JP2002519462A - 防炎性ポリカーボネート/absプラスチック成形材料 - Google Patents

防炎性ポリカーボネート/absプラスチック成形材料

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、優れた防炎性と非常に良好な加工特性を示す、ホスファゼンを含むポリカーボネート/ABSプラスチック成形材料に関する。本発明によれば、塊重合法、溶液重合法または懸濁重合法を用いてグラフトポリマーが製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、組み込まれたホスファゼンを有する、優れた防炎性と非常に良好な
加工特性を示すポリカーボネート/ABS成形組成物に関する。本発明では、グ
ラフトポリマーが、塊重合法、溶液重合法または塊/懸濁重合法によって製造さ
れる。
【0002】 ドイツ特許出願公開第19616968号には、重合性ホスファゼン誘導体、その製造
法、およびラッカー、コーティング、フィラー、表面仕上げ組成物、接着剤、成
形品またはフィルムのための硬化性バインダーとしてのその使用が記載されてい
る。
【0003】 国際特許出願公開第WO97/40092号には、熱可塑性ポリマーと(PNn-x1-y 型の)不飽和ホスファゼンとから調製される防炎成形組成物が記載されている。
【0004】 欧州特許出願公開第728811号には、芳香族ポリカーボネート、グラフトポリマ
ー、コポリマーおよびホスファゼンから成る、良好な防炎特性、衝撃強さおよび
耐熱性を示す熱可塑性ブレンドが記載されている。
【0005】 本発明の目的は、優れた防炎性と、良好な流れ特性や加工中に成形品上への析
出物の少ない形成のような優れた加工特性を有するポリカーボネート/ABS成
形組成物を提供することである。この範囲の特性は、特に、例えば、モニター、
プリンター、コピー機などのためのケーシングのような、情報処理における用途
に必要とされている。
【0006】 塊重合法、溶液重合法または塊/懸濁重合法によって製造される、ホスファゼ
ンをジエンゴム系グラフトポリマーと組み合わせて含有するPC/ABS成形組
成物は、所望の特性を示すことが分かっている。
【0007】 従って、本発明は、 A)芳香族ポリカーボネートおよび/またはポリエステルカーボネート 40〜99
重量部、好ましくは60〜98.5重量部、 B)B.1)1以上のビニルモノマー 50〜99重量%、好ましくは65〜98重量% と、 B.2)ガラス転移温度10℃未満、好ましくは0℃未満、特に−10℃未満の 1以上のグラフト化主鎖 50〜1重量%、好ましくは35〜2重量% との塊重合法、溶液重合法または塊/懸濁重合法によって製造されるグラフトポ
リマー 0.5〜60重量部、好ましくは1〜40重量部、特に2〜25重量部、 C)ビニル(コ)ポリマーおよびポリアルキレンテレフタレートから成る群より
選択される少なくとも1の熱可塑性ポリマー 0〜45重量部、0〜30重量部、特
に好ましくは2〜25重量部、 D)式:
【化3】
【化4】 (式中、Rはそれぞれ同一または異なっていてよく、アミノ、(任意にハロゲン
化、好ましくはフッ素でハロゲン化された)C1-〜C6-アルキル、またはC1-〜
8-アルコキシ、C5-〜C6-シクロアルキル、C6-〜C20-アリール、好ましく
はフェニルまたはナフチル、C6-〜C20-アリーロキシ、好ましくはフェノキシ
、ナフチロキシ、あるいはC7-〜C12-アラルキル、好ましくはフェニル-C1-〜
4-アルキル(これらは任意にアルキルで、好ましくはC1-〜C8-アルキルでお
よび/またはハロゲンで、好ましくは塩素、臭素で置換されていてもよい)を表
し、kは、0または1〜15の数、好ましくは1〜10の数を表す。) で表されるホスファゼンから成る群より選択される少なくとも1つの成分 0.1
〜50重量部、好ましくは2〜35重量部、特に5〜25重量部、 E)フッ素化ポリオレフィン 0〜5重量部、好ましくは0.1〜1重量部、特に
好ましくは0.1〜0.5重量部 を含有する熱可塑性成形組成物を提供するものである。
【0008】成分A 本発明に適した成分A芳香族ポリカーボネートおよび/または芳香族ポリエス
テルカーボネートは、文献より知られており、または文献より知られる方法を用
いて製造されてよい(芳香族ポリカーボネートの製造に関しては、例えば、シュ
ネル著、ケミストリー・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネーツ、イン
ターサイエンス・パブリッシャーズ、1964年、およびドイツ特許出願公開明細書
第1495626号、ドイツ出願公開第2232877号、同第2703376号、同第2714544号、同
第3000610号、同第3832396号;芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関して
は、例えば、ドイツ特許出願公開第3077934号 参照)。
【0009】 芳香族ポリカーボネートは、例えば、ジフェノールとカルボン酸ハライド、好
ましくはホスゲンとの、および/または芳香族ジカルボン酸ジハライド、好まし
くはベンゼンジカルボン酸ジハライドとの反応により、場合により連鎖停止剤(
例えば、モノフェノール)を用い、そして任意に3官能または3官能以上の枝分
かれ剤(例えば、トリフェノールまたはテトラフェノール)を用いて相界面法に
よって製造される。
【0010】 芳香族ポリカーボネートおよび/または芳香族ポリエステルカーボネートの製
造のためのジフェノールは、好ましくは式(III)で表されるものである。
【化5】 (式中、Aは、単結合、C1-C5-アルキレン、C2-C5-アルキリデン、C5-C6-
シクロアルキリデン、-O-、-SO-、-CO-、-S-、-SO2-、C6-C12-アリー
レン(それには、複素原子を任意に含有する別の芳香環が融合されていてもよい
)、または下記の式(IV)または(V):
