the infrared cut filter 1 including the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 has a thickness of 0.4 mm to 1.6 mm, for example. That is, the total thickness of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 is, for example, 0, for the thickness of the infrared absorber glass 21 constituting the infrared absorber 2 and the thickness of the transparent substrate 31 constituting the infrared reflector 3. 4 mm to 1.6 mm.
  • the infrared cut filter 1 has a transmittance of 90% or more at a wavelength within a wavelength band of 450 nm to 550 nm, and a wavelength of 620 nm to 670 nm due to the combination of the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 described above.
  • the light transmission characteristic is such that the transmittance is 50% at a wavelength in the band and the transmittance is less than 5% at a wavelength of 700 nm.
  • Examples 1 to 3 Specific examples of the infrared cut filter 1 according to Embodiment 1 are shown below as Examples 1 to 3, and the wavelength characteristics and configurations of the infrared cut filters 1 according to Examples 1 to 3 are shown in FIGS. Tables 1 to 3 below show.
  • Example 1 a glass plate having a thickness of 0.8 mm and a refractive index of about 1.5 in N atmosphere was used as the infrared absorbing glass 21 with blue glass in which a pigment such as copper ions was dispersed. . Then, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.6 in the N atmosphere, a ZrO 2 film having a refractive index of 2.0 in the N atmosphere, and a Nr atmosphere in the main surface 211 of the infrared absorbing glass 21 Infrared absorber 2 was obtained by forming each film constituting antireflection film 22 by vacuum deposition in the order of the MgF 2 film having a refractive index of 1.4.
  • the infrared absorber 2 has light transmission characteristics as indicated by L1 in FIG.
  • the incident angle of the light beam is 0 degree, that is, the light beam is vertically incident.
  • the infrared absorbing glass 21 has a transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 550 nm, a decrease in the transmittance in the wavelength band of 550 nm to 700 nm, and a transmittance of 50% at a wavelength of about 640 nm.
  • the light transmission characteristic has a transmittance of about 17% at a wavelength of.
  • the transparent substrate 31 of the infrared reflector 3 a glass plate having a refractive index of 1.5 in the N atmosphere and a thickness of 0.3 mm was used. Further, as the first thin film 321 constituting the infrared reflecting film 32, TiO 2 having a refractive index of 2.30 in the N atmosphere is used, and as the second thin film 322, the refractive index in the N atmosphere is 1.46. SiO 2 was used, and the center wavelength thereof was 688 nm.
  • the optical film thickness of each of the thin films 321 and 322 is set to a value as shown in Table 1 by the method for manufacturing the infrared reflecting film 32 composed of 40 layers.
  • the respective thin films 321 and 322 were formed, and the infrared reflector 3 was obtained.
  • Table 1 shows the composition of the infrared reflecting film 32 of the infrared cut filter 1 and the optical film thickness of each thin film (first thin film 321 and second thin film 322).
  • the infrared reflector 3 has a light transmission characteristic as indicated by L2 in FIG. That is, the light transmission characteristics of the infrared reflector 3 (infrared reflective film 32) show a transmittance of about 100% in the wavelength band of 395 nm to 670 nm (wavelength band including the wavelength band of 450 nm to 650 nm), and the wavelength is When the wavelength exceeds about 670 nm, the transmittance sharply decreases, and the transmittance is 50% at a wavelength of about 680 nm, and the transmittance is about 4% at a wavelength of 700 nm.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 1 having a thickness of 1.1 mm is obtained by bonding the other main surface 312 of the transparent substrate 31 to the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21. Obtained.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 1 has the light transmission characteristics indicated by L3 in FIG. 3 in which the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 are combined. That is, the infrared cut filter 1 of Example 1 has a transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 550 nm, a decrease in the transmittance in the wavelength band of 550 nm to 700 nm, and a transmittance of 50 at a wavelength of about 640 nm. %, And has a light transmission characteristic such that the transmittance is about 0% at a wavelength of 700 nm.
  • Example 2 a glass plate having a thickness of 0.55 mm and a refractive index of about 1.5 in the N atmosphere was used as the infrared absorbing glass 21 with blue glass in which a pigment such as copper ions was dispersed. . Then, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.6 in the N atmosphere, a ZrO 2 film having a refractive index of 2.0 in the N atmosphere, and a Nr atmosphere in the main surface 211 of the infrared absorbing glass 21 Infrared absorber 2 was obtained by forming each film constituting antireflection film 22 by vacuum deposition in the order of the MgF 2 film having a refractive index of 1.4.
  • the infrared absorber 2 has light transmission characteristics as indicated by L5 in FIG.
  • the incident angle of the light beam is 0 degree, that is, the light beam is vertically incident.
  • the infrared absorbing glass 21 has a transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 550 nm, a decrease in the transmittance in the wavelength band of 550 nm to 700 nm, and a transmittance of 50% at a wavelength of about 650 nm.
  • the transparent substrate 31 of the infrared reflector 3 a glass plate having a refractive index of 1.5 in the N atmosphere and a thickness of 0.3 mm was used. Further, as the first thin film 321 constituting the infrared reflecting film 32, TiO 2 having a refractive index of 2.30 in the N atmosphere is used, and as the second thin film 322, the refractive index in the N atmosphere is 1.46. SiO 2 was used, and the center wavelength thereof was 748 nm.
  • the optical film thickness of each of these thin films 321 and 322 is set to a value as shown in Table 2, and the manufacturing method of the infrared reflecting film 32 composed of 40 layers described above is applied to one main surface 311 of the transparent substrate 31. Thus, the respective thin films 321 and 322 were formed, and the infrared reflector 3 was obtained.
  • Table 2 shows the composition of the infrared reflecting film 32 of the infrared cut filter 1 and the optical film thickness of each thin film (first thin film 321 and second thin film 322).
  • the infrared reflector 3 has light transmission characteristics as indicated by L6 in FIG.
  • the light transmission characteristics of the infrared reflector 3 have an average transmittance of 10% or less in the wavelength band of 380 nm to 420 nm, and when the wavelength exceeds 430 nm, the transmittance sharply increases.
  • the transmittance is about 100% (average 90% or more), and when the wavelength exceeds about 670 nm, the transmittance decreases sharply.
  • the light transmission characteristic is such that the transmittance is 50% at a wavelength of about 680 nm and the transmittance is about 3% at a wavelength of 700 nm.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 2 having a thickness of 0.85 mm is obtained by bonding the other main surface 312 of the transparent substrate 31 to the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21. Obtained.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 2 has a light transmission characteristic indicated by L7 in FIG. 4 in which the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 are combined. That is, the infrared cut filter 1 of Example 2 is configured to cut light in a wavelength band of 380 nm to 420 nm in addition to light having a wavelength exceeding 700 nm, and has a transmittance in the wavelength band of 380 nm to 420 nm.
  • the transmittance sharply increases, the transmittance is 90% or more in the wavelength band of 450 nm to 550 nm, and the transmittance decreases in the wavelength band of 550 nm to 700 nm.
  • the light transmission characteristic is such that the transmittance is 50% at a wavelength of 650 nm and the transmittance is about 0% at a wavelength of 700 nm.
  • Example 3 a glass plate having a thickness of 0.45 mm and a refractive index of about 1.5 in the N atmosphere was used as the infrared absorbing glass 21 with blue glass in which a pigment such as copper ions was dispersed. . Then, an Al 2 O 3 film having a refractive index of 1.6 in the N atmosphere, a ZrO 2 film having a refractive index of 2.0 in the N atmosphere, and a Nr atmosphere in the main surface 211 of the infrared absorbing glass 21 Infrared absorber 2 was obtained by forming each film constituting antireflection film 22 by vacuum deposition in the order of the MgF 2 film having a refractive index of 1.4.
  • the infrared absorber 2 has light transmission characteristics as indicated by L8 in FIG.
  • the incident angle of the light beam is 0 degree, that is, the light beam is vertically incident.
  • the infrared absorption glass 21 has a transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 550 nm, a decrease in the transmittance in the wavelength band of 550 nm to 700 nm, and a transmittance of 50% at a wavelength of about 670 nm.
  • the light transmission characteristic has a transmittance of about 34% at a wavelength of.
  • Example 1 As the transparent substrate 31 of the infrared reflector 3, a glass plate having a refractive index of 1.5 in N atmosphere and a thickness of 0.3 mm was used as in Example 1. Similarly to Example 1, TiO 2 having a refractive index of 2.30 in the N atmosphere is used as the first thin film 321 constituting the infrared reflecting film 32, and the refraction in the N atmosphere is used as the second thin film 322. SiO 2 having a ratio of 1.46 was used, and the center wavelength thereof was 688 nm.
  • the optical film thickness of each of these thin films 321 and 322 is set to the value shown in Table 1 above.
  • the thin films 321 and 322 were formed on one main surface 311 of 31 to obtain the infrared reflector 3.
  • the infrared reflector 3 has light transmission characteristics as indicated by L9 in FIG. As described above, in Example 3, the infrared reflector 3 was obtained in the same manner as in Example 1. However, the infrared reflector 3 (infrared reflective film 32) of Example 3 was obtained in Example 1 due to manufacturing errors.
  • This light transmission characteristic L9 is slightly different from the light transmission characteristic L2 (see FIG. 3) of the infrared reflector 3 (infrared reflective film 32). Specifically, the light transmission characteristic L9 of the infrared reflector 3 (infrared reflective film 32) of Example 3 shows a transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 440 nm, and within the wavelength band of 450 nm to 650 nm.
  • the infrared reflector 3 infrared reflective film 32
  • the light transmission characteristics of the infrared reflector 3 show that when the wavelength exceeds about 670 nm, the transmittance sharply decreases, and shows a transmittance of 50% at a wavelength of about 680 nm. Shows a transmittance of about 5%.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 3 having a thickness of 0.75 mm is obtained by bonding the other main surface 312 of the transparent substrate 31 to the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21. Obtained.
  • the infrared cut filter 1 according to Example 3 has a light transmission characteristic indicated by L10 in FIG. 5 in which the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 are combined.
  • the infrared cut filter 1 of Example 3 has an average transmittance of 90% or more in the wavelength band of 400 nm to 550 nm, the transmittance decreases in the wavelength band of 550 nm to 700 nm, and the transmittance at a wavelength of about 670 nm.
