JP2021084065A - 塗布器 - Google Patents

Abstract

【課題】塗布器において、スリットが広くなっても、その開口で液面を容易に保持する。【解決手段】塗布器１２は、液が溜められる第１方向に長い液溜め空間４０と、前記液溜め空間４０に一方側が開口し外部空間に他方側が開口する前記第１方向に長いスリット４２と、を備える。前記スリット４２は、前記第１方向に直交する第２方向に対向する第一スリット壁面５１及び第二スリット壁面５２を有する。前記第一スリット壁面５１と前記第二スリット壁面５２との間に前記第１方向に長い中継部材３０が設けられている。前記スリット４２の開口で形成される液面形状が前記中継部材３０を介して複数のメニスカス形状を有するように、当該中継部材３０は、前記第一スリット壁面５１及び前記第二スリット壁面５２それぞれと前記第２方向に間隔をあけて設けられている。【選択図】 図３

Description

本発明は、基材に液を塗布するために用いられる塗布器に関する。

例えば、半導体の製造工程では、半導体ウエハに液体の機能性材料（以下、単に「液」と称する。）が塗布される。近年、基材に塗布する液として、カラーレジスト等の低粘度の液以外に、ポリイミド等の高粘度の液等、様々な粘度の液が用いられる。

半導体ウエハに液を塗布する技術としてスピンコートが知られている。しかし、粘度が比較的高い液の場合、スピンコートによる塗布は困難である。そこで、様々な粘度の液を基材に塗布することが可能である装置として、塗布器を備えた塗布装置が用いられる。塗布器は、液が溜められる一方向に長い液溜め空間（「マニホールド」とも称される。）と、一方向に長いスリットとを有し、液溜め空間に一旦溜められた液がスリットから吐出される。特許文献１には、前記のような塗布器を備えた塗布装置が開示されている。

特開２０１９−１６６４２８号公報

特許文献１に開示の塗布装置では、塗布器と基材とを相対移動させながら、塗布器のスリットから液が吐出され、これにより、基材への液の塗布が可能となる。このような塗布装置によれば、低粘度の液のみならず、高粘度の液の塗布が可能である。
更に、前記のような塗布器を用いて行われる塗布技術として、キャピラリ塗布が注目されている。キャピラリ塗布では、塗布器のスリットから吐出させた液を基材に付着させ、その状態で塗布器と基材とを相対移動させる。すると、基材に付着した液によりスリットから更に液が引き出され、引き出された液が基材に塗布される。

キャピラリ塗布では、塗布器内の液の圧力（内圧）が、大気圧に対して負圧となるように制御される。また、スリットから液を吐出させない状態では、液の表面張力によってスリットの開口で液面が保持されるように、塗布器内の液の圧力が調整される。仮に、スリットの開口で液面が保持されず、液が塗布器内に吸い込まれると、それにあわせてエアも塗布器内に引き込まれてしまう。すると、その後、塗布作業を行った際、基材に塗布した液の膜にエアが含まれ、不良品となる可能性がある。

ここで、基材に塗布する液として、例えば高粘度の液が用いられ、しかも、その液により基材上に形成される膜を厚くするためには、スリットを広くすればよい。しかし、スリットを広くすると、塗布器内の液の圧力を大気圧に対して負圧に設定した際、スリット内部の液が液溜め空間（マニホールド）に引き込まれやすくなる。つまり、スリットを広くすると、スリットの開口で液面が保持され難くなる。

そこで、本開示は、スリットが広くなっても、その開口で液面を容易に保持することが可能となる塗布器を提供することを目的とする。

本開示の塗布器は、液が溜められる第１方向に長い液溜め空間と、前記液溜め空間に一方側が開口し外部空間に他方側が開口する前記第１方向に長いスリットと、を備え、前記スリットは、前記第１方向に直交する第２方向に対向する第一スリット壁面及び第二スリット壁面を有し、前記第一スリット壁面と前記第二スリット壁面との間に前記第１方向に長い中継部材が設けられていて、前記スリットの開口で形成される液面形状が前記中継部材を介して複数のメニスカス形状を有するように、当該中継部材は、前記第一スリット壁面及び前記第二スリット壁面それぞれと前記第２方向に間隔をあけて設けられている。