【化6】
【化7】 で表される残基を表し、Bはそれぞれ、C1-C12-アルキル(好ましくはメチル
)、またはハロゲン(好ましくは塩素および/または臭素)を意味し、xはそれ
ぞれ互いに独立して、0、1または2を意味し、pは1または0であり、そして
7およびR8は、各X1とは独立して選択できかつ互いに独立して、水素または
1-C6-アルキル(好ましくは水素、メチルまたはエチル)を意味し、X1は、
炭素を意味し、およびmは、R7およびR8が少なくとも1個の原子X1上にアル
キルが同時に存在するのであれば、4〜7の整数(好ましくは4または5)を意
味する。)
【0011】 好ましいジフェノールは、ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフ
ェノール、ビス-(ヒドロキシフェニル)-C1-C5-アルカン、ビス-(ヒドロキシフ
ェニル)-C5-C6-シクロアルカン、ビス-(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス-
(ヒドロキシフェニル)-スルホキシド、ビス-(ヒドロキシフェニル)ケトン、 ビ
ス-(ヒドロキシフェニル)スルホンおよびα,α-ビス-(ヒドロキシフェニル)-ジ
イソプロピルベンゼン、並びに環-臭素化および/または環-塩素化誘導体である
【0012】 特に好ましいジフェノールは、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、ビスフェノー
ルA、2,4-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-2-メチルブタン、1,1-ビス-(4-ヒドロ
キシフェニル)-シクロヘキサン、1,1-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリ
メチルシクロヘキサン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒド
ロキシジフェニルスルホン、並びにそれらの二臭素化および四臭素化もしくは-
塩素化誘導体(例えば、2,2-ビス-(3-クロロ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパン
、2,2-ビス-(3,5-ジクロロ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパンまたは2,2-ビス-(3
,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパン)である。
【0013】 2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-プロパン(すなわち、ビスフェノールA)
が特に好ましい。
【0014】 ジフェノールは、個別に、または所望の混合物として用いることができる。
【0015】 ジフェノールは、文献から既知であるか、または文献から知られる方法で入手
することができる。
【0016】 熱可塑性芳香族ポリカーボネートの製造に好適な連鎖停止剤は、例えば、フェ
ノール、p-クロロフェノール、p-tert-ブチルフェノールまたは2,4,6-トリブロ
モフェノール、並びに長鎖アルキルフェノール[ドイツ特許出願公開第2842005号
の4-(1,3-テトラメチルブチル)-フェノール、またはアルキル置換基中に合計炭
素原子8〜20個を有するモノアルキルフェノールもしくはジアルキルフェノール
{例えば、3,5-ジ-tert-ブチルフェノール、p-イソオクチルフェノール、p-tert
-オクチルフェノール、p-ドデシルフェノールおよび2-(3,5-ジメチルヘプチル)-
フェノールおよび4-(3,5-ジメチルヘプチル)-フェノール}]である。用いられる
連鎖停止剤の量は、一般に、用いられる特定のジフェノールのモルの和に対して
0.5モル%〜10モル%である。
【0017】 熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、重量平均分子量(Mw、例えば、超遠心
分離または光散乱測定によって測定されるもの)10000〜200000、好ましくは200
00〜80000を有する。
【0018】 熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、既知の方法で、好ましくは3官能または
3官能以上の化合物(例えば、フェノール基3個以上を有するもの)を用いられ
るジフェノールの和に対して0.05〜2.0モル%組み込むことによって、枝分かれ
できる。
【0019】 ホモポリカーボネートとコポリカーボネートは共に適している。本発明の成分
Aのコポリカーボネートは、ヒドロキシ-アリーロキシ末端基を有するポリジオ
ルガノシロキサンも(用いられるジフェノールの合計量に対して)1〜25重量%
、好ましくは2.5〜25重量%使用することによって製造され得る。これは、既知
であり(例えば、米国特許第3419634号参照)または文献から知られる方法で調
製できる。ポリジオルガノシロキサン含有コポリカーボネートの製造は、ドイツ
特許出願公開第3334782号に記載されている。
【0020】 好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールAのホモポリカーボネートとは
別に、ジフェノールのモルの和に対して、好ましいまたは特に好ましいとして記
載される他のジフェノール(特に、2,2-ビス-(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェ
ニル)-プロパン)を15モル%までとビスフェノールAとのコポリカーボネートで
もある。
【0021】 芳香族ポリエステルカーボネートの製造のための芳香族ジカルボン酸ジハライ
ドは、好ましくは、イソフタル酸、テレフタル酸、ジフェニルエーテル-4,4'-ジ
