JP2002267840A - 光学補償シート、偏光板、楕円偏光板および液晶表示装置 - Google Patents
光学補償シート、偏光板、楕円偏光板および液晶表示装置Info
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示ムラが起こりにくい光学補償シートを提
供すること。 【解決手段】 熱収縮開始温度が１３０℃以上１９０℃
以下であるポリマーフイルムを有することを特徴とする
光学補償シート。
供すること。 【解決手段】 熱収縮開始温度が１３０℃以上１９０℃
以下であるポリマーフイルムを有することを特徴とする
光学補償シート。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリマーフイルム
を有する光学補償シート、それを用いた偏光板および液
晶表示装置に関する。
を有する光学補償シート、それを用いた偏光板および液
晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】セルロースアセテートフイルムは、その
強靭性と難燃性から各種の写真材料や光学材料に用いら
れている。セルロースアセテートフイルムは、代表的な
写真感光材料の支持体である。また、セルロースアセテ
ートフイルムは、液晶表示装置にも用いられている。セ
ルロースアセテートフイルムには、他のポリマーフイル
ムと比較して、光学的等方性が高い（レターデーション
値が低い）との特徴がある。従って、光学的等方性が要
求される用途、例えば偏光板には、セルロースアセテー
トフイルムを用いることが普通である。液晶表示装置の
光学補償シート（位相差フイルム）には、逆に光学的異
方性（高いレターデーション値）が要求される。従っ
て、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフイル
ムやポリスルホンフイルムのようなレターデーション値
が高い合成ポリマーフイルムを用いることが普通であ
る。
強靭性と難燃性から各種の写真材料や光学材料に用いら
れている。セルロースアセテートフイルムは、代表的な
写真感光材料の支持体である。また、セルロースアセテ
ートフイルムは、液晶表示装置にも用いられている。セ
ルロースアセテートフイルムには、他のポリマーフイル
ムと比較して、光学的等方性が高い（レターデーション
値が低い）との特徴がある。従って、光学的等方性が要
求される用途、例えば偏光板には、セルロースアセテー
トフイルムを用いることが普通である。液晶表示装置の
光学補償シート（位相差フイルム）には、逆に光学的異
方性（高いレターデーション値）が要求される。従っ
て、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフイル
ムやポリスルホンフイルムのようなレターデーション値
が高い合成ポリマーフイルムを用いることが普通であ
る。
【０００３】以上のように光学材料の技術分野では、ポ
リマーフイルムに光学的異方性（高いレターデーション
値）が要求される場合には合成ポリマーフイルムを使用
し、光学的等方性（低いレターデーション値）が要求さ
れる場合にはセルロースアセテートフイルムを使用する
ことが一般的な原則であった。欧州特許０９１１６５６
Ａ２号明細書には、従来の一般的な原則を覆して、光学
的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデ
ーション値を有するセルロースアセテートフイルムが開
示されている。
リマーフイルムに光学的異方性（高いレターデーション
値）が要求される場合には合成ポリマーフイルムを使用
し、光学的等方性（低いレターデーション値）が要求さ
れる場合にはセルロースアセテートフイルムを使用する
ことが一般的な原則であった。欧州特許０９１１６５６
Ａ２号明細書には、従来の一般的な原則を覆して、光学
的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデ
ーション値を有するセルロースアセテートフイルムが開
示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、表示
ムラが起こりにくい光学補償シートを提供することであ
る。
ムラが起こりにくい光学補償シートを提供することであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１６）、（２２）の光学補償シート、下記
（１７）の偏光板、下記（１８）〜（２１）、（２５）
の液晶表示装置および下記（２３）、（２４）の楕円偏
光板により達成された。
（１）〜（１６）、（２２）の光学補償シート、下記
（１７）の偏光板、下記（１８）〜（２１）、（２５）
の液晶表示装置および下記（２３）、（２４）の楕円偏
光板により達成された。
【０００６】（１）熱収縮開始温度が１３０℃以上１９
０℃以下であるポリマーフイルムを有することを特徴と
する光学補償シート。 （２）ポリマーフイルムが延伸されており、ポリマーフ
イルムの遅相軸と延伸方向との間の軸ズレ角の面内の平
均値が３°以内であり、かつ軸ズレ角のレンジが５°以
下である（１）に記載の光学補償シート。
０℃以下であるポリマーフイルムを有することを特徴と
する光学補償シート。 （２）ポリマーフイルムが延伸されており、ポリマーフ
イルムの遅相軸と延伸方向との間の軸ズレ角の面内の平
均値が３°以内であり、かつ軸ズレ角のレンジが５°以
下である（１）に記載の光学補償シート。
【０００７】（３）ポリマーフイルムの破断伸度が１０
％以上３０％以下である（１）に記載の光学補償シー
ト。 （４）ポリマーフイルムの破断強度が１１ｋｇ／ｍｍ2
以上２０ｋｇ／ｍｍ2以下である（１）に記載の光学補
償シート。
％以上３０％以下である（１）に記載の光学補償シー
ト。 （４）ポリマーフイルムの破断強度が１１ｋｇ／ｍｍ2
以上２０ｋｇ／ｍｍ2以下である（１）に記載の光学補
償シート。
【０００８】（５）下記式（Ｉ）で定義されるＲｅレタ
ーデーション値が２０乃至７０ｎｍである（１）に記載
の光学補償シート。 （Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。 （６）Ｒｅのレンジが０％以上１０％以下である（５）
に記載の光学補償シート。
ーデーション値が２０乃至７０ｎｍである（１）に記載
の光学補償シート。 （Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。 （６）Ｒｅのレンジが０％以上１０％以下である（５）
に記載の光学補償シート。
【０００９】（７）下記式（II）で定義されるＲthレタ
ーデーション値が７０乃至４００ｎｍである（１）に記
載の光学補償シート。 （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。 （８）Ｒthのレンジが０％以上１０％以下である（７）
に記載の光学補償シート。
ーデーション値が７０乃至４００ｎｍである（１）に記
載の光学補償シート。 （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。 （８）Ｒthのレンジが０％以上１０％以下である（７）
に記載の光学補償シート。
【００１０】（９）ポリマーフイルムが、３乃至５０％
の延伸倍率で幅方向に延伸されている（１）に記載の光
学補償シート。 （１０）ポリマーフイルムが、セルロースアセテートか
らなる（１）に記載の光学補償シート。
の延伸倍率で幅方向に延伸されている（１）に記載の光
学補償シート。 （１０）ポリマーフイルムが、セルロースアセテートか
らなる（１）に記載の光学補償シート。
【００１１】（１１）セルロースアセテートが、５９．
０乃至６１．５％の酢化度を有する（１０）に記載の光
学補償シート。 （１２）セルロースアセテートが、３０％以上４０％以
下の６位置換率を有する（１０）に記載の光学補償シー
ト。
０乃至６１．５％の酢化度を有する（１０）に記載の光
学補償シート。 （１２）セルロースアセテートが、３０％以上４０％以
下の６位置換率を有する（１０）に記載の光学補償シー
ト。
【００１２】（１３）ポリマーフイルムが、セルロース
アセテートに加えて、少なくとも二つの芳香族環を有す
る芳香族化合物を含む（１０）に記載の光学補償シー
ト。 （１４）セルロースアセテート１００質量部に対して、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．
０１乃至２０質量部含む（１３）に記載の光学補償シー
ト。 （１５）芳香族化合物が、少なくとも一つの１，３，５
−トリアジン環を有する（１３）に記載の光学補償シー
ト。 （１６）アルカリ溶液を塗布することにより、ポリマー
フイルムの少なくとも片面がケン化されている（１０）
に記載の光学補償シート。
アセテートに加えて、少なくとも二つの芳香族環を有す
る芳香族化合物を含む（１０）に記載の光学補償シー
ト。 （１４）セルロースアセテート１００質量部に対して、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．
０１乃至２０質量部含む（１３）に記載の光学補償シー
ト。 （１５）芳香族化合物が、少なくとも一つの１，３，５
−トリアジン環を有する（１３）に記載の光学補償シー
ト。 （１６）アルカリ溶液を塗布することにより、ポリマー
フイルムの少なくとも片面がケン化されている（１０）
に記載の光学補償シート。
【００１３】（１７）偏光膜およびその両側に配置され
た二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護
膜の一方が（１）に記載の光学補償シートであり、さら
に該光学補償シートの遅相軸の平均方向と偏光膜の透過
軸のなす角度の絶対値が３°以下になるように配置され
ていることを特徴とする偏光板。
た二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護
膜の一方が（１）に記載の光学補償シートであり、さら
に該光学補償シートの遅相軸の平均方向と偏光膜の透過
軸のなす角度の絶対値が３°以下になるように配置され
ていることを特徴とする偏光板。
【００１４】（１８）液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚
の透明保護膜の一方が、（１）に記載の光学補償シート
であり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方向と
偏光膜の透過軸のなす角度の絶対値が３°以下になるよ
うに配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 （１９）液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモードまたはｎ
−ＡＳＭモードの液晶セルである（１８）に記載の液晶
表示装置。
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚
の透明保護膜の一方が、（１）に記載の光学補償シート
であり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方向と
偏光膜の透過軸のなす角度の絶対値が３°以下になるよ
うに配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 （１９）液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモードまたはｎ
−ＡＳＭモードの液晶セルである（１８）に記載の液晶
表示装置。
【００１５】（２０）液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚
の透明保護膜が、それぞれ、（１）に記載の光学補償シ
ートであり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方
向と該光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸のなす
角度の絶対値の和が３°以下になるように配置されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 （２１）液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモードまたはｎ
−ＡＳＭモードの液晶セルである（２０）に記載の液晶
表示装置。
れた二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその
両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装
置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚
の透明保護膜が、それぞれ、（１）に記載の光学補償シ
ートであり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方
向と該光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸のなす
角度の絶対値の和が３°以下になるように配置されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 （２１）液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモードまたはｎ
−ＡＳＭモードの液晶セルである（２０）に記載の液晶
表示装置。
【００１６】（２２）（１）乃至（１６）のいずれか一
つに記載のポリマーフイルム上にさらに円盤状化合物を
含む光学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償シ
ート。 （２３）偏光膜およびその両側に配置された２枚の透明
保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が
（２２）に記載の光学補償シートであることを特徴とす
る楕円偏光板。 （２４）偏光膜およびその両側に配置された３枚以上の
透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜のうち
の１枚が（２２）に記載の光学補償シートであり、少な
くとも１枚が（１）乃至（１６）のいずれか一つに記載
の光学補償シートであることを特徴とする楕円偏光板。
つに記載のポリマーフイルム上にさらに円盤状化合物を
含む光学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償シ
ート。 （２３）偏光膜およびその両側に配置された２枚の透明
保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が
（２２）に記載の光学補償シートであることを特徴とす
る楕円偏光板。 （２４）偏光膜およびその両側に配置された３枚以上の
透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜のうち
の１枚が（２２）に記載の光学補償シートであり、少な
くとも１枚が（１）乃至（１６）のいずれか一つに記載
の光学補償シートであることを特徴とする楕円偏光板。
【００１７】（２５）ベンド配向モードの液晶セルおよ
び液晶セルの両側に配置された一対の楕円偏光板であっ
て、楕円偏光板が（２３）または（２４）に記載の楕円
偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
び液晶セルの両側に配置された一対の楕円偏光板であっ
て、楕円偏光板が（２３）または（２４）に記載の楕円
偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
【００１８】
【発明の効果】本発明者の研究によれば、光学補償シー
トを備えた液晶表示装置に通電してから時間が経過する
と、画面周辺部に表示ムラが発生することがある。本発
明者が、表示ムラを詳細に検討したところ、画面周辺部
の透過率の上昇によってムラが生じていることが判明し
た。表示ムラは、黒表示において顕著である。本発明者
が、表示ムラの原因について研究を進めた結果、光学補
償シートを液晶セルに張り付けた時に、微妙に存在する
張力ムラが原因となっていることが判明した。光学補償
シートを液晶セルにぴったりと張り付けることができれ
ば、張力ムラ、そして、それを原因とする表示ムラを解
消することができる。しかし、実際の液晶表示装置の生
産工程において、そのように正確に光学補償シートを貼
り付けることは、非常に困難である。
トを備えた液晶表示装置に通電してから時間が経過する
と、画面周辺部に表示ムラが発生することがある。本発
明者が、表示ムラを詳細に検討したところ、画面周辺部
の透過率の上昇によってムラが生じていることが判明し
た。表示ムラは、黒表示において顕著である。本発明者
が、表示ムラの原因について研究を進めた結果、光学補
償シートを液晶セルに張り付けた時に、微妙に存在する
張力ムラが原因となっていることが判明した。光学補償
シートを液晶セルにぴったりと張り付けることができれ
ば、張力ムラ、そして、それを原因とする表示ムラを解
消することができる。しかし、実際の液晶表示装置の生
産工程において、そのように正確に光学補償シートを貼
り付けることは、非常に困難である。
【００１９】本発明者は、さらに研究を進め、液晶表示
装置に付属しているバックライトからの熱で光学補償シ
ートを適度に収縮させ、それにより張力ムラを解消する
ことを試みた。ただし、そのためには、光学補償シート
を構成するポリマーフイルムが適度に熱収縮する必要が
ある。ほとんど熱収縮しないポリマーフイルムでは、張
力ムラを解消することはできない。また、ポリマーフイ
ルムが大幅に熱収縮しても、過度の収縮による別の張力
ムラが発生してしまう。本発明者が従来のポリマーフイ
ルムからなる光学補償シートを検討したところ、合成ポ
リマーフイルムからなる光学補償シートは熱収縮が不足
し、セルロースアセテートフイルムからなる光学補償シ
ートでは熱収縮が過剰であった。
装置に付属しているバックライトからの熱で光学補償シ
ートを適度に収縮させ、それにより張力ムラを解消する
ことを試みた。ただし、そのためには、光学補償シート
を構成するポリマーフイルムが適度に熱収縮する必要が
ある。ほとんど熱収縮しないポリマーフイルムでは、張
力ムラを解消することはできない。また、ポリマーフイ
ルムが大幅に熱収縮しても、過度の収縮による別の張力
ムラが発生してしまう。本発明者が従来のポリマーフイ
ルムからなる光学補償シートを検討したところ、合成ポ
リマーフイルムからなる光学補償シートは熱収縮が不足
し、セルロースアセテートフイルムからなる光学補償シ
ートでは熱収縮が過剰であった。
【００２０】本発明者の研究の結果、熱収縮開始温度が
１３０℃以上１９０℃以下であるポリマーフイルムなら
ば、適度の熱収縮が得られることが判明した。従来の合
成ポリマーフイルムからなる光学補償シートは、熱収縮
開始温度が１９０℃を越えており、熱収縮が不足して
た。また、従来のセルロースアセテートフイルムからな
る光学補償シートは、熱収縮温度が１３０℃に達せず、
熱収縮が過剰であった。本発明者は、さらに研究を進め
て、合成ポリマーフイルムとセルロースアセテートフイ
ルムとの双方について、熱収縮開始温度を調節すること
に成功した。すなわち、本発明によれば、適度に熱収縮
するポリマーフイルムからなる光学補償シートが得られ
る。この光学補償シートを用いることで、表示ムラが起
こりにくい鮮明な画像を表示することができる。
１３０℃以上１９０℃以下であるポリマーフイルムなら
ば、適度の熱収縮が得られることが判明した。従来の合
成ポリマーフイルムからなる光学補償シートは、熱収縮
開始温度が１９０℃を越えており、熱収縮が不足して
た。また、従来のセルロースアセテートフイルムからな
る光学補償シートは、熱収縮温度が１３０℃に達せず、
熱収縮が過剰であった。本発明者は、さらに研究を進め
て、合成ポリマーフイルムとセルロースアセテートフイ
ルムとの双方について、熱収縮開始温度を調節すること
に成功した。すなわち、本発明によれば、適度に熱収縮
するポリマーフイルムからなる光学補償シートが得られ
る。この光学補償シートを用いることで、表示ムラが起
こりにくい鮮明な画像を表示することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】［熱収縮開始温度］熱収縮開始温
度は、１３０℃以上１９０℃以下である。熱収縮開始温
度は、１４０℃以上１８０℃以下であることが好まし
く、１４０℃以上１７０℃以下であることがさらに好ま
しい。熱収縮開始温度は、ＴＭＡ(Thermal Mechanical
Analyzer）を用いて測定できる。具体的には、ポリマー
フイルムを昇温しながら延伸方向のサンプルの寸法を測
長し、原長に対し２％収縮した温度を調べる。このよう
な熱収縮開始温度は、後述する製造方法の（延伸法を含
む）条件調整により達成できる。
度は、１３０℃以上１９０℃以下である。熱収縮開始温
度は、１４０℃以上１８０℃以下であることが好まし
く、１４０℃以上１７０℃以下であることがさらに好ま
しい。熱収縮開始温度は、ＴＭＡ(Thermal Mechanical
Analyzer）を用いて測定できる。具体的には、ポリマー
フイルムを昇温しながら延伸方向のサンプルの寸法を測
長し、原長に対し２％収縮した温度を調べる。このよう
な熱収縮開始温度は、後述する製造方法の（延伸法を含
む）条件調整により達成できる。
【００２２】［破断伸度・強度］ポリマーフイルムの破
断伸度は１０％以上３０％以下が好ましく、より好まし
くは１５％以上２９％以下、さらに好ましくは２０％以
上２８％以下である。破断強度は１１ｋｇ／ｍ2 以上２
０ｋｇ／ｍ2 以下が好ましく、より好ましくは１２ｋｇ
／ｍ2 以上１９ｋｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１３
ｋｇ／ｍ2 以上１８ｋｇ／ｍ2 以下である。破断伸度・
強度とは、サンプルを延伸方向(２軸に延伸した場合は
より高倍率な方向)に切り出し、を２５℃６０％ＲＨで
１０％／分で引っ張ったときに破断する長さ、強度（荷
重を引張試験前のサンプルの断面積で割った値）であ
る。光学補償シートは、裁断し液晶セルに張り付けて使
用する。裁断から張り付けにおいて発生する裁断屑やバ
リが、光学補償シートや液晶セルに付着し、これが液晶
を黒表示したときに夜空の星状に輝点となる「輝点故
障」の原因になる。上記の破断伸度・強度を有するポリ
マーフイルムを光学補償シートとして用いることで、輝
点故障を大幅に軽減できる。
断伸度は１０％以上３０％以下が好ましく、より好まし
くは１５％以上２９％以下、さらに好ましくは２０％以
上２８％以下である。破断強度は１１ｋｇ／ｍ2 以上２
０ｋｇ／ｍ2 以下が好ましく、より好ましくは１２ｋｇ
／ｍ2 以上１９ｋｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１３
ｋｇ／ｍ2 以上１８ｋｇ／ｍ2 以下である。破断伸度・
強度とは、サンプルを延伸方向(２軸に延伸した場合は
より高倍率な方向)に切り出し、を２５℃６０％ＲＨで
１０％／分で引っ張ったときに破断する長さ、強度（荷
重を引張試験前のサンプルの断面積で割った値）であ
る。光学補償シートは、裁断し液晶セルに張り付けて使
用する。裁断から張り付けにおいて発生する裁断屑やバ
リが、光学補償シートや液晶セルに付着し、これが液晶
を黒表示したときに夜空の星状に輝点となる「輝点故
障」の原因になる。上記の破断伸度・強度を有するポリ
マーフイルムを光学補償シートとして用いることで、輝
点故障を大幅に軽減できる。
【００２３】［フイルムのレターデーション］フイルム
のＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション
値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義され
る。 （Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ 式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内
の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率であ
る。式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム
面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率
