JP4116705B2

JP4116705B2 - 塗布装置

Info

Publication number: JP4116705B2
Application number: JP23232198A
Authority: JP
Inventors: 壮一松尾
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1998-08-04
Filing date: 1998-08-04
Publication date: 2008-07-09
Anticipated expiration: 2018-08-04
Also published as: JP2000042469A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は塗布装置に係り、特に大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板に塗布液を均一、かつ、効率良く塗布するための塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＬＣＤ用カラーフィルタ等の大型ガラス基板に塗布液を塗布する方式としては、スピン塗布方式が多く用いられている。
【０００３】
このスピン塗布方式には大気開放型および密閉カップ型があるが、何れの方式も、その塗布効率が１０パーセント程度と低く、しかも被塗布基板の回転中心部分と周辺部分の塗布膜厚が厚くなりすぎるという欠点がある。このため、例えば、塗布膜厚が数μｍ±３％の範囲であることが要求される場合、スピン塗布方式により形成した塗布膜をそのまま使用することが困難であり、被塗布基板の回転中心部分と周辺部分との中間領域の塗布膜厚が比較的均一な部分を使用する必要がある。したがって、スピン塗布方式は、塗布液の使用量、被塗布基板の有効利用等の点で問題がある。
【０００４】
上述のようなスピン塗布方式の欠点を解決するための方式としては、ナイフ塗布方式、ロール塗布方式またはダイ塗布方式がある。
【０００５】
これらの方式は、何れも、被塗布基板上に塗布用クリアランスを設け、その設定値によって塗布膜厚を決定して塗布面の平滑性を得る方式であるが、この方式では、被塗布基板表面の平滑度（凹凸度）が塗布精度以上に低い（凹凸度が大きい）ものに対しては、均一な膜厚を得ることが困難である。
【０００６】
また、被塗布基板表面の凹凸に影響され難い塗布液の塗布方法としては、一般にディップ塗布方式が知られているが、この方式では、被塗布基板の非塗布部を被覆することが不可欠であり、作業が煩雑なものとなる。
【０００７】
そこで、上記のような各塗布方式における欠点を解消して、枚葉基板に塗布液の物性に影響を受けることなく安定した状態で均一な塗布膜を形成することのできるビード塗布方式の塗布装置が提案されている（特願平６−５２４１０９号）。
【０００８】
この塗布装置では、上向きに開口する直線状のスリットを有する塗布ヘッドを備え、基板ホルダに吸着された被塗布基板が、その先端部が塗布ヘッドのスリットの直上に所定のクリアランスを介して対向するように位置される。そして、塗布ヘッドに塗布液が供給されると、塗布液がスリットから吐出されてビードを形成し、被塗布基板の先端部下面に付着する。この状態から基板ホルダが一定速度で斜め上方にスライドされ、ビードから塗布液が被塗布基板の下面に順次付着され、塗布液の層が形成される。このとき、塗布ヘッドには連続して塗布液の供給が行われ、ビードにおける塗布液の量が一定に保たれている。このように被塗布基板が斜め上方に上昇してその後端部が塗布ヘッドのスリット上に到達すると、基板ホルダのスライドが停止され、ビードを形成する塗布液が塗布ヘッド内に吸引されてビードが消滅される。これによって、塗布ヘッドと被塗布基板上の塗布液の層が分離される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のようなビード塗布方式の塗布装置では、塗布ヘッドへの塗布液の供給を塗布時のみ行う場合、何らかの理由により被塗布基板への塗布の時間的間隔が長くなると、塗布ヘッド先端における塗布液の乾燥が生じて粘度が高くなり、次の塗布において、塗布ヘッド先端に溜っていた粘度の高い塗布液からなる塗布膜と、新たに供給された塗布液からなる塗布膜との境界に塗布ムラやグラディエーションが発生するという問題があった。