JP2004037545A - Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置 - Google Patents

Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004037545A
JP2004037545A JP2002190705A JP2002190705A JP2004037545A JP 2004037545 A JP2004037545 A JP 2004037545A JP 2002190705 A JP2002190705 A JP 2002190705A JP 2002190705 A JP2002190705 A JP 2002190705A JP 2004037545 A JP2004037545 A JP 2004037545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
vapor
plastic sheet
deposited
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002190705A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsura Nakajima
中嶋 桂
Kazuhiro Fukazawa
深澤 和博
Nobutaka Kumada
熊田 伸孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Finetech Nisca Inc
Original Assignee
Nisca Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nisca Corp filed Critical Nisca Corp
Priority to JP2002190705A priority Critical patent/JP2004037545A/ja
Priority to US10/600,528 priority patent/US6842301B2/en
Publication of JP2004037545A publication Critical patent/JP2004037545A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/205Neutral density filters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Diaphragms For Cameras (AREA)
  • Blocking Light For Cameras (AREA)
  • Exposure Control For Cameras (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

【課題】NDフィルタの基体材料となるプラスチックシートに蒸着膜を形成した時に、シート表面にシワが発生するのを防止すると共に、可視光線の波長領域全体で均一な透過率が得られるようにしたNDフィルタを提供することである。
【解決手段】透明プラスチックシート11からなる基体と、この基体表面に形成した蒸着膜12,13,14とを有するNDフィルタ10において、前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜の一つがクロメルを蒸着材料としている。ノルボルネン系の樹脂材料は、熱収縮率が極めて小さいので、長時間高温にさらされてもシートの収縮を最小限に抑えることができ、これによりシート表面のシワの発生が防止される。また、クロメルによる蒸着膜は酸化されにくく安定しているので、可視光線の波長領域全体で均一な透過率が得られ易くなる。
【選択図】   図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラスチック材料からなるシート状の基体と、この基体表面に形成された蒸着膜とを有するNDフィルタ及びこれを用いた絞り装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、カメラやビデオカメラなどのレンズ光学系内で使用されている絞り装置では、小絞りの際における絞り羽根のハンチングや回折現象による解像力の低下などを防止するために、シート状のNDフィルタ(Neutral Density Filter)が用いられている。また、カメラの高解像度化や小型化にともない、単に一様な光透過率を有するNDフィルタを配設しただけでは、絞り開口内にフィルタが進入していく際の急激な光量変化により回折現象が十分に防止できない場合があり、NDフィルタの光透過率を段階的に変化させたものも提案されている。
【0003】
上記NDフィルタは、レンズ光学系内で移動可能に配設されるため薄くて軽い材料である必要があり、また絞り開口に適応した任意の形状にプレス加工し易いように、プラスチックシートが使われることが多い。この種のNDフィルタは、プラスチック材料に有機色素や顔料を混入してシート状に成形し光学的フィルタ特性を持たせたものと、透明プラスチック材料の表面に蒸着膜を形成し、この蒸着膜に光学的フィルタ特性を持たせるようにしたものがある。特に、後者のNDフィルタは、蒸着膜層の組み合わせによりフィルタ表面での光の反射防止効果が得られるため、レンズ光学系内でのゴースト低減効果があることや、フィルタの領域を光透過率の異なるを段階的に変化させたものを作ることができ、急激な透過率変化を生じることなく透過率を下げられるため、より回折現象防止のために有効である。
