JPS58137809A - 高安定誘電体多層膜光学フイルタ - Google Patents
高安定誘電体多層膜光学フイルタInfo
- Publication number
- JPS58137809A JPS58137809A JP2004182A JP2004182A JPS58137809A JP S58137809 A JPS58137809 A JP S58137809A JP 2004182 A JP2004182 A JP 2004182A JP 2004182 A JP2004182 A JP 2004182A JP S58137809 A JPS58137809 A JP S58137809A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- films
- filter
- glass substrate
- rutile
- dielectric multilayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の技術分野
本発明は特性を高度４＝安定化された誘電体多層膜光学
フィルタＣ二関するものである。
フィルタＣ二関するものである。
に）技術の背景
搬送装【１；おける波長多重光通信用の分波器としては
、誘電体多層膜フィルタが多く用いられている。このよ
うな誘電体多層膜フィルタの代表的なものとして、ルチ
ル（ＴｉｅりとＶリカ（Ｓｉｎ、）を光学ガラス基板上
４二交互（：積層して作成された、７’＊Ｏｔ ／Ｓｓ
Ｑｘ系の誘電体多層膜フィルタがある。
、誘電体多層膜フィルタが多く用いられている。このよ
うな誘電体多層膜フィルタの代表的なものとして、ルチ
ル（ＴｉｅりとＶリカ（Ｓｉｎ、）を光学ガラス基板上
４二交互（：積層して作成された、７’＊Ｏｔ ／Ｓｓ
Ｑｘ系の誘電体多層膜フィルタがある。
従来、Ｔｉｅ、／ Ｓｉｎ、系誘電体多層膜フィルタは
、３００℃〜４００℃程度（＝加熱された光学ガラス基
板上Ｃ二、電子ビーム蒸着技術（＝よって高純度のＴｉ
０１とＳｉｎ、を交互媚：蒸着堆積して製作し、蒸着終
了後冷却して蒸着装置から取出し、特性を評価したのち
、そのまま使用されていた。
、３００℃〜４００℃程度（＝加熱された光学ガラス基
板上Ｃ二、電子ビーム蒸着技術（＝よって高純度のＴｉ
０１とＳｉｎ、を交互媚：蒸着堆積して製作し、蒸着終
了後冷却して蒸着装置から取出し、特性を評価したのち
、そのまま使用されていた。
このよう（ニして製作された誘電体多層膜フィルタは必
ずしも十分安定ではなく、長期間例えば２０年間程度の
使用後（＝は、若干の特性変化が生じることを免かれな
い。通信用として使用する場合は、このような長期間経
過後でも特性が安定であることが望ましいが、従来、こ
のよう（二高度に特性の安定な誘電体多層膜フィルタは
、知られていなかった。
ずしも十分安定ではなく、長期間例えば２０年間程度の
使用後（＝は、若干の特性変化が生じることを免かれな
い。通信用として使用する場合は、このような長期間経
過後でも特性が安定であることが望ましいが、従来、こ
のよう（二高度に特性の安定な誘電体多層膜フィルタは
、知られていなかった。
一第１図は誘電体多層膜フィルタの特性の一例を示した
ものである。同図（ユおいて横軸は波長を示し、縦動は
透過損失Ｃ（ＬＢ）を示している。第１図は２５層のシ
ョートウェーブパスフィルタ（ＳＷＰＦ）の特性例を示
し、実線は製造直後の特性であり、破線は常温で長期間
経過した場合の特性の予測値であって、常温でも長期間
例えば２０年間位のエージングを行うこと６二よって、
波長にして５０〜１００１程度の特性のシフトが想定さ
れる。
ものである。同図（ユおいて横軸は波長を示し、縦動は
透過損失Ｃ（ＬＢ）を示している。第１図は２５層のシ
ョートウェーブパスフィルタ（ＳＷＰＦ）の特性例を示
し、実線は製造直後の特性であり、破線は常温で長期間
経過した場合の特性の予測値であって、常温でも長期間
例えば２０年間位のエージングを行うこと６二よって、
波長にして５０〜１００１程度の特性のシフトが想定さ
れる。
これ媚；対して本発明の発明者は、Ｔｉｅ、ｌＳｉ偽系
誘電体多層膜フィルタに対し、空気中または酸素雰囲気
中において高温放置を行うことが、その特性の安定化の
ためＣ：極めて有効であることを見出した。すなわちＴ
ｉ０ＪＳｉＯ，系誘電体多層膜フィルタを高温Ｃ；保つ
ことＣ二よって、強制的６二特性の変化を促進させ、実
際使用状態における特性の高度の安定化を実現すること
が可能である。
誘電体多層膜フィルタに対し、空気中または酸素雰囲気
中において高温放置を行うことが、その特性の安定化の
ためＣ：極めて有効であることを見出した。すなわちＴ
ｉ０ＪＳｉＯ，系誘電体多層膜フィルタを高温Ｃ；保つ
ことＣ二よって、強制的６二特性の変化を促進させ、実
際使用状態における特性の高度の安定化を実現すること
が可能である。
０発明の目的
本発明は従来技術の問題点を解決しようとするものであ
り、その目的は、その特性を高度（二安定化されたＴｉ
ｅ、／ＳｉＯ宜系誘電体多層膜フィルタを提供すること
Ｃ二ある。
り、その目的は、その特性を高度（二安定化されたＴｉ
ｅ、／ＳｉＯ宜系誘電体多層膜フィルタを提供すること
Ｃ二ある。
０発明の実施例
第２図は本発明の高安定誘電体多層膜フィルタの一実施
例の構成を示している。同図（二おいて１は平面に研磨
された光学ガラス基板であって、例えば材質ＢＫ丁等が
