JP2003524027A - 耐燃性ポリカーボネート−abs成形用材料 - Google Patents
耐燃性ポリカーボネート−abs成形用材料Info
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Abstract
Description
成形用組成物に関する。本発明の成形用組成物は、優れた防炎性と非常に良好な
加工特性を示す。本発明において、グラフトポリマーは、塊重合法、溶液重合法
または塊−懸濁重合法により調製される。
リカーボネート、ポリエステルおよびポリアミドに適した防炎加工剤として、ホ
スホリナン(phosphorinane)環を含む環式のリン化合物が開示されている。米国
特許第A4397750号公報には、特定の環式ホスホン酸エステルが、ポリプロピレン
やその他のポリオレフィンに有効な防炎加工剤として開示されている。米国特許
第A5276066号公報および同第A5844028号公報には、ポリウレタン、ポリエステル
、スチレンポリマー、PVC、PVAcまたはポリカーボネートに好適な防炎加
工剤である、特定の(1,3,2-ジオキサホスホリナンメタン)-アミンが開示されて
いる。
77号公報、同第A4054544号公報には、非環式トリスホスホネートアミン(tirspho
sphonate amines)が開示されており、このうちのいくつかはハロゲン化されてい
る。
含有コポリマーおよびグラフトポリマーから成る成形用組成物が開示されており
、この組成物は、リン化合物のモノマーおよび/またはオリゴマーを用いて耐燃
性にすることができる。
含有コポリマーまたはグラフトコポリマー、およびホスフェートオリゴマーから
成る耐燃性ポリマー混合物が防炎加工添加物として開示されている。例えば内部
ケーシング部品の成形のようないくつかの用途には、前記混合物の寸法安定性が
しばしば不十分である。
リマーおよび/またはスチレン含有コポリマーおよびモノホスフェートを包含す
る製造されるポリマー混合物が防炎加工添加物として開示されている。この混合
物の応力クラッキング耐性のレベルは、薄膜のケーシング部品の製造には、しば
しば不十分である。
高い弾性率そして加工操作中の用具への低減されたコーティング形成などを有す
るポリカーボネート/ABS混合物を提供することである。この特性領域は、特
に、モニター、プリンター、コピー機などのためのケーシングのような、データ
テクノロジーの分野での応用に要求される。
より調製されるグラフトポリマーとホスホネートアミンを組み合わせて含有する
PC/ABS成形用組成物が、前記の所望の特性を示すことが分かった。
9重量部、好ましくは60〜98.5重量部、 B)B.1)ビニルモノマー1種以上50〜99重量%、好ましくは65〜98
重量%と、 B.2)ガラス転移温度が10℃未満、好ましくは0℃未満、好ましくは−10
℃未満のグラフトベース1種以上50〜1重量%、好ましくは35〜2重量% との塊重合法、溶液重合法または塊状−懸濁重合法により調製されるグラフトポ
リマー0.5〜60重量部、好ましくは1〜40重量部、特に2〜25重量部、
C)ビニル(コ)ポリマーおよびポリアルキレンテレフタレートの群より選択され
る少なくとも1種の熱可塑性ポリマー0〜45重量部、好ましくは0〜30重量
部、特に2〜25重量部、 D)式(I)のホスホネートアミン0.1〜30重量部、好ましくは1〜25重量
部、特に2〜20重量部、
C1〜C10-アルキルまたは非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリー
ルを表し、R3およびR4は、互いに独立して、非置換のもしくは置換されたC 1 〜C10-アルキルまたは非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリール
を表すか、あるいはR3およびR4は合わせて、非置換のもしくは置換されたC 3 〜C10-アルキレンを表し、yは、数値0、1または2を表し、および置換
基Bは、互いに独立して、水素、任意にハロゲン化されたC2〜C8-アルキル
、または非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリールを表す。) E)フッ素化ポリオレフィン0〜5重量部、好ましくは0.1〜3重量部、特に
好ましくは0.1〜1重量部、最も好ましくは0.1〜0.5重量部。
芳香族ポリエステルカーボネートは、文献から公知であるか、あるいは文献から
公知の方法で調製され得る(芳香族ポリカーボネートの調製に関しては、例えば
、シュネル著、「ケミストリー・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネー
ツ」、インターサイエンス・パブリッシャーズ、1964年、およびドイツ特許出願
公開第AS-1495626号公報、ドイツ特許出願公開第OS-2232877号公報、同第OS-270
3376号公報、同第OS-2714544号公報、同第OS-3000610号公報、同第OS-3832396号
公報を参照のこと;芳香族ポリエステルカーボネートの調製に関しては、例えば
、ドイツ特許出願公開第OS-3077934号公報を参照のこと)。
ゲン化物(好ましくはホスゲン)と、および/または芳香族ジカルボン酸ジハロ
ゲン化物(好ましくはベンゼンジカルボン酸ジハライド)と反応させることによ
り、層境界法によって、任意に連鎖停止剤(例えば、モノフェノール)を用い、
そして任意に3官能価以上の枝分かれ剤(例えば、トリフェノールまたはテトラ
フェノール)を用いて調製される。
製のためのジフェノールは、好ましくは、式(III)で表されるものである。
C5〜C6シクロアルキリデン、−O−、−SO−、−CO−、−S−、−SO 2 −またはC6〜C12アリーレン(これらは、複素原子を任意に含有する別の
芳香環と縮合されていてもよい)、または式(IV)もしくは(V):
好ましくはメチル)、ハロゲン(好ましくは塩素および/または臭素)を表し、
xはそれぞれ、独立して、0、1または2であり、pは1または0を表し、そし