  • the infrared cut filter 1 As shown in the light transmission characteristics L3, L7, and L10 (see FIGS. 3 to 5) of the infrared cut filters 1 of Examples 1 to 3 described above, the infrared cut filter 1 according to the first embodiment has an infrared absorber. 2 and the infrared reflector 3, the transmittance is 90% or more at a wavelength in the wavelength band of 450 nm to 550 nm, and the transmittance is 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm. Light transmission characteristics can be obtained with a transmittance of about 0% (less than 5%) at the wavelength.
  • the transmittance in the wavelength band of 380 nm to 420 nm specifically, the transmittance in the wavelength band influenced by ultraviolet rays that are invisible to human eyes. Since the average is suppressed to 10% or less, the light transmission characteristics closer to the human eye sensitivity characteristics can be obtained as compared with the infrared cut filters according to the first and third embodiments.
  • the light transmission characteristics L3, L7, and L10 of the infrared cut filters 1 according to Examples 1 to 3 shown in FIGS. 3 to 5 will be described more specifically by comparison with the light transmission characteristics L4 of the conventional infrared cut filter.
  • a conventional infrared cut filter having a light transmission characteristic indicated by L4 in FIGS. 3 to 5 is composed of an infrared absorber in which an antireflection film is formed on both surfaces of an infrared absorption glass.
  • the point at which the transmittance is about 0% is set to 700 nm by setting the thickness of the infrared absorbing glass, which is an infrared absorber, to 1.6 mm.
  • the thickness is less than half that of a conventional infrared cut filter (infrared absorber) having L4 light transmission characteristics, and the visible region, particularly 600 nm to Infrared reflector 3 is combined with infrared absorber 2 having a higher transmittance than a conventional infrared cut filter in the wavelength band of 700 nm, that is, infrared absorber 2 having light transmission characteristics indicated by L1, L5, or L8.
  • the point at which the transmittance is about 0% is set to 700 nm.
  • the light transmission characteristics L3, L7, and L10 of the infrared cut filter 1 according to Examples 1 to 3 are the same as the light transmission characteristics L4 of the conventional infrared cut filter in the visible light range, particularly in the wavelength band of 600 nm to 700 nm. Compared with high transmittance. Further, in the light transmission characteristics L3, L7, and L10 of the infrared cut filter 1 according to Examples 1 to 3, the transmittance with respect to a light beam having a wavelength of 700 nm is more 0 than the light transmission characteristic L4 of the conventional infrared cut filter. %.
  • the transmittance at a wavelength of 600 nm is about 55%
  • the transmittance is about 50% at a wavelength of about 605 nm
  • the transmittance is about 605 nm. 7.5%
  • the transmittance is about 3% at a wavelength of 700 nm.
  • the transmittance at a wavelength of 600 nm is about 75%, and the transmittance is about 50% at a wavelength of about 640 nm.
  • the transmittance is about 20% at a wavelength of 675 nm, and the transmittance is about 0% at a wavelength of 700 nm.
  • the transmittance at a wavelength of 600 nm is about 80%, the transmittance is about 50% at a wavelength of about 650 nm, and 675 nm.
  • the transmittance is about 30% at the wavelength, and the transmittance is about 0% at the wavelength of 700 nm. Furthermore, in the light transmission characteristic L10 (see FIG. 5) of the infrared cut filter 1 according to Example 3, the transmittance at a wavelength of 600 nm is about 85%, the transmittance is about 50% at a wavelength of about 670 nm, and 675 nm. The transmittance is about 40% at the wavelength, and the transmittance is about 0% at the wavelength of 700 nm.
  • the light transmission characteristics L3, L7, and L10 of the infrared cut filters 1 according to Examples 1 to 3 are 600 nm to 700 nm, particularly 600 nm, compared with the light transmission characteristics L4 of the conventional infrared cut filter.
  • the transmittance at a wavelength band of ⁇ 675 nm is high, and the transmittance at a wavelength of 700 nm is close to 0%. That is, the infrared cut filter 1 according to Examples 1 to 3 sufficiently transmits red visible light having a wavelength of 600 nm to 700 nm while sufficiently cutting infrared light exceeding 700 nm as compared with the conventional infrared cut filter.
  • the imaging device 5 can capture an image with a stronger reddish hue than in the past, and can be used in a dark place. It becomes possible to capture an image brightly.
  • the amount of light reflected by the infrared reflector 2 is suppressed by combining the infrared reflector 2 with the infrared reflector 3.
  • the half-value wavelength of the infrared reflector 3 is about 680 nm as shown in FIG. 3, and is longer than the half-value wavelength (about 640 nm) of the infrared absorber 2.
  • the half value wavelength of the infrared reflector 3 is about 680 nm as shown in FIG.
  • the half-value wavelength of the infrared reflector 3 is about 680 nm as shown in FIG. 5 and is longer than the half-value wavelength (about 670 nm) of the infrared absorber 2.
  • the half-value wavelength of the infrared reflector 3 (the wavelength at which the transmittance is 50%) is longer than the half-value wavelength of the infrared absorber 2, and the infrared absorber 2 at the intersection P where the transmittance curves indicating the light transmission characteristics L1, L5 and L8 of the infrared ray 3 and the transmittance curves indicating the light transmission characteristics L2, L6 and L9 of the infrared reflector 3 intersect (the transmission of the infrared absorber 2).
  • the wavelength at which the rate and the transmittance of the infrared reflector 3 are the same) is longer than the half-value wavelength of the infrared absorber 2.
  • the transmittance of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 at the wavelength of the intersection P is 50% or less. For this reason, in the infrared cut filter 1 according to the first to third embodiments, the amount of light reflected by the infrared reflector 3 is suppressed by the absorption of infrared rays by the infrared absorber 2, and the amount of light reflected by the infrared reflector 2 is reduced. Generation of flare and ghost due to reflection is suppressed.
  • the half-value wavelength of the infrared reflector 3 is longer than the half-value wavelength of the infrared absorber 2, and the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3
  • the half-value wavelength of the infrared cut filter 1 by the combination is configured to substantially match the half-value wavelength of the infrared absorber 2.
  • the half-wavelength of the infrared cut filter 1 is set by the infrared absorber 2 with less variation in transmittance due to design error compared to the infrared reflector 3, in manufacturing the infrared cut filter 1
  • the infrared reflector 3 exhibits a transmittance of 80% or more at each wavelength within the wavelength band of 450 nm to 650 nm, and 450 nm to 650 nm.
  • the light transmission characteristic has an average transmittance of 90% or more in the wavelength band.
  • the infrared cut filter 1 can obtain light transmission characteristics depending on the light transmission characteristics of the infrared absorber 2 in the wavelength band of 450 nm to 650 nm, so that the transmittance gradually decreases from the visible range to the infrared range.
  • the infrared reflector 3 has a transmittance of 90% or more with respect to the light beam having the half-value wavelength of the infrared absorber 2 so that the half-value wavelength of the infrared cut filter 1 and the half-value wavelength of the infrared absorber 2 substantially coincide with each other. Therefore, the infrared cut filter 1 is provided with a light transmission characteristic close to the sensitivity characteristic of the human eye whose transmittance gradually decreases at a wavelength of 550 nm to 700 nm of the infrared absorber. The light transmission characteristic close to the sensitivity characteristic is obtained.
  • the infrared absorber 2 can be configured with a thickness smaller than that of the conventional infrared cut filter having the light transmission characteristics indicated by L4. For this reason, the thickness of the infrared cut filter 1 can be the same as the conventional infrared cut filter or thinner than the conventional infrared cut filter.
  • the infrared cut filter 1 ⁇ / b> A according to the second embodiment is arranged between the imaging optical system 4 and the imaging device 5 arranged along the optical axis of the imaging optical path in the imaging apparatus.
  • the infrared cut filter 1A includes an infrared absorber 2A that absorbs infrared rays and an infrared reflector 3A that reflects infrared rays.
  • the infrared absorber 2A and the infrared reflector 3A are disposed apart from each other between the imaging optical system 4 and the imaging device 5 arranged along the optical axis of the imaging optical path. Note that the infrared absorber 2A is disposed closer to the imaging optical system 4 than the infrared reflector 3A.
  • the infrared absorber 2A is formed by forming antireflection films 22 on both main surfaces 211 and 212 of the infrared absorbing glass 21.
  • the infrared absorbing glass 21 is a blue glass in which a pigment such as copper ion is dispersed, as in the infrared absorbing glass 21 of the infrared absorber 2 shown in the first embodiment, and has a thickness of 0.2 mm to 1 mm, for example. .2mm square sheet glass is used.
  • the antireflection film 22 with respect to both main surfaces 211 and 212 of the infrared absorbing glass 21, a single layer made of MgF 2, multilayer film made of Al 2 O 2 and ZrO 2 and MgF 2 Prefecture, TiO 2 and SiO 2 is formed by vacuum deposition using a known vacuum deposition apparatus (not shown).
  • the antireflection film 22 performs a vapor deposition operation while monitoring the film thickness, and closes a shutter (not shown) provided near the vapor deposition source (not shown) when the predetermined film thickness is reached. This is done by stopping the deposition.
  • Such an antireflection film 22 is formed so as to have a refractive index larger than the refractive index of the atmosphere (about 1.0) and smaller than the refractive index of the infrared absorbing glass 21 in the N atmosphere. .
  • Such an infrared absorber 2A has the same light transmission characteristics as the infrared absorber 2 of the first embodiment because it uses the same infrared absorbing glass 21 as that of the first embodiment. That is, it has a light transmission characteristic in which the transmittance is 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm and the transmittance is 10% to 40% at a wavelength of 700 nm. In the light transmission characteristics of such an infrared absorber 2A, the transmittance has a maximum value of 90% or more at a wavelength in the wavelength band of 400 nm to 550 nm.
  • the infrared reflector 3A has an infrared reflection film 32 formed on one main surface 311 of the transparent substrate 31 and an antireflection film 33 formed on the other main surface 312. As shown in FIG. 6, the infrared reflector 3 ⁇ / b> A is arranged such that the surface on the infrared reflective film 32 side faces the imaging device 5 in the imaging apparatus.
