JP4693836B2 - 赤外線カットフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
赤外線カットフィルタ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4693836B2 JP4693836B2 JP2007324227A JP2007324227A JP4693836B2 JP 4693836 B2 JP4693836 B2 JP 4693836B2 JP 2007324227 A JP2007324227 A JP 2007324227A JP 2007324227 A JP2007324227 A JP 2007324227A JP 4693836 B2 JP4693836 B2 JP 4693836B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- thin film
- vapor deposition
- index thin
- low refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Studio Devices (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
Low Pass Filter)の表面に形成する光学多層膜フィルタの帯電を除去する方法として、光学多層膜フィルタの表面に金属膜を形成する技術に関する。
Device)センサまたはCMOS(Complementary Metal-Oxide
Semiconductor)センサの前面にはガラス基板又は水晶基板などで構成された光学ローパスフィルタを設置している。光学的ローパスフィルタは、低い周波数成分を通し、高周波成分をカットすることで、主として輝度差が大きい細かな模様をボカしている。例えば、固体撮像素子は規則正しく並んだ細かい模様を撮影すると干渉縞(モアレ)が発生し、また逆光に輝く髪の毛など、輝度差が激しい輪郭部分は偽色(色モアレ)と呼ばれる色づきが発生してしまう。このため、光学ローパスフィルタはこうした干渉縞や偽色を低減するために、画像をわずかにボカすことでエッジを鈍らせ、干渉縞と偽色とを除去している。
この構成により、ITOを使用することなく導電性の高い赤外線カットフィルタを提供することができ、この赤外線カットフィルタは静電気が溜まることがなくゴミ、ホコリなどが付着することがない。
これらの材料が高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜として適用できる。
ガラス基板又は水晶基板が光学フィルタとして適している。
水分を吸収させる工程を設けることで、小さな原子量で組成された蒸着材料が高屈折率材料及び低屈折率材料に入り込みにくくなり、赤外線カットフィルタを製造することができる。
大気開放することで、大気中に含まれる水分(水蒸気)が高屈折率材料及び低屈折率材料に吸収される。このため大気開放という簡単な作業で導電性のよい赤外線カットフィルタを製造することができる。
本発明の光学多層膜フィルタ30は光学ローパスフィルタである水晶基板20の表面に高い屈折率の酸化物と、低い屈折率の酸化物とを積層し、最終層に低い屈折率の非酸化物を積層することで、除電機能のもつ光学多層膜フィルタ30を提供する。例えば、光学多層膜フィルタ30は屈折率の高い材料として二酸化チタン(TiO2)32を用い、屈折率の低い材料として二酸化ケイ素(SiO2)33を用いている。光学多層膜フィルタ30は高屈折材料と低屈折材料とを20層から60層重ねることで、赤外線を除去し、最終層にフッ化マグネシウム(MgF2)31を積層することで、帯電を除去する。
光学多層膜フィルタ30は温度や湿度の変化に対する光学特性の変化が少ない、安定な薄膜形成が求められる。このため、光学多層膜フィルタ30はイオンアシスト蒸着(IAD:Ion Assisted Deposition)などの手法を用いて薄膜を形成している。イオンアシスト蒸着装置10は図1に示すような構成により、均一で安定な光学多層膜フィルタ30を形成している。
光学多層膜フィルタ30の光透過率は透明薄膜の屈折率と膜厚の積で決まるため、所望する赤外線を反射するように屈折率と膜厚と積層数とを設計する。一般的に膜厚は波長の反射率もしくは透過率が最大になるように波長の1/4前後に設計される。
実施例2は実施例1での光学多層膜フィルタ30をデジタルスチルカメラの撮像モジュール100に適用した場合を示す。図5はデジタルスチルカメラの撮像モジュール100の構成図である。撮像モジュール100は光学ローパスフィルタである水晶基板20と、光学ローパスフィルタの前面に蒸着した光学多層膜フィルタ30と、CCDセンサまたはCMOSセンサなどの固体撮像素子40と、固体撮像素子40の駆動部50と、で構成されている。
11 … 第1蒸発源
12 … 第2蒸発源
13 … イオン源
14 … 中和器
15 … 基板ドーム
16 … シャッタ
17 … 電子銃
19 … 真空チャンバ
20 … 水晶基板
21 … 蒸発物質
22 … イオン(+)
23 … 電子(−)
30 … 光学多層膜フィルタ
31 … フッ化マグネシウム
32 … 二酸化チタン
33 … 二酸化ケイ素
40 … 固体撮像素子
50 … 駆動部
100 … 撮像モジュール
Claims (5)
- 高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜を透明基板上に成膜し、可視光を透過し赤外光を反射させる赤外線カットフィルタであって、
前記高屈折率薄膜と前記低屈折率薄膜とは酸化物であり、
最終層の2層前に前記高屈折率薄膜を、最終層の1層前に前記低屈折率薄膜を、最終層にMgF2又はLiFの蒸着材料を形成し、
前記高屈折率薄膜および前記低屈折率薄膜は真空状態で形成され、前記MgF 2 又はLiFの蒸着材料は一旦大気解放された後真空状態で形成され、
前記最終層のMgF2又はLiFが、前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層のMgF2又はLiFの一部が酸化金属膜となり、且つ所定の透過率を有し、
前記高屈折率薄膜、前記低屈折率薄膜および前記MgF 2 又はLiFの蒸着材料が大気解放されずに形成された場合よりも、前記最終層の2層前の前記高屈折率薄膜で前記Mg又はLiが半分以下であることを特徴とする赤外線カットフィルタ。 - 前記高屈折率薄膜は、TiO2、Nb2O5、Ta2O5のいずれか、又はTiO2、Nb2O5、Ta2O5のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、前記低屈折率薄膜は、SiO2、Bi2O3のいずれか、又はLa2O3とAl2O3との複合酸化物から成る酸化物であることを特徴とする請求項1に記載の赤外線カットフィルタ。