てR7およびR8は、各X1について別個に選択され、かつ互いに独立して、水
素またはC1〜C6アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルを表し、X 1 は、炭素を表し、およびmは、4〜7の整数を表し、好ましくは、原子X1の
うち少なくとも1個において、R7およびR8が同時にアルキルであれば、4ま
たは5である。
フェノール、ビス-(ヒドロキシフェニル)-C1〜C5-アルカン、ビス-(ヒドロ
キシフェニル)-C5〜C6-シクロアルカン、ビス-(ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス-(ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス-(ヒドロキシフェニル)ケト
ン、ビス-(ヒドロキシフェニル)スルホンおよびα,α-ビス-(ヒドロキシフェニ
ル)-ジイソプロピルベンゼン、およびこれらの環-塩素化および/または環-臭素
化誘導体である。
ルA、2,4-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-2-メチルブタン、1,1-ビス-(4-ヒドロ
キシフェニル)-シクロヘキサン、1,1-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-3,3,5-トリ
メチルシクロヘキサン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒド
ロキシジフェニル-スルホンおよびこれらの二臭素化および四臭素化または二塩
素化および四塩素化誘導体であり、例えば、2,2-ビス-(3-クロロ-4-ヒドロキシ
フェニル)-プロパン、2,2-ビス-(3,5-ジクロロ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパ
ンまたは2,2-ビス-(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパンである。
が特に好ましい。
できる。
、フェノール、p-クロロフェノール、p-tert-ブチルフェノールまたは2,4,6-ト
リブロモフェノール、並びにドイツ特許出願公開第OS2842005号公報に記載の4-(
1,3-テトラメチルブチル)-フェノールのような長鎖アルキルフェノール、または
アルキル置換基中の合計炭素原子数が8〜20であるモノアルキルフェノールま
たはジアルキルフェノールであり、例えば、3,5-ジ-tert-ブチルフェノール、p-
イソオクチルフェノール、p-tert-オクチルフェノール、p-ドデシルフェノール
、および2-(3,5-ジメチルヘプチル)-フェノールおよび4-(3,5-ジメチルヘプチル
)-フェノールなどである。用いられる連鎖停止剤の量は、一般に、特定の場合に
使用される各ジフェノールの総モル数に対して0.5モル%〜10モル%である
。
分離または光散乱測定法により測定されるもの)の平均値10,000〜200
,000、好ましくは20,000〜80,000を有する。
好ましくは、3官能価以上の化合物、例えばフェノール基を3個以上有する化合
物を、用いられるジフェノールの総量に対して0.05〜2.0モル%混入する
ことにより枝分かれされていてよい。
拠れば、成分A)としてのコポリカーボネートを調製するために、ヒドロキシ-
アリーロキシ末端基を有するポリ-ジ-オルガノシロキサンを、(用いられるジフ
ェノールの合計量に対して)1〜25重量%、好ましくは2.5〜25重量%使
用してもよい。これらの化合物は、公知であるか(例えば、米国特許第3419634
号公報参照)、あるいは文献公知の方法で調製され得る。ポリ-ジ-オルガノシロ
キサンを含有するコポリカーボネートの調製は、例えば、ドイツ特許出願公開第
OS3334782号公報に開示されている。
トは、好ましいまたは特に好ましいものとしての上述のジフェノール以外のジフ
ェノール、特に2,2-ビス-(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)-プロパンを、
ジフェノールの総モル数に対して15モル%まで含有するビスフェノールAのコ
ポリカーボネートである。
ン化物は、好ましくは、イソフタル酸、テレフタル酸、ジフェニルエーテル-4,4
'-ジカルボン酸およびナフタレン-2,6-ジカルボン酸の二酸ジクロライドである
。
1:20〜20:1の混合物が特に好ましい。
ロゲン化物、好ましくはホスゲンも使用される。
よび芳香族モノカルボン酸の酸クロライド(これらは任意にC1〜C22アルキ
ル基またはハロゲン原子で置換されていてよい)、および脂肪族C2〜C22-
モノカルボン酸クロライドも、芳香族ポリエステルカーボネートの調製のための
連鎖停止剤として挙げられる。
対して、そしてモノカルボン酸クロライド系連鎖停止剤の場合はジカルボン酸ジ
クロライドのモル数に対して、それぞれ0.1〜10モル%である。
シカルボン酸を包含し得る。
分かれしてしていてもよい(これに関連して、ドイツ特許出願公開第OS2940024
号公報および同第OS3007934号公報も参照のこと)。
リクロライド、3,3'-4,4'-ベンゾフェノン-テトラカルボン酸テトラクロライド
、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸テトラクロライドまたはピロメリット酸
テトラクロライドなどの3官能価以上のカルボン酸クロライドを、(用いられる
ジカルボン酸ジクロライドに対し)0.01〜1.0モル%の量で使用しても、
あるいはフロログルシノール、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ-(4-ヒドロキシフェニ
ル)-ヘプテン-2、4,4-ジメチル-2,4,6-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)-ヘプタン