  • the transparent substrate 31 is a colorless transparent glass that transmits visible light and infrared rays, similar to the transparent substrate 31 shown in the first embodiment, for example, a rectangular thin plate glass having a thickness of 0.2 mm to 1.0 mm. I use it.
  • the infrared reflective film 32 As the infrared reflective film 32, a plurality of first thin films 321 made of a high refractive index material similar to the infrared reflective film 32 shown in the first embodiment and a plurality of second thin films 322 made of a low refractive index material are alternately laminated. A multilayer film is used.
  • Such an infrared reflector 3A has the same light transmission characteristics as the infrared reflector 3 of the first embodiment since the infrared reflector 32 similar to that of the first embodiment is formed on the transparent substrate 31. That is, the infrared reflector 3A exhibits a transmittance of 80% or more at each wavelength within the wavelength band of 450 nm to 650 nm, and exhibits an average transmittance of 90% or more in the wavelength band of 450 nm to 650 nm, and is 670 nm to 690 nm.
  • the light transmittance is 50% at a wavelength within the wavelength band of, and the transmittance is less than 15% at a wavelength of 700 nm.
  • the wavelength at which the infrared reflector 3A exhibits a transmittance of 50% is longer than the wavelength at which the infrared absorber 2 exhibits a transmittance of 50%.
  • the antireflection film 22 performs a vapor deposition operation while monitoring the film thickness, and closes a shutter (not shown) provided near the vapor deposition source (not shown) when the predetermined film thickness is reached. This is done by stopping the deposition.
  • Such an antireflection film 33 is formed so as to have a refractive index larger than the refractive index of the atmosphere (about 1.0) and smaller than the refractive index of the transparent substrate 31 in the N atmosphere.
  • the total thickness of the infrared absorber 2A and the infrared reflector 3A is, for example, 0.4 to 1.6 mm. That is, the thickness of the infrared absorber glass 21 constituting the infrared absorber 2 and the thickness of the transparent substrate 31 constituting the infrared reflector 3 are, for example, the sum of the thicknesses of the infrared absorber 2 and the infrared reflector 3 being 0. 0. 0. It is appropriately adjusted so as to be 4 mm to 1.6 mm.
  • the light transmission characteristics similar to those of the infrared cut filter 1 according to the first embodiment can be obtained by combining the light transmission characteristics of the infrared absorber 2A and the infrared reflector 3A. That is, light having a transmittance of 90% or more at a wavelength in the wavelength band of 450 nm to 550 nm, a transmittance of 50% at a wavelength in the wavelength band of 620 nm to 670 nm, and a transmittance of less than 5% at a wavelength of 700 nm. Transmission characteristics are obtained.
  • the infrared cut filter 1A according to the second embodiment can obtain the same light transmission characteristics as those of the infrared cut filter 1 according to the first embodiment, and thus the same as the infrared cut filter 1 according to the first embodiment. There is an effect.
  • a glass plate is used as the transparent substrate 31, but the present invention is not limited to this.
  • a quartz plate can be used as long as the substrate can transmit light.
  • the transparent substrate 31 may be a birefringent plate or a birefringent plate composed of a plurality of sheets. Moreover, you may comprise the transparent substrate 31 combining a quartz plate and a glass plate.
  • TiO 2 is used for the first thin film 321, but the present invention is not limited to this, and it is only necessary that the first thin film 321 is made of a high refractive material.
  • ZrO 2 , TaO 2 , Nb 2 O 2 or the like may be used.
  • SiO 2 is used for the second thin film 322, the present invention is not limited to this, and the second thin film 322 may be made of a low refractive material, and for example, MgF 2 or the like may be used.
  • the infrared cut filters 1 and 1A of Embodiments 1 and 2 are arranged in the imaging apparatus so that the infrared absorbers 2 and 2A are located closer to the imaging optical system 4 than the infrared reflectors 3 and 3A.
  • the infrared cut filters 1 and 1A may be arranged so that the infrared reflectors 3 and 3A are located closer to the imaging optical system 4 than the infrared absorbers 2 and 2A.
  • the infrared cut filters 1 and 1A when the infrared cut filters 1 and 1A are arranged so that the infrared absorbers 2 and 2A are positioned on the imaging optical system 4 side, the light reflected by the infrared reflectors 3 and 3A is infrared rays. Since the light can be absorbed by the absorbers 2 and 2A, the image is reflected by the infrared reflectors 3 and 3A as compared with the case where the infrared reflectors 3 and 3A are arranged on the imaging optical system 4 side. The amount of light scattered by the optical system 4 can be reduced, and the occurrence of ghost can be suppressed.
  • the infrared absorbers 2 and 2A are provided on the imaging optical system 4 side.
  • the distance between the infrared reflectors 3 and 3A and the imaging device 5, more specifically, the distance between the foreign matter generated in the infrared reflectors 3 and 3A during the manufacturing process and the imaging device 5 is larger than the case where the imaging device 5 is disposed. Therefore, it is possible to suppress the deterioration of the image due to the foreign matter.
  • the infrared absorbers 2 and 2A one main surface 211 of the infrared absorbing glass 21 or one having the antireflection film 22 formed on both main surfaces 211 and 212 is used.
  • the infrared absorbers 2 and 2A referred to in the present invention are not limited to this.
  • the antireflection film 22 may not be formed. That is, you may use the infrared rays absorption glass in which the antireflection film is not formed as an infrared rays absorber.
  • the infrared reflector 3 is formed by forming the infrared reflecting film 32 on the one principal surface 311 of the transparent substrate 31 bonded to the other principal surface 212 of the infrared absorbing glass 21.
  • the infrared reflector 3A the one in which the infrared reflecting film 32 is formed on one main surface 311 of the transparent substrate 31 and the antireflection film 33 is formed on the other main surface 312 is used.
  • the infrared reflectors 3 and 3A are not limited to this.
  • an infrared reflecting film formed on the surface of infrared absorbing glass may be used as an infrared reflector.