である。式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式（Ｉ）および（II）において、ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。
のＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション
値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義され
る。 （Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ 式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内
の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率であ
る。式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム
面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率
である。式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式（Ｉ）および（II）において、ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。
【００２４】ポリマーフイルムのＲｅレターデーション
値は、２０乃至７０ｎｍであることが好ましい。ポリマ
ーフイルムのＲthのレターデーション値は、７０乃至４
００ｎｍであることが好ましい。液晶表示装置に二枚の
光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイル
ムのＲthレターデーション値は７０乃至２００ｎｍであ
ることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異方性
ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレタ
ーデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好
ましい。さらにＲｅ、Ｒthのレンジは、０％以上１０％
以下であることが好ましく、より好ましくは０％以上８
％以下、さらに好ましくは０％以上５％以下である。な
お、ポリマーフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）
は、０．０００２５乃至０．０００８８であることが好
ましい。また、これらのフイルムの厚み方向の複屈折率
｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．０００８８乃至
０．００５であることが好ましい。
値は、２０乃至７０ｎｍであることが好ましい。ポリマ
ーフイルムのＲthのレターデーション値は、７０乃至４
００ｎｍであることが好ましい。液晶表示装置に二枚の
光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイル
ムのＲthレターデーション値は７０乃至２００ｎｍであ
ることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異方性
ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレタ
ーデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好
ましい。さらにＲｅ、Ｒthのレンジは、０％以上１０％
以下であることが好ましく、より好ましくは０％以上８
％以下、さらに好ましくは０％以上５％以下である。な
お、ポリマーフイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）
は、０．０００２５乃至０．０００８８であることが好
ましい。また、これらのフイルムの厚み方向の複屈折率
｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．０００８８乃至
０．００５であることが好ましい。
【００２５】[フイルムの遅相軸角度]フイルム面内にお
ける遅相軸の角度（軸ズレ）は、延伸方向を基準線（０
°）とし、遅相軸と基準線のなす角度で定義する。ここ
で、ロール形態のフイルムを幅方向に延伸する時は幅方
向を基準線とし、長手方向に延伸する時は長手方向を基
準線とする。遅相軸角度（軸ズレ）の平均値は３°以下
であることが好ましく、２°以下であることがさらに好
ましく、１°以下であることが最も好ましい。遅相軸角
度の平均値の方向を遅相軸の平均方向と定義する。ま
た、遅相軸角度(軸ズレ)のレンジは５゜以下であること
が好ましく、３゜以下であることがにさら好ましく、２
゜以下であることが最も好ましい。レンジとは、幅方向
全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値
の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平
均の差をとったものである。
ける遅相軸の角度（軸ズレ）は、延伸方向を基準線（０
°）とし、遅相軸と基準線のなす角度で定義する。ここ
で、ロール形態のフイルムを幅方向に延伸する時は幅方
向を基準線とし、長手方向に延伸する時は長手方向を基
準線とする。遅相軸角度（軸ズレ）の平均値は３°以下
であることが好ましく、２°以下であることがさらに好
ましく、１°以下であることが最も好ましい。遅相軸角
度の平均値の方向を遅相軸の平均方向と定義する。ま
た、遅相軸角度(軸ズレ)のレンジは５゜以下であること
が好ましく、３゜以下であることがにさら好ましく、２
゜以下であることが最も好ましい。レンジとは、幅方向
全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値
の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平
均の差をとったものである。
【００２６】［フイルムに使用するポリマー］液晶セル
に組み込んだ時にバックライト光源からの熱を逃がすた
めに、光学補償シートに熱伝導率が高いポリマーフイル
ムを使用することが好ましい。熱伝導率が高いポリマー
としては、セルロースアセテート（０．２２Ｗ／ｍ・
℃）、低密度ポリエチレン（０．３４Ｗ／ｍ・℃）、Ａ
ＢＳ（０．３６Ｗ／ｍ・℃）、ポリカーボネート（０．
１９Ｗ／ｍ・℃）が好ましい。環状オレフィンポリマー
である、ＺＥＯＮＥＸ（０．２０Ｗ／ｍ・℃、日本ゼオ
ン（株）製）、ＺＥＯＮＯＲ（０．２０Ｗ／ｍ・℃、日
本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（０．２０Ｗ／ｍ・
℃、ＪＳＲ（株）製）も好ましい。これらの中で、より
好ましいのがセルロースエステルフイルムであり、さら
に好ましいのがセルロースアセテートフイルムである。
この中でも、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセ
ルロースアセテートが好ましい。酢化度とは、セルロー
ス単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、
ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等
の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従
う。
に組み込んだ時にバックライト光源からの熱を逃がすた
めに、光学補償シートに熱伝導率が高いポリマーフイル
ムを使用することが好ましい。熱伝導率が高いポリマー
としては、セルロースアセテート（０．２２Ｗ／ｍ・
℃）、低密度ポリエチレン（０．３４Ｗ／ｍ・℃）、Ａ
ＢＳ（０．３６Ｗ／ｍ・℃）、ポリカーボネート（０．
１９Ｗ／ｍ・℃）が好ましい。環状オレフィンポリマー
である、ＺＥＯＮＥＸ（０．２０Ｗ／ｍ・℃、日本ゼオ
ン（株）製）、ＺＥＯＮＯＲ（０．２０Ｗ／ｍ・℃、日
本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（０．２０Ｗ／ｍ・
℃、ＪＳＲ（株）製）も好ましい。これらの中で、より
好ましいのがセルロースエステルフイルムであり、さら
に好ましいのがセルロースアセテートフイルムである。
この中でも、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセ
ルロースアセテートが好ましい。酢化度とは、セルロー
ス単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、
ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等
の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従
う。
【００２７】セルロースには、酢酸とエステル化反応で
きる水酸基が、一つのグルコース単位当たり３個（２
位、３位、６位）存在する。６位の置換率は、３０％以
上４０％以下が好ましく、３１％以上３９％以下がさら
に好ましく、３２％以上３８％以下が最も好ましい。セ
ルロースアセテートの２位、３位および６位の水酸基
は、均等にアセチル化しない。６位の水酸基のアセチル
化度は、２位および３位に比べて少ないことが普通であ
る。６位置換率は、通常２８％体でおである。６位のア
セチル化率を上記のように大きな値にすると、フイルム
の延伸中に発生する白化故障を抑制することができる。
セルロースアセテートは、剛直なグルコピラノース環構
造のため破断しやすい。そのため、セルロースアセテー
トは、延伸性が良好なポリエステルと比較すると、破断
伸度が１／１０程度しかない。その結果、延伸に伴って
白化故障が発生する。これは、延伸中に剛直な分子が切
断され、クレーズを発生し白化するものである。このよ
うな白化故障は、幅方向で差があり、中央部の方が端部
よりも発生しやすい。これは、中央部の方が延伸倍率が
大きくなりやすいためである。白化により生じるヘイズ
の差は、光学補償シートが液晶表示装置に組み込まれる
と、輝度のムラになる。すなわち、ヘイズの高いところ
の輝度が低下して見える。
きる水酸基が、一つのグルコース単位当たり３個（２
位、３位、６位）存在する。６位の置換率は、３０％以
上４０％以下が好ましく、３１％以上３９％以下がさら
に好ましく、３２％以上３８％以下が最も好ましい。セ
ルロースアセテートの２位、３位および６位の水酸基
は、均等にアセチル化しない。６位の水酸基のアセチル
化度は、２位および３位に比べて少ないことが普通であ
る。６位置換率は、通常２８％体でおである。６位のア
セチル化率を上記のように大きな値にすると、フイルム
の延伸中に発生する白化故障を抑制することができる。
セルロースアセテートは、剛直なグルコピラノース環構
造のため破断しやすい。そのため、セルロースアセテー
トは、延伸性が良好なポリエステルと比較すると、破断
伸度が１／１０程度しかない。その結果、延伸に伴って
白化故障が発生する。これは、延伸中に剛直な分子が切
断され、クレーズを発生し白化するものである。このよ
うな白化故障は、幅方向で差があり、中央部の方が端部
よりも発生しやすい。これは、中央部の方が延伸倍率が
大きくなりやすいためである。白化により生じるヘイズ
の差は、光学補償シートが液晶表示装置に組み込まれる
と、輝度のムラになる。すなわち、ヘイズの高いところ
の輝度が低下して見える。
【００２８】６位の酢化度を高い値にすると、破断伸度
が伸びて、白化故障を小さくできる。２位、３位の水酸
基はグルコピラノース環に直接付いているが、６位の水
酸基はメチレン基を介して環に付いている。よって、６
位を置換したアセチル基は、他のアセチル基よりも運動
性が大きく、他の分子と絡み合いを生じやすい。６位の
アセチル基が他の分子と絡み合う構造が、弱い架橋構造
として機能し、破断を抑制し、白化故障を低減している
と推定される。６位酢化度が高いセルロースアセテート
は、特開平１１−５８５１号公報の記載（段落番号００
１１〜００２２の記載、段落番号００４３〜００４４、
００４８〜００４９および００５１〜００５２の合成例
１〜３）を参照して調製することができる。
が伸びて、白化故障を小さくできる。２位、３位の水酸
基はグルコピラノース環に直接付いているが、６位の水
酸基はメチレン基を介して環に付いている。よって、６
位を置換したアセチル基は、他のアセチル基よりも運動
性が大きく、他の分子と絡み合いを生じやすい。６位の
アセチル基が他の分子と絡み合う構造が、弱い架橋構造
として機能し、破断を抑制し、白化故障を低減している
と推定される。６位酢化度が高いセルロースアセテート
は、特開平１１−５８５１号公報の記載（段落番号００
１１〜００２２の記載、段落番号００４３〜００４４、
００４８〜００４９および００５１〜００５２の合成例
１〜３）を参照して調製することができる。
【００２９】セルロースアセテートの粘度平均重合度
（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０
以上であることがさらに好ましい。また、セルロースア
セテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
によるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平
均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的
なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．００乃至１．７０であ
ることが好ましく、１．３０乃至１．６５であることが
さらに好ましく、１．４０乃至１．６０であることが最
も好ましい。
（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０
以上であることがさらに好ましい。また、セルロースア
セテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
によるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平
均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的
なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．００乃至１．７０であ
ることが好ましく、１．３０乃至１．６５であることが
さらに好ましく、１．４０乃至１．６０であることが最
も好ましい。
【００３０】［レターデーション上昇剤］セルロースア
セテートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用することができる。芳香
族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対し
て、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用する。芳香族
化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対し
て、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することが好
ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することが
さらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用して
もよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素
環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
セテートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用することができる。芳香
族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対し
て、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用する。芳香族
化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対し
て、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することが好
ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することが
さらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用して
もよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素
環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００３１】芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環または７員環であることが好まし
く、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原
子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、
オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、
イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フ
ラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピ
リダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，
５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベン
ゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および
１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環およ
び１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族
化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環
を有することが特に好ましい。
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環または７員環であることが好まし
く、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原
子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、
オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、
イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フ
ラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピ
リダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，
５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベン
ゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および
１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環およ
び１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族
化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環
を有することが特に好ましい。
【００３２】芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２
乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であること
がより好ましく、２乃至８であることがさらに好まし
く、２乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）
単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合
する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれ
でもよい。
乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であること
がより好ましく、２乃至８であることがさらに好まし
く、２乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）
単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合
する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれ
でもよい。
【００３３】（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮
合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、イン
ドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾ
チオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール
環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベン
ゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメ
ン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キ
ナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジ
ン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、
フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フ
ェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン
環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、ア
ズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環およびキノリン環が好ましい。（ｂ）の単結合
は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好
ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、
二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環
を形成してもよい。
合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、イン
ドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾ
チオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール
環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベン
ゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメ
ン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キ
ナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジ
ン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、
フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フ
ェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン
環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、ア
ズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環およびキノリン環が好ましい。（ｂ）の単結合
は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好
ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、
二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環
を形成してもよい。
【００３４】（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ
−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 ｃ１：−ＣＯ−Ｏ− ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ− ｃ３：−アルキレン−Ｏ− ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ− ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ− ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ− ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ− ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン− ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ− ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ− ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ
−アルキレン− ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ＣＯ−アルキレン−Ｏ− ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ− ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン− ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ
−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 ｃ１：−ＣＯ−Ｏ− ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ− ｃ３：−アルキレン−Ｏ− ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ− ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ− ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ− ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ− ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン− ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ− ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ− ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ
−アルキレン− ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ＣＯ−アルキレン−Ｏ− ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ− ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン− ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【００３５】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。
【００３６】アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有して
いてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例
には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２
−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メト
キシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至
８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブ
チニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有して
いてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例
には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２
−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メト
キシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至
８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブ
チニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。
【００３７】脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１
０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコ
キシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至
１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコ
キシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至
１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。
【００３８】アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１
２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。、脂
肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含
まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の
例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド
およびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族
置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。
２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。、脂
肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含
まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の
例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド
およびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族
置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。
【００３９】レターデーション上昇剤の分子量は、３０
０乃至８００であることが好ましいレターデーション上
昇剤については、特開２０００−１１１９１４号、同２
０００−２７５４３４号の各公報およびＰＣＴ／ＪＰ０
０／０２６１９号明細書に記載がある。
０乃至８００であることが好ましいレターデーション上
昇剤については、特開２０００−１１１９１４号、同２
０００−２７５４３４号の各公報およびＰＣＴ／ＪＰ０
０／０２６１９号明細書に記載がある。
【００４０】［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイ
ルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法
では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液
（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、
炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃
至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルお
よび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選
ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンお
よびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ
−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上
有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を
有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶
媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有す
る化合物の規定範囲内であればよい。
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイ
ルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法
では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液
（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、
炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃
至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルお
よび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選
ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンお
よびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ
−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上
有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を
有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶
媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有す
る化合物の規定範囲内であればよい。
【００４１】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００４２】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好まし
くは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃
至１１０℃である。
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好まし
くは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃
至１１０℃である。
【００４３】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００４４】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。
【００４５】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間
で割った値である。
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間
で割った値である。
【００４６】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００４７】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒
により異なる。
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒
により異なる。
【００４８】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。
【００４９】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。
【００５０】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。
【００５１】［セルロースアセテートフイルムの延伸］
セルロースアセテートフイルムは、３乃至５０％の延伸
処理を行なうことが好ましい。延伸処理は、原反幅に対
し５乃至４０％であることが好ましく、７乃至３０％で
あることがさらに好ましい。また、延伸条件は、下記
〜、特に前熱処理と後熱処理とを採用することが
好ましい。
セルロースアセテートフイルムは、３乃至５０％の延伸
処理を行なうことが好ましい。延伸処理は、原反幅に対
し５乃至４０％であることが好ましく、７乃至３０％で
あることがさらに好ましい。また、延伸条件は、下記
〜、特に前熱処理と後熱処理とを採用することが
好ましい。
【００５２】延伸前の残留溶剤濃度 延伸開始前の残留溶剤濃度が、３質量％以上５０質量％
以下(ポリマー、残留溶剤の和に対する残留溶剤の比
率)、より好ましくは５質量％以上４０質量％、さらに
好ましくは７質量％以上３５質量％であることが好まし
い。このような延伸は、ドープを流延後、乾燥が不十分
(未乾燥)の状態でテンター内で延伸するのが好ましい。
以下(ポリマー、残留溶剤の和に対する残留溶剤の比
率)、より好ましくは５質量％以上４０質量％、さらに
好ましくは７質量％以上３５質量％であることが好まし
い。このような延伸は、ドープを流延後、乾燥が不十分
(未乾燥)の状態でテンター内で延伸するのが好ましい。
【００５３】延伸前の熱処理(前熱処理) 延伸に先だって５０℃以上１５０℃以下、より好ましく
は６０℃以上１４０℃以下、さらに好ましくは７０℃以
上１３０℃以下で、５秒以上３分以下、より好ましくは
１０秒以上２分以下、さらに好ましくは１５秒以上９０
秒以下熱処理(前熱処理)するのが好ましい。
は６０℃以上１４０℃以下、さらに好ましくは７０℃以
上１３０℃以下で、５秒以上３分以下、より好ましくは
１０秒以上２分以下、さらに好ましくは１５秒以上９０
秒以下熱処理(前熱処理)するのが好ましい。
【００５４】延伸速度 前熱処理に引き続き、ＴＤ(幅)方向に上記倍率延伸す
る。延伸は５〜３００％／分、より好ましくは１０〜２
００％／分、さらに好ましくは１５〜１５０％／分で実
施するのが好ましい。本発明は、このような低速で延伸
することを特徴としている。（通常のポリマーフイルム
(例えばポリエステル)は５００％／分以上の高速で延伸
するのが一般的である。このような延伸は８０℃以上１
６０℃以下、より好ましくは９０℃以上１５０℃以下、
さらに好ましくは１００℃以上１４５℃以下で行なうの
が好ましい。延伸にはテンターを用いてフイルム両端を
把持して行なうのが好ましい。
る。延伸は５〜３００％／分、より好ましくは１０〜２
００％／分、さらに好ましくは１５〜１５０％／分で実
施するのが好ましい。本発明は、このような低速で延伸
することを特徴としている。（通常のポリマーフイルム
(例えばポリエステル)は５００％／分以上の高速で延伸
するのが一般的である。このような延伸は８０℃以上１
６０℃以下、より好ましくは９０℃以上１５０℃以下、
さらに好ましくは１００℃以上１４５℃以下で行なうの
が好ましい。延伸にはテンターを用いてフイルム両端を
把持して行なうのが好ましい。
【００５５】延伸後の熱処理(後熱処理) 延伸の後、直ちに９０℃以上１５０℃以下、より好まし
くは１００℃以上１４５℃以下、さらに好ましくは１１
０℃以上１４０℃以下で、５秒以上３分以下、より好ま
しくは１０秒以上２分以下、さらに好ましくは１５秒以
上９０秒以下で熱処理(後熱処理)するのが好ましい。一
般的な延伸製膜法では、延伸後２００℃以上の温度で熱
固定するのが一般的であるが、本発明ではこのような高
温の熱処理を行わないことが特徴である。
くは１００℃以上１４５℃以下、さらに好ましくは１１
０℃以上１４０℃以下で、５秒以上３分以下、より好ま
しくは１０秒以上２分以下、さらに好ましくは１５秒以
上９０秒以下で熱処理(後熱処理)するのが好ましい。一
般的な延伸製膜法では、延伸後２００℃以上の温度で熱
固定するのが一般的であるが、本発明ではこのような高
温の熱処理を行わないことが特徴である。
【００５６】冷却緩和 延伸後室温に冷却するが、この間にテンター幅を原反幅
に対し１〜１０％、より好ましくは２〜９％、さらに好
ましくは２％以上８％以下縮め、弛緩させるのが好まし
い。冷却速度は１０〜３００℃／分で実施するのが好ま
しく、より好ましくは３０〜２５０℃／分、さらに好ま
しくは５０〜２００℃／分である。
に対し１〜１０％、より好ましくは２〜９％、さらに好
ましくは２％以上８％以下縮め、弛緩させるのが好まし
い。冷却速度は１０〜３００℃／分で実施するのが好ま
しく、より好ましくは３０〜２５０℃／分、さらに好ま
しくは５０〜２００℃／分である。
【００５７】端部スリットおよびこの再利用（再溶
解） この後、両端をスリットし巻き取るが、スリットした端
部を再度溶解しドープにして再利用するのが好ましい。
全セルロースアセテート中の再溶解セルロースアセテー
トの比は、１０％〜９０％が好ましく、より好ましくは
２０％〜８０％、さらに好ましくは３０％〜７０％であ
る。
解） この後、両端をスリットし巻き取るが、スリットした端
部を再度溶解しドープにして再利用するのが好ましい。
全セルロースアセテート中の再溶解セルロースアセテー
トの比は、１０％〜９０％が好ましく、より好ましくは
２０％〜８０％、さらに好ましくは３０％〜７０％であ
る。
【００５８】セルロースアセテートフイルムの幅は０．
５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．７〜２．５
ｍ、さらに好ましくは０．９〜２ｍである。厚さは４０
乃至１４０μｍであることが好ましく、より好ましくは
５５乃至１３０μｍであることが好ましく、さらに好ま
しくは７０乃至１２０μｍである。長さは１ロールあた
り３００〜６０００ｍで巻き取るのが好ましく、より好
ましくは５００〜５０００ｍであり、さらに好ましくは
１０００〜４０００ｍである。巻き取る際、少なくとも
片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は３ｍｍ
〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは
５〜５００μｍであり、より好ましくは１０〜２００μ
ｍである。これは片押しであっても両押しであっても良
い。
５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．７〜２．５
ｍ、さらに好ましくは０．９〜２ｍである。厚さは４０
乃至１４０μｍであることが好ましく、より好ましくは
５５乃至１３０μｍであることが好ましく、さらに好ま
しくは７０乃至１２０μｍである。長さは１ロールあた
り３００〜６０００ｍで巻き取るのが好ましく、より好
ましくは５００〜５０００ｍであり、さらに好ましくは
１０００〜４０００ｍである。巻き取る際、少なくとも
片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は３ｍｍ
〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは
５〜５００μｍであり、より好ましくは１０〜２００μ
ｍである。これは片押しであっても両押しであっても良
い。
【００５９】［セルロースアセテートフイルムの表面処
理］セルロースアセテートフイルムを偏光板の透明保護
膜として使用する場合、セルロースアセテートフイルム
を表面処理することが好ましい。表面処理としては、コ
ロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、ア
ルカリ処理または紫外線照射処理を実施する。酸処理ま
たはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対
するケン化処理を実施することが特に好ましい。
理］セルロースアセテートフイルムを偏光板の透明保護
膜として使用する場合、セルロースアセテートフイルム
を表面処理することが好ましい。表面処理としては、コ
ロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、ア
ルカリ処理または紫外線照射処理を実施する。酸処理ま
たはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対
するケン化処理を実施することが特に好ましい。
【００６０】ケン化処理液の溶媒は、水または有機溶媒
が好ましい。ケン化処理液を透明支持体に塗布する場
合、支持体への濡れ性が良く、支持体表面に凹凸を形成
せずに面上を良好な状態に保つ溶媒を用いることが好ま
しい。アルコールが特に好ましい溶媒である。炭素原子
数が１〜５の（モノ）アルコールまたはグリコールが好
ましく、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノールおよ
びエチレングリコールが好ましく、イソプロパノールが
最も好ましい。アルコールと他の溶媒とを併用してもよ
い。他の溶媒としては水が好ましい。全溶媒中の水の割
合は、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量
％以下であることがさらに好ましく、１５質量％以下で
あることが最も好ましい。界面活性剤をケン化処理液に
添加してもよい。ケン化処理液に使用するアルカリは、
アルカリ金属の水酸化物であることが好ましく、水酸化
カリウムまたは水酸化ナトリウムが特に好ましい。ケン
化処理液のｐＨは、１０以上であることが好ましく、１
２以上であることがさらに好ましい。
が好ましい。ケン化処理液を透明支持体に塗布する場
合、支持体への濡れ性が良く、支持体表面に凹凸を形成