使用される。２はルチル（Ｔｉｅ、）蒸着膜、３はシリ
カ（Ｓｉｎ、）蒸着膜であり、Ｔｉｅ。
例の構成を示している。同図（二おいて１は平面に研磨
された光学ガラス基板であって、例えば材質ＢＫ丁等が
使用される。２はルチル（Ｔｉｅ、）蒸着膜、３はシリ
カ（Ｓｉｎ、）蒸着膜であり、Ｔｉｅ。
蒸着膜２とＳｉｎ、蒸着膜３とはガラス基板１上に交互
に堆積して積層されている。全体の蒸着膜の数は任意で
あり、またガラス基板１に接する第１層はＴｉｅ、膜に
限らすＳｉｎ、膜でもよいが、Ｔｉｅ！膜と５ｉｎ１膜
とは交互に施され、かつガラス基板に接する第１層と最
終の層である最上層とは、通常、同一物質になるよう（
二構成される。
に堆積して積層されている。全体の蒸着膜の数は任意で
あり、またガラス基板１に接する第１層はＴｉｅ、膜に
限らすＳｉｎ、膜でもよいが、Ｔｉｅ！膜と５ｉｎ１膜
とは交互に施され、かつガラス基板に接する第１層と最
終の層である最上層とは、通常、同一物質になるよう（
二構成される。
このような誘電体多層膜フィルタを製造するには、周知
の１子ビ一ム蒸着法によって、基板温度を３５０℃程度
に床ちながらＴｉｅ！膜とＳｉｎ、膜とをそれぞれ２Ａ
／ｖａｔおよび１０ｉろ−Ｃ程度の蒸着速度で交互５；
それぞれ適当な厚さに堆積して積層する。このようにし
て製作された多層膜フィルタを、空気中または酸素雰囲
気中で温度ｉｏｏ’ｃ〜３５０ ’Ｃの範囲Ｃ：保って
適当な時間アニーリングを施す。
の１子ビ一ム蒸着法によって、基板温度を３５０℃程度
に床ちながらＴｉｅ！膜とＳｉｎ、膜とをそれぞれ２Ａ
／ｖａｔおよび１０ｉろ−Ｃ程度の蒸着速度で交互５；
それぞれ適当な厚さに堆積して積層する。このようにし
て製作された多層膜フィルタを、空気中または酸素雰囲
気中で温度ｉｏｏ’ｃ〜３５０ ’Ｃの範囲Ｃ：保って
適当な時間アニーリングを施す。
第３図はアニーリングの条件の一例を示している。同図
≦；おいて横軸は温度を示し、縦軸は蒸着膜が１％の膜
厚変化を生じる時間を示している。
≦；おいて横軸は温度を示し、縦軸は蒸着膜が１％の膜
厚変化を生じる時間を示している。
蒸着膜の１％の膜厚変化は特性の１％の変化に相当し、
第１図に示された長期間経過後の誘電体多層膜フィルタ
の特性変化に対応している。このようシニ、誘電体多層
膜フィルタを空気中または酸素中で高温放置してアニー
リングを行うことＣ；よって、特性の変化が促進されて
その後の特性変化は橋めて少なくなり、十分高安定な誘
電体多層膜フィルタが実現される。
第１図に示された長期間経過後の誘電体多層膜フィルタ
の特性変化に対応している。このようシニ、誘電体多層
膜フィルタを空気中または酸素中で高温放置してアニー
リングを行うことＣ；よって、特性の変化が促進されて
その後の特性変化は橋めて少なくなり、十分高安定な誘
電体多層膜フィルタが実現される。
このような効果は、多層膜フィルタの層数には無関係に
得られるものであり、また成膜方法も蒸着に限らず、ス
パッタリングによって多層膜を積層した場合も同様な効
果が得られる。
得られるものであり、また成膜方法も蒸着に限らず、ス
パッタリングによって多層膜を積層した場合も同様な効
果が得られる。
に）発明の詳細
な説明したように、本発明の高安定誘電体多層膜フィル
タ区；よれば、特性が高度に安定で信頼度が高く、経年
変化区：よる特性劣化を生じることがないので、特に光
通信用分波器等の基本的な素子を製作する上で極めて有
効である。
タ区；よれば、特性が高度に安定で信頼度が高く、経年
変化区：よる特性劣化を生じることがないので、特に光
通信用分波器等の基本的な素子を製作する上で極めて有
効である。
第１図は誘電体多層膜フィルタの特性の一例を示す図、
第２図は本発明の高安定誘電体多層膜フィルタの一実施
例の構成を示す図、第５図はアニーリングの条件の一例
を示す図である。 １・・・光学ガラス基板、２・・・ルチル（Ｔｉｅ、）
蒸着膜、３・・・シリカ（Ｓｉｎ、）蒸着膜特許出願人
富士通株式会社 代理人 弁運士玉蟲久五部（外３名） 第１図 第２図 第３図 −一−１度
第２図は本発明の高安定誘電体多層膜フィルタの一実施
例の構成を示す図、第５図はアニーリングの条件の一例
を示す図である。 １・・・光学ガラス基板、２・・・ルチル（Ｔｉｅ、）
蒸着膜、３・・・シリカ（Ｓｉｎ、）蒸着膜特許出願人
富士通株式会社 代理人 弁運士玉蟲久五部（外３名） 第１図 第２図 第３図 −一−１度
Claims (1)
- ガラス基板と、該ガラス基板上Ｃ二真空蒸着媚；よって
交互に積層された任意の層数のルチル（ｒｉｂｓ）膜と
Ｖリカ（Ｓｉｎ、）膜とからなり、該ルチル膜とシリカ
膜の積層終了後空気または酸素雰囲気中媚；おいて加熱
してアニーリングを行ってなることを特徴とする高安定
誘電体多層膜光学フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004182A JPS58137809A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 高安定誘電体多層膜光学フイルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004182A JPS58137809A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 高安定誘電体多層膜光学フイルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58137809A true JPS58137809A (ja) | 1983-08-16 |