  • the infrared reflecting film 32 is formed on one main surface 311 of the transparent substrate 31 bonded to the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21, but the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21.
  • an infrared reflection film 32 as an infrared absorber may be directly formed.
  • TiO 2 and SiO 2 are alternately vacuum-deposited on the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21, so that the infrared reflecting film 32 as an infrared absorber becomes the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21. It may be formed.
  • the infrared reflective film 32 is formed directly on the other main surface 212 of the infrared absorbing glass 21, the infrared cut filter 1 can be thinned.
  • the antireflection film 33 is formed on the other main surface 312 of the transparent substrate 31.
  • the refractive index in the atmosphere of the transparent substrate 31 is substantially the same as the refractive index in the atmosphere.
  • the antireflection film 33 may not be formed.
  • the present invention can be applied to an infrared cut filter that transmits light in the visible range and cuts infrared rays.

Abstract

 波長が600nm~700nmの赤色の可視光線を十分に透過しつつ、波長が700nmを超える光線をカットすることができ、且つ、ゴーストの発生を抑制することができる赤外線カットフィルタを提供する 赤外線カットフィルタ1を赤外線吸収体2と赤外線反射体3とから構成する。ここで、赤外線吸収体2は、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を示し、赤外線反射体3は、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を示し、赤外線反射体3が50%の透過率を示す波長は、赤外線吸収体2が50%の透過率を示す波長よりも長く、赤外線吸収体2と赤外線反射体3の組み合わせにより、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が5%未満となる光透過特性を示す。

Description

赤外線カットフィルタ
 本発明は、可視域の光線を透過し、且つ赤外線をカットする赤外線カットフィルタに関する。
 一般的なビデオカメラやデジタルスチルカメラ等に代表される電子カメラの光学系では、光軸に沿って被写体側より、結像光学系、赤外線カットフィルタ、光学ローパスフィルタ、CCD(Charge Coupled Device )又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の撮像デバイスが順に配設されている(例えば、特許文献1参照。)。
 ここでいう撮像デバイスは、人の目が視認可能な波長帯域(可視域)の光線よりも広い波長帯域の光線に応答する感度特性を有しており、可視域に加えて、赤外域の光線にも応答する。
 具体的には、人の目は、暗所において400nm~620nm程度の範囲の波長の光線に応答し、明所において420nm~700nm程度の範囲の波長の光線に応答する。これに対し、例えば、CCDは、400nm~700nmの範囲の波長の光線に加えて、さらに、700nmを越える波長の光線にも応答する。
 このため、下記する特許文献1に記載の撮像デバイスでは、撮像デバイスであるCCDのほかに赤外線カットフィルタを設けて、撮像デバイスに赤外域の光線を到達させないようにし、人の目に近い撮像画像が得られるようにしている。
特開2000-209510号公報
 ところで、ここでいう赤外線カットフィルタとしては、これまで、可視域の光線(可視光線)を透過し且つ赤外域の光線(赤外線)を吸収する赤外線吸収ガラスや、可視光線を透過し且つ赤外線を反射する赤外線カットコートなどがある。
 赤外線吸収ガラスとしては、例えば、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスが掲げられる。
 赤外線カットコートとしては、例えば、TiO2 、ZrO2 、Ta2 O5 、Nb2等の高屈折率物質と、SiO2 、MgF等の低屈折率物質とを透明基板上に交互に積層して数十層とした誘電体多層膜が掲げられる。
 これら赤外線吸収ガラスと赤外線カットコートとを図7及び図8を用いて以下に説明する。
 図7は、厚さの異なる2つの赤外線吸収ガラスの光透過特性L11,L12を示している。具体的には、L11の光透過特性を示す赤外線吸収ガラスの厚みは、L12の光透過特性を示す赤外線吸収ガラスの厚みの半分以下とされている。
 赤外線カットフィルタとして、赤外線吸収ガラスを用いた場合、図7のL11及びL12に示すように、可視域から赤外域に亘って、人の目の感度特性に近い「緩やかに透過率が減少する特性」を得ることができる。また、L11とL12の比較から認められるように、赤外線吸収ガラスの可視域での透過率、特に、600nm~700nmの波長帯域における透過率は、厚みが薄いほど高い。
 例えば、図7のL11に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスは、700nmの波長の光線に対して約10%の透過率を有しており、750nm程度の波長の光線を透過する。このため、赤外域の光線を十分にカットすることができず、撮像デバイスに、人の目が感知できない赤外域の画像を撮像させてしまう。
 これに対して、L11に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスの2倍以上の厚みを有する赤外線吸収ガラスでは、L12の光透過特性に示されるように、700nmの波長の光線に対する透過率が約0%であり、700nmを超える波長の光線を十分にカットすることが可能である。
 よって、従来の赤外線カットフィルタには、L12に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスが用いられていた。
 しかし、赤外線カットフィルタとして、L12に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスを用いた場合には、600nmの波長で透過率が約50%となる光透過特性を示すため、640nmの波長で透過率が約50%となるL11に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスを用いた場合に比べて、波長が600nm~700nmの赤色の可視光線に対する透過率が低く、赤色の可視光線を十分に透過させることができないという不都合を生じる。CCD又はCMOS等の撮像デバイスの撮像素子は、青色や緑色に比べて、赤色の感度が低い。このため、赤色の可視光線の透過が不十分であると、撮像素子で赤色を十分に感知することができず、撮像デバイスで撮像した画像は赤みの弱い暗い画像となる。
 このように、赤外線カットフィルタとして赤外線吸収ガラスを用いた場合には、赤色の可視光線を十分に透過しつつ、透過率が約0%となるポイントを700nmに合わせることができなかった。
 次に、赤外線カットフィルタとして赤外線カットコートを用いた場合、図8のL13に示すように、可視域から赤外域に亘って「透過率が急峻に減少する特性」を得ることができる。このため、赤色の可視光線を十分に透過しつつ、透過率が約0%となるポイントを700nmに合わせ込むことが容易である。
 しかしながら、赤外線カットコートは、赤外線を吸収して遮断するのではなく、赤外線を反射して遮断するものである。このため、赤外線カットコートは、当該赤外線カットコートと結像光学系との間で光の反射が繰り返されることに起因するゴーストの発生を促していた。
 本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであって、波長が600nm~700nmの赤色の可視光線を十分に透過しつつ、波長が700nmを超える光線をカットすることができ、且つ、ゴーストの発生を抑制することができる赤外線カットフィルタを提供することを目的とする。
 本発明に係る赤外線カットフィルタは、赤外線をカットする赤外線カットフィルタであって、赤外線を吸収する赤外線吸収体と、赤外線を反射する赤外線反射体とを備え、前記赤外線吸収体は、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を有し、前記赤外線反射体は、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を有し、前記赤外線反射体が50%の透過率を示す波長は、前記赤外線吸収体が50%の透過率を示す波長よりも長く、前記赤外線吸収体と前記赤外線反射体の組み合わせにより、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が5%未満となる光透過特性を有することを特徴とする。
 この赤外線カットフィルタによれば、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を示す赤外線吸収体と、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を示す赤外線反射体との組み合わせにより、可視域から赤外域に亘って、緩やかに透過率が減少し、700nmの波長で透過率が約0%となる人の目の感度特性に近い光透過特性を得ることができる。
 また、本発明の赤外線カットフィルタにおいて、赤外線吸収体には、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を示す赤外線吸収体、例えば、図7のL11に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスが用いられており、透過率が約0%(5%未満)となるポイントは、赤外線吸収体での赤外線吸収作用に赤外線反射体での赤外線反射作用を組み合わせることにより、700nmに合わせられている。このため、本発明の赤外線カットフィルタは、図7のL12に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスからなる従来の赤外線カットフィルタと比べて、可視域、特に、600nm~700nmの波長帯域で、高い透過率を維持することができる。つまり、波長が700nmを超える赤外線をカットしつつ、撮像デバイスの撮像素子で感知し得る十分な量の赤色の光線(波長が600nm~700nmの光線)を透過させることができる。よって、撮像装置の赤外線カットフィルタに、本発明の赤外線カットフィルタを適用することで、撮像素子の赤色の感度が弱く、撮像デバイスで撮像した画像が暗い画像になり易いという欠点を解消することが可能となる。
 また、本発明の赤外線カットフィルタでは、赤外線反射体に赤外線吸収体を組み合わせることで、赤外線反射体によって反射される光の量が抑制されている。具体的には、赤外線反射体3の半値波長(透過率が50%となる波長)が赤外線吸収体2の半値波長よりも長く、赤外線吸収体2での赤外線の吸収により、赤外線反射体3によって反射される光(赤外光)の量が抑制される。このため、赤外線反射体での光の反射によるゴーストの発生を抑制することができる。
 また、640nmの波長で透過率が50%となる図7のL11に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスの厚みが、従来の赤外線カットフィルタとして用いられる図7のL12に示す光透過特性を有する赤外線吸収ガラスの厚みの半分以下であることに教示されるように、本発明の赤外線カットフィルタを構成する620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を有する赤外線吸収体には、図7のL12に示す光透過特性を有する従来の赤外線吸収ガラスからなる赤外線カットフィルタよりも厚みの薄いものを使用できる。このため、赤外線吸収体のみで構成された従来の赤外線カットフィルタと同じ厚み又は薄い厚みで、赤色の可視光線を十分に透過しつつ、赤外線をカットし、且つ、可視域において、人の目に近い光透過特性を有する赤外線カットフィルタを提供できる。
 また、本発明に係る赤外線カットフィルタにおいて、赤外線吸収体は、700nmの波長で透過率が10%~40%となる光透過特性を有し、前記赤外線反射体は、700nmの波長で透過率が15%未満となる光透過特性を有してもよい。
 この赤外線カットフィルタでは、700nmの波長で透過率が10%~40%となる光透過特性を示す赤外線吸収体と、700nmの波長で透過率が15%未満となる光透過特性を示す赤外線反射体との組み合わせにより、赤色の可視光線の波長帯域(600nm~700nm)で高い透過率を確実に得ることができる。
 また、本発明に係る赤外線カットフィルタにおいて、前記赤外線反射体は、450nm~650nmの波長帯域内の各波長で80%以上の透過率を示し、450nm~650nmの波長帯域での透過率の平均が90%以上である光透過特性を有してもよい。
 この赤外線カットフィルタでは、450nm~650nmの波長帯域で赤外線吸収体の光透過特性に依存した光透過特性が得られるから、可視域から赤外域に亘って、緩やかに透過率が減少し、700nmの波長で透過率が約0%となる人の目の感度特性に近い光透過特性を得ることができる上に、可視域、特に、赤色の可視光線の波長帯域(600nm~700nm)で高い透過率を得ることができる。
 また、本発明に係る赤外線カットフィルタにおいて、1つの前記赤外線吸収体の一主面に、1つの前記赤外線反射体が設けられていてもよい。
 この赤外線カットフィルタでは、1つの赤外線吸収体の一主面に1つの赤外線反射体が設けられているから、赤外線吸収体と赤外線反射体とが個別に設けられてなる赤外線カットフィルタと比べて、薄型化が可能であり、当該赤外線カットフィルタが内蔵される撮像装置を薄型化することができる。
 本発明によれば、波長が600nm~700nmの赤色の可視光線を十分に透過しつつ、波長が700nmを超える光線をカットすることができ、且つ、ゴーストの発生を抑制することができる赤外線カットフィルタを提供することができる。