前記構成を備える塗布器によれば、スリットが広くなっても、つまり、スリットの第２方向の寸法が大きくなっても、スリットの開口で形成される液面形状は、中継部材を介して複数のメニスカス形状を有するので、スリットの開口で液面が保持され易くなる。

スリットにおいて、中継部材が可能な限り流路抵抗とならないように、中継部材の断面を小さくするのが好ましい。しかし、この場合、中継部材の剛性は低く、液溜め空間からスリットへと液が流れると、中継部材がスリットの開口側に変位することが考えられる。その変位によって中継部材のうち、例えば第１方向の中央部が外部空間に露出すると、スリットの開口から吐出させた液の流れが、中継部材が原因となって不均一になる可能性がある。

そこで、好ましくは、前記中継部材は、前記スリットの開口よりも、前記液溜め空間側の位置に設けられている。
前記構成によれば、流れる液によって中継部材がスリットの開口側に押されても、中継部材の例えば第１方向の中央部が外部空間に露出し難くなり、スリットの開口から吐出させた液の流れが不均一になり難い。

また、好ましくは、前記第１方向及び前記第２方向の双方に直交しかつ前記液溜め空間から前記スリットの開口に向かう方向を第３方向と定義した場合に、前記中継部材は、前記第３方向に向かうにしたがって前記第２方向に細くなる先部を有する。
前記構成によれば、中継部材の先端が先鋭となるため、液溜め空間からスリットに液が流れ液が中継部材を通過すると、その液の合流を促し、合流部分に気泡が発生するのを抑えることができる。このため、液が基材に塗布されて形成される膜にエアが混入するのを防止することが可能となる。

また、好ましくは、前記第１方向及び前記第２方向の双方に直交しかつ前記液溜め空間から前記スリットの開口に向かう方向を第３方向と定義した場合に、前記中継部材は、前記第３方向と反対方向に向かうにしたがって前記第２方向に細くなる基部を有する。
前記構成によれば、スリットを通過する液の流れが中継部材によって乱れ難くなる。

また、好ましくは、前記スリットが開口する塗布器先端面は、当該スリットの開口を挟んで前記第２方向側の第一先端面と、当該開口を挟んで前記第２方向と反対側の第二先端面と、を有し、前記第一先端面と前記第二先端面とは共通する仮想平面上に配置されている。
前記構成によれば、中継部材を挟んで両側を通過した液が、同じ流れの態様でスリットの開口から吐出される。

また、好ましくは、前記中継部材は、前記第２方向に均等配置されている。
前記構成によれば、中継部材を挟む両側を流れる液の流路幅が均等となる。

本開示の発明によれば、塗布器が備えるスリットが広くなっても、その開口で液面を容易に保持することが可能となる。

塗布器を備える塗布装置を側方から見た概略構成図である。 塗布器及び基材の斜視図である。 塗布器の断面図である。 スリットの開口側を拡大して示す断面図である。 図３に示す塗布器の分解図である。 他の形態を有する塗布器の分解図である。 スリットの開口側を拡大して示す断面図である。 塗布器を第２方向から見たイメージ図である。

〔塗布装置の構成〕
図１は、塗布器を備える塗布装置を側方から見た概略構成図である。図１に示す塗布装置１０は、基材７に液を塗布するための装置である。そのために、塗布装置１０は、塗布器１２と、基材７を保持するステージ１４と、塗布器１２と基材７（ステージ１４）とを相対的に移動させるための移動機構１６と、塗布器１２と繋がり液を塗布器１２に供給可能である供給機構２２と、制御部２０とを備える。

図２は、塗布器１２及び基材７の斜視図である。本開示の基材７は、半導体ウエハのような円形の基板である。なお、基材７は、円形の基板である以外に、正方形又は矩形の基板であってもよく、また、半導体ウエハのような枚葉部材ではなく、連続するシート状の部材であってもよい。図１は、塗布のための初期処理として、後述する液付け動作の状態を示している。図２は、塗布の途中の状態を示している。

塗布器１２は、スリットダイとも呼ばれ、一方向に長い部材である。前記一方向、つまり、塗布器１２の長手方向を「第１方向」と定義する。各図において「第１方向」を矢印Ｘで示している。塗布器１２は、塗布装置１０が備える支持部２４（図１参照）に搭載されている。