また、塗布ヘッド先端における塗布液の乾燥・固化により汚れが発生した場合、次の塗布において、塗布方向にスジムラが生じるという問題もあった。この問題を解消するために、塗布の時間的間隔が長くなる場合、塗布ヘッド先端部を密閉して塗布液の乾燥を防止することが行われているが、完全に塗布液の乾燥を抑えることはできない。したがって、粘度が上昇した塗布液を定期的にふき取ったり、塗布ヘッドを洗浄液で洗浄するための洗浄乾燥機構を新たに設ける必要が生じ、塗布装置が複雑化したり工程管理が煩雑になるという問題がある。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、特に大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板に対して均一な塗布膜を形成することができる塗布装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドと、スリットが被塗布基板に対向するように前記塗布ヘッドと被塗布基板とを相対的に移動させる移動手段と、前記塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給手段と、塗布ヘッドによる被塗布基板への塗布動作範囲の外側に配設された洗浄用被塗布部とを備え、該洗浄用被塗布部は前記スリットと同方向に延びる軸を中心に回転可能な複数のローラーと、該ローラー間を搬送される被塗布体とを有し、前記ローラーの１つは被塗布体の搬送時のテンションを一定に保つためのテンションコントロールローラーであり、前記被塗布体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドからなる群から選択される可撓性樹脂フィルム、あるいは、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄からなる群から選択される可撓性金属薄板であり、前記被塗布体の搬送速度は前記塗布ヘッドと前記被塗布基板との相対的移動速度と同じであり、前記塗布ヘッドが前記洗浄用被塗布部の下に位置するときに、前記被塗布体は前記塗布ヘッドと非接触状態で搬送され、かつ、前記スリットに形成されているビードに接触して塗布が行われるような構成とした。
【００１２】
このような本発明では、被塗布基板への塗布操作の間に、塗布ヘッドによる被塗布基板への塗布動作範囲の外側において、洗浄用被塗布部の被塗布体が複数のローラー間を搬送されながら塗布ヘッドのスリット上を移動して塗布が行われるので、塗布ヘッド上での塗布液の乾燥が防止される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の最も好ましいと思われる実施の形態について説明を行う。
【００１４】
図１は本発明の塗布装置の実施形態の一例を示す側面図である。図１において、塗布装置１は、装置本体１１の支持フレーム１１Ａに、塗布時のスライド方向の下流側（図１の矢印Ａ方向）の端部が低くなるように傾斜した状態で取り付けられた直線状のガイドフレーム１２と、このガイドフレーム１２にスライド自在に取り付けられた塗布ヘッド１４と、支持フレーム１１Ａに回動可能に取り付けられた基板ホルダ１３とを備え、ガイドフレーム１２の直上であって基板ホルダ１３の回動範囲外には、洗浄用被塗布部１０が配設されている。この洗浄用被塗布部１０の配設位置は、塗布時の塗布ヘッド１４のスライド移動範囲（塗布ヘッド１４による後述する被塗布基板Ｓへの塗布動作範囲）の上端（図１に実線で示されている位置）よりも更にガイドフレーム１２の上端側（図１の矢印Ｂ方向）にある。
【００１５】