、1,3,5-トリ-(4-ヒドロキシフェニル)-ベンゼン、1,1,1-トリ-(4-ヒドロキシフ
ェニル)-エタン、トリ-(4-ヒドロキシフェニル)-フェニルメタン、2,2-ビス[4,4
-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-シクロヘキシル]-プロパン、2,4-ビス-(4-ヒドロ
キシフェニル-イソプロピル)-フェノール、テトラ-(4-ヒドロキシフェニル)-メ
タン、2,6-ビス-(2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェノール、2-(4-
ヒドロキシフェニル)-2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)-プロパン、テトラ-(4-[4-
ヒドロキシフェニル-イソプロピル]-フェノキシ)-メタン、1,4-ビス-[4,4'-ジヒ
ドロキシ-トリフェニル)-メチル]-ベンゼンなどの3官能価以上のフェノールを
、用いられるジフェノールに対して0.01〜1.0モル%の量で使用してもよ
い。フェノール系枝分かれ剤は、前記ジフェノールと一緒に最初に用いられ、酸
クロライド系枝分かれ剤は、前記酸ジクロライドと一緒に導入され得る。
、所望により変更してよい。カーボネート基含量は、エステル基とカーボネート
基の合計に対して、好ましくは100モル%まで、特に80モル%まで、特に好
ましくは50モル%までである。芳香族ポリエステルカーボネートに含まれてい
るエステルとカーボネートは共に、重縮合物中にブロックの形状で、またはラン
ダムに分散された形態で含まれていてよい。
る(ここで、固有粘度は、25℃において塩化メチレン溶液100mL中、ポリ
カーボネートまたはポリエステルカーボネート0.5gの溶液について測定した
もの)。
、またはお互いの所望の混合物として使用されてよい。
ンダム(コ)ポリマーのみならず、B.1.1およびB.1.2に係るモノマーのラン
ダム(コ)ポリマーでグラフト化されたゴムB.2から構成されており、成分Bは
、例えば、米国特許第3243481号公報、同第3509237号公報、同第3660535号公報
、同第4221833号公報および同第4239863号公報に記載されているように、塊重合
法または溶液重合法または塊状-懸濁重合法によって公知の方法で調製される。
ルキルにより環-置換されたスチレン(例えば、p-メチルスチレン、p-クロロス
チレン)、(メタ)アクリル酸C1〜C8アルキルエステル(例えば、メチルメタ
クリレート、n-ブチルアクリレートおよびtert-ブチルアクリレート)である。
モノマーB.1.2の例は、不飽和ニトリル(例えば、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル)、(メタ)アクリル酸C1〜C8アルキルエステル(例えば、メチ
ルメタクリレート、n-ブチルアクリレートおよびtert-ブチルアクリレート)、
不飽和カルボン酸の(無水物およびイミドのような)誘導体(例えば、無水マレ
イン酸およびN-フェニルマレイミドなど)、またはこれらの混合物である。
たはメチルメタクリレートであり、好ましいモノマー成分B.1.2は、アクリロ
ニトリル、無水マレイン酸および/またはメチルメタクリレートである。
ニトリルである。
、EP(D)Mゴム(すなわち、エチレン/プロピレンおよび任意にジエンンをベ
ースとするもの)、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンお
よびエチレン/酢酸ビニルゴムである。
どをベースとするもの)、またはジエンゴムまたはジエンゴムのコポリマーの混
合物、あるいは成分B.2のガラス転移温度が10℃未満、好ましくは0℃未満
、特に−10℃未満であれば、前記混合物と他の共重合性モノマー(例えば、前
記成分B.1.1およびB.1.2に記載したもの)との混合物である。純粋なポリ
ブタジエンゴムが特に好ましい。
ないのであれば、少量の、通常はB.2を基準として5重量%以下、好ましくは
2重量%以下の、架橋作用を有するエチレン性不飽和モノマーを更に含有してい
てよい。このような架橋作用を有するモノマーの例は、アルキレンジオールジ(
メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、
トリビニルベンゼン、トリアリルシアヌレート、アリル(メタ)アクリレート、マ
レイン酸ジアリル(diallyl maleate)、およびフマル酸ジアリル(diallyl fumara
te)である。
部、好ましくは60〜95重量部と前記成分B.1.2のモノマー1〜50重量部
、好ましくは5〜40重量部との混合物50〜99重量部、好ましくは65〜9
8重量部、特に好ましくは75〜97重量部を、1〜50重量部、好ましくは2
〜35重量部、特に好ましくは2〜15重量部、最も好ましくは2〜13重量部
のゴム成分B.2の存在下でグラフト重合することにより調製される。ここでグ
ラフト重合は、塊重合法または溶液重合法または塊状-懸濁重合法により行われ
る。
、モノマー成分B.1.1およびB.1.2の混合物中に溶解した形態で存在させる
ことが重要である。従って、ゴム成分B.2は、成分B.1.1およびB.1.2中
に溶解できないほど顕著に架橋されていてはいけないし、また、グラフト重合開
始時点で既に別個の粒子の形態で存在していてもいけない。粒子の形態およびB
.2の高い架橋は、成分Bの製品特性に重要であり、グラフト重合中でのみ創り
出される(例えば、ウルマン著、エンジクロペディー・デル・テクニッシェン・
ヘミー(Enzyklopadie der Technischen Chemie)、第19巻、第284頁以降、第4版
、1980年を参照のこと)。
2にまたはゴム成分B.2中に部分グラフト化されたポリマーB中に含まれてい
る。前記グラフト混合されたポリマーは、ポリマーB中に別個の粒子を形成する
。B.1.1およびB.1.2のコポリマー合計中の、グラフト化されたB.1.1お