塗布器１２と基材７（ステージ１４）とは移動機構１６によって相対的に移動する。本開示では、固定状態にある塗布器１２に対して、基材７を保持するステージ１４が移動する。移動する基材７に対して相対的な塗布器１２の移動方向が塗布方向となり、第１方向に直交する方向となる。第１方向に直交する塗布方向を「第２方向」と定義する。各図において「第２方向」を矢印Ｙで示している。

第１方向及び第２方向の双方に直交する方向であり、塗布器１２が有する後述する液溜め空間４０からスリット４２の開口に向かう方向を「第３方向」と定義する。各図において「第３方向」を矢印Ｚで示している。
本開示の発明では、第１方向及び第２方向は、水平面に沿った方向となり、第３方向は、鉛直線に沿って上から下に向かう方向となる。

図３は、塗布器１２の断面図である。塗布器１２の内部に、液が溜められる液溜め空間４０と、スリット４２とが形成されている。液溜め空間４０及びスリット４２は、第１方向（Ｘ方向）に沿って長く直線状に形成されている。スリット４２に中継部材３０が設けられている。図３では、スリット４２及び中継部材３０の説明を容易とするために、これらは実際の寸法よりも大きく（特にＹ方向に大きく）記載されている。中継部材３０は、第１方向（Ｘ方向）に沿って長く直線状の部材である。中継部材３０については後にも説明する。

図３において、スリット４２の一方側（図３では上側）は、液溜め空間４０に開口し、液溜め空間４０と繋がっている。スリット４２の他方側（図３では下側）は、塗布器１２の先端面４６で開口している。つまり、スリット４２の他方側は、外部空間に開口している。スリット４２の開口は「吐出口４４」と称される。吐出口４４の第１方向（Ｘ方向）の寸法は、基材７の直径（幅寸法）よりも大きい（図２参照）。液溜め空間４０に一旦溜められた液が、スリット４２を通じて吐出口４４から外部空間へ吐出される。塗布器１２の先端面４６は、基材７の表面８と対向しており、吐出口４４から吐出された液は基材７に塗布される。

図１において、ステージ１４は、基材７を例えばエアの吸引によって保持する。基材７に液を塗布する際、ステージ１４の上方に塗布器１２が位置する。本開示の移動機構１６は、固定状態にある塗布器１２に対して、ステージ１４を移動させる構成を備える。具体的に説明すると、移動機構１６は、ステージ１４を移動させるアクチュエータ３７を有する。アクチュエータ３７は、例えばリニアアクチュエータである。移動機構１６により、塗布器１２に対してステージ１４は水平方向に移動する。基材７の表面８が、液が塗布される被塗布面であり、表面８が水平状態となって基材７がステージ１４と共に移動する。移動機構１６の動作は制御部２０によって制御される。

なお、本開示の場合とは反対に、ステージ１４が固定状態であって塗布器１２が移動してもよい。つまり、移動機構１６は、基材７と塗布器１２とを相対的に移動させる構成であればよい。塗布器１２の移動方向が塗布方向であり、矢印Ｙで示す第２方向となる。

以上より、塗布器１２に対して基材７が移動しながら、吐出口４４から液を吐出して、後にも説明するが、キャピラリ塗布を行うことが可能となる。
また、塗布器１２の吐出口４４と、ステージ１４上の基材７の表面８との間隔（隙間Ｇ）を調整するために、塗布器１２は、表面８に直交する方向（第３方向及びその反対方向）に移動可能となって支持部２４に搭載されている。

図１において、供給機構２２は、塗布器１２に液を供給することができる。供給機構２２は、液を溜めているタンク３５と、タンク３５と塗布器１２とを繋ぐ配管３４とを有する。塗布器１２から液が吐出されると、つまり、液が消費されると、その吐出（消費）にあわせてタンク３５から液が塗布器１２に供給される（補充される）。本開示の塗布装置１０が行う基材７への液の塗布は、後にも説明するキャピラリ塗布である。このために、供給機構２２は、タンク３５に溜められている液の圧力を調整する調整部３６を有する。