カルボン酸および2,6-ナフタレンジカルボン酸の二酸ジクロライドである。
【0022】 イソフタル酸とテレフタル酸の比1:20〜20:1の二酸ジクロライドの混合物
が特に好ましい。
【0023】 カルボン酸ハライド、好ましくはホスゲンも、ポリエステルカーボネートの調
製において2官能の酸誘導体として更に使用される。
【0024】 芳香族ポリエステルカーボネートの製造のために考えられ得る連鎖停止剤は、
前述のモノフェノール以外に、それらのクロロカルボン酸エステル、および(場
合によりC1−C22アルキル基によってまたはハロゲン原子によって置換される
ことがある)芳香族モノカルボン酸の酸クロライド、並びに脂肪族C2−C22
ノカルボン酸クロライドである。
【0025】 連鎖停止剤の量は、フェノール系連鎖停止剤の場合はジフェノールのモル数に
対して、またモノカルボン酸クロライド連鎖停止剤の場合はジカルボン酸ジクロ
ライドのモル数に対して、0.1〜10モル%である。
【0026】 芳香族ポリエステルカーボネートは、組み込まれた芳香族ヒドロキシカルボン
酸も含有していてよい。
【0027】 芳香族ポリエステルカーボネートは、直鎖、および既知の方法で枝分かれされ
たもののいずれでも有り得る(これに関しては、ドイツ特許出願公開第2940024
号および同第3007934号も参照のこと)。
【0028】 使用できる枝分かれ剤は、例えば、(使用されるジカルボン酸ジクロライドに
対し)0.01〜1.0モル%の量の、トリメシン酸トリクロライド、シアヌール酸ト
リクロライド、3,3',4,4'-ベンゾフェノン-テトラカルボン酸テトラクロライド
、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸テトラクロライドまたはピロメリット酸
テトラクロライドのような3官能または3官能以上のカルボン酸クロライド、あ
るいは(用いられるジフェノールに対して)0.01〜1.0モル%の量の、フロログ
ルシノール、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)-2-ヘプテン、4
,4-ジメチル-2,4,6-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)ヘプタン、1,3,5-トリ-(4-ヒ
ドロキシフェニル)-ベンゼン、1,1,1-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)-エタン、ト
リ-(4-ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビス-[4,4-ビス-(4-ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキシル]-プロパン、2,4-ビス-(4-ヒドロキシフェニル-イソ
プロピル)-フェノール、テトラ-(4-ヒドロキシフェニル)メタン、2,6-ビス-(2-
ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェノール、2-(4-ヒドロキシフェニル
)-2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)プロパン、テトラ-(4-[4-ヒドロキシフェニル
イソプロピル]フェノキシ)メタン、1,4-ビス-[4,4'-ジヒドロキシトリフェニル)
メチル]ベンゼンのような3官能または多官能のフェノールである。フェノール
系枝分かれ剤は、ジフェノールと共に最初に反応容器へ入れることができ、酸ク
ロライド系枝分かれ剤は、酸ジクロライドと共に入れることができる。
【0029】 熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネート中のカーボネート構造単位の割合は
、所望により変えることができる。カーボネート基の割合は、エステル基とカー
ボネート基の和に対し、好ましくは100モル%まで、特に80モル%まで、特に好
ましくは50モル%までである。芳香族ポリエステルカーボネートのエステルおよ
びカーボネートフラクションはいずれも、重縮合生成物中に、ブロックの形態で
またはランダムに分布して存在していてよい。
【0030】 芳香族ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネートとの相対溶液粘度(
ηrel)は、1.18〜1.4、好ましくは1.22〜1.3の範囲である(25℃の塩化メチレ
ン100mL中、ポリカーボネートまたはポリエステル-カーボネート0.5gの溶液
中で測定されるもの)。
【0031】 熱可塑性芳香族ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネートは、それだ
けで、あるいは互いとの所望の混合物で用いることができる。
【0032】成分B ゴム変性グラフトポリマーBは、モノマーB.1.1とB.1.2とのランダム(
コ)ポリマー、並びにモノマーB.1.1とB.1.2とのランダム(コ)ポリマー
でグラフト化したゴムB.2とのランダム(コ)ポリマーを含有する(ここで、
Bは、例えば、米国特許第3243481号、同第3509237号、同第3660535号、同第422
1833号および同第4239863号に記載されているような、塊もしくは溶液重合法ま
たは塊/懸濁重合法を用いる既知の方法で製造される)。
【0033】 モノマーB.1.1の例は、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレン
、p-クロロスチレンのようなハロ-またはアルキル-環-置換スチレン、メチルメ
タクリレート、n-ブチルアクリレートおよびt-ブチルアクリレートのような(メ
タ)アクリルC1-C8アルキルエステルである。モノマーB.1.2の例は、アク
リロニトリル、メタクリロニトリルのような不飽和ニトリル、メチルメタクリレ
ート、n-ブチルアクリレート、t-ブチルアクリレートのような(メタ)アクリル