よびB.1.2のコポリマー容量、すなわちグラフト収率(これは、実際にグラフ
ト化されたグラフトモノマーと使用されたグラフトモノマー合計との重量比に1
00を掛けて得られ、%で表示される。)は、2〜40%、好ましくは3〜30
%、特に好ましくは4〜20%でなければならない。
られるもの)は、0.5〜5μm、好ましくは0.8〜2.5μmの範囲である
。
レンテレフタレート成分C.2を1種以上含有する。
シアニド(不飽和ニトリル)、(メタ)アクリル酸(C1〜C8)アルキルエステル
、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸の誘導体(例えば、無水物およびイ
ミド)の群の少なくとも1種のモノマーのポリマーである。特に好適なものは、
C.1.1 ビニル芳香族化合物および/または環に置換されたビニル芳香族化合
物(例えば、スチレン、α-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-クロロスチ
レン)および/またはメタクリル酸(C1〜C4)アルキルエステル(例えば、メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート)50〜99重量部、好ましくは6
0〜80重量部と、 C.1.1 アクリロニトリルおよびメタクリロニトリルのようなビニルシアニド
(不飽和ニトリル)および/または(メタ)アクリル酸(C1〜C8)アルキルエ
ステル(例えば、メチルメタクリレート、n-ブチルアクリレート、t-ブチルアク
リレート)および/または(マレイン酸などの)不飽和カルボン酸および/また
は不飽和カルボン酸の、無水物およびイミドなどの誘導体(例えば、無水マレイ
ン酸およびN-フェニルマレイミド)1〜50重量部、好ましくは20〜40重
量部 との(コ)ポリマーである。
コポリマーである。
合法、懸濁重合法、溶液重合法または塊重合法により調製され得る。前記(コ)ポ
リマーは、好ましくは分子量
0,000を有する。
の反応性誘導体(例えば、ジメチルエステルまたは無水物)と脂肪族、脂環式ま
たはアラリファティックジオールとの反応生成物、および前記反応生成物の混合
物である。
成分に対して少なくとも80重量%、好ましくは少なくとも90重量%、および
エチレングリコールおよび/または1,4-ブタンジオール基を、ジオール成分に対
して少なくとも80重量%、好ましくは少なくとも90モル%含有する。
子数8〜14の他の芳香族または脂環式ジカルボン酸または炭素原子数4〜12
の脂肪族ジカルボン酸の基、例えば、フタル酸基、イソフタル酸基、ナフタレン
-2,6-ジカルボン酸基、4,4'-ジフェニルジカルボン酸基、コハク酸基、アジピン
酸基、セバシン酸基、アゼライン酸基、シクロヘキサン-二酢酸の基を、20モ
ル%まで、好ましくは10モル%まで含有していてよい。
タンジオール基以外に、炭素原子数3〜12の上記以外の脂肪族ジオールまたは
炭素原子数6〜21の脂環式ジオール、例えば、1,3-プロパンジオール、2-エチ
ル-1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、1
,6-ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、3-エチル-2,4-ペンタ
ンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタン
ジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオー
ル、2,5-ヘキサンジオール、1,4-ジ-(β-ヒドロキシエトキシ)-ベンゼン、2,2-
ビス-(4-ヒドロキシシクロヘキシル)-プロパン、2,4-ジヒドロキシ-1,1,3,3-テ
トラメチル-シクロブタン、2,2-ビス-(4-β-ヒドロキシエトキシフェニル)-プロ
パンおよび2,2-ビス-(4-ヒドロキシプロポキシフェニル)-プロパンなどを、20
モル%まで、好ましくは10モル%まで含有していてよい(ドイツ特許出願公開
第OS2407674号公報、同第2407776号公報、同第2715932号公報)。
基性または4塩基性カルボン酸を比較的少量混入することにより、例えばドイツ
特許出願公開第OS1900270号公報および米国特許第A3692744号公報の記載に従っ
て枝分かれされてよい。好ましい枝分かれ剤の例は、トリメシン酸、トリメリッ
ト酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンおよびペンタエリスリト
ールである。
アルキルエステル)、およびエチレングリコールおよび/または1,4-ブタンジオ
ールから単に調製されたポリアルキレンテレフタレート、およびこのポリアルキ
レンテレフタレートの混合物が挙げられる。
〜50重量%、好ましくは1〜30重量%、およびポリブチレンテレフタレート
を50〜99重量%、好ましくは70〜99重量%含有する。
.4〜1.5dL/g、好ましくは0.5〜1.2dL/gを有する。固有粘度
は、フェノール/o-ジクロロベンゼン(重量比1:1)中、25℃においてウベ
ローデ粘度計を用いて測定される。
シュトストッフ-ハンドブッフ(Kunststoff-Handbuch)、第VIII、695頁以降、カ
ール-ハンサー-フェルラーク、ミュンヘン1973年)。
種のホスホネートアミン化合物を含有する。
じ意味を表す。)
またはイソプロピル(これらはそれぞれハロゲンで置換されていてよい)、また
は非置換のもしくはC1-C4-アルキル基および/またはハロゲンで置換された
C6-C10-アリール(特にフェニルまたはナフチル)である。
メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソ-ブチル、sec-ブ
チルもしくはtert-ブチル、ペンチルまたはヘキシルである。
て、ハロゲンで置換されたC1-C10-アルキル、特に一置換または二置換され
たメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブ
チルもしくはtert-ブチル、ペンチルまたはヘキシルである。
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルまたはシクロオクチル、特に
シクロペンチルまたはシクロヘキシルを形成する。
好ましくは、フェニル、ナフチルまたはビナフチルであり、特にo-フェニル、o-
ナフチル、o-ビナフチルである。これらはそれぞれ、ハロゲンで置換(一般には
一置換、二置換または三置換)されていてよい。
オキサホスホリナン-メタン)アミン-2,2',2''-トリオキサイド
ントルイス、米国]、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-ブチル-
N[(5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジメチル-
,P,2-ジオキサイド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-[(5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキ
サホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジメチル-N-フェニル-,P,2-ジオキサイ
ド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N,N-ジブチル-5,5-ジメチル,2-
オキサイド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンイミン,N-[(5,5-ジメチル-1,3,2ジオキ
サホスホリナン-2-イル)メチル]-N-エチル-5,5-ジメチル,P,2-ジオキサイド、
1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-ブチル-N-[(5,5-ジクロロメ
チル-1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジクロロメチル,P,2-
ジオキサイド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-[(5,5-ジクロロメチル-1,3,2-
ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジクロロメチル-N-フェニル-,P,2
-ジオキサイド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N,N-ジ-(4-クロロブチル)-5,5-
ジメチル-2-オキサイド、 1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンイミン,N-[(5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキ
サホスホリナン-2-イル)メタン]-N-(2-クロロエチル)-5,5-ジ(クロロメチル),
P,2-ジオキサイド。
好ましい。
の温度で添加する。式(Ia)で表される5,5-二置換1,3,2-ジオキサホスホリナン2-
オキサイドが得られる。
ヒド中でアミンByNH3−yと反応させる(ここで、Bおよびyは、上記と同
じ意味である)。 c)更に精製して乾燥させた後で、式(I)のホスホネートアミンが得られる。 この調製方法の詳細な説明は、米国特許第5844028号公報明細書に見出される
。
以上、一般には100℃以上、およびフッ素含量好ましくは65〜76重量%、
特に70〜76重量%、および平均粒径d500.05〜1000μm、好まし
くは0.08〜20μmを有する。一般には、フッ素化ポリオレフィンEは、密
度1.2〜2.3g/cm3である。好ましいフッ素化ポリオレフィンEは、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリフッ素化ビニリデン、テトラフルオロエチレン
/ヘキサフルオロプロピレン、およびエチレン/テトラフルオロエチレンコポリ
マーである。フッ素化ポリオレフィンは、公知である(シルトクネヒト著「ビニ
ル・アンド・リレイテッド・ポリマーズ」、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ
・インコーポレイテッド、ニューヨーク、1962年、第484〜第494頁;ウォール著
「フルオロポリマーズ」、ワイリー-インターサイエンス、ジョン・ワイリー・
アンド・サンズ・インコーポレイテッド、ニューヨーク、第13巻、1970年、第62
3〜第654頁;「モダーン・プラスチックス・エンサイクロペディア」、1970〜19
71年、第47巻、第10A号、1970年10月、マグロー-ヒル・インコーポレイテッド
、ニューヨーク、第134頁および第774頁;「モダーン・プラスチックス・エンサ
イクロペディア」、1975〜1976年、1975年10月、第52巻、第10A号、マグロー-
ヒル・インコーポレイテッド、ニューヨーク、第27、28および472頁;および米
国特許第A3671487号公報、同第3723373号公報および同第3838092号公報を参照
のこと)。
えば、ナトリウム、カリウムもしくはアンモニウムペルオキシジスルフェート)
を含む水性媒体中で、圧力7〜71kg/cm2および温度0〜200℃、好ま
しくは20〜100℃においてテトラフルオロエチレンを重合することにより調
製され得る。(更なる詳細については、例えば、米国特許第2393967号公報を参
照のこと。)初期の形態に依存して、前記材料の密度は、1.2〜2.3g/c
m3であり、そして平均粒径は0.5〜1000μmであってよい。
、好ましくは0.08〜10μm、および密度1.2〜1.9g/cm3を有す
るテトラフルオロエチレンポリマーであって、 E.1)成分A〜Cのうち少なくとも1種との凝集混合物であって、フッ素化ポリ