調整部３６は、エアを吸引するポンプ（真空ポンプ）及びレギュレータを有する。調整部３６は、タンク３５の液を大気圧に対して負圧とする。これにより、塗布器１２内の液も大気圧に対して負圧となる。塗布器１２内の液が負圧となっている状態では、吐出口４４から液は吐出されない。
また、調整部３６は、タンク３５の液の圧力を調整することによって、塗布器１２内の液の圧力を大気圧と同じ又は大気圧よりも僅かに高い圧力に調整することも可能である。塗布器１２内の圧力が大気圧と同じ又は大気圧よりも僅かに高い圧力になると、塗布器１２内の液が吐出口４４から吐出される。これにより、後に説明するが、塗布器１２内の液を基材７の縁部９（図１参照）に付着させることが可能となる。液を基材７の縁部９に付着させる動作は「液付け動作」と称される。

液付け動作の前、及び、基材７に液を塗布している途中では、後にも説明するが、調整部３６のレギュレータは、塗布器１２内の液の圧力が所定の値（負圧）に保たれるように、タンク３５に溜めている液の圧力を調整する。調整部３６は、塗布器１２内の液の圧力を大気圧に対して負圧に調整可能であり、これにより、塗布器１２によるキャピラリ塗布が可能となる。キャピラリ塗布については後にも説明する。調整部３６の動作は制御部２０によって制御される。

制御部２０は、コントロールユニットと呼ばれるものであり、コンピュータを含む。そのコンピュータに記憶されているプログラムが、コンピュータの処理装置（ＣＰＵ）によって実行されることで、塗布装置１０が備える各部の動作タイミングが制御され、基材７に対する液の塗布が行われる。制御部２０は、アクチュエータ３７の動作を制御することで、塗布器１２に対する基材７（ステージ１４）の移動の制御を行う機能を有する。制御部２０は、調整部３６の動作を制御することで、吐出口４４から液を吐出させるための制御を行う機能を有する。

〔キャピラリ塗布について〕
本開示の塗布装置１０では、塗布器１２に対して、ステージ１４上の基材７が移動する間に、塗布器１２の吐出口４４から液が吐出される。本開示の塗布方法は、下向きのキャピラリ塗布方法となる。

キャピラリ塗布について更に説明する。塗布開始の前、調整部３６は、タンク３５の液の圧力が大気圧よりも低い圧力となるように調整している。このため、塗布器１２内の液の圧力も負圧であり、スリット４２から液は吐出されない。図１に示すように、塗布器１２の吐出口４４と、ステージ１４上の基材７の表面８のうちの縁部９とを接近させた状態とする。調整部３６は、タンク３５の液の圧力が大気圧よりも僅かに高い圧力となるように調整する。すると、タンク３５から塗布器１２に液が供給されると共に、塗布器１２の吐出口４４から液が吐出される。塗布器１２から吐出させた液が基材７の表面８の縁部９に接触すると、図１の拡大図に示すように、吐出口４４と基材７の表面８の縁部９との隙間Ｇに液の液溜まりＢが形成される。この液溜まりＢを、以下「ビードＢ」と称する。このようにして液付け動作が行われる。液付け動作の際、基材７の縁部９のうち、塗布始端となる一部の直上に、塗布器１２は位置していて、その塗布器１２は停止した状態にある。

ビードＢが形成されると直ぐに、調整部３６は、タンク３５の液の圧力が大気圧よりも低い圧力となるように調整する。これにより、スリット４２からの液の吐出が一旦停止される。ビードＢは形成されたままである。その後、調整部３６は、塗布器１２内の液の圧力が大気圧よりも低い所定の圧力となるように調整する。そして、移動機構１６が、基材７（ステージ１４）の移動を開始させる。この移動に伴って、ビードＢを継続して形成するため、液が隙間Ｇに満たされるように塗布器１２から引き出され、基材７の表面８に対して連続的に液が塗布される。塗布の間、消費される量の液が、供給機構２２から塗布器１２に補充される。

このようにキャピラリ塗布は、塗布器１２からの液が基材７の表面８に付着した後、液が、吐出口４４と表面８との間における毛細管現象（表面張力）、及び、塗布中のビードＢに作用するせん断力によって、塗布器１２から引き出される。これにより、基材７の表面８に液が塗布される。このようなキャピラリ塗布では、吐出口４４からは、直下に基材７が存在している領域に対してのみ液が吐出され、直下に基材７が存在していない領域に対しては液が吐出されない。