酸C1-C8アルキルエステル、無水マレイン酸およびN-フェニルマレイミドのよ
うな不飽和カルボン酸の(無水物およびイミドのような)誘導体、またはそれら
の混合物である。
【0034】 好ましいモノマーB.1.1は、スチレン、α-メチルスチレンおよび/または
メチルメタクリレートモノマーであり、好ましいモノマーB.1.2は、アクリロ
ニトリル、無水マレイン酸および/またはメチルメタクリレートモノマーである
【0035】 特に好ましい好ましいモノマーは、B.1.1スチレンと、B.1.2アクリロニ
トリルである。
【0036】 ゴム変性グラフトポリマーBに好適なゴムB.2は、例えば、ジエンゴム、E
P(D)Mゴム(すなわち、エチレン/プロピレンおよび任意にジエンをベースと
するもの)、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエ
チレン/酢酸ビニルゴムである。
【0037】 好ましいゴムB.2は、成分B.2のガラス転移温度が10℃未満、好ましくは−
10℃未満であれば、ジエンゴム(例えば、ブタジエン、イソプレンなど)または
ジエンゴムまたはジエンゴムのコポリマーあるいはそれらの混合物と別の共重合
性モノマー(例えば、B.1.1およびB.1.2)との混合物である。純粋なポリ
ブタジエンゴムが特に好ましい。
【0038】 成分Bは、必要に応じ、そしてその結果として成分B.2のゴム特性が損なわ
れないのであれば、架橋活性を有するエチレン性不飽和モノマーを少量、通常、
B.2に対して5重量%未満、好ましくは2重量%未満含有していてもよい。架
橋活性を有するそのようなモノマーの例は、アルキレンジオール、ジ(メタ)ア
クリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、トリビ
ニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、アリル(メタ)アクリレート、ジアリ
ルマレートおよびジアリルフマレートである。
【0039】 ゴム変性グラフトポリマーBは、ゴム成分B.21〜50重量部、好ましくは2
〜35重量部、特に好ましくは2〜15重量部、特に2〜13重量部の存在下、モノマ
ーB.1.1 50〜99重量部、好ましくは60〜95重量部とモノマーB.1.2 1〜
50重量部、好ましくは5〜40重量部との混合物50〜99重量部、好ましくは65〜98
重量部、特に好ましくは75〜97重量部のグラフト重合によって得られる。ここで
、グラフト重合は、塊もしくは溶液重合法または塊/懸濁重合法によって行なわ
れる。
【0040】 ゴム変性グラフトポリマーBを製造するときには、ゴム成分B.2が、グラフ
ト重合前に、モノマーB.1.1とB.1.2との混合物中に溶解した形態で存在す
ることが必須である。従って、ゴム成分B.2は、B.1.1およびB.1.2中に
溶解できないほど強く架橋していなくてもよく、あるいはグラフト重合の開始時
に、既に別個の粒子の形態であってもよい。粒子の形態や、B.2の高い架橋は
、Bの生成物特性には重要であり、グラフト重合の過程中で展開するだけである
(これに関しては、例えば、エンサイクロペディ・デル・テクニッシェン・ヘミ
ー、第19巻、第284頁以降参照、第4版1980年)。
【0041】 B.1.1とB.1.2のランダムコポリマーの一部は、一般には、ゴムB.2へ
のまたはゴムB.2中のグラフト形態のポリマーB中に存在し、このグラフトポ
リマーは、ポリマーB中に別個の粒子を形成する。B.1.1とB.1.2とのコポ
リマー全体に対し、そのようにグラフト化されるB.1.1とB.1.2とのコポリ
マーの割合(すなわち、グラフト化収率=使用される合計グラフトモノマーに対
する実際にグラフト化されるグラフトモノマーの重量比×100、%で表す)は、
2〜40%、好ましくは3〜30%、特に好ましくは4〜20%でなければならない。
【0042】 得られるグラフト化ゴム粒子の平均粒子直径(これは電子顕微鏡写真でカウント
することによって決定される)は、0.5〜5μm、好ましくは0.8〜2.5μmの範
囲である。
【0043】成分C 成分Cは、1以上の熱可塑性ビニル(コ)ポリマーC.1および/またはポリ
アルキレンテレフタレートC.2を含有する。
【0044】 好適なビニル(コ)ポリマーC.1は、ビニル芳香族、シアン化ビニル(不飽
和ニトリル)、(メタ)アクリル酸(C1-C8)-アルキルエステル、不飽和カル
ボン酸および不飽和カルボン酸の誘導体(無水物およびイミド)から成る群から
の少なくとも1のモノマーのポリマーである。特に好適な(コ)ポリマーは、 C.1.1 ビニル芳香族および/または環-置換ビニル芳香族(例えば、スチレ
ン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレンおよびp-クロロスチレン)および/
またはメタクリル酸(C1-C8)-アルキルエステル(例えば、メチルメタクリレ
ートおよびエチルメタクリレート) 50〜99重量部、好ましくは60〜80重量部と
、 C.1.2 アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルのようなシアン化ビニル
(不飽和ニトリル)、および/または(メタ)アクリル酸(C1-C8)-アルキル
エステル(例えば、メチルメタクリレート、n-ブチルアクリレートおよびt-ブチ
ルアクリレート)および/または不飽和カルボン酸(例えば、マレイン酸)およ
び/または不飽和カルボン酸の(無水物やイミドのような)誘導体(例えば、無
水マレイン酸およびN-フェニル-マレイミド) 1〜50重量部、好ましくは20〜
40重量部 とから調製されるものである。
【0045】 (コ)ポリマーC.1は、樹脂を含有し、熱可塑性でかつゴムを含まない。
【0046】 C.1.1スチレンとC.1.2アクリロニトリルとのコポリマーが特に好ましい