- 前記透明基板が、ガラス基板又は水晶基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか一項に記載の赤外線カットフィルタ。
- 真空状態で透明基板上に酸化物の高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と酸化物の低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とを交互に複数積層し、最終層の2層前に前記高屈折率薄膜を、最終層の1層前に前記低屈折率薄膜を積層する第1蒸着工程と、
真空状態で最終層にMgF 2 又はLiFの蒸着材料を蒸着する第2蒸着工程と、
前記第1蒸着工程と前記第2蒸着工程との間に、前記高屈折率材料及び前記低屈折率材料に水分を吸収させる工程と、
を備えたことを特徴とする赤外線カットフィルタの製造方法。 - 前記水分を吸収させる工程では、前記真空状態を大気開放し、
前記第2蒸着工程では、前記大気開放状態から再び真空状態にして前記MgF 2 又はLiFの蒸着材料を蒸着することを特徴とする請求項4に記載の赤外線カットフィルタの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007324227A JP4693836B2 (ja) | 2007-12-17 | 2007-12-17 | 赤外線カットフィルタ及びその製造方法 |
US12/330,421 US8233219B2 (en) | 2007-12-17 | 2008-12-08 | Optical multilayer thin-film filters and methods for manufacturing same |
CN200810179282.0A CN101464534B (zh) | 2007-12-17 | 2008-12-16 | 光学多层膜滤波器及其制造方法 |
US13/532,028 US20120263872A1 (en) | 2007-12-17 | 2012-06-25 | Optical multilayer thin-film filters and methods for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007324227A JP4693836B2 (ja) | 2007-12-17 | 2007-12-17 | 赤外線カットフィルタ及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011044845A Division JP5269933B2 (ja) | 2011-03-02 | 2011-03-02 | 光学多層膜フィルタ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009145710A JP2009145710A (ja) | 2009-07-02 |
JP2009145710A5 JP2009145710A5 (ja) | 2010-01-21 |
JP4693836B2 true JP4693836B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=40752843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007324227A Expired - Fee Related JP4693836B2 (ja) | 2007-12-17 | 2007-12-17 | 赤外線カットフィルタ及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8233219B2 (ja) |
JP (1) | JP4693836B2 (ja) |
CN (1) | CN101464534B (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5132534B2 (ja) * | 2008-12-01 | 2013-01-30 | 日本電波工業株式会社 | 光学部品の製造方法 |
US20100290230A1 (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | Dirk Carl W | Protective Light Filters and Illuminants Having Customized Spectral Profiles |
JP2011186144A (ja) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Olympus Corp | 光学部品およびその製造方法 |
JP5489824B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜及び赤外線用光学素子 |
JP5779852B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2015-09-16 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置 |
JP5707780B2 (ja) | 2010-08-25 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
CN102029739A (zh) * | 2010-10-09 | 2011-04-27 | 杭州科汀光学技术有限公司 | 一种高导热性和低应变的光学多层膜 |
US20120262808A1 (en) * | 2011-04-18 | 2012-10-18 | Robert Baker | Multiple-layer radiation absorber |
RU2504805C2 (ru) * | 2012-01-17 | 2014-01-20 | Открытое акционерное общество "Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова" | Многоспектральный интерференционный светофильтр для защиты от лазерного излучения |
CN103378306A (zh) * | 2012-04-28 | 2013-10-30 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 有机电致发光器件及其制备方法 |