図1は、実施の形態1に係る赤外線カットフィルタを用いてなる撮像装置の概略構成を示す概略模式図である。 図2は、実施の形態1に係る赤外線カットフィルタの赤外線反射体の概略構成を示す部分拡大図である。 図3は、実施の形態1の実施例1に係る赤外線カットフィルタの光透過特性を示す図である。 図4は、実施の形態1の実施例2に係る赤外線カットフィルタの光透過特性を示す図である。 図5は、実施の形態1の実施例3に係る赤外線カットフィルタの光透過特性を示す図である。 図6は、実施の形態2に係る赤外線カットフィルタを用いてなる撮像装置の概略構成を示す概略模式図である。 図7は、赤外線吸収ガラスの光透過特性を示す図である。 図8は、赤外線カットコートの光透過特性を示す図である。
 以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
 <実施の形態1>
 本実施の形態1にかかる赤外線カットフィルタ1は、図1に示すように、撮像装置において、撮像光路の光軸に沿って配列された結像光学系4と撮像デバイス5との間に配置される。
 この赤外線カットフィルタ1は、可視光線を透過し、且つ赤外線を吸収する赤外線吸収体2と、可視光線を透過し、且つ赤外線を反射する赤外線反射体3とが接着されてなる。つまり、赤外線カットフィルタ1は、1つの赤外線吸収体2の一主面(後述する赤外線吸収ガラス21の他主面212)に、1つの赤外線反射体3が設けられた構成とされている。
 赤外線吸収体2は、赤外線吸収ガラス21の一主面211に反射防止膜22(ARコート)が形成されてなる。
 赤外線吸収ガラス21としては、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスで、例えば、厚さが0.2mm~1.2mmの方形薄板状のガラスが使用される。
 また、反射防止膜22は、赤外線吸収ガラス21の一主面211に対して、MgF2からなる単層、Al22とZrO2とMgF2とからなる多層膜、TiO2とSiO2とからなる多層膜のいずれかの膜を周知の真空蒸着装置(図示省略)によって真空蒸着することにより形成される。なお、反射防止膜22は、膜厚をモニタしながら蒸着動作を行い、所定の膜厚に達したところで蒸着源(図示省略)近傍に設けられたシャッター(図示省略)を閉じるなどして蒸着物質の蒸着を停止することにより行われる。このような反射防止膜22は、N大気中において、大気の屈折率(約1.0)よりも大きく、且つ、赤外線吸収ガラス21の屈折率よりも小さい屈折率を有するように形成されている。
 このような赤外線吸収体2は、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となって、700nmの波長で透過率が10%~40%となる光透過特性を有する。なお、このような赤外線吸収体2の光透過特性において、透過率は、400nm~550nmの波長帯域内の波長で90%以上の最大値となる。
 赤外線反射体3は、透明基板31の一主面311に赤外線反射膜32が形成されてなる。
 透明基板31としては、可視光線及び赤外線を透過する無色透明ガラスで、例えば、厚さが0.2mm~1.0mmの方形薄板状のガラスを使用している。
 赤外線反射膜32は、図2に示すように、高屈折率材料からなる第1薄膜321と、低屈折率材料からなる第2薄膜322とが交互に複数積層された多層膜である。なお、この実施の形態1では、第1薄膜321にTiO2を用い、第2薄膜322にSiO2を用いていており、奇数層がTiO2で、偶数層がSiO2で、最終層がSiO2となっているが、膜設計上、最終層がSiO2であれば、奇数層がSiO2で、偶数層がTiO2となっていてもよい。
 この赤外線反射膜32の製造方法としては、透明基板31の一主面311に対して、周知の真空蒸着装置(図示省略)によってTiO2とSiO2とを交互に真空蒸着し、図2に示すような赤外線反射膜32を形成する方法が用いられる。なお、各薄膜321,322の膜厚調整は、膜厚をモニタしながら蒸着動作を行い、所定の膜厚に達したところで蒸着源(図示省略)近傍に設けられたシャッター(図示省略)を閉じるなどして蒸着物質(TiO2 、SiO2)の蒸着を停止することにより行われる。
 また、赤外線反射膜32は、図2に示すように、透明基板31の一主面311側から順に序数詞で定義される複数層、本実施の形態1では1層、2層、3層・・・から構成されている。これら1層、2層、3層・・・それぞれの層は、第1薄膜321と第2薄膜322とが積層されて構成されている。これら積層される第1薄膜321と第2薄膜322との光学膜厚が異なることにより1層、2層、3層・・・それぞれの厚さが異なる。なお、ここでいう光学膜厚は、下記する数式1により求められる。
 [数式1]
 Nd=d×N×4/λ(Nd:光学膜厚、d:物理膜厚、N:屈折率、λ:中心波長)
 本実施の形態において、赤外線反射体3は、450nm~650nmの波長帯域内の各波長で80%以上の透過率を示し、この450nm~650nmの波長帯域で平均90%以上の透過率を示して、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が15%未満となる光透過特性を有する。また、この赤外線反射体3が50%の透過率を示す波長は、赤外線吸収体2が50%の透過率を示す波長よりも長い。
 このような赤外線吸収体2と赤外線反射体3とからなる赤外線カットフィルタ1は、例えば0.4mm~1.6mmの厚さを有する。つまり、赤外線吸収体2を構成する赤外線吸収体ガラス21の厚み、及び赤外線反射体3を構成する透明基板31の厚みは、赤外線吸収体2と赤外線反射体3の厚みの合計が、例えば、0.4mm~1.6mmとなる。
 そして、赤外線カットフィルタ1は、上記した赤外線吸収体2及び赤外線反射体3の光透過特性の組み合わせにより、450nm~550nmの波長帯域内の波長で透過率が90%以上となり、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となって、700nmの波長で透過率が5%未満となる光透過特性を有する。
 この実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1の具体例を、実施例1~3として以下に示し、実施例1~3に係る各赤外線カットフィルタ1の波長特性及び構成を、図3~5及び以下表1~3に示す。
 -実施例1-
 本実施例1では、赤外線吸収ガラス21として、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスで、厚さが0.8mmで、N大気中における屈折率が約1.5のガラス板を用いた。そして、この赤外線吸収ガラス21の一主面211に、N大気中における屈折率が1.6のAl23膜、N大気中における屈折率が2.0のZrO2膜、N大気中における屈折率が1.4のMgF2膜の順に、反射防止膜22を構成する各膜を真空蒸着により形成して赤外線吸収体2を得た。
 この赤外線吸収体2は、図3のL1に示すような光透過特性を有する。なお、この実施例1では、光線の入射角を0度、すなわち光線を垂直入射させている。
 つまり、赤外線吸収ガラス21は、400nm~550nmの波長帯域での透過率が90%以上で、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約640nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約17%となる光透過特性を有する。
 赤外線反射体3の透明基板31としては、N大気中における屈折率が1.5で、厚みが0.3mmのガラス板を用いた。また、赤外線反射膜32を構成する第1薄膜321として、N大気中における屈折率が2.30であるTiO2を用い、第2薄膜322として、N大気中における屈折率が1.46であるSiO2を用い、これらの中心波長を688nmとした。
 これら各薄膜321,322各々の光学膜厚が、表1に示すような値になるようにした上記した40層からなる赤外線反射膜32の製造方法により、透明基板31の一主面311に対して、各薄膜321,322を形成し、赤外線反射体3を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1は、赤外線カットフィルタ1の赤外線反射膜32の組成及び各薄膜(第1薄膜321、第2薄膜322)の光学膜厚を示している。
 この赤外線反射体3は、図3のL2に示すような光透過特性を有する。つまり、赤外反射体3(赤外線反射膜32)の光透過特性は、395nm~670nmの波長帯域(450nm~650nmの波長帯域を含む波長帯域)で、約100%の透過率を示し、波長が約670nmを超えると急峻に透過率が減少して約680nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約4%となる光透過特性を有する。
 そして、図1に示すように、赤外線吸収ガラス21の他主面212に、透明基板31の他主面312を接着することにより、厚みが1.1mmの実施例1に係る赤外線カットフィルタ1を得た。
 この実施例1に係る赤外線カットフィルタ1は、赤外線吸収体2及び赤外線反射体3の光透過特性が組み合わさった図3のL3に示す光透過特性を有する。つまり、実施例1の赤外線カットフィルタ1は、400nm~550nmの波長帯域での透過率が90%以上で、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約640nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約0%となる光透過特性を有する。
 -実施例2-
 本実施例2では、赤外線吸収ガラス21として、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスで、厚さが0.55mmで、N大気中における屈折率が約1.5のガラス板を用いた。そして、この赤外線吸収ガラス21の一主面211に、N大気中における屈折率が1.6のAl23膜、N大気中における屈折率が2.0のZrO2膜、N大気中における屈折率が1.4のMgF2膜の順に、反射防止膜22を構成する各膜を真空蒸着により形成して赤外線吸収体2を得た。
 この赤外線吸収体2は、図4のL5に示すような光透過特性を有する。なお、この実施例2では、光線の入射角を0度、すなわち光線を垂直入射させている。
 つまり、赤外線吸収ガラス21は、400nm~550nmの波長帯域での透過率が90%以上で、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約650nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約25%となる光透過特性を有する。
 赤外線反射体3の透明基板31としては、N大気中における屈折率が1.5で、厚みが0.3mmのガラス板を用いた。また、赤外線反射膜32を構成する第1薄膜321として、N大気中における屈折率が2.30であるTiO2を用い、第2薄膜322として、N大気中における屈折率が1.46であるSiO2を用い、これらの中心波長を748nmとした。
 これら各薄膜321,322各々の光学膜厚が、表2に示すような値になるようにした上記した40層からなる赤外線反射膜32の製造方法により、透明基板31の一主面311に対して、各薄膜321,322を形成し、赤外線反射体3を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2は、赤外線カットフィルタ1の赤外線反射膜32の組成及び各薄膜(第1薄膜321、第2薄膜322)の光学膜厚を示している。
 この赤外線反射体3は、図4のL6に示すような光透過特性を有する。つまり、赤外線反射体3(赤外線反射膜32)の光透過特性は、380nm~420nmの波長帯域での透過率が平均10%以下で、波長が430nmを超えると急峻に透過率が上昇して、450nm~670nmの波長帯域(450nm~650nmの波長帯域を含む波長帯域)で、約100%(平均90%以上)の透過率を示し、波長が約670nmを超えると急峻に透過率が減少して約680nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約3%となる光透過特性を有する。
 そして、図1に示すように、赤外線吸収ガラス21の他主面212に、透明基板31の他主面312を接着することにより、厚みが0.85mmの実施例2に係る赤外線カットフィルタ1を得た。
 この実施例2に係る赤外線カットフィルタ1は、赤外線吸収体2及び赤外線反射体3の光透過特性が組み合わさった図4のL7に示す光透過特性を有する。つまり、実施例2の赤外線カットフィルタ1は、700nmを超える波長の光に加えて、380nm~420nmの波長帯域の光をカットする構成とされており、380nm~420nmの波長帯域での透過率が平均10%以下で、波長が430nmを超えると急峻に透過率が上昇して、450nm~550nmの波長帯域で透過率が90%以上となり、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約650nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約0%となる光透過特性を有する。
 -実施例3-
 本実施例3では、赤外線吸収ガラス21として、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスで、厚さが0.45mmで、N大気中における屈折率が約1.5のガラス板を用いた。そして、この赤外線吸収ガラス21の一主面211に、N大気中における屈折率が1.6のAl23膜、N大気中における屈折率が2.0のZrO2膜、N大気中における屈折率が1.4のMgF2膜の順に、反射防止膜22を構成する各膜を真空蒸着により形成して赤外線吸収体2を得た。
 この赤外線吸収体2は、図5のL8に示すような光透過特性を有する。なお、この実施例2では、光線の入射角を0度、すなわち光線を垂直入射させている。
 つまり、赤外線吸収ガラス21は、400nm~550nmの波長帯域での透過率が90%以上で、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約670nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約34%となる光透過特性を有する。
 赤外線反射体3の透明基板31としては、実施例1と同様に、N大気中における屈折率が1.5で、厚みが0.3mmのガラス板を用いた。また、実施例1と同様に、赤外線反射膜32を構成する第1薄膜321として、N大気中における屈折率が2.30であるTiO2を用い、第2薄膜322として、N大気中における屈折率が1.46であるSiO2を用い、これらの中心波長を688nmとした。
 これら各薄膜321,322各々の光学膜厚が、実施例1と同様に、上記表1に示すような値になるようにした上記した40層からなる赤外線反射膜32の製造方法により、透明基板31の一主面311に対して、各薄膜321,322を形成し、赤外線反射体3を得た。
 この赤外線反射体3は、図5のL9に示すような光透過特性を有する。上記した通り、本実施例3では、実施例1と同様にして赤外線反射体3を得たが、製造誤差により、本実施例3の赤外線反射体3(赤外線反射膜32)は、実施例1の赤外線反射体3(赤外線反射膜32)の光透過特性L2(図3参照)と若干異なる光透過特性L9を有する。具体的には、本実施例3の赤外線反射体3(赤外線反射膜32)の光透過特性L9は、400nm~440nmの波長帯域において90%以上の透過率を示し、450nm~650nmの波長帯域内(具体的には、490nm~540nmの波長帯域)においてリップルの発生を示すものの、このようなリップルが発生する波長帯域においても、80%以上の透過率を示し、450nm~650nmの波長帯域で平均90%以上の透過率を示す。また、赤外線反射体3(赤外線反射膜32)の光透過特性は、波長が約670nmを超えると急峻に透過率が減少して、約680nmの波長で50%の透過率を示し、700nmの波長で約5%の透過率を示す。