せずに面上を良好な状態に保つ溶媒を用いることが好ま
しい。アルコールが特に好ましい溶媒である。炭素原子
数が１〜５の（モノ）アルコールまたはグリコールが好
ましく、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノールおよ
びエチレングリコールが好ましく、イソプロパノールが
最も好ましい。アルコールと他の溶媒とを併用してもよ
い。他の溶媒としては水が好ましい。全溶媒中の水の割
合は、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量
％以下であることがさらに好ましく、１５質量％以下で
あることが最も好ましい。界面活性剤をケン化処理液に
添加してもよい。ケン化処理液に使用するアルカリは、
アルカリ金属の水酸化物であることが好ましく、水酸化
カリウムまたは水酸化ナトリウムが特に好ましい。ケン
化処理液のｐＨは、１０以上であることが好ましく、１
２以上であることがさらに好ましい。
【００６１】ケン化処理は、支持体をケン処理液に浸漬
する（浸漬法）か、あるいは、ケンか処理液を支持体に
塗布する（塗布法）ことにより実施する。塗布法の方が
浸漬法よりも好ましい。塗布法は、浸漬法と比較して、
ケン化後のロール状態におけるブロッキングを抑制でき
る。セルロースアセテートフイルムを延伸した場合、あ
るいは６位のアセチル置換率が高いセルロースアセテー
トの場合に、ブロッキングの抑制効果が顕著である。延
伸したフイルムは、保存中に収縮しようとするため、収
縮応力によりフイルムがすりあわされてブロッキングが
発生しやすい。また、６位置換のアセチル基はケン化処
理ではずれ易く、ケン化により生じた水酸基がブロッキ
ングを発生させる。塗布法のケン化処理は、ケン化処理
液が支持体表面にしか存在せず（浸漬法のようにフイル
ム内部まで浸透せず）、必要最小限の弱いケン化とな
り、ブロッキングを防止できる。ケン化処理液の塗布方
法としては、ディップコーティング法、カーテンコーテ
ィング法、エクストルージョンコーティング法、バーコ
ーティング法あるいはＥ型コーティング法を採用でき
る。ケン化処理の温度は、１０℃以上８０℃以下が好ま
しく、１５℃以上６０℃以下がさらに好ましく、２０℃
以上４０℃以下が最も好ましい。処理時間は、１秒以上
５分以下が好ましく、２秒以上１分以下がさらに好まし
く、３行以上３０秒以下が最も好ましい。
する（浸漬法）か、あるいは、ケンか処理液を支持体に
塗布する（塗布法）ことにより実施する。塗布法の方が
浸漬法よりも好ましい。塗布法は、浸漬法と比較して、
ケン化後のロール状態におけるブロッキングを抑制でき
る。セルロースアセテートフイルムを延伸した場合、あ
るいは６位のアセチル置換率が高いセルロースアセテー
トの場合に、ブロッキングの抑制効果が顕著である。延
伸したフイルムは、保存中に収縮しようとするため、収
縮応力によりフイルムがすりあわされてブロッキングが
発生しやすい。また、６位置換のアセチル基はケン化処
理ではずれ易く、ケン化により生じた水酸基がブロッキ
ングを発生させる。塗布法のケン化処理は、ケン化処理
液が支持体表面にしか存在せず（浸漬法のようにフイル
ム内部まで浸透せず）、必要最小限の弱いケン化とな
り、ブロッキングを防止できる。ケン化処理液の塗布方
法としては、ディップコーティング法、カーテンコーテ
ィング法、エクストルージョンコーティング法、バーコ
ーティング法あるいはＥ型コーティング法を採用でき
る。ケン化処理の温度は、１０℃以上８０℃以下が好ま
しく、１５℃以上６０℃以下がさらに好ましく、２０℃
以上４０℃以下が最も好ましい。処理時間は、１秒以上
５分以下が好ましく、２秒以上１分以下がさらに好まし
く、３行以上３０秒以下が最も好ましい。
【００６２】ケン化処理後に、ケン化処理液を洗い落と
す。洗浄液の温度は、３０℃以上８０℃以下であること
が好ましく、３５℃以上７０℃以下であることがさらに
好ましく、４０℃以上６５℃以下であることが最も好ま
しい。洗浄は、浸漬でもよいし、洗浄液を塗布またはス
プレーしても良い。洗浄液は、水であることが好まし
く、純水であることが最も好ましい。水と他の溶媒との
混合溶媒で洗浄でしてもよい。他の溶媒の割合は、５０
質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であ
ることがさらに好ましい。他の溶媒としては、炭素原子
数が５以下のアルコールが好ましい。洗浄後に、支持体
を乾燥する。乾燥温度は、４０℃以上２００℃以下であ
ることが好ましく、５０℃以上１５０℃以下であること
がさらに好ましく、６０℃以上１２０℃以下であること
が最も好ましい。ケン化処理面に配向膜を形成する場
合、塗布法によるケン化処理と配向膜の塗布とを連続し
て行うことができ、その方が工程数を削減できて好まし
い。
す。洗浄液の温度は、３０℃以上８０℃以下であること
が好ましく、３５℃以上７０℃以下であることがさらに
好ましく、４０℃以上６５℃以下であることが最も好ま
しい。洗浄は、浸漬でもよいし、洗浄液を塗布またはス
プレーしても良い。洗浄液は、水であることが好まし
く、純水であることが最も好ましい。水と他の溶媒との
混合溶媒で洗浄でしてもよい。他の溶媒の割合は、５０
質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であ
ることがさらに好ましい。他の溶媒としては、炭素原子
数が５以下のアルコールが好ましい。洗浄後に、支持体
を乾燥する。乾燥温度は、４０℃以上２００℃以下であ
ることが好ましく、５０℃以上１５０℃以下であること
がさらに好ましく、６０℃以上１２０℃以下であること
が最も好ましい。ケン化処理面に配向膜を形成する場
合、塗布法によるケン化処理と配向膜の塗布とを連続し
て行うことができ、その方が工程数を削減できて好まし
い。
【００６３】［偏光板］偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護
膜として、上記のセルロースアセテートフイルムを用い
ることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースア
セテートフイルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素
系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン
系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜
は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製
造する。セルロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光
膜の透過軸のなす角度は３°以下になるように配置する
ことが好ましく、２°以下になるように配置することが
さらに好ましく、１°以下になるように配置することが
最も好ましい。
側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護
膜として、上記のセルロースアセテートフイルムを用い
ることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースア
セテートフイルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素
系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン
系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜
は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製
造する。セルロースアセテートフイルムの遅相軸と偏光
膜の透過軸のなす角度は３°以下になるように配置する
ことが好ましく、２°以下になるように配置することが
さらに好ましく、１°以下になるように配置することが
最も好ましい。
【００６４】［円盤状化合物を含む光学異方性層］ポリ
マーフイルムを支持体として、円盤状化合物を含む光学
異方性層を設けてもよい。円盤状化合物を含む光学異方
性層の光学特性は、前記（Ｉ）で定義されるReレターデ
ーション値に加えて、下記式（III)で定義されるＲthレ
ターデーション値および円盤状化合物の平均傾斜角βで
表される。 （III)Ｒth＝［（ｎ２＋ｎ３）／２−ｎ１］×ｄ 式中、 ｎ１は、光学異方性層を屈折率楕円体で近似し
た場合の屈折率主値の最小値であり；ｎ２およびｎ３
は、光学異方性層のその他の屈折率主値であり；そし
て、ｄは光学異方性層の厚さである。光学異方性層のＲ
ｅレターデーション値は、１０乃至１００ｎｍであるこ
とが好ましい。光学異方性層のＲthレターデーション値
は、４０乃至２００ｎｍであることが好ましい。また、
円盤状化合物の平均傾斜角β（屈折率の主値の最小値の
方向とフイルム法線との角度）が、２０乃至５０゜であ
ることが好ましい。
マーフイルムを支持体として、円盤状化合物を含む光学
異方性層を設けてもよい。円盤状化合物を含む光学異方
性層の光学特性は、前記（Ｉ）で定義されるReレターデ
ーション値に加えて、下記式（III)で定義されるＲthレ
ターデーション値および円盤状化合物の平均傾斜角βで
表される。 （III)Ｒth＝［（ｎ２＋ｎ３）／２−ｎ１］×ｄ 式中、 ｎ１は、光学異方性層を屈折率楕円体で近似し
た場合の屈折率主値の最小値であり；ｎ２およびｎ３
は、光学異方性層のその他の屈折率主値であり；そし
て、ｄは光学異方性層の厚さである。光学異方性層のＲ
ｅレターデーション値は、１０乃至１００ｎｍであるこ
とが好ましい。光学異方性層のＲthレターデーション値
は、４０乃至２００ｎｍであることが好ましい。また、
円盤状化合物の平均傾斜角β（屈折率の主値の最小値の
方向とフイルム法線との角度）が、２０乃至５０゜であ
ることが好ましい。
【００６５】［液晶表示装置］ポリマーフイルムからな
る光学補償シート、またはポリマーフイルムを透明保護
膜として用いた偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液
晶表示装置に有利に用いられる。透過型液晶表示装置
は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板
からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担
持している。光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光
板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方
の偏光板との間に二枚配置する。偏光板では、液晶セル
と偏光膜との間に配置される透明保護膜として、上記の
ポリマーフイルムを用いる。一方の偏光板の（液晶セル
と偏光膜との間の）透明保護膜のみ上記のポリマーフイ
ルムを用いるか、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと
偏光膜との間の）二枚の透明保護膜に、上記のポリマー
フイルムを用いる。
る光学補償シート、またはポリマーフイルムを透明保護
膜として用いた偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液
晶表示装置に有利に用いられる。透過型液晶表示装置
は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板
からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担
持している。光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光
板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方
の偏光板との間に二枚配置する。偏光板では、液晶セル
と偏光膜との間に配置される透明保護膜として、上記の
ポリマーフイルムを用いる。一方の偏光板の（液晶セル
と偏光膜との間の）透明保護膜のみ上記のポリマーフイ
ルムを用いるか、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと
偏光膜との間の）二枚の透明保護膜に、上記のポリマー
フイルムを用いる。
【００６６】液晶セルは、ＶＡモードまたはＴＮモード
であることが好ましい。ＶＡモードの液晶セルでは、電
圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分
子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加
時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶
セル（特開平２−１７６６２５および特公平７−６９５
３６号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、
ＶＡモードをマルチドメイン化した液晶セルが含まれ
る。具体的には、ＭＶＡ（ＳＩＤ９７、Digest of tec
h. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５、ＳＩＤ
９９、Digest of tech. Papers（予稿集）３０（１９９
９）２０６及び特開平１１−２５８６０５号公報記
載）、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ（月刊ディスプレイ、第６
巻、第３号（１９９９）１４記載）、ＰＶＡ（Ａｓｉａ
Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Displ
ay res. Conf.(予稿集)（１９９８）３８３記載）、Ｐ
ａｒａ-A（ＬＣＤ／ＰＤＰ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａ
ｌ‘９９で発表）、ＤＤＶＡ（ＳＩＤ９８、Digest of
tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）８３８記
載）、ＥＯＣ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers
（予稿集）２９（１９９８）３１９記載）、ＰＳＨＡ
（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９
（１９９８）１０８１記載）、ＲＦＦＭＨ（Ａｓｉａ
Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Display
res. Conf.(予稿集)（１９９８）３７５記載）、ＨＭ
Ｄ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２
９（１９９８）７０２記載）が含まれる。その他に
（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配
向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させる
モード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（ＩＷＤ’９
８、Proc.of the ５th Inter. Display Workshop.(予稿
集)（１９９８）１４３記載））も含まれる。ＴＮモー
ドの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実
質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配
向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液
晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献
に記載がある。
であることが好ましい。ＶＡモードの液晶セルでは、電
圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分
子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加
時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶
セル（特開平２−１７６６２５および特公平７−６９５
３６号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、
ＶＡモードをマルチドメイン化した液晶セルが含まれ
る。具体的には、ＭＶＡ（ＳＩＤ９７、Digest of tec
h. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５、ＳＩＤ
９９、Digest of tech. Papers（予稿集）３０（１９９
９）２０６及び特開平１１−２５８６０５号公報記
載）、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ（月刊ディスプレイ、第６
巻、第３号（１９９９）１４記載）、ＰＶＡ（Ａｓｉａ
Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Displ
ay res. Conf.(予稿集)（１９９８）３８３記載）、Ｐ
ａｒａ-A（ＬＣＤ／ＰＤＰ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａ
ｌ‘９９で発表）、ＤＤＶＡ（ＳＩＤ９８、Digest of
tech. Papers（予稿集）２９（１９９８）８３８記
載）、ＥＯＣ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers
（予稿集）２９（１９９８）３１９記載）、ＰＳＨＡ
（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２９
（１９９８）１０８１記載）、ＲＦＦＭＨ（Ａｓｉａ
Ｄｉｓｐｌａｙ９８、Proc.of the 18th Inter. Display
res. Conf.(予稿集)（１９９８）３７５記載）、ＨＭ
Ｄ（ＳＩＤ９８、Digest of tech. Papers（予稿集）２
９（１９９８）７０２記載）が含まれる。その他に
（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配
向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させる
モード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（ＩＷＤ’９
８、Proc.of the ５th Inter. Display Workshop.(予稿
集)（１９９８）１４３記載））も含まれる。ＴＮモー
ドの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実
質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配
向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液
晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献
に記載がある。
【００６７】
【実施例】実施例では、以下の測定方法を採用した。
【００６８】Ｒｅ、Ｒth 光学補償シートについて、エリプソメーター（Ｍ−１５
０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにお
けるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーショ
ン値を測定した。また、幅方向に沿って等間隔に１０点
測定し、Ｒｅ、Ｒｔｈそれぞれの最大値と最小値の差を
各々の平均値で割り、％で表示したものをＲｅ、Ｒthの
レンジとした。
０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにお
けるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーショ
ン値を測定した。また、幅方向に沿って等間隔に１０点
測定し、Ｒｅ、Ｒｔｈそれぞれの最大値と最小値の差を
各々の平均値で割り、％で表示したものをＲｅ、Ｒthの
レンジとした。
【００６９】軸ズレ 自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器
（株））で軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわた
って等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。
また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域
にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大
きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の
差をとった値とした。
（株））で軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわた
って等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。
また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域
にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大
きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の
差をとった値とした。
【００７０】破断伸度・強度 延伸方向（ＭＤ／ＴＤ両方に延伸した場合は延伸倍率の
高い方）に沿って１５ｃｍ長、幅１ｃｍにサンプリング
した。これを引張試験器を用いチャック間距離１０ｃｍ
で１０ｍｍ／分で、２５℃６０％ｒｈにおいて延伸し、
破断した時の伸度、強度を求めた。
高い方）に沿って１５ｃｍ長、幅１ｃｍにサンプリング
した。これを引張試験器を用いチャック間距離１０ｃｍ
で１０ｍｍ／分で、２５℃６０％ｒｈにおいて延伸し、
破断した時の伸度、強度を求めた。
【００７１】熱収縮開始温度 高延伸倍率方向に沿って３５ｍｍ長に、低延伸倍率方向
に沿って３ｍｍ幅に裁断した。長手方向に両端を２５ｍ
ｍ間隔でチャックした。これをＴＭＡ測定器（ＴＡ ins
truments社製TMA2940型Thermomechanical Analyzer）を
用いて、０．０４Nの力を加えながら３０℃から２００
℃まで３℃／分で昇温しながら寸法変化を測定する。３
０℃の寸法を基長とし、これから２％収縮した温度を、
収縮開始温度として求めた。
に沿って３ｍｍ幅に裁断した。長手方向に両端を２５ｍ
ｍ間隔でチャックした。これをＴＭＡ測定器（ＴＡ ins
truments社製TMA2940型Thermomechanical Analyzer）を
用いて、０．０４Nの力を加えながら３０℃から２００
℃まで３℃／分で昇温しながら寸法変化を測定する。３
０℃の寸法を基長とし、これから２％収縮した温度を、
収縮開始温度として求めた。
【００７２】［実施例１］下記の組成物をミキシングタ
ンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。なお、全ア
セチルセルロース中の再溶解アセチルセルロースの含率
は３０質量％とした。
ンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。なお、全ア
セチルセルロース中の再溶解アセチルセルロースの含率
は３０質量％とした。
【００７３】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部 トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部 ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部 メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部 メタノール（第２溶媒） ５４質量部 １−ブタノール（第３溶媒） １１質量部 ────────────────────────────────────