以上のように、キャピラリ塗布では、塗布器１２のスリット４２から吐出させた液を基材７に付着させ、その状態で塗布器１２に対して基材７を移動させる。すると、基材７に付着した液によりスリット４２から液が更に引き出される力が生じ、引き出された液が基材７に塗布される。つまり、基材７に液が接触した状態で、基材７と塗布器１２とが相対移動すると、スリット４２から液を引き出す力が生じ、これにより、基材７への液の塗布が行われる。このような液を引き出す力は、基材７の移動により生じる液のせん断力（粘性力）によって生じる。

〔スリット４２及び中継部材３０について〕
図４は、スリット４２の開口側を拡大して示す断面図である。図３及び図４において、スリット４２は、第２方向（矢印Ｙ方向）に対向する第一スリット壁面５１及び第二スリット壁面５２を有する。第一スリット壁面５１と第二スリット壁面５２との間に中継部材３０が設けられている。中継部材３０は、第１方向に細長い部材により構成されている。中継部材３０は、第一スリット壁面５１と第２方向に間隔をあけて設けられていて、第二スリット壁面５２と第２方向に間隔をあけて設けられている。

図４に示す形態では、中継部材３０は、第一スリット壁面５１と第二スリット壁面５２との間において、第２方向に均等配置されている。つまり、第一スリット壁面５１から中継部材３０までの第２方向の距離と、その中継部材３０から第二スリット壁面５２までの第２方向の距離とが同じである。この構成により、中継部材３０を挟む両側を流れる液Ｌの流路幅（第２方向の幅）が均等となり、流路幅が異なることによる膜品位の低下（膜ムラなど）が発生するのを抑えることができる。

図４は、液Ｌを吐出口４４から吐出させず、液面Ｆを吐出口４４で保持している状態を示している。この状態では、吐出口４４に、中継部材３０を介して２つのメニスカス形状Ｑ１，Ｑ２（凹曲面形状Ｑ１，Ｑ２）が形成される。つまり、中継部材３０によって、スリット４２の開口で、表面張力により形成される液面Ｆの形状は、２つのメニスカス形状Ｑ１，Ｑ２を有する。

図４に示すように、スリット４２が開口する塗布器１２の先端面４６は、スリット４２の開口、つまり吐出口４４を挟んで、第２方向側（図４では左側）の第一先端面４６ａと、吐出口４４を挟んで第２方向と反対側（図４では右側）の第二先端面４６ｂとを有する。第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとは共通する仮想平面（仮想水平面）Ｓ上に配置されている。そして、このような吐出口４４よりも液溜め空間４０側の位置に、中継部材３０は設けられている。つまり、中継部材３０の第３方向の先端（下端）３０ｅは、吐出口４４（前記仮想平面Ｓ）から外部空間側へはみ出さずに設けられている。

中継部材３０は、スリット４２を流れる液Ｌにとって抵抗となり難い断面形状を有するのが好ましい。そのために、図４に示す中継部材３０は、ひし形の断面形状を有する。なお、中継部材３０の断面形状はひし形である以外に、他であってもよい。中継部材３０は、第３方向（図４では下）に向かうにしたがって第２方向に細くなる先部３１を有していればよい。また、中継部材３０は、第３方向と反対方向（図４では上）に向かうにしたがって第２方向に細くなる基部３２を有していればよい。例えば図７に示すように、中継部材３０の断面形状は、第３方向が長軸となる長円や楕円形であってもよい。または、図示しないが、中継部材３０の断面形状は、第３方向に細長い矩形であってもよい。

前記のような先部３１により、液溜め空間４０からスリット４２に液Ｌが流れる際に、中継部材３０よりも第３方向側にエアが存在する（空間が生じる）のを防ぐことができる。このため、液Ｌが基材７に塗布されて形成される膜にエアが混入するのを防止することが可能となる。
前記のような基部３２によれば、スリット４２を通過する液Ｌの流れが中継部材３０によって乱れ難くなる。

図５は、図３に示す塗布器１２の分解図である。塗布器１２は、第一ブロック６１、第二ブロック６２及び中間ブロック６３を有し、これらはそれぞれ第１方向に長い部材である。塗布器１２の組立状態で（図３参照）、中間ブロック６３は第一ブロック６１と第二ブロック６２とに挟まれた状態にある。第一ブロック６１及び第二ブロック６２のうちの少なくとも一方の内側に、液溜め空間４０を形成するための凹部６４が形成されている。