Family
ID=12015970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004182A Pending JPS58137809A (ja) | 1982-02-10 | 1982-02-10 | 高安定誘電体多層膜光学フイルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58137809A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6451347A (en) * | 1987-08-24 | 1989-02-27 | Iwasaki Electric Co Ltd | Production of multilayered film of metal oxide |
| JPH02120803A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 多層干渉フィルター膜の処理方法 |
| EP0838535A1 (de) * | 1996-10-28 | 1998-04-29 | Leybold Systems GmbH | Interferenzschichtensystem |
| JP2003043211A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Nidec Copal Corp | 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 |
| WO2004067464A1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-08-12 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Method of producing transparent titanium oxide coatings having a rutile structure |
| WO2014010401A1 (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | 旭硝子株式会社 | 積層体用前駆体、積層体、および自動車用合せガラス |
-
1982
- 1982-02-10 JP JP2004182A patent/JPS58137809A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6451347A (en) * | 1987-08-24 | 1989-02-27 | Iwasaki Electric Co Ltd | Production of multilayered film of metal oxide |
| JPH02120803A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 多層干渉フィルター膜の処理方法 |
| EP0838535A1 (de) * | 1996-10-28 | 1998-04-29 | Leybold Systems GmbH | Interferenzschichtensystem |
| DE19644752A1 (de) * | 1996-10-28 | 1998-04-30 | Leybold Systems Gmbh | Interferenzschichtensystem |
| KR100279110B1 (ko) * | 1996-10-28 | 2001-01-15 | 투테 에. | 금속산화물층을스패터유도에의해석출하는방법및광학적작용층구조물 |
| JP2003043211A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Nidec Copal Corp | 薄膜型ｎｄフィルタ及びその製造方法 |
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| JP2006519926A (ja) * | 2003-01-28 | 2006-08-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ルチル構造を有する透明チタン酸化物被膜の製造方法 |
| CN100431995C (zh) * | 2003-01-28 | 2008-11-12 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 制造具有金红石结构的透明氧化钛涂层的方法 |
| JP4713462B2 (ja) * | 2003-01-28 | 2011-06-29 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ルチル構造を有する透明チタン酸化物被膜の製造方法 |
| WO2014010401A1 (ja) * | 2012-07-09 | 2014-01-16 | 旭硝子株式会社 | 積層体用前駆体、積層体、および自動車用合せガラス |
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