【００７４】別のミキシングタンクに、下記のレターデ
ーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質
量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しなが
ら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してド
ープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、
セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質
量部であった。
ーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質
量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しなが
ら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してド
ープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、
セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質
量部であった。
【００７５】
【化１】
【００７６】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセ
テートフイルムＴＡＣ−１（厚さ：８０μｍ）を製造し
た。物性を上記方法で測定し第２表に示した。
流延した。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセ
テートフイルムＴＡＣ−１（厚さ：８０μｍ）を製造し
た。物性を上記方法で測定し第２表に示した。
【００７７】
【表１】 第１表（その１） ──────────────────────────────────── 残留 前熱処理 延伸 溶剤 温度 時間 方向 速度 温度 倍率 ──────────────────────────────────── 実施例１ ２０％ １１０℃ ３０秒 ＴＤ ５０%/分 １３０℃ ２０％ 実施例２ ３５％ ７０℃ ６０秒 ＴＤ ２０%/分 １４０℃ ３０％ 実施例３ １０％ １３０℃ １５秒 ＴＤ １００%/分 １１５℃ １０％ 実施例４ ２５％ ９０℃ １２０秒 ＴＤ １８０%/分 １００℃ ２５％ 実施例５ ４９％ １５０℃ ５秒 ＭＤ ５%/分 ９０℃ ５０％ ２２％ １５０℃ ５秒 ＴＤ ５%/分 ９０℃ ３％ 実施例６ １４％ ５０℃ １８０秒 ＭＤ ３００%/分 １６０℃ ３％ ４％ ５０℃ １８０秒 ＴＤ ３００%/分 １６０℃ ５０％ 比較例１ １％ １１０℃ ３０秒 ＴＤ ５０%/分 １３０℃ ２０％ 比較例２ ３５％ 前熱処理を実施せず ＴＤ ２０%/分 １４０℃ ３０％ 比較例３ １０％ １３０℃ １５秒 ＴＤ ５００%/分 １１５℃ ９０％ 比較例４ ２５％ ９０℃ １２０秒 ＴＤ １８０%/分 １００℃ ２５％ 比較例５ ４９％ １５０℃ ５秒 ＭＤ ５%/分 ９０℃ ５０％ ２２％ １５０℃ ５秒 ＴＤ ５%/分 ９０℃ ３％ 比較例６ ４％ ５０℃ １８０秒 ＭＤ ３００%/分 １６０℃ ３％ ４％ ５０℃ １８０秒 ＴＤ ３００%/分 １６０℃ ５０％ ───────────────────────────────────
【００７８】
【表２】 第１表（その２） ──────────────────────────────────── フイルム 延伸方向 後熱処理温度 後熱処理時間 冷却緩和率 冷却緩和速度 ──────────────────────────────────── 実施例１ ＴＤ １３０℃ ３０秒 ４％ ６０℃／分 実施例２ ＴＤ １４５℃ １５秒 ２％ １２０℃／分 実施例３ ＴＤ １００℃ ６０秒 ６％ ３０℃／分 実施例４ ＴＤ １１５℃ １００秒 ８％ １８０℃／分 実施例５ ＭＤ ９０℃ １８０秒 １０％ １０℃／分 ＴＤ ９０℃ １８０秒 １０％ １０℃／分 実施例６ ＭＤ １５０℃ ５秒 １％ ３００℃／分 ＴＤ １５０℃ ５秒 １％ ３００℃／分 比較例１ ＴＤ １３０℃ ３０秒 ４％ ６０℃／分 比較例２ ＴＤ １４５℃ １５秒 ２％ １２０℃／分 比較例３ ＴＤ １００℃ ６０秒 ６％ ３０℃／分 比較例４ ＴＤ 後熱処理を実施せず ８％ １８０℃／分 比較例５ ＭＤ ９０℃ １８０秒 １５％ ５℃／分 ＴＤ ９０℃ １８０秒 １５％ ５℃／分 比較例６ ＭＤ １５０℃ ５秒 ０％ ５００℃／分 ＴＤ １５０℃ ５秒 ０％ ５００℃／分 ───────────────────────────────────
【００７９】[実施例２]実施例１で得られたドープを、
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は５０質量％
とした。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延
した。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−２（厚さ：８０μｍ）を製造した。
物性を上記方法で測定し第２表に示した。
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は５０質量％
とした。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延
した。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−２（厚さ：８０μｍ）を製造した。
物性を上記方法で測定し第２表に示した。
【００８０】[比較例１]実施例１で得られたドープを、
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は０質量％と
した。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し
た。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテート
フイルムＴＡＣ−５（厚さ：８０μｍ）を製造した。物
性を上記方法で測定し第２表に示した。
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は０質量％と
した。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し
た。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテート
フイルムＴＡＣ−５（厚さ：８０μｍ）を製造した。物
性を上記方法で測定し第２表に示した。
【００８１】[比較例２]実施例１で得られたドープを、
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は０質量％と
した。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し
た。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテート
フイルムＴＡＣ−６（厚さ：８０μｍ）を製造した。物
性を上記方法で測定し第２表に示した。
バンド流延機を用いて流延した。なお全アセチルセルロ
ース中の再溶解アセチルセルロースの含率は０質量％と
した。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し
た。これを第１表の条件で延伸しセルロースアセテート
フイルムＴＡＣ−６（厚さ：８０μｍ）を製造した。物
性を上記方法で測定し第２表に示した。
【００８２】［実施例３］セルロースアセテート溶液４
７４質量部にレターデーション上昇剤溶液５６質量部を
混合してドープを調製した（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤７．８質量
部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解ア
セチルセルロースの含率は９０質量％とした。得られた
ドープを、バンド流延機を用いて流延した。これを第１
表の条件で延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−３（厚さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で
測定し第２表に示した。
７４質量部にレターデーション上昇剤溶液５６質量部を
混合してドープを調製した（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤７．８質量
部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解ア
セチルセルロースの含率は９０質量％とした。得られた
ドープを、バンド流延機を用いて流延した。これを第１
表の条件で延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−３（厚さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で
測定し第２表に示した。
【００８３】［実施例４］セルロースアセテート溶液４
７４質量部にレターデーション上昇剤溶液５６質量部を
混合してドープを調製した（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤７．８質量
部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解ア
セチルセルロースの含率は１０質量％とした。得られた
ドープを、バンド流延機を用いて流延した。これを第１
表の条件で延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−３（厚さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で
測定し第２表に示した。
７４質量部にレターデーション上昇剤溶液５６質量部を
混合してドープを調製した（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤７．８質量
部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解ア
セチルセルロースの含率は１０質量％とした。得られた
ドープを、バンド流延機を用いて流延した。これを第１
表の条件で延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−３（厚さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で
測定し第２表に示した。
【００８４】[比較例３]実施例３で得られたドープを、
バンド流延機を用いて流延した。これを第１表の条件で
延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−７（厚
さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で測定し第
２表に示した。
バンド流延機を用いて流延した。これを第１表の条件で
延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−７（厚
さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で測定し第
２表に示した。
【００８５】[比較例４]実施例３で得られたドープを、
バンド流延機を用いて流延した。これを第１表の条件で
延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−８（厚
さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で測定し第
２表に示した。
バンド流延機を用いて流延した。これを第１表の条件で
延伸しセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−８（厚
さ：８０μｍ）を製造した。物性を上記方法で測定し第
２表に示した。
【００８６】[実施例５]２，２’−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンポリカーボネート樹脂（粘度平均
分子量：２８０００）を、ジクロロメタンに溶解して、
１８質量％溶液を得た。溶液を真空脱泡し、ドープを得
た。ドープをバンド上に流延し、これをはぎ取り、１０
０℃で乾燥した後、第１表の条件で延伸し、ポリカーボ
ネートフイルムＰＣ−１（厚さ：１００μｍ）を製造し
た。縦延伸は２本のチャッキングロールの速度差で制御
し、横延伸はテンターの幅で制御した。物性を上記方法
で測定し第２表に示した。
シフェニル）プロパンポリカーボネート樹脂（粘度平均
分子量：２８０００）を、ジクロロメタンに溶解して、
１８質量％溶液を得た。溶液を真空脱泡し、ドープを得
た。ドープをバンド上に流延し、これをはぎ取り、１０
０℃で乾燥した後、第１表の条件で延伸し、ポリカーボ
ネートフイルムＰＣ−１（厚さ：１００μｍ）を製造し
た。縦延伸は２本のチャッキングロールの速度差で制御
し、横延伸はテンターの幅で制御した。物性を上記方法
で測定し第２表に示した。
【００８７】[比較例５]実施例５と同じドープをバンド
上に流延し、第１表の条件で延伸し、ポリカーボネート
フイルムＰＣ−２（厚さ：１００μｍ）を製造した。縦
延伸は２本のチャッキングロールの速度差で制御し、横
延伸はテンターの幅で制御した。物性を上記方法で測定
し第２表に示した。
上に流延し、第１表の条件で延伸し、ポリカーボネート
フイルムＰＣ−２（厚さ：１００μｍ）を製造した。縦
延伸は２本のチャッキングロールの速度差で制御し、横
延伸はテンターの幅で制御した。物性を上記方法で測定
し第２表に示した。
【００８８】[実施例６]ノルボルネン樹脂（商品名「Ａ
ＲＴＯＮ」、ＪＳＲ（株）製）１００質量部と可塑剤
（フタル酸ジエチル）５質量部を、トルエンに溶解し
て、２５質量％溶液を得た。溶液を真空脱泡し、ドープ
を得た。ドープをバンド上に流延した後、第１表の条件
で延伸し、ＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−１（厚さ：６５μ
ｍ）を製造した。を製造した。縦延伸は２本のチャッキ
ングロールの速度差で制御し、横延伸はテンターの幅で
制御した。物性を上記方法で測定し第２表に示した。
ＲＴＯＮ」、ＪＳＲ（株）製）１００質量部と可塑剤
（フタル酸ジエチル）５質量部を、トルエンに溶解し
て、２５質量％溶液を得た。溶液を真空脱泡し、ドープ
を得た。ドープをバンド上に流延した後、第１表の条件
で延伸し、ＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−１（厚さ：６５μ
ｍ）を製造した。を製造した。縦延伸は２本のチャッキ
ングロールの速度差で制御し、横延伸はテンターの幅で
制御した。物性を上記方法で測定し第２表に示した。
【００８９】[比較例６]実施例６のドープをバンド上に
流延し、１２０℃で１０分間乾燥後にはぎ取り、第１表
の条件で延伸し、ＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−２（厚さ：
６５μｍ）を製造した。を製造した。縦延伸は２本のチ
ャッキングロールの速度差で制御し、横延伸はテンター
の幅で制御した。物性を上記方法で測定し第２表に示し
た。
流延し、１２０℃で１０分間乾燥後にはぎ取り、第１表
の条件で延伸し、ＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−２（厚さ：
６５μｍ）を製造した。を製造した。縦延伸は２本のチ
ャッキングロールの速度差で制御し、横延伸はテンター
の幅で制御した。物性を上記方法で測定し第２表に示し
た。
【００９０】
【表３】 第２表（その１） ──────────────────────────────────── フイルム 破断強度 破断伸度 軸ズレ平均 軸ズレレンジ ──────────────────────────────────── 実施例１ ＴＡＣ−１ １６ｋｇ／ｍｍ2 ２５％ ０．５゜ ０．８゜ 実施例２ ＴＡＣ−２ １４ｋｇ／ｍｍ2 １５％ ０．８゜ ２．０゜ 実施例３ ＴＡＣ−３ １８ｋｇ／ｍｍ2 ３０％ ０．３゜ ０．４゜ 実施例４ ＴＡＣ−４ １５ｋｇ／ｍｍ2 ２０％ １．２゜ １．２゜ 実施例５ ＰＣ−１ １１ｋｇ／ｍｍ2 ３０％ ３．０゜ ４．８゜ 実施例６ ＡＲ−１ ２０ｋｇ／ｍｍ2 １０％ ２．０゜ ３．３゜ 比較例１ ＴＡＣ−５ ９ｋｇ／ｍｍ2 ７％ ５．０゜ ７．６゜ 比較例２ ＴＡＣ−６ ８ｋｇ／ｍｍ2 ６％ ８．０゜ ９．３゜ 比較例３ ＴＡＣ−７ ６ｋｇ／ｍｍ2 ３％ ７．５゜ ８．３゜ 比較例４ ＴＡＣ−８ ７ｋｇ／ｍｍ2 ５％ １１．０゜ １５．２゜ 比較例５ ＰＣ−２ ７ｋｇ／ｍｍ2 ５５％ １２．０゜ １２．３゜ 比較例６ ＡＲ−２ ２２ｋｇ／ｍｍ2 ３％ １１．８゜ １８．９゜ ────────────────────────────────────
【００９１】
【表４】 第２表（その２） ──────────────────────────────────── Ｒｅ Ｒth 熱収縮 フイルム 平均 レンジ 平均 レンジ 開始温度 ──────────────────────────────────── 実施例１ ＴＡＣ−１ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ 実施例２ ＴＡＣ−２ ３５ｎｍ ５％ １８０ｎｍ ６％ １４０℃ 実施例３ ＴＡＣ−３ １５ｎｍ １％ ９０ｎｍ ３％ １６０℃ 実施例４ ＴＡＣ−４ ２０ｎｍ ２％ ８０ｎｍ １％ １７０℃ 実施例５ ＰＣ−１ ６８ｎｍ ９％ ３８０ｎｍ ９％ １９０℃ 実施例６ ＡＲ−１ ４５ｎｍ ７％ ２５５ｎｍ ８％ １３０℃ 比較例１ ＴＡＣ−５ ３７ｎｍ １２％ ３００ｎｍ １５％ １２０℃ 比較例２ ＴＡＣ−６ ７７ｎｍ １６％ ３４０ｎｍ ２５％ １１５℃ 比較例３ ＴＡＣ−７ ８５ｎｍ １８％ ４５０ｎｍ ２２％ １１０℃ 比較例４ ＴＡＣ−８ ８０ｎｍ ２０％ ４２０ｎｍ ２６％ １１０℃ 比較例５ ＰＣ−２ ９０ｎｍ ３０％ ４７０ｎｍ ２９％ ２００℃ 比較例６ ＡＲ−２ １００ｎｍ ３７％ ５５０ｎｍ ３１％ ２００℃ ────────────────────────────────────
【００９２】［実施例７］延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−１をケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を
用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。ＴＡＣ−１と偏光
膜の長手方向が平行になる様に貼り付けたため、ＴＡＣ
−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は
０．５°であった。市販のセルローストリアセテートフ
イルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム
（株）製）をケン化処理し、ポリビニルアルコール系接
着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このよう
にして偏光板を作製した。
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ
−１をケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を
用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。ＴＡＣ−１と偏光
膜の長手方向が平行になる様に貼り付けたため、ＴＡＣ
−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は
０．５°であった。市販のセルローストリアセテートフ
イルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム
（株）製）をケン化処理し、ポリビニルアルコール系接
着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このよう
にして偏光板を作製した。
【００９３】［実施例８］実施例２で作製したセルロー
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−２の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．３°であった。
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−２の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．３°であった。
【００９４】［実施例９］実施例３で作製したセルロー
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−３の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は１．０°であった。
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−３の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は１．０°であった。
【００９５】［実施例１０］実施例４で作製したセルロ
ースアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同
様にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−４の遅相軸の平
均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．４°であっ
た。
ースアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同
様にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−４の遅相軸の平
均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．４°であっ
た。
【００９６】［比較例７］比較例１で作製したセルロー
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−５の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．５°であった。
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−５の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．５°であった。
【００９７】［比較例８］比較例２で作製したセルロー
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−６の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は３．９°であった。
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−６の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は３．９°であった。
【００９８】［比較例９］比較例３で作製したセルロー
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−７の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．２°であった。
スアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様
にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−７の遅相軸の平均
方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０．２°であった。