このような洗浄用被塗布部１０は、水平方向に延びる塗布ヘッド１４のスリット１４ａの軸方向と同一の軸方向をもつ送り出しローラー２１、搬送ローラー２２ａ，２２ｂ、テンションコントロールローラー２３、巻上ローラー２４と、送り出しローラー２１に巻き取られた状態から、搬送ローラー２２ａ，２２ｂ、テンションコントロールローラー２３の各ローラー間を搬送され、巻上ローラー２４に巻き上げられる被塗布体２５とを備えている。上記の巻上ローラー２４は図示しない駆動部により回転可能とされており、テンションコントロールローラー２３は被塗布体２５の搬送時のテンションを一定に保つために矢印方向に可動状態とされている。
【００１６】
被塗布体２５は、表面物性が後述する被塗布基板Ｓの物性に近いものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド等の可撓性樹脂フィルム、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄等の可撓性金属薄板を使用することができる。また、洗浄用被塗布部１０における被塗布体２５の搬送速度は適宜設定することができるが、通常、ガイドフレーム１２に対する塗布ヘッド１４のスライド速度とほぼ同等に設定する。
【００１７】
図２は、塗布ヘッド１４がガイドフレーム１２上を塗布時のスライド移動範囲から更に上方（図１の矢印Ｂ方向）へ移動して洗浄用被塗布部１０の下に位置した状態を示す図である。図２に示されるように、洗浄用被塗布部１０は、搬送ローラー２２ａ，２２ｂを一体的に矢印ａ方向に昇降させる昇降装置（図示せず）を備えている。
【００１８】
このような洗浄用被塗布部１０は、塗布ヘッド１４が洗浄用被塗布部１０の下に位置した状態で、昇降装置により塗布ヘッド１４上に搬送ローラー２２ａ，２２ｂを一体的に降下させる。これにより、搬送ローラー２２ａ，２２ｂ間を搬送される被塗布体２５がスリット１４ａに形成されているビード上を通過して塗布が行われる。
【００１９】
尚、上述の洗浄用被塗布部１０全体が塗布ヘッド１４に対して矢印ａ方向に昇降するものであってもよい。
【００２０】
図３は、本発明の塗布装置における洗浄用被塗布部の他の実施形態を示す図である。図３において、洗浄用被塗布部１０´は、水平方向に延びる塗布ヘッド１４のスリット１４ａの軸方向と同一の軸方向をもつ送り出しローラー２１´、搬送ローラー２２´、巻上ローラー２４´と、送り出しローラー２１´に巻き取られた状態から、搬送ローラー２２´を経て搬送され、巻上ローラー２４´に巻き上げられる被塗布体２５とを備えている。上記の巻上ローラー２４´は図示しない駆動部により回転可能とされており、洗浄用被塗布部１０´全体が昇降装置（図示せず）により塗布ヘッド１４に対して矢印ａ方向に昇降するものである。
【００２１】
また、図４は、本発明の塗布装置における洗浄用被塗布部の他の実施形態を示す図である。図４において、洗浄用被塗布部１０″は、水平方向に延びる塗布ヘッド１４のスリット１４ａの軸方向と同一の軸方向をもつ送り出しローラー２１″および巻上ローラー２４″と、送り出しローラー２１″に巻き取られた状態から巻上ローラー２４″に搬送され巻き上げられる被塗布体２５とを備えている。上記の巻上ローラー２４″は図示しない駆動部により回転可能とされており、洗浄用被塗布部１０″全体が昇降装置（図示せず）により塗布ヘッド１４に対して矢印ａ方向に昇降するものである。
【００２２】
尚、上述の塗布装置では、洗浄用被塗布部が塗布ヘッドに対して昇降可能とされているが、塗布ヘッド１４が洗浄用被塗布部に対して昇降可能である構成としてもよい。
【００２３】
上述の塗布装置１の基板ホルダ１３は、水平方向に延びる軸Ｐを中心に駆動部１９により図１の矢印ａ方向と矢印ｂ方向に回動されるようになっており、図示しない吸引機構の作動によりその吸着面に被塗布基板Ｓを吸着して保持するようになっている。そして、被塗布基板Ｓを吸引保持した基板ホルダ１３は、ストッパー１８ａにより位置規制された状態の塗布位置と、ストッパー１８ｂにより位置規制された状態の基板受け渡し位置（図１に一点鎖線で示されている）との間を回動可能とされている。
【００２４】
また、塗布ヘッド１４は、図示しない塗布液供給手段から供給される塗布液をスリット１４ａから上方に吐出するようになっている。この塗布ヘッド１４は、ガイドフレーム１２に沿って配設されたボールねじ１５に螺合されており、このボールねじ１５がモータＭによって回転されることにより、ガイドフレーム１２に沿ってスリット１４ａを被塗布基板Ｓに対向させながらスライドされるようになっている。
