JP2000202346A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

Info

Publication number
JP2000202346A
JP2000202346A JP11006267A JP626799A JP2000202346A JP 2000202346 A JP2000202346 A JP 2000202346A JP 11006267 A JP11006267 A JP 11006267A JP 626799 A JP626799 A JP 626799A JP 2000202346 A JP2000202346 A JP 2000202346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
coating liquid
substrate
liquid supply
head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11006267A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4390886B2 (ja
Inventor
Takashi Yaguchi
矢口  孝
Masayuki Murata
村田  正幸
Shinichiro Murakami
慎一郎 村上
Jun Takemoto
潤 竹本
Shunji Miyagawa
俊二 宮川
Yasuhide Nakajima
泰秀 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP00626799A priority Critical patent/JP4390886B2/ja
Publication of JP2000202346A publication Critical patent/JP2000202346A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4390886B2 publication Critical patent/JP4390886B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布ヘッドを含む塗布液供給手段を、簡便迅
速に着脱できる塗布装置を得る。 【解決手段】 塗布液供給手段1は、塗布ヘッド2と、
塗布液循環ポンプPと、塗布液濾過フィルタFと、塗布
液貯留タンクTとを含み、前記塗布ヘッド2を含む塗布
液供給手段1は、位置決め可能な結合手段5を介して塗
布装置に装着され、また、塗布装置に連接可能な移動自
在な台車40へ移載可能に構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板などの
枚葉タイプの基板に、効率よくかつ均一な膜厚の塗布膜
を形成する塗布装置に係り、特に、塗布ヘッドを含む塗
布液供給手段を、簡便かつ迅速に着脱できる塗布装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置やプラズマディスプレイな
どに用いられるガラス基板に、感光性樹脂膜や接着剤
層、保護膜などを形成するための樹脂溶液やインキなど
の塗布液を塗布する方式としては、一般に回転塗布方式
が多用されている。回転塗布方式には開放型と密閉型が
あるが、いずれも、塗布液の塗布効率が低く、しかも、
基板のコーナ部分の塗布膜厚が厚くなりすぎるという欠
点があり、今後見込まれる基板寸法の大型化にともなっ
て、塗布液の使用量、塗布膜厚の均一性、および塗布工
程の生産性などの点において課題が多い。
【0003】そこで、回転塗布方式における欠点を解消
するとともに、塗布液自体の物性や基板の平滑度の影響
を受けることが少なく、安定して均一な膜厚の塗布膜を
枚葉基板に形成できる塗布装置を、国際出願PCT/J
P94/00845(国際出願日:1994年5月27
日)において、本出願人は先に提案した。
【0004】この塗布装置は、上方へ向かって開口する
とともに、水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗
布ヘッドと、塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液供給
手段と、塗布ヘッドの上方に対向して配置され、塗布面
を下方へ向け、かつ傾斜状態に基板を吸着保持する基板
保持部材とを備えている。この塗布装置では、先ず、塗
布ヘッドに塗布液を供給してスリットから塗布液を吐出