【００９９】［比較例１０］比較例４で作製したセルロ
ースアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同
様にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−８の遅相軸の平
均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は４．２°であっ
た。
ースアセテートフイルムを用いた以外は、実施例７と同
様にして、偏光板を作製した。ＴＡＣ−８の遅相軸の平
均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は４．２°であっ
た。
【０１００】[実施例１１]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例５で作製したポリカーボネートフイルムＰＣ−１
を、アクリル系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付
けた。ＰＣ−１と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼
り付けたため、ＰＣ−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の
透過軸のなす角度は０．４°であった。市販のセルロー
ストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、
富士写真フイルム（株）製）をケン化処理し、ポリビニ
ルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り
付けた。このようにして偏光板を作製した。
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例５で作製したポリカーボネートフイルムＰＣ−１
を、アクリル系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付
けた。ＰＣ−１と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼
り付けたため、ＰＣ−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の
透過軸のなす角度は０．４°であった。市販のセルロー
ストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、
富士写真フイルム（株）製）をケン化処理し、ポリビニ
ルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り
付けた。このようにして偏光板を作製した。
【０１０１】[比較例１１]比較例５で作製したポリカー
ボネートフイルムを用いた以外は、実施例１１と同様に
して、偏光板を作製した。ＰＣ−２の遅相軸の平均方向
と偏光膜の透過軸のなす角度は４．０°であった。
ボネートフイルムを用いた以外は、実施例１１と同様に
して、偏光板を作製した。ＰＣ−２の遅相軸の平均方向
と偏光膜の透過軸のなす角度は４．０°であった。
【０１０２】[実施例１２]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例６で作製したＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−１を、アク
リル系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。Ａ
Ｒ−１と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼り付けた
ため、ＡＲ−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸の
なす角度は０．３°であった。市販のセルローストリア
セテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真
フイルム（株）製）をケン化処理し、ポリビニルアルコ
ール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
このようにして偏光板を作製した。
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例６で作製したＡＲＴＯＮフイルムＡＲ−１を、アク
リル系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。Ａ
Ｒ−１と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼り付けた
ため、ＡＲ−１の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸の
なす角度は０．３°であった。市販のセルローストリア
セテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真
フイルム（株）製）をケン化処理し、ポリビニルアルコ
ール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
このようにして偏光板を作製した。
【０１０３】[比較例１２]比較例６で作製したＡＲＴＯ
Ｎフイルムを用いた以外は、実施例１１と同様にして、
偏光板を作製した。ＡＲ−２の遅相軸の平均方向と偏光
膜の透過軸のなす角度は３．１°であった。
Ｎフイルムを用いた以外は、実施例１１と同様にして、
偏光板を作製した。ＡＲ−２の遅相軸の平均方向と偏光
膜の透過軸のなす角度は３．１°であった。
【０１０４】［実施例１３］垂直配向型液晶セルを使用
した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）
製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補
償シートを剥がし、代わりに実施例７で作製した偏光板
を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム
が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側お
よびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の
偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側
の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコ
ル配置とした。これらの偏光板、セルロースアセテート
フイルムは、原反延伸フイルムの中央部どうしの組合せ
（中央）、端部どうしの組合せ(端部)の両方について測
定した。作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ
−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて上下左
右でコントラスト比１０：１が得られる最小の視野角を
求め、結果を第３表に示す。併せて、全面黒表示として
暗室中で星状に輝く輝点の数を数えた。同時に表示ムラ
（ぼんやり雲状に明るくなている領域）を求めた(透明
フイルムに１cm角の升目を記載したものを液晶上に置
き、明るい領域の数を数え％表示した)。
した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）
製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補
償シートを剥がし、代わりに実施例７で作製した偏光板
を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム
が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側お
よびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の
偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側
の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコ
ル配置とした。これらの偏光板、セルロースアセテート
フイルムは、原反延伸フイルムの中央部どうしの組合せ
（中央）、端部どうしの組合せ(端部)の両方について測
定した。作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ
−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて上下左
右でコントラスト比１０：１が得られる最小の視野角を
求め、結果を第３表に示す。併せて、全面黒表示として
暗室中で星状に輝く輝点の数を数えた。同時に表示ムラ
（ぼんやり雲状に明るくなている領域）を求めた(透明
フイルムに１cm角の升目を記載したものを液晶上に置
き、明るい領域の数を数え％表示した)。
【０１０５】［実施例１４］実施例８で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１０６】［比較例１３］比較例７で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１０７】［比較例１４］比較例８で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１０８】［実施例１５］垂直配向型液晶セルを使用
した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）
製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補
償シートを剥がし、代わりに実施例９で作製した偏光板
を、実施例３で作製したセルロースアセテートフイルム
が液晶セル側となるように粘着剤を介して一枚、観察者
側に貼り付けた。また、バックライト側には、市販の偏
光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ、（株）サンリッツ
製）を一枚貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上
下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が
左右方向になるように、クロスニコル配置とした。実施
例１３と同様にして視野角と輝点の数、表示ムラを求
め、結果を第３表に示した。
した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）
製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補
償シートを剥がし、代わりに実施例９で作製した偏光板
を、実施例３で作製したセルロースアセテートフイルム
が液晶セル側となるように粘着剤を介して一枚、観察者
側に貼り付けた。また、バックライト側には、市販の偏
光板（ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ、（株）サンリッツ
製）を一枚貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上
下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が
左右方向になるように、クロスニコル配置とした。実施
例１３と同様にして視野角と輝点の数、表示ムラを求
め、結果を第３表に示した。
【０１０９】［実施例１６］実施例１０で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
板に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１０】［比較例１５］比較例９で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１１】［比較例１６］比較例１０で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラ、表示ムラを求め、結果を第３表に示し
た。
板に変えた以外は実施例１５と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラ、表示ムラを求め、結果を第３表に示し
た。
【０１１２】［実施例１７］実施例１１で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１３】［比較例１７］比較例１１で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１４】［実施例１８］実施例１２で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１５】［比較例１８］比較例１２で作製した偏光
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
板に変えた以外は実施例１３と同様にして液晶表示装置
を作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の
数、表示ムラを求め、結果を第３表に示した。
【０１１６】
【表５】 第３表 ──────────────────────────────────── 液晶表示装置 中央部最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ ──────────────────────────────────── 実施例１３ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ 実施例１４ １４５゜ １４０゜ ０ ０％ 比較例１３ ３５゜ １５゜ ２３ １０％ 比較例１４ ２４゜ １０゜ ２８ １２％ 実施例１５ １５９゜ １５５゜ ０ ０％ 実施例１６ １６０゜ １５０゜ ０ ０％ 比較例１５ ７３゜ ４５゜ １９ １５％ 比較例１６ ４５゜ ３０゜ ２１ １１％ 実施例１７ １３５゜ １０３゜ ２ １％ 比較例１７ ２０゜ １０゜ ３３ １９％ 実施例１８ １２５゜ １００゜ １ １％ 比較例１８ ２２゜ １５゜ ３８ １７％ ────────────────────────────────────
【０１１７】［実施例１９］ＴＮ型液晶セルを使用した
液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設け
られている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例７で
作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセ
テートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介し
て、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とは直交であり、Ｏモードとなるように配
置した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、表
示ムラを求め、結果を第４表に示した。
液晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設け
られている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例７で
作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセ
テートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介し
て、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とは直交であり、Ｏモードとなるように配
置した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、表
示ムラを求め、結果を第４表に示した。
【０１１８】［実施例２０］実施例８で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
【０１１９】［比較例１９］比較例７で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
【０１２０】［比較例２０］比較例８で作製した偏光板
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
に変えた以外は実施例１９と同様にして液晶表示装置を
作製した。実施例１３と同様にして視野角と輝点の数、
表示ムラを求め、結果を第４表に示した。
【０１２１】
【表６】 第４表 ──────────────────────────────────── 液晶表示装置 中央部最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ ──────────────────────────────────── 実施例１９ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ 実施例２０ １００゜ ９３゜ ０ ０％ 比較例１９ ３０゜ １５゜ ２４ １５％ 比較例２０ ３゜ ０゜ ３６ ２０％ ────────────────────────────────────
【０１２２】［実施例２０］セルロースアセテート溶液
４７７質量部にレターデーション上昇剤溶液５２質量部
を混合してドープを調製し（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤６．７質量
部を使用し）流延した。なお全アセチルセルロース中の
再溶解アセチルセルロースの含率は４０質量％とした。
これを第５表に記載の条件で延伸した。この支持体の物
性を第２表と同様に測定し第６表に示した。
４７７質量部にレターデーション上昇剤溶液５２質量部
を混合してドープを調製し（セルロースアセテート１０
０質量部に対して、レターデーション上昇剤６．７質量
部を使用し）流延した。なお全アセチルセルロース中の
再溶解アセチルセルロースの含率は４０質量％とした。
これを第５表に記載の条件で延伸した。この支持体の物
性を第２表と同様に測定し第６表に示した。
【０１２３】［実施例２１］セルロースアセテート溶液
４７７質量部にレターデーション上昇剤溶液２１質量部
を混合してドープを調製した（セルロースアセテート１
００質量部に対して、レターデーション上昇剤２．８質
量部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解
アセチルセルロースの含率は６０質量％とした。これを
流延後、第５表に記載の条件で延伸した。この支持体の
物性を第２表と同様に測定し第６表に示した。
４７７質量部にレターデーション上昇剤溶液２１質量部
を混合してドープを調製した（セルロースアセテート１
００質量部に対して、レターデーション上昇剤２．８質
量部を使用し）。なお全アセチルセルロース中の再溶解
アセチルセルロースの含率は６０質量％とした。これを
流延後、第５表に記載の条件で延伸した。この支持体の
物性を第２表と同様に測定し第６表に示した。
【０１２４】［比較例２０］実施例２０で得られたドー
プを、１３０℃の条件で、テンターを用いて１７％の延
伸倍率で横延伸し流延後、第５表に記載の条件で延伸し
た。この支持体の物性を第２表と同様に測定し第６表に
示した。
プを、１３０℃の条件で、テンターを用いて１７％の延
伸倍率で横延伸し流延後、第５表に記載の条件で延伸し
た。この支持体の物性を第２表と同様に測定し第６表に
示した。
【０１２５】［比較例２１］実施例２１で得られたドー
プを、１３０℃の条件で、テンターを用いて１７％の延
伸倍率で横延伸し流延後、第５表に記載の条件で延伸し
た。この支持体の物性を第２表と同様に測定し第６表に
示した。
プを、１３０℃の条件で、テンターを用いて１７％の延
伸倍率で横延伸し流延後、第５表に記載の条件で延伸し
た。この支持体の物性を第２表と同様に測定し第６表に
示した。
【０１２６】
【表７】 第５表（その１） ──────────────────────────────────── 残留 前熱処理 延伸 溶剤 温度 時間 方向 速度 温度 倍率 ──────────────────────────────────── 実施例20 １８％ １１５℃ ４０秒 ＴＤ ６０%/分 １２５℃ ２０％ 実施例21 ３０％ ９０℃ ４５秒 ＴＤ ４０%/分 １３０℃ １８％ 比較例20 １％ １１０℃ ３０秒 ＴＤ ５０%/分 １３０℃ ５８％ 比較例21 ３５％ 前熱処理を実施せず ＴＤ ２０%/分 １４０℃ ２％ ───────────────────────────────────
【０１２７】
【表８】 第５表（その２） ──────────────────────────────────── フイルム 延伸方向 後熱処理温度 後熱処理時間 冷却緩和率 冷却緩和速度 ──────────────────────────────────── 実施例20 ＴＤ １２５℃ ４０秒 ３％ ８０℃／分 実施例21 ＴＤ １３０℃ ２５秒 ２％ ７０℃／分 比較例20 ＴＤ 後熱処理を実施せず ４％ ６０℃／分 比較例21 ＴＤ １４５℃ １５秒 ２％ １２０℃／分 ───────────────────────────────────
【０１２８】
【表９】 第６表（その１） ──────────────────────────────────── フイルム 破断強度 破断伸度 軸ズレ平均 軸ズレレンジ ──────────────────────────────────── 実施例20 ＴＡＣ−９ １８ｋｇ／ｍｍ2 ２７％ ０．３゜ ０．５゜ 実施例21 ＴＡＣ−10 １７ｋｇ／ｍｍ2 １９％ ０．６゜ ０．４゜ 比較例21 ＴＡＣ−11 ８ｋｇ／ｍｍ2 ７％ ５．５゜ ７．６゜ 比較例22 ＴＡＣ−12 ６ｋｇ／ｍｍ2 ６％ ８．６゜ ９．８゜ ────────────────────────────────────
【０１２９】
【表１０】 第６表（その２） ──────────────────────────────────── Ｒｅ Ｒth 熱収縮 フイルム 平均 レンジ 平均 レンジ 開始温度 ──────────────────────────────────── 実施例20 ＴＡＣ−９ ２２ｎｍ ２％ １２０ｎｍ ３％ １５５℃ 実施例21 ＴＡＣ−10 ３１ｎｍ ２％ １３０ｎｍ ４％ １４４℃ 比較例21 ＴＡＣ−11 ４９ｎｍ １２％ ４５０ｎｍ １５％ １２０℃ 比較例22 ＴＡＣ−12 １４ｎｍ １６％ ４４ｎｍ １５％ ２２０℃ ────────────────────────────────────
【０１３０】[実施例２２] （セルロースアセテートフイルムの鹸化処理）実施例２
０で作製したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−９
を、規定濃度１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液（５５
℃）に２分間浸漬してから、室温の水洗浴槽中で洗浄
し、規定濃度０．１Ｎの硫酸（３０℃）で中和し、再
度、室温水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で
乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフイ
ルムＴＡＣ−９の表面を鹸化処理した。
０で作製したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−９
を、規定濃度１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液（５５
℃）に２分間浸漬してから、室温の水洗浴槽中で洗浄
し、規定濃度０．１Ｎの硫酸（３０℃）で中和し、再
度、室温水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で
乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフイ
ルムＴＡＣ−９の表面を鹸化処理した。