【0004】
従来、プラスチックシートに蒸着膜を形成したNDフィルタとしては、例えば特開平10−133253号公報に記載のものが知られている。これはプラスチックシート材料として、PET(ポリエチレンテレフタレート)又はPEN(ポリエチレンナフタレート)を利用し、その表面に酸化チタンや酸化アルミニウムなどの金属酸化膜を蒸着したものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のNDフィルタにあっては、PETやPENなど熱収縮率(熱収縮率=0.5%/150℃・30分)の比較的大きいプラスチックシートを使用しているために、蒸着工程で長時間高温にさらされると熱収縮が大きくなってシート表面にシワが発生したり、プラスチックシートと蒸着膜の収縮率の違いから、蒸着膜が剥離するおそれがあった。即ち、プラスチックシートは熱の影響を受け易いので、真空蒸着槽内の温度はできるだけ低く抑えられるが、蒸着材料を電子銃で加熱融解する際の温度上昇や、蒸着膜を確実に付着させて所定の光透過率が得られるようにプラスチックシートを加熱する際の温度上昇などによって、プラスチックシート自体が約120℃の高温に達してしまう。また、光透過率を段階的に変化させたNDフィルタの製造では、蒸着工程を何回も繰り返す必要があるため、高温雰囲気にさらされる時間が長くなるからである。
【0006】
また、上記従来のNDフィルタにあっては、蒸着膜として金属酸化物の酸化チタンを光吸収膜として使用しているが、酸化チタンは蒸着槽内の高温雰囲気から外気に触れたときに酸化が進んで光の波長に対する透過率が異なってくるおそれがある。NDフィルタとしての特性を得るためには可視光線の波長領域全体で均一な透過率を得る必要があることから、酸化の進行状況を把握した管理をしなければならないが、光透過率を段階的に変化させたNDフィルタの製造工程では、蒸着槽から取り出してマスキングの交換をしなければならいので酸化される機会が多くなり、その分難しい管理が要求されることになる。
【0007】
そこで、本発明の目的は、熱収縮率の小さいプラスチックシートを基体材料として用い、長時間高温にさらされてもシートの収縮を最小限に抑えることで、シート表面のシワの発生を防止し、また蒸着材料として酸化されにくいクロメル膜を採用することで、可視光線の波長領域全体で均一な透過率を得るようにして、蒸着工程での管理を容易にできるようにしたNDフィルタを提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の請求項1に係るNDフィルタは、プラスチックシートからなる基体と、この基体表面に形成した蒸着膜とを有するNDフィルターにおいて、前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜がニッケル−クロム合金を蒸着材料としていることを特徴とする。
【0009】
前記ノルボルネン系の樹脂材料は、可視光線透過率が90%以上、濁度が0.5%以下と、NDフィルタとしての条件を備えている上に、熱収縮率(熱収縮率=0.1%以下/150℃30分)が極めて小さいので、長時間高温にさらされてもシートの収縮を最小限に押さえることができ、これによりシート表面のシワの発生が防止される。また、シートと蒸着膜との収縮率の差も小さくなるので蒸着膜の剥離を同時に防止できることになる。
【0010】
前記ニッケル−クロム合金は、ニッケルの比率が90%、クロムの比率が10%の合金からなるクロメルが望ましい。光透過率の異なる複数の領域を有するNDフィルタの製造では、プラスチックシートに多種類のマスキングを交換しながら蒸着槽から出し入れして蒸着工程を繰り返す必要があるが、上記のクロメルはそうした環境変化の中でも極めて酸化されにくいので、厳重な管理をしなくても可視光線の波長領域全体で均一な透過率が得られる。
【0011】
本発明では、前記蒸着膜が真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかで形成される。
【0012】
また、本発明の請求項5に係る絞り装置は、プラスチックシートからなる基体の表面に蒸着膜が形成されたNDフィルタを用いた絞り装置において、前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜がニッケル−クロム合金を蒸着材料としていることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に基づいて本発明に係るNDフィルタ及びその製造方法の実施形態を詳細に説明する。ここで、図1は透明プラスチックシートに積層された蒸着膜の構造を示す断面図、図2は真空蒸着装置の概要図、図3は固定治具に対する透明プラスチックシートとマスク板との位置関係を示す斜視図である。
【0014】
図1に示したように、本発明の基体となる透明プラスチックシート11は、その厚さが約25〜200μmの範囲であり、好ましくは50〜100μmの範囲である。25μm以下では薄すぎて剛性が不足し、蒸着材料が脆い材料の誘電体材料を含むため、透明プラスチックシート11の屈曲によって蒸着膜が剥がれ易くなるからである。一方、200μm以上の厚さになると、濁度が増して光の散乱が多くなり、フィルタとして用いた時に光学系内でフレアの原因となるからである。