 そして、図1に示すように、赤外線吸収ガラス21の他主面212に、透明基板31の他主面312を接着することにより、厚みが0.75mmの実施例3に係る赤外線カットフィルタ1を得た。
 この実施例3に係る赤外線カットフィルタ1は、赤外線吸収体2及び赤外線反射体3の光透過特性が組み合わさった図5のL10に示す光透過特性を有する。つまり、実施例3の赤外線カットフィルタ1は、400nm~550nmの波長帯域での透過率の平均が90%以上で、550nm~700nmの波長帯域で透過率が減少し、約670nmの波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が約0%となる光透過特性を有する。
 上記した実施例1~3の赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3,L7,L10(図3~5参照)に示されるように、本実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1では、赤外線吸収体2と赤外線反射体3との組み合わせにより、450nm~550nmの波長帯域内の波長で透過率が90%以上となり、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となって、700nmの波長で透過率が約0%(5%未満)となる光透過特性を得ることができる。つまり、可視域から赤外域に亘って、緩やかに透過率が減少し、700nmの波長で透過率が約0%となる人の目の感度特性に近い光透過特性を得ることができる。特に、実施例2に係る赤外線カットフィルタ1では、上記の通り、380nm~420nmの波長帯域の透過率、具体的には、人間の目には見えない紫外線が影響を及ぼす波長帯域の透過率が平均10%以下に抑えられているため、実施例1及び3に係る赤外線カットフィルタと比べて、より人の目の感度特性に近い光透過特性を得ることができる。
 図3~5に示す実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3,L7,L10を、従来の赤外線カットフィルタの光透過特性L4との比較により、より具体的に説明する。
 図3~5のL4に示す光透過特性を有する従来の赤外線カットフィルタは、赤外線吸収ガラスの両面に反射防止膜が形成されてなる赤外線吸収体で構成されたものである。この従来の赤外線カットフィルタでは、赤外線吸収体である赤外線吸収ガラスの厚みを1.6mmとすることで、透過率が約0%となるポイントが700nmに合わせられている。
 これに対して、実施例1~3の赤外線カットフィルタ1では、L4の光透過特性を有する従来の赤外線カットフィルタ(赤外線吸収体)の半分以下の厚さで、且つ、可視域、特に600nm~700nmの波長帯域において、従来の赤外線カットフィルタよりも高い透過率を示す赤外線吸収体2、即ち、L1、L5、又はL8に示す光透過特性を有する赤外線吸収体2に、赤外線反射体3を組み合わせることで、透過率が約0%となるポイントが700nmに合わせられている。
 このため、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3,L7,L10は、可視光域、特に、600nm~700nmの波長帯域で、従来の赤外線カットフィルタの光透過特性L4と比べて高い透過率を示す。また、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3,L7,L10において、700nmの波長の光線に対する透過率は、従来の赤外線カットフィルタの光透過特性L4と比べて、より0%に近いものとなっている。
 具体的には、従来の赤外線カットフィルタの光透過特性L4では、600nmの波長での透過率が約55%で、約605nmの波長で透過率が50%となり、675nmの波長で透過率が約7.5%となって、700nmの波長で透過率が約3%となる。
 これに対し、実施例1に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3(図3参照)では、600nmの波長での透過率が約75%で、約640nmの波長で透過率が50%となり、675nmの波長で透過率が約20%となって、700nmの波長で透過率が約0%となる。また、実施例2に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L7(図4参照)では、600nmの波長での透過率が約80%で、約650nmの波長で透過率が50%となり、675nmの波長で透過率が約30%となって、700nmの波長で透過率が約0%となる。さらに、実施例3に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L10(図5参照)では、600nmの波長での透過率が約85%で、約670nmの波長で透過率が50%となり、675nmの波長で透過率が約40%となって、700nmの波長で透過率が約0%となる。
 このように、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1の光透過特性L3,L7,L10は、従来の赤外線カットフィルタの光透過特性L4と比べて、600nm~700nmの波長帯域、特に、600nm~675nmの波長帯域での透過率が高く、且つ、700nmの波長での透過率が0%に近いものとなっている。つまり、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1は、従来の赤外線カットフィルタに比べ、700nmを超える赤外線を十分にカットしつつ、波長が600nm~700nmの赤色の可視光線を十分に透過させることができるものであることが認められる。このため、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1が撮像装置に搭載されると、撮像デバイス5で、従来に比べて、赤みの強い色合いで画像を撮像することが可能となり、暗所の画像を明るく撮像することが可能となる。
 また、本実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1では、赤外線反射体3に赤外線吸収体2を組み合わせることで、赤外線反射体2によって反射される光の量が抑制されている。具体的には、実施例1の赤外線カットフィルタ1において、赤外線反射体3の半値波長は、図3に示すように、約680nmであり、赤外線吸収体2の半値波長(約640nm)よりも長い。また、実施例2の赤外線カットフィルタ1において、赤外線反射体3の半値波長は、図4に示すように、約680nmであり、赤外線吸収体2の半値波長(約650nm)よりも長い。さらに、実施例3の赤外線カットフィルタ1において、赤外線反射体3の半値波長は、図5に示すように、約680nmであり、赤外線吸収体2の半値波長(約670nm)よりも長い。このように、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1において、赤外線反射体3の半値波長(透過率が50%となる波長)は、赤外線吸収体2の半値波長よりも長く、赤外線吸収体2の光透過特性L1,L5,L8を示す透過率曲線と、赤外線反射体3の光透過特性L2,L6,L9を示す透過率曲線とが交差する交差点Pの波長(赤外線吸収体2の透過率と赤外線反射体3の透過率とが同一となる波長)は、赤外線吸収体2の半値波長よりも長い。また、上記交差点Pの波長での赤外線吸収体2及び赤外線反射体3の透過率は、50%以下である。このため、実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1では、赤外線吸収体2での赤外線の吸収により、赤外線反射体3によって反射される光の量が抑制され、赤外線反射体2での光の反射によるフレア及びゴーストの発生が抑制される。
 また、本実施の形態1の実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1では、赤外線反射体3の半値波長が赤外線吸収体2の半値波長よりも長く、赤外線吸収体2と赤外線反射体3の組み合わせによる赤外線カットフィルタ1の半値波長が、赤外線吸収体2の半値波長にほぼ一致するように構成されている。つまり、赤外線反射体3に比べて設計誤差による透過率のばらつきの少ない赤外線吸収体2により、赤外線カットフィルタ1の半値波長が設定される構成とされているため、当該赤外線カットフィルタ1の製造において、製造時の設計誤差による赤外線カットフィルタの光透過特性のばらつきを低減させることが可能となる。
 また、本実施の形態1の実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1において、赤外線反射体3は、450nm~650nmの波長帯域内の各波長で80%以上の透過率を示し、450nm~650nmの波長帯域での透過率の平均が90%以上である光透過特性を有している。このため、赤外線カットフィルタ1では、450nm~650nmの波長帯域で赤外線吸収体2の光透過特性に依存した光透過特性が得られるから、可視域から赤外域に亘って、緩やかに透過率が減少し、700nmの波長で透過率が約0%となる人の目の感度特性に近い光透過特性を得ることができる上に、可視域、特に、赤色の可視光線の波長帯域(600nm~700nm)で高い透過率を得ることができる。
 また、赤外線カットフィルタ1の半値波長と赤外線吸収体2の半値波長とがほぼ一致するように、赤外線反射体3は、赤外線吸収体2の半値波長の光線に対して90%以上の透過率を示すように構成されているから、赤外線吸収体の550nm~700nmの波長で徐々に透過率が減少する人の目の感度特性に近い光透過特性が、赤外線カットフィルタ1に備えられ、人の目の感度特性に近い光透過特性が得られる。
 さらに、実施の形態1の実施例1~3に係る赤外線カットフィルタ1において、赤外線吸収体2は、L4に示す光透過特性を有する従来の赤外線カットフィルタよりも薄い厚みで構成することができる。このため、赤外線カットフィルタ1の厚みを、従来の赤外線カットフィルタと同じか、この従来の赤外線カットフィルタよりも薄くすることができる。
 <実施の形態2>
 本実施の形態2に係る赤外線カットフィルタ1Aは、図6に示すように、撮像装置において、撮像光路の光軸に沿って配列された結像光学系4と撮像デバイス5との間に配置される。
 本実施の形態2に係る赤外線カットフィルタ1Aは、図6に示すように、赤外線を吸収する赤外線吸収体2Aと、赤外線を反射する赤外線反射体3Aとからなる。
 撮像装置において、赤外線吸収体2Aと赤外線反射体3Aは、撮像光路の光軸に沿って配列された結像光学系4と撮像デバイス5との間に、離間して配置される。なお、赤外線吸収体2Aは、赤外線反射体3Aよりも結像光学系4の側に配置される。
 この赤外線吸収体2Aは、赤外線吸収ガラス21の両主面211,212に、反射防止膜22が形成されてなる。
 赤外線吸収ガラス21としては、実施の形態1で示した赤外線吸収体2の赤外線吸収ガラス21と同様に、銅イオン等の色素を分散させた青色ガラスで、例えば、厚さが0.2mm~1.2mmの方形薄板状のガラスを使用している。
 また、反射防止膜22は、赤外線吸収ガラス21の両主面211,212に対して、MgF2からなる単層、Al22とZrO2とMgF2とからなる多層膜、TiO2とSiO2とからなる多層膜のいずれかの膜を周知の真空蒸着装置(図示省略)によって真空蒸着することにより形成される。なお、反射防止膜22は、膜厚をモニタしながら蒸着動作を行い、所定の膜厚に達したところで蒸着源(図示省略)近傍に設けられたシャッター(図示省略)を閉じるなどして蒸着物質の蒸着を停止することにより行われる。このような反射防止膜22は、N大気中において、大気の屈折率(約1.0)よりも大きく、且つ、赤外線吸収ガラス21の屈折率よりも小さい屈折率を有するように形成されている。
 このような赤外線吸収体2Aは、実施の形態1と同様の赤外線吸収ガラス21を用いてなることから、実施の形態1の赤外線吸収体2と同様の光透過特性を有する。つまり、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となって、700nmの波長で透過率が10%~40%となる光透過特性を有する。なお、このような赤外線吸収体2Aの光透過特性において、透過率は、400nm~550nmの波長帯域内の波長で90%以上の最大値となる。
 また、赤外線反射体3Aは、透明基板31の一主面311に赤外線反射膜32が形成され、他主面312に反射防止膜33が形成されてなる。この赤外線反射体3Aは、撮像装置において、図6に示すように、赤外線反射膜32側の面が撮像デバイス5と対向するように配置される。
 透明基板31としては、実施の形態1で示した透明基板31と同様の可視光線及び赤外線を透過する無色透明ガラスで、例えば、厚さが0.2mm~1.0mmの方形薄板状のガラスを使用している。
 赤外線反射膜32としては、実施の形態1で示した赤外線反射膜32と同様の高屈折率材料からなる第1薄膜321と、低屈折率材料からなる第2薄膜322とが交互に複数積層された多層膜が使用されている。
 このような赤外線反射体3Aは、実施の形態1と同様の赤外線反射膜32が透明基板31に形成されていることから、実施の形態1の赤外線反射体3と同様の光透過特性を有する。つまり、赤外線反射体3Aは、450nm~650nmの波長帯域内の各波長で80%以上の透過率を示し、この450nm~650nmの波長帯域で平均90%以上の透過率を示して、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が15%未満となる光透過特性を有する。また、この赤外線反射体3Aが50%の透過率を示す波長は、赤外線吸収体2が50%の透過率を示す波長よりも長い。
 反射防止膜33は、透明基板31の他主面312に対して、MgF2からなる単層、Al22とZrO2とMgF2とからなる多層膜、TiO2とSiO2とからなる多層膜のいずれかの膜を周知の真空蒸着装置(図示省略)によって真空蒸着することにより形成される。なお、反射防止膜22は、膜厚をモニタしながら蒸着動作を行い、所定の膜厚に達したところで蒸着源(図示省略)近傍に設けられたシャッター(図示省略)を閉じるなどして蒸着物質の蒸着を停止することにより行われる。このような反射防止膜33は、N大気中において、大気の屈折率(約1.0)よりも大きく、且つ、透明基板31の屈折率よりも小さい屈折率を有するように形成されている。
 また、このような赤外線吸収体2Aの厚みと赤外線反射体3Aの厚みの合計は、例えば、0.4~1.6mmとされている。つまり、赤外線吸収体2を構成する赤外線吸収体ガラス21の厚み、及び赤外線反射体3を構成する透明基板31の厚みは、赤外線吸収体2と赤外線反射体3の厚みの合計が、例えば0.4mm~1.6mmとなるように、適宜調整されている。
 そして、赤外線カットフィルタ1Aでは、上記した赤外線吸収体2A及び赤外線反射体3Aの光透過特性の組み合わせにより、実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1と同様の光透過特性が得られる。即ち、450nm~550nmの波長帯域内の波長で透過率が90%以上となり、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が5%未満となる光透過特性が得られる。