【０１３１】（配向膜層の形成）鹸化処理したセルロー
スアセテートフイルムＴＡＣ−９上に、下記の組成の塗
布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2
塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風
で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフイ
ルムＴＡＣ−９の延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５
゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
スアセテートフイルムＴＡＣ−９上に、下記の組成の塗
布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2
塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風
で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフイ
ルムＴＡＣ−９の延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５
゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０１３２】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール ２０質量部 水 ３６０質量部 メタノール １２０質量部 グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．５質量部 ────────────────────────────────────
【０１３３】
【化２】
【０１３４】（光学異方性層の形成）光学異方性層を形
成する支持体として配向膜層を形成したセルロースアセ
テートフイルムＴＡＣ−９を用いた。配向膜上に、下記
の円盤状（液晶性）化合物４１．０１質量部、エチレン
オキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレー
ト（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６質量
部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−
０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０質量部、
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、
イーストマンケミカル社製）０．２３質量部、光重合開
始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．
３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．４５質量部を、１０２質量部のメチルエ
チルケトンに溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーで
塗布した。これを、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱
し、円盤状化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２
０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、２５０ｍＪ／ｃｍ2 の
ＵＶ光を照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室
温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成
し、光学補償シートＲＦ−１を作製した。作製した光学
補償シートについて、光学特性を測定した。結果は第７
表に示す。
成する支持体として配向膜層を形成したセルロースアセ
テートフイルムＴＡＣ−９を用いた。配向膜上に、下記
の円盤状（液晶性）化合物４１．０１質量部、エチレン
オキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレー
ト（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６質量
部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−
０．２、イーストマンケミカル社製）０．９０質量部、
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、
イーストマンケミカル社製）０．２３質量部、光重合開
始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．
３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）０．４５質量部を、１０２質量部のメチルエ
チルケトンに溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーで
塗布した。これを、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱
し、円盤状化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２
０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、２５０ｍＪ／ｃｍ2 の
ＵＶ光を照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室
温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成
し、光学補償シートＲＦ−１を作製した。作製した光学
補償シートについて、光学特性を測定した。結果は第７
表に示す。
【０１３５】
【化３】
【０１３６】[実施例２３]実施例２１で作製したセルロ
ースアセテートフイルムＴＡＣ−１０を、規定濃度１．
５ＮのＫＯＨ−イソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ
／ｍ2 塗布し、２５℃で５秒間乾燥させた。流水で１０
秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフイルム表
面を乾燥させた。このようにして、セルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−１０の表面を鹸化処理した。鹸化処
理したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−１０上
に、実施例２２と同様にして配向膜を形成し、ラビング
処理を行った後に、光学異方性層を形成し、光学補償シ
ートＲＦ−２を作製した。作製した光学補償シートにつ
いて、光学特性を測定した。結果は第７表に示す。
ースアセテートフイルムＴＡＣ−１０を、規定濃度１．
５ＮのＫＯＨ−イソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ
／ｍ2 塗布し、２５℃で５秒間乾燥させた。流水で１０
秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフイルム表
面を乾燥させた。このようにして、セルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−１０の表面を鹸化処理した。鹸化処
理したセルロースアセテートフイルムＴＡＣ−１０上
に、実施例２２と同様にして配向膜を形成し、ラビング
処理を行った後に、光学異方性層を形成し、光学補償シ
ートＲＦ−２を作製した。作製した光学補償シートにつ
いて、光学特性を測定した。結果は第７表に示す。
【０１３７】[比較例２２]セルロースアセテートフイル
ムＴＡＣ−１１を用いた以外は実施例２２と同様にして
光学補償シートＲＦ−３を作製した。作製した光学補償
シートについて、光学特性を測定した。結果は第７表に
示す。
ムＴＡＣ−１１を用いた以外は実施例２２と同様にして
光学補償シートＲＦ−３を作製した。作製した光学補償
シートについて、光学特性を測定した。結果は第７表に
示す。
【０１３８】[比較例２３]セルロースアセテートフイル
ムＴＡＣ−１２を用いた以外は実施例２３と同様にして
光学補償シートＲＦ−４を作製した。作製した光学補償
シートについて、光学特性を測定した。結果は第７表に
示す。
ムＴＡＣ−１２を用いた以外は実施例２３と同様にして
光学補償シートＲＦ−４を作製した。作製した光学補償
シートについて、光学特性を測定した。結果は第７表に
示す。
【０１３９】
【表１１】 第７表 ──────────────────────────────────── フイルム Ｒｅ β Ｒth 熱収縮 平均 レンジ 平均 レンジ 開始温度 （ｎｍ）（％） （゜） （ｎｍ）（％） （℃） ──────────────────────────────────── 実施例２２ ＲＦ−１ ３４ １ ３５．０ １００ ２ １４５ 実施例２３ ＲＦ−２ ３５ ２ ３５．５ １１０ １ １３９ 比較例２２ ＲＦ−３ ３３ ９ ３６．０ １１１ ７ １２２ 比較例２３ ＲＦ−４ ３４ １０ ３５．０ １０９ ９ ２００ ────────────────────────────────────
【０１４０】[実施例２４]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例２２で作製した光学補償シートＲＦ−１を、ポリビ
ニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り
付けた。光学補償シートＲＦ−１と偏光膜の長手方向が
平行になる様に貼り付けたため、光学補償シートＲＦ−
１の支持体であるＴＡＣ−９の遅相軸の平均方向と偏光
膜の透過軸のなす角度は０．３°であった。市販のセル
ローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０
Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を実施例２２の方法で
鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、
偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして楕円偏光
板を作製した。
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例２２で作製した光学補償シートＲＦ−１を、ポリビ
ニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り
付けた。光学補償シートＲＦ−１と偏光膜の長手方向が
平行になる様に貼り付けたため、光学補償シートＲＦ−
１の支持体であるＴＡＣ−９の遅相軸の平均方向と偏光
膜の透過軸のなす角度は０．３°であった。市販のセル
ローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０
Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を実施例２２の方法で
鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、
偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして楕円偏光
板を作製した。
【０１４１】[実施例２５]延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例２３で鹸下処理したセルロースアセテートフイルム
ＴＡＣ−１０の鹸下処理した面を偏光膜側にして、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼
り付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム
（フジタックＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）
を実施例２２の方法で鹸化処理し、ポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。さ
らに、実施例２２で作製した光学補償シートＲＦ−２
を、上記の様に偏光膜に貼り付けたセルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−１０と、セルロースアセテートフイ
ルム側が接するようにアクリル系接着剤を用いて貼り付
けた。セルロースアセテートフイルムＴＡＣ−１０およ
び光学補償シートＲＦ−２の支持体であるＴＡＣ−１０
と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼り付けたため、
ＴＡＣ−１０の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のな
す角度は０．４°であった。このようにして楕円偏光板
を作製した。
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実
施例２３で鹸下処理したセルロースアセテートフイルム
ＴＡＣ−１０の鹸下処理した面を偏光膜側にして、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼
り付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム
（フジタックＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）
を実施例２２の方法で鹸化処理し、ポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。さ
らに、実施例２２で作製した光学補償シートＲＦ−２
を、上記の様に偏光膜に貼り付けたセルロースアセテー
トフイルムＴＡＣ−１０と、セルロースアセテートフイ
ルム側が接するようにアクリル系接着剤を用いて貼り付
けた。セルロースアセテートフイルムＴＡＣ−１０およ
び光学補償シートＲＦ−２の支持体であるＴＡＣ−１０
と偏光膜の長手方向が平行になる様に貼り付けたため、
ＴＡＣ−１０の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のな
す角度は０．４°であった。このようにして楕円偏光板
を作製した。
【０１４２】[比較例２４]光学補償シートを比較例２２
で作製したＲＦ−３に変えた以外は実施例２４と同様に
して楕円偏光板を作製した。光学補償シートＲＦ−３の
支持体であるＴＡＣ−１１の遅相軸の平均方向と偏光膜
の透過軸のなす角度は０．４°であった。
で作製したＲＦ−３に変えた以外は実施例２４と同様に
して楕円偏光板を作製した。光学補償シートＲＦ−３の
支持体であるＴＡＣ−１１の遅相軸の平均方向と偏光膜
の透過軸のなす角度は０．４°であった。
【０１４３】[比較例２５]セルロースアセテートフイル
ムを比較例２１で作製したＴＡＣ−１２に、光学補償シ
ートを比較例２３で作製したＲＦ−４に変えた以外は実
施例２５と同様にして楕円偏光板を作製した。ＴＡＣ−
１２の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は
０．５°であった。
ムを比較例２１で作製したＴＡＣ−１２に、光学補償シ
ートを比較例２３で作製したＲＦ−４に変えた以外は実
施例２５と同様にして楕円偏光板を作製した。ＴＡＣ−
１２の遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は
０．５°であった。
【０１４４】[実施例２６] （ベンド配向液晶セルの作製）ＩＴＯ電極付きのガラス
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３
９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を
注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３
９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を
注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
【０１４５】（液晶表示装置の作製）作製したベンド配
向セルを挟むように、実施例２４で作製した楕円偏光板
を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基
板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する
光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配
置した。作製した液晶表示装置について、白表示電圧２
Ｖ、黒表示電圧６Ｖを印加し、測定機（ＥＺ−Contrast
１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて上下左右でコント
ラスト比１０：１が得られる最小の視野角を求め、結果
を第８表に示す。併せて、全面黒表示として暗室中で星
状に輝く輝点の数、表示ムラを測定した。結果を第８表
に示す。
向セルを挟むように、実施例２４で作製した楕円偏光板
を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基
板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する
光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配
置した。作製した液晶表示装置について、白表示電圧２
Ｖ、黒表示電圧６Ｖを印加し、測定機（ＥＺ−Contrast
１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて上下左右でコント
ラスト比１０：１が得られる最小の視野角を求め、結果
を第８表に示す。併せて、全面黒表示として暗室中で星
状に輝く輝点の数、表示ムラを測定した。結果を第８表
に示す。
【０１４６】[実施例２７]実施例２５で作製した楕円偏
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
【０１４７】[比較例２６]比較例２４で作製した楕円偏
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
【０１４８】[比較例２７]比較例２５で作製した楕円偏
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
光板に変えた以外は実施例２６と同様にして液晶表示装
置を作製した。実施例２６と同様に評価し第８表に結果
を示した。
【０１４９】
【表１２】 第８表 ──────────────────────────────────── 液晶表示装置 中央部最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ ──────────────────────────────────── 実施例２６ １４５゜ １３３゜ ０ ０％ 実施例２７ １５４゜ １３５ ０ ０％ 比較例２６ ３３゜ １２ ２１ １８％ 比較例２７ ２０゜ １０ ３８ １９％ ────────────────────────────────────
【０１５０】[実施例２８〜３２]下記第９表に示す条件
でセルロースアセテートを合成した。セルロースアセテ
ートは、セルロースと無水酢酸を硫酸触媒下で酢化した
後、酢酸マグネシウムを用いて所望のアセチル化度まで
低下させるが、硫酸量、酢化反応時間および酢酸マグネ
シウム量（３０質量％酢酸マグネシウム水溶液の使用
量）を第９表のように変更することで、第９表に示す６
位置換度のセルロースアセテートを得た。なお、その他
の合成条件は、特開平１１−５８５１号公報の合成例３
と同様に実施した。
でセルロースアセテートを合成した。セルロースアセテ
ートは、セルロースと無水酢酸を硫酸触媒下で酢化した
後、酢酸マグネシウムを用いて所望のアセチル化度まで
低下させるが、硫酸量、酢化反応時間および酢酸マグネ
シウム量（３０質量％酢酸マグネシウム水溶液の使用
量）を第９表のように変更することで、第９表に示す６
位置換度のセルロースアセテートを得た。なお、その他
の合成条件は、特開平１１−５８５１号公報の合成例３
と同様に実施した。
【０１５１】
【表１３】 第９表 ──────────────────────────────────── 硫酸量 酢化反応時間 酢酸マグネシウム量 ６位置換度 ──────────────────────────────────── 実施例２８ ７．５質量部 ３００分 ２５質量部 ３０．５％ 実施例２９ ６．５質量部 ３３０分 ２４質量部 ３２．２％ 実施例３０ ５．５質量部 ３６０分 ２３質量部 ３５．３％ 実施例３１ ４．５質量部 ４２０分 ２２質量部 ３９．７％ 実施例３２ １２．０質量部 ２００分 ２８質量部 ２８．２％ ────────────────────────────────────
【０１５２】セルロースアセテートの２位、３位および
６位のアセチル置換度は、セルロースアセテートをプロ
ピオニル化処理した後、１３Ｃ−ＮＭＲによる測定によ
って求めることができる。測定方法については、手塚他
（carbohydr. Res. 273(1995)83-91）に記載がある。実
施例２８〜３２で合成したセルロースアセテートは、い
ずれも、置換度が２．８２、粘度平均重合度が３２０、
含水率が０．４質量％、６質量％メチレンクロライド溶
液の粘度が３０５ｍＰａ・ｓ、フレークの平均粒径が
１．５ｍｍ、そして、粒径の標準偏差が０．５ｍｍであ
った。また、セルロースアセテートは、いずれも、残存
酢酸量が０．０１質量％以下、Ｃａ含率が０．０５質量
％以下、Ｆｅ含率が５ｐｐｍ以下、そして、Ｍｇ含率が
０．００７質量％以下であった。さらい、セルロースア
セテートは、いずれも、アセトン抽出分が１１質量％、
そして重量平均分子量と数平均分子量の比が０．５であ
った。さらにまた、セルロースアセテートは、いずれ
も、再溶解セルロースアセテートの含率を３０質量％と
なるように調整した。
６位のアセチル置換度は、セルロースアセテートをプロ
ピオニル化処理した後、１３Ｃ−ＮＭＲによる測定によ
って求めることができる。測定方法については、手塚他
（carbohydr. Res. 273(1995)83-91）に記載がある。実
施例２８〜３２で合成したセルロースアセテートは、い
ずれも、置換度が２．８２、粘度平均重合度が３２０、
含水率が０．４質量％、６質量％メチレンクロライド溶
液の粘度が３０５ｍＰａ・ｓ、フレークの平均粒径が
１．５ｍｍ、そして、粒径の標準偏差が０．５ｍｍであ
った。また、セルロースアセテートは、いずれも、残存
酢酸量が０．０１質量％以下、Ｃａ含率が０．０５質量
％以下、Ｆｅ含率が５ｐｐｍ以下、そして、Ｍｇ含率が
０．００７質量％以下であった。さらい、セルロースア
セテートは、いずれも、アセトン抽出分が１１質量％、
そして重量平均分子量と数平均分子量の比が０．５であ
った。さらにまた、セルロースアセテートは、いずれ
も、再溶解セルロースアセテートの含率を３０質量％と
なるように調整した。
【０１５３】下記の組成物をミキシングタンクに投入
し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロー
スアセテート溶液を調製した。
し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロー
スアセテート溶液を調製した。
