JP2002062426A

JP2002062426A - 配向膜、光学補償シート、楕円偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002062426A
Application number: JP2000246269A
Authority: JP
Inventors: Yoji Ito; 洋士伊藤
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-08-15
Filing date: 2000-08-15
Publication date: 2002-02-28

Abstract

(57)【要約】【課題】表示品位に優れ、かつ生産歩留まりの良い液
晶表示装置を提供すること。【解決手段】透明支持体、配向膜、および液晶化合物
からなる光学異方性層がこの順で設けられており、配向
膜の表面粗さ（Ｒａ）が０．１乃至２．０ｎｍの範囲に
あることを特徴とする光学補償シートを液晶表示装置に
利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、配向膜、光学補償
シート、偏光板、およびそれを用いた液晶表示装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、偏光板と液晶セルから
構成されている。現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶
表示装置においては、特開平８−５０２０６号公報に記
載のように、光学補償シート（位相差板）を偏光板と液
晶セルの間に挿入することにより、表示品位の高い液晶
表示装置が実現されている。しかし、この方法による
と、液晶表示装置自体が厚くなるなどの問題点があっ
た。特開平１−６８９４０号公報には、偏光膜の一方の
面に光学補償シート、他方の面に保護フィルムを有する
楕円偏光板を用いることで、液晶表示装置を厚くするこ
となく、正面コントラストを高くすることができるとの
記載がある。ところが、この発明の光学補償シートは、
熱等の歪みにより位相差が発生しやすく、耐久性に問題
のあることがわかった。歪みによる位相差発生の問題に
対し、特開平７−１９１２１７号公報および欧州特許０
９１１６５６Ａ２号明細書においては、透明支持体上に
ディスコティック化合物からなる光学異方性層を塗設し
た光学補償シートを、直接偏光板の保護フィルムとした
楕円偏光板を用いることで、液晶表示装置を厚くするこ
となく、上述の耐久性の問題を解決した。

【０００３】光学補償シートは、透明支持体上に配向膜
を形成し、配向膜表面をラビング（布などで擦る）処理
し、その上に、液晶化合物を塗布そして配向させ、さら
にその配向状態が固定化された光学異方性層を設けるこ
とで得られる。ラビング処理において、配向膜表面が削
り取られ、その粉が凝集することで液晶化合物層の配向
欠陥となり、生産の歩留まりを悪化させるという問題が
あった。この問題に対し、特開平７−３３３６１３号公
報に記載のように、超音波除塵機を利用してラビング屑
を取り去る試みがなされ、ある程度の成果が得られた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記のように配向膜を
ラビング処理する際に発生するラビング屑は、液晶化合
物を用いる光学補償シートもしくは液晶セルの歩留まり
を悪化させていた。超音波除塵機の利用により、ある程
度ラビング屑の除去ができ成果は得られたものの、歩留
まりを低下させる原因であるラビング屑の発生そのもの
を抑えたわけではない。また、近年、ディスプレイが高
精細化するに従い、欠陥サイズに対する要求も厳しくな
り、超音波除塵機の利用のみでは十分な歩留まりが得ら
れなくなっている。本発明の目的は、ラビング屑の発生
が少ない配向膜を提供して、光学補償シートや液晶セル
の生産歩留まりを向上させることにある。また、液晶表
示装置の視野角を拡大させる、生産歩留まりに優れる光
学補償シートを提供することにある。さらに、本発明の
目的は、光学補償シートを用いて、液晶パネルの厚みを
厚くすることなく、視野角が拡大し、そして視角変化に
よる、コントラスト低下、階調または黒白反転、および
色相変化等がほとんど発生することのなく、さらに耐久
性が向上した液晶表示装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者の鋭意研究によ
り、配向膜としてこれまで用いられてきた材料の変更な
しに、その表面の粗さを制御することにより、従来用い
られてきた配向膜の配向能を維持したまま、かつラビン
グ屑の発生を抑えられることを見出した。従って本発明
の目的は、下記（１）の配向膜、（２）〜（７）の光学
補償シート、（８）および（９）の偏光板、および（１
０）および（１１）の液晶表示装置により達成された。（１）表面粗さ（Ｒａ）が０．１乃至２．０ｎｍの範囲
にあることを特徴とする液晶化合物用の配向膜。（２）透明支持体上に、配向膜、および液晶化合物から
なる光学異方性層がこの順で設けらており、配向膜の表
面粗さ（Ｒａ）が０．１乃至２．０ｎｍの範囲にあるこ
とを特徴とする光学補償シート。

【０００６】（３）前記の液晶化合物がディスコティッ
ク化合物であることを特徴とする（２）に記載の光学補
償シート。（４）前記の配向膜が、ポリビニルアルコールもしくは
変性ポリビニルアルコールからなることを特徴とする
（２）に記載の光学補償シート。（５）前記の配向膜が、二種類のポリマーを含む混合物
の架橋膜の表面にラビング処理を施したものであり、少
なくとも一方のポリマーが、下記の化合物によるポリビ
ニルアルコールの変性物であることを特徴とする（２）
に記載の光学補償シート：

【化２】［式中、Ｒ¹は、アルキル基、アクリロイルアルキル
基、メタクリロイルアルキル基、またはエポキシアルキ
ル基を表わし；Ｗは、ハロゲン原子、アルキル基、また
はアルコキシ基を表わし；Ｘは、活性エステル、酸無水
物、または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子
群を表わし；ｐは、０または１を表わし；そしてｎは、
０〜４の整数を表わす］。

【０００７】（６）前記の透明支持体が、下記式（Ｉ）
により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２
００ｎｍの範囲にあり、そして、下記式（II）により定
義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍ
の範囲にあるポリマーフイルムからなることを特徴とす
る（２）に記載の光学補償シート：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。（７）前記のポリ
マーフィルムが、酢化度５９．０乃至６１．５％である
セルロースアセテート、およびセルロースアセテート１００
質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳
香族化合物を０．０１乃至２０質量部含むことを特徴と
する（６）に記載の光学補償シート。