 このように、実施の形態2に係る赤外線カットフィルタ1Aでは、実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1と同様の光透過特性が得られるから、実施の形態1に係る赤外線カットフィルタ1と同様の効果を奏する。
 なお、上記した実施の形態1及び2では、透明基板31としてガラス板を用いているが、これに限定されるものではなく、光線が透過可能な基板であれば、例えば、水晶板であってもよい。また、透明基板31は、複屈折板であってもよく、複数枚からなる複屈折板であってもよい。また、水晶板とガラス板を組み合わせて透明基板31を構成してもよい。
 また、実施の形態1及び2では、第1薄膜321にTiO2を用いているが、これに限定されるものではなく、第1薄膜321が高屈折材料からなっていればよく、例えば、ZrO2、TaO2、Nb22等を用いてもよい。また、第2薄膜322にSiO2を用いているが、これに限定されるものではなく、第2薄膜322が低屈折材料からなっていればよく、例えば、MgF2等を用いてもよい。
 また、実施の形態1及び2の赤外線カットフィルタ1,1Aは、撮像装置において、赤外線吸収体2,2Aが赤外線反射体3,3Aよりも結像光学系4の側に位置するように配置されているが、これに限定されるものではない。即ち、赤外線カットフィルタ1,1Aは、赤外線反射体3,3Aが赤外線吸収体2,2Aよりも結像光学系4の側に位置するように配置されてもよい。
 例えば、撮像装置において、赤外線カットフィルタ1,1Aを、結像光学系4の側に赤外線吸収体2,2Aが位置するように配置した場合、赤外線反射体3,3Aにより反射された光を赤外線吸収体2,2Aで吸収することができるので、結像光学系4の側に赤外線反射体3,3Aが位置するように配置した場合と比べ、赤外線反射体3,3Aにより反射されて結像光学系4を散乱する光の量を低減させることができ、ゴーストの発生を抑制することができる。一方、赤外線カットフィルタ1,1Aを、結像光学系4の側に赤外線反射体3,3Aが位置するように配置した場合には、結像光学系4の側に赤外線吸収体2,2Aが位置するように配置した場合と比べ、赤外線反射体3,3Aと撮像デバイス5の距離、具体的には、製造過程で赤外線反射体3,3A内に発生した異物と撮像デバイス5の距離が離れるので、異物による映像の劣化を抑えることができる。
 また、実施の形態1及び2では、赤外線吸収体2,2Aとして、赤外線吸収ガラス21の一主面211又は両主面211,212に反射防止膜22が形成されたものが用いられているが、本発明でいう赤外線吸収体2,2Aはこれに限定されるものではない。例えば、赤外線吸収ガラス21の大気中における屈折率が、大気の屈折率とほぼ同じである場合には、反射防止膜22は形成されていなくてよい。つまり、反射防止膜が形成されていない赤外線吸収ガラスを赤外線吸収体として用いてもよい。
 また、実施の形態1では、赤外線反射体3として、赤外線吸収ガラス21の他主面212に接着された透明基板31の一主面311に赤外線反射膜32を形成したものが用いられ、実施の形態2では、赤外線反射体3Aとして、透明基板31の一主面311に赤外線反射膜32が形成され、他主面312に反射防止膜33が形成されたものが用いられているが、本発明でいう赤外線反射体3,3Aはこれに限定されるものではない。例えば、赤外線吸収ガラスの表面に形成された赤外線反射膜を赤外線反射体としてもよい。
 つまり、実施の形態1では、赤外線吸収ガラス21の他主面212に接着された透明基板31の一主面311に赤外線反射膜32を形成しているが、赤外線吸収ガラス21の他主面212に直接、赤外線吸収体としての赤外線反射膜32が形成されていてもよい。具体例としては、赤外線吸収ガラス21の他主面212に、TiO2とSiO2とを交互に真空蒸着することにより、赤外線吸収体としての赤外線反射膜32が赤外線吸収ガラス21の他主面212に形成されていてもよい。このように赤外線吸収ガラス21の他主面212に直接、赤外線反射膜32を形成すれば、赤外線カットフィルタ1を薄型化することができる。
 また、実施の形態2では、透明基板31の他主面312に反射防止膜33が形成されているが、透明基板31の大気中における屈折率が、大気の屈折率とほぼ同じである場合には、反射防止膜33は形成されていなくてよい。
 なお、本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。
 また、この出願は、2010年6月18日に日本で出願された特願2010-139686に基づく優先権を請求する。これに言及することにより、その全ての内容は本出願に組み込まれるものである。
 本発明は、可視域の光線を透過し、且つ赤外線をカットする赤外線カットフィルタに適用することが可能である。
 1,1A 赤外線カットフィルタ
 2,2A 赤外線吸収体
 21 赤外線吸収ガラス
 211,212 主面
 22 反射防止膜
 3,3A 赤外線反射体
 31 透明基板
 311,312 主面
 32 赤外線反射膜
 321 第1薄膜
 322 第2薄膜
 33 反射防止膜
 4 結像光学系
 5 撮像デバイス

Claims (4)

  1.  赤外線をカットする赤外線カットフィルタであって、
     赤外線を吸収する赤外線吸収体と、赤外線を反射する赤外線反射体とを備え、
     前記赤外線吸収体は、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を有し、
     前記赤外線反射体は、670nm~690nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となる光透過特性を有し、
     前記赤外線反射体が50%の透過率を示す波長は、前記赤外線吸収体が50%の透過率を示す波長よりも長く、
     前記赤外線吸収体と前記赤外線反射体の組み合わせにより、620nm~670nmの波長帯域内の波長で透過率が50%となり、700nmの波長で透過率が5%未満となる光透過特性を有することを特徴とする赤外線カットフィルタ。
  2.  請求項1に記載の赤外線カットフィルタであって、
     前記赤外線吸収体は、700nmの波長で透過率が10%~40%となる光透過特性を有し、
     前記赤外線反射体は、700nmの波長で透過率が15%未満となる光透過特性を有することを特徴とする赤外線カットフィルタ。
  3.  請求項1又は2に記載の赤外線カットフィルタであって、
     前記赤外線反射体は、450nm~650nmの波長帯域内の各波長で80%以上の透過率を示し、450nm~650nmの波長帯域での透過率の平均が90%以上である光透過特性を有することを特徴とする赤外線カットフィルタ。
  4.  請求項1乃至3のいずれか1つに記載の赤外線カットフィルタであって、
     1つの前記赤外線吸収体の一主面に、1つの前記赤外線反射体が設けられていることを特徴とする赤外線カットフィルタ。
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Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012137648A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Canon Electronics Inc 撮像光学ユニット
CN103364858A (zh) * 2012-03-30 2013-10-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光学元件、镜头模组及光学元件制造方法
WO2014010532A1 (ja) * 2012-07-10 2014-01-16 コニカミノルタ株式会社 誘電多層膜構造を有する赤外遮蔽フィルム
WO2014034386A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
US20140063597A1 (en) * 2012-09-06 2014-03-06 Nippon Sheet Glass, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
KR20140069725A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 카메라 모듈
KR20140076714A (ko) * 2012-12-13 2014-06-23 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름
US20140300956A1 (en) * 2013-04-09 2014-10-09 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
JP2015028621A (ja) * 2013-07-03 2015-02-12 富士フイルム株式会社 赤外線遮光組成物、赤外線遮光層、赤外線カットフィルタ、カメラモジュール
WO2016114362A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
WO2016114363A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP2017062479A (ja) * 2011-06-06 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび固体撮像素子
JP2017120433A (ja) * 2017-01-26 2017-07-06 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
JP2018018108A (ja) * 2017-11-01 2018-02-01 日本板硝子株式会社 赤外線吸収層用ゾル、赤外線吸収層、赤外線吸収層の製造方法および赤外線カットフィルタの製造方法
KR20180056758A (ko) 2016-04-21 2018-05-29 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계
KR20180059494A (ko) 2015-09-24 2018-06-04 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수층용 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 장치
WO2018155050A1 (ja) * 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置
JPWO2017094867A1 (ja) * 2015-12-02 2018-10-04 Agc株式会社 波長選択透過性ガラス物品
JP2019109526A (ja) * 2019-02-06 2019-07-04 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
JP2020126256A (ja) * 2017-11-01 2020-08-20 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ
JP2020149060A (ja) * 2019-02-06 2020-09-17 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ
US10830931B2 (en) 2015-07-09 2020-11-10 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter, imaging device, and method for producing infrared cut filter
KR20200134161A (ko) 2019-05-21 2020-12-01 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 그의 용도
WO2021131405A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 Agc株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
WO2023157403A1 (ja) * 2022-02-21 2023-08-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学フィルターおよび撮像装置

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9366942B2 (en) 2011-12-09 2016-06-14 Omnivision Technologies, Inc. IR-cut filter having red absorbing layer for digital camera
WO2014084167A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
CN105102560A (zh) * 2012-12-28 2015-11-25 富士胶片株式会社 红外线反射膜形成用的硬化性树脂组合物、红外线反射膜及其制造方法、以及红外线截止滤波器及使用其的固体摄影元件
US20150116576A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Blackberry Limited Image capture assembly, digital camera and a mobile device having an improved construction
JP6281395B2 (ja) * 2013-11-26 2018-02-21 ソニー株式会社 撮像素子
CN103605175B (zh) * 2013-11-28 2016-01-13 温岭市现代晶体有限公司 一种滤光片
CN107430226B (zh) 2015-03-17 2020-08-25 株式会社Lms 滤光器及包括其的成像装置
KR101815823B1 (ko) 2015-04-23 2018-01-05 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
JP6202230B1 (ja) 2015-12-01 2017-09-27 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
US10156665B2 (en) 2016-06-01 2018-12-18 Microsoft Technology Licensing, Llc Infrared cut-off filter
KR102024607B1 (ko) * 2017-08-09 2019-09-24 엘지전자 주식회사 이동 단말기
KR102491491B1 (ko) 2017-09-08 2023-01-20 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치
KR102158811B1 (ko) * 2018-07-03 2020-09-22 주식회사 엘엠에스 지문인식센서용 광학원판 및 이를 포함하는 광학필터
CN110650276A (zh) * 2019-09-30 2020-01-03 维沃移动通信有限公司 光学模组及电子设备
