JP2002308857A - イソオキサゾリン誘導体及びこれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

イソオキサゾリン誘導体及びこれを有効成分とする除草剤

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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、優れた除草効果と作物・雑草間の選
択性を有するイソオキサゾリン誘導体を提供することを
課題とする。 【解決手段】本発明のイソオキサゾリン誘導体は、一般
式 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、アルキル基
を示し、Ｒ3, Ｒ4, Ｒ5, Ｒ6は、水素原子を示し、Ｙは
窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意の
ヘテロ原子を有する５〜６員の置換されていてもよい芳
香族ヘテロ環基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、ｎは
０〜２の整数を示す。］で表される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なイソオキサゾリン
誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】イソオキサゾリン誘導体が除草活性を有
することは、例えば、特開平8−22558号公報明細書、特
開平9−328477号公報明細書及び特開平9−328483号公報
明細書等に報告されている。しかしながら本発明化合物
はこれらの文献に記載されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】有用作物に対して使用
される除草剤は、土壌または茎葉に施用し、低薬量で十
分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性
を発揮する薬剤であることが望まれる。これらの点で、
当該の公報明細書に記載の化合物は必ずしも満足すべき
ものとは言い難い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこの様な状
況に鑑み、除草効果と作物・雑草間の選択性を検討した
結果、新規なイソオキサゾリン誘導体が、優れた除草効
果と作物・雑草間の選択性を有することを見いだし、本
発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は （１）一般式［I］を有するイソオキサゾリン誘導体又
はその薬理上許容される塩：
【０００６】
【化２】
【０００７】式中、Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、
水素原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアル
キル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基
を示すか、或いはＲ1とＲ2とが一緒になって、これらの
結合した炭素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、Ｒ
3及びＲ4は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を示すか、或
いはＲ3とＲ4とが一緒になって、これらの結合した炭素
原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、さらにＲ1、
Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はこれらの結合した炭素原子と共に５
〜８員環を形成することもでき、Ｒ5及びＲ6は、同一又
は相異なって、水素原子又はＣ1〜Ｃ10アルキル基を示
し、Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択され
る任意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環
基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環
基は置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相
異なる基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキ
ル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ
基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキ
ルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又
はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜
４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形
成されていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ
原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになって
もよく、ｎは０〜２の整数を示す。 「置換基群α」水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ
1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の
基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハ
ロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10
アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモ
ノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロア
ルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜
Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ
10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基
でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4
ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6
アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6
アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル
基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換され
たＣ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基で
モノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択
される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルス
ルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル
基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4
ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよ
いフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置
換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていても
よい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘ
テロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環
チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル
基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換
されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換さ
れていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル
基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されてい
てもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよい
ベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ
カルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカ
ルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニ
ル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同
一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されて
いてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ
1〜Ｃ6アシルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニ
ルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニル
オキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、
ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なっ
て、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェ
ニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカル
ボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル
基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10ア
ルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル
基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置
換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されて
いてもよい。） 「置換基群β」水酸基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該
基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよ
い）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ
基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
キシカルボニル基、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基、アミノ
基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10ア
ルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカ
ルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ
4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよ
い）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異な
って、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよ
い）、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボ
ニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基、シアノ基、置
換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
フェノキシ基 「置換基群γ」Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置
換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の
窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で
置換されていてもよい。） （２）０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていて
もよいヘテロ環上の置換基群αが水酸基、ハロゲン原
子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される
任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜
Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基
でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハ
ロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ
3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1
〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意
の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜
Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜
Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル
基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されてい
てもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ
基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されて
いてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳
香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘ
テロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニ
ル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル
基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニ
ル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置
換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ
1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモ
イル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ1
0アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置
換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の
窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、
置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されていても
よいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベン
ゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4
ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベン
ジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルス
ルホニル基で置換されていてもよい。）であるか或いは
隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル
基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アル
キル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアル
キルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２
個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい
５〜８員環を形成されていてもよい（１）に記載のイソ
オキサゾリン誘導体。 （３）０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていて
もよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、Ｃ1〜
Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10
アルコキシＣ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキ
ル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されて
もよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアル
コキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオ
キシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ1〜Ｃ1
0アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、ア
シル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜Ｃ1
0アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル
基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ1〜Ｃ10アル
キル基で置換されていてもよい）である（２）に記載の
イソオキサゾリン誘導体。 （４）Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基もしく
はエチル基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子である
（１）、（２）又は（３）に記載のイソオキサゾリン誘
導体。 （５）Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択さ
れる任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環の芳香
族ヘテロ環基である（１）、（２）、（３）又は（４）
に記載のイソオキサゾリン誘導体。 （６）Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル
基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジニル基
である（５）に記載のイソオキサゾリン誘導体。 （７）Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール−４−
イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾール−
４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリジン−
３−イル基又はピリミジン−５−イル基である（６）に
記載のイソオキサゾリン誘導体。 （８）Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群αがチ
オフェン環の２及び４位に必ず置換した（７）に記載の
イソオキサゾリン誘導体。 （９）Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αがピ
ラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原子、Ｃ
1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の
基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハ
ロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6ア
ルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、
置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ
1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル
スルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていても
よいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香
族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアル
キルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカル
ボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜
Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベ
ンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェ
ノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子
は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換さ
れていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、
アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜
Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、ア
シル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換され
ていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていても
よいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、
Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていても
よいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフ
ェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置
換した（７）に記載のイソオキサゾリン誘導体 （１０）Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基群αが
ピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、Ｃ1〜
Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の基で
モノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロア
ルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6アルケ
ニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルス
ルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、置換
基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ1〜
Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスル
ホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換され
ていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい
フェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘ
テロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル
カルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニ
ル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10
アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジ
ルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキ
シカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同
一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されて
いてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミ
ノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル
基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されてい
てもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよい
ベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよい
ベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニ
ルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換し
た（７）に記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１１）Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、置換基
群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず置換し
た（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１２）Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置換基群
αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換した
（７）記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１３）Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群αがピ
リジン環の２位及び４位に必ず置換した（７）記載のイ
ソオキサゾリン誘導体。 （１４）Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αが
ピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した（７）記載
のイソオキサゾリン誘導体。 （１５）ｎが２の整数である（１）〜（１４）のいずれ
かに記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１６）ｎが１の整数である（１）〜（１４）のいずれ
かに記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１７）ｎが０の整数である（１）〜（１４）のいずれ
かに記載のイソオキサゾリン誘導体。 （１８）（１）〜（１７）のいずれかに記載のイソオキ
サゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分とし
て含有する除草剤。 （１９）（１６）及び（１７）に記載のイソオキサゾリ
ン誘導体又は、（１５）に記載のイソオキサゾリン誘導
体の製造中間体。
【０００８】尚、本明細書において、用いられる用語の
定義を以下に示す。
【０００９】Ｃ1〜Ｃ10等の表記は、この場合ではこれ
に続く置換基の炭素数が、１〜１０であることを示して
いる。
【００１０】ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
【００１１】Ｃ1〜Ｃ10アルキル基とは、特に限定しな
い限り、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキ
ル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、se
c−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソ
ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘ
キシル基、３,３−ジメチルブチル基、ヘプチル基、又
はオクチル基等を挙げることができる。
【００１２】Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基とは、炭素数が
３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロ
ヘキシル基等を挙げることができる。
【００１３】Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル
基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されても
よい）とは、特に限定しない限り同一又は異なって、ハ
ロゲン原子１〜４又はＣ1〜Ｃ3アルキル基で置換されて
もよいＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基により置換されたＣ1
〜Ｃ3アルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル
基、1−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピル
エチル基、1−シクロプロピルプロピル基、２−シクロ
プロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、
シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シク
ロヘキシルメチル基２−クロロシクロプロピルメチル
基、２,２−ジクロロシクロプロピルメチル基、２−フ
ルオロシクロプロピルメチル基、２,２−ジフルオロシ
クロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルメチ
ル基、２,２−ジメチルシクロプロピルメチル基、又は
２−メチルシクロプロピルエチル基等を挙げることがで
きる。
【００１４】Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル
基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基により置換
された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロ
プロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−
シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル
基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピ
ルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル
メチル基、又はシクロヘキシルメチル基等を挙げること
ができる。
【００１５】Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基とは、特に限定し
ない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置
換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキ
ル基を示し、例えばフルオロメチル基、クロロメチル
基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオ
ロメチル基、２,２−ジフルオロエチル基、２,２,２−
トリフルオロエチル基、又はペンタフルオロエチル基等
を挙げることができる。
【００１６】Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基とは、炭素数が２〜
６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテ
ニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプ
ロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブ
テニル基、又は２−ペンテニル基等を挙げることができ
る。
【００１７】Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基とは、炭素数が２〜
６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチ
ニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニ
ル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、又は２−メチ
ル−３−ブチニル基等を挙げることができる。
【００１８】Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基とは、特に限定
しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４で
置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアル
ケニル基を示し、例えば３−クロロ−２−プロぺニル
基、又は２−クロロ−２−プロぺニル基等を挙げること
ができる。
【００１９】Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基とは、アルキル部
分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例
えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、tert−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、se
c−ブトキシ基、又はイソブトキシ基等を挙げることが
できる。
【００２０】Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ基とは、ハロアル
キル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基
を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメ
トキシ基、２,２−ジフルオロエトキシ基、又は２，２,
２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
【００２１】Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基とは、シ
クロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキ
ル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、
シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、又は
シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
【００２２】Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル
オキシ基とは、シクロアルキルアルキル部分が上記の意
味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、
例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピル
エトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、１−シク
ロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキ
シ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチル
メトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、又はシクロヘ
キシルメトキシ基等を挙げることができる。
【００２３】Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基及びＣ2〜Ｃ6
アルキニルオキシ基とは、アルケニル又はアルキニル部
分が上記の意味である（アルケニル）−Ｏ−基、（アル
キニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ
基、又は２−プロピニルオキシ基等を挙げることができ
る。
【００２４】Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基とは、アル
コキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−Ｎ＝基
を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基
等を挙げることができる。
【００２５】Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アル
キルスルフィニル基及びＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル
基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）
−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−Ｓ
Ｏ2−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、
ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、メチルスル
フィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル
基、ｎ−プロピルスルホニル基、又はイソプロピルスル
ホニル基等を挙げることができる。
【００２６】Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基と
は、アルキルスルホニル部分が上記の意味である（アル
キルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホ
ニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げる
ことができる。
【００２７】Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基とは、
アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−Ｃ
Ｏ−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、又はイソ
プロポキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００２８】Ｃ1〜Ｃ6アシル基とは、炭素数１〜６の直
鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミ
ル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル
基、ブチリル基、又はピバロイル基等を挙げることがで
きる。
【００２９】Ｃ1〜Ｃ10アシルオキシ基とは、アシル部
分が上記の意味である（アシル）−Ｏ−基、を示し、例
えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピ
オニルオキシ基、又はピバロイルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
【００３０】Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1
〜Ｃ4ハロアルキルチオ基及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルス
ルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である
（ハロアルキル）−ＣＯ−基、（ハロアルキル）−Ｓ−
基、（ハロアルキル）−ＳＯ 2−基を示し、例えばクロ
ロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオ
ロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基、トリフル
オロメチルチオ基、クロロメチルスルホニル基、ジフル
オロメチルスルホニル基、又はトリフルオロメチルスル
ホニル基等を挙げることができる。
【００３１】Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニルオキシ基
及びＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハ
ロアルキルカルボニル部分及びハロアルキルスルホニル
部分が上記の意味である（ハロアルキルカルボニル）−
Ｏ−基、（ハロアルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、
例えばクロロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチル
オキシ基、クロロメチルスルホニルオキシ基、又はトリ
フルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることがで
きる。
【００３２】（置換されていてもよい）フェニル基、
（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環基、（置換さ
れていてもよい）フェノキシ基、（置換されていてもよ
い）芳香族ヘテロ環オキシ基、（置換されていてもよ
い）フェニルチオ基、（置換されていてもよい）芳香族
ヘテロ環チオ基、（置換されていてもよい）フェニルス
ルホニル基、（置換されていてもよい）フェニルスルホ
ニルオキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ
環スルホニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカ
ルボニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカルボ
ニルオキシ基、（置換されていてもよい）ベンジルスル
ホニル基、（置換されていてもよい）ベンゾイル基、
（置換されていてもよい）ベンゾイルオキシ基、（置換
されていてもよい）ベンジルオキシカルボニル基又は
（置換されていてもよい）フェノキシカルボニル基にお
ける「置換されていてもよい基」とは、例えばハロゲン
原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル
基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
キシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキル
スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は
同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されて
いてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原
子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ
6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ1〜
Ｃ10アルキルスルホニル基、又はＣ1〜Ｃ4ハロアルキル
スルホニル基で置換されていてもよい）等で置換されて
いてもよいことを示す。
【００３３】窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意
に選択されるヘテロ原子を有する５員から６員の芳香族
ヘテロ環基とは、例えばヘテロ原子を１から３個有する
フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イ
ソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、
チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジ
ニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル
基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジア
ゾリル基を挙げることができる。
【００３４】芳香族ヘテロ縮合環基とは、窒素原子、酸
素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を
１〜３個有する基を示し、例えばベンゾフリル基、ベン
ゾチエニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイ
ソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリ
ル基、キノリル基、イソキノリル基、フサラジニル基、
キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基又
はベンゾトリアゾリル基を挙げることができる。
【００３５】（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環
基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環オキシ
基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環チオ基又
は（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルホニル
基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄
原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する
５〜６員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピ
ロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチア
ゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリ
ル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、
ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキ
サジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることがで
きる。
【００３６】薬理上許容される塩とは、一般式［I］を
有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はア
ミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらと金属
もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩
であり、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアル
カリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカ
リ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリ
エチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げること
ができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることがで
き、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はｐ−ト
ルエンスルホン酸等を挙げることができる。
【００３７】上記した一般式［I］の中で好ましくは、
Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基又はエチル基
であり、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子であり、ｎ
が２の整数であり、Ｙがチオフェン−３−イル基（ここ
で該基の２位及び４位は、ハロゲン原子、アルキル基、
ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アシル基、ハ
ロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シ
アノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は
異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置
換する。）、ピラゾール−４−イル基（ここで該基の３
位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキ
ル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、ハロアルコキシ基、シクロアルキルアルキル
オキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキ
ルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアル
キルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基
又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なっ
てアルキル基で置換されていてもよい）が、さらに1位
に水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任
意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、
シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
キルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基
でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキル
スルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていても
よいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香
族ヘテロスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、
置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボ
ニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニ
ル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基又
はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なっ
て、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で
置換されていてもよい）が必ず置換する。）、ピラゾー
ル−５−イル基（ここで該基の４位はハロゲン原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、ハ
ロアルコキシ基、アシル基、ハロアルキルカルボニル
基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイ
ル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で
置換されていてもよい）が、さらに1位は水素原子、ア
ルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置
換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基又は置換されていてもよいフェニル基が必ず置換す
る。）、イソオキサゾール−４−イル基（該基の３位及
び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコ
キシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル
スルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、
アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基
（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換
されていてもよい）が必ず置換する。）、イソチアゾー
ル−４−イル基（該基の３位及び５位は、ハロゲン原
子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ
基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カル
バモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキ
ル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、ピ
リジン−３−イル基（該基の２位及び４位は、ハロゲン
原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル
基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同
一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が
必ず置換する。）、或いはピリミジン−５−イル基（該
基の４位および６位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハ
ロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ
基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカ
ルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアル
キル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）で
あるイソオキサゾリン誘導体。
【００３８】
【発明の実施の形態】次に、一般式［I］を有する本発
明化合物の代表的な化合物例を表１〜表１３０に記載す
る。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定される
ものではない。尚、化合物番号は以後の記載において参
照される。
【００３９】本明細書における表中の次の表記は下記の
通りそれぞれ該当する基を表す。
【００４０】 Ｍｅ ：メチル基 Ｅｔ ：エチル基、 Ｐｒ ：ｎ−プロピル基 Ｐｒ−ｉ ：イソプロピル基 Ｐｒ−ｃ：シクロプロピル基 Ｂｕ ：ｎ−ブチル基 Ｂｕ−ｉ：ｉｓｏ−ブチル基 Ｂｕ−ｓ ：ｓｅｃ−ブチル基 Ｂｕ−ｔ：ｔｅｒｔ−ブチル基 Ｂｕ−ｃ ：シクロブチル基 Ｐｅｎ ：ｎ−ペンチル基 Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基 Ｈｅｘ ：ｎ−ヘキシル基 Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基 Ｐｈ ：フェニル基 また，例えば（４−Ｃｌ）Ｐｈの表記は４−クロロフェ
ニル基、３−Ｈｅｘは３−ヘキシル基を表す。
【００４１】尚、本発明化合物は置換基として水酸基を
含む場合、ケト−エノール互変異性体を有する化合物が
あるが、何れの異性体もその混合物も本発明化合物に含
まれる。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】
【表４】
【００４６】
【表５】
【００４７】
【表６】
【００４８】
【表７】
【００４９】
【表８】
【００５０】
【表９】
【００５１】
【表１０】
【００５２】
【表１１】
【００５３】
【表１２】
【００５４】
【表１３】
【００５５】
【表１４】
【００５６】
【表１５】
【００５７】
【表１６】
【００５８】
【表１７】
【００５９】
【表１８】
【００６０】
【表１９】
【００６１】
【表２０】
【００６２】
【表２１】
【００６３】
【表２２】
【００６４】
【表２３】
【００６５】
【表２４】
【００６６】
【表２５】
【００６７】
【表２６】
【００６８】
【表２７】
【００６９】
【表２８】
【００７０】
【表２９】
【００７１】
【表３０】
【００７２】
【表３１】
【００７３】
【表３２】
【００７４】
【表３３】
【００７５】
【表３４】
【００７６】
【表３５】
【００７７】
【表３６】
【００７８】
【表３７】
【００７９】
【表３８】
【００８０】
【表３９】
【００８１】
【表４０】
【００８２】
【表４１】
【００８３】
【表４２】
【００８４】
【表４３】
【００８５】
【表４４】
【００８６】
【表４５】
【００８７】
【表４６】
【００８８】
【表４７】
【００８９】
【表４８】
【００９０】
【表４９】
【００９１】
【表５０】
【００９２】
【表５１】
【００９３】
【表５２】
【００９４】
【表５３】
【００９５】
【表５４】
【００９６】
【表５５】
【００９７】
【表５６】
【００９８】
【表５７】
【００９９】
【表５８】
【０１００】
【表５９】
【０１０１】
【表６０】
【０１０２】
【表６１】
【０１０３】
【表６２】
【０１０４】
【表６３】
【０１０５】
【表６４】
【０１０６】
【表６５】
【０１０７】
【表６６】
【０１０８】
【表６７】
【０１０９】
【表６８】
【０１１０】
【表６９】
【０１１１】
【表７０】
【０１１２】
【表７１】
【０１１３】
【表７２】
【０１１４】
【表７３】
【０１１５】
【表７４】
【０１１６】
【表７５】
【０１１７】
【表７６】
【０１１８】
【表７７】
【０１１９】
【表７８】
【０１２０】
【表７９】
【０１２１】
【表８０】
【０１２２】
【表８１】
【０１２３】
【表８２】
【０１２４】
【表８３】
【０１２５】
【表８４】
【０１２６】
【表８５】
【０１２７】
【表８６】
【０１２８】
【表８７】
【０１２９】
【表８８】
【０１３０】
【表８９】
【０１３１】
【表９０】
【０１３２】
【表９１】
【０１３３】
【表９２】
【０１３４】
【表９３】
【０１３５】
【表９４】
【０１３６】
【表９５】
【０１３７】
【表９６】
【０１３８】
【表９７】
【０１３９】
【表９８】
【０１４０】
【表９９】
【０１４１】
【表１００】
【０１４２】
【表１０１】
【０１４３】
【表１０２】
【０１４４】
【表１０３】
【０１４５】
【表１０４】
【０１４６】
【表１０５】
【０１４７】
【表１０６】
【０１４８】
【表１０７】
【０１４９】
【表１０８】
【０１５０】
【表１０９】
【０１５１】
【表１１０】
【０１５２】
【表１１１】
【０１５３】
【表１１２】
【０１５４】
【表１１３】
【０１５５】
【表１１４】
【０１５６】
【表１１５】
【０１５７】
【表１１６】
【０１５８】
【表１１７】
【０１５９】
【表１１８】
【０１６０】
【表１１９】
【０１６１】
【表１２０】
【０１６２】
【表１２１】
【０１６３】
【表１２２】
【０１６４】
【表１２３】
【０１６５】
【表１２４】
【０１６６】
【表１２５】
【０１６７】
【表１２６】
【０１６８】
【表１２７】
【０１６９】
【表１２８】
【０１７０】
【表１２９】
【０１７１】
【表１３０】
【０１７２】一般式［I］を有する本発明化合物は、以
下に示す製造法に従って製造することができるが、これ
らの方法に限定されるものではない。
【０１７３】＜製造法１＞ 工程１〜工程５
【０１７４】
【化３】
【０１７５】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及
びＹは前記と同じ意味を表し、Ｘ1はハロゲン原子を表
し、Ｒ7はＣ1〜Ｃ4アルキル基、置換されていてもよい
フェニル基又は置換されていてもよいベンジル基を表
し、Ｌはハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル
基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基又は置
換されていてもよいベンジルスルホニル基等の脱離基を
表し、xは１以上の整数を表す。） 以下、上記製造方法を各工程毎に詳説する。
【０１７６】（工程１）一般式［５］で表されるスルフ
ィド誘導体は、一般式［１］で表される化合物と、一般
式［２］で示される水硫化ナトリウム水和物とを、溶媒
中又は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、
塩基の存在下反応させることにより一般式［３］で表さ
れるメルカプタンの塩を反応系内で製造した後、メルカ
プタンの塩［３］を単離することなく一般式［４］で表
されるハロゲン誘導体とを反応させること（場合によっ
てはラジカル発生剤（例えばロンガリット(商品名)：Ｃ
Ｈ 2（ＯＨ）ＳＯ2Ｎａ・２Ｈ2Ｏ等）を添加することが
できる）によって製造することができる。
【０１７７】反応温度はいずれの反応も０℃から反応系
における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは
１０℃〜１００℃の温度範囲であり、反応は化合物によ
り異なるが０.５時間〜２４時間で終了する。
【０１７８】反応に供される試剤の量は一般式［１］で
表される化合物１当量に対して、一般式［２］で表され
る化合物又は一般式［４］で表される化合物は１〜３当
量、塩基を使用する場合は、塩基０．５〜３当量であ
る。
【０１７９】溶媒としては、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−
２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド
又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又
はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又
はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は２
−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル
類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０１８０】塩基としては、例えば水素化ナトリウム等
の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソ
プロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、
トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.
０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化
カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアル
カリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリ
ウム等のアルカリ金属重炭酸塩或いはナトリウムメトキ
シド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラー
トが挙げられる。
【０１８１】（工程２）一般式［６］で表されるスルホ
キシド誘導体は、一般式［５］で表されるスルフィド誘
導体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることによ
り製造することができる。
【０１８２】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の
温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜
７２時間で終了する。
【０１８３】反応に供される試剤の量は一般式［５］で
表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量であ
る。
【０１８４】溶媒としては、例えばジクロロメタン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベン
ゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキ
シエタン又はジエチルエーテル等のエーテル類、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール
類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニ
トリル等のニトリル類、酢酸、水或いはこれらの混合物
が挙げられる。
【０１８５】酸化剤としては、例えば、ｍ−クロロ過安
息香酸、過ギ酸又は過酢酸等の有機過酸化物、過酸化水
素、過マンガン酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウム等
の無機過酸化物が挙げられる。
【０１８６】（工程３）一般式［７］で表されるスルホ
ン誘導体は、一般式［６］で表されるスルホキシド誘導
体と酸化剤とを、適当な溶媒中で反応させることにより
製造することができる。
【０１８７】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の
温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜
７２時間で終了する。
【０１８８】反応に供される試剤の量は一般式［６］で
表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量であ
る。
【０１８９】溶媒及び酸化剤としては、工程２と同様な
ものが挙げられる。
【０１９０】（工程４）一般式［７］で表されるスルホ
ン誘導体は、適当な溶媒中、一般式［５］で表されるス
ルフィド誘導体と好適な酸化剤の量により一般式［６］
で表されるスルホキシド誘導体を単離することなく製造
することもできる。
【０１９１】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の
温度範囲であり、反応は化合物により異なるが１時間〜
７２時間で終了する。
【０１９２】反応に供される試剤の量は一般式［５］で
表される化合物１当量に対して酸化剤は１〜３当量であ
る。
【０１９３】溶媒及び酸化剤としては、工程２と同様な
ものが挙げられる。
【０１９４】（工程５）一般式［５］で示されるスルフ
ィド誘導体は、一般式［８］で表される化合物と、一般
式［９］で示されるメルカプタン誘導体とを、溶媒中又
は溶媒の非存在下で（好ましくは適当な溶媒中）、塩基
の存在下で反応させることにより製造することができ
る。
【０１９５】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度で行い、好ましくは１０℃〜１００
℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０.
５時間〜２４時間で終了する。
【０１９６】反応に供される試剤の量は一般式［８］で
表される化合物１当量に対して、一般式［９］で表され
る化合物は１〜３当量、塩基は０．５〜３当量である。
【０１９７】溶媒としては、例えばジエチルエーテル、
ジメトキシエタン、ジオキサン又はテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン又
はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジ
メチルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベ
ンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール又はtert−ブタノール等のアルコール
類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニ
トリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げ
られる。
【０１９８】塩基としては、例えば水素化ナトリウム等
の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソ
プロピルアミド等のアルカリ金属アミド、ピリジン、ト
リエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.
０］−７−ウンデセン等の有機塩基、水酸化ナトリウム
又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化
カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアル
カリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリ
ウム等のアルカリ金属重炭酸塩或いはナトリウムメトキ
シド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコラー
トが挙げられる。
【０１９９】一般式［８］で示される化合物のうちＬが
ハロゲン原子で表される化合物［１２］は工程６で示さ
れる方法により製造することができ、必要に応じ［１
２］と［１３］を分離精製して化合物［１２］を得る。
【０２００】（工程６）
【０２０１】
【化４】
【０２０２】（式中、Ｘ1、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3及びＲ4は前
記と同じ意味を表す。）一般式［１２］及び［１３］で
表されるイソオキサゾリン化合物は、一般式［１０］で
表されるオレフィン誘導体と、一般式［１１］で示され
るオキシム誘導体とを、溶媒中又は溶媒の非存在下で
（好ましくは適当な溶媒中）、塩基の存在下で反応させ
ることにより製造することができる。但し、Ｒ3，Ｒ4の
両者が水素原子の場合には一般式［１２］で表されるイ
ソオキサゾリン化合物が優先的に得られる。
【０２０３】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度で行い、好ましくは１０℃〜８０℃
の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０.５
時間〜２週間で終了する。
【０２０４】反応に供される試剤の量は一般式［１１］
で表される化合物１当量に対して、一般式［１０］で表
される化合物は１〜３当量である。
【０２０５】溶媒としては、例えばエチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジオキサン又はテトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、ク
ロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭
化水素類、酢酸エチル又は酢酸ブチル等の酢酸エステル
類、水或いはこれらの混合物等が挙げられる。
【０２０６】塩基としては、例えば水酸化ナトリウム又
は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カ
ルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属
水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカ
リ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウ
ム等のアルカリ金属重炭酸塩、酢酸ナトリウム又は酢酸
カリウム等のアルカリ金属酢酸塩、フッ化ナトリウム又
はフッ化カリウム等のアルカリ金属のフッ素化塩或いは
ピリジン、トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシク
ロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基等が挙げ
られる。
【０２０７】尚、上記製造方法で用いる製造中間体であ
る一般式［１０］で表される化合物は、市販のものを用
いるか、又はウィッティヒ（Wittig）反応等の公知の反
応により製造することができる。また、一般式［１１］
で示される化合物は、例えば、Liebigs Annalen der Ch
emie，985（1989）に記載の方法に準じて製造すること
ができる。
【０２０８】一般式［１］で表される化合物は、前記に
示した一般式［１２］で表される化合物から以下の方法
により製造することができる。
【０２０９】
【化５】
【０２１０】（式中、Ｘ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ7
は前記と同じ意味を表す。） 一般式［１５］で表される化合物は前記記載の工程５、
一般式［１６］で表される化合物は前記記載の工程２、
一般式［１］で表される化合物は化合物［１５］から前
記記載の工程４又は化合物［１６］から工程３で示した
方法に準じ製造することができる。
【０２１１】溶媒、塩基及び酸化剤としては工程２、工
程３、工程４又は工程５で記載したものと同じものが挙
げられる。
【０２１２】一般式［４］で表される化合物中、一般式
［２１］で表される化合物は、以下の方法により製造す
ることができる。
【０２１３】
【化６】
【０２１４】（式中、Ｒ5、Ｘ1及びＹは前記と同じ意味
を表し、Ｒ8はアルキル基を表す。） （工程１１）一般式［２０］で表される化合物は、化合
物［１７］、［１８］又は［１９］と還元剤とを溶媒中
で反応することにより製造することができる。
【０２１５】この反応は通常、反応温度−６０〜１５０
℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２１６】反応に供される試剤の量は、化合物［１
７］、［１８］又は［１９］１当量に対して、還元剤
０．５〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意
に変化させることができる。
【０２１７】還元剤としては、［１７］から［２０］の
製造では、例えば水素化ジイソブチルアルミニウム等の
金属水素化物、或いは水素化ホウ素ナトリウム又は水素
化リチウムアルミニウム等の金属水素錯化合物が、［１
８］又は［１９］から［２０］の製造では、例えば水素
化ジイソブチルアルミニウム等の金属水素化物、水素化
ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウム等の
金属水素錯化合物、或いはジボランが挙げられる。
【０２１８】溶媒としては、例えばジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類、ベ
ンゼン又はトルエン等の芳香族炭化水素類、メタノール
又はエタノール等のアルコール類が挙げられる。
【０２１９】（工程１２）一般式［２１］で表される化
合物は、化合物［２０］とハロゲン化剤とを溶媒中で反
応させることにより製造することができる。
【０２２０】この反応は通常、反応温度−５０〜１００
℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２２１】反応に供される試剤の量は化合物［２０］
１当量に対して、ハロゲン化剤１〜３当量が望ましい
が、反応の状況に応じて任意に変化させることができ
る。
【０２２２】ハロゲン化剤としては、例えば塩化水素、
臭化水素、三塩化リン、三臭化リン又は塩化チオニル等
が挙げられる。
【０２２３】溶媒としては、例えばジクロロエタン又は
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸等の酸類或
いはテトラヒドロフラン等のエーテル類が挙げられる。
【０２２４】一般式［４］で表される化合物は、以下の
方法により製造することができる。
【０２２５】
【化７】
【０２２６】（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ1及びＹは前記と同
じ意味を表す。） 一般式［４］で表される化合物は、化合物［２２］とハ
ロゲン化剤とを溶媒中、触媒の存在下又は非存在下で反
応させることにより製造することができる。
【０２２７】この反応は通常、反応温度３０〜１５０℃
で１０分〜２４時間反応させる。
【０２２８】反応に供される試剤の量は化合物［２２］
１当量に対して、ハロゲン化剤１〜１０当量が望ましい
が、反応の状況に応じて任意に変化させることができ
る。触媒は０.０１〜０.５当量である。
【０２２９】ハロゲン化剤としては、例えば臭素又は塩
素等のハロゲン、Ｎ−ブロモコハク酸イミド等のＮ−ハ
ロコハク酸イミド、或いは過臭化ピリジニウム等のピリ
ジン塩等が挙げられる。
【０２３０】溶媒としては、例えばジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピ
ロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はス
ルホラン等の硫黄化合物、ギ酸、又は酢酸等のカルボン
酸類が挙げられる。
【０２３１】触媒としては、例えば過酸化ベンゾイル、
α,α−アゾビスイソブチロニトリル又はこれらの混合
物が挙げられる。
【０２３２】一般式［４］で表される化合物中、一般式
［２４］で表される化合物は、以下の方法により製造す
ることができる。
【０２３３】
【化８】
【０２３４】（式中、Ｘ1及びＹは前記と同じ意味を表
す。） 一般式［２４］で表される化合物は、（Org.Synth.,II
I,557(1955)）又は（J.Am.Chem.Soc.,72,2216(1950)）
に記載の方法に準じて、化合物［２３］とハロゲン化水
素とホルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒドとを溶
媒中、ルイス酸存在下もしくは非存在下で反応させる
か、或いは（J.Am.Chem.Soc.,97,6155(1975)）に記載の
方法に準じて、化合物［２３］とハロゲノメチルエーテ
ルとを溶媒中、ルイス酸存在下、反応させる方法により
製造することができる。
【０２３５】この反応は通常、反応温度−４０〜１５０
℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２３６】反応に供される試剤の量は化合物［２３］
１当量に対して、ハロゲン化水素、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、ルイス酸又はハロゲノメチルエ
ーテル１〜２当量が望ましいが、反応の状況に応じて任
意に変化させることができる。
【０２３７】ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、
塩化亜鉛、塩化アルミニウム又は臭化亜鉛等が挙げられ
る。
【０２３８】ハロゲン化水素としては、塩化水素、臭化
水素又はヨウ化水素が挙げられる。
【０２３９】溶媒としては、例えばジクロロエタン、四
塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサ
ン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等のカ
ルボン酸類、二硫化炭素或いはそれらの混合物が挙げら
れる。
【０２４０】一般式［１９］で表される化合物中、一般
式［２５］で表される化合物は、以下の方法により製造
することができる。
【０２４１】
【化９】
【０２４２】（式中、Ｙは前記と同じ意味を表す。） 一般式［２５］で表される化合物は、（Org.Synth.,IV,
831(1963)）に記載のビルスマイヤー（Vilsmeier）法に
準じて、化合物［２３］とＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドとを塩化ホスホリル、ホスゲン又は塩化チオニル存在
下、溶媒中又は溶媒の非存在下で反応させるか、或いは
（Chem.Ber.,93,88(1960)）に記載の方法に準じて、化
合物［２３］とジハロゲノメチルエーテルとを溶媒中、
ルイス酸存在下、反応させた後、加水分解させる方法に
より製造することができる。
【０２４３】この反応は通常、反応温度−４０〜１５０
℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２４４】反応に供される試剤の量は化合物［２３］
１当量に対して、塩化ホスホリル、ホスゲン、塩化チオ
ニル、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ルイス酸又はジ
ハロゲノメチルエーテル１〜２当量が望ましいが、反応
の状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２４５】ルイス酸としては、例えば四塩化チタン、
四塩化スズ、塩化亜鉛、塩化アルミニウム又は臭化亜鉛
等が挙げられる。
【０２４６】溶媒としては、例えばジクロロエタン、四
塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサ
ン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等のカ
ルボン酸類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド
類、二硫化炭素或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２４７】一般式［１７］、［１８］、［１９］及び
［２０］で表される化合物は、以下の方法により製造す
ることができる。
【０２４８】
【化１０】
【０２４９】（式中、Ｒ5,Ｒ8及びＹは前記と同じ意味
を表し、Ｘ2は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表
す。） 一般式［１７］、［１８］、［１９］又は［２０］で表
される化合物は、(J.Org. Chem., 65, 4618(2000))に記
載方法に準じて、化合物［２６］とマグネシウム試薬と
を溶媒中又は溶媒の非存在下、反応させて化合物［２
7］を得た後、求電子試薬と反応させるか、或いは(Synt
h. Commun., 24(2), 253(1994))に記載方法に準じて、
化合物［２６］とｎ−ブチルリチウムとを溶媒中で反応
させて化合物［２８］を得た後、求電子試薬と反応させ
る方法により製造することができる。
【０２５０】この反応は通常、反応温度−１００〜１５
０℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０２５１】反応に供される試剤の量は化合物［２６］
１当量に対して、マグネシウム試薬又はリチウム試薬１
〜５当量、求電子試薬１〜５当量が望ましいが、反応の
状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２５２】マグネシウム試薬としては、例えば金属マ
グネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム又はジイソ
プロピルマグネシウム等が挙げられる。
【０２５３】リチウム試薬としては、例えばｎ−ブチル
リチウム、sec−ブチルリチウム又はtert−ブチルリチ
ウム等が挙げられる。
【０２５４】求電子試薬としては、例えばギ酸エチル、
シアノギ酸エチル又は酢酸エチル等のエステル類、アセ
チルクロリド又はクロロギ酸メチル等の酸ハライド類、
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、パラホル
ムアルデヒド等のアルデヒド類、或いは二酸化炭素が挙
げられる。
【０２５５】溶媒としては、例えばジクロロエタン、四
塩化炭素又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
ヘキサン又はペンタン等の脂肪族炭化水素類、ジオキサ
ン又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、或いはそれ
らの混合物が挙げられる。
【０２５６】一般式［３１］で表される化合物は、以下
の方法により製造することができる。
【０２５７】
【化１１】
【０２５８】（式中、Ｙは前記と同じ意味を表し、Ｒ9
はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シ
クロアルキルアルキル基、アルコキシカルボニルアルキ
ル基、置換されていてもよいベンジル基、置換されてい
てもよいヘテロ環アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル
基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換され
ていてもよいフェニルスルホニル基、アシル基、ハロア
ルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカ
ルボニル基又は置換されていてもよいベンゾイル基を表
し、Ｌ1はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホナ−
ト基、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル基、置換されていて
もよいベンジルスルホニル基、置換されていてもよいフ
ェニルスルホナ−ト基又は置換されていてもよいベンジ
ルスルホナ−ト基等の脱離基を表す。但し、Ｒ9がハロ
アルキル基の場合は、Ｌ1はハロアルキル化して残った
ハロゲン原子より反応性の高い脱離基を表す。例えばＣ
ＨＦ2基の場合は塩素原子又は臭素原子を表し、ＣＨ2Ｃ
Ｆ3基の場合は塩素原子、臭素原子、ｐ−トルエンスル
ホニルオキシ基又はメチルスルホニルオキシ基等を表
す。） 一般式［３１］で表される化合物は、化合物［２９］と
化合物［３０］とを溶媒中、塩基存在下で反応させるこ
とにより製造することができる。
【０２５９】この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０２６０】反応に供される試剤の量は化合物［２９］
１当量に対して化合物［３０］は１〜２０当量、塩基は
１〜３当量である。
【０２６１】塩基としては、例えば炭酸ナトリウム又は
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素
化カリウム又は水素化ナトリウム等アルカリ金属水素化
物、ナトリウムエトキシド又はナトリウムメトキシド等
のアルカリ金属アルコラート、或いは１，８−ジアザビ
シクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙
げられる。
【０２６２】溶媒としては例えばジクロロメタン又はク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン又
はトルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン又はヘプタ
ン等の脂肪族炭化水素類、アセトン又はメチルイソブチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル又は酢酸メチル等の
エステル類、Ｎ−メチルピロリドン又はＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド又
はスルホラン等の硫黄化合物、アセトニトリル等のニト
リル類、或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２６３】一般式［３４］で表される化合物は、以下
の方法により製造することができる。
【０２６４】
【化１２】
【０２６５】（式中、Ｌ1は前記と同じ意味を表し、Ｒ
10はアルキル基、前記と同じ意味の置換基群βより選択
される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアル
キル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
前記と同じ意味の置換基群γより選択される任意の基で
モノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルス
ルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換さ
れていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよ
いフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族
ヘテロスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニ
ル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置
換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニ
ル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル
基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カ
ルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、ア
ルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換さ
れていてもよい）を表す。この場合、ピラゾール環の炭
素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択され
る、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていても
よい。） 一般式［３４］で表される化合物は、化合物［３２］と
化合物［３３］とを溶媒中、塩基存在下で反応させるこ
とにより製造することができる。
【０２６６】この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で
１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量
は化合物［３２］１当量に対して化合物［３３］は１〜
２０当量、塩基は１〜３当量である。
【０２６７】塩基及び溶媒としては、例えば一般式［２
９］から一般式［３１］の製造と同様なものが挙げられ
る。
【０２６８】Ｙにトリフルオロメチル基を導入する方法
として、J.Chem. Soc. Perkin Trans.1,8, 2293-2299
(1990)、J.Fluorine Chem., 50(3), 411-426 (1990)、
J.Chem.Soc. Chem. Commun., 18, 1389-1391 (1993)、
J. Chem. Soc. Chem. Commun.,1, 53-54 (1992)、Chem
.Lett., 1719-1720 (1981)、Chem. Pharm. Bull., 38
(9), 2446-2458 (1990)、J. Chem. Soc. Perkin Trans.
1, 921-926 (1988)、Heterocycles, 37(2),775-782 (1
994)、Tetrahedron Lett., 30(16), 2133-2136 (198
9)、J. Chem. Soc. Perkin Trans.1, 2755-2761 (198
0)、Heterocycles, 22(1),117-124 (1984)、Eur. J. Me
d. Chem. Chim. Ther., 24, 249-258 (1989)、Acta Ch
em. Scand. Ser. B, 38(6),505-508 (1984)、J. Fluori
ne Chem.,21,495-514 (1982)、J. Chem. Soc. Chem. Co
mmun., 10, 638-639 (1988)、J. FluorineChem.,67(1),
5-6 (1994)、J. Heterocycl. Chem., 31(6), 1413-1416
(1994)、Chem. Heterocycl. Compd., 30(5), 576-578
(1994)、J. Fluorine Chem., 78(2),177-182 (1996)、
J. Heterocycl. Chem., 34(2), 551-556 (1997)、Tetra
hedron, 55(52),15067-15070 (1999)、Synthesis, 11,9
32-933 (1980)に記載の方法又は準じた方法等が挙げら
れる また、一般式［４］、［１７］、［１８］、［１９］、
［２０］、［２１］、［２２］、［２３］、［２４］、
［２５］、［２６］、［２９］及び［３１］は、Ｙがフ
リル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E6
a,16-185 (1994)）、Ｙがチエニル基の場合は（Method
en der Organischen Chemie,E6ａ,186−555(1994)）、
Ｙがピロリル基の場合は（Methoden der Organischen C
hemie,E6ａ,556−798(1994)）、Ｙがピラゾリル基の場
合は（Methoden der Organischen Chemie,E8ｂ,399−76
3(1994)）、特開平2000−219679号公報明細書、Ｙがイ
ソキサゾリル基の場合は（Methoden der Organischen C
hemie,E8a,45−225(1993)）、Ｙがイソチアゾリル基の
場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8a,668−7
98(1993)）、Ｙがオキサゾリル基の場合は（Methoden d
er Organischen Chemie,E8a,891−1019 1993）、Ｙが
チアゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Che
mie,E8ｂ,1−398(1994)）、Ｙがイミダゾリル基の場合
は（Methoden der Organischen Chemie,E8ｃ,1−215(19
94)）、Ｙがピリジル基の場合は（Methodender Organis
chen Chemie,E7a,286−686 (1992)）、Ｙがピリダジニ
ル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9a,
557−682(1997)）、Ｙがピリミジニル基の場合は（Meth
oden der Organischen Chemie,E9ｂ/１,１−249(199
8)）、Ｙがピラジニル基の場合は（Methoden der Organ
ischen Chemie,E9ｂ/１,250−372(1998)）、Ｙがトリア
ジニル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,
E9c,530−796(1998)）、Ｙがトリアゾリル基の場合は
（Methoden der Organischen Chemie,E8d,305−405、47
9−598 (1994)）、Ｙがオキサジアゾリル基の場合は
（Methoden der Organischen Chemie,E8c,397−818(199
4)）、Ｙがチアジアゾリル基の場合は（Methoden der O
rganischen Chemie,E8d,59−304(1994)）、Ｙがベンゾ
フリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,
E6b1,33−216 (1994)）、国際特許出願公開公報WO-1997
/29105号明細書、Ｙがベンゾチエニル基の場合は（Meth
oden der Organischen Chemie E6b1,217−322 (199
4)）、Ｙがインドリル基の場合は（Methoden der Organ
ischen Chemie, E6b1, 546−848 (1994)）、（Methoden
der Organischen Chemie,E6b2,849−1336 (1994)）、
国際特許出願公開公報WO-1997/42188-A1号明細書、Ｙが
ベンゾオキサゾリル基の場合は（Methoden der Organis
chen Chemie,E8a,1020−1194 (1993)）、Ｙがベンゾチ
アゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemi
e, E8b,865−1062 (1994)）、Ｙがベンゾイミダゾリル
基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E8c,21
6−391(1994)）、Ｙがベンゾイソキサゾリル基の場合は
（Methoden der Organischen Chemie, E8a, 226−348
(1993)）、Ｙがベンゾイソチアゾリル基の場合は（Meth
oden der Organischen Chemie,E8a,799−852 (199
3)）、Ｙがインダゾリル基の場合は（Methoden der Org
anischen Chemie,E8b,764−864(1994)）、Ｙがキノリル
基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E7a,29
0−570(1991)）、Ｙがイソキノリル基の場合は（Method
en der Organischen Chemie,E7a,571−758(1991)）、Ｙ
がフサラジニル基の場合は（Methoden der Organischen
Chemie,E9a,744−789(1997)）、Ｙがキノキサリニル基
の場合は（Methoden der Organischen Chemie,E9b/2,93
−265 (1998)）、Ｙがキナゾリニル基の場合は（Method
en der Organischen Chemie, E9b/2,1−192 (1998)）、
Ｙがシンノリニル基の場合は（Methoden der Organisch
en Chemie,E9a,683−743(1997)）又はＹがベンゾトリア
ゾリル基の場合は（Methoden der Organischen Chemie,
E8d,406−478(1994)）記載の方法又は準じた方法等で製
造することができる。
【０２６９】＜製造法２＞
【０２７０】
【化１３】
【０２７１】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は前記と同じ意味を表す。この場合、ピラゾール環の炭
素原子は、前記と同じ意味の置換基群αより選択され
る、１〜２個の同一又は相異なる基で置換されていても
よい。） 一般式［３６］で表される本発明化合物は、製造法１に
より製造することができる本発明化合物［３５］と酸と
を溶媒中で反応させることにより製造することができ
る。
【０２７２】この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０２７３】反応に供される試剤の量は化合物［３５］
１当量に対して、酸１〜１０当量が望ましいが、反応の
状況に応じて任意に変化させることができる。
【０２７４】酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、ト
リフルオロ酢酸等が挙げられる。
【０２７５】溶媒としては、例えばジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピ
ロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又はス
ルホラン等の硫黄化合物、ギ酸又は酢酸等のカルボン酸
類或いは水が挙げられる。
【０２７６】＜製造法３＞
【０２７７】
【化１４】
【０２７８】（式中、ｎ、Ｌ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ5、Ｒ6及びＲ10は前記と同じ意味を表す。この場合、
ピラゾール環の炭素原子は、前記と同じ意味の置換基群
αより選択される、１〜２個の同一又は相異なる基で置
換されていてもよい。） 一般式［３７］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［３６］と一般式［３３］で表される化合物とを溶媒
中、塩基存在下、反応させることにより製造することが
できる。
【０２７９】反応に供される試剤の量は一般式［３６］
で表される化合物１当量に対して、一般式［３３］で表
される化合物は１〜３当量であり、塩基は、１〜３当量
である。
【０２８０】溶媒としては、例えばジオキサン又はテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル
−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン
又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール
又はtert−ブタノール等のアルコール類、アセトン又は
２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリ
ル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
【０２８１】塩基としては、例えば水素化ナトリウム等
の金属水素化物、ナトリウムアミド又はリチウムジイソ
プロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、ピリジン、
トリエチルアミン又は１,８−ジアザビシクロ［５.４.
０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウ
ム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類
金属水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素
カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、或いはナトリウム
メトキシド又はカリウムtert−ブトキシド等の金属アル
コラート等が挙げられる。
【０２８２】＜製造法４＞
【０２８３】
【化１５】
【０２８４】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
は前記と同じ意味を表し、Ｒ11はトリフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基又はジフルオロメトキシ基を表
し、Ｘ3は塩素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ12はアル
キル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、シクロア
ルキルアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、置換
されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳
香族ヘテロ環基、アルコキシカルボニルアルキル基、置
換されていてもよいヘテロ環アルキル基、又は置換され
ていてもよいベンジル基を表し、Ｒ13はアルキル基、ハ
ロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよい芳香族ヘテロ環基、アルコキシカルボ
ニルアルキル基又は置換されていてもよいベンジル基を
表し、Ｒ14及びＲ15は同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル
基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよい
ベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイ
ル基、アルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル
基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置
換されていてもよいフェニルスルホニル基を表し、Ｚは
酸素原子、イオウ原子又はＮ−Ｒ16を表し、Ｒ16は水素
原子又は前記と同じ意味のＲ10を表す。） 一般式［４０］、一般式［４２］又は一般式［４４］で
表される本発明化合物は、一般式［３８］で表される本
発明化合物とそれぞれ化合物［３９］、化合物［４１］
又は化合物［４３］とを無溶媒又は溶媒中、必要に応じ
塩基存在下、反応させることにより製造することができ
る。
【０２８５】この反応は通常、反応温度２０〜２００
℃、好ましくは３０〜１８０℃で１０分〜４８時間、必
要に応じ加圧下で反応させる。
【０２８６】反応に供される試剤の量は化合物［３８］
１当量に対して、化合物［３９］、化合物［４１］又は
化合物［４３］は１〜２０当量である。必要に応じて使
用される塩基としては、例えば炭酸カリウム又は水酸化
ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化カリウム
又は水素化ナトリウム等アルカリ金属水素化物、ナトリ
ウムエトキシド又はナトリウムメトキシド等のアルカリ
金属アルコラート、１，８−ジアザビシクロ［５.４.