【０００８】（８）偏光膜の少なくとも一方の面に、透
明支持体、配向膜および円盤状構造単位を有する化合物
からなる光学異方性層からなる光学補償シートが貼り合
わされてなり、透明支持体が、下記式（Ｉ）により定義
されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの
範囲にあり、下記式（II）により定義されるＲthレター
デーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあるポリマ
ーフイルムからなり、そして、配向膜の表面粗さ（Ｒ
ａ）が０．１乃至２．０ｎｍの範囲にあることを特徴と
する楕円偏光板：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。（９）前記のポリマーフィルムが、酢化度５９．０乃至
６１．５％であるセルロースアセテート、およびセルロ
ースアセテート１００質量部に対して、少なくとも二つ
の芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質
量部含むことを特徴とする（８）に記載の楕円偏光板。（１０）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏
光板からなる液晶表示装置であって、少なくとも一方の
偏光板が、（８）もしくは（９）に記載の偏光板であ
り、光学補償シートが液晶セル側になるように配置され
ていることを特徴とする液晶表示装置。（１１）液晶セルが、ＯＣＢモード、またはＴＮモード
の液晶セルであることを特徴とする（１０）に記載の液
晶表示装置。

【０００９】

【発明の効果】本発明者は、配向膜の表面粗さを制御す
ることにより、ラビングの際に発生するラビング屑の発
生を抑えることに成功した。また、本発明の配向膜を光
学補償シートや液晶セルに利用することで、それらの生
産歩留まりを向上することができる。更にこの技術を利
用した光学補償シートは、液晶化合物層の配向欠陥が少
なく、そして液晶セルを光学的に充分補償できる。ま
た、この光学補償シートを偏光板や液晶表示装置に利用
することで、従来の液晶表示装置の厚みを保ったまま、
副作用なしに液晶セルが光学的に補償され、広視野角で
ある液晶表示装置を歩留まり良く提供することができ
る。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の配向膜は、ラビング屑の
発生を抑えるために、その表面粗さが０．１乃至２．０
ｎｍの範囲にあることを特徴とする。配向膜の表面粗さ
は、配向膜用塗布液の溶媒および粘度、そして乾燥膜厚
などを調整することにより制御できる。表面粗さの制御
についての詳細は後述する。

【００１１】また、本発明の光学補償シートは、透明支
持体に、配向膜および液晶化合物からなる光学異方性層
がこの順で設けられてなり、配向膜の表面粗さが０．１
乃至２．０ｎｍの範囲にあることを特徴とする。液晶化
合物はディスコティック化合物であることが好ましく、
その例としては、モノマー等の低分子量ディスコティッ
ク化合物または重合性ディスコティック化合物の重合に
より得られるポリマーを挙げることができる。ディスコ
ティック化合物は、一般に、ディスコティック液晶相
（即ち、ディスコティックネマチック相）を有する化合
物とディスコティック液晶相を持たない化合物に大別す
ることができる。ディスコティック化合物は、一般に負
の複屈折を有する。本発明の光学異方性層は、ディスコ
ティック化合物のこの負の複屈折性を利用したものであ
る。液晶化合物を有する光学補償シートは、液晶セルに
対する優れた光学補償機能を有する。

【００１２】[配向膜]本発明の配向膜は、生産性に優れ
た塗布方式を用いることができる有機配向膜であること
が好ましい。そして、その表面粗さが０．１乃至２．０
ｎｍの範囲にあることを特徴とする。配向膜は、ポリマ
ー材料からなり、そして、ポリマー材料と溶媒からなる
配向膜用塗布液を所望の方法で塗布、そして乾燥するこ
とにより形成する。配向膜の表面粗さは、配向膜用塗布
液の溶媒および粘度、そして乾燥膜厚などを調整するこ
とにより制御できる。具体的には、基板表面の凹凸以上
の乾燥膜厚で、ゆっくりと乾燥させることにより、配向
膜の表面を平滑化できる。さらに、トリアセチルセルロ
ースに代表される透明プラスッチック支持体に配向膜を
塗設する場合、配向膜用塗布液の乾燥条件のみでなく乾
燥後の厚みが０．７μｍ乃至１．５μｍ、さらには、
０．８５乃至１．２５μｍであると非常に平滑な表面の
得られることがわかった。ポリマーとして、ポリビニル
アルコールもしくは変性ポリビニルアルコールを用いる
場合、配向膜用塗布液の溶媒は、消泡作用のあるメタノ
ール等の有機溶媒、あるいは有機溶媒と水の混合溶媒で
あることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノ
ールが０：１００〜９９：１が一般的であり、０：１０
０〜９１：９であることが好ましい。これにより、塗布
の際の泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性
層の表面の欠陥が著しく減少する。更に乾燥速度を低下
させるのにも有効に働く。

【００１３】配向膜用塗布液の塗布方法としては、スピ
ンコーティング法、ディップコーティング法、カーテン
コーティング法、エクストルージョンコーティング法、
バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができ
る。特にＥ型塗布法が好ましい。また、形成された配向
膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ま
しく、０．５乃至５μｍの範囲にあることがより好まし
く、１．０乃至２．０μｍの範囲にあることが最も好ま
しい。膜厚の上限は、素材コストおよび生産性の観点か
ら低い方が好ましい。

【００１４】配向膜用の塗布液を加熱乾燥する際の温度
は、２０℃乃至１１０℃の範囲にあることが好ましい。
配向膜の表面粗さを制御するには、特に塗布直後から１
分間の初期の乾燥が重要である。この１分間の初期の乾
燥を、膜面温度が２０℃乃至４０℃となるように乾燥す
ることが好ましい。この後の乾燥温度は、後述する架橋
剤で充分な架橋を形成させるために６０乃至１００℃の
範囲にあることが好ましく、８０乃至１００℃の範囲に
あることがさらに好ましい。乾燥時間は、１分〜３６時
間の範囲で行なうことができる。乾燥時間は、５分間乃
至３０分間の範囲にあることが好ましい。配向膜用塗布
液のｐＨ値は、用いる架橋剤に最適な値に設定すること
が好ましく、グルタルアルデヒドを使用する場合は、ｐ
Ｈ値が４．５乃至５．５の範囲にあることが好ましく、
ｐＨ値が５であることが特に好ましい。