し、基板と塗布ヘッドとの間隙に帯状の液溜まりを形成
する。次いで、この液溜まりを横切る方向へ、塗布ヘッ
ド、または基板を保持した基板保持部材を相対的に移動
させることによって、塗布液の液溜まりを基板の塗布面
に順次接触させ、基板に塗布膜を形成する。
【0005】上記塗布装置は、塗布液の粘度や表面張力
などの物性、および基板の濡れ性や平滑度などに対応し
て、所望の均一な塗布膜厚を得るために、基板の塗布面
と塗布ヘッドとの間隙を調節する機構、および、前記間
隙を維持した状態で、基板の傾斜角度を調節する機構、
さらに、基板を吸着保持した基板保持部材と塗布ヘッド
との相対的な移動速度を調節する機構などを備えてい
る。この塗布装置によると、塗布液の塗布効率がよく、
しかも枚葉基板であっても、塗布面の平滑度に影響され
ず、基板の片面のみに、広い領域にわたって均一な膜厚
の塗布膜を形成することができる。
【0006】次いで、上記塗布装置における塗布膜形成
基板の生産性をより向上するため、基板を吸着保持する
基板保持部材の外周の複数箇所に、塗布処理する基板の
外周よりも内側に延びた空間部を設けた。そして、前記
塗布装置へ基板を供給したり、塗布装置から基板を排出
する際、基板を着脱するための基板着脱部材が、基板着
脱位置に係止した基板保持部材の前記空間部を通過しな
がら、基板を装着、または離脱するように構成した塗布
装置を、特願平9ー19575(出願日:1997年1
月20日)において提案した。この塗布装置によれば、
複雑な機構を用いることなく、塗布処理後の基板排出や
塗布処理前の基板供給を、高速かつ確実に行えるので、
塗布膜形成基板の生産性を高められる。
【0007】さらに、本出願人は、基板に形成する塗布
膜の膜厚をより均一にするため、上記塗布方式に加え、
従来の回転塗布方式を併用した塗布装置を、特願平9ー
31237(出願日:1997年1月30日)において
提案した。これは、すでに塗布液を塗布された基板を高
速回転することにより、均一な膜厚の塗布膜領域を拡大
し、塗布膜形成基板の有効寸法を大きくする効果があ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記いずれ
の塗布装置においても、塗布処理する基板の寸法や材質
を変更する場合や、基板に塗布する塗布液を交換する場
合が生じる。また、塗布処理を終了したときは、塗布装
置に残留している塗布液の除去や清掃を行う必要があ
る。しかしながら、従来の塗布装置では、所望の塗布膜
特性を得るために、塗布ヘッド等が装置に固定され、取
り外しが困難であった。そのため、例えば、塗布液を交
換する場合、残留塗布液の除去作業や清掃作業、別種塗
布液の充填作業などを、塗布装置内の狭い空間で行わな
ければならず、作業効率上も、作業環境上も好ましいも
のではなかった。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、上向きに開口したスリットを有する塗布
ヘッドに塗布液を供給して、スリットから塗布液を吐出
し、下向きに傾斜して保持された基板に塗布液を塗布す
る塗布装置において、塗布液の交換作業や清掃作業を容
易ならしめ、かつ、塗布装置の稼働率を高めることので
きる塗布装置を得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の塗布装置では、
塗布ヘッド、塗布液循環ポンプ、塗布液濾過フィルタ、
塗布液貯留タンクを含む塗布液供給手段を、位置決め可
能な固定手段を介して、塗布装置に装着可能な構造と
し、また、塗布液供給手段を、塗布装置に連接可能な移
動自在な台車へ移載可能に構成する。
【0011】すなわち、塗布ヘッドを含む塗布液供給手
段をユニット構造にするとともに、位置決め可能な固定
手段を用いて、塗布装置へ迅速簡便に装着可能とし、ま
た、前記固定手段を解除することによって、塗布装置に
連接した移動自在な台車へ、塗布液供給手段を移載可能
とした。
【0012】したがって、塗布装置の本体とは別に、例
えば、2台の移動台車と、2組の塗布液供給手段とをあ
らかじめ準備して、各移動台車に、それぞれ、塗布ヘッ
ドを含む塗布液供給手段を載置し、各塗布液供給手段に
それぞれ塗布液を充填しておけば、塗布液の交換を迅速
化できる。また、塗布液供給手段を洗浄するときは、塗
布装置から移動台車に移し換えて作業できるので、作業
効率や作業環境が大幅に改善でき、塗布装置の運転効率
も飛躍的に向上する。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて詳細に説明する。なお、図1は、塗布処理