【0015】
また、本発明の注目すべき点は、透明プラスチックシート11の材料としてノルボルネン系樹脂又はノルボルネン系樹脂を含む材料を用いていることである。ノルボルネン系樹脂は、熱収縮率が極めて低い上に光学フィルタの用途に適した90%以上の光透過率と、ヘイズ値が0.5%以下の濁度を有している。さらに、ノルボルネン系樹脂は、ガラス転移温度が120℃以上であり、真空蒸着装置内での透明プラスチックシート11の加熱温度より高いので、その点でもシート表面のシワの発生を有効に防止することができる。
【0016】
さらに、本発明の注目すべき点は、図1に示したように、本発明のNDフィルタ10が、透明プラスチックシート11の表面にクロメル膜12と二酸化ケイ素膜(SiO)13とを交互に積層し、最後に硬質のフッ化マグネシウム膜(MgF)14を積層したことである。クロメル膜12はニッケル90%、クロム10%の合金(クロメル)を蒸着材料とするもので、光吸収特性を備えた有色の蒸着膜として形成されるが、特に酸化されにくい性質を有しているので、真空蒸着工程で長時間高温にさらされる場合や、後述するように一連の蒸着工程の中で、透明プラスチックシート11を何回も外気にさらすような場合にも膜の酸化を受けにくく、光学特性に悪影響を及ぼさない。これらの蒸着膜は、真空蒸着法、イオンプレーティング法あるいはスパッタリング法によって形成されるが、それぞれの膜厚は概ね0.5〜1.0μm程度が好ましい。光透過率は膜厚や積層数によって調整することができる。なお、前記クロメル以外にもニッケルとクロムとの合金からクロメルと同じような特性を備えた蒸着膜を形成することができる。特に、ニッケルの比率が90%以上の合金を使用することが望ましい。
【0017】
二酸化ケイ素膜13は反射防止機能を備えており、前記クロメル膜12と交互に積層されることで可視波長域での反射を確実に防止できる。最上面に蒸着されるフッ化マグネシウム膜14は硬質膜であり、NDフィルタの表面硬度を確保している。
【0018】
次に、図2に示した真空蒸着装置に基づいて本発明に係るNDフィルタの製造方法について説明する。この図に示された真空蒸着装置15は真空ポンプ16に接続された蒸着槽17を備えている。蒸着槽17の上部の空間には半球状の回転台18が設けられ、この回転台18の表面に被蒸着体19が設置される。回転台18の上方には被蒸着体19を加熱するためのヒータ20が配設されている。一方、蒸着槽17内の底面には蒸着材料が収容されたるつぼ21と、その近傍に電子銃22とが備えられている。るつぼ21の上面には3個の凹所が設けられ、これら凹所に蒸着材料であるクロメル23、二酸化ケイ素24、フッ化マグネシウム25がそれぞれ顆粒状で収容されている。
【0019】
前記回転台18に設置される被蒸着体19は、図3に示したように、回転台18の表面に直接固定される平板状の固定治具26と、この固定治具26と略同じ大きさに形成された前記の透明プラスチックシート11と、この透明プラスチックシート11を前記固定治具26との間で挟み込むマスク板27とで構成される。固定治具26には対向する2箇所の隅部にボルト28が立設される一方、透明プラスチックシート11及びマスク板27には前記ボルト28に対応した位置に位置決め用の挿通孔29,30がそれぞれ設けられている。マスク板27には一枚の透明プラスチックシート11からNDフィルタを多数個取りできるように、NDフィルタの形状に対応した略扇形状の開口部31が縦横方向に多数設けられている。固定治具26の上に透明プラスチックシート11及びマスク板27の順に載置し、ボルト28にナット(図示せず)を締め付けることでマスク板27が透明プラスチックシート11に密着した状態で固定される。なお、前記マスク板27が金属板によって形成されている場合には、その重みで透明プラスチックシート11の上に載せるだけで密着させることができるが、上記のようにボルト・ナットで固定したり、押圧用のバネを別途使用したり、更には固定治具26とマスク板27とを磁石で吸着することで、より一層密着性を増すことができる。このように、マスク板27を透明プラスチックシート11に密着させることで、開口部31の周縁での蒸着膜の滲みを確実になくすことができる。
【0020】
上記のようにして準備した被蒸着体19を前記回転台18にセットしたのち蒸着槽17内を密閉し、真空ポンプ16によって真空引きを行なう。このとき同時にヒータ20によって内部温度を上げていき、被蒸着体19の透明プラスチックシート11を約120℃に加熱制御する。蒸着槽17内部の真空度が所定のレベルに到達したら、電子銃22から発した電子ビーム32によって蒸着材料であるクロメル23と二酸化ケイ素24を交互に加熱融解して被蒸着体19に蒸着する。そして、何回か繰り返した後、最後にフッ化マグネシウム25を加熱融解して蒸着する。被蒸着体19に位置決めされた透明プラスチックシート11にはマスク板27の開口部31を通した領域だけに上記の蒸着材料が図1に示したような順序で積層される。
【0021】
図4は上記のようにして得られたNDフィルタ10の光学特性を示したものであり、図4(a)は蒸着膜の透過率と波長との関係を示すグラフ、図4(b)は表面反射率と波長との関係を示すグラフである。測定は上記NDフィルタ10を作る際に、同時に膜形成されたモニタ用のサンプルを使用した。図4(a)によれば、波長が400〜700nmの範囲において透過率はほぼ30%で一定の値を示し、波長の違いによるばらつきがほとんどない。また、図4(b)によれば、波長が400〜700nmの範囲において表面反射率は2%以下と極めて低い値であり、実用上は全く問題とならないとの結果を得た。