JP7361569B2 (ja) * 2019-10-29 2023-10-16 宇部エクシモ株式会社 巻糸パッケージ及びその製造方法
TWI752677B (zh) * 2020-11-12 2022-01-11 晶瑞光電股份有限公司 紅外截止濾光片結構

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11305033A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Toyobo Co Ltd 赤外線吸収フィルタ
JP2000209510A (ja) 1999-01-11 2000-07-28 Daishinku Corp 撮像装置
JP2003161831A (ja) * 2001-11-29 2003-06-06 Daishinku Corp 光線カットフィルタ
JP2006154395A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Canon Inc 光学フィルタ及びそれを有する撮像装置
JP2006220873A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Olympus Corp 光学フィルタおよび撮像装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001042230A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Olympus Optical Co Ltd 撮像光学系
JP2005345680A (ja) 2004-06-02 2005-12-15 Kureha Chem Ind Co Ltd 光学フィルターおよび撮像装置
US7411729B2 (en) 2004-08-12 2008-08-12 Olympus Corporation Optical filter, method of manufacturing optical filter, optical system, and imaging apparatus
JP5268436B2 (ja) * 2008-06-06 2013-08-21 キヤノン株式会社 光学フィルタ及び撮像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11305033A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Toyobo Co Ltd 赤外線吸収フィルタ
JP2000209510A (ja) 1999-01-11 2000-07-28 Daishinku Corp 撮像装置
JP2003161831A (ja) * 2001-11-29 2003-06-06 Daishinku Corp 光線カットフィルタ
JP2006154395A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Canon Inc 光学フィルタ及びそれを有する撮像装置
JP2006220873A (ja) * 2005-02-09 2006-08-24 Olympus Corp 光学フィルタおよび撮像装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2584385A4 *

Cited By (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012137648A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Canon Electronics Inc 撮像光学ユニット
JP2017062479A (ja) * 2011-06-06 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび固体撮像素子
CN103364858A (zh) * 2012-03-30 2013-10-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光学元件、镜头模组及光学元件制造方法
WO2014010532A1 (ja) * 2012-07-10 2014-01-16 コニカミノルタ株式会社 誘電多層膜構造を有する赤外遮蔽フィルム
JPWO2014010532A1 (ja) * 2012-07-10 2016-06-23 コニカミノルタ株式会社 誘電多層膜構造を有する赤外遮蔽フィルム
CN104428698A (zh) * 2012-07-10 2015-03-18 柯尼卡美能达株式会社 具有电介质多层膜结构的红外线遮蔽膜
US10073202B2 (en) 2012-08-29 2018-09-11 Asahi Glass Company, Limited Near-infrared cut filter
WO2014034386A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JPWO2014034386A1 (ja) * 2012-08-29 2016-08-08 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
CN104583820A (zh) * 2012-08-29 2015-04-29 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器
US20140063597A1 (en) * 2012-09-06 2014-03-06 Nippon Sheet Glass, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
CN110095831A (zh) * 2012-09-06 2019-08-06 日本板硝子株式会社 红外截止滤光片及摄像装置
CN103675970A (zh) * 2012-09-06 2014-03-26 日本板硝子株式会社 红外截止滤光片及摄像装置
US9201181B2 (en) * 2012-09-06 2015-12-01 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
JP2014052482A (ja) * 2012-09-06 2014-03-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 赤外線カットフィルタおよび撮像装置
TWI574056B (zh) * 2012-09-06 2017-03-11 日本板硝子股份有限公司 紅外線截止濾光片及攝影裝置
KR102012642B1 (ko) * 2012-11-29 2019-08-21 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 카메라 모듈
KR20140069725A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 카메라 모듈
KR102012641B1 (ko) * 2012-12-13 2019-08-21 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름
KR20140076714A (ko) * 2012-12-13 2014-06-23 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름
TWI612343B (zh) * 2013-04-09 2018-01-21 日本板硝子股份有限公司 紅外線截止濾光片及攝影裝置
US20140300956A1 (en) * 2013-04-09 2014-10-09 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
US9188720B2 (en) * 2013-04-09 2015-11-17 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter and imaging apparatus
JP2014203044A (ja) * 2013-04-09 2014-10-27 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP2015028621A (ja) * 2013-07-03 2015-02-12 富士フイルム株式会社 赤外線遮光組成物、赤外線遮光層、赤外線カットフィルタ、カメラモジュール
KR101913482B1 (ko) 2015-01-14 2018-10-30 에이지씨 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터 및 촬상 장치
US10310150B2 (en) 2015-01-14 2019-06-04 AGC Inc. Near-infrared cut filter and solid-state imaging device
JP2017122934A (ja) * 2015-01-14 2017-07-13 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
KR20170054322A (ko) * 2015-01-14 2017-05-17 아사히 가라스 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터 및 촬상 장치
CN106062592A (zh) * 2015-01-14 2016-10-26 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器和摄像装置
WO2016114362A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
JPWO2016114363A1 (ja) * 2015-01-14 2017-04-27 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JPWO2016114362A1 (ja) * 2015-01-14 2017-04-27 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
US10365417B2 (en) 2015-01-14 2019-07-30 AGC Inc. Near-infrared cut filter and imaging device
WO2016114363A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
US10830931B2 (en) 2015-07-09 2020-11-10 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared cut filter, imaging device, and method for producing infrared cut filter
US10745541B2 (en) 2015-09-24 2020-08-18 Nippon Sheet Glass Company, Limited Composition for infrared-absorbing layers, infrared-cut filter, and imaging apparatus
KR20180059494A (ko) 2015-09-24 2018-06-04 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수층용 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 장치
US11873385B2 (en) 2015-09-24 2024-01-16 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared-cut filter
JPWO2017094867A1 (ja) * 2015-12-02 2018-10-04 Agc株式会社 波長選択透過性ガラス物品
US10809427B2 (en) 2016-04-21 2020-10-20 Nippon Sheet Glass Company, Limited Infrared-absorbing composition, infrared-cut filter, and imaging optical system
KR20180056758A (ko) 2016-04-21 2018-05-29 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계
KR20200030630A (ko) 2016-04-21 2020-03-20 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계
JP2017120433A (ja) * 2017-01-26 2017-07-06 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
WO2018155050A1 (ja) * 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置
JPWO2018155050A1 (ja) * 2017-02-24 2019-11-21 富士フイルム株式会社 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置
JP2020126256A (ja) * 2017-11-01 2020-08-20 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ
JP2018018108A (ja) * 2017-11-01 2018-02-01 日本板硝子株式会社 赤外線吸収層用ゾル、赤外線吸収層、赤外線吸収層の製造方法および赤外線カットフィルタの製造方法
JP2020149060A (ja) * 2019-02-06 2020-09-17 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ
JP2019109526A (ja) * 2019-02-06 2019-07-04 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
KR20200134161A (ko) 2019-05-21 2020-12-01 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 그의 용도
WO2021131405A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 Agc株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
WO2023157403A1 (ja) * 2022-02-21 2023-08-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学フィルターおよび撮像装置

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