中の塗布装置を示す外観斜視図であり、図2は、塗布装
置に装着す塗布液供給手段の構成例を示す模式図であ
る。また、図3は、塗布液供給手段の着脱動作を示す部
分斜視図である。
【0014】(塗布装置の構成)先ず、塗布装置本体の
構成について説明する。図1は、塗布処理中の塗布装置
を示す外観斜視図であり、10は、塗布装置の本体を示
す。図において、12は、基板保持部材である。基板保
持部材12の下向きになった保持平面には、塗布処理を
施すための基板(図示せず)が吸着保持されている。基
板保持部材12は、回動軸13を介して塗布部躯体11
に軸承され、駆動源M1を駆動して回動軸13を図に示
す矢印方向に回動することにより、基板保持部材12に
吸着保持された基板を、図に示す基板に塗布液を塗布す
るための下向きの塗布処理位置と、基板を基板保持部材
12に装着したり離脱するときの、上向きの基板着脱位
置との間で反転移動することができる。
【0015】2は、塗布処理位置に位置し、下向きに傾
斜した基板保持部材12の保持平面(図では下向き)に
吸着保持された基板に、塗布液を塗布する塗布ヘッドで
ある。塗布ヘッド2は、上向きに開口した帯状に延びる
スリットを備えている。14は、前記塗布ヘッド2を、
基板の傾斜角度と平行に移動するためのリニアガイドで
ある。また、15は、塗布ヘッド2を保持し、リニアガ
イド14上を移動する移動基台である。移動基台15
は、リニアガイド14に沿って配置された図示しないボ
ールネジに連結されており、ボールネジの他端に設けら
れた駆動源M2を駆動してボールネジを回転することに
より、連結された移動基台15がリニアガイド14上を
移動する。このとき、移動基台15に搭載された塗布ヘ
ッド2が、基板保持部材12に吸着保持された基板と一
定の間隙を維持して移動するように、リニアガイド14
は、塗布処理位置に位置した基板保持部材12の保持平
面と平行に配置される。
【0016】なお、塗布ヘッド2は、移動基台15に組
み込まれた図示しない高さ調整手段によって、基板保持
部材12に吸着保持される基板との間隙を調節可能にリ
ニアガイド14に載置されている。塗布ヘッド2と基板
との前記間隙は、基板に塗布する塗布液の粘度や表面張
力、基板に対する濡れ性などの物理的特性、および基板
に塗布する塗布膜の膜厚などを考慮して、最適な寸法に
調節する。
【0017】図1において、11は、基板保持部材12
を回動可能に軸承するとともに、塗布処理位置における
基板保持部材12の基板保持平面に対向して、移動基台
15に固定された塗布ヘッド2を平行に移動するための
リニアガイド14を固定する塗布部躯体である。また、
31は、塗布部回動軸32、および塗布部傾斜機構33
を介して塗布部躯体11を、所定の傾斜角度で保持する
架台である。そして、この架台31に設けた駆動源M3
を駆動して、塗布部傾斜機構33を動作させることによ
り、塗布部回動軸32を中心として塗布部躯体11を回
動し、所定の角度に傾斜することができる。
【0018】塗布部躯体11の傾斜角度は、基板に塗布
する塗布液の粘度や表面張力、基板に対する濡れ性など
の物理的特性、および基板に塗布される塗布膜の膜厚な
どを考慮して最適な角度に調節する。このように、塗布
部躯体11を傾斜することによって、基板保持部材12
に吸着保持された塗布処理を受ける基板は、図に示すよ
うに所定の角度で傾斜することになり、さらに、傾斜し
た基板に対して一定の間隙を維持しながら、基板の塗布
主面と平行に塗布ヘッド2をスライドすることができ
る。
【0019】本塗布装置10において、下向きに傾斜し
て基板塗布部材12に吸着保持された基板に塗布処理を
施すときは、図1に示すように、塗布部躯体11を所定
の角度で傾斜させておく。次いで、上向きに開口した帯
状に延びるスリットを備えた塗布ヘッド2に塗布液を供
給してスリットから塗布液を吐出し、基板と塗布ヘッド
2との間隙に塗布液の液溜まりを形成する。そして、図
に示す塗布開始位置から斜め下方に向けて、液溜まりを
形成した塗布ヘッド2を、駆動源M2を駆動して基板の
塗布主面と平行にリニアガイド14に沿って移動させ、
塗布ヘッドとの間隙に形成された液溜まりを基板に付着
させて、基板の塗布主面に塗布膜を形成する。
【0020】(塗布処理動作)次に、上記した塗布装置
における基板への塗布処理動作について説明する。塗布
装置10は、先ず、駆動源M1を駆動して、基板保持部
材12を回動軸13を中心にして回転し、図示しない基
板着脱位置に反転し、ここで基板を装着する。次いで、
基板を吸着保持した基板保持部材12を、図に示す塗布