【００２５】
ここで、塗布ヘッド１４の一例を図５乃至図８を参照して説明する。
【００２６】
図５乃至図８において、塗布ヘッド１４の本体１４Ａは塗布液の塗布を行う被塗布基板Ｓの幅以上の長さａを有し、その上面の中央部に、軸方向に沿って延びるとともに上方に向って開口するスリット１４ａが形成されている。そして、このスリット１４ａを挟むようにその両側に一対の斜面１４Ｂおよび１４Ｃが形成されている。
【００２７】
本体１４Ａの内部には、スリット１４ａと平行に延びるとともにスリット１４ａにその軸方向の全域に亘って連通される中空状の液溜り１４Ｄが形成されている。この液溜り１４Ｄにはスリット１４ａの下部に取り付けられた塗布液供給管１４Ｅが接続されており、この塗布液供給管１４Ｅから導入される塗布液が液溜り１４Ｄを介してスリット１４ａから吐出されるようになっている。
【００２８】
図中、１４Ｆは、スリット１４ａの両端部にそれぞれ脱着可能に嵌合された一対のスリット長さ調節用パッキンであり、このスリット長さ調節用パッキン１４Ｆを所望の長さを有する調節用パッキンに交換することにより、スリット１４ａから吐出される塗布液の幅を調節することができる。
【００２９】
図中に示された塗布ヘッド１４の各部の寸法の一例として以下の寸法が挙げられる。
【００３０】
本体１４Ａの長さａ＝４００ｍｍ
本体１４Ａの幅ｂ＝５０ｍｍ
本体１４Ａの高さｃ＝８０ｍｍ
スリット１４ａの長さｄ（スリット長さ調節用パッキン１４Ｆによる調整後の幅）＝３５０ｍｍ
スリット１４ａの幅ｅ＝１ｍｍ
スリット１４ａの深さｆ＝２７ｍｍ
液溜り１４Ｄの深さｇ＝４０ｍｍ
塗布ヘッド１４に塗布液を供給する塗布液供給手段としては、公知の定量液供給装置を使用することができる。具体的には、図９に示すような機構が挙げられる。この塗布液供給手段は、タンク３０内に収容されている塗布液をバルブ３１を介して供給される空気圧によって押し出し、粗調節用ニードルバルブ３２を介して定量ポンプ３３内に供給する。定量ポンプ３３は内部に薄膜３４を備え、この薄膜３４を介して内部が塗布液供給側３３ａと空気供給側３３ｂとに分けられており、空気供給側３３ｂには、内部にピストン３６を備えた加圧シリンダ３５が接続されている。そして、ピストン３６を矢印方向に所定のストロークだけ移動させることにより、定量ポンプ３３の空気供給側３３ｂ内を加圧して薄膜３４を塗布液供給側３３ａ方向に押し上げ、これにより塗布液供給側３３ａから所定量の塗布液を空気作動弁３７およびサックバックバルブ３８を介して塗布ヘッド１４に供給する。
【００３１】
空気作動弁３７は、被塗布基板Ｓへの塗布液の塗布終了時に空気圧によって自動的に作動して塗布ヘッド１４への塗布液の供給を停止させる。また、サックバックバルブ３８は、空気作動弁３７の閉鎖と同時にピストン３８ａが図９に示す矢印の方向にスライドされてシリンダ３８ｂ内に負圧を生じさせ、これによって塗布ヘッド１４に供給されている塗布液を吸引して回収する。
【００３２】
次に、本発明の塗布装置１の動作について説明する。
【００３３】
まず、被塗布基板Ｓを吸引保持した基板ホルダ１３が図１に実線で示される塗布位置にある状態で、塗布ヘッド１４による被塗布基板Ｓへの塗布が行われる。この塗布は、塗布液供給手段の定量ポンプ３３から一定の流量で塗布ヘッド１４に塗布液を供給しながら、塗布ヘッド１４をガイドフレーム１２に沿って斜め下方（図１の矢印Ａ方向）に移動する。このとき、供給された塗布液がスリット１４ａから吐出してビードを形成し、スリット１４ａの開口部と基板ホルダ１３に吸着保持された被塗布基板Ｓの下面との間のクリアランスの設定に応じた膜厚で、ビードから塗布液が被塗布基板Ｓの下面に順次付着して塗布が行われる。この塗布では、塗布ヘッド１４に連続的に塗布液の供給が行われ、ビードにおける塗布液の量が一定に保たれている。
【００３４】