中間ブロック６３は、第１方向に長く第２方向に薄い主部６３ａと、主部６３ａの両端部それぞれから第３方向に延びて設けられている副部６３ｂとを有する。主部６３ａは、液溜め空間４０（図３参照）の上壁の一部を構成する。主部６３ａと２つの副部６３ｂ，６３ｂとの間に形成される空間が、液溜め空間４０の一部及びスリット４２を構成する。２つの副部６３ｂ，６３ｂの間に中継部材３０が設けられている。第二ブロック６２、中間ブロック６３、及び第一ブロック６１が順に第２方向に並んで結合されることで、一つの塗布器１２が構成される。

中継部材３０は比較的剛性の高い部材であってもよいが、中継部材３０は糸状であって低剛性の部材であってもよい。特に中継部材３０が低剛性である場合、図６に示すように、中間ブロック６３には、中継部材３０に張力を付与する調整機構６５が設けられている。中継部材３０の一端３０ａが一方の副部６３ｂに固定されていて、中継部材３０の他端３０ｂが他方の副部６３ｂに第１方向に引っ張られた状態で取り付けられている。調整機構６５は、中継部材３０を引っ張って中継部材３０に張力を付与することができる。更に、調整機構６５は、その張力を調整することができる。調整機構６５は、中継部材３０の他端３０ｂが取り付けられていて回転を第１方向の変位に変換するねじ構造部を有して構成される。つまり、ねじ構造部を回転させることで、中継部材３０の他端３０ｂが第１方向に変位し、これにより、中継部材３０に作用する張力が変更される。ねじ構造部の回転を拘束することで、その張力が維持される。

〔本開示の塗布器１２について〕
以上のように、本開示の塗布器１２は、その内部に、液が溜められる第１方向に長い液溜め空間４０と、第１方向に長いスリット４２とを備える。スリット４２は、液溜め空間４０に一方側が開口していて、外部空間に他方側が開口する。スリット４２が有する第一スリット壁面５１と第二スリット壁面５２との間に第１方向に長い中継部材３０が設けられている。そして、図４に示すように、スリット４２の開口で液Ｌの表面張力により形成される液面Ｆの形状が、中継部材３０を介して複数（図４では２つ）のメニスカス形状Ｑ１，Ｑ２を有するように、中継部材３０は、第一スリット壁面５１及び第二スリット壁面５２それぞれと第２方向に間隔をあけて設けられている。

この構成を備える塗布器１２によれば、スリット４２が第２方向に広くなっても、スリット４２の開口、つまり、吐出口４４で形成される液面Ｆの形状は、中継部材３０を介して複数（図４では２つ）のメニスカス形状Ｑ１，Ｑ２を有する。このため、スリット４２の開口で液面Ｆが保持され易くなる。中継部材３０は、吐出口４４の液面Ｆを複数のメニスカス形状として保持することに貢献することから、中継部材３０は「液面保持部材」と呼ぶこともできる。
基材７に塗布する液Ｌが高粘度であり、しかも、その液Ｌによる膜を厚くするためには、スリット４２を第２方向に広くするのが効果的である。なお、スリット４２を第２方向に広くすると流動抵抗が減少する。
そこで、本開示の塗布器１２によれば、前記のとおり、スリット４２を第２方向に広くしても、液面Ｆが吐出口４４で保持される。この結果、液Ｌが高粘度であっても基材７に塗布した液による膜を厚くすることが可能となる。

スリット４２において、中継部材３０が可能な限り流路抵抗とならないように、中継部材３０の断面を小さくするのが好ましい。
しかし、この場合、中継部材３０の剛性は低く、液溜め空間４０からスリット４２へと液Ｌが流れると、中継部材３０がスリット４２の開口側に変位することが考えられる。その変位によって、図８（Ａ）に示すように、中継部材３０のうち、例えば第１方向の中央部３０ｎが外部空間に露出すると、スリット４２の開口から吐出させた液の流れが、中継部材３０が原因となって不均一になる可能性がある。

