JP2002256027A - エチレン系共重合体 - Google Patents
エチレン系共重合体Info
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- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高品質のフィルムをもたらすエチレン系共重
合体を提供する。 【解決手段】 17%より大きい高密度フラクション、
3.3より小さいMw /Mn 比、0.905−0.93
5g/cm3 の密度、0.6−6g/10分のメルトイ
ンデックスを有するブレンドされていないエチレン/ア
ルファ−オレフィン共重合体。
合体を提供する。 【解決手段】 17%より大きい高密度フラクション、
3.3より小さいMw /Mn 比、0.905−0.93
5g/cm3 の密度、0.6−6g/10分のメルトイ
ンデックスを有するブレンドされていないエチレン/ア
ルファ−オレフィン共重合体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレン系共重合
体に関する。
体に関する。
【0002】
【従来の技術とその課題】エチレンの重合及びエチレン
と他のオレフィンとの重合は、気相、溶液及び/又は懸
濁(スラリー)重合法により実施されることが知られて
いる。溶液法の利点は、短い反応時間、改良された熱除
去及び塊への単量体の転換及び重合のエネルギーコント
ロール及び反応のダイナミックスをコントロールする単
相反応の環境を含む。最も有利な溶液重合は、生成物中
の触媒の残存物を低下させる及び/又は触媒除去段階の
完全な省略を行わせるこれらの高温度での高い触媒の能
率を有する十分に高い分子量重合体を生ずる重合触媒に
より、高い反応温度ですら行うことができるだろう。オ
レフィンの懸濁(スラリー)重合では、利点は、低い圧
力、低い温度及び非常に高い分子量重合体を製造する能
力である。重合触媒からの残存物が得られた重合体から
除去されなければならないことがないように、十分に高
い重合能率でこれらの反応を実施することが有利であ
る。
と他のオレフィンとの重合は、気相、溶液及び/又は懸
濁(スラリー)重合法により実施されることが知られて
いる。溶液法の利点は、短い反応時間、改良された熱除
去及び塊への単量体の転換及び重合のエネルギーコント
ロール及び反応のダイナミックスをコントロールする単
相反応の環境を含む。最も有利な溶液重合は、生成物中
の触媒の残存物を低下させる及び/又は触媒除去段階の
完全な省略を行わせるこれらの高温度での高い触媒の能
率を有する十分に高い分子量重合体を生ずる重合触媒に
より、高い反応温度ですら行うことができるだろう。オ
レフィンの懸濁(スラリー)重合では、利点は、低い圧
力、低い温度及び非常に高い分子量重合体を製造する能
力である。重合触媒からの残存物が得られた重合体から
除去されなければならないことがないように、十分に高
い重合能率でこれらの反応を実施することが有利であ
る。
【0003】当業者に知られている懸濁重合のための多
くの重合触媒がある。Hagertyらは、米国特許第
4562169号において、液体媒体中の反応性OH基
を有する固体多孔性担体例えばシリカを有機マグネシウ
ム化合物により処理して担体上のOH基と反応させ、該
液体を蒸発させてマグネシウムを担体上に沈殿させそし
て乾燥した自由流動性の粉末の形で支持されたマグネシ
ウム組成物を回収し、粉末と四価チタン化合物とを液体
媒体中で反応させることによる支持触媒の製造を開示し
ている。触媒は、オレフィンの重合に適している。No
wlinは、米国特許第4593009及び46720
96号において、触媒が、OH基を含む担体を有機マグ
ネシウム組成物により処理し、そしてこのように形成さ
れたマグネシウム含有担体を少なくとも1種の四価バナ
ジウム化合物の溶液又はバナジウム化合物及びチタン化
合物の両者を含む溶液により接触させることにより製造
される、オレフィンを重合するための触媒を開示してい
る。
くの重合触媒がある。Hagertyらは、米国特許第
4562169号において、液体媒体中の反応性OH基
を有する固体多孔性担体例えばシリカを有機マグネシウ
ム化合物により処理して担体上のOH基と反応させ、該
液体を蒸発させてマグネシウムを担体上に沈殿させそし
て乾燥した自由流動性の粉末の形で支持されたマグネシ
ウム組成物を回収し、粉末と四価チタン化合物とを液体
媒体中で反応させることによる支持触媒の製造を開示し
ている。触媒は、オレフィンの重合に適している。No
wlinは、米国特許第4593009及び46720
96号において、触媒が、OH基を含む担体を有機マグ
ネシウム組成物により処理し、そしてこのように形成さ
れたマグネシウム含有担体を少なくとも1種の四価バナ
ジウム化合物の溶液又はバナジウム化合物及びチタン化
合物の両者を含む溶液により接触させることにより製造
される、オレフィンを重合するための触媒を開示してい
る。
【0004】Gesselは、米国特許第424483
8号において、有機マグネシウム化合物、有機ヒドロキ
シル含有物質及び遷移金属ハライドから製造された触媒
を記述している。この反応により生成されるこれらの固
体は、単離されそして重合に使用される前に洗浄され
る。Fuentesらは、米国特許第4544647号
において、有機マグネシウム物質、有機ヒドロキシル含
有物質、還元ハライド源及び遷移金属化合物から製造さ
れた触媒組成物を開示している。Marchandら
は、米国特許第4910272号において、無機酸化
物、有機マグネシウム物質、有機ヒドロキシル含有物
質、還元ハライド源及び遷移金属化合物から製造された
触媒の存在下のオレフィンの重合法を記述している。こ
れらの触媒の触媒能率は、一般に、重合温度の上昇特に
140℃以上の温度で低下する。
8号において、有機マグネシウム化合物、有機ヒドロキ
シル含有物質及び遷移金属ハライドから製造された触媒
を記述している。この反応により生成されるこれらの固
体は、単離されそして重合に使用される前に洗浄され
る。Fuentesらは、米国特許第4544647号
において、有機マグネシウム物質、有機ヒドロキシル含
有物質、還元ハライド源及び遷移金属化合物から製造さ
れた触媒組成物を開示している。Marchandら
は、米国特許第4910272号において、無機酸化
物、有機マグネシウム物質、有機ヒドロキシル含有物
質、還元ハライド源及び遷移金属化合物から製造された
触媒の存在下のオレフィンの重合法を記述している。こ
れらの触媒の触媒能率は、一般に、重合温度の上昇特に
140℃以上の温度で低下する。
【0005】溶液重合用に知られている触媒は、有機マ
グネシウム成分、ハロゲン化アルミニウム及び/又は追
加のハライド源及び遷移金属化合物よりなる。Lowe
ryらは、米国特許第4250288号において、14
0℃以上でα−オレフィンの重合に有用な組成物を開示
している。Sakuraiらは、米国特許第43306
46号において、チタン又はチタン及び/又はバナジウ
ム化合物を遷移金属成分として含む同様な触媒を記述し
ている。これらの触媒は、少なくとも180℃の重合温
度で有用である。これらの触媒の不利な点は、触媒固体
を生成する反応が高度に発熱性でありそしてコントロー
ル及び再生が困難であることである。これらの触媒組成
物は、又遷移金属成分に対して過剰のハライドを含み、
そして比較的高いハライド含量を有する重合体を生ず
る。組成物は、全体としてオレフィンの重合に直接使用
される。
グネシウム成分、ハロゲン化アルミニウム及び/又は追
加のハライド源及び遷移金属化合物よりなる。Lowe
ryらは、米国特許第4250288号において、14
0℃以上でα−オレフィンの重合に有用な組成物を開示
している。Sakuraiらは、米国特許第43306
46号において、チタン又はチタン及び/又はバナジウ
ム化合物を遷移金属成分として含む同様な触媒を記述し
ている。これらの触媒は、少なくとも180℃の重合温
度で有用である。これらの触媒の不利な点は、触媒固体
を生成する反応が高度に発熱性でありそしてコントロー
ル及び再生が困難であることである。これらの触媒組成
物は、又遷移金属成分に対して過剰のハライドを含み、
そして比較的高いハライド含量を有する重合体を生ず
る。組成物は、全体としてオレフィンの重合に直接使用
される。
【0006】要求される生成物の応用に適合するよう
に、生成物の分子量、分子量分布(MWD)及び密度の
変動により線状の低密度ポリエチレン(LLDPE)の
性質を最適にすることは、当業者に周知である。LLD
PEの分子量の増大、MWDを狭くすること又は密度の
低下は、通常、改良された衝撃強さ及び穴あけ(pun
cture)抵抗性をもたらす。Ziegler Na
tta触媒による方法(米国特許第3113115及び
3257332号においてKarl Ziegler教
授により記載された)で製造された重合体の分子量は、
概して、種々の量のテロゲン、最も普通には水素の添加
により、工程でコントロールされる。同様に、生成物の
密度は、概して、反応媒体中の共単量体の濃度を変える
ことによりコントロールされる。生成物の分子量及び密
度を或る生成物の適用に最適にすることに加えて、樹脂
の性能における他の改良は、或るメルトインデックス及
び密度の生成物の分子量分布を狭くすることにより得る
ことができる。米国特許第4612300号は、特定の
触媒処方を使用して狭い分子量分布を有するLLDPE
共重合体を製造し、改良された透明度及びタフネスを有
するフィルムに使用される重合体を得る方法を記述して
いる。
に、生成物の分子量、分子量分布(MWD)及び密度の
変動により線状の低密度ポリエチレン(LLDPE)の
性質を最適にすることは、当業者に周知である。LLD
PEの分子量の増大、MWDを狭くすること又は密度の
低下は、通常、改良された衝撃強さ及び穴あけ(pun
cture)抵抗性をもたらす。Ziegler Na
tta触媒による方法(米国特許第3113115及び
3257332号においてKarl Ziegler教
授により記載された)で製造された重合体の分子量は、
概して、種々の量のテロゲン、最も普通には水素の添加
により、工程でコントロールされる。同様に、生成物の
密度は、概して、反応媒体中の共単量体の濃度を変える
ことによりコントロールされる。生成物の分子量及び密
度を或る生成物の適用に最適にすることに加えて、樹脂
の性能における他の改良は、或るメルトインデックス及
び密度の生成物の分子量分布を狭くすることにより得る
ことができる。米国特許第4612300号は、特定の
触媒処方を使用して狭い分子量分布を有するLLDPE
共重合体を製造し、改良された透明度及びタフネスを有
するフィルムに使用される重合体を得る方法を記述して
いる。
【0007】α−重合体の透明度及びタフネスを改良す
ることが知られている他の性質は、ポリプロピレン(K
uhreら、SPE Journal、1964年10
月、1113−1119ページ)及びポリエチレン(N
ahrら、J.Mat.Sci.15(1980)20
01−2009ページ)について記載されているよう
に、小さい球顆のサイズである。同様に、米国特許第4
205021号は、極めて高い重量平均分子量を有する
が従来のエチレン共重合体の固有粘度を有しさらに6ミ
クロン以下の球顆サイズを有する0.90−0.94g
/cm3 の密度を有する共重合体を開示している。Zi
egler触媒により生成された線状の低密度ポリエチ
レン(LLDPE)は、共単量体との共重合から分子中
に導入された側基を有する。1−オクテンの場合では、
この側基は、6個の炭素原子即ちヘキシル鎖を有するだ
ろう。全ての重合体分子に沿ってそしてその中のこれら
の側基又は枝分れ基の分布は、重合体短鎖枝分れ分布
(SCBD)として知られており、この分布の性質は、
生成物の性質及び性能に強いインパクトを有する。
ることが知られている他の性質は、ポリプロピレン(K
uhreら、SPE Journal、1964年10
月、1113−1119ページ)及びポリエチレン(N
ahrら、J.Mat.Sci.15(1980)20
01−2009ページ)について記載されているよう
に、小さい球顆のサイズである。同様に、米国特許第4
205021号は、極めて高い重量平均分子量を有する
が従来のエチレン共重合体の固有粘度を有しさらに6ミ
クロン以下の球顆サイズを有する0.90−0.94g
/cm3 の密度を有する共重合体を開示している。Zi
egler触媒により生成された線状の低密度ポリエチ
レン(LLDPE)は、共単量体との共重合から分子中
に導入された側基を有する。1−オクテンの場合では、
この側基は、6個の炭素原子即ちヘキシル鎖を有するだ
ろう。全ての重合体分子に沿ってそしてその中のこれら
の側基又は枝分れ基の分布は、重合体短鎖枝分れ分布
(SCBD)として知られており、この分布の性質は、
生成物の性質及び性能に強いインパクトを有する。
【0008】J.Plastic Film and
Sheeting、4巻、1988年7月、214−2
26ページ、「Short Chain Branch
ing Distribution of ULDP
E」(K.Dohrer、L.G.Hazlitt、
N.F.Whiteman)は、0.97g/cm3 よ
り大きいが0.918g/cm3 より小さい密度を有す
る狭い分子量分布のLLDPE共重合体を生成すること
が知られている触媒を使用して製造されたLLDPE共
重合体が、狭いSCBDを有するとき、他の触媒の同様
な密度の生成物からのそれらより予想されない程改良さ
れた(低い)量のn−ヘキサン抽出可能物を有すること
を教示している。この研究では、又SCBDの定量的測
定、即ちz1 /z0 又は簡単にz比が導入される。この
限定により、同様な密度の重合体は、z1 の同様な価を
有しなければならないが、広いSCBDを有する重合体
は、z 0 の低い価を有するだろう。それ故、もしz1 /
z0 が低ければSCBDは狭くそしてその逆である。
Sheeting、4巻、1988年7月、214−2
26ページ、「Short Chain Branch
ing Distribution of ULDP
E」(K.Dohrer、L.G.Hazlitt、
N.F.Whiteman)は、0.97g/cm3 よ
り大きいが0.918g/cm3 より小さい密度を有す
る狭い分子量分布のLLDPE共重合体を生成すること
が知られている触媒を使用して製造されたLLDPE共
重合体が、狭いSCBDを有するとき、他の触媒の同様
な密度の生成物からのそれらより予想されない程改良さ
れた(低い)量のn−ヘキサン抽出可能物を有すること
を教示している。この研究では、又SCBDの定量的測
定、即ちz1 /z0 又は簡単にz比が導入される。この
限定により、同様な密度の重合体は、z1 の同様な価を
有しなければならないが、広いSCBDを有する重合体
は、z 0 の低い価を有するだろう。それ故、もしz1 /
z0 が低ければSCBDは狭くそしてその逆である。
【0009】米国特許第4438238号は、高い分子
量及び特定のSCB(短鎖枝分れ/100炭素)の共重
合体と低い分子量及び特定のSCBの共重合体とを混合
することにより形成された改良された性質を有するエチ
レン/α−オレフィン共重合体が、優れた強さの性質を
有ししかも0.91−0.94g/cm3 の密度及び
0.02−50g/10分のメルトインデックス及び3
5−250のメルト流動比の樹脂を生ずることを開示し
ている。米国特許第4918038号は、混合した触媒
系を使用する広い及び/又はバイモダル分子量分布を有
するエチレンホモポリマー又は共重合体の製造方法を開
示している。この系の一つの利点は、生成物が、能率及
びコストで問題のある多段反応器よりむしろ単一の反応
器で製造できることである。米国特許第4481342
号は、種々のα−オレフィン含量のエチレン/α−オレ
フィン共重合体の製造方法を教示し、その導入は、塩化
マグネシウム支持体の孔度及び孔半径によりコントロー
ルされる。
量及び特定のSCB(短鎖枝分れ/100炭素)の共重
合体と低い分子量及び特定のSCBの共重合体とを混合
することにより形成された改良された性質を有するエチ
レン/α−オレフィン共重合体が、優れた強さの性質を
有ししかも0.91−0.94g/cm3 の密度及び
0.02−50g/10分のメルトインデックス及び3
5−250のメルト流動比の樹脂を生ずることを開示し
ている。米国特許第4918038号は、混合した触媒
系を使用する広い及び/又はバイモダル分子量分布を有
するエチレンホモポリマー又は共重合体の製造方法を開
示している。この系の一つの利点は、生成物が、能率及
びコストで問題のある多段反応器よりむしろ単一の反応
器で製造できることである。米国特許第4481342
号は、種々のα−オレフィン含量のエチレン/α−オレ
フィン共重合体の製造方法を教示し、その導入は、塩化
マグネシウム支持体の孔度及び孔半径によりコントロー
ルされる。
【0010】米国特許第4522987号は、クロムに
基づく触媒系を使用する方法を開示し、重合体鎖への共
単量体の導入は、N.M.R.により決定されるよう
に、相対的共単量体分散度(RMD)により記述され
る、「超ランダム」の形で生ずる。分散度は、共単量体
の性質及び気相中のモル%のその濃度の変化によりコン
トロールされる。米国特許第3645992号は、狭い
MWDの均質なランダムな部分的に結晶性の共重合体を
連続的に製造する方法を開示している。均質性の度合
は、反応器の温度を変化することによりコントロールさ
れる。同様に、均質性は、R2 AlClが共触媒として
R1.5 AlCl1.5 又はRAlCl2 よりむしろ使用さ
れたとき、低下した。同様に、オクテン共重合体に関し
て共触媒対触媒の比を9以上:1に増大させることは、
均質な共重合体を生ずるのに必要とされた。
基づく触媒系を使用する方法を開示し、重合体鎖への共
単量体の導入は、N.M.R.により決定されるよう
に、相対的共単量体分散度(RMD)により記述され
る、「超ランダム」の形で生ずる。分散度は、共単量体
の性質及び気相中のモル%のその濃度の変化によりコン
トロールされる。米国特許第3645992号は、狭い
MWDの均質なランダムな部分的に結晶性の共重合体を
連続的に製造する方法を開示している。均質性の度合
は、反応器の温度を変化することによりコントロールさ
れる。同様に、均質性は、R2 AlClが共触媒として
R1.5 AlCl1.5 又はRAlCl2 よりむしろ使用さ
れたとき、低下した。同様に、オクテン共重合体に関し
て共触媒対触媒の比を9以上:1に増大させることは、
均質な共重合体を生ずるのに必要とされた。
【0011】遷移金属及びハライドに基づいて顕著に高
い重合能率を示す触媒組成物を利用できることが望まし
い。又、固体触媒生成物の単離及び/又は洗浄を必要と
しないやり方で製造される一方、これらの高い能率を示
す触媒組成物を利用できることが望ましい。さらに、生
産性及び触媒の品質を向上させるために触媒の製造法を
容易にすることが望ましい。高い分子量及び比較的狭い
分子量分布を有する重合体を提供し、さらに少なくとも
180℃そして200℃より高い重合温度で水素に対し
てさらに耐久性を示す触媒を利用できることも望まし
い。又、所定のメルトインデックス及び密度で、小さい
球顆サイズを有し、そのSCBD(短鎖枝分れ分布)が
容易にコントロールされて特定の生成物の適用について
重合体の性質の所望の組合せを生ずる狭い分子量分布生
成物をもたらす溶液法を有することは、有利であろう。
い重合能率を示す触媒組成物を利用できることが望まし
い。又、固体触媒生成物の単離及び/又は洗浄を必要と
しないやり方で製造される一方、これらの高い能率を示
す触媒組成物を利用できることが望ましい。さらに、生
産性及び触媒の品質を向上させるために触媒の製造法を
容易にすることが望ましい。高い分子量及び比較的狭い
分子量分布を有する重合体を提供し、さらに少なくとも
180℃そして200℃より高い重合温度で水素に対し
てさらに耐久性を示す触媒を利用できることも望まし
い。又、所定のメルトインデックス及び密度で、小さい
球顆サイズを有し、そのSCBD(短鎖枝分れ分布)が
容易にコントロールされて特定の生成物の適用について
重合体の性質の所望の組合せを生ずる狭い分子量分布生
成物をもたらす溶液法を有することは、有利であろう。
【0012】本発明はこれらの課題を解決することを通
して高品質のフィルム等の製品を与えるエチレン系共重
合体を提供するものである。本発明は17%より大きい
高密度フラクション、3.3より小さいMw /Mn比、
0.905−0.935g/cm3 の密度、0.6−6
g/10分のメルトインデックスを有するブレンドされ
ていないエチレン/アルファ−オレフィン共重合体であ
る。好ましくは、高密度フラクションが少なくとも20
%である上記の共重合体である。さらに好ましくは、エ
チレン/アルファ−オレフィン共重合体が、エチレン/
1−オクテン共重合体である上記の共重合体である。
して高品質のフィルム等の製品を与えるエチレン系共重
合体を提供するものである。本発明は17%より大きい
高密度フラクション、3.3より小さいMw /Mn比、
0.905−0.935g/cm3 の密度、0.6−6
g/10分のメルトインデックスを有するブレンドされ
ていないエチレン/アルファ−オレフィン共重合体であ
る。好ましくは、高密度フラクションが少なくとも20
%である上記の共重合体である。さらに好ましくは、エ
チレン/アルファ−オレフィン共重合体が、エチレン/
1−オクテン共重合体である上記の共重合体である。
【0013】本発明の共重合体の製造方法について述べ
る。 (1)シリカ、アルミナ又はシリカ及びアルミナの組合
せよりなる群から選ばれた多孔性の固体無機酸化物支持
物質(該支持物質は、支持物質1g当り5ミリモル以下
のヒドロキシル基並びに10ミクロン以下の粒子サイズ
並びに50−800m2 /gの表面積を含む)、(2)
炭化水素可溶性有機マグネシウムアルコキシド又は炭化
水素可溶性マグネシウムジアルコキシド、(3)チタン
化合物、任意に(4)バナジウム化合物、並びに(5)
IIIA族金属アルキルハライドを接触させることによ
り生ずる生成物を含む組成物をその中にスラリーとした
不活性液体媒体を含み、さらに成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.1:1から5:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属触媒成分
を用いる。
る。 (1)シリカ、アルミナ又はシリカ及びアルミナの組合
せよりなる群から選ばれた多孔性の固体無機酸化物支持
物質(該支持物質は、支持物質1g当り5ミリモル以下
のヒドロキシル基並びに10ミクロン以下の粒子サイズ
並びに50−800m2 /gの表面積を含む)、(2)
炭化水素可溶性有機マグネシウムアルコキシド又は炭化
水素可溶性マグネシウムジアルコキシド、(3)チタン
化合物、任意に(4)バナジウム化合物、並びに(5)
IIIA族金属アルキルハライドを接触させることによ
り生ずる生成物を含む組成物をその中にスラリーとした
不活性液体媒体を含み、さらに成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.1:1から5:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属触媒成分
を用いる。
【0014】不活性液体媒体中にスラリーされた支持さ
れた遷移金属触媒成分を製造する方法は、(A)酸素及
び水分を除いた不活性雰囲気中で、(1)シリカ、アル
ミナ又はシリカ及びアルミナの組合せよりなる群から選
ばれた多孔性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質
は、支持物質1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基
並びに10ミクロン以下の粒子サイズ並びに50−80
0m2 /gの表面積を含む)のスラリーを形成し、
(B)該スラリーと(2)炭化水素可溶性有機マグネシ
ウムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジア
ルコキシドとを混合し、そして得られる混合物を支持物
質の表面を飽和するのに十分な時間−20℃から120
℃の温度で攪拌し、(C)(B)からの生成物と(3)
チタン化合物又はチタン化合物と(4)バナジウム化合
物との組合せとを混合し、又はチタン化合物及びバナジ
ウム化合物を別々に加え、そして得られる混合物を、固
体支持体上に有機マグネシウム部分を残しつつチタン化
合物及びバナジウム化合物の完全な反応を行わせるのに
十分な時間−20℃から120℃の温度で攪拌し、
(D)(C)からの生成物と(5)IIIA族金属アル
キルハライドとを、チタン及びもし存在するならばバナ
ジウムの化合物をそれらの最終の酸化状態に還元するの
に十分な時間−20℃から120℃の温度で混合するこ
とよりなる。
れた遷移金属触媒成分を製造する方法は、(A)酸素及
び水分を除いた不活性雰囲気中で、(1)シリカ、アル
ミナ又はシリカ及びアルミナの組合せよりなる群から選
ばれた多孔性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質
は、支持物質1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基
並びに10ミクロン以下の粒子サイズ並びに50−80
0m2 /gの表面積を含む)のスラリーを形成し、
(B)該スラリーと(2)炭化水素可溶性有機マグネシ
ウムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジア
ルコキシドとを混合し、そして得られる混合物を支持物
質の表面を飽和するのに十分な時間−20℃から120
℃の温度で攪拌し、(C)(B)からの生成物と(3)
チタン化合物又はチタン化合物と(4)バナジウム化合
物との組合せとを混合し、又はチタン化合物及びバナジ
ウム化合物を別々に加え、そして得られる混合物を、固
体支持体上に有機マグネシウム部分を残しつつチタン化
合物及びバナジウム化合物の完全な反応を行わせるのに
十分な時間−20℃から120℃の温度で攪拌し、
(D)(C)からの生成物と(5)IIIA族金属アル
キルハライドとを、チタン及びもし存在するならばバナ
ジウムの化合物をそれらの最終の酸化状態に還元するの
に十分な時間−20℃から120℃の温度で混合するこ
とよりなる。
【0015】1種又はそれ以上のα−オレフィン並びに
任意にα−オレフィン以外の1種又はそれ以上の重合可
能なエチレン性不飽和化合物を重合する方法は、重合さ
れるべき物質を、(A)(1)シリカ、アルミナ又はシ
リカ及びアルミナの組合せよりなる群から選ばれた多孔
性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質は、支持物質
1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基並びに10ミ
クロン以下の粒子サイズ並びに50−800m2 /gの
表面積を含む)、(2)炭化水素可溶性有機マグネシウ
ムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジアル
コキシド、(3)チタン化合物、任意に(4)バナジウ
ム化合物、並びに(5)IIIA族金属アルキルハライ
ドを接触させることにより生ずる生成物を含み、さらに
成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.1:1から5:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属含有触媒
成分、並びに(B)成分(A)の共触媒又は活性剤と接
触させることを含む。
任意にα−オレフィン以外の1種又はそれ以上の重合可
能なエチレン性不飽和化合物を重合する方法は、重合さ
れるべき物質を、(A)(1)シリカ、アルミナ又はシ
リカ及びアルミナの組合せよりなる群から選ばれた多孔
性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質は、支持物質
1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基並びに10ミ
クロン以下の粒子サイズ並びに50−800m2 /gの
表面積を含む)、(2)炭化水素可溶性有機マグネシウ
ムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジアル
コキシド、(3)チタン化合物、任意に(4)バナジウ
ム化合物、並びに(5)IIIA族金属アルキルハライ
ドを接触させることにより生ずる生成物を含み、さらに
成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.1:1から5:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属含有触媒
成分、並びに(B)成分(A)の共触媒又は活性剤と接
触させることを含む。
【0016】エチレン/α−オレフィン共重合体の短鎖
枝分れ分布(SCBD)を変化させることができる。そ
れは、(i)エチレン及び1種又はそれ以上のα−オレ
フィン共単量体を、(A)(1)シリカ、アルミナ又は
シリカ及びアルミナの組合せよりなる群から選ばれた多
孔性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質は、支持物
質1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基並びに10
ミクロン以下の粒子サイズ並びに50−800m2 /g
の表面積を含む)、(2)炭化水素可溶性有機マグネシ
ウムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジア
ルコキシド、(3)チタン化合物、任意に(4)バナジ
ウム化合物、並びに(5)IIIA族金属アルキルハラ
イドを接触させることにより生ずる生成物を含み、さら
に成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.8:1から1.2:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属含有触媒
成分、並びに(B)成分(A)の共触媒又は活性剤の存
在下溶液重合条件におき、そして(ii)成分(A)の
Mg:Tiの比を変化させることによりSCBDをコン
トロールすることよりなる。
枝分れ分布(SCBD)を変化させることができる。そ
れは、(i)エチレン及び1種又はそれ以上のα−オレ
フィン共単量体を、(A)(1)シリカ、アルミナ又は
シリカ及びアルミナの組合せよりなる群から選ばれた多
孔性の固体無機酸化物支持物質(該支持物質は、支持物
質1g当り5ミリモル以下のヒドロキシル基並びに10
ミクロン以下の粒子サイズ並びに50−800m2 /g
の表面積を含む)、(2)炭化水素可溶性有機マグネシ
ウムアルコキシド又は炭化水素可溶性マグネシウムジア
ルコキシド、(3)チタン化合物、任意に(4)バナジ
ウム化合物、並びに(5)IIIA族金属アルキルハラ
イドを接触させることにより生ずる生成物を含み、さら
に成分が、以下の原子比、 1:1から30:1のSi+Al(無機酸化物支持体か
ら):Mg 0.2:1から10:1のMg:Ti 0.05:1から5:1のMg:IIIA金属 0.8:1から1.2:1のV:Ti を提供する量で使用される支持された遷移金属含有触媒
成分、並びに(B)成分(A)の共触媒又は活性剤の存
在下溶液重合条件におき、そして(ii)成分(A)の
Mg:Tiの比を変化させることによりSCBDをコン
トロールすることよりなる。
【0017】上記の触媒成分は、遷移金属及びハライド
に基づいて高い重合能率を示し、そして固体触媒生成物
の単離及び/又は洗浄を必要としないやり方で製造され
る触媒組成物をもちうる。バナジウムを含む触媒は、重
合体が溶液法により製造されるとき、高い分子量及び比
較的狭い分子量分布を有する重合体を生成する。またバ
ナジウムを含む触媒は、重合体がスラリー法により製造
されるとき、比較的広い分子量分布を有する重合体を生
成する。又所定のメルトインデックス及び密度で、小さ
い球顆サイズを有する狭い分子量分布生成物をもたらす
エチレン/α−オレフィン共重合体を製造し、そして特
定の生成物の適用に関して重合体の性質の所望の組合せ
を有する共重合体を生成するようにMg:Tiの原子比
を変化させることにより短鎖枝分れ分布をコントロール
することができる。
に基づいて高い重合能率を示し、そして固体触媒生成物
の単離及び/又は洗浄を必要としないやり方で製造され
る触媒組成物をもちうる。バナジウムを含む触媒は、重
合体が溶液法により製造されるとき、高い分子量及び比
較的狭い分子量分布を有する重合体を生成する。またバ
ナジウムを含む触媒は、重合体がスラリー法により製造
されるとき、比較的広い分子量分布を有する重合体を生
成する。又所定のメルトインデックス及び密度で、小さ
い球顆サイズを有する狭い分子量分布生成物をもたらす
エチレン/α−オレフィン共重合体を製造し、そして特
定の生成物の適用に関して重合体の性質の所望の組合せ
を有する共重合体を生成するようにMg:Tiの原子比
を変化させることにより短鎖枝分れ分布をコントロール
することができる。
【0018】本発明の他の態様は、フィルム、特にパレ
ット包装に使用される注型フィルムを製造するのに特に
有効なエチレン/α−オレフィン共重合体を提供するこ
とである。共重合体は、ここに記述された触媒組成物及
び方法を使用して有利に製造される。共重合体は、例え
ばマルチ層共押し出し注型フィルム構造のコア層として
使用でき、又はそれらは、フィルムでそれら自体で使用
できる。特定の共重合体は、17%より大きい高い密度
フラクション及び3.6より小さい分子量分布(Mw/
Mnにより示される)を有し、そしてフィルムの形に転
換されるときより大きな全体のフィルム延伸性及び穴あ
け抵抗性をもたらす。或る群に属する元素又は金属に関
するここでの引用は、Sargent−Welch S
cientific Company、Skokie、
Illinois、カタログ番号S−18806(19
86)により発行されたthe Periodic T
able Of the Elementsによる。
ット包装に使用される注型フィルムを製造するのに特に
有効なエチレン/α−オレフィン共重合体を提供するこ
とである。共重合体は、ここに記述された触媒組成物及
び方法を使用して有利に製造される。共重合体は、例え
ばマルチ層共押し出し注型フィルム構造のコア層として
使用でき、又はそれらは、フィルムでそれら自体で使用
できる。特定の共重合体は、17%より大きい高い密度
フラクション及び3.6より小さい分子量分布(Mw/
Mnにより示される)を有し、そしてフィルムの形に転
換されるときより大きな全体のフィルム延伸性及び穴あ
け抵抗性をもたらす。或る群に属する元素又は金属に関
するここでの引用は、Sargent−Welch S
cientific Company、Skokie、
Illinois、カタログ番号S−18806(19
86)により発行されたthe Periodic T
able Of the Elementsによる。
【0019】ここで使用される「ヒドロカルビル」は、
脂肪族、脂環族、芳香族、アリール置換脂肪族、アリー
ル置換脂環族、脂肪族置換芳香族又は脂肪族置換脂環族
基を意味する。用語「ヒドロカルビルオキシ」は、それ
とそれが結合している炭素原子との間に酸素結合を有す
るヒドロカルビル基を意味する。用語「共重合体」は、
ここで使用されるとき、2種又はそれ以上の重合可能な
エチレン性不飽和単量体の混合物を重合することにより
生成される重合体を意味する。
脂肪族、脂環族、芳香族、アリール置換脂肪族、アリー
ル置換脂環族、脂肪族置換芳香族又は脂肪族置換脂環族
基を意味する。用語「ヒドロカルビルオキシ」は、それ
とそれが結合している炭素原子との間に酸素結合を有す
るヒドロカルビル基を意味する。用語「共重合体」は、
ここで使用されるとき、2種又はそれ以上の重合可能な
エチレン性不飽和単量体の混合物を重合することにより
生成される重合体を意味する。
【0020】遷移金属触媒の製造 本発明の遷移金属触媒は、以下のやり方で製造できる。
多孔性無機酸化物支持物質は、−20℃から120℃、
好ましくは0℃から100℃、さらに好ましくは20℃
から70℃の温度で、酸素(空気)及び水分を除いた条
件下で不活性有機希釈剤中でスラリー化される。希釈剤
中の支持体の均一なスラリーを形成するための時間以外
の特別な時間は要求されない。これは、使用される量に
依存するが、通常、良好な均一なスラリーは、0.1−
15、好ましくは0.5−10、さらに好ましくは1−
7重量%の濃度範囲で1時間で形成できる。このスラリ
ーに、次に再び酸素(空気)及び水分を除く条件下で炭
化水素可溶性有機マグネシウムアルコキシド又は炭化水
素可溶性有機マグネシウムジアルコキシドを加え、混合
物を、−20℃から120℃、好ましくは0℃から10
0℃、さらに好ましくは20℃から70℃の温度で、固
体支持体の表面とマグネシウム化合物とを反応させるの
に十分な時間通常0.1−10、好ましくは0.2−
8、さらに好ましくは0.5−4時間攪拌する。
多孔性無機酸化物支持物質は、−20℃から120℃、
好ましくは0℃から100℃、さらに好ましくは20℃
から70℃の温度で、酸素(空気)及び水分を除いた条
件下で不活性有機希釈剤中でスラリー化される。希釈剤
中の支持体の均一なスラリーを形成するための時間以外
の特別な時間は要求されない。これは、使用される量に
依存するが、通常、良好な均一なスラリーは、0.1−
15、好ましくは0.5−10、さらに好ましくは1−
7重量%の濃度範囲で1時間で形成できる。このスラリ
ーに、次に再び酸素(空気)及び水分を除く条件下で炭
化水素可溶性有機マグネシウムアルコキシド又は炭化水
素可溶性有機マグネシウムジアルコキシドを加え、混合
物を、−20℃から120℃、好ましくは0℃から10
0℃、さらに好ましくは20℃から70℃の温度で、固
体支持体の表面とマグネシウム化合物とを反応させるの
に十分な時間通常0.1−10、好ましくは0.2−
8、さらに好ましくは0.5−4時間攪拌する。
【0021】マグネシウム化合物の上記の添加後、チタ
ン化合物又はチタン化合物及びバナジウム化合物の組合
せを、再び酸素(空気)及び水分を除く条件下で加え、
そして混合物を、−20℃から120℃、好ましくは0
℃から100℃、さらに好ましくは20℃から70℃の
温度で、チタン化合物及びバナジウム化合物と反応性シ
リカ及びマグネシウム官能物とを完全に反応させるに十
分な時間通常0.1−100、好ましくは0.5−2
0、さらに好ましくは1−10時間攪拌する。チタン及
びバナジウムの化合物は、それらの添加前に予め混合さ
れるか、又はそれらは任意の順序で別々に、マグネシウ
ム化合物と無機酸化物支持物質のスラリーとの混合から
生ずる生成物に加えられる。チタン及び/又はバナジウ
ムの化合物の添加及び混合後、IIIA族金属アルキル
ハライドを加え、混合物を、−20℃から120℃、好
ましくは0℃から100℃、さらに好ましくは20℃か
ら70℃の温度で、チタン及びもし存在するならばバナ
ジウムの化合物をそれらの最終の酸化状態に還元するの
に十分な時間通常1−100、好ましくは2−50、さ
らに好ましくは5−20時間攪拌する。
ン化合物又はチタン化合物及びバナジウム化合物の組合
せを、再び酸素(空気)及び水分を除く条件下で加え、
そして混合物を、−20℃から120℃、好ましくは0
℃から100℃、さらに好ましくは20℃から70℃の
温度で、チタン化合物及びバナジウム化合物と反応性シ
リカ及びマグネシウム官能物とを完全に反応させるに十
分な時間通常0.1−100、好ましくは0.5−2
0、さらに好ましくは1−10時間攪拌する。チタン及
びバナジウムの化合物は、それらの添加前に予め混合さ
れるか、又はそれらは任意の順序で別々に、マグネシウ
ム化合物と無機酸化物支持物質のスラリーとの混合から
生ずる生成物に加えられる。チタン及び/又はバナジウ
ムの化合物の添加及び混合後、IIIA族金属アルキル
ハライドを加え、混合物を、−20℃から120℃、好
ましくは0℃から100℃、さらに好ましくは20℃か
ら70℃の温度で、チタン及びもし存在するならばバナ
ジウムの化合物をそれらの最終の酸化状態に還元するの
に十分な時間通常1−100、好ましくは2−50、さ
らに好ましくは5−20時間攪拌する。
【0022】IIIA族金属アルキルハライドの添加及
び混合の完了後、形成された遷移金属触媒成分は、液体
成分から固体成分を単離することなく、α−オレフィン
の重合に使用できる。遷移金属触媒成分は、その製造直
後使用できるか、又は成分は、或る時間通常約90日間
不活性条件下で貯蔵できる。成分は、又もし所望なら
ば、以下の順序、SiO2 +Mg化合物+Ti化合物+
Al化合物+V化合物で添加できる。成分は、又もし所
望ならば、以下の順序、SiO2 +Mg化合物+Al化
合物+Ti化合物+V化合物で添加できる。酸素(空
気)及び水分は、製造を不活性雰囲気例えば窒素、アル
ゴン、キセノン又はメタン中で行うことにより、触媒製
造中に除くことができる。
び混合の完了後、形成された遷移金属触媒成分は、液体
成分から固体成分を単離することなく、α−オレフィン
の重合に使用できる。遷移金属触媒成分は、その製造直
後使用できるか、又は成分は、或る時間通常約90日間
不活性条件下で貯蔵できる。成分は、又もし所望なら
ば、以下の順序、SiO2 +Mg化合物+Ti化合物+
Al化合物+V化合物で添加できる。成分は、又もし所
望ならば、以下の順序、SiO2 +Mg化合物+Al化
合物+Ti化合物+V化合物で添加できる。酸素(空
気)及び水分は、製造を不活性雰囲気例えば窒素、アル
ゴン、キセノン又はメタン中で行うことにより、触媒製
造中に除くことができる。
【0023】遷移金属触媒の成分 多孔性支持物質 ここで使用できる好適な多孔性シリカ又はアルミナ支持
物質は、支持物質1g当り5ミリモル以下、好ましくは
4ミリモル以下、さらに好ましくは3モリミル以下のヒ
ドロキシル(OH)基を含むものを含む。これらのヒド
ロキシル(OH)基は、シリカ表面上の単離されたシラ
ノール基である。ヒドロキシル基は、支持物質を熱的
に、又は化学的に処理することにより、低下又は排除さ
れる。熱的には、支持物質は、平衡なヒドロキシル基濃
度に達するのに十分な時間通常1−24、好ましくは2
−20、さらに好ましくは3−12時間、250−87
0℃、さらに好ましくは600−800℃の温度で加熱
できる。ヒドロキシル(OH)基は、支持物質を、Si
Cl4 、クロロシラン、シリルアミン、又はそれらの組
合せにより、−20℃から120℃、好ましくは0℃か
ら40℃の温度で、ヒドロキシル含量を所望の値に低下
させるのに十分な時間通常30分以下で処理することに
より、化学的に除去又は低下される。
物質は、支持物質1g当り5ミリモル以下、好ましくは
4ミリモル以下、さらに好ましくは3モリミル以下のヒ
ドロキシル(OH)基を含むものを含む。これらのヒド
ロキシル(OH)基は、シリカ表面上の単離されたシラ
ノール基である。ヒドロキシル基は、支持物質を熱的
に、又は化学的に処理することにより、低下又は排除さ
れる。熱的には、支持物質は、平衡なヒドロキシル基濃
度に達するのに十分な時間通常1−24、好ましくは2
−20、さらに好ましくは3−12時間、250−87
0℃、さらに好ましくは600−800℃の温度で加熱
できる。ヒドロキシル(OH)基は、支持物質を、Si
Cl4 、クロロシラン、シリルアミン、又はそれらの組
合せにより、−20℃から120℃、好ましくは0℃か
ら40℃の温度で、ヒドロキシル含量を所望の値に低下
させるのに十分な時間通常30分以下で処理することに
より、化学的に除去又は低下される。
【0024】多孔性支持物質は、10以下、好ましくは
0.1−10、より好ましくは1−9、最も好ましくは
2−8ミクロンの粒子サイズ、並びに50−800、好
ましくは150−600、さらに好ましくは300−5
00m2 /gの範囲の表面積を有する。支持体の粒子サ
イズは、支持体の粒子サイズを10ミクロン以下に低下
させ一方支持体の表面及び多孔度を維持することが、触
媒の生産性を予想されないほど増大させることをもたら
し、それ故同じ表面及び多孔度であるがより大きな粒子
サイズの支持体上で製造された同じ触媒の生成物に対し
生成物中の塩化物及びチタン残存物の低下をもたらすこ
とを見出したので、重要である。
0.1−10、より好ましくは1−9、最も好ましくは
2−8ミクロンの粒子サイズ、並びに50−800、好
ましくは150−600、さらに好ましくは300−5
00m2 /gの範囲の表面積を有する。支持体の粒子サ
イズは、支持体の粒子サイズを10ミクロン以下に低下
させ一方支持体の表面及び多孔度を維持することが、触
媒の生産性を予想されないほど増大させることをもたら
し、それ故同じ表面及び多孔度であるがより大きな粒子
サイズの支持体上で製造された同じ触媒の生成物に対し
生成物中の塩化物及びチタン残存物の低下をもたらすこ
とを見出したので、重要である。
【0025】不活性液体希釈剤 無機酸化物支持物質をスラリー化するのに使用でき、さ
らに触媒の製造に使用される他の成分の任意のものに対
する希釈剤として使用できる好適な不活性液体希釈剤
は、例えば脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ナフテン
系炭化水素、又はそれらの任意の組合せを含む。特に好
適な溶媒は、例えばペンタン、イソペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソ
ノナン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、トルエン、又はこれら希釈剤の任意の2種又はそれ
以上の任意の組合せを含む。
らに触媒の製造に使用される他の成分の任意のものに対
する希釈剤として使用できる好適な不活性液体希釈剤
は、例えば脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ナフテン
系炭化水素、又はそれらの任意の組合せを含む。特に好
適な溶媒は、例えばペンタン、イソペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、イソ
ノナン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、トルエン、又はこれら希釈剤の任意の2種又はそれ
以上の任意の組合せを含む。
【0026】マグネシウム化合物 遷移金属触媒成分の製造に使用できる好適なマグネシウ
ム化合物は、例えば式Rx Mg(OR)y (但し、各R
は独立して1−20、好ましくは1−10、さらに好ま
しくは2−8個の炭素原子を有するヒドロカルビル基で
あり、x+y=2そして0.5≦y≦2である)により
表される炭化水素可溶性有機マグネシウム化合物を含
む。好ましくは、xは0又は1の値を有し、yは1又は
2の値を有し、そして最も好ましくは、xは1の値を有
し、yは1の値を有する。特に好適なマグネシウム化合
物は、例えばn−ブチルマグネシウムブトキシド、エチ
ルマグネシウムブトキシド、ブチルマグネシウムエトキ
シド、オクチルマグネシウムエトキシド、ブチルマグネ
シウムi−プロポキシド、エチルマグネシウムi−プロ
ポキシド、ブチルマグネシウムn−プロポキシド、エチ
ルマグネシウムn−プロポキシド、s−エチルマグネシ
ウムブトキシド、ブチルマグネシウム2、4−ジメチル
ペント−3−オキシド、n−ブチルマグネシウムオクト
キシド、s−ブチルマグネシウムオクトキシド、又はそ
れらの任意の組合せを含む。
ム化合物は、例えば式Rx Mg(OR)y (但し、各R
は独立して1−20、好ましくは1−10、さらに好ま
しくは2−8個の炭素原子を有するヒドロカルビル基で
あり、x+y=2そして0.5≦y≦2である)により
表される炭化水素可溶性有機マグネシウム化合物を含
む。好ましくは、xは0又は1の値を有し、yは1又は
2の値を有し、そして最も好ましくは、xは1の値を有
し、yは1の値を有する。特に好適なマグネシウム化合
物は、例えばn−ブチルマグネシウムブトキシド、エチ
ルマグネシウムブトキシド、ブチルマグネシウムエトキ
シド、オクチルマグネシウムエトキシド、ブチルマグネ
シウムi−プロポキシド、エチルマグネシウムi−プロ
ポキシド、ブチルマグネシウムn−プロポキシド、エチ
ルマグネシウムn−プロポキシド、s−エチルマグネシ
ウムブトキシド、ブチルマグネシウム2、4−ジメチル
ペント−3−オキシド、n−ブチルマグネシウムオクト
キシド、s−ブチルマグネシウムオクトキシド、又はそ
れらの任意の組合せを含む。
【0027】又好適なのは、マグネシウムジヒドロカル
ビル(MgR2 )化合物及び酸素含有化合物(ROH)
例えばここに参考として引用される米国特許第4748
283号においてKamienskiにより開示された
脂肪族又は脂環族又は非環式C5 −C18ベータ又はガン
マアルキル置換第二級又は第三級一価アルコールの炭化
水素可溶性反応生成物(ジアルコキシド)である。反応
は、好ましくは液体炭化水素媒体の存在下で行われる。
アルコールは、通常、マグネシウムに基づいてモル当量
の2倍より僅かに多く使用される。反応は、通常、50
℃を超えない、好ましくは40℃以下で行われる。特に
好適な酸素含有化合物は、例えば2、4−ジメチル−3
−ペンタノール、2、3−ジメチル−2−ブタノール、
2、4−ジメチル−3−ヘキサノール、2、6−ジメチ
ル−4−ヘプタノール、2、6−ジメチル−シクロヘキ
サノール、又はそれらの任意の組合せを含む。特に好適
なマグネシウムジアルキル化合物は、例えばブチルエチ
ルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ジヘキシルマ
グネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、それらの任
意の組合せを含む。
ビル(MgR2 )化合物及び酸素含有化合物(ROH)
例えばここに参考として引用される米国特許第4748
283号においてKamienskiにより開示された
脂肪族又は脂環族又は非環式C5 −C18ベータ又はガン
マアルキル置換第二級又は第三級一価アルコールの炭化
水素可溶性反応生成物(ジアルコキシド)である。反応
は、好ましくは液体炭化水素媒体の存在下で行われる。
アルコールは、通常、マグネシウムに基づいてモル当量
の2倍より僅かに多く使用される。反応は、通常、50
℃を超えない、好ましくは40℃以下で行われる。特に
好適な酸素含有化合物は、例えば2、4−ジメチル−3
−ペンタノール、2、3−ジメチル−2−ブタノール、
2、4−ジメチル−3−ヘキサノール、2、6−ジメチ
ル−4−ヘプタノール、2、6−ジメチル−シクロヘキ
サノール、又はそれらの任意の組合せを含む。特に好適
なマグネシウムジアルキル化合物は、例えばブチルエチ
ルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ジヘキシルマ
グネシウム、ブチルオクチルマグネシウム、それらの任
意の組合せを含む。
【0028】チタン化合物 遷移金属触媒成分の製造に使用できる好適なチタン化合
物は、例えば式TiX 4-a (OR’)a (但し、各R’
は独立して1−20、好ましくは1−10、さらに好ま
しくは2−8個の炭素原子を有するアルキル基であり、
Xはハロゲン原子好ましくは塩素であり、そしてaは0
−4の価を有する)により表されるものである。特に好
適なチタン化合物は、例えば四塩化チタン(TiCl
4 )、チタンテトライソプロポキシド(Ti(O−i−
C3 H7 )4 )、チタンテトラエトキシド(Ti(OC
2 H5 )4 )、チタンテトラブトキシド(Ti(OC4
H9)4 )、チタントリイソプロポキシドクロリド(T
i(O−i−C3 H7 )3 Cl)又はそれらの任意の組
合せを含む。
物は、例えば式TiX 4-a (OR’)a (但し、各R’
は独立して1−20、好ましくは1−10、さらに好ま
しくは2−8個の炭素原子を有するアルキル基であり、
Xはハロゲン原子好ましくは塩素であり、そしてaは0
−4の価を有する)により表されるものである。特に好
適なチタン化合物は、例えば四塩化チタン(TiCl
4 )、チタンテトライソプロポキシド(Ti(O−i−
C3 H7 )4 )、チタンテトラエトキシド(Ti(OC
2 H5 )4 )、チタンテトラブトキシド(Ti(OC4
H9)4 )、チタントリイソプロポキシドクロリド(T
i(O−i−C3 H7 )3 Cl)又はそれらの任意の組
合せを含む。
【0029】バナジウム化合物 溶液法において、遷移金属としてチタンのみを含む触媒
により生成されるものより高い分子量及び比較的狭い分
子量分布を有するα−オレフィン重合体を生成するのが
望ましいとき、バナジウム化合物が、触媒の製造中遷移
金属成分の一部として加えることができる。分子量分布
を狭くすることは、重合体のI10/I2の値を低下させ
ることにより指示される。用語「比較的狭い分子量分
布」により、チタン及びバナジウムの両者を含む触媒の
存在下で生成される得られる重合体が、バナジウム成分
なしに製造される同様な触媒により同様な条件下で生成
される重合体より狭い分子量分布を有することを意味す
る。スラリー法において、遷移金属としてチタンのみを
含む触媒により生成されるものより高い分子量及び比較
的広い分子量分布を有するα−オレフィン重合体を生成
するのが望ましいとき、バナジウム化合物が、触媒の製
造中遷移金属成分の一部として加えることができる。分
子量分布を広くすることは、重合体のI20/I2 、高負
荷メルト流動比(HLMFR)の値を低下させることに
より指示される。
により生成されるものより高い分子量及び比較的狭い分
子量分布を有するα−オレフィン重合体を生成するのが
望ましいとき、バナジウム化合物が、触媒の製造中遷移
金属成分の一部として加えることができる。分子量分布
を狭くすることは、重合体のI10/I2の値を低下させ
ることにより指示される。用語「比較的狭い分子量分
布」により、チタン及びバナジウムの両者を含む触媒の
存在下で生成される得られる重合体が、バナジウム成分
なしに製造される同様な触媒により同様な条件下で生成
される重合体より狭い分子量分布を有することを意味す
る。スラリー法において、遷移金属としてチタンのみを
含む触媒により生成されるものより高い分子量及び比較
的広い分子量分布を有するα−オレフィン重合体を生成
するのが望ましいとき、バナジウム化合物が、触媒の製
造中遷移金属成分の一部として加えることができる。分
子量分布を広くすることは、重合体のI20/I2 、高負
荷メルト流動比(HLMFR)の値を低下させることに
より指示される。
【0030】用語「比較的広い分子量分布」により、チ
タン及びバナジウムの両者を含む触媒の存在下で生成さ
れる得られる重合体が、バナジウム成分なしに製造され
る同様な触媒により同様な条件下で生成される重合体よ
り広い分子量分布を有することを意味する。遷移金属触
媒成分の製造に使用できる好適なバナジウム化合物は、
例えば式VX4 及びV(O)X3 (但し、各Xは独立し
てOR又はハロゲン原子好ましくは塩素であり、各Rは
独立して1−20、好ましくは2−8、さらに好ましく
は2−4個の炭素原子を有するアルキル基である)によ
り表されるものを含む。特に好適なバナジウム化合物
は、例えば四塩化バナジウム(VCl4 )、三塩化バナ
ジウムオキシド(V(O)Cl3 )、バナジウムトリイ
ソプロポキシドオキシド(V(O)(O−i−C3 H
7 )3 )、バナジウムトリエトキシドオキシド(V
(O)(OC2 H5 )3 )又はそれらの任意の組合せを
含む。
タン及びバナジウムの両者を含む触媒の存在下で生成さ
れる得られる重合体が、バナジウム成分なしに製造され
る同様な触媒により同様な条件下で生成される重合体よ
り広い分子量分布を有することを意味する。遷移金属触
媒成分の製造に使用できる好適なバナジウム化合物は、
例えば式VX4 及びV(O)X3 (但し、各Xは独立し
てOR又はハロゲン原子好ましくは塩素であり、各Rは
独立して1−20、好ましくは2−8、さらに好ましく
は2−4個の炭素原子を有するアルキル基である)によ
り表されるものを含む。特に好適なバナジウム化合物
は、例えば四塩化バナジウム(VCl4 )、三塩化バナ
ジウムオキシド(V(O)Cl3 )、バナジウムトリイ
ソプロポキシドオキシド(V(O)(O−i−C3 H
7 )3 )、バナジウムトリエトキシドオキシド(V
(O)(OC2 H5 )3 )又はそれらの任意の組合せを
含む。
【0031】IIIA族金属の有機ハライド化合物 遷移金属触媒成分の製造に使用できる好適なIIIA族
金属の有機ハライド化合物は、例えば式R’y MXz
(但し、Mは元素の周期律表のIIIA族からの金属好
ましくはアルミニウム又はホウ素であり、各R’は独立
して1−20、好ましくは1−10、さらに好ましくは
2−8個の炭素原子を有するアルキル基であり、Xはハ
ロゲン原子好ましくは塩素であり、そしてy及びzはそ
れぞれ独立して1からM−1の原子価に等しい値を有
し、y+zはMの原子価に等しい値を有する)により表
されるものである。特に好適なこれら有機ハライド化合
物は、例えばエチルアルミニウムジクロリド、エチルア
ルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロ
リド、イソブチルアルミニウムジクロリド、ジイソブチ
ルアルミニウムクロリド、オクチルアルミニウムジクロ
リド又はそれらの任意の組合せを含む。
金属の有機ハライド化合物は、例えば式R’y MXz
(但し、Mは元素の周期律表のIIIA族からの金属好
ましくはアルミニウム又はホウ素であり、各R’は独立
して1−20、好ましくは1−10、さらに好ましくは
2−8個の炭素原子を有するアルキル基であり、Xはハ
ロゲン原子好ましくは塩素であり、そしてy及びzはそ
れぞれ独立して1からM−1の原子価に等しい値を有
し、y+zはMの原子価に等しい値を有する)により表
されるものである。特に好適なこれら有機ハライド化合
物は、例えばエチルアルミニウムジクロリド、エチルア
ルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロ
リド、イソブチルアルミニウムジクロリド、ジイソブチ
ルアルミニウムクロリド、オクチルアルミニウムジクロ
リド又はそれらの任意の組合せを含む。
【0032】成分の量 溶液法の使用では、成分は、以下の原子比をもたらす量
で使用される。 1:1−50:1、好ましくは2:1−40:1、さら
に好ましくは4:1−20:1のSi及び/又はAl
(無機酸化物支持体から):Mg。 0.01:1−100:1、好ましくは0.05:1−
10:1、さらに好ましくは0.1:1−5:1のM
g:IIIA族金属。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:Ti。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:V(Vが存在するとき)。 0.1:1−20:1、好ましくは0.1:1−10:
1、さらに好ましくは0.2:1−5:1のV:Ti。 しかし、エチレン/α−オレフィン共重合体の短鎖枝分
れ分布(SCBD)を変化するために溶液法を使用する
ことが望ましいとき、V:Ti原子比は、0.8:1−
1.2:1、好ましくは1:1である。良好な延伸性及
び穴あけ性を有する本発明のフィルムを製造するのに有
用な共重合体を製造するには、V:Ti比は、又0.
8:1−1.2:1、好ましくは1:1でなければなら
ない。
で使用される。 1:1−50:1、好ましくは2:1−40:1、さら
に好ましくは4:1−20:1のSi及び/又はAl
(無機酸化物支持体から):Mg。 0.01:1−100:1、好ましくは0.05:1−
10:1、さらに好ましくは0.1:1−5:1のM
g:IIIA族金属。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:Ti。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:V(Vが存在するとき)。 0.1:1−20:1、好ましくは0.1:1−10:
1、さらに好ましくは0.2:1−5:1のV:Ti。 しかし、エチレン/α−オレフィン共重合体の短鎖枝分
れ分布(SCBD)を変化するために溶液法を使用する
ことが望ましいとき、V:Ti原子比は、0.8:1−
1.2:1、好ましくは1:1である。良好な延伸性及
び穴あけ性を有する本発明のフィルムを製造するのに有
用な共重合体を製造するには、V:Ti比は、又0.
8:1−1.2:1、好ましくは1:1でなければなら
ない。
【0033】懸濁(スラリー)法に使用されるならば、
成分は以下の原子比をもたらす量で使用される。 1:1−50:1、好ましくは2:1−40:1、さら
に好ましくは4:1−20:1のSi及び/又はAl
(無機酸化物支持体から):Mg。 0.01:1−100:1、好ましくは0.05:1−
10:1、さらに好ましくは0.1:1−5:1のM
g:IIIA族金属。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:Ti。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:V(Vが存在するとき)。 0.1:1−20:1、好ましくは0.1:1−10:
1、さらに好ましくは0.1:1−3:1のV:Ti。 液体媒体として使用される化合物は、触媒の重合の行動
を干渉しない所望のコンシステンシーを有する触媒成分
をもたらす任意の量で使用できる。
成分は以下の原子比をもたらす量で使用される。 1:1−50:1、好ましくは2:1−40:1、さら
に好ましくは4:1−20:1のSi及び/又はAl
(無機酸化物支持体から):Mg。 0.01:1−100:1、好ましくは0.05:1−
10:1、さらに好ましくは0.1:1−5:1のM
g:IIIA族金属。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:Ti。 0.05:1−40:1、好ましくは0.1:1−2
0:1、さらに好ましくは0.2:1−10:1のM
g:V(Vが存在するとき)。 0.1:1−20:1、好ましくは0.1:1−10:
1、さらに好ましくは0.1:1−3:1のV:Ti。 液体媒体として使用される化合物は、触媒の重合の行動
を干渉しない所望のコンシステンシーを有する触媒成分
をもたらす任意の量で使用できる。
【0034】共触媒又は活性剤 上記の遷移金属触媒成分は、1種以上のα−オレフィン
単量体を有効に重合するために共触媒又は活性剤を必要
とする。好適な共触媒又は活性剤は、例えばIIIA族
金属アルキル、金属アルコキシド又は金属アルキルハラ
イド化合物、特にアルミニウムのC1 −C10アルキル化
合物を含む。特に好適なこれら化合物は、例えばトリエ
チルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリ
オクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムエトキシド又はこれら化合物
の任意の2種以上の任意の組合せを含む。
単量体を有効に重合するために共触媒又は活性剤を必要
とする。好適な共触媒又は活性剤は、例えばIIIA族
金属アルキル、金属アルコキシド又は金属アルキルハラ
イド化合物、特にアルミニウムのC1 −C10アルキル化
合物を含む。特に好適なこれら化合物は、例えばトリエ
チルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、トリイソ
ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリ
オクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムエトキシド又はこれら化合物
の任意の2種以上の任意の組合せを含む。
【0035】又好適なのは、アルミノキサン例えば式
(Al(O)R)x (但し、Rは1−8個の炭素原子を
有するアルキル基であり、xは4より大きい値を有す
る)により表されるものである。特に好適なアルミノキ
サンは、例えばメチルアルミノキサン、ヘキサイソブチ
ルテトラアルミニノキサン又はこれら化合物の任意の2
種以上の任意の組合せを含む。又、これらアルミノキサ
ンとアルキルアルミニウム化合物例えばトリエチルアル
ミニウム又はトリブチルアルミニウムとの混合物も使用
できる。共触媒又は活性剤化合物は、0.1:1−5
0:1、好ましくは1:1−20:1、さらに好ましく
は2:1−15:1のTi及びVの合計原子当りIII
A族金属の原子の比をもたらす量で、溶液法で使用でき
る。共触媒又は活性剤化合物は、1:1−1000:
1、好ましくは5:1−500:1、さらに好ましくは
10:1−200:1のTi及びVの合計原子当りII
IA族金属の原子の比をもたらす量で、懸濁(スラリ
ー)法で使用できる。
(Al(O)R)x (但し、Rは1−8個の炭素原子を
有するアルキル基であり、xは4より大きい値を有す
る)により表されるものである。特に好適なアルミノキ
サンは、例えばメチルアルミノキサン、ヘキサイソブチ
ルテトラアルミニノキサン又はこれら化合物の任意の2
種以上の任意の組合せを含む。又、これらアルミノキサ
ンとアルキルアルミニウム化合物例えばトリエチルアル
ミニウム又はトリブチルアルミニウムとの混合物も使用
できる。共触媒又は活性剤化合物は、0.1:1−5
0:1、好ましくは1:1−20:1、さらに好ましく
は2:1−15:1のTi及びVの合計原子当りIII
A族金属の原子の比をもたらす量で、溶液法で使用でき
る。共触媒又は活性剤化合物は、1:1−1000:
1、好ましくは5:1−500:1、さらに好ましくは
10:1−200:1のTi及びVの合計原子当りII
IA族金属の原子の比をもたらす量で、懸濁(スラリ
ー)法で使用できる。
【0036】共重合体中の短鎖枝分れ分布のコントロー
ルによりエチレン/α−オレフィン共重合体の性質の変
更 本発明の方法は、それが広い範囲のメルトインデックス
及び密度にわたってSCBD(z比により測定)をコン
トロールし、そして全ての樹脂において狭い分子量分布
及び小さい球顆サイズを生ずる溶液法を明らかにした点
で、従来の技術とは異なる。本発明によれば、これらの
樹脂のSCBDのコントロール法は、触媒組成物におけ
る系統だった変化により達成される。このコントロール
は、支持体の表面積とは無関係であり、反応器の温度の
変化、又は最適の触媒の生産性を確実にする最適の共触
媒/触媒の比からの偏りを必要としない。方法は、改良
された延伸の性能を有する注型フィルム樹脂又は改良さ
れた強さの性質例えばダーツ衝撃を有する吹き込みフィ
ルム樹脂を或る例として製造するために使用できる。本
発明の方法は、系統的にシリカ支持された触媒のマグネ
シウム:チタンの比を変化させて、狭い分子量分布及び
小さい球顆サイズを有する所定のメルトインデックス及
び密度の生成物を生ずる。われわれの研究の驚くべき結
果は、連続的溶液法において、所定のメルトインデック
ス及び密度の製品に関して、触媒のチタン:バナジウム
のモル比を1:1に維持しつつ触媒のマグネシウム:チ
タンの比を系統的に増大又は減少させることは、これら
の樹脂のz比(z1/z0)により測定される生成物の
SCBDの系統的な拡がり(即ちMg:Ti比の減少)
又は狭まり(即ちMg:Ti比の増大)をもたらすこと
を示した。
ルによりエチレン/α−オレフィン共重合体の性質の変
更 本発明の方法は、それが広い範囲のメルトインデックス
及び密度にわたってSCBD(z比により測定)をコン
トロールし、そして全ての樹脂において狭い分子量分布
及び小さい球顆サイズを生ずる溶液法を明らかにした点
で、従来の技術とは異なる。本発明によれば、これらの
樹脂のSCBDのコントロール法は、触媒組成物におけ
る系統だった変化により達成される。このコントロール
は、支持体の表面積とは無関係であり、反応器の温度の
変化、又は最適の触媒の生産性を確実にする最適の共触
媒/触媒の比からの偏りを必要としない。方法は、改良
された延伸の性能を有する注型フィルム樹脂又は改良さ
れた強さの性質例えばダーツ衝撃を有する吹き込みフィ
ルム樹脂を或る例として製造するために使用できる。本
発明の方法は、系統的にシリカ支持された触媒のマグネ
シウム:チタンの比を変化させて、狭い分子量分布及び
小さい球顆サイズを有する所定のメルトインデックス及
び密度の生成物を生ずる。われわれの研究の驚くべき結
果は、連続的溶液法において、所定のメルトインデック
ス及び密度の製品に関して、触媒のチタン:バナジウム
のモル比を1:1に維持しつつ触媒のマグネシウム:チ
タンの比を系統的に増大又は減少させることは、これら
の樹脂のz比(z1/z0)により測定される生成物の
SCBDの系統的な拡がり(即ちMg:Ti比の減少)
又は狭まり(即ちMg:Ti比の増大)をもたらすこと
を示した。
【0037】この方法の種々のメルトインデックス及び
密度の樹脂への適用は、生成物のSCBD、z比及び結
晶化温度を、特定の生成物の応用にぴったり合うよう
し、樹脂の物理的性質に改良を生ずる。この研究中に、
われわれは、触媒における変化が、フィルムに製造され
るとき、特に狭い分子量分布、広いSCBD LLDP
E樹脂から、改良された延伸性及び穴あけ抵抗性を示す
ということを予想されることなく見出した。この方法
は、ここで記載された溶液条件で行われる。この方法で
生成される共重合体は、0.2−500g/10分(A
STM D1238、条件190℃/2.16kg)、
好ましくは0.4−100g/10分又はより好ましく
は0.6−5g/10分のメルトインデックス、並びに
0.8−0.96g/cm3 (ASTM D792)、
好ましくは0.85−0.94g/cm3 、より好まし
くは0.90−0.93g/cm3 の密度を有する重合
可能な共単量体のエチレン/α−オレフィン共重合体で
ある。
密度の樹脂への適用は、生成物のSCBD、z比及び結
晶化温度を、特定の生成物の応用にぴったり合うよう
し、樹脂の物理的性質に改良を生ずる。この研究中に、
われわれは、触媒における変化が、フィルムに製造され
るとき、特に狭い分子量分布、広いSCBD LLDP
E樹脂から、改良された延伸性及び穴あけ抵抗性を示す
ということを予想されることなく見出した。この方法
は、ここで記載された溶液条件で行われる。この方法で
生成される共重合体は、0.2−500g/10分(A
STM D1238、条件190℃/2.16kg)、
好ましくは0.4−100g/10分又はより好ましく
は0.6−5g/10分のメルトインデックス、並びに
0.8−0.96g/cm3 (ASTM D792)、
好ましくは0.85−0.94g/cm3 、より好まし
くは0.90−0.93g/cm3 の密度を有する重合
可能な共単量体のエチレン/α−オレフィン共重合体で
ある。
【0038】構成された物品例えば成形された物品(例
えば射出成形、吹き込み成形、回転成形及び圧縮成形の
パーツ)は、本発明により生成された共重合体から製造
できる。しかし、特に利用されるのは、本発明の共重合
体からのフィルム又はマルチ層フィルムの構造物であ
る。フィルム又はフィルム構造物は、従来のフィルム製
造法の任意のものを使用して製造できる。これらは、吹
き込みフィルム、注型フィルム及び押し出し被覆フィル
ムの方法を含む。特に好ましいのは、注型フィルムであ
る。本発明の共重合体は、フィルム中で単独(即ち単層
として)で使用されるか、又はそれらはマルチ層構造物
の少なくとも一つの層として使用できる。フィルムは、
通常、厚さ0.4−1.2ミル、好ましくは0.8ミル
である。添加物は、又フィルムに使用されるために、本
発明の共重合体に含まれる。例えば、添加物は、しばし
ば使用される共重合体に含まれて、ここに記載された共
重合体の特に魅力的な用途領域であるパレット包装用の
フィルムを製造する。パレット包装フィルムのスキン層
は、特別な添加物例えばポリイソブチレン(PIB)を
含んで、パレット上の製品へのフィルムの粘着性を増大
する。
えば射出成形、吹き込み成形、回転成形及び圧縮成形の
パーツ)は、本発明により生成された共重合体から製造
できる。しかし、特に利用されるのは、本発明の共重合
体からのフィルム又はマルチ層フィルムの構造物であ
る。フィルム又はフィルム構造物は、従来のフィルム製
造法の任意のものを使用して製造できる。これらは、吹
き込みフィルム、注型フィルム及び押し出し被覆フィル
ムの方法を含む。特に好ましいのは、注型フィルムであ
る。本発明の共重合体は、フィルム中で単独(即ち単層
として)で使用されるか、又はそれらはマルチ層構造物
の少なくとも一つの層として使用できる。フィルムは、
通常、厚さ0.4−1.2ミル、好ましくは0.8ミル
である。添加物は、又フィルムに使用されるために、本
発明の共重合体に含まれる。例えば、添加物は、しばし
ば使用される共重合体に含まれて、ここに記載された共
重合体の特に魅力的な用途領域であるパレット包装用の
フィルムを製造する。パレット包装フィルムのスキン層
は、特別な添加物例えばポリイソブチレン(PIB)を
含んで、パレット上の製品へのフィルムの粘着性を増大
する。
【0039】われわれは、パレット包装に使用されるフ
ィルムに製造されるとき、フィルムの最終の延伸性及び
穴あけ性を増大するエチレン/α−オレフィン共重合体
の特定の性質を見出した。高い最終の延伸性は、フィル
ムの破損を避けるか又は最小にし、一方良好な穴あけ性
は、フィルムの損傷を最小にする。良好な延伸性及び良
好な穴あけ性は、又少ないフィルムが使用され、それに
より廃棄物を最小にするので、良好な末端ユーザーの経
済性を導く。所望の最終の延伸性は、少なくとも280
%であり、一方少なくとも250ft−1b/cm3 の
穴あけ性を維持する。最終の延伸性は、シミュレートさ
れたパレット包装条件によりテストされ、そしてここに
さらに記述される。パレット包装フィルムを製造するの
に使用されるエチレン/α−オレフィン共重合体は、
3.6より小さいそして好ましくは3.3より小さい重
量平均分子量(Mw )対数平均分子量(Mn )の比(M
w /Mn )、並びに17%(共重合体の重量)より大き
く好ましくは少なくとも20%の高密度フラクションを
有するだろう。これらの性質を有する本発明で記述され
た触媒及び方法を使用して製造された共重合体は、特に
この延伸フィルムの適用に有効であり、そして今まで入
手できなかった。上記の特定の性質を有するブレンドさ
れていないエチレン/α−オレフィン共重合体も、本発
明の範囲内にある。用語「ブレンドされていない」は、
共重合体が単一の反応器系内で製造され、そして他の理
由のための添加物例えば粘着性増大のためのPIBを除
いて、狭い分子量分布及び%高密度フラクションの性質
を達成するためにそれらにブレンドされる他の重合体を
有しないことを示す。この延伸フィルムの用途では、共
重合体は、好ましくは0.905−0.935g/cm
3 、好ましくは0.912−0.925g/cm3 の密
度を有する。共重合体のメルトインデックスは、好まし
くは0.6−6g/10分、特に1−4g/10分であ
る。
ィルムに製造されるとき、フィルムの最終の延伸性及び
穴あけ性を増大するエチレン/α−オレフィン共重合体
の特定の性質を見出した。高い最終の延伸性は、フィル
ムの破損を避けるか又は最小にし、一方良好な穴あけ性
は、フィルムの損傷を最小にする。良好な延伸性及び良
好な穴あけ性は、又少ないフィルムが使用され、それに
より廃棄物を最小にするので、良好な末端ユーザーの経
済性を導く。所望の最終の延伸性は、少なくとも280
%であり、一方少なくとも250ft−1b/cm3 の
穴あけ性を維持する。最終の延伸性は、シミュレートさ
れたパレット包装条件によりテストされ、そしてここに
さらに記述される。パレット包装フィルムを製造するの
に使用されるエチレン/α−オレフィン共重合体は、
3.6より小さいそして好ましくは3.3より小さい重
量平均分子量(Mw )対数平均分子量(Mn )の比(M
w /Mn )、並びに17%(共重合体の重量)より大き
く好ましくは少なくとも20%の高密度フラクションを
有するだろう。これらの性質を有する本発明で記述され
た触媒及び方法を使用して製造された共重合体は、特に
この延伸フィルムの適用に有効であり、そして今まで入
手できなかった。上記の特定の性質を有するブレンドさ
れていないエチレン/α−オレフィン共重合体も、本発
明の範囲内にある。用語「ブレンドされていない」は、
共重合体が単一の反応器系内で製造され、そして他の理
由のための添加物例えば粘着性増大のためのPIBを除
いて、狭い分子量分布及び%高密度フラクションの性質
を達成するためにそれらにブレンドされる他の重合体を
有しないことを示す。この延伸フィルムの用途では、共
重合体は、好ましくは0.905−0.935g/cm
3 、好ましくは0.912−0.925g/cm3 の密
度を有する。共重合体のメルトインデックスは、好まし
くは0.6−6g/10分、特に1−4g/10分であ
る。
【0040】重合可能な単量体 好適な重合可能な単量体は、例えば2−20、好ましく
は2−12、さらに好ましくは2−8個の炭素原子を有
するα−オレフィン及びこれらα−オレフィンの任意の
2種以上の任意の組合せを含む。特に好適なこれらα−
オレフィンは、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテ
ン、1−ペンテン、4−メチルペンテン−1、1−ヘキ
セン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−
デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセ
ン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、又はそれら
の任意の組合せを含む。好ましくは、α−オレフィン
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、4−メチルペ
ンテン−1、1−ヘキセン、1−オクテン、及びこれら
α−オレフィンの任意の2種以上の組合せである。
は2−12、さらに好ましくは2−8個の炭素原子を有
するα−オレフィン及びこれらα−オレフィンの任意の
2種以上の任意の組合せを含む。特に好適なこれらα−
オレフィンは、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテ
ン、1−ペンテン、4−メチルペンテン−1、1−ヘキ
セン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−
デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−トリデセ
ン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、又はそれら
の任意の組合せを含む。好ましくは、α−オレフィン
は、エチレン、プロピレン、1−ブテン、4−メチルペ
ンテン−1、1−ヘキセン、1−オクテン、及びこれら
α−オレフィンの任意の2種以上の組合せである。
【0041】重合 本発明の触媒は、溶液又はスラリー法による単量体の重
合で有利に使用できる。スラリー法は、0℃から得られ
る重合体が不活性重合媒体に可溶性になる温度より低い
温度、好ましくは60−105℃、より好ましくは80
−95℃の温度で使用される。溶液法は、得られる重合
体が不活性反応媒体に可溶性である温度から275℃ま
での温度、好ましくは145−260℃、さらに好まし
くは180−240℃で使用される。重合は、1−20
00、好ましくは5−500、さらに好ましくは10−
50気圧の圧力で使用できる。分子量コントロール剤例
えば水素は、α−オレフィンを重合する技術の当業者に
周知のやり方で使用できる。通常、使用する水素又は停
止剤の量が多くなればなるほど、得られる重合体の分子
量を低下させる。水素は、所望の12の値により示され
るように、所望の分子量を有する得られる重合体をもた
らす量で使用される。
合で有利に使用できる。スラリー法は、0℃から得られ
る重合体が不活性重合媒体に可溶性になる温度より低い
温度、好ましくは60−105℃、より好ましくは80
−95℃の温度で使用される。溶液法は、得られる重合
体が不活性反応媒体に可溶性である温度から275℃ま
での温度、好ましくは145−260℃、さらに好まし
くは180−240℃で使用される。重合は、1−20
00、好ましくは5−500、さらに好ましくは10−
50気圧の圧力で使用できる。分子量コントロール剤例
えば水素は、α−オレフィンを重合する技術の当業者に
周知のやり方で使用できる。通常、使用する水素又は停
止剤の量が多くなればなるほど、得られる重合体の分子
量を低下させる。水素は、所望の12の値により示され
るように、所望の分子量を有する得られる重合体をもた
らす量で使用される。
【0042】溶液重合は、任意の好適な不活性反応媒体
例えば芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ナフテン系炭
化水素、又はそれらの組合せの存在下使用できる。特に
好適な不活性反応媒体は、例えばヘキサン、ヘプタン、
オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカ
ン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン又はそれら
の組合せを含む。懸濁(スラリー)重合は、任意の好適
な不活性反応媒体例えば芳香族炭化水素、脂肪族炭化水
素、ナフテン系炭化水素、液状α−オレフィン、液状炭
化水素又はそれらの組合せの存在下使用できる。特に好
適な不活性反応媒体は、例えばイソブタン、イソペンタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオ
クタン、ノナン、イソノナン、デカン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、又はそれらの任意の組合せを含
む。
例えば芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、ナフテン系炭
化水素、又はそれらの組合せの存在下使用できる。特に
好適な不活性反応媒体は、例えばヘキサン、ヘプタン、
オクタン、イソオクタン、ノナン、イソノナン、デカ
ン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン又はそれら
の組合せを含む。懸濁(スラリー)重合は、任意の好適
な不活性反応媒体例えば芳香族炭化水素、脂肪族炭化水
素、ナフテン系炭化水素、液状α−オレフィン、液状炭
化水素又はそれらの組合せの存在下使用できる。特に好
適な不活性反応媒体は、例えばイソブタン、イソペンタ
ン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオ
クタン、ノナン、イソノナン、デカン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、又はそれらの任意の組合せを含
む。
【0043】
【実施例】以下の実施例は、本発明の例であるが、全て
においてその範囲を制限するものと考えてはならない。
以下の成分は、実施例及び比較実験で使用された。シリ
カ支持体#1は、3μの平均粒子サイズ、337m2 /
gの表面積を有するシリカであり、12時間600℃で
窒素雰囲気下流動床で加熱されて3.2ミリモル/gの
ヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じた。シ
リカ支持体#2は、70μの平均粒子サイズ、310m
2 /gの表面積を有するシリカであり、12時間600
℃で窒素雰囲気下流動床で加熱されて1.9ミリモル/
gのヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じ
た。シリカ支持体#3は、145μの平均粒子サイズ、
310m2 /gの表面積を有するシリカのふるいフラク
ションであり、12時間800℃で窒素雰囲気下流動床
で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシル含量を
有するシリカ支持物質を生じた。
においてその範囲を制限するものと考えてはならない。
以下の成分は、実施例及び比較実験で使用された。シリ
カ支持体#1は、3μの平均粒子サイズ、337m2 /
gの表面積を有するシリカであり、12時間600℃で
窒素雰囲気下流動床で加熱されて3.2ミリモル/gの
ヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じた。シ
リカ支持体#2は、70μの平均粒子サイズ、310m
2 /gの表面積を有するシリカであり、12時間600
℃で窒素雰囲気下流動床で加熱されて1.9ミリモル/
gのヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じ
た。シリカ支持体#3は、145μの平均粒子サイズ、
310m2 /gの表面積を有するシリカのふるいフラク
ションであり、12時間800℃で窒素雰囲気下流動床
で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシル含量を
有するシリカ支持物質を生じた。
【0044】シリカ支持体#4は、145μの平均粒子
サイズ、310m2 /gの表面積を有するシリカのふる
いフラクションであり、12時間800℃で窒素雰囲気
下流動床で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシ
ル含量を有するシリカ支持物質を生じた。シリカ支持体
#5は、40μの平均粒子サイズ、310m2 /gの表
面積を有するシリカのふるいフラクションであり、12
時間800℃で窒素雰囲気下流動床で加熱されて1.8
ミリモル/gのヒドロキシル含量を有するシリカ支持物
質を生じた。シリカ支持体#6は、3μの平均粒子サイ
ズ、310m2 /gの表面積を有するシリカのふるいフ
ラクションであり、12時間800℃で窒素雰囲気下流
動床で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシル含
量を有するシリカ支持物質を生じた。シリカ支持体#7
は、3μの平均粒子サイズ、430m2 /gの表面積を
有する小さいサイズのシリカであり、5時間800℃で
窒素雰囲気下流動床で加熱されて2.8ミリモル/gの
ヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じた。
サイズ、310m2 /gの表面積を有するシリカのふる
いフラクションであり、12時間800℃で窒素雰囲気
下流動床で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシ
ル含量を有するシリカ支持物質を生じた。シリカ支持体
#5は、40μの平均粒子サイズ、310m2 /gの表
面積を有するシリカのふるいフラクションであり、12
時間800℃で窒素雰囲気下流動床で加熱されて1.8
ミリモル/gのヒドロキシル含量を有するシリカ支持物
質を生じた。シリカ支持体#6は、3μの平均粒子サイ
ズ、310m2 /gの表面積を有するシリカのふるいフ
ラクションであり、12時間800℃で窒素雰囲気下流
動床で加熱されて1.8ミリモル/gのヒドロキシル含
量を有するシリカ支持物質を生じた。シリカ支持体#7
は、3μの平均粒子サイズ、430m2 /gの表面積を
有する小さいサイズのシリカであり、5時間800℃で
窒素雰囲気下流動床で加熱されて2.8ミリモル/gの
ヒドロキシル含量を有するシリカ支持物質を生じた。
【0045】ISOPAR(商標)Eは、Exxon
Corporationから市販されている113−1
43℃の沸点範囲を有する分溜されたイソパラフィン溶
媒であった。基本的な物理的テスト(メルトインデック
ス、I2 、I10/I2 及び密度)は、以下の標準AST
Mを使用してそれぞれのサンプルについて行われた。 メルトインデックス(I2 ):ASTM D1238、
条件190℃/2.16kg。 メルトインデックス(I10):ASTM D1238、
条件190℃/10kg。 メルトインデックス(I20):ASTM D1238、
条件190℃/20kg。 密度:ASTM D792。融点は、示差走査熱量測定
(DSC)を使用して決定された。
Corporationから市販されている113−1
43℃の沸点範囲を有する分溜されたイソパラフィン溶
媒であった。基本的な物理的テスト(メルトインデック
ス、I2 、I10/I2 及び密度)は、以下の標準AST
Mを使用してそれぞれのサンプルについて行われた。 メルトインデックス(I2 ):ASTM D1238、
条件190℃/2.16kg。 メルトインデックス(I10):ASTM D1238、
条件190℃/10kg。 メルトインデックス(I20):ASTM D1238、
条件190℃/20kg。 密度:ASTM D792。融点は、示差走査熱量測定
(DSC)を使用して決定された。
【0046】得られる重合体の分子量は、又140℃の
システム温度で操作する、3本の混合多孔度カラム(P
olymer Laboratories、103 、1
04及び106 )を備えたWaters150C高温度
クロマトグラフィーユニットを使用するゲル透過クロマ
トグラフィー(GPC)により求められた。溶媒は1、
2、4−トリクロロベンゼンであり、それからサンプル
の0.3重量%溶液が注入のために調製された。流速
は、1.0mL/分であり、注入サイズは200μLで
あった。
システム温度で操作する、3本の混合多孔度カラム(P
olymer Laboratories、103 、1
04及び106 )を備えたWaters150C高温度
クロマトグラフィーユニットを使用するゲル透過クロマ
トグラフィー(GPC)により求められた。溶媒は1、
2、4−トリクロロベンゼンであり、それからサンプル
の0.3重量%溶液が注入のために調製された。流速
は、1.0mL/分であり、注入サイズは200μLで
あった。
【0047】分子量の測定は、それらの溶離容量に関連
して狭い分子量分布ポリスチレン標準品(Polyme
r Laboratoriesから)を使用することに
より導き出された。ポリエチレン分子量当量は、式 M(ポリエチレン)=a* (M(ポリスチレン))b を導くために、ポリエチレン及びポリスチレンに関する
適切なMark−Houwink係数を使用することに
より決定された(ここに参考として引用する、Will
iams及びWordによりJournal of P
olymer Science、Polymer Le
tters、6巻、(621)1968に記述されてい
る)。この式において、a=0.4316であり、b=
1.0である。重量平均分子量Mw は、式 Mw =RWi * Mi (但し、Wi 及びMi は、それぞれ、GPCカラムから
溶離するi番目のフラクションの重量フラクション及び
分子量である)に従って通常のやり方で計算された。
して狭い分子量分布ポリスチレン標準品(Polyme
r Laboratoriesから)を使用することに
より導き出された。ポリエチレン分子量当量は、式 M(ポリエチレン)=a* (M(ポリスチレン))b を導くために、ポリエチレン及びポリスチレンに関する
適切なMark−Houwink係数を使用することに
より決定された(ここに参考として引用する、Will
iams及びWordによりJournal of P
olymer Science、Polymer Le
tters、6巻、(621)1968に記述されてい
る)。この式において、a=0.4316であり、b=
1.0である。重量平均分子量Mw は、式 Mw =RWi * Mi (但し、Wi 及びMi は、それぞれ、GPCカラムから
溶離するi番目のフラクションの重量フラクション及び
分子量である)に従って通常のやり方で計算された。
【0048】それぞれの樹脂の結晶化の開始及び結晶化
のカイネティックスは、180℃で溶融し10℃/分の
速度で70℃に冷却したサンプルを通る平面偏光の透過
を測定することにより決定された。各樹脂の短鎖枝分れ
分布(SCDB)及び%高密度フラクションは、米国特
許第4798081号、並びにLonnie G.Ha
zlittによりJournal of Applie
d Polymer Science、Applied
Polymer Science Symposia
45、25−37(1990)「Determina
tion of Short−ChainBranch
ing Distributions of Ethy
leneCopolymers by Automat
ed Analytical Temperature
Rising Elution Fractiona
tion(AUTO−ATREF)」に記載されている
ように、AnalyticalTemperature
Rising Elution Fractiona
tion(ATREF)により決定された。ATREF
は、結晶度に従って重合体を分離する。短鎖枝分れ分布
及び高密度フラクションに関する実験的やり方は、以下
の通りであった。
のカイネティックスは、180℃で溶融し10℃/分の
速度で70℃に冷却したサンプルを通る平面偏光の透過
を測定することにより決定された。各樹脂の短鎖枝分れ
分布(SCDB)及び%高密度フラクションは、米国特
許第4798081号、並びにLonnie G.Ha
zlittによりJournal of Applie
d Polymer Science、Applied
Polymer Science Symposia
45、25−37(1990)「Determina
tion of Short−ChainBranch
ing Distributions of Ethy
leneCopolymers by Automat
ed Analytical Temperature
Rising Elution Fractiona
tion(AUTO−ATREF)」に記載されている
ように、AnalyticalTemperature
Rising Elution Fractiona
tion(ATREF)により決定された。ATREF
は、結晶度に従って重合体を分離する。短鎖枝分れ分布
及び高密度フラクションに関する実験的やり方は、以下
の通りであった。
【0049】1.TREF装置デザイン 工程管理ガスクロマトグラフ(GC)分析器を、コンピ
ュータ管理イベントシーケンサ及びマルチプルGCオー
ブンプログラマとしてのデザイン及び機能の基礎として
使用した。GCは、デジタルI/Oを使用して、気圧ソ
レノイドを操作し、他の気圧装置を操作し、そして種々
のデジタルスイッチの状態を検出する。GCの主なコン
ポーネントは、2個の大きな強制送風の等温(135
℃)のオーブン及び4個の小さいプログラム可能な強制
送風GCオーブンを含む。GCオーブンは、販売者によ
り供給されるソフトウエアにより操作されて温度プロフ
ィルをコントロールする。ソフトウエアは、他のプログ
ラム指示を含み、そして自動化のための必要なコントロ
ールを提供するために時間に基づく固定された配列より
なる。1/16インチIDステンレス鋼管よりなる5ミ
ルサンプルループを使用して、一時的に新しく注入した
重合体溶液を受容した。シリンジ−ポンプアセンブリ
は、重合体溶液をサンプルループ中に移動させるために
必要な真空をもたらす。シリンジポンプアセンブリは、
5mLシリンジバレル及びエアシリンダを使用してプラ
ンジャを駆動する。別の注入器ヘッドアセンブリは、次
の取り出しのために重合体の溶液中へ針を入れるために
使用された。このアセンブリは、バルブのように働く。
それは、針が下りたとき、流れはできず、そしてバルブ
が上がったとき、それは実際に流れの路の一部であるか
らである。重合体溶液は、サンプルカルーセルアセンブ
リを経てシステムに導入された。
ュータ管理イベントシーケンサ及びマルチプルGCオー
ブンプログラマとしてのデザイン及び機能の基礎として
使用した。GCは、デジタルI/Oを使用して、気圧ソ
レノイドを操作し、他の気圧装置を操作し、そして種々
のデジタルスイッチの状態を検出する。GCの主なコン
ポーネントは、2個の大きな強制送風の等温(135
℃)のオーブン及び4個の小さいプログラム可能な強制
送風GCオーブンを含む。GCオーブンは、販売者によ
り供給されるソフトウエアにより操作されて温度プロフ
ィルをコントロールする。ソフトウエアは、他のプログ
ラム指示を含み、そして自動化のための必要なコントロ
ールを提供するために時間に基づく固定された配列より
なる。1/16インチIDステンレス鋼管よりなる5ミ
ルサンプルループを使用して、一時的に新しく注入した
重合体溶液を受容した。シリンジ−ポンプアセンブリ
は、重合体溶液をサンプルループ中に移動させるために
必要な真空をもたらす。シリンジポンプアセンブリは、
5mLシリンジバレル及びエアシリンダを使用してプラ
ンジャを駆動する。別の注入器ヘッドアセンブリは、次
の取り出しのために重合体の溶液中へ針を入れるために
使用された。このアセンブリは、バルブのように働く。
それは、針が下りたとき、流れはできず、そしてバルブ
が上がったとき、それは実際に流れの路の一部であるか
らである。重合体溶液は、サンプルカルーセルアセンブ
リを経てシステムに導入された。
【0050】下のオーブンに、4個のプログラム可能な
GCオーブンが結合していた。これらのオーブンのそれ
ぞれにおいて、1/8インチの薄い壁のステンレス鋼管
から構成された小さいATREFカラムが存在した。こ
れらは、ステンレス鋼ショットによりパックされた。カ
ラムの全部の隙間の容積は、1.5mLであった。溶媒
及び重合体溶液は、加熱された移動ラインを経て、3.
5ミクロンにセットされた単一ビーム赤外線検出器に送
られた。検出器には、0.1cmの路長を生ずるように
間隔をあけた亜鉛セレニドウインドウを含む高温度の流
れ通過サンプルセルを備えた。屈折率及び粘度計を含む
他の検出器も使用できる(しかしここでは論議しな
い)。溶媒廃棄物用の貯槽は、検出器の後に設けられ
た。
GCオーブンが結合していた。これらのオーブンのそれ
ぞれにおいて、1/8インチの薄い壁のステンレス鋼管
から構成された小さいATREFカラムが存在した。こ
れらは、ステンレス鋼ショットによりパックされた。カ
ラムの全部の隙間の容積は、1.5mLであった。溶媒
及び重合体溶液は、加熱された移動ラインを経て、3.
5ミクロンにセットされた単一ビーム赤外線検出器に送
られた。検出器には、0.1cmの路長を生ずるように
間隔をあけた亜鉛セレニドウインドウを含む高温度の流
れ通過サンプルセルを備えた。屈折率及び粘度計を含む
他の検出器も使用できる(しかしここでは論議しな
い)。溶媒廃棄物用の貯槽は、検出器の後に設けられ
た。
【0051】システムを操作する分析器コンピュータに
加えて、別のパーソナルコンピュータがデータシステム
として使用された。この後者のシステムのソフトウエア
は、ATREF装置からのテジタル記憶信号に関する種
々のデータ捕捉ルーチン並びにこのデジタル記録データ
を意味のあるグラフ及びレポートに変換するためのデー
タリダクションルーチンを含む。ATREF装置からの
種々の電圧は、デジタルで測定された。これらは、赤外
線検出器の出力、他の質量検出器及びGCオーブンのそ
れぞれからの熱電対の出力を含む。共重合体溶液は、約
0.6重量%でTCB中で調製され、そして160℃に
加熱されて均一性を確実にした。これらの溶液を、テフ
ロン(登録商標)隔膜を取り付けた穴の開いたキャップ
をつけた15mLのバイアルに入れ、次にカルーセル中
に入れた。カルーセルを上のオーブンに入れ、分析器コ
ンピュータを次に始動した。操作は、次に次の24時間
完全に自動化され、提供されたデータコレクションルー
チンがデータシステム上で開始し、適切な溶媒供給が利
用できた。
加えて、別のパーソナルコンピュータがデータシステム
として使用された。この後者のシステムのソフトウエア
は、ATREF装置からのテジタル記憶信号に関する種
々のデータ捕捉ルーチン並びにこのデジタル記録データ
を意味のあるグラフ及びレポートに変換するためのデー
タリダクションルーチンを含む。ATREF装置からの
種々の電圧は、デジタルで測定された。これらは、赤外
線検出器の出力、他の質量検出器及びGCオーブンのそ
れぞれからの熱電対の出力を含む。共重合体溶液は、約
0.6重量%でTCB中で調製され、そして160℃に
加熱されて均一性を確実にした。これらの溶液を、テフ
ロン(登録商標)隔膜を取り付けた穴の開いたキャップ
をつけた15mLのバイアルに入れ、次にカルーセル中
に入れた。カルーセルを上のオーブンに入れ、分析器コ
ンピュータを次に始動した。操作は、次に次の24時間
完全に自動化され、提供されたデータコレクションルー
チンがデータシステム上で開始し、適切な溶媒供給が利
用できた。
【0052】装置の操作は、分析器コンピュータ上で実
施される四つの同じプログラムモジュールの配列よりな
る。これらのモジュール中の唯一の差は、それぞれが操
作するGCオーブンであった。それぞれのモジュール
は、時間に基づくイベント即ちバルブ1オン、バルブ5
オフ、温度プログラム1などの配列よりなる。簡単のた
めに、唯一のプログラムモジュールの操作(GCオーブ
ン1の操作)を記述し、連続操作は全ての四つのプログ
ラムモジュールの使用を要することを理解すべきであ
る。最初24℃のGCオーブン1が前に沈殿した共重合
体を含み、そしてオーブンは今や溶離しようとしている
とする。これは、装置が或る時間操業し、そしてカラム
中の沈殿した重合体が以前の注入からであったことを意
味する。バルブ1、バルブ5及びバルブ7−10を閉じ
た。バルブ4及びバルブ6を開けた。流れ(1.5mL
/分)は、上のオーブン及び全てのGCオーブンをバイ
パスした。検出器はベースラインの条件にあり、純粋の
TCBのみがシステムを移動した。
施される四つの同じプログラムモジュールの配列よりな
る。これらのモジュール中の唯一の差は、それぞれが操
作するGCオーブンであった。それぞれのモジュール
は、時間に基づくイベント即ちバルブ1オン、バルブ5
オフ、温度プログラム1などの配列よりなる。簡単のた
めに、唯一のプログラムモジュールの操作(GCオーブ
ン1の操作)を記述し、連続操作は全ての四つのプログ
ラムモジュールの使用を要することを理解すべきであ
る。最初24℃のGCオーブン1が前に沈殿した共重合
体を含み、そしてオーブンは今や溶離しようとしている
とする。これは、装置が或る時間操業し、そしてカラム
中の沈殿した重合体が以前の注入からであったことを意
味する。バルブ1、バルブ5及びバルブ7−10を閉じ
た。バルブ4及びバルブ6を開けた。流れ(1.5mL
/分)は、上のオーブン及び全てのGCオーブンをバイ
パスした。検出器はベースラインの条件にあり、純粋の
TCBのみがシステムを移動した。
【0053】各プログラムモジュールの第一の段階は、
溶離段階が開始されつつある一連の接触閉めきりを経て
データシステムを通知することであった。次の段階は、
GCオーブン1の上のバルブ7を開け、バルブ6を閉じ
ることであった。新しい溶媒がGCオーブン1に入る
と、それは重合体溶液の沈殿中カラムに残った溶媒を置
き換える。殆ど全ての場合において、例え24℃でも沈
殿しない重合体のフラクションが存在した。置換した溶
媒がオーブンを出ると、それはIR検出器に向った。最
初のカラム内容物が溶離しそしてIR検出器がベースラ
インの条件に戻った後、GCオーブン1を+1.5℃/
分の温度プログラムにした。連続的なレスポンスがIR
に生じ、それは、溶液中の溶離重合体の濃度に比例し
た。この検出器のレスポンス及び内部の熱電対からのレ
スポンスを、時間の関数としてデータシステムに記録し
た。
溶離段階が開始されつつある一連の接触閉めきりを経て
データシステムを通知することであった。次の段階は、
GCオーブン1の上のバルブ7を開け、バルブ6を閉じ
ることであった。新しい溶媒がGCオーブン1に入る
と、それは重合体溶液の沈殿中カラムに残った溶媒を置
き換える。殆ど全ての場合において、例え24℃でも沈
殿しない重合体のフラクションが存在した。置換した溶
媒がオーブンを出ると、それはIR検出器に向った。最
初のカラム内容物が溶離しそしてIR検出器がベースラ
インの条件に戻った後、GCオーブン1を+1.5℃/
分の温度プログラムにした。連続的なレスポンスがIR
に生じ、それは、溶液中の溶離重合体の濃度に比例し
た。この検出器のレスポンス及び内部の熱電対からのレ
スポンスを、時間の関数としてデータシステムに記録し
た。
【0054】GCオーブン1が122℃に達した後、溶
離段階が完了したと考えた。溶媒の流れを上記のように
維持する一方、上のオーブンにおいて、バルブ2を開
け、バルブ3を閉じた。カルーセルを一つの位置に進め
た。注入器のヘッド内のシリンジの針を下げた。シリン
ジポンプを押し下げ、重合体溶液をサンプルループに押
し出した。サンプルループは、溶液の全てがシリンジポ
ンプ機構に入るのを妨げるのに十分なほど大きかった。
5分間の遅延は、或る範囲の粘度を有する溶液がループ
を満たす時間を有することを確実にするために含まれ
た。
離段階が完了したと考えた。溶媒の流れを上記のように
維持する一方、上のオーブンにおいて、バルブ2を開
け、バルブ3を閉じた。カルーセルを一つの位置に進め
た。注入器のヘッド内のシリンジの針を下げた。シリン
ジポンプを押し下げ、重合体溶液をサンプルループに押
し出した。サンプルループは、溶液の全てがシリンジポ
ンプ機構に入るのを妨げるのに十分なほど大きかった。
5分間の遅延は、或る範囲の粘度を有する溶液がループ
を満たす時間を有することを確実にするために含まれ
た。
【0055】次の段階は、GCオーブン1にカラムを付
け、そして最初の状態に注入器コンポーネントを再セッ
トすることであった。バルブ2を閉じ、針を上げ、バル
ブ3を開け、シリンジポンプを上方に押し上げ、過剰の
TCBを廃棄へ押し出した。バルブ1及びバルブ5を開
け、バルブ4を閉めた。サンプルループ中に位置する重
合体溶液は、122℃を維持しつつ、GCオーブン1に
向って殆どプラグ流の条件で移動する。重合体溶液の移
動するプラグがGCオーブン1のカラム上に大体集まる
ときに、バルブ6を開け、バルブ7を閉めた。移動する
5mLカラムの部分は、今や流れから離れ、過剰の溶液
がシステムから流されるとき、後に残される。この条件
を30分間維持して、上のオーブンが新しい溶媒により
十分に洗われることを確実にする。
け、そして最初の状態に注入器コンポーネントを再セッ
トすることであった。バルブ2を閉じ、針を上げ、バル
ブ3を開け、シリンジポンプを上方に押し上げ、過剰の
TCBを廃棄へ押し出した。バルブ1及びバルブ5を開
け、バルブ4を閉めた。サンプルループ中に位置する重
合体溶液は、122℃を維持しつつ、GCオーブン1に
向って殆どプラグ流の条件で移動する。重合体溶液の移
動するプラグがGCオーブン1のカラム上に大体集まる
ときに、バルブ6を開け、バルブ7を閉めた。移動する
5mLカラムの部分は、今や流れから離れ、過剰の溶液
がシステムから流されるとき、後に残される。この条件
を30分間維持して、上のオーブンが新しい溶媒により
十分に洗われることを確実にする。
【0056】GCオーブン1に関する三つの温度プログ
ラムを開始した。第一は、−10℃/分で122℃から
106℃への急速冷却であった。次に、温度プログラム
は、−0.1℃/分で106℃から開始した。この速度
で、全部の冷却は、完了には13時間以上を要するだろ
う。この時間は、オーブン温度が50℃に達したとき開
始する−0.3℃/分の最終の温度プログラムによりや
や短くなった。全冷却時間は、約10.5時間を必要と
し、そしてそれぞれのプログラムモジュールが3時間を
少し超えるに過ぎず、上記の最後の温度プログラム(−
0.3℃/分)は、GCオーブン4を操作するプログラ
ムモジュールに実際に存在する。各プログラムモジュー
ルの最後に近く、バルブは、次のモジュールの調製でこ
のセクションの初めに記載した最初の条件に戻った。次
のモジュールは、それらが次のGCオーブンで操作する
ことを除いて、同じであった。
ラムを開始した。第一は、−10℃/分で122℃から
106℃への急速冷却であった。次に、温度プログラム
は、−0.1℃/分で106℃から開始した。この速度
で、全部の冷却は、完了には13時間以上を要するだろ
う。この時間は、オーブン温度が50℃に達したとき開
始する−0.3℃/分の最終の温度プログラムによりや
や短くなった。全冷却時間は、約10.5時間を必要と
し、そしてそれぞれのプログラムモジュールが3時間を
少し超えるに過ぎず、上記の最後の温度プログラム(−
0.3℃/分)は、GCオーブン4を操作するプログラ
ムモジュールに実際に存在する。各プログラムモジュー
ルの最後に近く、バルブは、次のモジュールの調製でこ
のセクションの初めに記載した最初の条件に戻った。次
のモジュールは、それらが次のGCオーブンで操作する
ことを除いて、同じであった。
【0057】デジタル化ATREFデータは、時間の関
数としてIR検出器レスポンス及びカラム温度の記録で
あった。データレダクションルーチンは、ベースライン
の減、温度ドメインへの変換、平滑化、正規化及びデー
タのプロットを含む。分布のバイモダル性は、最高の温
度ピークの重量フラクションにより特徴ずけられる。こ
のフラクションは、それが短鎖枝分れを殆ど又は全く含
まないので、高密度フラクションと呼ばれた。残りのフ
ラクションは、それ故、それが、共重合体に固有な殆ど
全ての短鎖枝分れを含むフラクションを表すので、SC
Bフラクションと理論的に呼ばれた。
数としてIR検出器レスポンス及びカラム温度の記録で
あった。データレダクションルーチンは、ベースライン
の減、温度ドメインへの変換、平滑化、正規化及びデー
タのプロットを含む。分布のバイモダル性は、最高の温
度ピークの重量フラクションにより特徴ずけられる。こ
のフラクションは、それが短鎖枝分れを殆ど又は全く含
まないので、高密度フラクションと呼ばれた。残りのフ
ラクションは、それ故、それが、共重合体に固有な殆ど
全ての短鎖枝分れを含むフラクションを表すので、SC
Bフラクションと理論的に呼ばれた。
【0058】炭素延伸周波数に一致するIR検出器の利
点は、検出器レスポンスがさらに殆ど均一であり、低い
レベルの添加物は「パージ」ピークの測定とかなり干渉
しないことであった。「パージ」のフラクションは、2
5℃に近い矩形の領域で表された。このフラクションの
共重合体は、非常に高いレベルのSCBを含む。ここで
記載した新規なフィルムを製造するのに使用される共重
合体は、広い短鎖枝分れ分布を有する。これは、共重合
体が、より好ましくない共重合体より比較的大きな高い
密度及びパージフラクション並びに比較的中間的でない
枝分れ物質を含むことを意味する。約17%より大きな
高い密度フラクションを有するSCBDを有する共重合
体が特に好ましく、そして少なくとも約20%の高い密
度フラクションを有するSCBDが最も好ましかった。
点は、検出器レスポンスがさらに殆ど均一であり、低い
レベルの添加物は「パージ」ピークの測定とかなり干渉
しないことであった。「パージ」のフラクションは、2
5℃に近い矩形の領域で表された。このフラクションの
共重合体は、非常に高いレベルのSCBを含む。ここで
記載した新規なフィルムを製造するのに使用される共重
合体は、広い短鎖枝分れ分布を有する。これは、共重合
体が、より好ましくない共重合体より比較的大きな高い
密度及びパージフラクション並びに比較的中間的でない
枝分れ物質を含むことを意味する。約17%より大きな
高い密度フラクションを有するSCBDを有する共重合
体が特に好ましく、そして少なくとも約20%の高い密
度フラクションを有するSCBDが最も好ましかった。
【0059】D.枝分れ含量の決定 枝分れ含量(即ち枝分れの度合)は、ASTM法D22
38−68に従ってCH3 /1000C(メチル/10
00炭素)決定から計算された。Beckman426
0赤外線分光光度計を、約0.15mmの厚さのフィル
ムを使用して、用いた。鎖末端メチル基の補正は、重量
%共単量体(例えば1−オクテン)配合を正確に決定す
るために必要であった。補正は、以下の式 補正CH3 /1000C=未補正CH3 /1000C+ビニル−28000 1000C Mn に従ってなされた。共単量体の配合は、以下の式 重量%オクテン=(1−オクテンの分子量)(補正CH3 /1000C) (100) 14000+84(補正CH3 /1000C) から決定できる。
38−68に従ってCH3 /1000C(メチル/10
00炭素)決定から計算された。Beckman426
0赤外線分光光度計を、約0.15mmの厚さのフィル
ムを使用して、用いた。鎖末端メチル基の補正は、重量
%共単量体(例えば1−オクテン)配合を正確に決定す
るために必要であった。補正は、以下の式 補正CH3 /1000C=未補正CH3 /1000C+ビニル−28000 1000C Mn に従ってなされた。共単量体の配合は、以下の式 重量%オクテン=(1−オクテンの分子量)(補正CH3 /1000C) (100) 14000+84(補正CH3 /1000C) から決定できる。
【0060】SCBDの巾はz値を使用して記載され、
その計算は、その結晶化温度Tc で結晶化した全重合体
のフラクションについて、13C NMRによりメチル
/1000炭素のフラクションを決定し(鎖の末端即ち
分子量について補正)、そして以下に示されるメチル単
位の平均配列長さのモルフラクションを計算することに
より得られる。但し、mは共単量体の炭素数であり、M
nは数平均分子量であり、そしてxはメチル/1000
炭素(補正)であった。 z={1−(x(m−1)/1000+28/Mn)}
1000/(x+1) もし、この計算が全重合体のTc範囲にわたるフラクシ
ョンについて繰り返されたならば、新しい分布は、平均
の結晶可能なセグメントモルフラクションの関数として
重合体(ATREFから)の重量フラクションを反映し
ている。二つのモメントは次に規定される。 z0 =(Ewi/zi )−1 及び z1 =Ewi×z 但し、Ewiはi番目のフラクションの重量%であり、z
i はi番目のフラクションについて観察されたTc から
計算されたzの値であった。本発明の重合体について、
各Tc の重量フラクションは、ATREFにより決定さ
れ、そして各Tcについて1000炭素当りの補正され
たメチルは、サンプル生成物タイプのフラクションから
得られたメチル/1000炭素対Tc の既に決定された
較正曲線を使用して決定された。
その計算は、その結晶化温度Tc で結晶化した全重合体
のフラクションについて、13C NMRによりメチル
/1000炭素のフラクションを決定し(鎖の末端即ち
分子量について補正)、そして以下に示されるメチル単
位の平均配列長さのモルフラクションを計算することに
より得られる。但し、mは共単量体の炭素数であり、M
nは数平均分子量であり、そしてxはメチル/1000
炭素(補正)であった。 z={1−(x(m−1)/1000+28/Mn)}
1000/(x+1) もし、この計算が全重合体のTc範囲にわたるフラクシ
ョンについて繰り返されたならば、新しい分布は、平均
の結晶可能なセグメントモルフラクションの関数として
重合体(ATREFから)の重量フラクションを反映し
ている。二つのモメントは次に規定される。 z0 =(Ewi/zi )−1 及び z1 =Ewi×z 但し、Ewiはi番目のフラクションの重量%であり、z
i はi番目のフラクションについて観察されたTc から
計算されたzの値であった。本発明の重合体について、
各Tc の重量フラクションは、ATREFにより決定さ
れ、そして各Tcについて1000炭素当りの補正され
たメチルは、サンプル生成物タイプのフラクションから
得られたメチル/1000炭素対Tc の既に決定された
較正曲線を使用して決定された。
【0061】形態学的分析は、分析器及び偏光子を備え
たニコン偏光顕微鏡(Optiphot−Pol)を使
用して実施された。サンプルの調製は、180℃でサン
プルを溶融し、10℃/分の速度で70℃に冷却するこ
とを含んだ。冷却したとき、サンプルを顕微鏡のスライ
ドに置き、写真を、光電管に結合した35mmカメラを
使用して撮った。フィルタホルダは、光源の次に直接位
置して、写真を撮っている間フィルタ表面からの偽像の
全てのフレアを避けた。写真は、200倍の拡大率をも
たらす対物レンズを使用して撮った。
たニコン偏光顕微鏡(Optiphot−Pol)を使
用して実施された。サンプルの調製は、180℃でサン
プルを溶融し、10℃/分の速度で70℃に冷却するこ
とを含んだ。冷却したとき、サンプルを顕微鏡のスライ
ドに置き、写真を、光電管に結合した35mmカメラを
使用して撮った。フィルタホルダは、光源の次に直接位
置して、写真を撮っている間フィルタ表面からの偽像の
全てのフレアを避けた。写真は、200倍の拡大率をも
たらす対物レンズを使用して撮った。
【0062】重合(溶液条件) 攪拌した1ガロン(3.79L)容オートクレーブ反応
器に、所望の温度に加熱する前に、2LのISOPAR
E及び反応器中のそのモル濃度が0.99Mであるよ
うな量で必要な量のアルファ−オレフィン共単量体、オ
クテン−1を入れた。必要量即ち2psig(13.8
kPa)の水素を次に反応器に加え、次に全圧力を45
0psig(3103kPa)にするに十分なエチレン
を加えた。或る量の活性化触媒を反応器に注入した。反
応器の温度及び圧力を、重合実験中エチレンを連続的に
供給し、そして必要に応じ反応器を冷却することによ
り、示されるように、最初の圧力及び温度に一定に維持
した。10分の反応時間後(他に示されない限り)、エ
チレンを止め、加熱溶液を窒素でパージした樹脂釜に移
した。乾燥後、サンプルを次に秤量して触媒の能率を決
定し、次に標準の方法により溶融流れ及び密度測定を決
定した。
器に、所望の温度に加熱する前に、2LのISOPAR
E及び反応器中のそのモル濃度が0.99Mであるよ
うな量で必要な量のアルファ−オレフィン共単量体、オ
クテン−1を入れた。必要量即ち2psig(13.8
kPa)の水素を次に反応器に加え、次に全圧力を45
0psig(3103kPa)にするに十分なエチレン
を加えた。或る量の活性化触媒を反応器に注入した。反
応器の温度及び圧力を、重合実験中エチレンを連続的に
供給し、そして必要に応じ反応器を冷却することによ
り、示されるように、最初の圧力及び温度に一定に維持
した。10分の反応時間後(他に示されない限り)、エ
チレンを止め、加熱溶液を窒素でパージした樹脂釜に移
した。乾燥後、サンプルを次に秤量して触媒の能率を決
定し、次に標準の方法により溶融流れ及び密度測定を決
定した。
【0063】重合(スラリー条件) 攪拌した1.4L容オートクレーブ反応器に、所望の温
度に加熱する前に700mLのISOPAR Eを入れ
た。蒸気の空間を水素により満たし、水素を所望の分圧
に達するまで反応器に加えた。次に、全圧を175ps
ig(1207kPa)にするに十分なエチレンを加え
た。活性化触媒の製造の下で記載された或る量の活性化
触媒を反応器に注入した。反応器の温度及び圧力を、重
合実験中エチレンを連続的に供給し、そして必要に応じ
反応器を冷却することにより、最初の圧力及び温度に一
定に維持した。45分の反応時間後(他に示されない限
り)、エチレンを止め、加熱溶液を窒素でパージした樹
脂釜に移した。乾燥後、サンプルを次に秤量して触媒の
能率を決定し、次に溶融流れ及び密度測定を決定した。
度に加熱する前に700mLのISOPAR Eを入れ
た。蒸気の空間を水素により満たし、水素を所望の分圧
に達するまで反応器に加えた。次に、全圧を175ps
ig(1207kPa)にするに十分なエチレンを加え
た。活性化触媒の製造の下で記載された或る量の活性化
触媒を反応器に注入した。反応器の温度及び圧力を、重
合実験中エチレンを連続的に供給し、そして必要に応じ
反応器を冷却することにより、最初の圧力及び温度に一
定に維持した。45分の反応時間後(他に示されない限
り)、エチレンを止め、加熱溶液を窒素でパージした樹
脂釜に移した。乾燥後、サンプルを次に秤量して触媒の
能率を決定し、次に溶融流れ及び密度測定を決定した。
【0064】実施例 1 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中で攪拌された1gのシリ
カ支持体#1に、必要な量のブチルオクチルマグネシウ
ムエトキシド(Schering A.G.からのBO
MAG−O)を加えた。得られるスラリーを1時間攪拌
し、次に或る量の四塩化チタン(TiCl4 )を加え
た。スラリーは、急速に濃い褐色になり、さらに2時間
攪拌した。25%エチルアルミニウムジクロリドの溶液
の一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間攪拌し
た。このやり方で製造した完全な混合物を、さらに単離
又は洗浄することなく使用した。触媒は表Iに示された
原子比を有する。
カ支持体#1に、必要な量のブチルオクチルマグネシウ
ムエトキシド(Schering A.G.からのBO
MAG−O)を加えた。得られるスラリーを1時間攪拌
し、次に或る量の四塩化チタン(TiCl4 )を加え
た。スラリーは、急速に濃い褐色になり、さらに2時間
攪拌した。25%エチルアルミニウムジクロリドの溶液
の一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間攪拌し
た。このやり方で製造した完全な混合物を、さらに単離
又は洗浄することなく使用した。触媒は表Iに示された
原子比を有する。
【0065】B.活性化触媒の製造 活性化触媒は、グローブボックス中の100mL容隔膜
キャップ瓶中で、40mLのISOPAR E中で4m
Lの遷移金属触媒成分をスラリー化することにより製造
された。この混合物に、共触媒又は活性剤として必要な
量のヘキサン中のトリエチルアルミニウムの0.15M
溶液を加えた。得られるスラリーは、ISOPAR E
により50mLの全容量にし、そして混合物をバッチ反
応器中に注入して重合を行った。共触媒からのAl対チ
タンの原子比は、表Iに示された。 C.重合(溶液条件) 溶液条件下の重合のやり方は、185℃の重合温度で使
用された。触媒の能率は、表Iに示された。
キャップ瓶中で、40mLのISOPAR E中で4m
Lの遷移金属触媒成分をスラリー化することにより製造
された。この混合物に、共触媒又は活性剤として必要な
量のヘキサン中のトリエチルアルミニウムの0.15M
溶液を加えた。得られるスラリーは、ISOPAR E
により50mLの全容量にし、そして混合物をバッチ反
応器中に注入して重合を行った。共触媒からのAl対チ
タンの原子比は、表Iに示された。 C.重合(溶液条件) 溶液条件下の重合のやり方は、185℃の重合温度で使
用された。触媒の能率は、表Iに示された。
【0066】D.(比較) 触媒を、以下のやり方で米国特許第4562169号で
記載されたように製造した。Davisonシリカゲ
ル、グレード952を、窒素により流動化し、そして1
2時間800℃で加熱し、窒素下で室温に冷却すること
により脱ヒドロキシル化した。10gの活性化シリカを
100mLの無水脱ガスヘキサン中でスラリー化し、6
0℃の還流温度にし、7mLのテトラヒドロフラン(T
HF)中のエチルマグネシウムクロリドの2.6M溶液
を徐々に加え、次に120分間さらに還流した。溶媒を
蒸留により除き、シリカを窒素パージ下で80℃で乾燥
した。 この生成物を100mLのISOPAR E中
に溶解した6mLのTiCl4の予め混合した溶液とス
ラリー化し、スラリーを2時間50℃で攪拌した。この
混合物を室温に冷却し、固体を100mLずつのISO
PAR Eにより2回、100mLずつのヘキサンによ
り2回洗い、そして窒素パージ下で乾燥して黄褐色の自
由に流動する粉末を生じた。粉末の分析は、それが1.
3mモルのMg/g触媒、0.9mモルのTi/g触媒
及び4.5mモルのCl/g触媒を含むことを示す。触
媒を次にグローブボックス中の4オンス(118.3m
L)容隔膜キャップ瓶中で、40mLのISOPAR
E中で2gの乾燥触媒をスラリー化することにより、ト
リエチルアルミニウム(TEA)活性剤(共触媒)と組
み合せた。この溶液の2mL部分を、第二の瓶に移し、
それに必要量のヘキサン中のトリエチルアルミニウムの
0.15M溶液を加え、次に20mLのISOPAR
Eを加えた。必要な量のこのスラリーを次にバッチ反応
器中に注入して、前記したように175℃で溶液条件下
で重合を行った。触媒の能率及び生成物のデータを表I
に示される。
記載されたように製造した。Davisonシリカゲ
ル、グレード952を、窒素により流動化し、そして1
2時間800℃で加熱し、窒素下で室温に冷却すること
により脱ヒドロキシル化した。10gの活性化シリカを
100mLの無水脱ガスヘキサン中でスラリー化し、6
0℃の還流温度にし、7mLのテトラヒドロフラン(T
HF)中のエチルマグネシウムクロリドの2.6M溶液
を徐々に加え、次に120分間さらに還流した。溶媒を
蒸留により除き、シリカを窒素パージ下で80℃で乾燥
した。 この生成物を100mLのISOPAR E中
に溶解した6mLのTiCl4の予め混合した溶液とス
ラリー化し、スラリーを2時間50℃で攪拌した。この
混合物を室温に冷却し、固体を100mLずつのISO
PAR Eにより2回、100mLずつのヘキサンによ
り2回洗い、そして窒素パージ下で乾燥して黄褐色の自
由に流動する粉末を生じた。粉末の分析は、それが1.
3mモルのMg/g触媒、0.9mモルのTi/g触媒
及び4.5mモルのCl/g触媒を含むことを示す。触
媒を次にグローブボックス中の4オンス(118.3m
L)容隔膜キャップ瓶中で、40mLのISOPAR
E中で2gの乾燥触媒をスラリー化することにより、ト
リエチルアルミニウム(TEA)活性剤(共触媒)と組
み合せた。この溶液の2mL部分を、第二の瓶に移し、
それに必要量のヘキサン中のトリエチルアルミニウムの
0.15M溶液を加え、次に20mLのISOPAR
Eを加えた。必要な量のこのスラリーを次にバッチ反応
器中に注入して、前記したように175℃で溶液条件下
で重合を行った。触媒の能率及び生成物のデータを表I
に示される。
【0067】
【表1】
【0068】実施例 2 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化された表I
Iに示された支持体の1gサンプルに、2.0mモルの
ブチルエチルマグネシウムブトキシド(Texas A
lkyls Inc.からのBEMB)を加えた。混合
物を1時間攪拌し、混合物としての1.0mモルのTi
Cl4 及び1.0mモルのV(O)Cl 3 そして6.0
mモルのエチルアルミニウムジクロリド(ヘキサン中の
15M溶液4.0mL)により次々に処理した。混合物
を100mLの全容量に希釈し、次に24時間攪拌し
た。遷移金属コンプレックス中の成分の原子比Mg/A
l/Cl/Ti/Vは、2/6/19/1/1であっ
た。触媒成分は、8/1のAl(活性剤)/Ti比を使
用して実施例1で記載したやり方に従って活性化した
(共触媒の使用)。 B.重合 重合を185℃の溶液法の条件で行った。重合反応の結
果を表IIに示す。
Iに示された支持体の1gサンプルに、2.0mモルの
ブチルエチルマグネシウムブトキシド(Texas A
lkyls Inc.からのBEMB)を加えた。混合
物を1時間攪拌し、混合物としての1.0mモルのTi
Cl4 及び1.0mモルのV(O)Cl 3 そして6.0
mモルのエチルアルミニウムジクロリド(ヘキサン中の
15M溶液4.0mL)により次々に処理した。混合物
を100mLの全容量に希釈し、次に24時間攪拌し
た。遷移金属コンプレックス中の成分の原子比Mg/A
l/Cl/Ti/Vは、2/6/19/1/1であっ
た。触媒成分は、8/1のAl(活性剤)/Ti比を使
用して実施例1で記載したやり方に従って活性化した
(共触媒の使用)。 B.重合 重合を185℃の溶液法の条件で行った。重合反応の結
果を表IIに示す。
【0069】
【表2】
【0070】実施例 3 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化された異な
る粒子サイズの指示された支持体の1gに、2.0mモ
ルのブチルエチルマグネシウムブトキシド(Texas
Alkyls Inc.からのBEMB)を加えた。
得られるスラリーを1時間攪拌し、次に0.20mモル
のチタンテトライソプロポキシドを加えた。スラリーを
さらに2時間攪拌した。25%エチルアルミニウムジク
ロリド(4.0mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり方によ
り製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄すること
なく使用した。Mg/Al/Cl/Tiの原子比は、1
0/20/40/1であった。触媒を、実施例IBに記
載されたやり方により100/1のAl/Tiの原子比
でトリイソブチルアルミニウムにより活性化した。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度を使用してスラリー条件下で行った。重合反応の結
果を表IIIに示す。
る粒子サイズの指示された支持体の1gに、2.0mモ
ルのブチルエチルマグネシウムブトキシド(Texas
Alkyls Inc.からのBEMB)を加えた。
得られるスラリーを1時間攪拌し、次に0.20mモル
のチタンテトライソプロポキシドを加えた。スラリーを
さらに2時間攪拌した。25%エチルアルミニウムジク
ロリド(4.0mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり方によ
り製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄すること
なく使用した。Mg/Al/Cl/Tiの原子比は、1
0/20/40/1であった。触媒を、実施例IBに記
載されたやり方により100/1のAl/Tiの原子比
でトリイソブチルアルミニウムにより活性化した。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度を使用してスラリー条件下で行った。重合反応の結
果を表IIIに示す。
【0071】
【表3】
【0072】実施例 4 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.20mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。アルキルアルミニウムクロ
リド(3.5mモルAl)を含む溶液の一部ずつを次に
加え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり方に
より製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄するこ
となく使用した。触媒を、実施例IBに記載されたやり
方により100/1のAl/Tiの原子比でトリイソブ
チルアルミニウムにより活性化した。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。重合反応の結果を表IVに示す。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.20mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。アルキルアルミニウムクロ
リド(3.5mモルAl)を含む溶液の一部ずつを次に
加え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり方に
より製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄するこ
となく使用した。触媒を、実施例IBに記載されたやり
方により100/1のAl/Tiの原子比でトリイソブ
チルアルミニウムにより活性化した。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。重合反応の結果を表IVに示す。
【0073】
【表4】
【0074】実施例 5 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に或る量のチタンテトライソプロポキ
シドを加えた。スラリーをさらに2時間攪拌した。ヘキ
サン中の25%エチルアルミニウムジクロリドの溶液の
一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間攪拌し
た。このやり方により製造した完全な混合物をさらに単
離又は洗浄することなく使用した。触媒を、表Vに示さ
れた比でトリイソブチルアルミニウムにより活性化し
た。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。重合反応の結果を表Vに示す。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に或る量のチタンテトライソプロポキ
シドを加えた。スラリーをさらに2時間攪拌した。ヘキ
サン中の25%エチルアルミニウムジクロリドの溶液の
一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間攪拌し
た。このやり方により製造した完全な混合物をさらに単
離又は洗浄することなく使用した。触媒を、表Vに示さ
れた比でトリイソブチルアルミニウムにより活性化し
た。 B.重合 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。重合反応の結果を表Vに示す。
【0075】
【表5】
【0076】実施例 6 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.20mモルのチタンテトライソ
プロポキシド(Ti(O−iC3 H7 ) 4 )を加えた。
スラリーをさらに2時間攪拌した。25%エチルアルミ
ニウムジクロリド(4.5mモル)の溶液の一部ずつを
次に加え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり
方により製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄す
ることなく使用した。触媒の原子比は表VIに示され
る。触媒を、200:1のAl/Ti比でトリイソブチ
ルアルミニウムにより活性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を、85℃の反応器温度、表に示された水素対エチ
レンの比、170psi(1172kPa)の圧力及び
1時間の重合時間を使用してスラリー重合条件下で行っ
た。結果を表VIに示す。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.20mモルのチタンテトライソ
プロポキシド(Ti(O−iC3 H7 ) 4 )を加えた。
スラリーをさらに2時間攪拌した。25%エチルアルミ
ニウムジクロリド(4.5mモル)の溶液の一部ずつを
次に加え、最終の混合物を17時間攪拌した。このやり
方により製造した完全な混合物をさらに単離又は洗浄す
ることなく使用した。触媒の原子比は表VIに示され
る。触媒を、200:1のAl/Ti比でトリイソブチ
ルアルミニウムにより活性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を、85℃の反応器温度、表に示された水素対エチ
レンの比、170psi(1172kPa)の圧力及び
1時間の重合時間を使用してスラリー重合条件下で行っ
た。結果を表VIに示す。
【0077】
【表6】
【0078】実施例 7 A.バナジウムを含む遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.40mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.4
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒のMg/
Al/Cl/V/Tiの原子比は、5/8.8/20.
3/1/1であった。触媒のSi/Mgの原子比は、
8.3/1であった。触媒を、100/1のAl/Ti
の原子比でトリイソブチルアルミニウムにより活性化し
た。 B.重合(スラリー条件) スラリー重合条件を使用した。重合温度は85℃であ
り、水素対エチレンの比は2:1であり、そして重合時
間は1時間であった。チタンに基づく重合の能率は、9
52kgPE/gTiであることが分り、塩化物に基づ
く重合の能率は、52kgPE/gClであり、チタン
プラスバナジウムに基づく重合の能率は、476kgP
E/gTi+Vであった。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.40mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.4
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒のMg/
Al/Cl/V/Tiの原子比は、5/8.8/20.
3/1/1であった。触媒のSi/Mgの原子比は、
8.3/1であった。触媒を、100/1のAl/Ti
の原子比でトリイソブチルアルミニウムにより活性化し
た。 B.重合(スラリー条件) スラリー重合条件を使用した。重合温度は85℃であ
り、水素対エチレンの比は2:1であり、そして重合時
間は1時間であった。チタンに基づく重合の能率は、9
52kgPE/gTiであることが分り、塩化物に基づ
く重合の能率は、52kgPE/gClであり、チタン
プラスバナジウムに基づく重合の能率は、476kgP
E/gTi+Vであった。
【0079】実施例 8 A.バナジウムを含む遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に1.80mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.4
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒のMg/
Al/Cl/V/Tiの原子比は、1.1/1.9/1
2.3/0.2/1であった。触媒のSi/Mgの原子
比は、8.3/1であった。触媒を、100/1のAl
/Tiの原子比でトリイソブチルアルミニウムにより活
性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。チタンに基づく重合の能率は、571kgPE
/gTi/時であることが分り、塩化物に基づく重合の
能率は、90kgPE/gClであり、チタンプラスバ
ナジウムに基づく重合の能率は、285kgPE/gT
i+V/時であった。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に1.80mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速の濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.4
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒のMg/
Al/Cl/V/Tiの原子比は、1.1/1.9/1
2.3/0.2/1であった。触媒のSi/Mgの原子
比は、8.3/1であった。触媒を、100/1のAl
/Tiの原子比でトリイソブチルアルミニウムにより活
性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の反応器
温度及び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で
行った。チタンに基づく重合の能率は、571kgPE
/gTi/時であることが分り、塩化物に基づく重合の
能率は、90kgPE/gClであり、チタンプラスバ
ナジウムに基づく重合の能率は、285kgPE/gT
i+V/時であった。
【0080】実施例 9 A.バナジウムを含む遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に1.00mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。エチルアルミニウムジクロリド
(6.0mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加え、最
終の混合物を17時間攪拌した。混合物を1.00mモ
ルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl3 )に
より処理し、次に4時間攪拌した。このやり方で製造し
た完全な混合物は、さらに単離及び洗浄することなく使
用した。触媒のMg/Al/Cl/V/Tiの原子比
は、2/6/19/1/1であった。触媒のSi/Mg
の原子比は、8.3/1であった。触媒を、表VIIに
示される共触媒により活性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の温度及
び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で行っ
た。触媒の能率及び得られる重合体の性質を表VIIに
示す。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に1.00mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。エチルアルミニウムジクロリド
(6.0mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加え、最
終の混合物を17時間攪拌した。混合物を1.00mモ
ルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl3 )に
より処理し、次に4時間攪拌した。このやり方で製造し
た完全な混合物は、さらに単離及び洗浄することなく使
用した。触媒のMg/Al/Cl/V/Tiの原子比
は、2/6/19/1/1であった。触媒のSi/Mg
の原子比は、8.3/1であった。触媒を、表VIIに
示される共触媒により活性化した。 B.重合(スラリー条件) 重合を1:1の水素対エチレンの比及び85℃の温度及
び1時間の重合時間を使用してスラリー条件下で行っ
た。触媒の能率及び得られる重合体の性質を表VIIに
示す。
【0081】
【表7】
【0082】この実施例9は、高いI20/I2 比がスラ
リー重合ではバナジウム含有触媒により達成されること
を示す。これらの高いI20/I2 比は、広い分子量分布
を示した。
リー重合ではバナジウム含有触媒により達成されること
を示す。これらの高いI20/I2 比は、広い分子量分布
を示した。
【0083】実施例 10 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に指示された量のチタンテトライソプ
ロポキシドを加えた。スラリーをさらに2時間攪拌し
た。ヘキサン中の25%エチルアルミニウムジクロリド
の溶液の一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間
攪拌した。これらの触媒に関するMg/Al/Cl/T
iの原子比は、以下の通りであった。 実験A=7.5/15/30/1 実験B=3.8/8.8/17.5/1 これらの触媒に関するSi/Mgの原子比は、以下の通
りであった。 実験A=8.3/1 実験B=8.3/1 このやり方により製造した触媒をさらに単離又は洗浄す
ることなく使用した。触媒を、8/1及び6/1のAl
/Tiの原子比でトリエチルアルミニウムにより活性化
した。 B.重合(溶液条件) 触媒を使用して185℃の重合温度及び1時間の重合時
間を使用する溶液重合条件を用いてエチレンを重合し
た。結果を表VIIIに示した。
カ支持体#7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に指示された量のチタンテトライソプ
ロポキシドを加えた。スラリーをさらに2時間攪拌し
た。ヘキサン中の25%エチルアルミニウムジクロリド
の溶液の一部ずつを次に加え、最終の混合物を17時間
攪拌した。これらの触媒に関するMg/Al/Cl/T
iの原子比は、以下の通りであった。 実験A=7.5/15/30/1 実験B=3.8/8.8/17.5/1 これらの触媒に関するSi/Mgの原子比は、以下の通
りであった。 実験A=8.3/1 実験B=8.3/1 このやり方により製造した触媒をさらに単離又は洗浄す
ることなく使用した。触媒を、8/1及び6/1のAl
/Tiの原子比でトリエチルアルミニウムにより活性化
した。 B.重合(溶液条件) 触媒を使用して185℃の重合温度及び1時間の重合時
間を使用する溶液重合条件を用いてエチレンを重合し
た。結果を表VIIIに示した。
【0084】
【表8】
【0085】実施例 11 A.触媒の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、必要量のブチルエチルマグネシ
ウムブトキシド(Texas AlkylsInc.か
らのBEMB)を加えた。得られるスラリーを1時間攪
拌し、次に四塩化チタン(TiCl4 )を加えた。エチ
ルアルミニウムジクロリド(EADC)の溶液の一部ず
つを次に加え、スラリーを17時間攪拌した。混合物を
四塩化バナジウム(VCl4 )により処理し、次に4時
間攪拌した。このやり方で製造した完全な混合物は、さ
らに単離及び洗浄することなく使用した。これらの触媒
の組成は、表IXに示される。原子比は表IXに示され
る。 B.活性化及び重合 上記で製造した触媒を指示された量のトリエチルアルミ
ニウムにより活性化した後、重合を185℃の重合温度
及び10分の重合時間で溶液重合条件下で行った。結果
を表IXに示す。
カ支持体#7の1gに、必要量のブチルエチルマグネシ
ウムブトキシド(Texas AlkylsInc.か
らのBEMB)を加えた。得られるスラリーを1時間攪
拌し、次に四塩化チタン(TiCl4 )を加えた。エチ
ルアルミニウムジクロリド(EADC)の溶液の一部ず
つを次に加え、スラリーを17時間攪拌した。混合物を
四塩化バナジウム(VCl4 )により処理し、次に4時
間攪拌した。このやり方で製造した完全な混合物は、さ
らに単離及び洗浄することなく使用した。これらの触媒
の組成は、表IXに示される。原子比は表IXに示され
る。 B.活性化及び重合 上記で製造した触媒を指示された量のトリエチルアルミ
ニウムにより活性化した後、重合を185℃の重合温度
及び10分の重合時間で溶液重合条件下で行った。結果
を表IXに示す。
【0086】
【表9】
【0087】実施例 12 A.遷移金属触媒成分の製造 50mLのISOPAR E中でスラリー化されたシリ
カ支持体#7の1gに、1.2mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.60mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速に濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.6
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒は以下の
比を有する。2/5.8/18/1/1のMg/Al/
Cl/V/Ti。13.9/1のSi/Mg。 B.溶液条件下の活性化及び重合 トリエチルアルミニウムによる触媒の活性化(Al/T
i=5/1)後、重合を溶液重合のやり方を使用して行
った。重合体生成物は、0.9239g/cm3 の密
度、2.36のI2 値を有し、790kgPE/gTi
及び57kgPE/gClの能率で生じた。
カ支持体#7の1gに、1.2mモルのブチルエチルマ
グネシウムブトキシド(Texas Alkyls I
nc.からのBEMB)を加えた。得られるスラリーを
1時間攪拌し、次に0.60mモルの四塩化チタン(T
iCl4 )を加えた。スラリーは急速に濃い褐色にな
り、さらに2時間攪拌した。エチルアルミニウムジクロ
リド(3.5mモルAl)の溶液の一部ずつを次に加
え、最終の混合物を17時間攪拌した。混合物を0.6
0mモルのバナジウムトリクロリドオキシド(VOCl
3 )により処理し、次に4時間攪拌した。触媒は以下の
比を有する。2/5.8/18/1/1のMg/Al/
Cl/V/Ti。13.9/1のSi/Mg。 B.溶液条件下の活性化及び重合 トリエチルアルミニウムによる触媒の活性化(Al/T
i=5/1)後、重合を溶液重合のやり方を使用して行
った。重合体生成物は、0.9239g/cm3 の密
度、2.36のI2 値を有し、790kgPE/gTi
及び57kgPE/gClの能率で生じた。
【0088】実施例13 A.遷移金属触媒成分の製造 ISOPAR E中のシリカ支持体#7の1gに、1.
2mモルのブチルエチルマグネシウムブトキシドを加え
た。混合物を2時間攪拌した後、3.5mモルのエチル
アルミニウムジクロリドを次に加え、混合物を17時間
攪拌した。この混合物に、TiCl4 及びVOCl
3 (.6mモルTi/.6mモルV)の1:1モル混合
物を加えた。混合物を8時間攪拌した。触媒は以下の比
を有する。2/5.8/18/1/1のMg/Al/C
l/V/Ti。13.9/1のSi/Mg。 B.溶液条件下の活性化及び重合 トリエチルアルミニウムによる触媒の活性化(Al/T
i=5/1)後、重合を溶液重合のやり方を使用して行
った。重合体生成物は、742kgPE/gTi及び5
4kgPE/gClの能率を有した。
2mモルのブチルエチルマグネシウムブトキシドを加え
た。混合物を2時間攪拌した後、3.5mモルのエチル
アルミニウムジクロリドを次に加え、混合物を17時間
攪拌した。この混合物に、TiCl4 及びVOCl
3 (.6mモルTi/.6mモルV)の1:1モル混合
物を加えた。混合物を8時間攪拌した。触媒は以下の比
を有する。2/5.8/18/1/1のMg/Al/C
l/V/Ti。13.9/1のSi/Mg。 B.溶液条件下の活性化及び重合 トリエチルアルミニウムによる触媒の活性化(Al/T
i=5/1)後、重合を溶液重合のやり方を使用して行
った。重合体生成物は、742kgPE/gTi及び5
4kgPE/gClの能率を有した。
【0089】実施例 14 A.遷移金属触媒成分の製造 ISOPAR E中でスラリー化されたシリカ支持体#
7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマグネシウム
ブトキシド、1.8mモルの四塩化チタン及び1.8m
モルのバナジウムトリクロリドオキシドを加え、混合物
を4時間攪拌した。混合物を6.5mモルのエチルアル
ミニウムジクロリドにより処理し、スラリーを24時間
攪拌した。この触媒のMg/Al/Cl/V/Tiの原
子比は、1.1/3.6/13/1/1であった。 B.触媒の活性化及び重合 触媒の一部を希釈し、8.5:1のトリエチルアルミニ
ウム対チタンの比を使用して実施例1Bに従って活性化
した。重合は、表Xに示される温度で溶液重合のやり方
に従って行われた。
7の1gに、2.0mモルのブチルエチルマグネシウム
ブトキシド、1.8mモルの四塩化チタン及び1.8m
モルのバナジウムトリクロリドオキシドを加え、混合物
を4時間攪拌した。混合物を6.5mモルのエチルアル
ミニウムジクロリドにより処理し、スラリーを24時間
攪拌した。この触媒のMg/Al/Cl/V/Tiの原
子比は、1.1/3.6/13/1/1であった。 B.触媒の活性化及び重合 触媒の一部を希釈し、8.5:1のトリエチルアルミニ
ウム対チタンの比を使用して実施例1Bに従って活性化
した。重合は、表Xに示される温度で溶液重合のやり方
に従って行われた。
【0090】
【表10】
【0091】実施例 15 A.遷移金属触媒成分の製造 ISOPAR E中でスラリー化されたシリカ支持体#
7の1gに、2.0mモルのビス(2、6−ジメチルシ
クロヘキソオキシド)、0.2mモルの四塩化チタンを
加え、混合物を1時間攪拌した。混合物を5.5mモル
のエチルアルミニウムジクロリドにより処理し、スラリ
ーを24時間攪拌した。この触媒のMg/Al/Cl/
Tiの原子比は、10/27.5/59/1であった。 B.触媒の活性化及び重合 触媒の一部を希釈し、12:1のトリエチルアルミニウ
ム対チタンの比を使用して実施例1Bに従って活性化し
た。重合は、185℃で溶液重合のやり方に従って行わ
れた。重合体生成物は、0.9332g/cm3 の密
度、2.42g/10分のI2 値、8.0のI10/I2
比を有し、149kgPE/gTi及び3.4kgPE
/gClの能率で生じた。
7の1gに、2.0mモルのビス(2、6−ジメチルシ
クロヘキソオキシド)、0.2mモルの四塩化チタンを
加え、混合物を1時間攪拌した。混合物を5.5mモル
のエチルアルミニウムジクロリドにより処理し、スラリ
ーを24時間攪拌した。この触媒のMg/Al/Cl/
Tiの原子比は、10/27.5/59/1であった。 B.触媒の活性化及び重合 触媒の一部を希釈し、12:1のトリエチルアルミニウ
ム対チタンの比を使用して実施例1Bに従って活性化し
た。重合は、185℃で溶液重合のやり方に従って行わ
れた。重合体生成物は、0.9332g/cm3 の密
度、2.42g/10分のI2 値、8.0のI10/I2
比を有し、149kgPE/gTi及び3.4kgPE
/gClの能率で生じた。
【0092】実施例 16−32 実施例16の触媒の製造 410gサンプルのDavison SYLOID24
5シリカを、窒素下回転キルン中で800℃で加熱し、
次に3ガロン(11.35L)のISOPARE中でス
ラリー化した。このシリカ支持体は、401m2 /gの
表面積及び3ミクロンの粒子サイズを有する。12ガロ
ン(45.4L)の容器に、ISOPAR E20ポン
ド(9.07kg)を入れ、次にシリカスラリーを入れ
た。シリカの添加後、1.86kgのブチルエチルマグ
ネシウムブトキシド(Texas Alkyls In
c.からのBEMB、ヘプタン中0.97重量%のM
g)を加えた。スラリーを2時間攪拌し、次に四塩化チ
タン及びバナジウムオキシトリクロリド(VTimi
x、Akzo Chemicals)の等モル混合物1
57mLを加えた。添加後、スラリーを1時間攪拌し、
次にエチルアルミニウムジクロリド(EADC、Tex
as Alkyls、ヘキサン中2.15重量%Al)
4.8kgを次に加えた。実施例17−32に使用され
る触媒は、実施例16に関し上記されたのと同様なやり
方で製造された。
5シリカを、窒素下回転キルン中で800℃で加熱し、
次に3ガロン(11.35L)のISOPARE中でス
ラリー化した。このシリカ支持体は、401m2 /gの
表面積及び3ミクロンの粒子サイズを有する。12ガロ
ン(45.4L)の容器に、ISOPAR E20ポン
ド(9.07kg)を入れ、次にシリカスラリーを入れ
た。シリカの添加後、1.86kgのブチルエチルマグ
ネシウムブトキシド(Texas Alkyls In
c.からのBEMB、ヘプタン中0.97重量%のM
g)を加えた。スラリーを2時間攪拌し、次に四塩化チ
タン及びバナジウムオキシトリクロリド(VTimi
x、Akzo Chemicals)の等モル混合物1
57mLを加えた。添加後、スラリーを1時間攪拌し、
次にエチルアルミニウムジクロリド(EADC、Tex
as Alkyls、ヘキサン中2.15重量%Al)
4.8kgを次に加えた。実施例17−32に使用され
る触媒は、実施例16に関し上記されたのと同様なやり
方で製造された。
【0093】比較例 A* 445gサンプルのDavison SYLOID24
5シリカを、窒素下回転キルン中で800℃で加熱し、
次に3ガロン(11.35L)のISOPARE中でス
ラリー化した。このシリカ支持体は、391m2 /gの
表面積及び3ミクロンの粒子サイズを有する。12ガロ
ン(45.4L)の容器に、ISOPAR E20ポン
ド(9.07kg)を入れ、次にシリカスラリーを入れ
た。シリカの添加後、2.01kgのブチルエチルマグ
ネシウムブトキシド(Texas Alkyls In
c.からのBEMB、ヘプタン中0.97重量%のM
g)を加えた。スラリーを2時間攪拌し、次に四塩化チ
タンのみ(TiCl4、Aldrich Chemic
als)19.5mLを加えた。添加後、スラリーを1
時間攪拌し、次にエチルアルミニウムジクロリド(EA
DC、Texas Alkyls、ヘキサン中2.15
重量%Al)2.38kgを次に加えた。希釈触媒を次
に連続溶液法パイロットプラントの反応器中に注入し
た。反応器の温度を触媒注入速度によりコントロールし
た。トリエチルアルミニウム(TEA)サイドストリー
ム共触媒を、反応器入口ライン中に注入した。反応器温
度及びTEA/Ti比は、変化されて触媒の能率を最適
にした。重合体中の1250ppmのステアリン酸カル
シウム、200ppmのIRGANOX1010及び1
200ppmのIRGAFOS168の標準的添加物
を、反応器後にスラリーとして注入した。
5シリカを、窒素下回転キルン中で800℃で加熱し、
次に3ガロン(11.35L)のISOPARE中でス
ラリー化した。このシリカ支持体は、391m2 /gの
表面積及び3ミクロンの粒子サイズを有する。12ガロ
ン(45.4L)の容器に、ISOPAR E20ポン
ド(9.07kg)を入れ、次にシリカスラリーを入れ
た。シリカの添加後、2.01kgのブチルエチルマグ
ネシウムブトキシド(Texas Alkyls In
c.からのBEMB、ヘプタン中0.97重量%のM
g)を加えた。スラリーを2時間攪拌し、次に四塩化チ
タンのみ(TiCl4、Aldrich Chemic
als)19.5mLを加えた。添加後、スラリーを1
時間攪拌し、次にエチルアルミニウムジクロリド(EA
DC、Texas Alkyls、ヘキサン中2.15
重量%Al)2.38kgを次に加えた。希釈触媒を次
に連続溶液法パイロットプラントの反応器中に注入し
た。反応器の温度を触媒注入速度によりコントロールし
た。トリエチルアルミニウム(TEA)サイドストリー
ム共触媒を、反応器入口ライン中に注入した。反応器温
度及びTEA/Ti比は、変化されて触媒の能率を最適
にした。重合体中の1250ppmのステアリン酸カル
シウム、200ppmのIRGANOX1010及び1
200ppmのIRGAFOS168の標準的添加物
を、反応器後にスラリーとして注入した。
【0094】フィルム製造 フィルムは、3層(A/B/C)共押し出し注型フィル
ムライン上で構成することにより、本発明の共重合体を
使用して製造された。実施例16−21及び比較例*に
ついて、同じ共重合体を同時に合計3台の押し出し機に
より押し出し、各層に同じ共重合体を有する3層フィル
ム構造物を製造した。ラインの速度は、30インチ手動
調節ダイを使用して約0.8ミルの全ゲージで約800
フィート/分に維持された。これらの実験に関するダイ
から一次冷却ロールの延伸距離は、約5インチであっ
た。実施例16−21及び比較例A*及びB*では、3
台の押し出し機を以下のように操作した。
ムライン上で構成することにより、本発明の共重合体を
使用して製造された。実施例16−21及び比較例*に
ついて、同じ共重合体を同時に合計3台の押し出し機に
より押し出し、各層に同じ共重合体を有する3層フィル
ム構造物を製造した。ラインの速度は、30インチ手動
調節ダイを使用して約0.8ミルの全ゲージで約800
フィート/分に維持された。これらの実験に関するダイ
から一次冷却ロールの延伸距離は、約5インチであっ
た。実施例16−21及び比較例A*及びB*では、3
台の押し出し機を以下のように操作した。
【0095】
【表11】
【0096】フィルムの性能は、Lantach SH
S回転包装機を使用して評価された。フィルムは、パレ
ット包装機に置かれ、そして0%伸びで始まる包装延伸
された。フィルムの伸びは、フィルムが、破壊なしに全
くさらに延伸できなくなるまで、次第に増大した。フィ
ルムが包装延伸できなくなる最後の伸びを、そのフィル
ムの最終の延伸点又は最終の延伸性と呼んだ。最高の最
終の延伸性を有するフィルムは、最も好ましい性能を有
する。
S回転包装機を使用して評価された。フィルムは、パレ
ット包装機に置かれ、そして0%伸びで始まる包装延伸
された。フィルムの伸びは、フィルムが、破壊なしに全
くさらに延伸できなくなるまで、次第に増大した。フィ
ルムが包装延伸できなくなる最後の伸びを、そのフィル
ムの最終の延伸点又は最終の延伸性と呼んだ。最高の最
終の延伸性を有するフィルムは、最も好ましい性能を有
する。
【0097】フィルムの穴あけ抵抗は、各サンプルをフ
ィルムから6インチ(15.2cm)×6インチのサイ
ズに切取り、そしてフィルムのサンプルをInstro
n延伸テスタでテストすることにより測定された。In
stronは、100ポンド負荷セルを備え、10イン
チ/分のクロスヘッド速度及びチャート速度で操作され
た。負荷の範囲は、50%までであった。各サンプル
は、4インチ(10.2cm)の直径の円形の内部を有
する締め付けユニットにより正しい位置に保持された。
各フィルムサンプルの中心の厚さ(T)は測定され、記
録された。各サンプルは、締め付けユニットに確保され
た。棒の末端に結合している0.5インチ(1.3c
m)の直径のボールを、穴あけ機構として使用した。穴
あけプローブ(上のクロスヘッドに結合している)を、
フィルムに穴が開くまで又はクロスヘッドが8インチを
動くまで又は40ポンドの力に達するまで、フィルムの
上及びその中に下げた。穴が開くと、フィルムを破壊す
るのに必要なエネルギー(E)を記録した。穴あけ抵抗
(PR)は、次に以下の式により計算した。 PR=E/(12)*(T)*(A) (但し、PRはフット−ポンド/in3 の穴あけ抵抗で
あり、Eはインチ−ポンドの穴あけエネルギーであり、
12インチ/フットは変換ファクターであり、Tはイン
チのフィルムの厚さであり、Aは締め付けられたフィル
ム試料のサンプルの面積(これらのサンプルについては
12.56in2 )である)。6個のサンプルを各フィ
ルムについてテストし、結果を平均した。
ィルムから6インチ(15.2cm)×6インチのサイ
ズに切取り、そしてフィルムのサンプルをInstro
n延伸テスタでテストすることにより測定された。In
stronは、100ポンド負荷セルを備え、10イン
チ/分のクロスヘッド速度及びチャート速度で操作され
た。負荷の範囲は、50%までであった。各サンプル
は、4インチ(10.2cm)の直径の円形の内部を有
する締め付けユニットにより正しい位置に保持された。
各フィルムサンプルの中心の厚さ(T)は測定され、記
録された。各サンプルは、締め付けユニットに確保され
た。棒の末端に結合している0.5インチ(1.3c
m)の直径のボールを、穴あけ機構として使用した。穴
あけプローブ(上のクロスヘッドに結合している)を、
フィルムに穴が開くまで又はクロスヘッドが8インチを
動くまで又は40ポンドの力に達するまで、フィルムの
上及びその中に下げた。穴が開くと、フィルムを破壊す
るのに必要なエネルギー(E)を記録した。穴あけ抵抗
(PR)は、次に以下の式により計算した。 PR=E/(12)*(T)*(A) (但し、PRはフット−ポンド/in3 の穴あけ抵抗で
あり、Eはインチ−ポンドの穴あけエネルギーであり、
12インチ/フットは変換ファクターであり、Tはイン
チのフィルムの厚さであり、Aは締め付けられたフィル
ム試料のサンプルの面積(これらのサンプルについては
12.56in2 )である)。6個のサンプルを各フィ
ルムについてテストし、結果を平均した。
【0098】実施例 16−21 表XIAの実施例16−21は、各実施例について触媒
処方を要約する。表XIBのデータは、共重合体から製
造された注型フィルムの性質とともに、共単量体として
オクテンを使用する2.3メルトインデックス、0.9
17g/cm3密度の生成物を目指しつつ、195℃の
一定の反応器温度で本発明の触媒及び方法を使用して観
察される共重合体生成物のデータを要約している。共単
量体及び水素は、それぞれ目標とする密度及びメルトイ
ンデックスを達成するために調節された。広いSCBD
共重合体は、狭いSCBD共重合体より多くの共単量体
を含む。表XIAに記載された触媒から生成した表XI
Bに示される共重合体は、触媒のMg:Tiの比が増大
するにつれ、z比の増大及び結晶開始温度の低下を明ら
かに示す。表XIBは、又本発明の新規な触媒及び方法
を使用して製造された共重合体から作られたフィルム
が、特に共重合体が約17%より大きい%高密度並びに
約3.6より小さい特に約3.3より小さいMw /Mn
比を有するとき、優れた最終延伸性及び良好な穴あけ抵
抗を有することを示す。比較例A*は、実施例16−2
1と比較するとき、z比、I10/I2 及び%延伸につい
て、触媒中のバナジウムの存在の重要性を示す。比較例
B*は、パレット包装に使用されるために延伸フィルム
市場に売られておりそしてExxonChemical
(Exxon3002.37として知られている)によ
り生産されているエチレン/1−ヘキセン気相共重合体
であった。実施例16−18から製造されたフィルムと
実施例19−21から製造されたフィルム及び比較例A
*及びB*から製造されたものとを比較すると、狭い分
子量分布(即ち低いMw/Mn )及び広いSCBD(高
い%の高密度フラクション)の組合せを有する共重合体
は、注型フィルムに製造されたとき、高い最終の延伸性
及び良好な穴あけ抵抗の両者を有することが分る。
処方を要約する。表XIBのデータは、共重合体から製
造された注型フィルムの性質とともに、共単量体として
オクテンを使用する2.3メルトインデックス、0.9
17g/cm3密度の生成物を目指しつつ、195℃の
一定の反応器温度で本発明の触媒及び方法を使用して観
察される共重合体生成物のデータを要約している。共単
量体及び水素は、それぞれ目標とする密度及びメルトイ
ンデックスを達成するために調節された。広いSCBD
共重合体は、狭いSCBD共重合体より多くの共単量体
を含む。表XIAに記載された触媒から生成した表XI
Bに示される共重合体は、触媒のMg:Tiの比が増大
するにつれ、z比の増大及び結晶開始温度の低下を明ら
かに示す。表XIBは、又本発明の新規な触媒及び方法
を使用して製造された共重合体から作られたフィルム
が、特に共重合体が約17%より大きい%高密度並びに
約3.6より小さい特に約3.3より小さいMw /Mn
比を有するとき、優れた最終延伸性及び良好な穴あけ抵
抗を有することを示す。比較例A*は、実施例16−2
1と比較するとき、z比、I10/I2 及び%延伸につい
て、触媒中のバナジウムの存在の重要性を示す。比較例
B*は、パレット包装に使用されるために延伸フィルム
市場に売られておりそしてExxonChemical
(Exxon3002.37として知られている)によ
り生産されているエチレン/1−ヘキセン気相共重合体
であった。実施例16−18から製造されたフィルムと
実施例19−21から製造されたフィルム及び比較例A
*及びB*から製造されたものとを比較すると、狭い分
子量分布(即ち低いMw/Mn )及び広いSCBD(高
い%の高密度フラクション)の組合せを有する共重合体
は、注型フィルムに製造されたとき、高い最終の延伸性
及び良好な穴あけ抵抗の両者を有することが分る。
【0099】
【表12】
【0100】
【表13】
【0101】表XIIの以下の実施例22−27は、種
々の反応器の温度で本発明の方法を使用しそして共単量
体としてオクテンを使用して1.0のメルトインデック
ス及び0.920g/cm3 の密度の吹き込みフィルム
を目指して観察された触媒組成及び生成物のデータを要
約する。
々の反応器の温度で本発明の方法を使用しそして共単量
体としてオクテンを使用して1.0のメルトインデック
ス及び0.920g/cm3 の密度の吹き込みフィルム
を目指して観察された触媒組成及び生成物のデータを要
約する。
【0102】
【表14】
【0103】実施例 28−32 これらの実施例は、175℃の反応器の温度で本発明の
方法を使用しそして共単量体としてオクテンを使用して
0.8のメルトインデックス及び0.905g/cm3
の密度の吹き込みフィルムを目指して観察された触媒組
成及び生成物のデータを要約する。触媒組成及び結果
は、表XIIIに示される。表XIIIに記載された触
媒から生成された共重合体は、触媒のMg:Ti比が増
大するにつれz比が増大することを明らかに示す。
方法を使用しそして共単量体としてオクテンを使用して
0.8のメルトインデックス及び0.905g/cm3
の密度の吹き込みフィルムを目指して観察された触媒組
成及び生成物のデータを要約する。触媒組成及び結果
は、表XIIIに示される。表XIIIに記載された触
媒から生成された共重合体は、触媒のMg:Ti比が増
大するにつれz比が増大することを明らかに示す。
【0104】
【表15】
【0105】実施例 33 実施例16−27の重合体の圧縮成形されたプラーク
を、前記のように200倍の倍率で形態学的分析にかけ
た。これらの薄いプラークの光学顕微鏡写真は、表XI
IIに示される球顆サイズを示す。
を、前記のように200倍の倍率で形態学的分析にかけ
た。これらの薄いプラークの光学顕微鏡写真は、表XI
IIに示される球顆サイズを示す。
【0106】比較例C* 比較のために、重合体を、ここに参考として引用する米
国特許第4547475号の実施例7に開示された触媒
を使用して製造した。この触媒から製造した重合体の厚
さ約1−4ミルの圧縮成形されたプラークを、200倍
の倍率で形態学的分析にかけた。このプラークの光学顕
微鏡写真は、表XIVに示される球顆サイズを示す。
国特許第4547475号の実施例7に開示された触媒
を使用して製造した。この触媒から製造した重合体の厚
さ約1−4ミルの圧縮成形されたプラークを、200倍
の倍率で形態学的分析にかけた。このプラークの光学顕
微鏡写真は、表XIVに示される球顆サイズを示す。
【0107】
【表16】
【0108】本発明の方法により製造された重合体によ
り生成された小さい球顆サイズは、小さい球顆が概して
同じ構造を有するがより大きな球顆サイズを有する重合
体よりも改良された透明性及びタフネスを生ずるので、
有利であった。
り生成された小さい球顆サイズは、小さい球顆が概して
同じ構造を有するがより大きな球顆サイズを有する重合
体よりも改良された透明性及びタフネスを生ずるので、
有利であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コルサマー,ブライアン ダブリュー エ ス アメリカ合衆国テキサス州 77566 レー ク ジャクソン ロイヤル オーク サー クル 54 (72)発明者 リップリンガー,ミリアム ピー アメリカ合衆国テキサス州 77566 レー ク ジャクソン サンドレウッド 105 (72)発明者 ウースター,ジェフリー ジェイ アメリカ合衆国テキサス州 77566 レー ク ジャクソン アーモンド ドライブ 201 (72)発明者 チュム,パクウィング ステーブ アメリカ合衆国テキサス州 77566 レー ク ジャクソン ジュニパー 126 (72)発明者 デグロート,ジャクリン アン アメリカ合衆国テキサス州 77541 フリ ーポート アールアール2 ボックス 799ビー Fターム(参考) 4J100 AA02P AA03Q AA04Q AA07Q AA15Q AA16Q AA17Q AA19Q AA21Q CA04 DA04 DA12 DA42
Claims (3)
- 【請求項1】 17%より大きい高密度フラクション、
3.3より小さいM w /Mn 比、0.905−0.93
5g/cm3 の密度、0.6−6g/10分のメルトイ
ンデックスを有するブレンドされていないエチレン/ア
ルファ−オレフィン共重合体。 - 【請求項2】 高密度フラクションが少なくとも20%
である請求項1の共重合体。 - 【請求項3】 エチレン/アルファ−オレフィン共重合
体が、エチレン/1−オクテン共重合体である請求項1
又は2の共重合体。
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---|---|---|---|
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US6172173B1 (en) | 1991-01-18 | 2001-01-09 | The Dow Chemical Company | Silica supported transition metal catalyst |
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