【0047】 (コ)ポリマーC.1は、既知であり、遊離基重合によって、特に乳化重合、
懸濁重合、溶液重合または塊重合によって製造されてよい。(コ)ポリマーは、
好ましくは、分子量
【化8】 (重量平均、光散乱または沈降によって決定されるもの)15000〜200000を有す
る。
【0048】 成分C.2ポリアルキレンテレフタレートは、芳香族ジカルボン酸またはその
反応性誘導体(例えば、ジメチルエステルまたは無水物)と、脂肪族、脂環式ま
たはアラリファティック(araliphatic)ジオールとの反応生成物、並びにその反
応生成物の混合物である。
【0049】 好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸残基を、ジカルボン
酸成分に対して少なくとも80重量%、好ましくは少なくとも90重量%、およびエ
チレングリコールおよび/またはブタン-1,4-ジオール残基を、ジオール成分に
対して少なくとも80重量%、好ましくは少なくとも90モル%含有する。
【0050】 好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸残基に加えて、炭素
数8〜14の他の芳香族または脂環式ジカルボン酸あるいは炭素数4〜12の脂肪族
ジカルボン酸の残基(例えば、フタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカル
ボン酸、4,4'-ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、
アゼライン酸またはシクロヘキサン二酢酸の残基)を20モル%まで、好ましくは
10モル%まで含有することができる。
【0051】 好ましいポリアルキレンテレフタレートは、エチレングリコールまたはブタン
-1,4-ジオール残基に加えて、炭素数3〜12の他の脂肪族ジオールまたは炭素数
6〜21の脂環式ジオール残基(例えば、1,3-プロパンジオール、2-エチル-1,3-
プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキ
サンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、3-エチル-2,4-ペンタンジオ
ール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオー
ル、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール、2,
5-ヘキサンジオール、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、2,2-ビス-(4-
ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2,4-ジヒドロキシ-1,1,3,3-テトラメチル
シクロブタン、2,2-ビス-(4-β-ヒドロキシエトキシフェニル)プロパンおよび2,
2-ビス-(4-ヒドロキシプロポキシフェニル)プロパンの残基)を20モル%まで、
好ましくは10モル%まで含有していてもよい(ドイツ特許出願公開第2407674号
、同第2407776号および同第2715932号)。
【0052】 ポリアルキレンテレフタレートは、比較的少量の三水酸基-または四水酸基-ア
ルコールあるいは三塩基-または四塩基-カルボン酸の組み込みによって枝分かれ
できる(例えば、ドイツ特許出願公開第1900270号および米国特許第3692744号)
。好ましい枝分かれ剤の例は、トリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロール
エタンおよび-プロパンおよびペンタエリスリトールである。
【0053】 特に好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸およびその反応
性誘導体(例えば、そのジアルキルエステル)およびエチレングリコールおよび
/または1,4-ブタンジオールからのみ製造されるもの、並びにこれらポリアルキ
レンテレフタレートの混合物である。
【0054】 ポリアルキレンテレフタレートの混合物は、ポリエチレンテレフタレートを1
〜50重量%、好ましくは1〜30重量%、およびポリブチレンテレフタレートを50
〜99重量%、好ましくは70〜99重量%含有する。
【0055】 好ましく使用されるポリアルキレンテレフタレートは、一般に、フェノール/
o-ジクロロベンゼン(1:1重量部)中、25℃においてウベローデ粘度計で測定
される極限粘度0.4〜1.5dL/g、好ましくは0.5〜1.2dL/gを有する。
【0056】 ポリアルキレンテレフタレートは、既知の方法を用いて調製できる(クンシュ
ストッフ-ハンドブッフ、第VIII巻、695頁以降、カール-ハンサー-フェルラー
ク、1973年ミュンヒェン 参照)。
【0057】成分D 本発明に用いられる成分Dのホスファゼンは、式(Ia)で表される直鎖ホスフ
ァゼンおよび式(Ib)で表される環式ホスファゼンである。
【化9】
【化10】 (ここで、kおよびRは上記の意味を有する。)
【0058】 以下のものを例として列挙する;プロポキシホスファゼン、フェノキシホスフ
ァゼン、メチルフェノキシホスファゼン、アミノホスファゼンおよびフルオロア
ルキルホスファゼンである。
【0059】 フェノキシホスファゼンが好ましい。
【0060】 前記ホスファゼンは、単独でまたは混合物として使用できる。式(Ia)および
(Ib)において、残基Rは、常に同じであっても、または2以上の残基が異なっ
ていてもよい。
【0061】 前記ホスファゼンとその調製は、例えば、欧州特許出願公開第728811号、ドイ
ツ特許出願公開1961668号および国際特許出願公開第WO97/40092号に記載されて
いる。
【0062】成分E フッ素化ポリオレフィンEは、高分子量であり、ガラス転移温度が−30℃を超
