JPH10110259A - 誘電体多層膜の成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 多種少量生産を容易に、かつ効率的に行うこ
とが可能な誘電体多層膜の成膜装置を提供する。 【解決手段】 反応室内で複数のホルダに異なる種類の
成膜対象を保持し、それらと成膜材料の供給源との間
に、各成膜対象への成膜材料の目標膜厚及び積層パター
ンに応じて各々個別に開閉制御可能なシャッタを設ける
ことにより、複数種類の成膜を同時に行うことができ、
多種類少量生産を容易に、かつ効率的に行うことが可能
となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は誘電体多層膜の成膜
装置に関し、特に光学素子の多層膜を形成するのに適し
た誘電体多層膜の成膜装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、例えば偏光フィルタや可視分
離フィルタ、或いは干渉フィルタなどの光学素子を製造
するのにレンズ、ガラスなどの基材表面に屈折率の異な
る２種類の誘電体膜を交互に積層してなる所謂交互スタ
ック膜を形成している。

【０００３】このような光学素子の誘電体多層膜を成膜
する装置は、一度に同種の素子を大量に製造するべく多
くの基材をセットしてバッチ式で成膜処理するようにな
っていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
用途の多様化に伴い様々なパターンの誘電体多層膜を有
する光学素子が求められており、反面１つの用途に必要
な量は少なくなってきている。従って、上記したような
大規模な成膜装置で少量の光学素子のための成膜処理を
多くの種類について行うこととなり、処理時間、作業の
手間、成膜材料の消費量などに対する生産量が低下し、
生産効率が低下し、コストが高騰化しがちであった。

【０００５】本発明は上記したような従来技術の問題点
に鑑みなされたものであり、その主な目的は、多種少量
生産を容易に、かつ効率的に行うことが可能な誘電体多
層膜の成膜装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述した目的は本発明に
よれば、複数種類の成膜対象を各々保持するべくチャン
バ内に設けられた複数のホルダと、前記各ホルダに保持
された成膜対象と成膜材料の供給源との間に前記各ホル
ダ毎に設けられ、各々個別に開閉可能なシャッタと、前
記各シャッタを前記各成膜対象への前記成膜材料の目標
膜厚に応じて開閉制御する制御手段とを有することを特
徴とする誘電体多層膜の成膜装置を提供することにより
達成される。更に、前記成膜材料の供給源が複数設けら
れ、各供給源にも各々個別に開閉制御可能なシャッタが
設けられ、前記制御手段が、前記各シャッタを前記各成
膜対象への前記各成膜材料の積層パターン及び目標膜厚
に応じて開閉制御するようになっていると良い。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施形態
について添付の図面を参照して詳細に説明する。

【０００８】図１は、本発明が適用された真空蒸着装置
の概略構成を示す図である。ケーシング１にて画定され
た真空チャンバ２内には、蒸着源（成膜材料）３、４が
容器５、６に受容されている。これら蒸着源３、４は図
示されない加熱装置により加熱され、かつ電子銃により
電子ビームが供給されるようになっている。また、これ
ら蒸着源３、４の前面には各々個別に制御されるシャッ
タ７、８が設けられている。

【０００９】一方、真空チャンバ２内の蒸着源３、４と
対向する位置には、各々成膜対象としての基材Ａ、Ｂ、
Ｃを保持するホルダ１０、１１、１２がモータ１３、１
４、１５をもって回転可能に設けられている。また、各
基材の表面近傍には開閉可能なシャッタ１６、１７、１
８が設けられている。これらシャッタ１６、１７、１８
及び上記シャッタ７、８は外部に設けられた制御装置２
０により、その開閉タイミングが個別に制御されるよう
になっている。制御装置２０は真空チャンバ２内の真空
度、温度、電子ビーム、膜厚センサ２１による各基材
Ａ、Ｂ、Ｃ表面の膜厚なども監視し、制御するようにな
っている。

【００１０】以下に、本実施形態に於ける真空蒸着装置
の作動要領について説明する。まず、例えばホルダ１０
に偏光フィルタ、ホルダ１１に可視分離フィルタ、ホル
ダ１２に干渉フィルタ用の基材（基板）Ａ、Ｂ、Ｃを１
つまたは複数個づつ保持し、真空チャンバ２内にセット
する。また、高屈折材からなる成膜材料３及び低屈折材
からなる成膜材料４もセットする。そして、通常の真空
蒸着装置と同様に真空チャンバ２内を真空引きし、各成
膜材料を加熱する。このとき、各シャッタ７、８、１
６、１７、１８は閉じられている。次に、各成膜材料
３、４の蒸発量が安定したら、モータ１３、１４、１５
を定速回転させ、シャッタ７、８を選択的に開き、その
後、各基材Ａ、Ｂ、Ｃの膜の積層パターン及び各膜の厚
さに応じて各シャッタ１６、１７、１８を開閉制御して
各々所望の積層パターンの所望の厚さの膜を形成する。
その時間的な流れを図２に示す。ここで、「Ｈ」はシャ
ッタ７を開いた状態で各シャッタ１６、１７、１８を開
閉制御する成膜材料３の成膜時間、「Ｌ」はシャッタ８
を開いた状態で各シャッタ１６、１７、１８を開閉制御
する成膜材料４の成膜時間、Δｔ１、Δｔ２、Δｔ３は
完成した光学素子に入射する光の波長及び入射角などに
応じた膜厚差を形成するためのシャッタ１６、１７、１
８の作動時間差である。

【００１１】

【発明の効果】以上の説明により明らかなように、本発
明による誘電体多層膜の成膜装置によれば、チャンバ内
で複数のホルダに各々異なる種類の成膜対象を保持し、
それらと成膜材料の供給源との間に、各成膜対象への成
膜材料の目標膜厚及び積層パターンに応じて個別に開閉
制御可能なシャッタを各ホルダ毎に設けることにより、
複数種類の成膜を同時に行うことができ、多種類少量生
産を容易に、かつ効率的に行うことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用された真空蒸着装置の概略構成を
示す図。

【図２】本発明が適用された真空蒸着装置による複数種
類の交互スタック膜の成膜処理を示す図。

【符号の説明】

１ ケーシング ２ 真空チャンバ ３、４ 蒸着源（成膜材料） ５、６ 容器 ７、８ シャッタ １０、１１、１２ ホルダ １３、１４、１５ モータ １６、１７、１８ シャッタ ２０ 制御装置 ２１ 膜厚センサ Ａ、Ｂ、Ｃ 偏光フィルタ、可視分離フィルタ、干渉フ
ィルタ用基材（基板）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数種類の成膜対象を各々保持するべ
   くチャンバ内に設けられた複数のホルダと、 前記各ホルダに保持された成膜対象と成膜材料の供給源
   との間に前記各ホルダ毎に設けられ、各々個別に開閉可
   能なシャッタと、 前記各シャッタを前記各成膜対象への前記成膜材料の目
   標膜厚に応じて開閉制御する制御手段とを有することを
   特徴とする誘電体多層膜の成膜装置。
2. 【請求項２】 更に、前記成膜材料の供給源が複数設
   けられ、各供給源にも各々個別に開閉制御可能なシャッ
   タが設けられ、 前記制御手段が、前記各シャッタを前記各成膜対象への
   前記各成膜材料の積層パターン及び目標膜厚に応じて開
   閉制御するようになっていることを特徴とする請求項１
   に記載の誘電体多層膜の成膜装置。