塗布ヘッド１４がガイドフレーム１２に沿って移動し、被塗布基板Ｓの後端部に塗布ヘッド１４のスリット１４ａが到達すると、塗布ヘッド１４のスライドが停止され、さらに塗布ヘッド１４に接続されたサックバックバルブ３８の作動によってビードを形成する塗布液が塗布ヘッド１４内に吸引されて、塗布ヘッド１４と被塗布基板Ｓ上の塗膜とが分離される。
【００３５】
上記のような被塗布基板Ｓへの塗布が完了すると、基板ホルダ１３は軸Ｐを中心に回動（図１の矢印ｂ方向）してストッパー１８ｂにより所定の基板受け渡し位置に規制される。この基板受け渡し位置では、基板ホルダ１３の保持平面は水平状態にあり、基板ホルダ１３による被塗布基板Ｓの吸引保持は解除されており、塗布が完了した被塗布基板Ｓが取り出され、新たな被塗布基板Ｓが載置される。そして、新たな被塗布基板Ｓを吸引保持した基板ホルダ１３は、軸Ｐを中心に回動（図１の矢印ａ方向）してストッパー１８ａにより所定の塗布位置に規制される。
【００３６】
一方、被塗布基板Ｓへの塗布が完了すると、塗布ヘッド１４はガイドフレーム１２に沿って塗布開始位置（図１に実線で示されている位置）まで戻り、次の塗布のために待機する。
【００３７】
このような操作を繰り返すことにより被塗布基板Ｓへの塗布を行うことができ、塗布間隔が極めて短い場合は、塗布ヘッド１４のスリット１４ａにおける塗布液の乾燥等が問題となることはない。
【００３８】
塗布間隔が上記のような通常の塗布時よりも長くなり、塗布ヘッド１４のスリット１４ａにおける塗布液の乾燥が生じるおそれがある場合は、塗布ヘッド１４をガイドフレーム１２に沿って塗布時のスライド移動範囲から更に上方へ移動させ洗浄用被塗布部１０の下で停止する。次いで、洗浄用被塗布部１０の搬送ローラー２２ａ，２２ｂが昇降装置により一体的に塗布ヘッド１４上に降下する。そして、塗布液供給手段の定量ポンプ３３から一定の流量で塗布ヘッド１４に塗布液を供給してスリット１４ａにビードを形成することにより、搬送ローラー２２ａ，２２ｂ間を搬送される被塗布体２５に塗布液が塗布される。これにより、塗布ヘッド１４先端における塗布液が新たに供給された塗布液と置換され、塗布ヘッド１４上での塗布液の粘度上昇や汚染発生が防止される。
【００３９】
上記の状態から再度塗布を開始する場合、洗浄用被塗布部１０の搬送ローラー２２ａ，２２ｂを昇降装置により塗布ヘッド１４から上方へ上昇させる。次に、塗布ヘッド１４をガイドフレーム１２に沿って塗布開始位置（図１に実線で示されている位置）まで戻し、次の塗布を開始する。次の塗布は、新たに供給された一定の粘度をもつ塗布液により塗布が行われるので、形成される塗布膜は厚みが均一なものとなる。さらに、上記の塗布間隔が短時間である通常の塗布においても、被塗布基板Ｓへの塗布操作の間に毎回洗浄用被塗布部１０の被塗布体２５への塗布を行うことによって、より均一な厚みの塗布膜の形成が可能となる。
【００４０】
本発明の塗布装置において使用する塗布液は、特に制限はなく、例えば、粘度が４〜１５ｃｐｓ程度の溶剤系感光性樹脂、水系感光性樹脂、または、これらの感光性樹脂に顔料等の着色材を分散させた着色感光性樹脂、各種接着剤、保護膜等を形成するための樹脂、各種インキ等を対象とすることができる。
【００４１】
また、本発明の塗布装置にて塗布可能な被塗布基板としては、特に制限はなく、例えば、ＬＣＤカラーフィルタ用のガラス基板等のように、大面積で表面の平滑度が低い（通常５０〜７０μｍ，最大では１００μｍ程度の凹凸がある）基板であっても、厚みが均一な塗布膜を形成することができる。
【００４２】
上述の実施形態では、塗布ヘッドのスリットは上方に向かって開口し、固定されている被塗布基板に対して塗布ヘッドが移動して塗布を行うような実施形態であるが、スリットが上方に向かって開口した塗布ヘッドを固定し被塗布基板を保持した基板ホルダを移動させるような実施形態、スリットが下方に向かって開口した塗布ヘッドを被塗布基板の上方に移動可能に配設した実施形態、および、スリットが下方に向かって開口した塗布ヘッドを固定し被塗布基板を保持した基板ホルダを移動させるような実施形態であってもよい。
【００４３】
また、上述の実施形態では、塗布ヘッドが塗布時のスライド移動範囲から更に移動して洗浄用被塗布部の下に位置するように構成されているが、洗浄用被塗布部が塗布ヘッドの塗布開始位置まで移動するような構成としてもよい。