え、一般に100℃を超え、フッ素含量が好ましくは65〜76重量%、特に70〜76重
量%で、平均粒子直径d50が0.05〜1000μm、好ましくは0.08から20μmである
。フッ素化ポリオレフィンEは、密度1.2〜2.3g/cm3を有する。好ましいフ
ッ素化ポリオレフィンEは、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデ
ン、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレンおよびエチレン/テト
ラフルオロエチレンコポリマーである。フッ素化ポリオレフィンは、既知である
(シルトネヒト著「ビニル・アンド・リレイテッド・ポリマーズ」、ジョン・ワ
イリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド、ニューヨーク、1962年、第48
4〜494頁;ウォール著「フルオロポリマーズ」、ワイリー-インターサイエンス
、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド、ニューヨーク、
第13巻、1970年、第623〜654頁;「モダーン・プラスチックス・エンサイクロペ
ディア」、1970〜1971年、第47巻、第10A号、1970年10月、マッグロー-ヒル・
インコーポレイテッド、ニューヨーク、第134頁および774頁;「モダーン・プラ
スチックス・エンサイクロペディア」、1975〜1976年、1975年10月、第52巻、第
10A号、マッグロー-ヒル・インコーポレイテッド、ニューヨーク、第27、28お
よび472頁、および米国特許第3671487号、同第3723373号および同第3838092号
参照)。
【0063】 これは、既知の方法、従って、例えば、遊離基を形成する触媒(例えば、ナト
リウム、カリウムもしくはアンモニウムペルオキシジスルフェート)を含む水性
媒体中、7〜71kg/cm2の圧力下および0〜200℃の温度、好ましくは20〜10
0℃の温度でのテトラフルオロエチレンの重合により、調製できる(更に詳しく
は、例えば、米国特許第2393967号 参照)。使用形態に依存して、この材料の
密度は1.2〜2.3g/cm2であり、平均粒子寸法は0.5〜1000μmであり得る。
【0064】 本発明で好ましいフッ素化ポリオレフィンEは、平均粒子直径0.05〜20μm、
好ましくは0.08〜10μmおよび密度1.2〜1.9g/cm2のテトラフルオロエチレ
ンポリマーであり、グラフトポリマーのエマルションとテトラフルオロエチレン
ポリマーEのエマルションとの凝固した混合物の形態で好ましく使用される。
【0065】 粉末の形態で使用できる好適なフッ素化ポリオレフィンEは、平均粒子直径10
0〜1000μmおよび密度2.0g/cm2〜2.3g/cm2のテトラフルオロエチレン
ポリマーである。
【0066】 グラフトポリマーBと成分Eとの凝固した混合物は、グラフトポリマーBの水
性エマルション(ラテックス)を、テトラエチレンポリマーEの微分散したエマ
ルションと最初に混合することにより製造される。好適なテトラフルオロエチレ
ンポリマーエマルションは、通常、固体含量30〜70重量%、特に50〜60重量%、
好ましくは30〜35重量%を有する。
【0067】 エマルション混合物中でのグラフトポリマーとテトラフルオロエチレンポリマ
ーEとの当量比は95:5〜60:40である。エマルション混合物は、次いで好まし
くは20〜150℃、特に50〜100℃の温度において既知の方法で(例えば、噴霧乾燥
、凍結乾燥、または無機または有機の塩、酸または塩基、あるいはアルコールま
たはケトンのような有機水混和性溶媒の添加による凝固により)凝固される。必
要に応じて、生成物を50〜200℃、好ましくは70〜100℃で乾燥することができる
【0068】 好適なテトラフルオロエチレンポリマーエマルションは、商業的に汎用の製品
であり、例えば、デュ・ポン社からテフロン(登録商標)30Nとして入手できる
【0069】 本発明の成形組成物は、潤滑剤や離型剤、核形成剤、静電気防止剤、安定化剤
、並びに染料および顔料のような、少なくとも1の通常の添加物を含有できる。
【0070】 本発明の成形組成物は、任意に別の相乗作用を有する難燃剤を、全成形組成物
に対して35重量%まで含有できる。言及される別の難燃剤の例は、デカブロモビ
スフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールのような有機ハロゲン化合物
、臭化アンモニウムのような無機ハロゲン化合物、メラミンおよびメラミン-ホ
ルムアルデヒド樹脂のような窒素化合物、MgおよびAl水酸化物のような無機
水酸化物、酸化アンチモン、バリウムメタボレート、ヒドロキソアンチモネート
、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、酸化モリブデン、アンモニウムモリ
ブデート、ホウ酸亜鉛、ホウ酸アンモニウム、バリウムメタボレート、タルク、
ケイ酸塩、酸化ケイ素および酸化錫のような無機化合物、ならびにシロキサン化
合物である。
【0071】 成分A〜E、および場合により、安定化剤、染料、顔料、潤滑剤および離型剤
、核形成剤および静電気防止剤のような別の既知の添加物を含有する本発明の成
形組成物は、特定の組成を既知の方法で混合して、それを汎用の装置(例えば、
密閉式ニーダー、押出成形機および2軸スクリュー押出機)において200℃〜300
℃の温度で溶融コンパウンド化および溶融押出成形に付することによって製造さ
れる。ここで、成分Eは、好ましくは、前記凝固混合物の形態で使用される。
【0072】 別個の成分は、連続してかつ同時に、および特に約20℃(室温)およびより高
い温度の両方において、既知の方法で行なうことができる。
【0073】 そのため、本発明は成形組成物の調製法も提供する。
【0074】 その優れた防炎性とその良好な機械的特性に基づいて、本発明の熱可塑性成形