【0022】
図5は光透過率の異なる3つの領域を備えたNDフィルタが多数形成された透明プラスチックシート11を示したものである。図5に示したように、蒸着膜が形成された部分をプレス加工等で打ち抜いてNDフィルタ10が完成する。このNDフィルタ10には光透過率の異なる3つの領域10a,10b,10cが形成されるが、これは例えば図6に示すような3種類のマスク板27a,27b,27cを使用することで形成することができる。即ち、第1のマスク板27aには3つの領域10a,10b,10cに対応する開口部31aが設けられ、第2のマスク板27bには第2領域10b及び第3領域10cに対応する開口部31bが設けられ、第3のマスク板27cには第3領域10cに対応する開口部31cが設けられている。そして、第1のマスク板27aを用いた第1回目の蒸着工程で全体領域10a,10b,10cを蒸着し、第2のマスク板27bを用いた第2回目の蒸着工程で第2および第3領域10b,10cを蒸着し、第3のマスク板27cを用いた第3回目の蒸着工程で第3領域10cのみを蒸着することで、それぞれの領域の蒸着膜の積層数が異なり、結果的に光透過率が段階的に異なる複数の領域を形成することができることになる。
【0023】
上記のように、光透過率が段階的に異なる領域を有するNDフィルタを製造する場合には、上述した三種類のマスク板27a,27b,27cを蒸着工程の途中で交換する必要があり、その都度蒸着槽17を開けて被蒸着体19を外部に取り出してマスクを交換するため外気に触れることになるが、上述したように、クロメル膜12は酸化されにくい性質を備えているので、蒸着膜は酸化作用をほとんど受けることがない。そのために、NDフィルタの光学特性にもほとんど影響を及ぼすことがなく、図4に示したのと同じような特性を示す。
【0024】
図7は、上述のNDフィルタ10が組み込まれた絞り装置の一例を示したものであり、小型のビデオカメラやデジタルカメラ等に搭載される露光調整用の絞り装置について説明する。この絞り装置は、ベース部材40、アーム41、第1絞り羽根42、第2絞り羽根43、一対のマグネット44、駆動コイルと制動コイルからなる励磁用の導電コイル45、駆動コイルと制動コイルを外部装置と電気的に接続するための電極端子46、その他マグネットの移動位置を捕らえ絞りの開口量を検知するための磁気センサ(図示せず)等で構成され、前記ベース部材30の底面中央部には露光孔47が設けられ、左右両側には前記絞り羽根42,43のスライドをガイドするガイドピン48が数箇所に設けられている。
【0025】
前記第1絞り羽根42及び第2絞り羽根43にはガイドピン48が挿入されるガイドされる長溝49と、前記露光孔47と略同一形状の絞り開口部50とが形成されている。そして、この絞り開口部50の一部に被さるように、本発明のNDフィルタ10がスライド可能に配設されている。そして、前記第1絞り羽根42及び第2絞り羽根43を互いにスライド移動させることによって露光孔47を通過する光量を調整できると共に、小絞りの際には前記NDフィルタ10を露光孔47側にスライドさせることで露光孔47の光透過率を微調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るNDフィルタの構造を示す断面図である。
【図2】本発明のNDフィルタを製造するための真空蒸着装置の概要図である。
【図3】固定治具に対する透明プラスチックシートとマスク板との位置関係を示す斜視図である。
【図4】本発明に係るNDフィルタの光学特性を示しグラフである。
【図5】光透過率の異なる領域を備えたNDフィルタと、このNDフィルタが多数形成された透明プラスチックシートを示す斜視図である。
【図6】図5に示したNDフィルタを製造するための開口形状が異なる3種類のマスク板を示す説明図である。
【図7】本発明に係るNDフィルタを組み込んだ絞り装置の一実施例を示す斜視図である。
【符号の説明】
10 NDフィルタ
11 透明プラスチックシート
12 クロメル膜
13 二酸化ケイ素膜
14 フッ化マグネシウム膜
15 真空蒸着装置
17 蒸着槽

Claims (5)

  1. プラスチックシートからなる基体と、この基体表面に形成した蒸着膜とを有するNDフィルターにおいて、
    前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜がニッケル−クロム合金を蒸着材料としていることを特徴とするNDフィルタ。
  2. プラスチックシートからなる基体と、この基体表面に形成された蒸着膜とを有し、前記基体表面が複数の領域に分かれ、それぞれの領域には積層数の異なる蒸着膜が形成されることで、それぞれの領域が異なる光透過率を有するNDフィルタにおいて、
    前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜がニッケル−クロム合金を蒸着材料としていることを特徴とするNDフィルタ。
  3. 前記ニッケル−クロム合金がクロメルである請求項1又は2記載のNDフィルタ。
  4. 前記蒸着膜が、真空蒸着法、イオンプレーティング法およびスパッタリング法のいずれかで形成されてなる請求項1又は2記載のNDフィルタ。