オレフィンEまたはポリオレフィン混合物をエマルションの形態で成分A〜Cの
うち少なくとも1種のエマルションと混合した後、凝集されて成る凝集混合物の
形態、または E.2)成分A〜Cのうち少なくとも1種とのプレコンパウンドであって、フッ素
化ポリオレフィンEを粉末形態で成分A〜Cのうち少なくとも1種の粉末もしく
は顆粒と混合し、得られる混合物を密閉式ニーダー(internal kneader)、押出機
または二軸スクリューのような常套の装置内で一般には208℃〜330℃の温
度で溶融物に配合されて成るプレコンパウンドの形態 のものである。
ニル(コ)ポリマーCとの凝集混合物である。
1000μm、および密度2.0g/cm3〜2.3g/cm3を有するテトラ
フルオロエチレンポリマーである。
フトポリマーの水性エマルション(ラテックス)を、最初にテトラフルオロエチ
レンポリマーEの微分散されたエマルションと混合する。好適なテトラフルオロ
エチレンポリマーエマルションは、通常、固形分30〜70重量%、特に50〜
60重量%、好ましくは30〜35重量%を有している。
ためのグラフトポリマー、ビニル(コ)ポリマーまたはポリカーボネートの量を含
んでいない。
リオレフィンEとの当量比は、95:5〜60:40、好ましくは90:10〜
50:50である。その後、エマルション混合物は、公知の方法、例えば、噴霧
乾燥や凍結乾燥により、または無機または有機の塩、酸、塩基または水不混和性
有機溶媒(例えば、アルコール、ケトン)の添加による凝集によって、好ましく
は20〜150℃で、特に50〜100℃の温度で凝集される。必要に応じて、
50〜200℃、好ましくは70〜100℃で乾燥を行ってよい。
、例えば、デュポンからテフロン(登録商標)30Nとして販売されている。
化剤、並びに着色剤および顔料のような通常使用されている添加物を少なくとも
1種含有していてよい。
る防炎加工剤を35重量%まで含有していてよい。このような防炎加工剤の例と
しては、有機ハロゲン化物(例えばデカブロモビスフェニルエーテル、テトラブ
ロモビスフェノール)、無機ハロゲン化合物(例えば、アンモニウムブロマイド
)、窒素化合物(例えば、メラミン、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂)、無機
の水酸化物(例えば、水酸化マグネシウムおよび水酸化アルミニウム)、そして
酸化アンチモン、ヒドロキソアンチモネート、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコ
ニウム、酸化モリブデン、アンモニウムモリブデート(ammonium molybdate)、ホ
ウ酸亜鉛、ホウ酸アンモニウム、メタホウ酸バリウム、タルク、シリケート(sil
icate)、二酸化ケイ素および酸化錫、並びにシロキサン化合物などの無機化合物
も挙げられる。
たC1〜C8アルキルまたは任意にハロゲン化および/またはアルキル化された
C5もしくはC6シクロアルキル、または任意にハロゲン化および/またはアル
キル化および/またはアラルキル化されたC6〜C30アリールを表し、および
「n」および「l」は、互いに独立して、0または1である。)
ディー・デル・テクニッシェン・ヘミー(Enzyklopadie der Technischen Chemie
)、第18巻、第301頁以降、1979年、および欧州特許出願公開第345522号公報参照
)。アラルキル化リン化合物は、例えば、ドイツ特許出願公開第OS3824356号
公報に開示されている。
ロゲン化またはポリハロゲン化されていてよく、直鎖であっても枝分かれいてい
てもよい。アルキル基の例は、クロロエチル、2-クロロプロピル、2,3-ジブロモ
プロピル、ブチル、メチルまたはオクチルである。
もしくはC6シクロアルキル基は、場合によりモノハロゲン化またはポリハロゲ
ン化および/またはアルキル化されたC5もしくはC6シクロアルキル基、すな
わち、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、3,3,5-トリメチルシクロヘキシ
ルおよび完全に塩素化されたシクロヘキシルである。
たはアラルキル化されたC6〜C30アリール基は、場合により単核のまたは多
核の、モノハロゲン化またはポリハロゲン化および/またはアルキル化および/
またはアラルキル化された基であり、例えば、クロロフェニル、ブロモフェニル
、ペンタクロロフェニル、ペンタブロモフェニル、フェニル、クレジル、イソプ
ロピルフェニル、ベンジル置換されたフェニルおよびナフチルである。
、ブチル、オクチル、フェニル、クレジル、クミルまたはナフチルを表す。R9 、R10およびR11は、互いに独立して、特に好ましくは、メチル、エチル、
ブチル、任意にメチルおよび/またはエチルで置換されたフェニルを表す。
フェート、トリス-(2-クロロエチル)ホスフェート、トリス-(2,3-ジブロモプロ
ピル)ホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、
ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルオクチルホスフェート、ジフェニ
ル-2-エチルクレジルホスフェート、トリ-(イソプロピルフェニル)ホスフェート
、トリス-(p-ベンジルフェニル)ホスフェート、トリフェニルホスフィンオキサ
イド、メタンホスホン酸ジメチルエステル、メタンホスホン酸ジフェニルエステ
ルおよびフェニルホスホン酸ジエチルエステルである。
れているようなホスフェート2量体およびオリゴマーでもある。
してよい。
ある。芳香族基R12、R13、R14およびR15は、ハロゲンおよび/また
はアルキル基、好ましくは塩素、臭素および/またはC1〜C4-アルキルで置
換されていてよい。特に好ましいアリール基は、クレジル、フェニル、キシレニ
ル、プロピルフェニルまたはブチルフェニル、およびこれらの対応する臭素化お
よび塩素化誘導体である。
す。これは、好ましくは式(I)のジフェノールから誘導される。ジフェニルフ