組成物は、あらゆる種類の成形品、特に加工特性に関して厳しい要求を有するも
のの製造に適している。
【0075】 そのような用途としては、2以上の射出点を有する複雑な構造の部品や、壁厚
さが2mm未満、好ましくは1.5mm未満の薄い壁のケーシング部品が挙げられ
る。
【0076】 本発明の成形組成物は、どのような種類の成形品の製造にも使用できる。特に
、成形品は、射出成形によって製造できる。製造できる成形品の例は、あらゆる
種類のケーシング、例えば、果汁搾り器、コーヒーメーカー、フードミキサーの
ような家庭内用途のためのものや、モニター、プリンター、コピー機のような事
務用機器、または建築分野におけるクラッディングシートや、自動車用部品であ
る。これは、非常に優れた電気特性を有することから、電気工学用途にも使用で
きる。
【0077】 別の加工形態は、予め製造されたシートまたはフィルムからの熱成形による成
形品の製造である。
【0078】 そのため、本発明は、あらゆる種類の成形品(好ましくは前述のものや、本発
明の成形組成物から製造される成形品)の製造のための本発明の成形組成物の使
用も提供する。
【0079】 本発明の成形組成物は、例えば、以下の成形品または成形物品を製造するのに
も使用できる。 列車車両用内部備品(FR)、ハブ・キャップ、小さな変圧器を含む電気部品の
ケーシング、情報の普及用および伝達用の装置のためのケーシング、医療用目的
のためのケーシング、通信装置およびそのためのケーシング、子供用おもちゃの
車両、シート状の壁材、安全装置のためのケーシング、リヤ・スポイラー、断熱
輸送コンテナ、小動物を飼育または世話するための器具、サニタリーおよび浴槽
の備品のための成形品、換気口用カバー格子、庭用備品および家具のための成形
品、および園芸備品用ケーシング。
【0080】実施例 成分A 相対溶液粘度1.26(溶媒としてのCH2Cl2中、25℃および濃度0.5g/100m
Lで測定)のビスフェノールA系直鎖ポリカーボネート。
【0081】成分B B.1 ダウ・ケミカル・カンパニー(米国ミシガン州ミッドランド)製の塊
状ABSポリマー(商品名マグナム3504) アクリロニトリル:ブタジエン:スチレン=22.0:10.2:67.8
【0082】成分C スチレン/アクリロニトリル重量比72:28および極限粘度0.55dL/g(20℃
においてジメチルホルムアミド中で測定したもの)のスチレン/アクリロニトリ
ルコポリマー。
【0083】成分D 式:
【化11】 で表されるフェノキシホスファゼン。日本曹達株式会社(日本)製の市販の製品
P-3800。 ペンタエリスリトールテトラステアレートを離型剤として使用する。
【0084】成分E 水中のSANグラフトポリマーエマルション(乳化重合によって製造される、
スチレンとアクリロニトリルの比73:27のコポリマー40重量部の粒状の架橋ポリ
ブタジエンゴム60重量部へのグラフトポリマー;平均粒子直径d50は0.28μm)
と水中のテトラフルオロエチレンポリマーエマルションとから調製される凝固混
合物としてのテトラフルオロエチレンポリマー。混合物中のグラフトポリマーB
とテトラフルオロエチレンポリマーEとの重量比は、90重量%:10重量%である
。テトラフルオロエチレンポリマーは、固体含量60重量%であり、平均粒子直径
は0.05〜0.5μmの間である。SANグラフトポリマーエマルションは、固体含
量34重量%であり、平均ラテックス粒子直径d50は0.28μmである。
【0085】Eの製造 テトラフルオロエチレンポリマー(デュ・ポン製テフロン30N)のエマルショ
ンを、SANグラフトポリマーBのエマルションと混合し、ポリマー固形分に対
して1.8重量%のフェノール系酸化防止剤を用いて安定化させる。85〜95℃にお
いて、混合物を、MgSO4(エプソム塩)の水溶液と酢酸を用いてpH4〜5
で凝固させ、濾過して、電解質が事実上なくなるまで残渣を洗浄し、その後殆ど
の水を遠心分離で除去した後、100℃で粉末になるまで乾燥させる。次いで、こ
の粉末は、前記装置内で別の成分とコンパウンド化することができる。
【0086】本発明の成形組成物の調製と試験 成分を3L密閉式ニーダーで混合する。成形品を、アルブルグ(Arburg)270E
型射出成形機において260℃で製造する。
【0087】 ビカーB軟化点は、DIN53 460(ISO306)に従って、寸法80×10×4m
mのバー上で決定する。
【0088】 応力亀裂特性(ESC特性)は、寸法80×10×4mmのバーにおいて加工温度
260℃で評価した。トルエン60体積%とイソプロパノール40体積%の混合液を試
験溶媒として用いた。試験片は、環状のアークテンプレートを用いて予備延伸さ
せ(初期の伸び(%))、室温で試験媒体中に浸漬した。応力亀裂特性は、試験
媒体中での初期の伸びの作用としての亀裂や破壊から評価した。
【0089】 熱重量分析(TGA)は、成形品への析出物の形成の測度として使用する。こ
のために、混合物の重量損失を、不活性ガスとしてのN2下、0〜400℃の温度範
囲において、10K/分の加熱速度を用いて決定した。通常の下降温度に相当する
280℃での重量損失を評価目的に使用した。数値が高いほど、加工中に析出物が
形成し易い。低い値は、析出物の形成する傾向が低いことを示している。
【0090】
【表1】
【表2】
【0091】 本発明の成形組成物は、防炎特性と機械特性の好ましい組み合わせで特徴付け
られる。さらに、驚くことに、塊状ABSを含有する成形組成物は、加工に関し
ても更なる利点を示すことが分かる。流動特性(MVR)と重量損失は、加工条
件下で生じる析出物の形成の測度と考えることができるが、エマルションABS
を含有する成形組成物よりも明らかに好ましい(約20%)。
【手続補正書】
【提出日】平成12年12月28日(2000.12.28)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】
