JPH02120803A - 多層干渉フィルター膜の処理方法 - Google Patents
多層干渉フィルター膜の処理方法Info
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- JPH02120803A JPH02120803A JP27685288A JP27685288A JPH02120803A JP H02120803 A JPH02120803 A JP H02120803A JP 27685288 A JP27685288 A JP 27685288A JP 27685288 A JP27685288 A JP 27685288A JP H02120803 A JPH02120803 A JP H02120803A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はガラス基板上に形成される多層干渉フィルター
膜の処理方法に関するものである。
膜の処理方法に関するものである。
［従来の技術］
多層干渉フィルター膜は、例えば光通信の分野において
光源から放たれた光から必要とされる波長域の光のみを
選択して取り出すために用いられるものであり、真空蒸
着法によってガラス基板上に低屈折率材料と高屈折材料
が交互に層状に形成されてなる。主に低屈折率材料とし
ては、ＳｉＯ□（屈折率ｎ・１．４７＞ 、高屈折率材
料としては、ＴｉＯ□（ｎ・２１５ ） 、 Ｔａ２０
３（ｎ・２．ｏＯ）が用いられ、通常最外層に低屈折率
材料であるＳｉＯ□の層が配される。
光源から放たれた光から必要とされる波長域の光のみを
選択して取り出すために用いられるものであり、真空蒸
着法によってガラス基板上に低屈折率材料と高屈折材料
が交互に層状に形成されてなる。主に低屈折率材料とし
ては、ＳｉＯ□（屈折率ｎ・１．４７＞ 、高屈折率材
料としては、ＴｉＯ□（ｎ・２１５ ） 、 Ｔａ２０
３（ｎ・２．ｏＯ）が用いられ、通常最外層に低屈折率
材料であるＳｉＯ□の層が配される。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら従来の多層干渉フィルター膜は、長時間の
使用によってその分光透過特性が経時変化し、そのため
必要とされる波長域の光だけを効果的に透過するように
調整しにくくなり信頼性に乏しくなるという問題があっ
た。
使用によってその分光透過特性が経時変化し、そのため
必要とされる波長域の光だけを効果的に透過するように
調整しにくくなり信頼性に乏しくなるという問題があっ
た。
本発明の目的は分光透過特性の経時変化を抑制して必要
とされる波長域の光だけを効果的に透過する信頼性の高
い多層干渉フィルター膜を得るための方法を提供するこ
とである。
とされる波長域の光だけを効果的に透過する信頼性の高
い多層干渉フィルター膜を得るための方法を提供するこ
とである。
［問題点を解決するための手段］
本発明の多層干渉フィルター膜の処理方法は、ガラス基
板上に形成された多層干渉フィルター膜に電子線を照射
することによって多層干渉フィルター膜の分光透過特性
の経時変化を抑制することを特徴とする特 ［作用］ 多層干渉フィルター膜の分光透過特性が経時変化する原
因としては、膜がポーラスであるため大気中の水分が吸
着し、それによって膜の屈折率が上がるためであると推
定されるが、本発明においては膜に電子線を照射するこ
とによって膜が緻密化して大気中の水分が吸着され難く
なり、そのため屈折率の変化が少なく分光透過特性が安
定する。
板上に形成された多層干渉フィルター膜に電子線を照射
することによって多層干渉フィルター膜の分光透過特性
の経時変化を抑制することを特徴とする特 ［作用］ 多層干渉フィルター膜の分光透過特性が経時変化する原
因としては、膜がポーラスであるため大気中の水分が吸
着し、それによって膜の屈折率が上がるためであると推
定されるが、本発明においては膜に電子線を照射するこ
とによって膜が緻密化して大気中の水分が吸着され難く
なり、そのため屈折率の変化が少なく分光透過特性が安
定する。
［実施例］
以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて説明する。
実施例１
真空蒸着法によってガラス基板にＴｉＯ２とＳｉＯ□の
膜を交互にＩｌ’！層形成して多層干渉フィルター膜を
作製し、加速電圧３０ｋＶ、電流密度３μ＾／ｃｍ２で
１０時間電子線照射を行った。
膜を交互にＩｌ’！層形成して多層干渉フィルター膜を
作製し、加速電圧３０ｋＶ、電流密度３μ＾／ｃｍ２で
１０時間電子線照射を行った。
電子線照射直後と大気中で１０日間放置した後の多層干
渉フィルター膜の可視光域（３００〜７００ｎｍ ）の
分光透過率曲線を第１図に示した。第１図かられかるよ
うに１０日間放置した後の多層干渉フィルター膜の分光
透過率曲線は電子線照射直後のそれの分光透過率曲線と
ほとんど変化がなく、分光透過特性が経時変化していな
いことがわかる。
渉フィルター膜の可視光域（３００〜７００ｎｍ ）の
分光透過率曲線を第１図に示した。第１図かられかるよ
うに１０日間放置した後の多層干渉フィルター膜の分光
透過率曲線は電子線照射直後のそれの分光透過率曲線と
ほとんど変化がなく、分光透過特性が経時変化していな
いことがわかる。
実施例２
真空蒸着法によってガラス基板に５ｉ０２とＴａ２０５
の膜を交互に７層形成して多層干渉フィルター膜を作製
し、加速電圧３０ｋＶ、電流密度３μ＾／ｃｒｎ”で５
０時間電子線照射を行った。
の膜を交互に７層形成して多層干渉フィルター膜を作製
し、加速電圧３０ｋＶ、電流密度３μ＾／ｃｒｎ”で５
０時間電子線照射を行った。
電子線照射直後と大気中で１０日間放置した後の多層干
渉フィルター膜の可視光域の分光透過率曲線を第２図に
示した。第２図かられかるように１０日間放置した後の
多層干渉フィルター膜の分光透過率曲線は電子線照射直
後の分光透過率曲線とほとんど変化がなく、分光透過特
性が経時変化していないことがわかる。
渉フィルター膜の可視光域の分光透過率曲線を第２図に
示した。第２図かられかるように１０日間放置した後の
多層干渉フィルター膜の分光透過率曲線は電子線照射直
後の分光透過率曲線とほとんど変化がなく、分光透過特
性が経時変化していないことがわかる。
［比較例］
真空蒸着法によってガラス基板にＴｉＯ２と５ｉ０２の
膜を交互に１８層′形成して多層干渉フィルター膜を作
製した。
膜を交互に１８層′形成して多層干渉フィルター膜を作
製した。
作製直後と大気中でｌθ日間設置した後の多層干渉フィ
ルター膜の可視光域の分光透過率曲線を第３図に示した
。第３図がられがるように１ｏ日間放置した後の多層干
渉フィルター膜の分光透過率曲線は、作製直後のそれの
分光透過率曲線と大幅に相違しており、分光透過特性が
経時変化していることがわかる。
ルター膜の可視光域の分光透過率曲線を第３図に示した
。第３図がられがるように１ｏ日間放置した後の多層干
渉フィルター膜の分光透過率曲線は、作製直後のそれの
分光透過率曲線と大幅に相違しており、分光透過特性が
経時変化していることがわかる。