０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０２８７】溶媒としては例えばクロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル又はテトラヒドロ
フラン等のエーテル類、ベンゼン又はトルエン等の芳香
族炭化水素類、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水
素類、アセトン又はメチルイソブチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ−メチルピロリドン
又はＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメ
チルスルホキシド又はスルホラン等の硫黄化合物、アセ
トニトリル或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０２８８】＜製造法５＞
【０２８９】
【化１６】
【０２９０】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、
Ｒ8、Ｒ11及びＺは前記と同じ意味を表す。） 一般式［４６］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［４５］と酸とを溶媒中で反応させることにより製造
することができる。
【０２９１】この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で
１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量
は化合物［４５］１当量に対して、酸１〜１０当量が望
ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることが
できる。
【０２９２】酸及び溶媒としては、製造法２と同様なも
のが挙げられる。 ＜製造法６＞
【０２９３】
【化１７】
【０２９４】（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ9及びＬ1は前記と同じ意味を表す。この場合、
Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜
５個までの同一又は相異なる基で置換されていてもよ
い。） 一般式［４８］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［４７］と化合物［３０］とを溶媒中、塩基存在下、
反応させることにより製造することができる。
【０２９５】この反応は通常、反応温度０〜１５０℃で
１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量
は化合物［４７］１当量に対して、酸１〜１.２当量が
望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させること
ができる。
【０２９６】塩基及び溶媒としては、製造法３と同様な
ものが挙げられる。
【０２９７】＜製造法７＞
【０２９８】
【化１８】
【０２９９】（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及
びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ17はアルキル基、置
換されていてもよいベンジル基又は置換されていてもよ
いフェニル基を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の
置換基群αより選択される、１〜５個までの同一又は相
異なる基で置換されていてもよい。） 一般式［５０］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［４９］を水又は水と混合した溶媒中、塩基存在下又
は非存在下、加水分解させることにより製造することが
できる。
【０３００】この反応は通常、反応温度０〜１００℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０３０１】反応に供される試剤の量は化合物［４９］
１当量に対して、塩基を使用する場合１〜２当量が望ま
しいが、反応の状況に応じて任意に変化させることがで
きる。
【０３０２】塩基としては、例えば炭酸カリウム、水素
化ナトリウム又は水酸化ナトリウム等の無機塩基、１，
８−ジアザビシクロ［５.４.０］−７−ウンデセン等の
有機塩基が挙げられる。
【０３０３】水と混合する溶媒としては、例えばメタノ
ール又はエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、アセトン又はメチルイソブチルケ
トン等のケトン類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等の
アミド類、ジメチルスルホキシド又はスルホラン等の硫
黄化合物、アセトニトリル或いはそれらの混合物が挙げ
られる。
【０３０４】＜製造法８＞
【０３０５】
【化１９】
【０３０６】（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、
Ｒ6及びＲ8は前記と同じ意味を表し、Ｒ18はアルキル基
を表す。この場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αよ
り選択される、１〜５個までの同一又は相異なる基で置
換されていてもよい。） 一般式［５３］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［５１］と化合物［５２］とを溶媒中、塩基存在下、
反応させることにより製造することができる。この反応
は通常、反応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応
させる。
【０３０７】反応に供される試剤の量は化合物［５１］
１当量に対して、化合物［５２］の塩酸塩又は硫酸塩は
１〜５当量、塩基は１〜１０当量が望ましいが、反応の
状況に応じて任意に変化させることができる。
【０３０８】塩基としては、例えば炭酸カリウム又は炭
酸ナトリウム等の金属炭酸塩類、酢酸カリウム又は酢酸
ナトリウム等の金属酢酸塩類、トリエチルアミン、ジメ
チルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５.４.０］−
７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
【０３０９】溶媒としては、例えばメタノール、エタノ
ール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、水
或いはそれらの混合物が挙げられる。
【０３１０】＜製造法９＞
【０３１１】
【化２０】
【０３１２】（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及
びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ19及びＲ20は、各
々、水素原子又はアルキル基を表す。この場合、Ｙは前
記と同じ意味の置換基群αより選択される、１〜５個ま
での同一又は相異なる基で置換されていてもよい。） 一般式［５７］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［５０］と塩化チオニル［５４］とを溶媒中又は無溶
媒中で反応させて化合物［５５］を製造した後、化合物
［５５］と化合物［５６］とを溶媒中又は無溶媒中、反
応させることにより製造することができる。
【０３１３】［５０］から［５５］の反応は、通常、反
応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３１４】反応に供される試剤の量は化合物［５０］
１当量に対して、塩化チオニル［５４］１〜１００当量
が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させるこ
とができる。溶媒としては例えばジクロロメタン又はク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン又
はトルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
【０３１５】［５５］から［５７］の反応は、通常、反
応温度０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
【０３１６】反応に供される試剤の量は化合物［５５］
１当量に対して、化合物［５６］１〜１００当量が望ま
しいが、反応の状況に応じて任意に変化させることがで
きる。溶媒としては例えば［５０］から［５５］の反応
と同様なものが挙げられる。
【０３１７】＜製造法１０＞
【０３１８】
【化２１】
【０３１９】（式中、Ｚ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、
Ｒ6、Ｒ11及びＸ3は前記と同じ意味を表す。） 一般式［５９］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［３８］と化合物［５８］とを溶媒中で反応させるこ
とにより製造することができる。
【０３２０】この反応は通常、反応温度０〜１００℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０３２１】反応に供される試剤の量は化合物［３８］
１当量に対して、化合物［５８］１〜２当量が望ましい
が、反応の状況に応じて任意に変化させることができ
る。溶媒としては、、例えばジオキサン又はテトラヒド
ロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、
四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２
−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド又
はスルホラン等の硫黄化合物、アセトン又は２−ブタノ
ン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或
いはこれらの混合物が挙げられる。
【０３２２】＜製造法１１＞
【０３２３】
【化２２】
【０３２４】（式中、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及
びＲ6は前記と同じ意味を表し、Ｒ21はアルキル基、ハ
ロアルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基、置換されていてもよいヘテロアルキ
ル基、又は置換されていてもよいベンジル基を表す。こ
の場合、Ｙは前記と同じ意味の置換基群αより選択され
る、１〜５個までの同一又は相異なる基で置換されてい
てもよい。） 一般式［６１］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［４７］と化合物［６０］とをアゾ化合物とトリフェ
ニルホスフィンの存在下、溶媒中で反応させる公知の方
法（Synthesis,1-28(1981)）に準じて製造することがで
きる。
【０３２５】この反応は通常、反応温度０〜１００℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０３２６】反応に供される試剤の量は化合物［４７］
１当量に対して、化合物［６０］１〜１.５当量、アゾ
化合物１〜１.５当量、トリフェニルホスフィン１〜１.
５当量が望ましいが、反応の状況に応じて任意に変化さ
せることができる。
【０３２７】溶媒としては、例えばジオキサン又はテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル
−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン
又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリル或
いはこれらの混合物等が挙げられる。
【０３２８】アゾ化合物としては、例えばアゾジカルボ
ン酸ジエチル又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル等が
挙げられる。
【０３２９】＜製造法１２＞
【０３３０】
【化２３】
【０３３１】（式中、Ｘ3、ｎ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、
Ｒ5、Ｒ6及びＺは前記と同じ意味を表し、ｍは１〜４の
整数を表す。この場合、ピラゾール環の３位の炭素原子
は、前記と同じ意味の置換基群αより選択される基で置
換されていてもよい。） 一般式［６３］で表される本発明化合物は、本発明化合
物［６２］を塩基存在下溶媒中で反応させることにより
製造することができる。
【０３３２】この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で
１０分〜２４時間反応させる。
【０３３３】反応に供される試剤の量は一般式［６２］
で表される化合物１当量に対して、塩基１〜３当量が望
ましいが、反応の状況に応じて任意に変化させることが
できる。
【０３３４】塩基及び溶媒としては、製造法３と同様な
ものが挙げられる。
【０３３５】尚、製造法２及び製造法４〜１２記載のス
ルフィド化合物は、製造法１記載の方法で酸化すること
によりスルホキシド体及びスルホン化合物を製造するこ
とができる。
【０３３６】
【実施例】次に、実施例をあげて本発明化合物の製造
法、製剤法及び用途を具体的に説明する。尚、本発明化
合物の製造中間体の製造法も併せて記載する。
【０３３７】＜実施例１＞ ３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,
５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番
号３−０００１）の製造 ３−メチルスルホニル−５,５−ジメチル−２−イソオ
キサゾリン２.３ｇ(１３.１ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和
物２.１ｇ(純度７０％、２６.２ミリモル)を加え２時間
攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１.８ｇ(１３.１
ミリモル)、ロンガリット２.０ｇ(１３.１ミリモル) 及
び４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３.６ｇ(１０.
５ミリモル)を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。
反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出し
た。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサ
ン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶（融点８
９〜９０℃）の３−(５−クロロ−１−フェニル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２.
７ｇ（収率６５.５％）を得た。1 H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)) : 7.55-7.50(5H, m), 4.33
(2H, s), 2.83(2H, s),1.45(6H, s)
【０３３８】＜実施例２＞ ３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)
−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化
合物番号３−０００２）の製造 ３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメ
チル−１H−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５
−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.０ミリ
モル)のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−ク
ロロ過安息香酸０.６３ｇ(純度７０％、２.６ミリモル)
を加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶
液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機
層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム
水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶を
ヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１３２〜１３３℃）
の３−(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロ
メチル−１H−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)
−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.４ｇ
（収率８３.２％）を得た。1 H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)): 7.60-7.51(5H, m), 4.73
(2H, s), 3.14(2H,s), 1.53(6H, s)
【０３３９】＜実施例３＞ ３−(５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−
ピラゾール−４−イルメチルスルフィニル) −５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３
−０００３）の製造 ３−(５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−
ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−ジメチル
−２−イソオキサゾリン０.８５ｇ(２.５３ミリモル)の
クロロホルム３０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安
息香酸０.８７ｇ(純度７０％、３.５４ミリモル)を加
え、室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水
中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜
硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液
及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチ
ル混合溶媒)で精製し、透明アメ状物質の３−(５−クロ
ロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルスルフィニル) −５,５−ジメチル−２−
イソオキサゾリン０.４８ｇ（収率５３.９％）を得た。1 H-NMR(CDCl3/TMS,δ(ppm)): 7.63-7.60 (2H, m) , 7.4
8-7.37(3H, m), 4.29(2H, q), 3.91(3H, s), 3.12(1H,
d), 2.79(1H, d), 1.41(3H, s), 1.35(3H, s)
【０３４０】＜実施例４＞ ５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−フェニル−
３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル
メチルチオ)− ２−イソオキサゾリン（本発明化合物番
号３−００２１）の製造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン（本発明化合物番号２−１）１８.７ｇ(１０
５.７ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３００
ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物９.３ｇ(純度７０
％、１１６.３ミリモル)を加え２時間攪拌した。反応系
を氷冷し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェ
ニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３
０.３ｇ(９３.８ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムア
ミド２００ｍｌ溶液を加え、さらに０℃で３０分間攪拌
した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで
抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：
ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物
質の５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−フェニ
ル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−
イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン１３.１１ｇ
（収率３７.４％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.65-7.39(5H,
m), 4.24(2H, s), 2.81(2H, s), 1.43(6H, s)
【０３４１】＜実施例５＞ ５,５−ジメチル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル
−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ
ルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物
番号３−００２２）の製造 エタンチオール０.２５ｇ(４.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水酸化ナトリウム
０.２ｇ（４.０ミリモル）、水１ｍｌを加え、室温で３
０分間攪拌した。５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ
−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラ
ゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン
０．５ｇ（１．４ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド５ｍｌ溶液を加え、さらに１時間攪拌した。反応
終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５,５−ジメ
チル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ) −２−イソオキサゾリン０.６ｇ（収率１００％）
を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.62-7.47(5H,
m), 4.44(2H, s), 2.83(2H, s), 2.50(2H, q), 1.45(6
H, s), 1.02(3H, t)
【０３４２】＜実施例６＞ ５,５−ジメチル−３−(５−エチルスルホニル−１−フ
ェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−
４−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾリン
（本発明化合物番号３−０００４）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−エチルチオ−１−フェニル
−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ
ルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.６ｇ(１.３
ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ
−クロロ過安息香酸１.７ｇ(純度７０％、６.７ミリモ
ル)を加え、室温で１６時間攪拌した。反応終了後、反
応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた
有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結
晶をヘキサンで洗浄し、淡黄色結晶（融点１５８〜１６
０℃）の５,５−ジメチル−３−(５−エチルスルホニル
−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラ
ゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサ
ゾリン０.６ｇ（収率９３.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.58-7.54(5H,
m), 5.16(2H, s), 3.18(2H, s), 3.15(2H, q),1.55(6H,
s),1.24(3H, t)
【０３４３】＜実施例７＞ ５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェ
ニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化
合物番号３−００２３）の製造 ５,５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル
−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ
ルメチルチオ） −２−イソオキサゾリン０.５ｇ（１.
３ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ
溶液に、ジメチルアミン４０％水溶液０.８ｇ（６.７ミ
リモル）を加え、封管で１００℃で９時間攪拌した。ジ
メチルアミン４０％水溶液３.０ｇ（２６.６ミリモル）
を加え、さらに９時間攪拌した。反応終了後、反応溶液
を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合
溶媒)で精製し、５,５−ジメチル−３−(５−ジメチル
アミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ
−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサ
ゾリン０.４ｇ（収率８０.６％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.58-7.38(5H,
m), 4.35(2H, s), 2.82(2H, s), 2.77(6H, s), 1.45(6
H, s)
【０３４４】＜実施例８＞ ５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェ
ニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン（本
発明化合物番号３−０００５）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミノ−１−フェ
ニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.４ｇ
(１.１ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷
下、ｍ−クロロ過安息香酸０.７ｇ(純度７０％、２.７
ミリモル)を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了
後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得
られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素
ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出
した結晶をヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１５０〜
１５１℃）の５,５−ジメチル−３−(５−ジメチルアミ
ノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキ
サゾリン０.２ｇ（収率５２.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.61-7.38(5H,
m), 4.75(2H, s), 3.13(2H, s), 2.76(6H, s), 1.53(6
H, s)
【０３４５】＜実施例９＞ ３−(１−t−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５
−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
３−０００６）の製造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン２４.１ｇ(１３６.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジ
メチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウ
ム２１.８ｇ(純度７０％、２７２.５ミリモル)を加え１
時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１８.８ｇ(１
３６.２ミリモル)，ロンガリット２１.０ｇ(１３６.２
ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチ
ル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロ
メチル−１Ｈ−ピラゾール４０ｇ(１２５ミリモル)を氷
冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確
認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン
−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、淡桃色結晶(融点７
９.０〜８１.０℃)の３−(１−tert−ブチル−５−クロ
ロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−
イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾ
リン２３.０ｇ(収率５７.１％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.24(2H, s),2.80
(2H,s),1.71(9H, s), 1.43(6H, s)
【０３４６】＜実施例１０＞ ３−(５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２
−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００７）
の製造 ３−(１−t−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５
−ジメチル−２−イソオキサゾリン１９.８ｇ(５３.４
ミリモル)を２５％臭化水素−酢酸溶液１７０ｍｌに加
え、４０〜５０℃で，２時間攪拌した。反応終了確認
後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得ら
れた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色結晶
(融点１２０.０〜１２２.０℃)の３−(５−クロロ−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１
２.０ｇ(収率６０.６％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.26(2H, s),2.81
(2H,s),1.44(6H, s)
【０３４７】＜実施例１１＞ ３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明
化合物番号３−０００８）及び３−(３−クロロ−１−
ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２
−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−０００９）
の製造 ３−(５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２
−イソオキサゾリン２.３ｇ (７.３ミリモル)のＮ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウ
ム３.１ｇ(２２.５ミリモル)を加え、クロロジフルオロ
メタンを反応溶液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時
間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製
し、淡黄色結晶(融点４１.０〜４２.０℃)の３−(５−
クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６９ｇ(収率２５.
８％)および白色粉末(融点８９.０〜９０.０℃)の３−
(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオ
ロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−
５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５４ｇ(収
率２０.２％)を得た。
【０３４８】３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル
−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ
ルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリ
ン （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.22(1H,t),4.25
(2H, s), 2.80(2H,s), .44(6H, s) ３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）7.19(1H,t),4.28(2
H, s), 2.80(2H,s), 1.44(6H, s)
【０３４９】＜実施例１２＞ ３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスル
ホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（本発明化合物番号３−００１０）の製造 ３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６９
ｇ(１.９ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷
冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.４ｇ（純度７０％，８.
１ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さらに室
温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水
に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫
酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、
水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−
ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１２６.０〜１２７.
０℃)の３−(５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリ
ン０.４ｇ(収率５３.３％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.26(1H,t),4.68
(2H, s),3.11(2H,s),1.53(6H, s)
【０３５０】＜実施例１３＞ ３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスル
ホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（本発明化合物番号３−００１１）の製造 ３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５４
ｇ(１.５ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷
冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.１ｇ（純度７０％，６.
４ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さらに室
温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水
に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫
酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、
水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−
ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１３６.０〜１３７.
０℃)の３−(３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリ
ン０.４７ｇ(収率７９.７％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.23(1H,t),4.71
(2H, s),3.11(2H,s),1.53(6H, s)
【０３５１】＜実施例１４＞ ５,５−ジメチル−３−(３−メトキシ−１−メチル−５
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
３−００２４）の製造 ５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン３.３ｇ(１７.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和
物３.１ｇ(純度７０％、２２.０ミリモル)を加え２時間
攪拌した。その後、無水炭酸カリウム３.１ｇ(２２.０
ミリモル)、ロンガリット２.７ｇ(１７.５ミリモル) 及
び４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４.０ｇ(１７.
５ミリモル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反
応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出し
た。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサ
ン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５,５−ジメチル−
３−(３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−
イソオキサゾリン２.８ｇ（収率５２.０％）を得た。
【０３５２】＜実施例１５＞ ５,５−ジメチル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−
５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル
メチルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番
号３−００２５）の製造 ２５％臭化水素酸酢酸溶液２０ｍｌに５,５−ジメチル
−３−(３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロ
メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −２
−イソオキサゾリン３.３ｇ(１０.６ミリモル)を加え、
５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液減圧下
溶媒を留去し、得られた残渣を水中に注いだ。 析出し
た結晶を濾取し水洗後乾燥し、目的とする５,５−ジメ
チル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ) −２−イソオキサゾリン３.１ｇ（収率９６.０％）
を得た。
【０３５３】＜実施例１６＞ ５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ) −２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
３−００２６）の製造 ５,５−ジメチル−３−(３−ヒドロキシ−１−メチル−
５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル
メチルチオ) −２−イソオキサゾリン０.３０ｇ(１.０
ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液
に無水炭酸カリウム０.２０ｇ(１.３ミリモル)及びヨウ
化エチル０.２０ｇ(１.５ミリモル)を加え、５０℃で３
時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸
エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、目的とする５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ
−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾ
ール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン
０.３０ｇ（収率９２.０％）を得た。
【０３５４】＜実施例１７＞ ５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルスルホニル) −２−イソオキサゾリン（本発明化合
物番号３−００１２）の製造 ５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メチル−５
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ) −２−イソオキサゾリン０.３０ｇ(０.９２
ミリモル)のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ
−クロロ過安息香酸０.６８ｇ(純度７０％、２.７６ミ
リモル)を加え、室温で５時間攪拌した。反応終了後、
反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られ
た有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナト
リウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した
結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１２４〜１２
５℃）の５,５−ジメチル−３−(３−エトキシ−１−メ
チル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリン０.