そこで、本開示の塗布器１２では、図４に示すように、中継部材３０は、スリット４２の開口よりも、液溜め空間４０側の位置に設けられている。つまり、中継部材３０は、塗布器１２の先端面４６から第３方向にはみ出さずに、液溜め空間４０側の位置に、設けられている。
この構成によれば、流れる液Ｌによって中継部材３０がスリット４２の開口側に押されても、図８（Ｂ）に示すように、中継部材３０の第１方向の中央部３０ｎが外部空間に露出せず、スリット４２の開口から吐出させた液の流れが不均一になり難い。その結果、液が基材７に塗布されて形成される膜の厚さ精度が低下するのを防ぐことが可能となる。

また、本開示の塗布器１２では、図４において、スリット４２が開口する塗布器１２の先端面４６は、スリット４２の開口を挟んで第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとを有する。そして、第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとは、共通する仮想平面Ｓ上に配置されている。つまり、本開示の塗布器１２では、第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとの第３方向についての位置が、第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとで揃っている。この構成によれば、中継部材３０を挟んで両側を通過した液が、同じ流れの態様でスリット４２の開口から吐出される。このため、液Ｌが基材７に塗布されて形成される膜の厚さ等の精度が向上する。
仮に第３方向についての位置が第一先端面４６ａと第二先端面４６ｂとで揃っていない場合、例えば、第一先端面４６ａが基材７に近く、第二先端面４６ｂが基材７から離れている場合、液Ｌが第二先端面４６ｂを越えてリップ斜面４７ｂに回り込んでしまう可能性がある。この場合、特に液付け動作の際、液が基材７に付着し難くなる。

なお、図示しないが、本開示の塗布器１２において、中継部材３０は、一つのみならず、スリット４２の第２方向の広さに応じて、第２方向に間隔をあけて複数設けられていてもよい。この場合、スリット４２の開口で形成される液面Ｆの形状は、中継部材３０の数よりも一つ多い数のメニスカス形状を有することができる。

今回開示した実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではない。本発明の権利範囲は、上述の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲の範囲に記載された構成と均等の範囲内での全ての変更が含まれる。

７：基材 １２：塗布器 ３０：中継部材
３１：先部 ３２：基部 ４０：液溜め空間
４２：スリット ４６：先端面 ４６ａ：第一先端面
４６ｂ：第二先端面 ５１：第一スリット壁面 ５２：第二スリット壁面
Ｑ１：メニスカス形状 Ｑ２：メニスカス形状 Ｓ：仮想平面

Claims (6)

1. 液が溜められる第１方向に長い液溜め空間と、前記液溜め空間に一方側が開口し外部空間に他方側が開口する前記第１方向に長いスリットと、を備え、
   前記スリットは、前記第１方向に直交する第２方向に対向する第一スリット壁面及び第二スリット壁面を有し、
   前記第一スリット壁面と前記第二スリット壁面との間に前記第１方向に長い中継部材が設けられていて、
   前記スリットの開口で形成される液面形状が前記中継部材を介して複数のメニスカス形状を有するように、当該中継部材は、前記第一スリット壁面及び前記第二スリット壁面それぞれと前記第２方向に間隔をあけて設けられている、塗布器。
2. 前記中継部材は、前記スリットの開口よりも、前記液溜め空間側の位置に設けられている、請求項１に記載の塗布器。
3. 前記第１方向及び前記第２方向の双方に直交しかつ前記液溜め空間から前記スリットの開口に向かう方向を第３方向と定義した場合に、
   前記中継部材は、前記第３方向に向かうにしたがって前記第２方向に細くなる先部を有する、請求項１又は２に記載の塗布器。
4. 前記第１方向及び前記第２方向の双方に直交しかつ前記液溜め空間から前記スリットの開口に向かう方向を第３方向と定義した場合に、
   前記中継部材は、前記第３方向と反対方向に向かうにしたがって前記第２方向に細くなる基部を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の塗布器。
5. 前記スリットが開口する塗布器先端面は、当該スリットの開口を挟んで前記第２方向側の第一先端面と、当該開口を挟んで前記第２方向と反対側の第二先端面と、を有し、
   前記第一先端面と前記第二先端面とは共通する仮想平面上に配置されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の塗布器。
6. 前記中継部材は、前記第２方向に均等配置されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗布器。
   

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