  5. プラスチックシートからなる基体の表面に蒸着膜が形成されたNDフィルタを用いた絞り装置において、
    前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜がニッケル−クロム合金を蒸着材料としていることを特徴とする絞り装置。
JP2002190705A 2002-06-28 2002-06-28 Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置 Pending JP2004037545A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002190705A JP2004037545A (ja) 2002-06-28 2002-06-28 Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置
US10/600,528 US6842301B2 (en) 2002-06-28 2003-06-23 ND filter and aperture device including the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002190705A JP2004037545A (ja) 2002-06-28 2002-06-28 Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004037545A true JP2004037545A (ja) 2004-02-05

Family

ID=31492006

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002190705A Pending JP2004037545A (ja) 2002-06-28 2002-06-28 Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6842301B2 (ja)
JP (1) JP2004037545A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7295391B1 (en) 2005-12-22 2007-11-13 Canon Denshi Kabushiki Kaisha ND filter for aperture device and aperture device comprising ND filter
JP2010266889A (ja) * 2004-07-20 2010-11-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 吸収型多層膜ndフィルターの製造方法
JP2010277094A (ja) * 2004-11-24 2010-12-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 吸収型多層膜ndフィルターの製造方法
JP2011070150A (ja) * 2009-04-14 2011-04-07 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Ndフィルタ及びテレビカメラ並びにndフィルタの製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4595687B2 (ja) * 2004-07-20 2010-12-08 住友金属鉱山株式会社 吸収型多層膜ndフィルター
JP4613706B2 (ja) * 2004-11-24 2011-01-19 住友金属鉱山株式会社 吸収型多層膜ndフィルター
WO2009016656A1 (en) * 2007-07-27 2009-02-05 Galileo Avionica S.P.A. Thin-film multilayer treatment for bidirectional attenuation of stray light
US20090128939A1 (en) * 2007-10-31 2009-05-21 Newport Corporation Durability broad band metallic neutral density optical filters and related methods of manufacture
JP4693836B2 (ja) * 2007-12-17 2011-06-01 日本電波工業株式会社 赤外線カットフィルタ及びその製造方法
GB201103810D0 (en) * 2011-03-04 2011-04-20 G24 Innovations Ltd Photovoltaic cell
WO2014034133A1 (ja) 2012-08-31 2014-03-06 キヤノン電子株式会社 光量調整装置、撮像光学系、及び撮像装置
CN106999299A (zh) * 2014-12-05 2017-08-01 3M创新有限公司 视觉防护滤光镜
CN111996496B (zh) * 2020-08-28 2022-09-30 中国电子科技集团公司第四十一研究所 一种太赫兹衰减片的制备方法及其衰减特性标定方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3897140A (en) * 1972-12-22 1975-07-29 Roger W Tuthill Multilayer solar filter reducing distortive diffraction