２４ｇ（収率７３.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.50(2H,s), 4.27
(2H,q), 3.86(3H,s), 3.04(2H,s),1.49(6H,s),1.39(3H,
t)
【０３５５】＜実施例１８＞ ５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
３−００２７）の製造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン２１.３ｇ(１２０.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジ
メチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウ
ム１９.３ｇ(純度７０％、３４４.６ミリモル)を加え１
時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１６.７ｇ(１
２１.０ミリモル)，ロンガリット１８.６ｇ(１２０.７
ミリモル)を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチ
ル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール３１.４ｇ(１２０.３ミリモル)を
氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了
確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。
得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状
物の５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル
−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イ
ルメチルチオ) −２−イソオキサゾリン２９.０ｇ(収率
９０.３％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.24(2H, s), 3.9
0(3H,s), 2.78(2H,s), 1.42(6H, s)
【０３５６】＜実施例１９＞ ５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
３−００２８）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.６ミリモ
ル)のメタノール２０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシ
ド０.７７ｇ(４.０ミリモル，２８％メタノール溶液)を
加え，還流下，４時間攪拌した。反応終了確認後、反応
溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機
層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の５,５−
ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(収率９６.７％)を
得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:4.26(2H,s), 4.07
(3H,s), 3.72(3H, s), 2.80(2H,s),1.43(6H, s)
【０３５７】＜実施例２０＞ ５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルスルホニル) ２−イソオキサゾリン（本発明化合物
番号３−００１３）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.５ミリモ
ル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロ
ロ過安息香酸１.３ｇ（純度７０％，７.５ミリモル）を
加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪
拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホ
ルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄
し，白色粉末(融点１１３.０〜１１４.０℃)の５,５−
ジメチル−３−(５−メトキシ−１−メチル−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルス
ルホニル)−２−イソオキサゾリン０.３１ｇ(収率５８.
２％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.60(2H,s),4.11
(3H,s),3.79(3H, s),3.10(2H,s),1.51(6H, s)
【０３５８】＜実施例２１＞ ３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本
発明化合物番号３−００２９）の製造 ２−クロロフェノール０.４４ｇ(３.４ミリモル)のＮ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水素化ナト
リウム０.２ｇ(８.３ミリモル，純度６０％)を氷冷下で
加え、１時間攪拌した後、更に５,５−ジメチル−３−
(５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−２−イソ
オキサゾリン０.７ｇ(２.２ミリモル)を加え、１２０〜
１３０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液
を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を
水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混
合溶媒)で精製し、黄色油状物の３−(５−(２−クロロ
フェノキシ)−１−メチル−３−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメ
チル−２−イソオキサゾリン０.６３ｇ(収率６６.７％)
を得た。
【０３５９】＜実施例２２＞ ３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリ
ン（本発明化合物番号３−００１４）の製造 ３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メチル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチ
ルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.
６３ｇ(１.５ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液
に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.０ｇ（純度７０
％，５.８ミリモル)を加え１時間攪拌した。その後、さ
らに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶
液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層
を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水
溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体
をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点６７.０〜７
０.０℃)の３−(５−(２−クロロフェノキシ)−１−メ
チル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソ
オキサゾリン０.３１ｇ(収率４５.７％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.50-6.91(4H,m),
4.45(2H,s), 3.71(3H,s), 3.03(2H, s), 1.47(6H, s)
【０３６０】＜実施例２３＞ ３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチル
チオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発
明化合物番号３−００３０）の製造 トリフェニルホスフィン０.４３ｇ(１.６ミリモル)のベ
ンゼン１０ｍｌ溶液にシクロペンタノール０.１４ｇ
(１.６ミリモル)，５,５−ジメチル−３−(５−ヒドロ
キシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルチオ) −２−イソオキサゾリ
ン０.５ｇ(１.６ミリモル)，及びアゾジカルボン酸ジエ
チルエステル ０.７ｇ(４０％トルエン溶液，１.６ミリ
モル)を加え、室温で１２時間攪拌した。反応終了確認
後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得ら
れた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−
酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透明油状物の３−
(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフ
ルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチ
オ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５２
ｇ(収率８５.２％)を得た。
【０３６１】＜実施例２４＞ ３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチル
スルホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（本発明化合物番号３−００１５）の製造 ３−(５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチル
チオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.５
２ｇ(１.４ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、
氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.８５ｇ（純度７０
％，４.９ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、
さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応
溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機
層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム
水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固
体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末(融点１１３.０〜
１１４.０℃)の３−(５−シクロペンチルオキシ−１−
メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−
４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−イ
ソオキサゾリン０.２ｇ(収率３５.５％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 5.03(1H,br), 4.6
0(2H,s), 3.73(3H,s), 3.05(2H, s), 1.88-1.70(8H,m),
1.50(6H, s)
【０３６２】＜実施例２５＞ ３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３
−００３１）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−フルオロ−１−メチル−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ)−２−イソオキサゾリン０.５ｇ(１.６ミリモ
ル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液にシア
ン化ナトリウム０.２ｇ(４.０ミリモル)を加え、４０℃
で１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下溶媒を留去し、黄色油状物の３−(５−シアノ−１
−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール
−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオ
キサゾリンの粗化合物０.９ｇを得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.30(2H,s),4.08
(3H,s),2.81(2H, s),1.43(6H, s)
【０３６３】＜実施例２６＞ ３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル)−
５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合
物番号３−００１６）の製造 ３−(５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン０.９ｇ(粗化合物)の
クロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安
息香酸２.１ｇ（純度７０％，１２.２ミリモル）を加え
１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌し
た。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルム
で抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水
溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，
白色粉末(融点１０５.０〜１０８.０℃)の３−(５−シ
アノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチ
ル−２−イソオキサゾリン０.４３ｇ(収率７６.４％)を
得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.73(2H,s),4.16
(3H,s),3.14(2H, s),1.53(6H, s)
【０３６４】＜実施例２７＞ ３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール
−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオ
キサゾリン（本発明化合物番号３−００３２）の製造 ５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン０.７ｇ(３.７ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０.６
ｇ(純度７０％、１０.７ミリモル)を加え１時間攪拌し
た。その後、無水炭酸カリウム０.５１ｇ(３.７ミリモ
ル)，ロンガリット０.５６ｇ(３.６ミリモル)を加え、
更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−３,５−ジクロ
ロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０.９ｇ(３.５ミリ
モル)を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、
反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透
明油状物の３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−
ピラゾール−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−
２−イソオキサゾリン０.８ｇ(収率７０.８％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.14(2H, s), 4.1
4(2H, q),2.81(2H,s),1.43(6H, s),1.42(3H, t)
【０３６５】＜実施例２８＞ ３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール
−４−イルメチルスルホニル)−５,５−ジメチル−２−
イソオキサゾリン（本発明化合物番号３−００１７）の
製造 ３−(３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール
−４−イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオ
キサゾリン０.８ｇ (２.６ミリモル)のクロロホルム２
０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２.０ｇ
（純度７０％，１１.６ミリモル）を加え１時間攪拌し
た。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了
確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。
得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水
素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去
し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末
(融点１０５.０〜１０７.０℃)の３−(３,５−ジクロロ
−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスル
ホニル)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０.
４１ｇ(収率４６.６％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.48(2H,s), 4.19
(2H, q), 3.05(2H,s), 1.51(6H, s), 1.45(3H,t)
【０３６６】＜実施例２９＞ ３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号３
−００２０）の製造 ５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン１.９ｇ(１０.０ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和
物１.２ｇ(純度７０％、１５.０ミリモル)を加え２時間
攪拌した。その後、無水炭酸カリウム２.１ｇ(１５.０
ミリモル)、ロンガリット２.３ｇ(１５.０ミリモル) 及
び４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチ
ル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール２.６ｇ(１０.０ミ
リモル)を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。反応
終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−
酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色粘稠性液体（▲ｎD
20▼＝１.５１８３）の３−(５−クロロ−３−ジフルオ
ロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメ
チルチオ) −５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
２.１ｇ（収率６８.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:6.70(1H,t,J=54.2H
z), 4.24(2H,s), 3.86(3H,s),2.80(2H,s),1.42(6H,s)
【０３６７】＜実施例３０＞ ３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −
５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（本発明化合
物番号３−００１８）の製造 ３−(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ) −５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン１.８ｇ(５.８ミリモ
ル)のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロ
ロ過安息香酸３.６ｇ(純度７０％、１４.５ミリモル)を
加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液
を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層
を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水
溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘ
キサンで洗浄し、白色結晶（融点７８〜７９℃）の３−
(５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル) −５,５
−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.７ｇ（収率８５.
９％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）6.80(1H,t,J=54.8H
z), 4.60(2H,s), 3.91(3H,s), 3.08(2H,s), 1.51(6H,s)
【０３６８】＜実施例３１＞ ５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロ
メチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イ
ソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００３）の製
造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン０.４ｇ(２.３ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物
０.４ｇ(純度７０％、４.６ミリモル)を加え２時間攪拌
した。その後、炭酸カリウム０.３ｇ(２.３ミリモル)、
ロンガリット０.４ｇ(２.３ミリモル) 及び４−ブロモ
メチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサ
ゾール０.５ｇ(１.８ミリモル)を加え、さらに室温で１
４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢
酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、
５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロ
メチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イ
ソオキサゾリン０.４ｇ（収率７０.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.11(2H, s), 2.7
7(2H, s), 2.54(3H, s),1.42(6H, s)
【０３６９】＜実施例３２＞ ５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロ
メチルイソキサゾール−４−イルメチルスルホニル) −
２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号４−０００
１）の製造 ５,５−ジメチル−３−(５−メチル−３−トリフルオロ
メチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ) −２−イ
ソオキサゾリン０.４ｇ(１.３ミリモル)のクロロホルム
１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.８
ｇ(純度７０％、３.２ミリモル)を加え、室温で４時間
攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホ
ルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色
結晶（融点１３５〜１３６℃）の５,５−ジメチル−３
−(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾー
ル−４−イルメチルスルホニル) −２−イソオキサゾリ
ン０.４ｇ（収率９５.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.54(2H, s), 3.1
1(2H, s), 2.61(3H, s),1.52(6H, s)
【０３７０】＜実施例３３＞ [(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イ
ル)−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサ
ゾリン（本発明化合物番号４−０００４）の製造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン０.８９ｇ(５.００ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリ
ウム０.８２ｇ(純度７０％,１０.００ミリモル)を加え
２時間攪拌した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム
０.７０ｇ(５.００ミリモル)、ロンガリット０.７８ｇ
(５.００ミリモル)及び５−クロロ−４−クロロメチル
−３−メチルイソチアゾール０.９１ｇ(５.００ミリモ
ル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了確認
後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層
を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、[(５−クロロ−３
−メチル−イソチアゾール−４−イル)−メチルチオ]−
５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１.３８ｇ(収
率定量的)を得た。
【０３７１】＜実施例３４＞ [(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イ
ル)−メチルスルホニル]−５,５−ジメチル−２−イソ
オキサゾリン（本発明化合物番号４−０００２）の製造 [(５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イ
ル)−メチルチオ]−５,５−ジメチル−２−イソオキサ
ゾリン１.３８ｇ(５.００ミリモル)のクロロホルム２０
ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸２.９６ｇ(純度７０
％,１２.００ミリモル)を氷冷下で加え、１時間攪拌
し、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液
を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層
を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水
溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末（融点
１１３〜１１４℃）の[(５−クロロ−３−メチル−イソ
チアゾール−４−イル)−メチルスルホニル]−５,５−
ジメチル−２−イソオキサゾリン０.６５ｇ(収率４７.
０％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）8.89(1H,s), 4.67(2
H,s), 3.05(2H,s), 2.59(3H,s), 1.51(6H,s)
【０３７２】＜実施例３５＞ ５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−4−(１−メ
トキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチ
オ]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号２−０
００２）の製造 ３−(４−アセチル−２,５−ジメチルチオフェン−３−
イルメチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾ
リン１.０ｇ(３.４ミリモル)のエタノール５０ｍｌ溶液
にＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩０.５７ｇ(６.
８ミリモル)と酢酸ナトリウム０.５６ｇ(６.８ミリモ
ル)を加え、還流下，５時間攪拌した。反応終了確認
後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得ら
れた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−
酢酸エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の５,５−ジ
メチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メトキシイ
ミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチオ]−２−
イソオキサゾリン０.４ｇ(３６.４％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.21(2H, s),3.95
(3H,s),2.76(2H, s),2.38(3H, s),2.34(3H,s),2.13(3H,
s),1.42(6H, s)
【０３７３】＜実施例３６＞ ５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メ
トキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルス
ルホニル]−２−イソオキサゾリン（本発明化合物番号
２−０００１）の製造 ５,５−ジメチル−３−[２,５−ジメチル−４−(１−メ
トキシイミノエチル)−チオフェン−３−イルメチルチ
オ]−２−イソオキサゾリン０.４ｇ(１.２ミリモル)の
クロロホルム３０ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸
０.６１ｇ（純度７０％，３.５ミリモル）を氷冷下で加
え１時間攪拌し、さらに室温で１２時間攪拌した。反応
終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出し
た。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭
酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白
色結晶(融点９５.０〜９６.０℃)の５,５−ジメチル−
３−(４−(１−メトキシイミノエチル−２,５−ジメチ
ル−チオフェン−３−イルメチルスルホニル)−２−イ
ソオキサゾリン０.３５ｇ(８０％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.79(2H, s),3.95
(3H,s),2.93(2H, s),2.42(3H, s),2.37(3H,s),2.17(3H,
s),1.47(6H, s)
【０３７４】＜実施例３７＞ ５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリ
ジン−３−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン
（本発明化合物番号７−０００３）の製造 ５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン０.３ｇ(１.６ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０.２
６ｇ(純度７０％、４.６ミリモル)を加え１時間攪拌し
た。その後、無水炭酸カリウム０.２２ｇ(１.６ミリモ
ル)，ロンガリット０.２５ｇ(１.６ミリモル)を加え、
更に２時間攪拌後、３−ブロモメチル−４−トリフルオ
ロメチル−ピリジン０.３ｇ(１.３ミリモル)を氷冷下加
えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、
反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた
有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒)で精製し、黄色油状物の５,５−ジメチ
ル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イ
ルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン ０.４５ｇ(収率
９８.９％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:8.98(1H,s), 8.70
(1H,d), 7.51(1H,d), 4.47(2H,s), 2.79(2H,s), 1.43(6
H, s)
【０３７５】＜実施例３８＞ ５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリ
ジン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾ
リン（本発明化合物番号７−０００１） および５,５−
ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン−N
−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオ
キサゾリン（本発明化合物番号７−０００２）の製造 ５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリ
ジン−３−イルメチルチオ)−２−イソオキサゾリン
０.４５ｇ (１.６ミリモル)のクロロホルム２０ｍｌ溶
液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０.７７ｇ（純度
７０％，４.５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その
後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、
反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた
有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキ
サン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、淡黄色結晶(融点
７７.０〜８０.０℃)の５,５−ジメチル−３−(４−ト
リフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニ
ル)−２−イソオキサゾリン０.０６ｇ(収率１２.０％)
および 白色結晶(融点１１４.０〜１１６.０℃)の５,５
−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリジン
−N−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−イソ
オキサゾリン０.１２ｇ(収率２３.１％)を得た。 ５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリ
ジン−３−イルメチルスルホニル)−２−イソオキサゾ
リン （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.98(1H,s), 8.84
(1H,d), 7.64(1H,d), 4.92(2H, s), 3.09(2H,s), 1.52
(6H, s) ５,５−ジメチル−３−(４−トリフルオロメチル−ピリ
ジン−N−オキシド−３−イルメチルスルホニル)−２−
イソオキサゾリン （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.50(1H,s), 8.2
5(1H,d), 7.59(1H,d), 4.81(2H, s), 3.12(2H,s), 1.53
(6H, s)
【０３７６】＜実施例３９＞ ５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロ
メチルピリミジン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソ
オキサゾリン（本発明化合物番号８−０００２）の製造 ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリン０.３５ｇ(２.００ミリモル)のジメチルホル
ムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリウム０.
３２ｇ(純度７０％,４.００ミリモル)を加え２時間攪拌
した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム０.２８ｇ
(２.００ミリモル)、ロンガリット０.３１ｇ(２.００ミ
リモル)及び５−クロロメチル−４−メトキシ−６−ト
リフルオロメチルピリミジン０.４５ｇ(２.００ミリモ
ル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了確
認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機
層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、５,５−ジメチ
ル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジ
ン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソオキサゾリン
０.５５ｇ(収率８５.９％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.81(1H,s), 4.44
(2H,d), 4.1２(3H, s),2.81(2H,s), 1.45(6H,s)
【０３７７】＜実施例４０＞ ５,５−ジメチル−[(４−メトキシ−６−トリフルオロ
メチルピリミジン−５−イル)−メチルスルホニル]−２
−イソオキサゾリン（本発明化合物番号８−０００１）
の製造 ５,５−ジメチル− [(４−メトキシ−６−トリフルオロ
メチルピリミジン−５−イル)−メチルチオ]−２−イソ
オキサゾリン０.５５ｇ(１.７１ミリモル)のクロロホル
ム２０ｍｌ溶液に、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸１.