【００４４】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドと、このスリットが被塗布基板に対向するように塗布ヘッドと被塗布基板とを相対的に移動させる移動手段と、塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給手段と、スリットと同方向に延びる軸を中心に回転可能な複数のローラーとこれらのローラー間を搬送される被塗布体を有する洗浄用被塗布部とを備えた塗布装置であり、塗布間隔が短時間である通常の塗布においては、塗布ヘッドが被塗布基板に沿って相対的に移動する塗布時に塗布液供給手段から塗布ヘッドに塗布液が供給されて均一な厚みの塗布膜の形成が可能であり、また、被塗布基板への塗布の時間的間隔が長くなる場合、塗布ヘッドによる被塗布基板への塗布動作範囲の外側において、洗浄用被塗布部の被塗布体への塗布を行うことにより、塗布ヘッド先端にあった塗布液が新たに供給された塗布液と置換され、塗布ヘッド上での塗布液の粘度上昇や汚染発生が防止され、かつ、次の塗布は、新たに供給された一定の粘度をもつ塗布液により塗布が行われるので、形成される塗布膜は厚みが均一なものとなり、さらに、上記の塗布間隔が短時間である通常の塗布においても、被塗布基板への塗布操作の間に毎回洗浄用被塗布部の被塗布体への塗布を行うことによって、より均一な厚みの塗布膜の形成が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布装置の実施形態の一例を示す側面図である。
【図２】本発明の塗布装置における洗浄用被塗布部を説明するための図である。
【図３】本発明の塗布装置における洗浄用被塗布部の他の態様を示す図である。
【図４】本発明の塗布装置における洗浄用被塗布部の他の態様を示す図である。
【図５】図１に示される塗布装置において使用される塗布ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図６】同塗布ヘッドの正面図である。
【図７】同塗布ヘッドの平面図である。
【図８】同塗布ヘッドの側面図である。
【図９】図１に示される塗布装置において使用される塗布液供給手段の一例を示す図である。
【符号の説明】
１…塗布装置
１０，１０′，１０″…洗浄用被塗布部
１２…ガイドフレーム
１３…基板ホルダ
１４…塗布ヘッド
１４ａ…スリット
１５…ボールねじ
１９…駆動部
２１，２１′，２１″…送り出しローラー
２２ａ，２２ｂ，２２´…搬送ローラー
２３…テンションコントロールローラー
２４，２４′，２４″…巻上ローラー
２５…被塗布体
Ｓ…被塗布基板

Claims

水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドと、スリットが被塗布基板に対向するように前記塗布ヘッドと被塗布基板とを相対的に移動させる移動手段と、前記塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給手段と、塗布ヘッドによる被塗布基板への塗布動作範囲の外側に配設された洗浄用被塗布部とを備え、該洗浄用被塗布部は前記スリットと同方向に延びる軸を中心に回転可能な複数のローラーと、該ローラー間を搬送される被塗布体とを有し、前記ローラーの１つは被塗布体の搬送時のテンションを一定に保つためのテンションコントロールローラーであり、前記被塗布体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドからなる群から選択される可撓性樹脂フィルム、あるいは、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄からなる群から選択される可撓性金属薄板であり、前記被塗布体の搬送速度は前記塗布ヘッドと前記被塗布基板との相対的移動速度と同じであり、前記塗布ヘッドが前記洗浄用被塗布部の下に位置するときに、前記被塗布体は前記塗布ヘッドと非接触状態で搬送され、かつ、前記スリットに形成されているビードに接触して塗布が行われることを特徴とする塗布装置。