JP3359114B2 (ja) * 1993-08-26 2002-12-24 キヤノン株式会社 薄膜型ndフィルター及びその製造方法
US5726797A (en) * 1995-07-25 1998-03-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Infrared neutral-density filter having copper alloy film
JP4855602B2 (ja) * 2001-07-27 2012-01-18 日本電産コパル株式会社 薄膜型ndフィルタ及びその製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010266889A (ja) * 2004-07-20 2010-11-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 吸収型多層膜ndフィルターの製造方法
JP2010277094A (ja) * 2004-11-24 2010-12-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 吸収型多層膜ndフィルターの製造方法
US7295391B1 (en) 2005-12-22 2007-11-13 Canon Denshi Kabushiki Kaisha ND filter for aperture device and aperture device comprising ND filter
JP2011070150A (ja) * 2009-04-14 2011-04-07 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Ndフィルタ及びテレビカメラ並びにndフィルタの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20040027706A1 (en) 2004-02-12
US6842301B2 (en) 2005-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006227432A (ja) 光学フィルタの製造方法及びこれを用いた光学フィルタ並びに光量調整装置
JP2004037545A (ja) Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置
CN100470269C (zh) Nd滤光片和孔径光圈设备
US3698946A (en) Transparent conductive coating and process therefor
JP3692096B2 (ja) Ndフィルタ及びその製造方法並びにndフィルタを組み込んだ絞り装置
CN102556950B (zh) 一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法
US20080105939A1 (en) Coated Package with Filter Profile
CN103376642B (zh) 光掩模坯料及其制造方法
JP2008304497A (ja) 光学薄膜成膜方法、光学基板及び光学薄膜成膜装置
JP2006201661A (ja) Ndフィルタ及びそのndフィルタの製造方法並びにそのndフィルタを用いた光量調整装置
JP2009162852A (ja) 光学素子
JP2007171542A (ja) 光学絞り用ndフィルタと該ndフィルタを備えた光学絞り装置
JP2005062903A (ja) Ndフィルタ及びこれを用いた光量調整装置
JP2005017986A (ja) Ndフィルタ、ndフィルタの製造方法、及びこれらのndフィルタを有する光量絞り装置、カメラ
KR102579089B1 (ko) 이온빔 스퍼터링 장치를 이용한 편광필터 제조방법
JP2004295015A (ja) Ndフィルタ及びその製造方法
Guo Design and fabrication of photonic devices using phase change materials
JPH07134202A (ja) マイクロレンズアレイ及びその製作法
US7794646B2 (en) Method for manufacturing mold used in impression process
JP4493412B2 (ja) Ndフィルタの製造方法
JP2013147752A (ja) 光学素子
CN114335111A (zh) 一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置
JP2583295Y2 (ja) 真空蒸着装置
CN118038767A (zh) 基于Micro-LED显示面板的显示系统
JP3127164B2 (ja) マイクロレンズアレイの製作法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041215

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050608