０５ｇ(純度７０％,４.２８ミリモル)を加え１時間攪拌
し、さらに室温で４時間攪拌した。反応終了後、反応溶
液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機
層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム
水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色羽毛状結晶
（融点１７５〜１７６℃）の５,５−ジメチル−[(４−
メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イ
ル)−メチルスルホニル]−２−イソオキサゾリン０.４
５ｇ(収率７５.０％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.89(1H,s), 5.00
(2H,d), 4.11(3H,s), 3.11(2H,s), 1.53(6H,s)
【０３７８】＜実施例４１＞ ３−（５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−
イルチオメチル)−２−トリフルオロメチル−６，７ジ
ヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン
（本発明化合物番号３−００３３）の製造 水素化ナトリウム０.１１ｇ(２.８ミリモル)のＮ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド１５ｍｌ懸濁液に３−[５−クロ
ロ−１−(３−ヒドロキシプロピル)−３−トリフルオロ
メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル−メチルチオ]−
５,５−ジメチル−２−イソオキサゾール０.８２ｇ
（２.３ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍ
ｌ溶液を室温で滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温
で３０分攪拌し、その後１００℃に加熱し１時間攪拌し
た。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層をクエン酸水溶液、食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去
し、３−（５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−
３−イルチオメチル)−２−トリフルオロメチル−６，
７ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサ
ジン０.７７ｇ(収率１００％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.37(2H,t), 4.19
(2H,t), 4.15(2H,s), 2.80(2H,s), 2.31(2H,m), 1.42(6
H,s)
【０３７９】＜実施例４２＞ ３−(５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イ
ルスルホニルメチル）−２−トリフルオロメチル−６,
７−ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキ
サジン（本発明化合物番号３−００１９）の製造 ３−(６,７−ジヒドロ−３−トリフルオロメチル−５Ｈ
−ピラゾロ[５,１−b][１,３]オキサジン−４−イル−
メチルチオ)−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
０.７７ｇ（２.３ミリモル）のクロロホルム溶液２０ｍ
ｌに、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.２５ｇ（純度
７０％，５.１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その
後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、
反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた
有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色粉
末（融点１５１.０−１５２.０℃）の３−(５,５−ジメ
チル−２−イソオキサゾリン−３−イルスルホニルメチ
ル）−２−トリフルオロメチル−６,７−ジヒドロ−５
Ｈ−ピラゾロ[５,１−ｂ][１,３]オキサジン０.３６ｇ
(収率４３％)を得た。（1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(pp
m)）:4.47(2H,s), 4.40(2H,t), 4.23(2H,t), 3.09(2H,
s), 2.34(2H,m)，1.50(6H，s)
【０３８０】
【表１３１】
【０３８１】
【表１３２】
【０３８２】
【表１３３】
【０３８３】
【表１３４】
【０３８４】
【表１３５】
【０３８５】
【表１３６】
【０３８６】
【表１３７】
【０３８７】
【表１３８】
【０３８８】
【表１３９】
【０３８９】
【表１４０】
【０３９０】
【表１４１】
【０３９１】
【表１４２】
【０３９２】
【表１４３】
【０３９３】
【表１４４】
【０３９４】（中間体の製造例） ＜参考例１＞ ３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
の製造 グリオキシル酸アルドオキシム１８２.７ｇ（２.０５モ
ル）の１,２−ジメトキシエタン２ｌ溶液に、６５〜７
０℃でＮ−クロロこはく酸イミド５３４.０ｇ（４.０モ
ル）を徐々に加えた後、１時間加熱還流した。氷冷下、
炭酸水素カリウム１４４０.０ｇ（１４.４モル）及び水
１０ｍｌを加えた後、２−メチルプロペン３６０.０ｇ
（６.４モル）を反応溶液に加え、室温で２４時間攪拌
した。反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで
抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を
留去し、黄色粘調性液体の３−クロロ−５,５−ジメチ
ル−２−イソオキサゾリン１０７.７ｇ（収率４０.０
％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:2.93(2H,s)、1.47
(6H,s)
【０３９５】＜参考例２＞ ３−クロロ−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサ
ゾリンの製造 グリオキシル酸アルドオキシム２０.６ｇ（２３１.７ミ
リモル）の１,２−ジメトキシエタン５００ｍｌ溶液
に、６０℃でＮ−クロロこはく酸イミド６１.９ｇ（４
６３.４ミリモル）を徐々に加えた。加え終わった後、
１０分間加熱還流した。次に、氷冷下、２−メチル−１
−ブテン５０ｍｌ（４６３.４ミリモル）、炭酸水素カ
リウム９８.９ｇ（１６２２ミリモル）及び水１０ｍｌ
を加え１２時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎｎ−ヘ
キサンで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、淡黄色粘調性液体の３−クロロ−５−
エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１３.９ｇ
（収率４０.６％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:2.91(2H,ABq,J=17.
0,Δν=46.1Hz), 1.73(2H,q)、1.42(3H,s)、0.96(3H,t)
【０３９６】＜参考例３＞ ３−ベンジルチオ−５,５−ジメチル−２−イソオキサ
ゾリンの製造 ベンジルメルカプタン２.８ｇ（２２.５ミリモル）の
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、窒素気
流下、無水炭酸カリウム３.２ｇ（２３.２ミリモル）及
び３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリ
ン３.０ｇ（２２.５ミリモル）を加え１００℃で２時間
攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチ
ルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、黄色油状物質（屈折率▲ｎD 20▼＝１.５５
２１）の３−ベンジルチオ−５,５−ジメチル−２−イ
ソオキサゾリン３.１ｇ（収率６２.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:7.24-7.39(5H,m)、
4.26(2H,s)、2.77(2H,s)、1.40(6H,s)
【０３９７】＜参考例４＞ ３−（２,６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５
−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造 ３−（２,６−ジフルオロベンジルチオ）−５−エチル
−５−メチル−２−イソオキサゾリン４.１ｇ（１５.０
ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ
−クロロ過安息香酸４.６ｇ（純度７０％、１８.８ミリ
モル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１
２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎク
ロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナ
トリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食塩水で
順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）
で精製し、白色粉末（融点３０℃以下）の３−（２,６
−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５
−メチル−２−イソオキサゾリン１.５ｇ（収率３４.８
％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:7.39-7.28(1H,m)、
7.03-6.94(2H,m)、4.38(2H,s)、3.04(1H,ABq,J=17.2,Δ
ν=85.7Hz)+3.12(1H,s)、1.75(2H,m)、1.44(3H,s)+1.41
(3H,s)、0.97(3H,m)
【０３９８】＜参考例５＞ ３−（２,６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−
エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造 ３−（２,６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５
−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０.８ｇ
（２.８ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷
冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１.０ｇ（純度７０％、４.
１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室
温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に
注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸
水素ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合
溶媒）で精製し、白色粉末（融点６４〜６５℃）の３−
（２,６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−エチ
ル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０.６ｇ（収率
７５.０％）を得た。 （1H−NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:7.36-7.46(1H,
m)、6.98-7.04(2H,m)、4.73(2H,s)、3.04(2H,ABq,J=17.
2,Δν=51.1Hz)、1.77(2H,q)、1.46(3H,s)、0.97(3H,t)
【０３９９】＜参考例６＞ ５,５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリンの製造 ３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
１４３.０ｇ（１.０７モル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５００ｍｌ溶液に、氷冷下、メチルメルカプタン
ナトリウム水溶液１.０ｋｇ（含量１５％、２.１４モ
ル）を滴下し、その後室温で１２時間攪拌した。反応終
了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５,５−ジメチ
ル−３−メチルチオ−２−イソオキサゾリンを１１５.
０ｇ（収率７４.１％）得た。この抽出物（７４１.２ミ
リモル）をクロロホルム１ｌに溶解し、氷冷下、ｍ−ク
ロロ過安息香酸３９２.０ｇ（純度７０％、１.５９モ
ル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２
時間攪拌した。反応終了後、析出したｍ−クロロ安息香
酸を濾別し、濾液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、
炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、白色粉
末（融点８２〜８４℃）の５,５−ジメチル−３−メチ
ルスルホニル−２−イソオキサゾリン７７.６ｇ（収率
５９.１％）を得た。 （1H−NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:3.26(3H,s)、3.12
(2H,s)、1.51(6H,s) ＜参考例７＞ ５,５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾ
リンの製造 ３−クロロ−５,５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
を含有した反応溶液に、エチルメルカプタン５６０.０
ｇ(９.０モル)および水酸化ナトリウム３６０.０ｇ(９.
０モル)の水溶液１５００ｍｌを加えた。その後、６０
〜７０℃で１６時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶
液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を
水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の５,５−
ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの粗
化合物２７０.０ｇ得た。
【０４００】＜参考例８＞ ５,５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオ
キサゾリンの製造 ５,５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾ
リンの粗油状物２７０.０ｇ(１.７モル)をクロロホルム
１.０ｌに溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１０
５０ｇ（純度７０％，６.１モル）を加え１時間攪拌
し、その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了
確認後、析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、濾液を
亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶
液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキ
サンで洗浄し、白色粉末の５,５−ジメチル−３−エチ
ルスルホニル−２−イソオキサゾリン１３３.６ｇ（収
率６５.４％）を得た。
【０４０１】＜参考例９＞ １−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾ
ール−５−オールの製造 トリフルオロアセト酢酸エチルエステル３４.１ｇ(１８
４.９ミリモル)のエタノール５００ｍｌ溶液にフェニル
ヒドラジン２０ｇ(１８４.９ミリモル)及び濃塩酸４ｍ
ｌを加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、減圧
下溶媒を大部分留去し、残渣に水を加えて結晶を析出さ
せた。ろ過し、得られた結晶をろ液が中性になるまで水
で洗浄した後、乾燥して、黄土色結晶の１−フェニル−
３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オー
ル３７.１ｇ(収率８７.９％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.68-7.41(5H,
m), 5.86(1H, s), 3.71(1H,s)
【０４０２】＜参考例１０＞ ５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造 Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド７.７ｇ(１０５.２ミリモ
ル)に、氷冷下、オキシ塩化リン３３.６ｇ(２１９.１ミ
リモル)を加えた。次に、室温で１−フェニル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０
ｇ(８７.７ミリモル)を加えた後、１時間加熱還流し
た。反応終了後、氷冷下、反応溶液を水中に注ぎクロロ
ホルムで抽出した。得られた有機層を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−
酢酸エチル混合溶媒)で精製し、白色結晶の５−クロロ
−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラ
ゾール−４−カルボアルデヒド１９.１ｇ（収率７９.１
％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 10.06(1H, s), 7.
57(5H, s)
【０４０３】＜参考例１１＞ (５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造 水素化リチウムアルミニウム０.２１ｇ(５.５ミリモル)
のＴＨＦ７０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、５−クロロ
−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラ
ゾール−４−カルボアルデヒド３ｇ(１０.９ミリモル)
のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を徐々に加えた。さ
らに−３０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、酢酸エ
チルを加えて攪拌した後、水を加え、しばらく攪拌し
た。この反応混合物を減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで
抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、白
色結晶の(５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオ
ロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール
３.０ｇ（収率９９.９％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.54-7.51(5H,
m), 4.71(2H, d), 1.79(1H, b)
【０４０４】＜参考例１２＞ ４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 (５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３.０ｇ
(１０.９ミリモル)のジエチルエーテル６０ｍｌ溶液を
−１０℃に冷却し、三臭化リン１.０ｇ(３.８ミリモル)
を加え、さらに室温で１時間攪拌した。反応終了後、反
応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有
機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去し、白色結晶の４−ブロモメ
チル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール３.６ｇ(収率９５.８％)を得
た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.58-7.48(5H,
m), 4.48(2H, s)
【０４０５】＜参考例１３＞ ５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造 ５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３３.０ｇ(１
２０.１ミリモル)のジメチルスルホキシド５００ｍｌ溶
液に、ふっ化カリウム１０.５ｇ(１８０.２ミリモル)を
加え、１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶
液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層
を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合
溶媒)で精製し、５−フルオロ−１−フェニル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアル
デヒド２６.５ｇ（収率８５.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.96(1H, s), 7.6
8-7.51(5H, m)
【０４０６】＜参考例１４＞ (５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造 水素化ホウ素ナトリウム１.６ｇ（４１.０ミリモル）の
メタノール３００ｍｌ溶液に、氷冷下、５−フルオロ−
１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾ
ール−４−カルボアルデヒド２６.５ｇ（１０２.５ミリ
モル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加え、０℃で３０
分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸
エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、 (５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオ
ロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール
２８.５ｇ（収率１００％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.65-7.41(5H,
m), 4.68(2H, d), 1.73(1H, t)
【０４０７】＜参考例１５＞ ４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 (５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール２７.５
ｇ(１０５.７ミリモル)のジエチルエーテル３００ｍｌ
溶液を０℃に冷却し、三臭化りん１０.０ｇ(３７.０ミ
リモル)を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終
了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出し
た。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロ
モメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフル
オロメチル−１Ｈ−ピラゾール３０.３ｇ(収率８８.８
％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.66-7.42(5H,
m), 4.44(2H, s)
【０４０８】＜参考例１６＞ １−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−５−オールの製造 トリフルオロアセト酢酸エチルエステル５５２.３ｇ
(３.０モル)のエタノール１５００ｍｌ溶液にtert−ブ
チルヒドラジン塩酸塩３７３.８ｇ(３.０モル)及び濃塩
酸５０ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了
後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸
エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉
末の１−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ
−ピラゾール−５−オール３６９.０ｇ(収率５９.１％)
を得た。
【０４０９】＜参考例１７＞ １−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造 Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド８７.７ｇ(１.２モル)
に、氷冷下、オキシ塩化リン４６２.０ｇ(３.０モル)を
加えた。次に、室温で１−tert−ブチル−３−トリフル
オロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０８.２
ｇ(１.０モル)を加えた後、１０時間加熱還流した。反
応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出し
た。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液
及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混
合溶媒)で精製し、白色結晶の１−tert−ブチル−５−
クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−
４−カルボアルデヒド１３１.５ｇ（収率２１.７％）を
得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.97(1H, d), 1.7
6(9H, s)
【０４１０】＜参考例１８＞ (１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製
造 １−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３９.９
ｇ(１５６.９ミリモル)のメタノール３００ｍｌ溶液を
０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム６.５ｇ(１７
２.６ミリモル)を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌
した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで
抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、
(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール３７.
７ｇ（収率９３.６％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.60(2H, d), 1.7
2(9H, s), 1.58(1H, t)
【０４１１】＜参考例１９＞ ４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３
−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 (１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール９.２
ｇ(３５.７ミリモル)のジエチルエーテル１００ｍｌ溶
液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１１.６ｇ(４２.９
ミリモル)を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終
了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出
した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブ
ロモメチル−１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０.０ｇ(収率８
７.３％)を得た。
【０４１２】＜参考例２０＞ (１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタンチオール
の製造 水硫化ナトリウム水和物２１.８ｇ(純度７０％、２７
２.２ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド３００
ｍｌ溶液に４−ブロモメチル−１−tert−ブチル−５−
クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４
３.５ｇ(１３６.１ミリモル)を加え、さらに室温で一夜
攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチ
ルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒
を留去し、(１−tert−ブチル−５−クロロ−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタ
ンチオール３２.３ｇ(収率８７.０％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 3.65(2H, d), 1.9
0(1H, t), 1.70(9H, s)
【０４１３】＜参考例２１＞ １−tert−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾールの製造 １−tert−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール−５−オール１８.８ｇ（９０.３ミリモル）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液に、室温
で無水炭酸カリウム１５.０ｇ（１０８.４ミリモル）及
びヨウ化メチル１９.３ｇ（１３５.５ミリモル）を加
え、さらに１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を
水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機
層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−tert−ブチ
ル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピ
ラゾール２０.０ｇ(収率９９.８％)を得た。
【０４１４】＜参考例２２＞ １−tert−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−
３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 １−tert−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメ
チル−１Ｈ−ピラゾール２０.０ｇ(９０.１ミリモル)の
酢酸９０ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド５.４ｇ(ホ
ルムアルデヒド換算１８０.２ミリモル)及び濃塩酸２０
ｍｌを加え６０℃で３０分間加熱攪拌した。反応終了
後、反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで抽
出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−tert
−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２１.７ｇ（収率８
９.０％）を得た。
【０４１５】＜参考例２３＞ ３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾールの製造 ３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール１０.０ｇ（６０.２ミリモル）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、室温で
無水炭酸カリウム１０.０ｇ（７２.３ミリモル）及びヨ
ウ化メチル１２.８ｇ（９０.３ミリモル）を加え、さら
に１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注
ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及
び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去し、３−メトキシ−１−メチ
ル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール９.８
ｇ(収率９０.７％)を得た。
【０４１６】＜参考例２４＞ ４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 ３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール１.００ｇ(５.６ミリモル)の酢酸２５
ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド０.４５ｇ(ホルムア
ルデヒド換算１５.０ミリモル)及び濃塩酸５ｍｌを加え
８０℃で２時間加熱攪拌した。反応終了後、反応溶液を
水中に注ぎ炭酸カリウムを用いて中和した後、酢酸エチ
ルで抽出した。得られた有機層を水洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘ
キサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し４−クロロメチ
ル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチ
ル−１Ｈ−ピラゾール０.８３ｇ（収率６５.０％）を得
た。
【０４１７】＜参考例２５＞ ５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造 ５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド６０.４ｇ(２８
２.７ミリモル)のジメチルスルホキシド７００ｍｌ溶液
に、ふっ化カリウム４２.０ｇ(７１１.９ミリモル)を加
え、１２０〜１４０℃で５時間攪拌した。反応終了確認
後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られ
た有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン
−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、５−フルオロ−１−
メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−
４−３６.８ｇ（収率６６.０％）を得た。
【０４１８】＜参考例２６＞ (５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル
−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造 水素化ホウ素ナトリウム３.９ｇ（１０２.６ミリモル）
のメタノール５００ｍｌに溶液、氷冷下、５−フルオロ
−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾ
ール−４−カルボアルデヒド３６.８ｇ（１８７.６ミリ
モル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加えた。０℃で３
０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ
酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩
水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧下溶媒を留去し、 (５−フルオロ−１−メチル−３−
トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル)−
メタノール３５.４ｇ（収率９５.４％）を得た。
【０４１９】＜参考例２７＞ ４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−ト
リフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 ５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３５.４ｇ(１
７８.７ミリモル)のジエチルエーテル５００ｍｌ溶液を
−３０℃に冷却し、三臭化りん５４.０ｇ(１９９.５ミ
リモル)を加えた。室温で１２時間攪拌した。反応終了
確認後、反応溶液を水に注ぎジエチルエーテルで抽出し
た。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４
−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリ
フルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１.４ｇ(収率８
０.８％)を得た。
【０４２０】＜参考例２８＞ (エトキシカルボニル)マロンジアルデヒドの製造 水素化ナトリウム１２.６ｇ(純度６０％、５２５.０ミ
リモル) をジエチルエーテルで数回デカントした後、ジ
エチルエーテル５００ｍｌ溶液とした。そして、窒素気
流下、０〜１０℃で、ギ酸エチル１９４ｇ(２.６モル)
および３，３−ジエトキシ−プロピオン酸エチルエステ
ル５０ｇ(２６２.０ミリモル)を加えた。その後、室温
で１５時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注
ぎ、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた水層を塩酸
でｐＨ１とした後、ジクロロメタンで抽出した。更に、
得られた有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の(エ
トキシカルボニル)マロンジアルデヒドの粗化合物３７.