【００１５】配向膜用のポリマー材料は、一種類もしく
はそれ以上のポリマー材料からなる。形成された配向膜
は、これらポリマーの混合物の架橋膜であることが好ま
しい。また、必要に応じて架橋剤を添加することもでき
る。ポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー、架橋剤
により架橋されるポリマーのいずれも使用することがで
きる。配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリ
マーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変化など
により、ポリマー間で反応させて形成するか、あるい
は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマ
ー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間
を架橋することにより形成することができる。

【００１６】このような架橋は、通常ポリマーまたはポ
リマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上
に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施され
る。また、最終商品の段階で耐久性が確保できればよい
ので、配向膜を透明支持体上に塗設してから、光学補償
シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処理を行
なってもよい。配向膜上に形成される円盤状構造を有す
る化合物（光学異方性層）の配向性を考えると、円盤状
構造を有する化合物を配向させたのちに、充分架橋を行
なうことも好ましい。すなわち、透明支持体上に、ポリ
マー及び該ポリマーを架橋することができる架橋剤を含
む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後、ラビング処
理を行なって配向膜を形成し、次いでこの配向膜上に円
盤状構造単位を有する化合物を含む塗布液を塗布し、デ
ィスコティックネマチック相形成温度以上に加熱した
後、冷却して光学異方性層を形成する。一般的には、こ
の塗布液の加熱乾燥の際に架橋が行なわれるが、加熱温
度が低い場合には、ディスコティックネマチック相形成
温度に加熱された時に更に架橋が進む。

【００１７】配向膜に用いられるポリマーは、それ自体
架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポ
リマーのいずれも使用することができる。勿論、両方可
能なポリマーも使用することができる。ポリマーの例と
しては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタ
クリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合
体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコー
ル、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン
／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチ
レン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ
オレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／
塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、
カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカ
ップリング剤等の化合物を挙げることができる。これら
のポリマーのうち、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビ
ルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性
ポリマーを用いることが好ましく、ゼラチン、ポリビル
アルコール及び変性ポリビニルアルコールを用いること
がさらに好ましく、ポリビルアルコール及び変性ポリビ
ニルアルコールを用いることが最も好ましい。また、重
合度の異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニル
アルコールを２種類併用することは、さらに好ましい。

【００１８】ポリビニルアルコールの例としては、鹸化
度が７０乃至１００％の範囲にあるポリビニルアルコー
ルが挙げられる。一般に鹸化度は８０乃至１００％の範
囲にあり、８５乃至９５％の範囲にあることがさらに好
ましい。また、ポリビニルアルコールの重合度は、１０
０乃至３０００の範囲にあることが好ましい。変性ポリ
ビニルアルコールの例としては、共重合変性、連鎖移動
による変性、またはブロック重合による変性をしたポリ
ビニルアルコールなどを挙げることができる。共重合変
性する場合の変性基の例としては、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ
（ＯＸ） ₃、Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、Ｃ₉、Ｈ₁₉ＣＯ
Ｏ、ＳＯ₃、Ｎａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅などが挙げられる。連鎖移
動による変性をする場合の変性基の例としては、ＣＯＯ
Ｎａ、ＳＨ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅などが挙げられる。また、ブロッ
ク重合による変性をする場合の変性基の例としては、Ｃ
ＯＯＨ、ＣＯＮＨ₂、ＣＯＯＲ、Ｃ₆Ｈ₅などが挙げら
れる。これらの中でも、鹸化度が８０〜１００％の範囲
にある未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ま
しい。また、鹸化度が８５乃至９５％の範囲にある未変
性ポリビニルアルコールおよびアルキルチオ変性ポリビ
ニルアルコールがさらに好ましい。

【００１９】変性ポリビニルアルコールは、下記の一般
式により表される化合物によるポリビニルアルコールの
変性物であることが好ましい。この変性ポリビニルアル
コールを、以下、特定の変性ポリビニルアルコールと記
載する。

【００２０】

【化３】［式中、Ｒ¹は、アルキル基、アクリロイルアルキル
基、メタクリロイルアルキル基、またはエポキシアルキ
ル基を表わし；Ｗは、ハロゲン原子、アルキル基、また
はアルコキシ基を表わし；Ｘは、活性エステル、酸無水
物、または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子
群を表わし；ｐは、０または１を表わし；そしてｎは、
０〜４の整数を表わす］。上記の特定の変性ポリビニル
アルコールは、さらに下記一般式で表わされる化合物に
よるポリビニルアルコールの変性物であることが好まし
い。

【００２１】

【化４】［式中、Ｘ¹は活性エステル、酸無水物、または酸ハロ
ゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、そし
てｍは２〜２４の整数を表わす。］

【００２２】上記の二つの一般式により表される化合物
と反応させるために用いられるポリビニルアルコールと
しては、未変性のポリビニルアルコール、および、上記
の共重合変性、連鎖移動による変性、またはブロック重
合による変性をした変性ポリビニルアルコールを挙げる
ことができる。上記特定の変性ポリビニルアルコールの
好ましい例は、特開平９−１５２５０９号明細書に詳し
く記載されている。これらのポリマーの合成方法、可視
吸収スペクトル測定、および変性基導入率の決定方法な
どは、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載があ
る。