【０１５４】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート ２０質量部 酢酸メチル ５８質量部 アセトン ５質量部 メタノール ５質量部 エタノール ５質量部 ブタノール ５質量部 トリフェニルホスフェート（可塑剤） １．２質量部 ジトリメチロールプロパンテトラアセテート（可塑剤） １．２質量部 ２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ− tert−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン（ＵＶ吸収剤） ０．２質量部 ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−tert−ブチルフェニル）−５−ク ロロベンゾトリアゾール（ＵＶ吸収剤） ０．２質量部 ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−tert−アミルフェニル）−５−ク ロロベンゾトリアゾール（ＵＶ吸収剤） ０．２質量部 Ｃ12Ｈ25ＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）2 （剥離剤） ０．０２質量部 クエン酸（剥離剤） ０．０２質量部 平均粒径２０ｎｍのシリカ微粒子（モース硬度：７） ０．０５質量部 ────────────────────────────────────
【０１５５】セルロースアセテート溶液に、実施例１で
調製したレターデーション上昇剤溶液を混合して、ドー
プを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セ
ルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量
部であった。
調製したレターデーション上昇剤溶液を混合して、ドー
プを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セ
ルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量
部であった。
【０１５６】（セルロースアセテートフイルムの作製）
得られたドープをバンド流延機を用いて流延した。得ら
れたフイルムを第１表に示す実施例１の延伸条件で延伸
して、厚さ８０μｍのセルロースアセテートフイルムを
作製した。作製したフイルムを実施例１と同様に評価し
た。結果を第１０表に示す。第１０表に示されるよう
に、６位置換度が大きい方が、破断伸度が大きく、延伸
後の白化に伴うヘイズの上昇を小さくすることができ
る。
得られたドープをバンド流延機を用いて流延した。得ら
れたフイルムを第１表に示す実施例１の延伸条件で延伸
して、厚さ８０μｍのセルロースアセテートフイルムを
作製した。作製したフイルムを実施例１と同様に評価し
た。結果を第１０表に示す。第１０表に示されるよう
に、６位置換度が大きい方が、破断伸度が大きく、延伸
後の白化に伴うヘイズの上昇を小さくすることができ
る。
【０１５７】
【表１４】 第１０表（その１） ──────────────────────────────────── ６位置換度 破断強度 破断伸度 軸ズレ平均 軸ズレレンジ ──────────────────────────────────── 実施例28 ３０．５％ １７ｋｇ／ｍｍ2 ２９％ ０．５゜ ０．８゜ 実施例29 ３２．２％ １８ｋｇ／ｍｍ2 ３０％ ０．５゜ ０．８゜ 実施例30 ３５．３％ ２０ｋｇ／ｍｍ2 ３４％ ０．５゜ ０．８゜ 実施例31 ３９．７％ ２２ｋｇ／ｍｍ2 ３７％ ０．５゜ ０．８゜ 実施例32 ２８．２％ １６ｋｇ／ｍｍ2 １５％ ０．５゜ ０．８゜ ────────────────────────────────────
【０１５８】
【表１５】 第１０表（その２） ──────────────────────────────────── Ｒｅ Ｒth 熱収縮 ヘイズ ６位置換度 平均 レンジ 平均 レンジ 開始温度 （％） ──────────────────────────────────── 実施例28 ３０．５％ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ ０．５ 実施例29 ３２．２％ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ ０．４ 実施例30 ３５．３％ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ ０．３ 実施例31 ３９．７％ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ ０．２ 実施例32 ２８．２％ ２５ｎｍ ３％ １１０ｎｍ ５％ １５０℃ ０．８ ────────────────────────────────────
【０１５９】（偏光板の作製）作製したセルロースアセ
テートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様にして
偏光板を作製した。ただし、ケン化処理は、水酸化カリ
ウムの１．５Ｎ（規定濃度）イソプロパノール溶液を、
２５ｍｌ／ｍ2 塗布し、２５℃で５秒間保持して実施し
た。処理後、直ちに５０℃の流水で１０秒洗浄し、２５
℃の空気を吹き付けることでフイルムを乾燥した。上記
の塗布法でケン化処理したセルロースアセテートフイル
ムを用いて作製した偏光板３０００ｍを、直径３０ｃｍ
の巻芯に張力２０ｋｇ／ｍで巻き付け、３０℃で１月保
存した。別に、セルロースアセテートフイルムを、水酸
化ナトリウムの１．５Ｎ（規定濃度）水溶液に５０℃で
３分浸漬してから、水洗、中和、乾燥して、ケン化処理
した。上記の浸漬法でケン化処理したセルロースアセテ
ートフイルムを用いて作製した偏光板３０００ｍを、直
径３０ｃｍの巻芯に張力２０ｋｇ／ｍで巻き付け、３０
℃で１月保存した。それぞれの偏光板について、偏光膜
のブロッキング長を調べた。結果を第１１表に示す。
テートフイルムを用いた以外は、実施例７と同様にして
偏光板を作製した。ただし、ケン化処理は、水酸化カリ
ウムの１．５Ｎ（規定濃度）イソプロパノール溶液を、
２５ｍｌ／ｍ2 塗布し、２５℃で５秒間保持して実施し
た。処理後、直ちに５０℃の流水で１０秒洗浄し、２５
℃の空気を吹き付けることでフイルムを乾燥した。上記
の塗布法でケン化処理したセルロースアセテートフイル
ムを用いて作製した偏光板３０００ｍを、直径３０ｃｍ
の巻芯に張力２０ｋｇ／ｍで巻き付け、３０℃で１月保
存した。別に、セルロースアセテートフイルムを、水酸
化ナトリウムの１．５Ｎ（規定濃度）水溶液に５０℃で
３分浸漬してから、水洗、中和、乾燥して、ケン化処理
した。上記の浸漬法でケン化処理したセルロースアセテ
ートフイルムを用いて作製した偏光板３０００ｍを、直
径３０ｃｍの巻芯に張力２０ｋｇ／ｍで巻き付け、３０
℃で１月保存した。それぞれの偏光板について、偏光膜
のブロッキング長を調べた。結果を第１１表に示す。
【０１６０】
【表１６】 第１１表 ──────────────────────────────────── 偏光膜のブロッキング長 ６位置換度 塗布法 浸漬法 ──────────────────────────────────── 実施例２８ ３０．５％ ０ｍ ３００ｍ 実施例２９ ３２．２％ ０ｍ ４００ｍ 実施例３０ ３５．３％ ０ｍ ５００ｍ 実施例３１ ３９．７％ ０ｍ ６００ｍ 実施例３２ ２８．２％ ０ｍ ２００ｍ ────────────────────────────────────
【０１６１】（液晶表示装置Ａの作製）塗布法で作製し
た偏光板を用いた以外は、実施例１３と同様にして、液
晶表示装置Ａを作製した。作製した液晶表示装置Ａにつ
いて、実施例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表
示ムラを調べた。さらに、白表示にした時の画面内にお
ける、最大輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の
百分率を、輝度ムラとして評価した。結果を第１２表に
示す。６位アセチル置換度の高い方が輝度ムラが少なく
良好であるのは、ヘイズが小さいことに由来すると考え
られる。
た偏光板を用いた以外は、実施例１３と同様にして、液
晶表示装置Ａを作製した。作製した液晶表示装置Ａにつ
いて、実施例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表
示ムラを調べた。さらに、白表示にした時の画面内にお
ける、最大輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の
百分率を、輝度ムラとして評価した。結果を第１２表に
示す。６位アセチル置換度の高い方が輝度ムラが少なく
良好であるのは、ヘイズが小さいことに由来すると考え
られる。
【０１６２】
【表１７】 第１２表 ──────────────────────────────────── 表示装置Ａ 中央最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ 輝度ムラ ──────────────────────────────────── 実施例２８ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．２％ 実施例２９ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．１％ 実施例３０ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０％ 実施例３１ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０％ 実施例３２ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．６％ ────────────────────────────────────
【０１６３】（液晶表示装置Ｂの作製）塗布法で作製し
た偏光板を用いた以外は、実施例１５と同様にして、液
晶表示装置Ｂを作製した。作製した液晶表示装置Ｂにつ
いて、実施例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表
示ムラを調べた。さらに、白表示にした時の画面内にお
ける、最大輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の
百分率を、輝度ムラとして評価した。結果を第１３表に
示す。６位アセチル置換度の高い方が輝度ムラが少なく
良好であった。
た偏光板を用いた以外は、実施例１５と同様にして、液
晶表示装置Ｂを作製した。作製した液晶表示装置Ｂにつ
いて、実施例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表
示ムラを調べた。さらに、白表示にした時の画面内にお
ける、最大輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の
百分率を、輝度ムラとして評価した。結果を第１３表に
示す。６位アセチル置換度の高い方が輝度ムラが少なく
良好であった。
【０１６４】
【表１８】 第１３表 ──────────────────────────────────── 表示装置Ｂ 中央最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ 輝度ムラ ──────────────────────────────────── 実施例２８ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．３％ 実施例２９ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．２％ 実施例３０ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．１％ 実施例３１ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０％ 実施例３２ １５５゜ １５０゜ ０ ０％ ０．９％ ────────────────────────────────────
【０１６５】（液晶表示装置Ｃの作製）作製したセルロ
ースアセテートフイルムと塗布法で作製した偏光板とを
用いた以外は、実施例１９と同様にして、液晶表示装置
Ｃを作製した。作製した液晶表示装置Ｃについて、実施
例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表示ムラを調
べた。さらに、白表示にした時の画面内における、最大
輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の百分率を、
輝度ムラとして評価した。結果を第１４表に示す。
ースアセテートフイルムと塗布法で作製した偏光板とを
用いた以外は、実施例１９と同様にして、液晶表示装置
Ｃを作製した。作製した液晶表示装置Ｃについて、実施
例１３と同様に、最小視野角、輝点の数、表示ムラを調
べた。さらに、白表示にした時の画面内における、最大
輝度にに対する最小輝度と最大輝度との差の百分率を、
輝度ムラとして評価した。結果を第１４表に示す。
【０１６６】
【表１９】 第１４表 ──────────────────────────────────── 表示装置Ｃ 中央最小視野角 端部最小視野角 輝点故障 表示ムラ 輝度ムラ ──────────────────────────────────── 実施例２８ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ ０．３％ 実施例２９ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ ０．２％ 実施例３０ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ ０．１％ 実施例３１ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ ０％ 実施例３２ １１０゜ １０４゜ ０ ０％ ０．４％ ────────────────────────────────────
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 1/12 Ｃ０８Ｌ 1/12 ４Ｊ００２ Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｕ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ 1/13363 1/13363 1/139 1/139 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA04 BA06 BA25 BA27 BB03 BB20 BB27 BB33 BB43 BB49 BC05 BC14 BC22 2H088 GA02 HA16 HA18 JA04 JA05 JA10 MA04 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FC08 FC25 FD10 GA16 HA06 HA07 LA18 LA19 4F071 AA09 AC19 AF15Y AF31Y AF61Y AG09 AG12 AH19 BA02 BB02 BB07 BC01 4F073 AA05 AA27 BA03 BB01 EA01 EA21 EA42 4J002 AB021 ED056 EH006 EH126 EP016 ET006 ET016 EU186 GP00
Claims (25)
- 【請求項１】 熱収縮開始温度が１３０℃以上１９０℃
以下であるポリマーフイルムを有することを特徴とする
光学補償シート。 - 【請求項２】 ポリマーフイルムが延伸されており、ポ
リマーフイルムの遅相軸と延伸方向との間の軸ズレ角の
面内の平均値が３°以内であり、かつ軸ズレ角のレンジ
が５°以下である請求項１に記載の光学補償シート。 - 【請求項３】 ポリマーフイルムの破断伸度が１０％以
上３０％以下である請求項１に記載の光学補償シート。 - 【請求項４】 ポリマーフイルムの破断強度が１１ｋｇ
／ｍｍ2 以上２０ｋｇ／ｍｍ2 以下である請求項１に記
載の光学補償シート。 - 【請求項５】 下記式（Ｉ）で定義されるＲｅレターデ
ーション値が２０乃至７０ｎｍである請求項１に記載の
光学補償シート。 （Ｉ） Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。 - 【請求項６】 Ｒｅのレンジが０％以上１０％以下であ
る請求項５に記載の光学補償シート。 - 【請求項７】 下記式（II）で定義されるＲthレターデ
ーション値が７０乃至４００ｎｍである請求項１に記載
の光学補償シート。 （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。 - 【請求項８】 Ｒthのレンジが０％以上１０％以下であ
る請求項７に記載の光学補償シート。 - 【請求項９】 ポリマーフイルムが、３乃至５０％の延
伸倍率で幅方向に延伸されている請求項１に記載の光学
補償シート。 - 【請求項１０】 ポリマーフイルムが、セルロースアセ
テートからなる請求項１に記載の光学補償シート。 - 【請求項１１】 セルロースアセテートが、５９．０乃
至６１．５％の酢化度を有する請求項１０に記載の光学
補償シート。 - 【請求項１２】 セルロースアセテートが、３０％以上
４０％以下の６位置換率を有する請求項１０に記載の光
学補償シート。 - 【請求項１３】 ポリマーフイルムが、セルロースアセ
テートに加えて、少なくとも二つの芳香族環を有する芳
香族化合物を含む請求項１０に記載の光学補償シート。 - 【請求項１４】 セルロースアセテート１００質量部に
対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合
物を０．０１乃至２０質量部含む請求項１３に記載の光
学補償シート。 - 【請求項１５】 芳香族化合物が、少なくとも一つの
１，３，５−トリアジン環を有する請求項１３に記載の
光学補償シート。 - 【請求項１６】 アルカリ溶液を塗布することにより、
少なくとも片面がケン化されている請求項１０に記載の
光学補償シート。 - 【請求項１７】 偏光膜およびその両側に配置された二
枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の
一方が請求項１に記載の光学補償シートであり、さらに
該光学補償シートの遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸
のなす角度の絶対値が３°以下になるように配置されて
いることを特徴とする偏光板。 - 【請求項１８】 液晶セルおよびその両側に配置された
二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
あって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の透
明保護膜の一方が、請求項１に記載の光学補償シートで
あり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方向と偏
光膜の透過軸のなす角度の絶対値が３°以下になるよう
に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項１９】 液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモード
またはｎ−ＡＳＭモードの液晶セルである請求項１８に
記載の液晶表示装置。 - 【請求項２０】 液晶セルおよびその両側に配置された
二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
あって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の透
明保護膜が、それぞれ、請求項１に記載の光学補償シー
トであり、さらに該光学補償シートの遅相軸の平均方向
と該光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸のなす角
度の絶対値の和が３°以下になるように配置されている
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２１】 液晶セルが、ＶＡモード、ＴＮモード
またはｎ−ＡＳＭモードの液晶セルである請求項２０に
記載の液晶表示装置。 - 【請求項２２】 請求項１乃至１６のいずれか一項に記
載のポリマーフイルム上にさらに円盤状化合物を含む光
学異方性層を設けたことを特徴とする光学補償シート。 - 【請求項２３】 偏光膜およびその両側に配置された２
枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の
一方が請求項２２に記載の光学補償シートであることを
特徴とする楕円偏光板。 - 【請求項２４】 偏光膜およびその両側に配置された３
枚以上の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護
膜のうちの１枚が請求項２２に記載の光学補償シートで
あり、少なくとも１枚が請求項１乃至１６のいずれか一
項に記載の光学補償シートであることを特徴とする楕円
偏光板。 - 【請求項２５】 ベンド配向モードの液晶セルおよび液
晶セルの両側に配置された一対の楕円偏光板であって、
楕円偏光板が請求項２３または２４に記載の楕円偏光板
であることを特徴とする液晶表示装置。
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|---|---|---|---|
| JP2001064625A JP4260376B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 光学補償シートの製造方法 |
| KR1020037007458A KR100921355B1 (ko) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | 디스코틱 액정 분자로 만들어진 광학 이방성 층 및 중합체필름을 포함하는 투명 지지체를 갖는 광학 보상 시트 |
| PCT/JP2001/010585 WO2002046808A1 (fr) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | Feuille de compensation optique comprenant une couche optiquement anisotrope constituee de molecules de cristaux liquides en forme de disques et un substrat transparent presentant un film polymere |
| AU2002223134A AU2002223134A1 (en) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | Optical compensating sheet having optically anisotropic layer made of discotic liquid-crystalline molecules and transparent substrate comprising polymer film |
| EP01999840A EP1341007A4 (en) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | OPTICAL COMPENSATION SHEET COMPRISING AN OPTICALLY ANISOTROPIC LAYER CONSISTING OF DISC-TYPE LIQUID CRYSTAL MOLECULES AND A TRANSPARENT SUBSTRATE HAVING A POLYMERIC FILM |
| CNB01822458XA CN100498384C (zh) | 2000-12-04 | 2001-12-04 | 具有由盘状液晶分子制成的光学各向异性层及包括聚合物薄膜的透明基板的光学补偿片 |
| US11/646,278 US20070132139A1 (en) | 2000-12-04 | 2006-12-28 | Process for preparation of optically anisotropic cellulose ester film |
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|---|---|---|---|
| JP2001064625A JP4260376B2 (ja) | 2001-03-08 | 2001-03-08 | 光学補償シートの製造方法 |
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