６ｇ(収率１００％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.09(2H, s),５.2
6(1H,s),4.27(2H, q),1.28(3H,t)
【０４２１】＜参考例２９＞ １Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製
造 (エトキシカルボニル)マロンジアルデヒド２７.６ｇ(１
９２ミリモル)のエタノール１５０ｍｌ溶液に氷冷下、
ヒドラジン６.２ｇ(１９３ミリモル)を加え、室温で１
７時間攪拌した。その後、減圧下エタノールを留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒：ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、
黄色結晶の１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエ
ステル１９.４ｇ(７２.４％)を得た （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.08(2H, s),5.30
(1H,s),4.31(2H, q),1.36(3H,t)
【０４２２】＜参考例３０＞ １−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチル
エステルの製造 １Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.
５ｇ(１０.７ミリモル)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド５０ｍｌ溶液に無水炭酸カリウム３.７ｇ(２６.８ミ
リモル)，ヨウ化エチル４.２ｇ(２６.６ミリモル)を加
え、室温で２０時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶
液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層
を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル
混合溶媒)で精製し、黄色油状物の１−エチル−１Ｈ−
ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.６ｇ(収
率８８.９％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 7.90(2H, s),4.28
(2H,q),4.18(2H, q),1.51(3H,t),1.35(3H,t)
【０４２３】＜参考例３１＞ ３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−カルボン酸エチルエステルの製造 １−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチル
エステル１.６ｇ(９.５ミリモル)，Ｎ−クロロこはく酸
イミド ５.１ｇ(３８.３ミリモル)をガラス封管に入
れ、１６０℃で６時間反応させた。反応終了後、室温ま
で冷却し、反応物を四塩化炭素およびクロロホルムで洗
浄、減圧ろ過した。得られたろ液(有機層)を水および食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精
製し、黄色油状物の３,５−ジクロロ−１−エチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１.０
ｇ(収率４４.２％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.36(2H,q),4.21
(2H, q),1.44(3H,t),1.38(3H,t)
【０４２４】＜参考例３２＞ (３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イル)メタノールの製造 水素化リチウムアルミニウム０.１６ｇ(４.２ミリモル)
のテトラヒドロフラン７０ｍｌ溶液を−５０℃に冷却
し、３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール
−４−カルボン酸エチルエステル１.０ｇ(４.２ミリモ
ル)のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下
し、更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、
酢酸エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加
え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチル
で抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、茶色油状物の(３,５−ジクロロ−１−エチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−イル)メタノール０.８２ｇ(収率
１００％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.52(2H,s), 4.1
6(2H,q), 1.43(3H,t)
【０４２５】＜参考例３３＞ ４−ブロモメチル−３,５−ジクロロ−１−エチル−１
Ｈ−ピラゾールの製造 (３,５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−イル)メタノール０.８２ｇ(４.２ミリモル)のジエチ
ルエーテル５０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リ
ン１.３ｇ(４.８ミリモル)を加え、更に室温で１２時間
攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒
を留去し、黄色油状物の４−ブロモメチル−３,５−ジ
クロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０.９ｇ(収率８
１.８％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.33(2H,s), 4.13
(2H,q), 1.43(3H,t)
【０４２６】＜参考例３４＞ ３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール
−５−オールの製造 ジフルオロアセト酢酸エチルエステル３０.０ｇ(１８
０.６ミリモル)のエタノール２００ｍｌ溶液にメチルヒ
ドラジン８.３ｇ(１８０.６ミリモル)及び濃塩酸５ｍｌ
を加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下
溶媒を大部分留去した。残渣を水中に注ぎクエン酸でｐ
Ｈ４とした後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層
を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸
エチル混合溶媒)で精製し、３−ジフルオロメチル−１
−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８.９ｇ(収率
３３.３％)を得た。
【０４２７】＜参考例３５＞ ５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ
−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７.９ｇ(１０８.０ミリ
モル)に、氷冷下、オキシ塩化リン４１.６ｇ(２７０.１
ミリモル)を加えた。次に、室温で３−ジフルオロメチ
ル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８.０
ｇ(５４.０ミリモル)を加えた後、４時間加熱還流し
た。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで
抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム
水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エ
チル混合溶媒)で精製し、白色結晶の５−クロロ−３−
ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４
−カルボアルデヒド７.７ｇ（収率７３.３％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:9.96(1H,s), 6.90
(1H,t,J=53.6Hz), 3.93(3H,s)
【０４２８】＜参考例３６＞ (５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノールの製造 ５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ
−ピラゾール−４−カルボアルデヒド７.２ｇ(３７.０
ミリモル)のメタノール１００ｍｌ溶液を０℃に冷却
し、水素化ホウ素ナトリウム２.１ｇ(５５.５ミリモル)
を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応終了
後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得ら
れた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、(５−クロロ−３
−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−
４−イル)−メタノール３.８ｇ（収率５２.１％）を得
た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）:6.70(1H,t,J=40.8H
z), 4.63(2H,s), 3.86(3H,s), 1.79(1H,br)
【０４２９】＜参考例３７＞ ４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル
−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造 (５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１
Ｈ−ピラゾール−４−イル)−メタノール２.０ｇ(１０.
０ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−１０
℃に冷却し、三臭化リン１.０ｇ(３.５ミリモル)を加
え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液
を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた
有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５
−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−
ピラゾール２.６ｇ(収率１００.０％)を得た。
【０４３０】＜参考例３８＞ トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレートの
製造 トリフルオロアセトアルデヒドヘミエチルアセタール５
０.０ｇ（３４７.０ミリモル）のメタノール８０ｍｌ溶
液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩２４.１ｇ（３４７.０
ミリモル）、水１６０ｍｌを加え、氷冷下、５０％水酸
化ナトリウム水溶液８０.０ｇ（１.７モル）を滴下し
た。滴下終了後室温で６時間攪拌した。反応終了後、１
０％塩酸を加えてｐＨ６とし、ジエチルエーテルで抽出
した。減圧下溶媒を留去し、残渣を蒸留し、トリフルオ
ロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２４.７ｇ
（収率３８.０％）を得た。
【０４３１】＜参考例３９＞ トリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレ
ートの製造 トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２
４.７ｇ（１３１.７ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５０ｍｌ溶液に、氷冷下、Ｎ−ブロモこはく酸
イミド３８.８ｇ（2１８.０ミリモル）のＮ,Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド１２５ｍｌ溶液を加え、室温で３時間攪
拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエ
ーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、残渣を蒸留し、褐色油状物質のトリフルオロアセ
トヒドロキシモイルブロミドエーテレート３３.３ｇ
（収率９５.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.30(1H, s)
【０４３２】＜参考例４０＞ ４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオ
ロメチルイソキサゾールの製造 アセト酢酸エチル６.７ｇ（５１.３ミリモル）のメタノ
ール８０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシド２.８ｇ
（５１.３ミリモル）を加え、氷冷下、トリフルオロア
セトヒドロキシモイルブロミドエーテレート５.０ｇ
（１８.８ミリモル）のメタノール２０ｍｌ溶液を加え
た。室温で３時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶媒を
留去し、水を加え、クロロホルムで抽出した。得られた
有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチ
ル混合溶媒)で精製し、無色油状物質の４−エトキシカ
ルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキ
サゾール２.９ｇ（収率６９.０％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.36(2H, q), 2.7
7(3H, s), １.37(3H, t)
【０４３３】＜参考例４１＞ (５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール
−４−イル)−メタノールの製造 水素化リチウムアルミニウム０.１６ｇ(４.２ミリモル)
のＴＨＦ１５ｍｌ溶液を０℃に冷却し、４−エトキシカ
ルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキ
サゾール０.９３ｇ(４.２ミリモル)のＴＨＦ１５ｍｌ溶
液を徐々に加えた。０℃で１時間攪拌した。反応終了
後、酢酸エチルを加えてしばらく攪拌した後、水を加
え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液をジエチルエ
ーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、(５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサ
ゾール−４−イル)−メタノール０.５ｇ（収率６０.０
％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.60(2H, d), 2.5
4(3H, s), 1.66(1H, br)
【０４３４】＜参考例４２＞ ４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチ
ルイソキサゾールの製造 (５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール
−４−イル)−メタノール０.４５ｇ(２.５ミリモル)の
ジエチルエーテル１０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化
りん０.２ｇ(８.９ミリモル)を加えた。室温で１時間攪
拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエ
ーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留
去し、４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオ
ロメチルイソキサゾール０.５ｇ(収率７４.０％)を得
た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.31(2H, d), 2.5
1(3H, s)
【０４３５】＜参考例４３＞ (５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)
−メタノールの製造 水素化リチウムアルミニウム０.４２ｇ(１１.０ミリモ
ル)のテＴＨＦ１０ｍｌ溶液に、−３０℃で５−クロロ
−３−メチル−イソチアゾール−４−カルボン酸エチル
エステル２.０６ｇ(１０.０ミリモル)のＴＨＦ１０ｍｌ
溶液を滴下し、さらに同温度で１時間攪拌した。反応終
了確認後、反応溶液に酢酸エチルを加えた後、水中にあ
け酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、(５−クロロ−３−メチル−
イソチアゾール−４−イル)−メタノール１.５０ｇ（収
率９１.５％）を得た。
【０４３６】＜参考例４４＞ ４−クロロメチル−５−クロロ−３−メチルイソチアゾ
ールの製造 (５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル)
−メタノール１.５０ｇ (９.１５ミリモル)のクロロホ
ルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル３.２６ｇ(２
７.４４ミリモル)を加え３時間攪拌した。反応終了確認
後、減圧下溶媒を留去し、４−クロロメチル−５−クロ
ロ−３−メチルイソチアゾール１.６７ｇ（収率定量
的）を得た。
【０４３７】＜参考例４５＞ ４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステルの製
造 ４−トリフルオロメチルニコチン酸 ４.６ｇ(２４.１ミ
リモル)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌ溶液
に、無水炭酸カリウム６.７ｇ(４８.６ミリモル)，ヨウ
化メチル６.９ｇ(４８.６ミリモル)を加え、室温で１２
時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、
酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製
し、黄色油状物の４−トリフルオロメチルニコチン酸メ
チルエステル２.７７ｇ(収率５６.１％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.11(1H,s),8.92
(1H,d),7.６4(1H,d),3.99(3H,s)
【０４３８】＜参考例４６＞ (４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル)−メタノ
ールの製造 水素化リチウムアルミニウム０.３７ｇ(９.７ミリモル)
のＴＨＦ１００ｍｌ溶液を−５０℃に冷却し、４−トリ
フルオロメチルニコチン酸メチルエステル２.０ｇ(９.
８ミリモル)のＴＨＦ３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下し、
更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、酢酸
エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加え、
再度しばらく攪拌した。反応混合物を減圧ろ過し、ろ液
を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精
製し、黄色油状物の(４−トリフルオロメチルピリジン
−３−イル)メタノール０.６ｇ(収率３５.３％)を得
た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 9.00(1H,s), 8.73
(1H,d), 7.51(1H,d), 4.95(2H,s)
【０４３９】＜参考例４７＞ ３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピリジンの
製造 (４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル)メタノー
ル０.６ｇ (３.４ミリモル)のジエチルエーテル５０ｍ
ｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リン１.４ｇ(５.２
ミリモル)を加え、更に室温で１２時間攪拌した。反応
終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色
油状物の３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピ
リジン０.６１ｇ(収率７５.３％)を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.88(1H,s), 8.73
(1H,d), 7.54(1H,d), 4.63(2H,s)
【０４４０】＜参考例４８＞ ５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチル
ピリミジンの製造 ４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン４
９.２ｇ(３００.０ミリモル)の酢酸６００ｍｌ溶液に、
室温で無水酢酸ナトリウム７７.５ｇ(９４５.０ミリモ
ル)を加えた。さらに４５℃で反応溶液中に臭素５０.３
ｇ(３１５ミリモル)を徐々に加え、同温度で３時間攪拌
した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を
水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水
及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで
洗浄し５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロ
メチルピリミジン３８.９ｇ(収率５３.４％)を得た。
【０４４１】＜参考例４９＞ ５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリ
ミジンの製造 ５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチル
ピリミジン２４.３ｇ(１００.０ミリモル)をオキシ塩化
リン１８.５ｇ(１２０.０ミリモル)に懸濁させ、１００
℃で２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を徐々
に水にあけクロロホルムで抽出した。得られた有機層を
水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−４−ク
ロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１.５ｇ
（収率８２.４％）を得た。
【０４４２】＜参考例５０＞ ５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピ
リミジンの製造 ５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリ
ミジン２１.５ｇ(８２.２ミリモル)のメタノール１００
ｍｌ溶液に、室温でナトリウムメトキシド１６.７ｍｌ
(２８％メタノール溶液 ８６.４ミリモル)を加え攪拌
した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を
水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を
水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサン
で洗浄し、５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオ
ロメチルピリミジン１９.２ｇ(収率９１.０％)を得た。
【０４４３】＜参考例５１＞ ５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピ
リミジンの製造 ５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリ
ミジン３.００ｇ(１１.４８ミリモル)のエタノール５０
ｍｌ溶液に、室温でナトリウムエトキシド０.９４ｇ(１
３.７７ミリモル)を加え攪拌した。反応終了確認後、減
圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで
抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製し５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメ
チルピリミジン２.４４ｇ(収率８２.９％)を得た。
【０４４４】＜参考例５２＞ ４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５
−カルボアルデヒドの製造 ５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピ
リミジン１０.３ｇ(４０.０ミリモル)のテトラヒドロフ
ラン１００ｍl溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチル
リチウム３０.０ｍｌ(１.６ｍｏｌ/ｌ ｎ−ヘキサン溶
液４８.０ミリモル)を徐々に加えた後、３０分間攪拌し
た。さらに同温度で、ギ酸エチル３.６ｇ(４８.０ミリ
モル)を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応溶液
を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を
水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−６−
トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド
１.３ｇ（収率１５.８％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 10.41(1H,q), 8.9
8(1H,s), 4.18(3H,s)
【０４４５】＜参考例５３＞ ４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５
−カルボアルデヒドの製造 ５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピ
リミジン５.７６ｇ（２１.３ミリモル）のＴＨＦ２５０
ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチム２２.
６ｍｌ（１.６ｍｏｌ／ｌ ｎ−ヘキサン溶液 ３６.１
ミリモル）を滴下し、４０分間攪拌した。ギ酸メチル
２.７ｇ（４５.１ミリモル）を加え、さらに１.５時間
攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加
え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食
塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)
で精製し、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリ
ミジン−５−カルボアルデヒド３.８２ｇ（収率８１.６
％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 10.41(1H, s), 8.
95(1H, s), 4.63(2H, q), 1.48(3H, t)
【０４４６】＜参考例５４＞ (４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−
５−イル)−メタノールの製造 ４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５
−カルボアルデヒド１.３ｇ(６.３ミリモル)のメタノー
ル３０ｍｌ溶液に、室温で水素化ホウ素ナトリウム０.