CN103454709A (zh) * | 2012-05-30 | 2013-12-18 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 红外截止滤光片及镜头模组 |
CN102749667B (zh) * | 2012-07-28 | 2014-09-17 | 杭州科汀光学技术有限公司 | 用于图像芯片的光学滤波器 |
CN104969099A (zh) | 2012-09-26 | 2015-10-07 | 8797625加拿大有限公司 | 多层光干涉滤片 |
WO2014065373A1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | 京セラ株式会社 | 光学フィルタ部材およびこれを備えた撮像装置 |
JP2015111241A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-06-18 | 日本電波工業株式会社 | 光学部品 |
US9739926B2 (en) * | 2014-09-26 | 2017-08-22 | Fujifilm Corporation | Laminate film, backlight unit, and liquid crystal display device |
EA027713B1 (ru) * | 2015-01-20 | 2017-08-31 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак Технологии" | Способ изготовления многозонного оптического чип фильтра и его конструкция |
KR101660163B1 (ko) * | 2015-02-04 | 2016-09-26 | 엘지전자 주식회사 | 광 변환 부재, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 디스플레이 장치 |
CN104614794B (zh) * | 2015-03-02 | 2017-05-31 | 山东阳谷恒晶光电有限公司 | 一种红色舞台滤光片及其制备方法 |
US9709746B2 (en) * | 2015-11-17 | 2017-07-18 | International Business Machines Corporation | Micro-filter structures for wavelength division multiplexing in polymer waveguides |
JP6740762B2 (ja) * | 2016-07-13 | 2020-08-19 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置およびその製造方法 |
CN108706889A (zh) * | 2018-05-08 | 2018-10-26 | 北京汉能光伏投资有限公司 | 一种镀膜板及其制备方法和一种太阳能组件 |
CN109355629B (zh) * | 2018-11-27 | 2020-12-11 | 杭州科汀光学技术有限公司 | 一种薄膜滤光片的低温制备方法 |
US11180832B2 (en) * | 2018-12-17 | 2021-11-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnesium-lithium alloy member, manufacturing method thereof, optical apparatus, imaging apparatus, electronic apparatus and mobile object |
CN109576647A (zh) * | 2018-12-24 | 2019-04-05 | 深圳正和捷思科技有限公司 | 一种超薄滤光片薄膜制备方法 |
CN110806665B (zh) * | 2019-10-08 | 2021-09-24 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板及显示面板 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006249499A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Canon Inc | 複合成膜装置 |
JP2007193264A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Sony Corp | 光学ローパスフィルタ |
JP2007316107A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 赤外線カットフィルタとその製造方法、赤外線カットフィルタを有する光学部品 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5688608A (en) * | 1994-02-10 | 1997-11-18 | Industrial Technology Research Institute | High refractive-index IR transparent window with hard, durable and antireflective coating |
JPH10123303A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-05-15 | Victor Co Of Japan Ltd | 反射防止光学部品 |
FR2817267B1 (fr) * | 2000-11-28 | 2003-08-29 | Essilor Int | Procede de depot de couche anti-reflets a froid sur substrat organique |
FR2834712B1 (fr) * | 2002-01-14 | 2004-12-17 | Essilor Int | Procede de traitement d'un verre ophtalmique |
JP2004037545A (ja) | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Nisca Corp | Ndフィルタ及びこれを用いた絞り装置 |