【００２３】架橋剤の例としては、アルデヒド類、Ｎ−
メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基
を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化
合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール類、およ
びジアルデヒド澱粉などを挙げることができる。アルデ
ヒド類の例としては、ホルムアルデヒド、グリオキザー
ル、およびグルタルアルデヒドが挙げられる。Ｎ−メチ
ロール化合物の例としては、ジメチロール尿素およびメ
チロールジメチルヒダントインが挙げられる。ジオキサ
ン誘導体の例としては、２，３−ジヒドロキシジオキサ
ンが挙げられる。カルボキシル基を活性化することによ
り作用する化合物の例としては、カルベニウム、２−ナ
フタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−
クロロピリジニウム、および１−モルホリノカルボニル
−３−（スルホナトアミノメチル）が挙げられる。活性
ビニル化合物の例としては、１、３、５−トリアクロイ
ル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスル
ホン）メタン、およびＮ，Ｎ’−メチレンビス−［βー
（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］が挙げられ
る。そして、活性ハロゲン化合物の例としては、２，４
−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジンが挙げら
れる。これらは、単独または組合せて用いることができ
る。これらは上記水溶性ポリマー、特にポリビニルアル
コール及び変性ポリビニルアルコール（上記特定の変性
ポリビニルアルコールも含む）と併用する場合に好まし
い。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアルデヒド
類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好ましい。

【００２４】架橋剤の添加量に特に制限はなく、耐湿性
に関しては、多く添加した方が良化傾向にある。しか
し、架橋剤をポリマーに対して５０質量％以上添加する
と、配向膜としての配向能が低下する。従って、ポリマ
ーに対する架橋剤の添加量は、０．１乃至２０質量％の
範囲にあることが好ましく、特に０．５乃至１５質量％
の範囲にあることが好ましい。本発明の配向膜は、架橋
反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程
度含んでいるが、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０
質量％以下であることが好ましく、特に０．５質量％以
下であることが好ましい。配向膜中に１．０質量％を超
える量で架橋剤が含まれていると、充分な耐久性が得ら
れない。即ち、液晶表示装置に使用した場合、長期使
用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合
に、レチキュレーションが発生することがある。

【００２５】本発明の配向膜は、上記ポリマーを含む塗
布液、もしくは上記ポリマーと架橋剤を含む塗布液を透
明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋）させ、ラビ
ング処理することにより形成することができる。前記の
ように架橋反応は、塗布液を透明支持体上に塗布した
後、任意の時期に行なうことができる。また、配向膜
は、透明支持体に設けられた下塗層上に設けてもよい。
配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック
化合物の配向方向を規定するように機能する。

【００２６】ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工
程として広く採用されている処理方法を利用することが
できる。即ち、配向膜の表面を、紙、ガーゼ、フェル
ト、ゴム、ナイロン繊維、またはポリエステル繊維など
を用いて一定方向に擦ることによりラビング処理が行わ
れる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的
に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うこと
により実施される。

【００２７】［光学異方性層］本発明に用いる液晶化合
物からなる光学異方性層は、配向膜の上に形成される。
液晶化合物はディスコティック化合物であることが好ま
しい。ディスコティック化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅ
ｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１
巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン
誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈ
ｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９
０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎ
ｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０
頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及
びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏ
ｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎ
ｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６
巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザク
ラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを
挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）
化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖
のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基
等がその直鎖として放射線状に置換された構造であり、
液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれ
るものが含まれる。ただし、分子自身が負の一軸性を有
し、一定の配向を付与できるものであれば上記記載に限
定されるものではない。また、本発明において、円盤状
化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合
物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティ
ツク液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的
に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化
し液晶性を失ったものも含まれる。上記ディスクティッ
ク化合物の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に
記載されている。

【００２８】光学異方性層は、ディスコティック構造単
位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層である
ことが好ましい。そして、ディスコティック構造単位の
面が、透明支持体面に対して傾き、かつディスコティッ
ク構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異
方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。ディ
スコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般
に、光学異方性層の深さ方向で、光学異方性層の底面か
らの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾
斜角は、光学異方性層の底面からの距離の増加と共に増
加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、
連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連
続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を
含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化
は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んで
いる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体
として増加または減少していることが好ましい。更に、
傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に
連続的に変化することが好ましい。

【００２９】上記光学異方性層は、一般にディスコティ
ック化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向
膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチ
ック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコ
ティックネマチック相）を維持して冷却することにより
得られる。あるいは、上記光学異方性層は、ディスコテ
ィック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノ
マー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上
に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック
相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等
により）、さらに冷却することにより得られる。本発明
に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティ
ックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０
乃至３００℃の範囲にあることが好ましく、特に７０乃
至１７０℃の範囲にあることが好ましい。

【００３０】また、支持体側のディスコティック単位の
傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向
膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方
法を選択することにより、調整することができる。ま
た、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角
は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコテ
ィック化合物とともに使用する他の化合物を選択するこ
とにより調整することができる。ディスコティック化合
物とともに使用する他の化合物の例としては、可塑剤、
界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーを挙げること
ができる。更に、傾斜角の変化の程度も、上記と同様の
選択をすることにより調整することができる。

【００３１】ディスコティック化合物とともに使用する
可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーとしては、ディ
スコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコテ
ィック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは
配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用するこ
とができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニ
ル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロ
イル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、デ
ィスコティック化合物に対して一般に１乃至５０質量％
の範囲で添加することが好ましく、５乃至３０質量％の
範囲で添加することがより好ましい。

【００３２】ディスコティック化合物とともに使用する
ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を
有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を
与えられる限り、どのようなポリマーでも使用すること
ができる。ポリマー例としては、セルロースエステルを
挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例
としては、セルロースアセテート、セルロースアセテー
トプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及び
セルロースアセテートブチレートを挙げることができ
る。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の
配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対
して一般に０．１乃至１０質量％の範囲で添加する。こ
の添加量は、０．１乃至８質量％の範囲にあることが好
ましく、０．１乃至５質量％の範囲にあることがさらに
好ましい。