２４ｇ(６.３ミリモル)を徐々に加え３時間攪拌した。
反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得
られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、(４
−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−
イル)−メタノール０.４２ｇ（収率３２.１％）を得
た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.93(1H,s), 4.81
(2H,s), 4.13(3H,s), 2.26(1H,br)
【０４４７】＜参考例５５＞ （４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−
５−イル）−メタノールの製造 水素化ホウ素ナトリウム１.７ｇ（４５.７ミリモル）の
メタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下、４−エトキシ−６
−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒ
ド３.８２ｇ（１７.２ミリモル）のメタノール５０ｍｌ
溶液を加え、さらに０℃で１時間攪拌した。反応終了
後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得ら
れた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（４−エトキシ−
６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタ
ノール３.７７ｇ（収率９７.８％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.80(1H, s), 4.8
1(2H, s), 4.59(2H, q),2.28(1H, b), 1.48(3H, t)
【０４４８】＜参考例５６＞ ５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメ
チルピリミジンの製造 (４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−
５−イル)−メタノール０.４２ｇ(２.０２ミリモル)の
クロロホルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル１.
１９ｇ(１０.１ミリモル)を加え３時間攪拌した。反応
終了確認後、減圧下溶媒を留去し、５−クロロメチル−
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン０.
４５ｇ（収率：定量的）を得た。
【０４４９】＜参考例５７＞ ５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメ
チルピリミジンの製造 （４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−
５−イル）−メタノール３.７７ｇ(１７.０ミリモル)の
ジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化
りん２.０ｇ(７.２ミリモル)を加えた。室温で１時間攪
拌した。生じた塩をメタノールで溶解し、さらに１時間
攪拌した。反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽
出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５−
ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチル
ピリミジンの粗化合物を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.79(1H, s), 4.6
1(2H, q), 4.55(2H, s),1.49(3H, t)
【０４５０】＜参考例５８＞ ４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５
−カルボアルデヒドの製造 ５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピ
リミジン１０.３ｇ(４０.０ミリモル)のテトラヒドロフ
ラン１００ｍl溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチル
リチウム(１.６ｍｏｌ/ｌ ｎ−ヘキサン溶液)３０.０
ｍｌ(４８.０ミリモル)を徐々に加えた後、３０分間攪
拌した。さらに同温度で、ギ酸エチル３.６ｇ(４８.０
ミリモル)を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応
溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機
層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−
６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデ
ヒド１.３ｇ（収率１５.８％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 10.41(1H, q), 8.
98(1H, s), 4.18(3H, s)
【０４５１】＜参考例５９＞ (２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル)メタノー
ルの製造 水素化リチウムアルミニウム０.４ｇ(１０.０ミリモル)
のテトラヒドロフラン３０ｍｌ懸濁液に、−６５〜−６
０℃でメチル ２−クロロ−４−メチルニコチン酸１.９
ｇ(１０.０ミリモル)のＴＨＦ５.０ｍｌ溶液を徐々に加
えた後、３０分間攪拌した。さらに−２０℃で、１時間
攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出し
た。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、(２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル)メタ
ノール０.６ｇ（収率３８.２％）を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.19(1H, d), 7.0
8(1H, d), 4.85(2H, s),2.49(3H, s)
【０４５２】＜参考例６０＞ ３−アセチル−４−クロロメチル−２,５−ジクロロチ
オフェンの製造 ３−アセチル−２,５−ジクロロチオフェン５.０ｇ(３
２.４ミリモル)のクロロメチルメチルエーテル２６ｍｌ
(３２３.０ミリモル)溶液に、氷冷下１０℃での四塩化
チタン(２ｍｏｌ/ｌジクロロメタン溶液)３３ｍｌ(６
６.０ミリモル)を滴下した。その後室温で２時間攪拌し
た。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎクロロホルム
で抽出した。得られた有機層を重曹及び水、食塩水で順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１)で精
製し、黄色結晶の３−アセチル−４−クロロメチル−
２,５−ジクロロチオフェン２.６ｇ（収率３９.７％）
を得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 4.70 (2H, s), 2.
56 (3H,s), 2.54 (3H,s)2.39(3H, s)
【０４５３】＜参考例６１＞ ３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフランの製造 ３−ブロモ−２−メチルベンゾフラン２.８ｇ(１３.３
ミリモル)のモノクロロベンゼン３０ｍl溶液に、Ｎ−ブ
ロモコハク酸イミド２.７ｇ(１５.３ミリモル)及びアゾ
ビスイソブチロニトリル０.４ｇ(２.７ミリモル)を加え
た後、８０℃で３０分間攪拌した。原料消失を確認した
後、反応溶液を室温にまで冷却した。不溶物を濾別し、
濾液を減圧下溶媒を留去した。残渣を水中に注ぎ酢酸エ
チルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
溶媒を留去し、３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフ
ラン３.０ｇ（収率７９.０％）を得た。
【０４５４】＜参考例６２＞ １−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボ
ン酸エチルエステルの製造 １Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル３.
０ｇ (２１.４ミリモル)のＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１００ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム６.０ｇ(４３.
５ミリモル)を加え、クロロジフルオロメタンを反応溶
液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時間攪拌した。反
応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出
した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：
ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒)で精製し、無色透明油
状物の１−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−
カルボン酸エチルエステル１.６７ｇ(収率４１.０％)を
得た。 （1H-NMR値（CDCl3/TMS δ(ppm)）: 8.32(1H,s),8.04
(1H,s),7.20(1H, t),4.32(2H,q),1.37(3H, t) 本発明の除草剤は、一般式［I］で示されるイソオキサ
ゾリン誘導体及これを有効成分としてなる。
【０４５５】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤
等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、フロアブル剤、微
粒剤または粒剤等に製剤して使用することもできる。
【０４５６】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻
土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシ
ウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプ
ロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチル
ナフタレン等の液体担体等があげられる。
【０４５７】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤として
は、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレン
グリコール、アラビアゴム等があげられる。使用に際し
ては適当な濃度に希釈して散布するかまたは直接施用す
る。
【０４５８】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好
ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％（重
量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選
ぶのがよい。また、フロアブル剤とする場合は１〜４０
％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から
適宜選ぶのがよい。
【０４５９】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当
り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲
から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロア
ブル剤とする場合のように液状で使用する場合は、０．
１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，００
０ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。
【０４６０】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。
【０４６１】次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。
【０４６２】〈製剤例１〉 水和剤 化合物（３−０００６）の１０部にポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレン
スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、
珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤
を得た。
【０４６３】〈製剤例２〉 フロアブル剤 粗粉砕した化合物（３−０００６）２０部を水６９部に
分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエー
テル硫酸塩４部、エチレングリコール７部を加えるとと
もにシリコーンAF-118N（旭化成工業株式会社製）を製
剤に対し２００ｐｐｍ加え、高速攪拌機にて３０分間混
合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。
【０４６４】〈製剤例３〉 乳剤 化合物（３−０００６）の３０部にキシレンとイソホロ
ンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレン
ソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキル
アリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの
混合物の１０部を加え、これらをよくかきまぜることに
よって乳剤を得た。
【０４６５】〈製剤例４〉 粒剤 化合物（３−０００６）の１０部、タルクとベントナイ
トを１：３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイト
カーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビ
タンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリー
ルポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物
の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状とした
ものを直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥し
た後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得た。
【０４６６】次に試験例をあげて本発明化合物の奏する
効果を説明する。
【０４６７】〈試験例１〉 水田土壌処理による除草効
果試験 １００ｃｍ2プラスチックポットに水田土壌を充填し、
代掻後、タイヌビエ、コナギの種子を播種し、水深３ｃ
ｍに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤
を水で希釈し、水面滴下した。施用量は、有効成分を、
１ヘクタール当り１０００ｇとした。その後、温室内で
育成し、処理後２１日目に表１４５の基準に従って除草
効果を調査した。結果を表１４６〜表１４８に示す。
【０４６８】
【表１４５】
【０４６９】
【表１４６】
【０４７０】
【表１４７】
【０４７１】
【表１４８】
【０４７２】〈試験例２〉 畑地土壌処理による除草効
果試験 ８０ｃｍ2プラスチックポットに畑土壌を充填し、イヌ
ビエ、エノコログサの種子を播種して覆土した。製剤例
１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１ヘクタール
当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘクタール当
り１０００ｌを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布し
た。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表１４５
の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１４９
〜表１５２に示す。
【０４７３】
【表１４９】
【０４７４】
【表１５０】
【０４７５】
【表１５１】
【０４７６】
【表１５２】
【０４７７】〈試験例３〉 畑地茎葉処理による除草効
果試験 ８０ｃｍ2プラスチックポットに砂を充填し、イヌビ
エ、エノコログサの種子を播種し、温室内で２週間育成
後、製剤例１に準じて調製した水和剤を水に希釈し、１
ヘクタール当り有効成分が１０００ｇになる様に、１ヘ
クタール当り１０００ｌを小型噴霧器で植物体の上方か
ら全体に茎葉散布処理した。その後、温室内で育成し、
処理１４日目に表１４５の基準に従って、除草効果を調
査した。結果を表１５３〜表１５４に示す。
【０４７８】
【表１５３】
【０４７９】
【表１５４】
【０４８０】
【発明の効果】一般式［I］で表される本発明の化合物
は、畑地において問題となる種々の雑草、例えばオオイ
ヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカ
キンゴジカ、アメリカツノクサネム、アサガオ、オナモ
ミ等の広葉雑草をはじめ、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメ
クグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および
１年生カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコロ
グサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメ
ノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から
生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮す
る。また、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、
コナギ等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガ
ヤツリ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年
生雑草を防除することもできる。
【０４８１】一方、本発明の除草剤は作物に対する安全
性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコ
シ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ等に対
して高い安全性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ０１Ｎ 47/16 Ｃ０７Ｄ 261/08 47/38 413/12 Ｃ０７Ｄ 261/08 417/12 413/12 Ａ０１Ｎ 43/82 １０４ 417/12 １０２ (72)発明者 宮崎 雅弘 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 角 康一郎 静岡県磐田郡福田町蛭池276番地の１ (72)発明者 藤波 周 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 上野 良平 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 高橋 智 静岡県静岡市吉野町５番地の18 Ｆターム(参考） 4C056 AA01 AB01 AC01 AD01 AE02 AF05 FA03 FA07 4C063 AA01 BB08 CC51 CC76 DD04 DD12 DD29 DD31 DD51 EE03 4H011 AB01 AB02 BA01 BB10 BB13 BB14 BC01 BC03 BC07 BC16 BC19 BC20 DA02 DA15 DA16 DC01 DC05 DC06 DC08 DD01 DD03 DH03

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式［I］を有するイソオキサゾリン誘
    導体又はその薬理上許容される塩： 【化１】 式中、 Ｒ1及びＲ2は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ1
    0アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基又はＣ3〜Ｃ8
    シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、或いはＲ
    1とＲ2とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と
    共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、 Ｒ3及びＲ4は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ1〜Ｃ1
    0アルキル基又はＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を示すか、
    或いはＲ3とＲ4とが一緒になって、これらの結合した炭
    素原子と共にＣ3〜Ｃ7のスピロ環を示し、さらにＲ1、
    Ｒ2、Ｒ3及びＲ4はこれらの結合した炭素原子と共に５
    〜８員環を形成することもでき、 Ｒ5及びＲ6は、同一又は相異なって、水素原子又はＣ1
    〜Ｃ10アルキル基を示し、 Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任
    意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環基又
    は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環基は
    置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相異な
    る基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキル基
    同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、
    アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルス
    ルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はア
    ルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個
    のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成さ
    れていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ原子
    が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよ
    く、 ｎは０〜２の整数を示す。 「置換基群α」水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ
    1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意の
    基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハ
    ロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ10
    アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモ
    ノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロア
    ルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ基、Ｃ3〜
    Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ
    10アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基
    でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ4
    ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6
    アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ2〜Ｃ6
    アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル
    基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換され
    たＣ1〜Ｃ10アルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
    ルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基で
    モノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜
    Ｃ4ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択
    される任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルス
    ルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル
    基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4
    ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよ
    いフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置
    換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていても
    よい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘ
    テロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環
    チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル
    基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換
    されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換さ
    れていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル
    基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置換されてい
    てもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよい
    ベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ
    カルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカ
    ルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニ
    ル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同
    一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されて
    いてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ
    1〜Ｃ6アシルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニ
    ルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニル
    オキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、
    ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なっ
    て、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェ
    ニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカル
    ボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル
    基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10ア
    ルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル
    基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置
    換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されて
    いてもよい。） 「置換基群β」水酸基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基（該
    基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよ
    い）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ
    基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
    キシカルボニル基、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル基、アミノ
    基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10ア
    ルキル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカ
    ルボニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ
    4ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよ
    い）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異な
    って、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で置換されていてもよ
    い）、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボ
    ニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシイミノ基、シアノ基、置
    換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
    フェノキシ基 「置換基群γ」Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置
    換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
    芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の
    窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基で
    置換されていてもよい。）
  2. 【請求項２】０〜６個の同一又は相異なる基で置換され
    ていてもよいヘテロ環上の置換基群αが水酸基、ハロゲ
    ン原子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択さ
    れる任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、
    Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、
    Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換基群γより選択される任
    意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜
    Ｃ4ハロアルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルオキシ
    基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキルオキシ
    基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ基、置換基群γより選択さ
    れる任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキルチオ
    基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル
    基、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルオキシ基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル
    基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキル
    スルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置
    換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい
    フェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、
    置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されてい
    てもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよ
    い芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニ
    ルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環
    スルホニル基、Ｃ1〜Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキ
    ルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボ
    ニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキ
    シル基、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ
    基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なっ
    て、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいフ
    ェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミ
    ノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ1〜
    Ｃ6アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置
    換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されて
    いてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されて
    いてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていても
    よいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
    であるか、或いは隣接したアルキル基同士、アルコキシ
    基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアル
    キルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アル
    キル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアル
    キルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で
    置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよい請
    求項１記載のイソオキサゾリン誘導体。
  3. 【請求項３】０〜６個の同一又は相異なる基で置換され
    ていてもよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、
    Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ1〜
    Ｃ10アルコキシＣ1〜Ｃ3アルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロア
    ルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換さ
    れてもよい）、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ4ハロ
    アルコキシ基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキルＣ1〜Ｃ3アルキ
    ルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ1
    〜Ｃ10アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル
    基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、Ｃ
    1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバ
    モイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ1〜Ｃ1
    0アルキル基で置換されていてもよい）である請求項２
    記載のイソオキサゾリン誘導体。
  4. 【請求項４】Ｒ1及びＲ2が、同一又は異なってメチル基
    もしくはエチル基、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6が水素原子で
    ある請求項１、２又は３記載のイソオキサゾリン誘導
    体。
  5. 【請求項５】Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より
    選択される任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環
    の芳香族ヘテロ環基である請求項１、２、３又は４記載
    のイソオキサゾリン誘導体。
  6. 【請求項６】Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサ
    ゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジ
    ニル基である請求項５記載のイソオキサゾリン誘導体。
  7. 【請求項７】Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール
    −４−イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾ
    ール−４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリ
    ジン−３−イル基又はピリミジン−５−イル基である請
    求項６記載のイソオキサゾリン誘導体。
  8. 【請求項８】Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群
    αがチオフェン環の２及び４位に必ず置換した請求項７
    記載のイソオキサゾリン誘導体。
  9. 【請求項９】Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群
    αがピラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原
    子、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される
    任意の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜
    Ｃ4ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜
    Ｃ6アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10ア
    ルキルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル
    基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換され
    たＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアル
    キルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、
    置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されてい
    てもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい
    芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロ
    アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジル
    カルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ
    1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよ
    いベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよい
    フェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素
    原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置
    換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよ
    い）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、
    Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル
    基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置
    換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されて
    いてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されて
    いてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていても
    よいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が
    必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体
  10. 【請求項１０】Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基
    群αがピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、
    Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換基群βより選択される任意
    の基でモノ置換されたＣ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4
    ハロアルキル基、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル基、Ｃ2〜Ｃ6
    アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル基、Ｃ1〜Ｃ10アル
    キルスルフィニル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニル
    基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換され
    たＣ1〜Ｃ10アルキルスルホニル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアル
    キルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、
    置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されてい
    てもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい
    芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロ
    アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジル
    カルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ
    1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基、置換されていてもよ
    いベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよい
    フェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素
    原子は同一又は異なって、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基又は置
    換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよ
    い）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、
    Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、置換されていてもよいフェニル
    基、アシル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルカルボニル基、置
    換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されて
    いてもよいベンゾイル基、Ｃ1〜Ｃ10アルキルスルホニ
    ル基、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル基、置換されて
    いてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていても
    よいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が
    必ず置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
  11. 【請求項１１】Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、
    置換基群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず
    置換した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
  12. 【請求項１２】Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置
    換基群αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換
    した請求項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
  13. 【請求項１３】Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群
    αがピリジン環の２位及び４位に必ず置換した請求項７
    記載のイソオキサゾリン誘導体。
  14. 【請求項１４】Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基
    群αがピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した請求
    項７記載のイソオキサゾリン誘導体。
  15. 【請求項１５】ｎが２の整数である請求項１〜１４のい
    ずれかに記載のイソオキサゾリン誘導体。
  16. 【請求項１６】ｎが１の整数である請求項のいずれかに
    １〜１４記載のイソオキサゾリン誘導体。
  17. 【請求項１７】ｎが０の整数である請求項のいずれかに
    １〜１４記載のイソオキサゾリン誘導体。
  18. 【請求項１８】請求項１〜１７のいずれかに記載のイソ
    オキサゾリン誘導体又は薬理上許容される塩を有効成分
    として含有する除草剤。
  19. 【請求項１９】請求項１６及び請求項１７に記載のイソ
    オキサゾリン誘導体又は、請求項１５に記載のイソオキ
    サゾリン誘導体の製造中間体。
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