【化2】 (式中、Rはそれぞれ同一または異なっていてよく、アミノ、(任意にハロゲン
化、好ましくはフッ素でハロゲン化された)C1-〜C6-アルキル、またはC1-〜
8-アルコキシ、C5-〜C6-シクロアルキル、C6-〜C20-アリール、好ましく
はフェニルまたはナフチル、C6-〜C20-アリーロキシ、好ましくはフェノキシ
、ナフチロキシ、あるいはC7-〜C12-アラルキル、好ましくはフェニル-C1-〜
4-アルキル(これらは任意にアルキルで、好ましくはC1-〜C8-アルキルでお
よび/またはハロゲンで、好ましくは塩素、臭素で置換されていてもよい)を表
し、kは、0または1〜15の数、好ましくは1〜10の数を表す。) で表されるホスファゼンから成る群より選択される少なくとも1つの成分 0.1
〜50重量部、 E)フッ素化ポリオレフィン 0〜5重量部 を含有する熱可塑性成形組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,BA ,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,CU, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD,G E,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,YU,Z A,ZW (71)出願人 Bayerwrk,Leverkuse n,BRD (72)発明者 ディーター・ヴィットマン ドイツ連邦共和国デー−51375レーフエル クーゼン、エルンスト−ルートヴィッヒ− キルヒナー−シュトラーセ41番 Fターム(参考) 4J002 BB245 BC03Y BC06Y BC08Y BC09Y BC11Y BG04Y BG05Y BG06Y BG09Y BG10Y BH02Y BN03X BN06X BN11X BN12X BN14X BN15X BN16X BN23X CF01Y CF05Y CF06Y CF07Y CG00W CG01W CG02W CG04W CQ01Z FD036 FD096 FD106 FD13Z FD137 FD166 FD176 FD206

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 A)芳香族ポリカーボネートおよび/またはポリエステルカ
    ーボネート 40〜99重量部、 B)塊重合法、溶液重合法または塊/懸濁重合法によって製造される、 B.1)1以上のビニルモノマー 50〜99重量%の B.2)ガラス転移温度10℃未満の、1以上のグラフト化主鎖 50〜1重量%
    へのグラフトポリマー 0.5〜60重量部、 C)ビニル(コ)ポリマーおよびポリアルキレンテレフタレートから成る群より
    選択される少なくとも1の熱可塑性ポリマー 0〜45重量部、 D)式: 【化1】 【化2】 (式中、Rはそれぞれ同一または異なっていてよく、アミノ、(任意にハロゲン
    化、好ましくはフッ素でハロゲン化された)C1-〜C6-アルキル、またはC1-〜
    8-アルコキシ、C5-〜C6-シクロアルキル、C6-〜C20-アリール、好ましく
    はフェニルまたはナフチル、C6-〜C20-アリーロキシ、好ましくはフェノキシ
    、ナフチロキシ、あるいはC7-〜C12-アラルキル、好ましくはフェニル-C1-〜
    4-アルキル(これらは任意にアルキルで、好ましくはC1-〜C8-アルキルでお
    よび/またはハロゲンで、好ましくは塩素、臭素で置換されていてもよい)を表
    し、kは、0または1〜15の数、好ましくは1〜10の数を表す。) で表されるホスファゼンから成る群より選択される少なくとも1つの成分 0.1
    〜50重量部、 E)フッ素化ポリオレフィン 0〜5重量部 を含有する熱可塑性成形組成物。
  2. 【請求項2】 A 60〜98.5重量部、B 1〜40重量部、C 0〜30重量部
    、D 2〜35重量部およびE 0.1〜1重量部を含有する請求項1記載の成形組
    成物。
  3. 【請求項3】 Cを2〜25重量部含有する請求項1および2記載の成形組成
    物。
  4. 【請求項4】 Dを5〜25重量部含有する請求項1〜3のいずれかに記載の
    成形組成物。
  5. 【請求項5】 ビニルモノマーB.1が、 B.1.1 スチレン、α-メチルスチレン、ハロ-もしくはアルキル-環-置換 されたスチレンおよび/または(メタ)アクリル酸C1-〜C8-アル キルエステル、および B.1.2 不飽和ニトリル、(メタ)アクリル酸C1-〜C8-アルキルエステ ルおよび/または不飽和カルボン酸の誘導体 から調製される混合物である請求項1〜4のいずれかに記載の成形組成物。
  6. 【請求項6】 グラフト化主鎖が、ジエンゴム、EP(D)Mゴム、アクリレ
    ート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン/酢酸ビニルゴ
    ムから成る群からの少なくとも1のゴムから選択される請求項1〜5のいずれか
    に記載の成形組成物。
  7. 【請求項7】 潤滑剤および離型剤、核形成剤、静電気防止剤、安定化剤、
    染料および顔料から成る群より選択される少なくとも1の添加物を含有する請求
    項1〜6のいずれかに記載の成形組成物。
  8. 【請求項8】 成分Dとは異なる難燃剤も含有する請求項1〜7のいずれか
    に記載の成形組成物。
  9. 【請求項9】 成分A〜Eおよび任意に添加物も更に混合し、そして溶融コ
    ンパウンド化する、請求項1記載の成形組成物の製造法。
  10. 【請求項10】 成形品の製造のための請求項1記載の成形組成物の使用。
  11. 【請求項11】 請求項1〜8のいずれかに記載の成形組成物から製造され
    る成形品。
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