ェノール、ビスフェノールA、レゾルシノールまたはハイドロキノン、またはこ
れらの塩素化もしくは臭素化誘導体が特に好ましい。
1である。
0.5〜10、とりわけ0.5〜6を有する。
〜90重量%、好ましくは12〜40重量%、および欧州特許出願公開第A-363
608号公報に記載の少なくとも1種のリン化合物オリゴマーまたはリン化合物オ
リゴマー混合物、およびリン化合物の総量に対し10〜90重量%、好ましくは
60〜88重量%の量の式(VII)のリン化合物の混合物を使用してもよい。
クロロエチル)ホスフェート、トリス-(2,3-ジブロモプロピル)ホスフェート、ト
リフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、ジフェニルクレジルホス
フェート、ジフェニルオクチルホスフェート、ジフェニル-2-エチルクレジルホ
スフェート、トリ-(イソプロピルフェニル)ホスフェート、ハロ-置換されたアリ
ールホスフェート、メチルホスホン酸ジメチルエステル、メチルホスホン酸ジフ
ェニルエステル、およびフェニルホスホン酸ジエチルエステル、トリフェニルホ
スフィンオキサイドまたはトリクレジルホスフィンオキサイドである。
3〜20、好ましくは0.5〜10、特に0.5〜6を有する。
、同第A-640655号公報)かまたは、公知の方法により同様に調製され得る(例
えば、ウルマンズ・エンサイクロペディ・デル・テクニッシェン・ヘミー(Ulman
ns Encyklopadie der technischen Chemie)、第18巻、第301頁以降、1979年;ホ
ウベン-ヴェイル著、メトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー(Methoden d
er organischen Chemie)、第12/1巻、第43頁;バイルシュタイン(Beilstein
)第6巻、第177頁)。
顔料、潤滑剤および離型剤、核形成剤および帯電防止剤)を含有する本発明の成
形用組成物は、当該成分を公知の方法で混合し、得られる混合物を200℃〜3
00℃の温度において汎用の装置(例えば、密閉式ニーダー、押出機および二軸
スクリュー)内で溶融コンパウンドおよび溶融押出しすることにより調製される
。ここで、成分Eは、好ましくは前述の凝集混合物の形態で使用される。
してまたは同時に混合してよい。
ために、各種成形品、特に加工特性が強く要求されるものの製造に好適である。
未満、特に1.5mm未満の薄膜ケーシング部品を包含する。
、射出成形によって製造され得る。製造される成形品の例は、例えばジューサー
、コーヒーメーカー、ミキサーなどの家庭用器具のためのケーシング部品、モニ
ター、プリンター、コピー機などの事務用備品のための各種ケーシング部品、ま
たは建築分野における覆工板(covering plate)、および自動車分野における部品
である。これらは、非常に優れた電気特性を有していることから、電気工学分野
でも使用され得る。
ouldings)を製造するのに使用されてもよい。 列車の室内を仕上げるための部品、ハブキャップ、小型変圧器を含む電気部品
用のケーシング、データの分配および伝達用装置のためのケーシング、医療目的
用のケーシングおよびカバー、通信装置およびそのためのケーシング、子供用の
おもちゃの乗り物、平坦な組み立て式工法用壁パネル、安全装置用ケーシング、
リアスポイラー、断熱輸送容器、小動物を飼育または保護するための装置、サニ
タリーおよび風呂付属品のための成形品、換気孔を被覆するための格子、庭およ
び道具小屋(garden sheds)のための成形品、園芸用具ためのケーシング。
工による成形品の製造である。
る際における本発明の成形用組成物の使用、および本発明の成形用組成物から製
造される成形物品に関する。
粘度は、溶媒としての塩化メチレン(CH2Cl2)中、25℃において0.5g
/100mLの濃度で測定したもの。
、塊重合法により調製された架橋ポリブタジエンゴム16重量部とのグラフトポ
リマー。 B.2 対照 スチレンとアクリロニトリルの比73:27のコポリマー40重量部と、乳化
重合法により調製された、粒状の架橋ポリブタジエンゴム(平均粒径d50は0
.28μm)60重量部とのグラフトポリマー。
55dL/g(ジメチルホルムアミド中20℃で測定したもの)のスチレン/アク
リロニトリルコポリマー。
ブルグ(Arburg)270E射出成形機を用いて260℃で製造する。
準拠して、寸法80×10×4mmのロッドを用いて求める。
特性(ESC特性)を調べた。使用した試験媒体は、トルエン60容積%とイソ
プロパノール40容積%の混合液であった。試験片は、円弧型テンプレートを用
いて予備伸長してから(予備伸長、%)、室温において試験媒体中で貯蔵した。
応力クラック特性は、試験媒体中での、予備伸長に依存したクラック形成または
割れ目によって評価する。
いた。混合物の重量損失は、不活性ガスとしての窒素下、0〜400℃の温度範
囲において加熱速度10K/分で求めた。評価には、通常の加工温度に相当する
280℃での重量損失を用いた。数値が高くなるほど、加工操作中にコーティン
グの形成し易さが顕著になる。より低い値は、コーティングがより形成し難いこ
とをを示す。
。加えて、mass-ABSを含有する成形用組成物が驚くべきことに加工特性の分
野において別の長所を示すことも分かった。流動特性(MVR)および重量損失
は共に加工条件下で用具に生じるコーティング形成の測度と考えられるが、これ
らが共に、エマルション-ABSを含有する成形用組成物(比較例2)の場合よ
りも非常に優位である(約20%)。
Claims (13)
- 【請求項1】 A)芳香族ポリカーボネートおよび/またはポリエステルカ
ーボネート40〜99重量部、 B)B.1)ビニルモノマー1種以上50〜99重量%と、 B.2)ガラス転移温度が10℃未満であるグラフトベース1種以上50〜1重
量% との塊重合法、溶液重合法または塊状-懸濁重合法により調製されるグラフトポ
リマー0.5〜60重量部、 C)ビニル(コ)ポリマーおよびポリアルキレンテレフタレートから成る群より選