JP4401880B2 (ja) * | 2004-07-09 | 2010-01-20 | 光伸光学工業株式会社 | 多重バンドパスフィルタ |
JP4643202B2 (ja) * | 2004-08-20 | 2011-03-02 | 日本電波工業株式会社 | 光学ローパスフィルタ |
JP4207083B2 (ja) | 2006-04-04 | 2009-01-14 | セイコーエプソン株式会社 | 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置 |
-
2007
- 2007-12-17 JP JP2007324227A patent/JP4693836B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-08 US US12/330,421 patent/US8233219B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-16 CN CN200810179282.0A patent/CN101464534B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-06-25 US US13/532,028 patent/US20120263872A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006249499A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Canon Inc | 複合成膜装置 |
JP2007193264A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Sony Corp | 光学ローパスフィルタ |
JP2007316107A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Canon Inc | 赤外線カットフィルタとその製造方法、赤外線カットフィルタを有する光学部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120263872A1 (en) | 2012-10-18 |
CN101464534B (zh) | 2014-06-18 |
CN101464534A (zh) | 2009-06-24 |
JP2009145710A (ja) | 2009-07-02 |
US8233219B2 (en) | 2012-07-31 |
US20090153971A1 (en) | 2009-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4693836B2 (ja) | 赤外線カットフィルタ及びその製造方法 | |
JP6034785B2 (ja) | 光学部材 | |
US8535807B2 (en) | Anti-reflection film and infrared optical element | |
CN101598828B (zh) | 光学滤波器及摄像设备 | |
US20100226004A1 (en) | Optical Article and Method for Producing the Same | |
JP5269933B2 (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
JP2006301489A (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
JP2009145710A5 (ja) | 光学多層膜フィルタおよびその製造方法 | |
JP2009139925A (ja) | 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置 | |
KR20070099454A (ko) | 광학 다층막 필터, 광학 다층막 필터의 제조 방법 및 전자기기 장치 | |
JPWO2012157706A1 (ja) | 光学フィルタ、光学機器、電子機器及び反射防止複合体 | |
JP2008139693A (ja) | 赤外カットフィルタ | |
WO2014192670A1 (ja) | 光学フィルタ、光学フィルタの製造方法 | |
KR100991056B1 (ko) | 광학 다층막 필터, 광학 다층막 필터의 제조 방법 및 전자기기 장치 | |
JP5009395B2 (ja) | 撮像装置 | |
JP2006011408A (ja) | 光学素子及び光学機器 | |
JP2006010764A (ja) | 光学フィルタ | |
US8390175B2 (en) | Optical device and optical apparatus | |
JP2005148379A (ja) | 光学素子および撮像装置 | |
US11422295B2 (en) | Image capture device, optical filter film, and method for manufacturing optical filter film | |
JP5287362B2 (ja) | 光学フィルタおよび撮像システム | |
JP2014203063A (ja) | 近赤外線カットフィルタ及びそれを備えた眼鏡 | |
EP3373308B1 (en) | Radiation image conversion panel, method for producing radiation image conversion panel, radiation image sensor, and method for producing radiation image sensor | |
JP2008034502A (ja) | 固体撮像素子カバー及び固体撮像装置 | |
JP2003279726A (ja) | 赤外線カットフィルタ付き光学ローパスフィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091130 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100413 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100611 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110222 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |