JP2002233805A - 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置 - Google Patents
塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置Info
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Abstract
発生はない塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布
装置を提供する。 【解決手段】 塗布ヘッド21は前壁22と後壁23と
前記両壁間を仕切る隔壁24を備え、前壁、後壁及び隔
壁の両側部には夫々側壁25が固着されている。前壁と
隔壁の間に第1液溜め部21Aが形成され、後壁と隔壁
の間に第2液溜め部21Bが形成されている。隔壁の先
端には曲面状端部26が形成され、隔壁の前壁に対面す
る側には曲面状端部の面に連続する鉛直面27が形成さ
れ、隔壁の後壁に対面する側には曲面状端部に連続する
鉛直面に対して15°〜30°の傾斜角度で傾斜した傾
斜面28が形成されている。前壁及び隔壁は後壁より高
く形成され、前壁の上端とそれに対向する隔壁面間に吐
出スリットS1が形成され、後壁の上端とそれに対向す
る隔壁面間に塗布液の吸込スリットS2が形成されてい
る。
Description
ィルターのガラス基板等に塗布液を塗布する塗布ヘッド
並びにこの塗布ヘッドを用いた塗布装置に関する。
ーフィルター用大型ガラス基板に感光性樹脂の塗布液を
基板の主面に凹凸の影響を受けない均一な塗布膜として
形成する装置が開示されている。この装置は、図5に示
すように、装置本体1の一対の支持フレーム1A間に基
板Sのスライド方向において下流側の端部が高くなるよ
うに傾斜した状態で取り付けられた直線状のガイドフレ
ーム2にスライド自在に取り付けられた基板ホルダー3
と、上向きに開口する直線状のスリット4aを有し、こ
のスリット4aがガイドフレーム2の軸方向と直交する
方向に延びるようにガイドフレーム2の下方に配置され
た塗布ヘッド4とを備える。
って設置されたボールねじ5に螺合されており、ボール
ねじ5がモータMに沿ってスライドされるように構成さ
れており、また吸引管接続部3Aに接続される図示しな
い吸引機構の作動によりその下向きの吸着面に基板Sを
吸着して保持するように構成されている。
を示しており、基板ホルダー3の吸着面に吸着された基
板Sが、その先端部が塗布ヘッド4のスリット4aの直
上に所定のクリアランスを介して対向するように位置せ
しめられている。
液Rが供給されると、図7に拡大図示するように、供給
された塗布液Rはスリット4aから吐出されてビードB
が形成され、基板Sの先端部下面に付着する。このと
き、スリット4aの開口部と基板ホルダー3に吸着され
た基板Sの下面との間の最小クリアランスC1は、ビー
ドBから塗布液Rが零れ出さないように、塗布液Rの粘
度や表面張力等の物性を考慮して設定されている。
(図において左側)にメニスカスL1が形成され、基板
Sの後端側(図において左側)にメニスカスL2が形成
されており、このメニスカスL1の高さ寸法h1とメニ
スカスL2の高さ寸法h2は、ガイドフレーム2が角度
θで傾斜していることによってh1<h2の関係になっ
ている。
ルねじ5が回転されることによって、基板ホルダー3が
ガイドフレーム2に沿って斜め上方にスライドされる。
に、ビードBから塗布液が基板Sの下面に順次付着さ
れ、塗布液Rの層Raが形成される。このとき、塗布ヘ
ッド4には連続して塗布液Rの供給が行われ、ビードB
における塗布液Rの量が一定に保たれている。
が行われている間、塗布ヘッド4への塗布液の供給は図
10に示される塗布液供給機構から行われる。
せず)内に収容されている塗布液を手動バルブ31を介
して供給される空気圧によって自動的に作動して、塗布
ヘッド4への塗布液の供給を停止する。そして、空気作
動弁36の閉鎖と同時に、サックバックバルブ37のピ
ストン37aが図10に示す矢印の方向にスライドされ
てシリンダ37b内に負圧が発生され、これによって一
旦塗布ヘッドに供給された塗布液が、次の基板に対する
塗布開始までの間に乾燥して、その粘度が大きくなって
しまったり、更には固化してしまったりする恐れがあ
る。
きくなったりまたは固化してしまった塗布液が残留して
いると、この塗布液が次の基板に塗布されるので、基板
の塗布面上に筋等が発生して均一な塗布を行うことがで
きなくなる。
における塗布液の乾燥を防止して、常に均一な塗布液の
塗布を行うことができると共に、塗布液の供給制御が容
易な塗布装置の塗布液供給機構が特開平9−15527
0に開示されている。
に示すように、上方に向かって開口すると共に水平方向
に延びる帯状の吐出スリット10Aを有する塗布ヘッド
10を備えた塗布装置において、塗布ヘッド10の上面
に、吐出スリット10Aと平行に延びると共に開口面1
0Cが吐出スリット10Aの開口面10aよりも低い位
置に位置する吸込みスリッ10Cが形成され、塗布液排
出口10Gに循環ポンプL3を介して塗布液供給ポンプ
Pの吸い込み側が接続され、塗布液供給口10Fに循環
パイプL1及びL2を介して塗布液供給ポンプの吐出側
が接続されて、塗布液排出口10Gと塗布液供給口10
Fとの間に塗布液の循環回路が形成されているものであ
る。
−155270に記載の塗布装置の塗布ヘッドには、図
12に示すように、下記のような問題点がある。 (1) 塗布ヘッド11は前壁12と隔壁14の間に吐出さ
れる塗布液の液溜め部1Aと隔壁14と後壁13の間に
吸い込まれる塗布液の液溜め部1Bを備えており、吐出
スリットS1から吐出されてビードBが形成され、過剰
の塗布液が吸込みスリットS2のほうへ流れるように構
成されているが、隔壁14の先端が単純に鋭角に形成さ
れている場合、吸込みスリットS2への塗布液の流れが
幅方向に不均一となりビードから基板の塗布面に塗布液
を付着させる際に筋むら等の不良が生じる。 (2) また隔壁14の先端の吸込みスリットS2側の傾斜
部16の傾斜角度が大きいとき同様に吸込みスリットS
2への塗布液の流れが幅方向に不均一となりビードから
基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋むら等の不良
が生じる。 (3) ビードBの液が前壁12のエッジを越えて塗布ヘッ
ドの下方へ垂れてしまい塗布液の損失を生じる。 (4) 塗布液が塗布ヘッドの下方へ垂れることによって、
塗布ヘッドの下方に設けられたパンが汚され洗浄作業が
必要となる。 (5) 垂れた塗布液の固化したものがゴミとなって塗布面
に付着し塗布不良を起こす原因にもなる。
込みユニット内へ巾方向に均一に流れ落ち、安定したビ
ードを形成し、筋ムラ等の不良の発生はない塗布ヘッド
及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置を提供することで
ある。
の吸込みユニット内へ巾方向に均一に流れ落ち、安定し
たビードを形成し、筋ムラ等の不良の発生はなく、且つ
塗布ヘッドの前壁のエッジからビードの液が下方へ垂れ
ることを防止した塗布ヘッド及び塗布装置を提供するこ
とである。
は、上記の塗布ヘッドに係る第一の課題を解決するもの
で、前壁と後壁と前記両壁間を仕切る隔壁を備え、前
壁、後壁及び隔壁の両側部には夫々側壁が固着され、前
壁と隔壁の間に第1液溜め部が形成され、後壁と隔壁の
間に第2液溜め部が形成され、隔壁の先端には曲面状端
部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲面状端部
の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁に対面す
る側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して15°〜
30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成されており、
前壁及び隔壁は後壁より高く形成され、前壁の上端とそ
れに対向する隔壁面間に吐出スリットが形成され、後壁
の上端とそれに対向する隔壁面間に塗布液の吸込スリッ
トが形成されていることを特徴とする。
ドに係る第二の課題を解決するもので、前壁と後壁と前
記両壁間を仕切る隔壁を備え、前壁、後壁及び隔壁の両
側部には夫々側壁が固着され、前壁と隔壁の間に第1液
溜め部が形成され、後壁と隔壁の間に第2液溜め部が形
成され、隔壁の先端には曲面状端部が形成され、隔壁の
前壁に対面する側には曲面状端部の面に連続する鉛直面
が形成され、隔壁の後壁に対面する側には曲面状端部に
連続する鉛直面に対して15°〜30°の傾斜角度で傾
斜した傾斜面が形成されており、前壁及び隔壁は後壁よ
り高く形成され、前壁の上端とそれに対向する隔壁面間
に吐出スリットが形成され、後壁の上端とそれに対向す
る隔壁面間に塗布液の吸込スリットが形成されており、
前壁の先端の外側エッジは30°〜60°の角度に形成
されていることを特徴とする。
記載の塗布ヘッドを備え、この塗布ヘッドの吐出スリッ
トを上方へ塗布液を供給する手段とし、実質的に平板状
の基板を、傾斜状態で且つ傾斜角度調節可能に、しかも
基板下側の塗布をする面が下方に向くように支持する基
板支持手段と、塗布液ビードの、基板の高く位置する側
に面するメニスカスより大きい高さ寸法をもつような状
態に維持しつつ、基板の高く位置する端縁寄り部分から
低く位置する端縁寄り部分へ、基板が塗布ヘッドの吐出
スリットを横切って相対移動するように、基板と塗布ヘ
ッドを相対的に移動させる移動手段とを備える。
液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設け
られ、排出口には循環パイプを介して塗布液供給ポンプ
の吸い込み側が接続され、供給口には供給パイプを介し
て塗布液供給ポンプの吐出側が接続されている。
液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設け
られ、液面調整タンクを備え、この液面調整タンクはそ
の中間の高さ位置に吸込スリットの開口面が位置するよ
うに配置され、またこの液面調整タンクが吸込スリット
の開口面よりも低い位置において前記排出口と連通さ
れ、塗布液供給タンクを備え、この塗布液供給タンクは
塗布ヘッドよりも低い位置に配置され、液面調整タンク
は排出パイプを介して塗布液供給タンクに接続され、供
給口は塗布液供給ポンプを介して塗布液供給タンクに接
続されている。
部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲面状端部
の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁に対面す
る側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して15°〜
30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成されているこ
とにより、塗布液が塗布ヘッドの吸込みユニット内へ巾
方向に均一に流れ落ち、安定したビードを形成し、筋ム
ラ等の不良の発生はなくなる。
0°に形成されていることにより、塗布ヘッドの前壁の
エッジからビードの液が下方へ垂れることが防止され
る。
き説明する。図1及び図2は本発明の塗布ヘッドを示
し、図1は斜視図、図2は図1のI−I線で切断した状
態を示す。
23及び隔壁24を備える。前壁22、後壁23及び隔
壁24の両側部には夫々側壁25が固着され、前壁22
と隔壁24の間に第1液溜め部21Aが形成され、後壁
23と隔壁24の間に第2液溜め部21Bが形成されて
いる。隔壁24の先端には曲面状端部26が形成され、
隔壁24の前壁22に対面する側には曲面状端部26の
面に連続する鉛直面27が形成され、隔壁24の後壁2
3に対面する側には曲面状端部26に連続する鉛直面に
対して15°〜30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面28
が形成されている。前壁22及び隔壁24は後壁23よ
り高く形成され、前壁22の上端とそれに対向する隔壁
24面間に吐出スリットS1が形成され、後壁23の上
端とそれに対向する隔壁24面間に塗布液の吸込スリッ
トS2が形成されている。また、パッキングDが設けら
れている。また、前壁22には塗布液供給口(図示せ
ず)が設けられ、塗布液供給口から供給された塗布液が
第1液溜め部21Aを通って吐出スリットS1を経て吐
出され。ビードBが形成される。また、後壁23には塗
布液排出口(図示せず)が設けられており、ビードBか
ら吸込スリットS2を経て第2液溜め部21Bに流れた
塗布液はこの塗布液排出口から排出されるように構成さ
れている。
され、隔壁24の後壁23に対面する側には曲面状端部
26に連続する鉛直面に対して15°〜30°の傾斜角
度で傾斜した傾斜面28が形成されていることにより、
吐出スリットS12から吐出された塗布液は塗布ヘッド
の軸方向に均一に吸込みスリットS2に流れ落ちる。こ
れにより、ビードBは軸方向に常時安定した形状を保つ
ことができ、ビードBから基板(図示せず)の塗布面に
液を付着させる際、筋ムラ等の不良は発生しない。これ
に対し傾斜角度が15°よりも小さいとき或いは30°
よりも大きいときは、吸込みスリットS2への塗布液の
流れが幅方向に不均一となりビードから基板の塗布面に
塗布液を付着させる際に筋むら等の不良が生じる。
の先端の外側エッジ29の角度βは30°〜60°であ
るのでビートBの表面張力によりビードBから基板の塗
布面への塗布を開始する等の塗布動作時の変化が生じる
際でもビードBの液が外側エッジ29を越えて前壁22
の外壁を伝わり塗布ヘッド21の下方へ垂れてしまうこ
とはない。これに対し外側エッジ29の角度βが60°
よりも大きいときは吐出側の液溜め部の前壁22のエッ
ジを越えて塗布ヘッドの下方へ垂れてしまい塗布液の損
失を生じる。また、塗布液が塗布ヘッドの下方へ垂れる
ことによって、塗布ヘッドの下方に設けられたパンが汚
され洗浄作業が必要となる。さらには垂れた塗布液の固
化したものがゴミとなって塗布面に付着し塗布不良を起
こす原因にもなる。一方、角度βが30°より小さいと
きは外側エッジ29の加工が困難となる。
する機構を示す。塗布ヘッド21の前壁22には第1液
溜め部21Aに連通する塗布液供給口10Fが設けられ
ており、この塗布液供給口10Fから第1液溜め部21
A内に塗布液が供給されるように構成されている。この
塗布液供給口10Fは、塗布ヘッド21の長手方向の中
央部に1個設けられていればよい。尚、複数の塗布液供
給口が存在すると筋ムラが発生するので好ましくない。
びL2を介して塗布液供給ポンプPの吐出側が接続され
ており、この塗布液供給ポンプPから塗布液供給口10
Fに塗布液が供給されるように構成されている。供給パ
イプL1とL2の間には、フィルターFが接続されてい
る。
には塗布液の循環パイプL3の一端部が接続され、この
循環パイプL3の他端部が塗布液供給ポンプPの吸込み
側に接続されている。
布ヘッド21を備え、図5の従来の塗布装置の場合と同
様に、この塗布ヘッド21の吐出スリットS1を上方へ
塗布液を供給する手段とし、実質的に平板状の基板を、
傾斜状態で且つ傾斜角度調節可能に、しかも基板下側の
塗布をする面が下方に向くように支持する基板支持手段
(基板ホルダー3)と、塗布液ビードBの、基板の高く
位置する側に面するメニスカスより大きい高さ寸法をも
つような状態に維持しつつ、基板の高く位置する端縁寄
り部分から低く位置する端縁寄り部分へ、基板が塗布ヘ
ッドの吐出スリットS1を横切って相対移動するよう
に、基板と塗布ヘッドS1を相対的に移動させる移動手
段(ガイドフレーム2、ガイドフレーム2に沿って設置
されたボールねじ5及びボールねじを駆動するモーター
Mからなる)とを備える。
1は、図5の従来の塗布装置の場合と同様に、塗布装置
と同様に、塗布ヘッド21が傾斜したガイドフレームに
沿って搬送される基板の搬送路の下方位置に吐出スリッ
トS1を上方に向けて配置され、塗布ヘッド21の第1
液溜め部21A及び第2液溜め部21B、供給パイプL
1、L2及び循環パイプL3内に塗布液が充満される。
れており、この塗布液供給ポンプPから塗布液供給口1
0Fに塗布液が供給される。
Aに導入された塗布液は、吐出スリットS1から塗布ヘ
ッドの上面上に吐出され、ビードBが形成される。
常時駆動されていることによって常時吐出スリットS1
から塗布液が供給され、この塗布液の供給によってビー
ドBこおける塗布液が供給され、この塗布液の供給によ
ってビードBにおける塗布液の量が増加するが、この増
加分の塗布液は、吐出スリットS1の開口面よりも若干
低い位置に形成された開口面を有する吸込みスリットS
2の方向に流れる。
プL3を介して接続されている塗布液供給ポンプPの吸
引力によって、ビードBから吸込みスリットS2に流れ
た塗布液が第2液溜め部21B内に吸い込まれる。この
第2液溜め部21B内に吸込まれた塗布液は、塗布液排
出口10G−循環パイプL3−塗布液供給ポンプP−供
給パイプL1−フィルターF−供給パイプL1−フィル
ターF−供給パイプL2の経路で循環して塗布液供給口
10Fから再び第1液溜め部21A内に導入される。
布液が充満され、且つこの塗布液が循環されているの
で、塗布液の粘度上昇や固化が生じて基板への塗布が不
均一なことが有効に防止される。
端部26及び曲面状端部26に連続する鉛直面に対して
15°〜30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面28は、吐
出スリットS12から吐出された塗布液が塗布ヘッドの
軸方向に均一に吸込みスリットS2に流れ落ちるように
する役目を果たすので、筋ムラ等の発生は防止される。
布ヘッド21に供給される際に、塗布液がフィルターF
を通過することによって循環路内における塗布液の量が
徐々に減っていくことになるが、塗布液供給機構の循環
路の総面積を十分に大きくすることによって、塗布液の
減少による塗布膜の厚さへの影響を少なくすることがで
きる。
は、供給パイプL1、L2又は循環パイプL3内に図示
しない三方弁を介して補給タンクから塗布液を供給する
方法等の方法によって行うことができる。
せて瀬使用する他の塗布液供給機構を示す。
介してサブタンク41が接続され、このサブタンク41
には、下端部が塗布液供給タンク12内に挿入された排
出パイプL5が接続されている。
位が塗布ヘッド21の吸込みスリットS1の開口面と同
じ高さを取ることができる位置に配置されており、排出
パイプL4はこのサブタンク41の底部に接続され、排
出パイプL5はサブタンク41の側壁の吸込みスリット
S2の開口面とほぼ同じ高さ程度に接続されている。
プL6が接続され、この吸引パイプL6の下端部は塗布
液供給タンク42内に挿入されている。この塗布液供給
タンク42の上部は開放されている。
2液溜め部21B、供給パイプL1、L2、排出パイプ
L4及びサブタンク41内には塗布液が充満されてい
る。
供給ポンプPの駆動によって吸引パイプL6に吸い上げ
られることにより、供給パイプL1、フィルターF及び
供給パイプL2を介して塗布液供給口10Fから塗布ヘ
ッド21の第1液溜め部21Bに導入される。
塗布液は、図3の塗布液供給機構の場合と同様に、吐出
スリットS1から塗布ヘッド21の上面上に吐出されて
ビードBを形成し、さらにこのビードBから過剰な塗布
液が吸込みスリットS2の方向に流れる。
ク41の底部とが排出パイプL4を介して連通されてい
ることによりサブタンク11内の塗布液の液面と吸込ス
リットS2における塗布液の液面とが平衡して同一高さ
に維持されるので、ビードBから吸込みスリットS2に
流れる塗布液によってスリット10Cにおける塗布液の
液面が上昇するとサブタンク41内の塗布液の液面も上
昇して、上昇分だけ塗布液がサブタンク41から排出パ
イプL5を介して塗布液供給タンク42内に排出され
る。
いることによって、吸込みスリットS2における塗布液
の液位が一定の高さに維持されるので第2液溜め部21
Bから塗布液が流出して塗布液と空気との接触面積が増
大することが防止される。
ラ等の発生がないことから循環ポンプとして例えばシリ
ンジ型ポンプを使用し、基板への塗布動作時に塗布液を
シリンジ型ポンプから吐出スリットへ吐出し、塗布動作
外においては塗布液タンクからシリンジ型ポンプに吸入
され、その際には吐出スリットから吐出しない、間欠塗
布動作時においても、吐出初期時でも瞬時に液の流れが
塗布ヘッド21の幅方向にわたり均一となりビードBか
ら基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋ムラ等の不
良は発生しない。
ヘッドは吐出スリットから吐出される塗布液が吸込みス
リットへ流れ落ちる際、幅方向に均一に流れるために安
定したビードを形成することができ、筋ムラ等の不良が
発生しないという利点を有する。
外壁面を伝って塗布ヘッドの下方へ垂れることがないた
め、塗布液の損失がないという利点を有する。また、垂
れる塗布液を受けるパンの洗浄の必要がなく垂れた塗布
液が固着しゴミとなって基材の塗布面に付着することが
なてという利点を有する。
によれば筋ムラ等の不良のない製品を提供することがで
きる。
一部断面図示斜視図である。
一例の略図である。
他の例の略図である。
板とビードとの関係を示す略図である。
ードの状態を示す説明図である。
とビードとの関係を示す略図である。
ドの状態を示す説明図である。
図である。
塗布液供給機構の説明図である。
である。
Claims (5)
- 【請求項1】 前壁と後壁と前記両壁間を仕切る隔壁を
備え、前壁、後壁及び隔壁の両側部には夫々側壁が固着
され、前壁と隔壁の間に第1液溜め部が形成され、後壁
と隔壁の間に第2液溜め部が形成され、隔壁の先端には
曲面状端部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲
面状端部の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁
に対面する側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して
15°〜30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成され
ており、前壁及び隔壁は後壁より高く形成され、前壁の
上端とそれに対向する隔壁面間に吐出スリットが形成さ
れ、後壁の上端とそれに対向する隔壁面間に塗布液の吸
込スリットが形成されていることを特徴とする塗布ヘッ
ド。 - 【請求項2】 前壁と後壁と前記両壁間を仕切る隔壁を
備え、前壁、後壁及び隔壁の両側部には夫々側壁が固着
され、前壁と隔壁の間に第1液溜め部が形成され、後壁
と隔壁の間に第2液溜め部が形成され、隔壁の先端には
曲面状端部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲
面状端部の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁
に対面する側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して
15°〜30°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成され
ており、前壁及び隔壁は後壁より高く形成され、前壁の
上端とそれに対向する隔壁面間に吐出スリットが形成さ
れ、後壁の上端とそれに対向する隔壁面間に塗布液の吸
込スリットが形成されており、前壁の先端の外側エッジ
は30°〜60°の角度に形成されていることを特徴と
する塗布ヘッド。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載の塗布ヘッドを備
え、この塗布ヘッドの吐出スリットを上方へ塗布液を供
給する手段とし、実質的に平板状の基板を、傾斜状態で
且つ傾斜角度調節可能に、しかも基板下側の塗布をする
面が下方に向くように支持する基板支持手段と、塗布液
ビードの、基板の高く位置する側に面するメニスカスよ
り大きい高さ寸法をもつような状態に維持しつつ、基板
の高く位置する端縁寄り部分から低く位置する端縁寄り
部分へ、基板が塗布ヘッドの吐出スリットを横切って相
対移動するように、基板と塗布ヘッドを相対的に移動さ
せる移動手段とを備えることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項4】 前壁には塗布液の供給口が、また後壁に
は塗布液の排出口が夫々設けられ、排出口には循環パイ
プを介して塗布液供給ポンプの吸い込み側が接続され、
供給口には供給パイプを介して塗布液供給ポンプの吐出
側が接続されていることを特徴とする請求項3に記載の
塗布装置。 - 【請求項5】 前壁には塗布液の供給口が、また後壁に
は塗布液の排出口が夫々設けられ、液面調整タンクを備
え、この液面調整タンクはその中間の高さ位置に吸込ス
リットの開口面が位置するように配置され、またこの液
面調整タンクが吸込スリットの開口面よりも低い位置に
おいて前記排出口と連通され、塗布液供給タンクを備
え、この塗布液供給タンクは塗布ヘッドよりも低い位置
に配置され、液面調整タンクは排出パイプを介して塗布
液供給タンクに接続され、供給口は塗布液供給ポンプを
介して塗布液供給タンクに接続されていることを特徴と
する請求項3に記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001030722A JP4831447B2 (ja) | 2001-02-07 | 2001-02-07 | 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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