択される少なくとも1種の熱可塑性ポリマー0〜45重量部、 D)式(I)のホスホネートアミン0.1〜30重量部、 【化1】 (ここで、Aは、式(IIa)または(IIb): 【化2】 の基を表し、R1およびR2は、互いに独立して、非置換のもしくは置換された
C1〜C10-アルキル、または非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリ
ールであり、R3およびR4は、互いに独立して、非置換のもしくは置換された
C1〜C10-アルキル、または非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリ
ールであるか、あるいはR3およびR4は合わせて、非置換のもしくは置換され
たC3〜C10-アルキレンを表し、yは、数値0、1または2を表し、および
置換基Bは、互いに独立して、水素、任意にハロゲン化されたC2〜C8-アル
キル、または非置換のもしくは置換されたC6〜C10-アリールである。) E)フッ素化ポリオレフィン0〜5重量部 を含有する混合物。 - 【請求項2】 成分Aを60〜98.5重量部、成分Bを1〜40重量部、
成分Cを0〜30重量部、成分Dを1〜25重量部および成分Eを0.1〜3重
量部含有する請求項1記載の混合物。 - 【請求項3】 成分Cを2〜25重量部含有する請求項1または2記載の混
合物。 - 【請求項4】 成分Dを2〜20重量部含有する請求項1〜3のいずれかに
記載の混合物。 - 【請求項5】 ビニルモノマーB.1が、 B.1.1 スチレン、α-メチルスチレン、環においてハロゲンまたはアルキル
で置換されたスチレン、および/または(メタ)アクリル酸C1〜C8アルキルエ
ステル、および B.1.2 不飽和ニトリル、(メタ)アクリル酸C1〜C8アルキルエステルおよ
び/または不飽和カルボン酸の誘導体 の混合物である請求項1〜4のいずれかに記載の混合物。 - 【請求項6】 グラフトベースが、ジエンゴム、EP(D)Mゴム、アクリレ
ート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン/酢酸ビニルゴ
ムから成る群からの少なくとも1種のゴムから選択される請求項1〜5のいずれ
かに記載の混合物。 - 【請求項7】 ホスホネートとして、5,5,5',5',5'',5''-ヘキサメチル-ト
リス(1,3,2-ジオキサホスホリナン-メタン)アミン-2,2',2''-トリオキサイド、1
,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-ブチル-N[(5,5-ジメチル-1,3,
2-ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジメチル-,P,2-ジオキサイド、1
,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-[(5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキ
サホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジメチル-N-フェニル-,P,2-ジオキサイ
ド、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N,N-ジブチル-5,5-ジメチ
ル,2-オキサイド、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-[(5,5-ジメ
チル-1,3,2ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-N-エチル-5,5-ジメチル,P,
2-ジオキサイド、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N-ブチル-N-[
(5,5-ジクロロメチル-1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジクロ
ロメチル,P,2-ジオキサイド、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-メタンアミン,N
-[(5,5-ジクロロメチル-1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-イル)メチル]-5,5-ジク
ロロメチル-N-フェニル-,P,2-ジオキサイド、1,3,2-ジオキサホスホリナン-2-
メタンアミン,N,N-ジ-(4-クロロブチル)-5,5-ジメチル-2-オキサイド、1,3,2-
ジオキサホスホリナン-2-メタンイミン,N-[(5,5-ジメチル-1,3,2-ジオキサホス
ホリナン-2-イル)メタン]-N-(2-クロロエチル)-5,5-ジ(クロロメチル),P,2-ジ
オキサイドが選択される請求項1〜6のいずれかに記載の混合物。 - 【請求項8】 ホスホネートとして、式: 【化3】 の化合物を含有する請求項1〜6のいずれかに記載の混合物。
- 【請求項9】 潤滑剤および離型剤、核形成剤、帯電防止剤、安定化剤、着
色剤および顔料から成る群より選択される少なくとも1種の添加物を含有する請
求項1〜8のいずれかに記載の混合物。 - 【請求項10】 成分D以外の防炎加工剤を更に含有する請求項1〜9のい
ずれかに記載の成形用組成物の製造方法。 - 【請求項11】 成分A〜Eを他の任意の添加物と混合して溶融コンパウン
ドすることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の成形用組成物の製造
方法。 - 【請求項12】 成形品を製造するための請求項1〜11のいずれかに記載
の成形用組成物の使用。 - 【請求項13】 請求項1〜11のいずれかに記載の成形用組成物から製造
される成形品。
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