［発明の効果］
以上のように本発明の多層干渉フィルター膜の処理方法
によると、分光透過特性の経時変化を抑制して、信頼性
の高い多層干渉フィルター膜を得ることができる。
によると、分光透過特性の経時変化を抑制して、信頼性
の高い多層干渉フィルター膜を得ることができる。
特許出願人 日本電気硝子株式会社
代表者 岸 ロ１ 清 作
手続補正書
平成 １年
３月１
特 許 庁 長 官 殿
１、事件の表示
昭和６３年特許頼第２７６８５２号
２、発明の名称
多層干渉フィルター膜の処理方法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
６日
別紙
第１図は電子線照射直後と大気中で１０日間放置した後
の実施例１の多層干渉フィルター膜の可視光域における
分光透過率曲線、第２図は電子線照射直後と大気中で１
０日間放置した後の実施例２の多層干渉フィルター膜の
可視光域における分光透過率曲線、第３図は作業直後と
大気中で１０日間放置した後の比較例の多層干渉フィル
ター膜の可視光域における分光透過率曲線を示す。 平成１年２月１３日 （発送口 平成１年３月７日） ５、補正の対象 ／
の実施例１の多層干渉フィルター膜の可視光域における
分光透過率曲線、第２図は電子線照射直後と大気中で１
０日間放置した後の実施例２の多層干渉フィルター膜の
可視光域における分光透過率曲線、第３図は作業直後と
大気中で１０日間放置した後の比較例の多層干渉フィル
ター膜の可視光域における分光透過率曲線を示す。 平成１年２月１３日 （発送口 平成１年３月７日） ５、補正の対象 ／
Claims (1)
- ガラス基板上に形成された多層干渉フィルター膜に電子
線を照射することによって多層干渉フィルター膜の分光
透過特性の経時変化を抑制することを特徴とする多層干
渉フィルター膜の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63276852A JP2689338B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 多層干渉フィルター膜の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63276852A JP2689338B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 多層干渉フィルター膜の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02120803A true JPH02120803A (ja) | 1990-05-08 |
| JP2689338B2 JP2689338B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=17575308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63276852A Expired - Lifetime JP2689338B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 多層干渉フィルター膜の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2689338B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07198935A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Koshin Kogaku:Kk | 多層膜フィルタの波長シフト温度係数の選定方法及び波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタ |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58137809A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-16 | Fujitsu Ltd | 高安定誘電体多層膜光学フイルタ |
| JPS58141214A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜素子の処理方法 |
| JPS58154431A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-13 | Tokyo Seitankoushiyo:Kk | ソケツトタイロツドの製造方法 |
| JPS61253722A (ja) * | 1985-05-01 | 1986-11-11 | 住友電気工業株式会社 | 光透過性導電膜の形成方法 |
| JPS62205267A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-09 | Toshiba Corp | 酸化アルミニウム膜の製造方法 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63276852A patent/JP2689338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58137809A (ja) * | 1982-02-10 | 1983-08-16 | Fujitsu Ltd | 高安定誘電体多層膜光学フイルタ |
| JPS58141214A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜素子の処理方法 |
| JPS58154431A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-13 | Tokyo Seitankoushiyo:Kk | ソケツトタイロツドの製造方法 |
| JPS61253722A (ja) * | 1985-05-01 | 1986-11-11 | 住友電気工業株式会社 | 光透過性導電膜の形成方法 |
| JPS62205267A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-09 | Toshiba Corp | 酸化アルミニウム膜の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07198935A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Koshin Kogaku:Kk | 多層膜フィルタの波長シフト温度係数の選定方法及び波長シフト温度係数が略ゼロの多層膜フィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2689338B2 (ja) | 1997-12-10 |
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