【００３３】［透明支持体］本発明に用いる透明支持体
としては、光透過率が８０％以上であるポリマーフィル
ムを用いることが好ましい。ポリマーフィルムとして
は、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。
ポリマーフィルムの例としては、セルロース系ポリマ
ー、商品名アートン（ＪＳＲ（株）製）および商品名ゼ
オネックス（日本ゼオン（株）製）などのノルボルネン
系ポリマー、およびポリメチルメタクリレートなどが挙
げられる。セルロース系ポリマーとしては、セルロース
エステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステル
がさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以
下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロース
アセテート）、３（セルロースプロピオネート）または
４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セ
ルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ま
しく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびト
リアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースア
セテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレ
ートのような混合脂肪酸エステルを用いても良い。

【００３４】また、ポリマーフィルムの粘度平均重合度
（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０
以上であることがさらに好ましい。また、ポリマーフィ
ルムは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
るＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分
子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭ
ｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが
好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ま
しく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。ポ
リマーフィルムとその上に設けられる層（接着層、配向
膜、あるいは光学異方性層）との接着を改善するため
に、ポリマーフィルムに表面処理（例、グロー放電処
理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理）を実施し
てもよい。これらのポリマーフィルムは、紫外線吸収剤
等を含むことが好ましい。また、特開平７−３３３４３
３号公報に記載のようにポリマーフィルム上に接着層
（下塗り層）を設けてもよい。接着層の厚みは０．１乃
至２μであることが好ましく、０．２μ乃至１μである
ことがさらに好ましい。本発明のポリマーフィルムとし
ては、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロー
スアセテートフィルムを用いることが好ましい。酢化度
とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味す
る。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロー
スアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定
および計算に従う。

【００３５】［レターデーション制御］ポリマーフィル
ムのレターデーションを調整するためには延伸等の外力
を与える方法が一般的であるが、欧州特許０９１１６５
６Ａ２号明細書に記載のような、少なくとも二つの芳香
族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤と
して使用することも出来る。芳香族化合物は、セルロー
スアセテート１００質量部に対して、０．０１乃至２０
質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロース
アセテート１００質量部に対して、０．０５乃至１５質
量部の範囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０
質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類
以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の
芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘ
テロ環を含む。

【００３６】［フイルムのレターデーション］フイルム
のＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション
値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義され
る。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内
の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率であ
る。式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム
面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率
である。式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式（Ｉ）および（II）において、ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。本発明で
は、ポリマーフイルムのＲｅレターデーション値は２０
乃至２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション
値が７０乃至４００ｎｍに調節する。Ｒｅレターデーシ
ョン値は、２０乃至７０ｎｍに調整することがより好ま
しい。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳
香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。１，
３，５−トリアジン環が特に好ましい。

【００３７】芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２
乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であること
がより好ましく、２乃至８であることがさらに好まし
く、３乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）
単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合
する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれ
でもよい。

【００３８】（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮
合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、イン
ドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾ
チオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール
環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベン
ゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメ
ン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キ
ナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジ
ン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、
フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フ
ェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン
環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、ア
ズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環およびキノリン環が好ましい。（ｂ）の単結合
は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好
ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、
二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環
を形成してもよい。

【００３９】（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ
−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。ｃ１：−ＣＯ−Ｏ− ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ− ｃ３：−アルキレン−Ｏ− ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ− ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ− ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ− ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ− ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン− ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ− ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ− ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ
−アルキレン− ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ＣＯ−アルキレン−Ｏ− ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ− ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン− ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

【００４０】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。

【００４１】アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有して
いてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例
には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２
−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メト
キシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至
８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブ
チニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。

【００４２】脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１
０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコ
キシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至
１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。

【００４３】アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１
２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪
族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好
ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含ま
れる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至
８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例
には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドお
よびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置
換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好
ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。レターデーション
上昇剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ま
しい

【００４４】［ポリマーフイルムの製造］ソルベントキ
ャスト法によりポリマーフイルムを製造することが好ま
しい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機
溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造
する。本発明のポリマーフィルムの製造を、セルロース
アセテートを例に具体的に説明する。有機溶媒は、炭素
原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１
２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび
炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれ
る溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよび
エステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、
ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−
ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する
化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶
媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有して
いてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場
合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合
物の規定範囲内であればよい。

【００４５】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。

【００４６】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好まし
くは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃
至１１０℃である。

【００４７】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００４８】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。

【００４９】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間
で割った値である。

【００５０】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

【００５１】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただ
し、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢
化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒に
より異なる。

【００５２】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープには前記のレターデ
ーション上昇剤を添加することが好ましい。ドープは、
ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイ
ルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃
至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。
ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておく
ことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延お
よび乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、
同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２
９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、
同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６
４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４
５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１
７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１
５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度
が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが
好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥するこ
とが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンド
から剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度
を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることも
できる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に
記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまで
の時間を短縮することが可能である。この方法を実施す
るためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度に
おいてドープがゲル化することが必要である。

【００５３】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。

【００５４】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。

【００５５】セルロースアセテートフイルムは、さらに
延伸処理によりレターデーションをを調整することがで
きる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好まし
い。セルロースアセテートフイルムの厚さは、４０乃至
１４０μｍであることが好ましく、７０乃至１２０μｍ
であることがさらに好ましい。

【００５６】［ポリマーフイルムの表面処理］ポリマー
フイルムには、表面処理を実施することが好ましい。表
面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処
理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理に
は、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれ
る。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電
処理が含まれる。フィルムの平面性を保つために、これ
らの表面処理においては、ポリマーフィルムの温度をガ
ラス転移温度（Ｔｇ）以下とすることが好ましい。偏光
板の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性
の観点から、酸ケン化処理またはアルカリケン化処理を
実施することが特に好ましい。以下、アルカリケン化処
理を行う例について、具体的に説明する。アルカリケン
化処理は、ポリマーフィルムをアルカリ溶液に浸漬した
後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行
われることが好ましい。アルカリ溶液の例としては、水
酸化カリウム溶液、および水酸化ナトリウム溶液が挙げ
られる。アルカリ溶液中の水酸化イオンの規定濃度は、
０．１Ｎ乃至３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、
０．５Ｎ乃至２．０Ｎの範囲にあることがさらに好まし
い。アルカリ溶液の温度は、０乃至９０℃の範囲にある
ことが好ましく、４０乃至７０℃の範囲にあることがさ
らに好ましい。

【００５７】［偏光板］一般に、液晶表示装置に用いら
れる偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚
の透明保護膜からなる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、
二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が
ある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポ
リビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。そし
て、偏光板の一方の保護膜を、上記の光学補償シートと
することで、本発明の偏光板を作製することができる。
また、偏光膜の他方の保護膜として、通常のセルロース
アセテートフイルムを積層してもよい。このようにし
て、リワーク性に優れる光学補償シートと偏光膜を（接
着剤を介して）積層することにより本発明の偏光板を得
ることが出来る。本発明の偏光板において、光学補償シ
ートの遅相軸と偏光膜の透過軸の関係は、適用される液
晶表示装置の種類により以下のように配置することが好
ましい。本発明の偏光板を、ＴＮ、ＭＶＡ、およびＯＣ
Ｂモードの液晶表示装置に用いる場合は、光学補償シー
トの遅相軸と偏光膜の透過軸を実質的に平行になるよう
に配置し、反射型液晶表示装置に用いる場合は、光学補
償シートの遅相軸と偏光膜の透過軸を実質的に４５度と
なるように配置することが好ましい。

【００５８】［液晶表示装置］本発明の光学補償シー
ト、およびそれを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利
に用いられる。ＴＮ、ＭＶＡ、およびＯＣＢモードの液
晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二
枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間
に液晶を担持している。本発明の光学補償シートを液晶
表示装置に用いる場合には、液晶セルと一方の偏光板と
の間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏
光板との間に二枚配置する。本発明の光学補償シート
は、ポリマーフィルム上に円盤状構造単位を有する化合
物からなる光学異方性層を有している。光学異方性層
は、円盤状化合物を配向させ、その配向状態を固定する
ことにより形成する。円盤状化合物は、一般に大きな複
屈折率を有する。また、円盤状化合物には、多様な配向
形態がある。従って、円盤状化合物を用いることで、従
来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的
性質を有する光学補償シートを製造することができる。
円盤状化合物を用いた光学補償シートについては、特開
平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９
号、同５６４６７０３号、西独特許公報３９１１６２０
Ａ１号の各明細書に記載がある。

【００５９】本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場
合は、液晶セルと偏光膜との間に配置される透明保護膜
として、本発明の光学補償シートを用いる。一方の偏光
板の（液晶セルと偏光膜との間の）透明保護膜のみ光学
補償シートを用いるか、あるいは双方の偏光板の（液晶
セルと偏光膜との間の）二枚の透明保護膜に、光学補償
シートを用いれば良い。

【００６０】液晶セルはＯＣＢモード、またはＴＮモー
ドであることが好ましい。ＯＣＢモードの液晶セルは、
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆
の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液
晶セルである。これを用いた液晶表示装置は、米国特許
４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開
示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部
とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液
晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、これ
を用いた液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensator
y Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの
液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。ＴＮ
モードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子
が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじ
れ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦ
Ｔ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の
文献に記載がある。

【００６１】

【実施例】配向膜の表面粗さ（Ｒａ）は、原子間力顕微
鏡（AFM：Atomic Force Microscope、SPI3800N、セイコ
ーインスツルメンツ（株）製）にて測定した。測定の際
のカットオフ値は３．３μｍとした。［実施例１］下記の組成物をミキシングタンクに投入
し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロー
スアセテート溶液を調製した。

【００６２】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート１００質量部トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．８質量部ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部メチレンクロライド（第１溶媒）３００質量部メタノール（第２溶媒）５４質量部１−ブタノール（第３溶媒）１１質量部 ────────────────────────────────────

【００６３】別のミキシングタンクに、下記のレターデ
ーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質
量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しなが
ら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４８８質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液１１質量部を混合し、充分に攪拌してド
ープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、
セルロースアセテート１００質量部に対して、１．５質
量部であった。

【００６４】

【化５】

【００６５】作製したセルロースアセテートフイルム
（光学補償シート）について、エリプソメーター（Ｍ−
１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍ
におけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデー
ション値を測定した。Ｒｅは１０ｎｍで、Ｒｔｈは８１
ｎｍであった。

【００６６】（下塗り層の作製）上記セルロースアセテ
ートフィルム支持体に下記組成の塗布液を２８ｃｃ／ｍ
²塗布乾燥し、０．１μのゼラチン層（第１下塗り層）
を塗設した。 ──────────────────────────────────── 第１下塗り層塗布液組成 ──────────────────────────────────── ゼラチン０．５４２質量部ホルムアルデヒド０．１３６質量部サリチル酸０．１６０質量部アセトン３９．１質量部メタノール１５．８質量部メチレンクロライド４０．６質量部水１．２質量部 ──────────────────────────────────── さらにその上に下記組成の塗布液を７ｃｃ／ｍ²塗布乾
燥して、第２下塗り層を塗設した。 ──────────────────────────────────── 第２下塗り層塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のアニオン性共重合体０．０７９質量部クエン酸モノエチルエステル１．０１質量部アセトン２０質量部メタノール８７．７質量部水４．０５質量部 ────────────────────────────────────

【００６７】

【化６】

【００６８】さらに上記と反対側の層に下記組成の塗布
液を２５ｃｃ／ｍ²塗布乾燥し、バック層を設けた。 ──────────────────────────────────── バック層塗布液組成 ──────────────────────────────────── セルロースジアセテート（酢化度５５％）０．６５６質量部シリカ系マット剤（平均粒径１μ）０．０６５質量部アセトン６７．９質量部メタノール１０．４質量部 ──────────────────────────────────── また、偏光板に用いる透明保護膜として、レターデーシ
ョン上昇剤溶液を添加しないで得られた８０μのセルロ
ースアセテートフィルムを作成した。

【００６９】（配向膜層の作製）このセルロースアセテ
ートフイルムのゼラチン層上に、下記の組成の塗布液を
＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ²塗布し
た。２５℃で６０秒、６０℃の温風で６０秒、さらに９
０℃の温風で１５０秒乾燥した。乾燥後の配向膜厚みは
１．１μｍであった。また、配向膜の表面粗さ（Ｒａ）
を原子間力顕微鏡（AFM：Atomic Force Microscope、SP
I3800N、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定
したところ、１．１４７ｎｍであった。次に、セルロー
スアセテートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで
測定）の方向に、形成した膜にラビング処理を実施し
た。

【００７０】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール２０質量部水３６１質量部メタノール１１９質量部グルタルアルデヒド（架橋剤）０．５質量部 ────────────────────────────────────

【００７１】

【化７】

【００７２】（光学異方性層の形成）配向膜上に、下記
の円盤状（液晶性）化合物４１．０１ｇ、エチレンオキ
サイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セ
ルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．
２、イーストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロー
スアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イースト
マンケミカル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガ
キュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ、増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４
５ｇを、１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布
液を、＃４のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠
に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、円
盤状化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／
ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合
物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このよう
にして、光学異方性層を形成した。波長６３３ｎｍで測
定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４８ｎ
ｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の
角度（傾斜角）は平均で４２゜であった。

【００７３】

【化８】

【００７４】また、配向欠陥の数を１００倍のルーペを
用いて観測したところ、７０μｍ以上の欠陥が１．３個
／ｍ²であった。

【００７５】［比較例１］実施例１で得られた下塗り層
付きセルロースアセテートフイルム上に、下記の組成の
塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ
²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温
風で１５０秒乾燥した。乾燥後の配向膜厚みは０．５μ
ｍであった。また、配向膜の表面粗さ（Ｒａ）を原子間
力顕微鏡（AFM：Atomic Force Microscope、SPI3800N、
セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定したとこ
ろ、２．６６４ｎｍであった。次に、セルロースアセテ
ートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）の
方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

【００７６】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３、クラレ製）１０質量部水２４５質量部メタノール２４５質量部グルタルアルデヒド（架橋剤）０．５質量部 ────────────────────────────────────

【００７７】（光学異方性層の形成）配向膜上に、実施
例１と同様にして光学異方性層を形成した。波長６３３
ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値
は４８ｎｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面
との間の角度（傾斜角）は平均で４２゜であり、実施例
１と同じであった。また、配向欠陥の数を実施例１と同
様の方法で観測したところ、７０μｍ以上の欠陥が２
０．３個／ｍ２であった。

【００７８】［実施例２］レターデーション上昇剤の添
加量を、セルロースアセテート１００質量部に対して、
３．０質量部とする以外は、実施例１と同様にして得ら
れたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶
剤量が１５質量％のフイルムを、１３０℃の条件で、テ
ンターを用いて３０％の延伸倍率で横延伸して、セルロ
ースアセテートフイルム（厚さ：８０μｍ）を製造し
た。作製したセルロースアセテートフイルム（光学補償
シート）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日
本分光（株）製）を用いて、波長６３３ｎｍにおけるＲ
ｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を
測定した。Ｒｅはテンター延伸方向に２０ｎｍ、Ｒｔｈ
は１３０ｎｍであった。（下塗り層の作製）実施例１と同様に、下塗り層を設け
た。

【００７９】（配向膜層の作製）このセルロースアセテ
ートフイルムのゼラチン層上に、下記の組成の塗布液を
Ｅ型コーターで５６ｍｌ／ｍ²塗布した。膜面温度が３
５℃となるように塗布直後から９０秒間の温風で乾燥
し、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。乾燥後の
配向膜厚みは１．５μｍであった。また、配向膜の表面
粗さ（Ｒａ）を原子間力顕微鏡（AFM：Atomic Force Mi
croscope、SPI3800N、セイコーインスツルメンツ（株）
製）にて測定したところ、０．６６４ｎｍであった。次
に、セルロースアセテートフイルムの遅相軸（波長６３
２．８ｎｍで測定）と４５゜となる方向に、形成した膜
にラビング処理を実施した。

【００８０】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール１３．５質量部ポリビニルアルコール（ＰＶＡ１１７、クラレ製）１．５質量部水３７１質量部メタノール１１９質量部グルタルアルデヒド（架橋剤）０．５質量部 ────────────────────────────────────

【００８１】

【化９】

【００８２】（光学異方性層の形成）配向膜上に、下記
の円盤状（液晶性）化合物４１．０１ｇ、エチレンオキ
サイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）４．０６ｇ、セ
ルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．
２、イーストマンケミカル社製）０．９０ｇ、セルロー
スアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イースト
マンケミカル社製）０．２３ｇ、光重合開始剤（イルガ
キュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５ｇ、増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４
５ｇを、１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布
液を、＃３のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠
に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、円
盤状化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／
ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合
物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このよう
にして、光学異方性層を形成した。波長６３３ｎｍで測
定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎ
ｍであった。また、円盤面と第１透明支持体面との間の
角度（傾斜角）は平均で４０゜であった。また、配向欠
陥の数を実施例１と同様の方法で観測したところ、７０
μｍ以上の欠陥が２．３個／ｍ２であった。

【００８３】

【化１０】

【００８４】［実施例３］延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１で作成し
たセルローストリアセテートフイルムを偏光膜の片側
に、もう一方には市販のセルローストリアセテートフイ
ルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム
（株）製）にケン化処理を行い貼り付けた後、８０℃で
１０分間乾燥させた。偏光膜の透過軸と実施例１で作製
した光学補償シートの遅相軸とは平行になるように配置
した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテー
トフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。こ
のようにして偏光板を作製した。

【００８５】［実施例４］実施例２で作製した光学補償
シートをその遅相軸が、偏光膜の透過軸と４５゜となる
ように配置した以外は、実施例３と同様にして、偏光板
を作製した。

【００８６】［比較例２］延伸したポリビニルアルコー
ルフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリ
ビニルアルコール系接着剤を用いて、比較例１で作成し
た光学補償シートを偏光膜の片側に、もう一方には市販
のポリカーボネートフイルム（帝人（株）製）を貼り付
けた後、８０℃で３０分間乾燥させたが、偏光能が低下
し、偏光板としての機能を十分に果たさなかった。

【００８７】［実施例５］（ベンド配向液晶セルの作製）ＩＴＯ電極付きのガラス
基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラ
ビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビ
ング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャッ
プを６μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３
９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を
注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。作製したベン
ド配向セルを挟むように、実施例４で作製した楕円偏光
板を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル
基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面す
る光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように
配置した。液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加し
た。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモー
ドとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラス
ト比として、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤ
ＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ
８）までの８段階で視野角を測定した。結果を第１表に
示す。

【００８８】

【表１】第１表 ──────────────────────────────────── 液晶視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）表示装置上下左右 ──────────────────────────────────── 実施例５８０゜８０゜８０゜ ──────────────────────────────────── （註）黒側の階調反転：Ｌ１とＬ２との間の反転

【００８９】［実施例６］ＴＮ型液晶セルを使用した液
晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けら
れている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例３で作
製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセテ
ートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介し
て、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。作
製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Contrast
１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）
から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
結果を第２表に示す。

【００９０】［比較例４］ＴＮ型液晶セルを使用した液
晶表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）につい
て、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社
製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）まで
の８段階で視野角を測定した。結果を第２表に示す。

【００９１】

【表２】第２表 ──────────────────────────────────── 液晶視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）表示装置上下左右 ──────────────────────────────────── 実施例６７０゜４５゜１６０゜比較例４１５゜２５゜３７゜ ──────────────────────────────────── （註）黒側の階調反転：Ｌ１とＬ２との間の反転

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｌ 29/04 Ｃ０８Ｌ 29/04 ＺＧ０２Ｆ 1/1335 ５１０Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ 1/13363 1/13363 // Ｃ０８Ｌ 29:04 Ｃ０８Ｌ 29:04 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA04 BA06 BA42 BB03 BB43 BB49 BB63 BC22 2H091 FA07X FA07Z FA11X FA11Z FB02 FC25 FD06 GA06 GA16 HA07 HA09 KA02 LA11 LA12 LA19 4F071 AA09 AA21 AA33 AC02 AC10 AC12 AC13 AC19 AE22 AF31 AF31Y AF35Y AG01 AG11 AG15 AG30 AH19 BA02 BB02 BB07 BC01 BC12 4J002 AB021 BG061 BK001 CE001 EA066 ED056 EE036 EH136 EL066 EN066 EP016 ET006 EU026 EU076 EU096 EU176 EU226 EU236 EV286 EV306 EV316 EV326 FD020 FD206 GP00 HA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面粗さ（Ｒａ）が０．１乃至２．０ｎ
ｍの範囲にあることを特徴とする液晶化合物用の配向
膜。
【請求項２】透明支持体上に、配向膜、および液晶化
合物からなる光学異方性層がこの順で設けらており、配
向膜の表面粗さ（Ｒａ）が０．１乃至２．０ｎｍの範囲
にあることを特徴とする光学補償シート。
【請求項３】前記の液晶化合物がディスコティック化
合物であることを特徴とする請求項２に記載の光学補償
シート。
【請求項４】前記の配向膜が、ポリビニルアルコール
もしくは変性ポリビニルアルコールからなることを特徴
とする請求項２に記載の光学補償シート。
【請求項５】前記の配向膜が、二種類のポリマーを含
む混合物の架橋膜の表面にラビング処理を施したもので
あり、少なくとも一方のポリマーが、下記の化合物によ
るポリビニルアルコールの変性物であることを特徴とす
る請求項２に記載の光学補償シート：【化１】［式中、Ｒ¹は、アルキル基、アクリロイルアルキル
基、メタクリロイルアルキル基、またはエポキシアルキ
ル基を表わし；Ｗは、ハロゲン原子、アルキル基、また
はアルコキシ基を表わし；Ｘは、活性エステル、酸無水
物、または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子
群を表わし；ｐは、０または１を表わし；そしてｎは、
０〜４の整数を表わす］。
【請求項６】前記の透明支持体が、下記式（Ｉ）によ
り定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００
ｎｍの範囲にあり、そして、下記式（II）により定義さ
れるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範
囲にあるポリマーフイルムからなることを特徴とする請
求項２に記載の光学補償シート：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項７】前記のポリマーフィルムが、酢化度５
９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテート、お
よびセルロースアセテート１００質量部に対して、少な
くとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１
乃至２０質量部含むことを特徴とする請求項６に記載の
光学補償シート。
【請求項８】偏光膜の少なくとも一方の面に、透明支
持体、配向膜および円盤状構造単位を有する化合物から
なる光学異方性層からなる光学補償シートが貼り合わさ
れてなり、透明支持体が、下記式（Ｉ）により定義され
るＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲
にあり、下記式（II）により定義されるＲthレターデー
ション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあるポリマーフ
イルムからなり、そして、配向膜の表面粗さ（Ｒａ）が
０．１乃至２．０ｎｍの範囲にあることを特徴とする楕
円偏光板：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項９】前記のポリマーフィルムが、酢化度５
９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテート、お
よびセルロースアセテート１００質量部に対して、少な
くとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１
乃至２０質量部含むことを特徴とする請求項８に記載の
楕円偏光板。
【請求項１０】液晶セルおよびその両側に配置された
二枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、少なくと
も一方の偏光板が、請求項８もしくは９に記載の偏光板
であり、光学補償シートが液晶セル側になるように配置
されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】液晶セルが、ＯＣＢモード、またはＴ
Ｎモードの液晶セルであることを特徴とする請求項１０
に記載の液晶表示装置。