処理位置まで駆動源M1を駆動して反転する。塗布処理
位置に反転した基板保持部材12は、塗布部躯体11に
設けられた図示しないストッパーにより、所定の傾斜角
度で塗布処理位置に固定される。
【0021】次に、移動基台15に載置された塗布ヘッ
ド2を含む塗布液供給手段が、駆動源M2によって駆動
され、リニアガイド14に沿って図に示す塗布開始位置
から右斜め下方に向かってスライドされる。図示されて
いないが、塗布ヘッド2の最上面には、塗布液循環ポン
プPにて塗布ヘッド2に供給された塗布液が液溜まりを
形成しており、塗布ヘッド2がスライドされることによ
って、前記液溜まりが基板の下向きになった塗布主面に
順次付着し、基板に均一な膜厚の塗布膜を形成する。基
板の全長にわたって塗布処理を終えた塗布ヘッド2は、
その後、塗布終了位置にて停止する。
【0022】次に、駆動源M1を駆動して、基板保持部
材12を基板着脱位置に再び反転し、係止する。次い
で、図示しない基板排出装置にて基板保持部材12上に
載置された塗布処理済の基板を離脱する。さらに、塗布
処理を受ける次の新しい基板を、図示しない基板供給装
置から受け取ったのち、再び基板保持部材12を反転し
て塗布処理位置に戻し、塗布処理を再開する。上記一連
の工程を繰り返すことによって、順次連続して枚葉基板
に塗布処理を施すことができる。
【0023】(塗布液供給手段の構成)ここで、上記塗
布装置における塗布液供給手段の構成について説明す
る。図2は、本発明の塗布装置で用いられる塗布ヘッド
の断面形状、および塗布ヘッド2への塗布液供給機構の
構成を示している。図において、2は塗布ヘッド、Fは
塗布液濾過フィルタ、Pは塗布液循環ポンプ、Tは塗布
液貯留タンクである。図において、塗布ヘッド2は、こ
の塗布ヘッド2の長手幅方向と平行に、水平に延びるよ
うに形成され、上面に開口した吐出スリット20と、内
部に形成された吐出液溜め部22とを備えていて、この
吐出液溜め部22は吐出スリット20の全域にわたって
連通されている。前記吐出スリット20と吐出液溜め部
22とは、図に斜線で示す前壁部26と隔壁部27とで
構成される。
【0024】吐出液溜め部22を構成する前壁部26に
は、吐出液溜め部22に連通する塗布液供給口24が設
けられていて、この塗布液供給口24から、吐出液溜め
部22に塗布液が供給される。この塗布液供給口24
は、塗布ヘッド2の長手幅方向において、その中央部に
1個設けられていればよいが、塗布ヘッド2の長手幅方
向に沿って、複数個設けるようにしてもよい。
【0025】塗布ヘッド2の上面には、吐出スリット2
0と平行に延びるように、吐出スリット20から吐出さ
れて形成された液溜まりBの塗布液を吸い込むための、
さらにもう1本のスリット21が形成されている。この
吸込スリット21は、その開口面が、図面から分かるよ
うに、塗布ヘッド上面の吐出スリット20の開口面より
わずかに低い位置に形成されている。また、塗布ヘッド
2の内部には、隔壁部27によって分離された排出液溜
め部23が形成され、この排出液溜め部23が吸込スリ
ット21の全域にわたって連通され、前記吸込スリット
21と排出液溜め部23とは、図に斜線で示す隔壁部2
7と後壁部28とによって構成されている。
【0026】排出液溜め部23を構成する後壁部28に
は、排出液溜め部23に連通する塗布液排出口25が設
けられていて、この塗布液排出口25から排出液溜め部
23内の塗布液が排出されるようになっている。この塗
布液排出口25も、塗布液供給口24と同様に、塗布ヘ
ッド2の長手幅方向において、その中央部に1個設けら
れていればよいが、複数個設けるようにしてもよい。
【0027】本塗布装置では、上記構成の塗布ヘッド2
に、以下に述べる塗布液供給機構が接続されている。図
に示すように、塗布ヘッド2の前壁部26に設けられた
塗布液供給口24には、塗布液供給管71、72を介し
て塗布液濾過フィルタFの吐出側が接続されており、ま
た、塗布液供給パイプ71と72との間には、流路切替
弁V1が設けられ、塗布液戻り管91が接続されてい
る。この塗布液戻り管91の他端は塗布液貯留タンクT
に挿入されている。塗布液濾過フィルタFの吸入側は、
塗布液供給管73、74を介して塗布液循環ポンプPの
吐出側が接続されており、また、塗布液供給パイプ73
と74との間には、流量調節弁V2が設けられている。
塗布液循環ポンプPの吸入側には塗布液供給管75が接
続され、この塗布液供給管75の他端は、塗布液貯留タ
ンクTに挿入されている。
【0028】一方、塗布ヘッド2の後壁部28に設けら
れた塗布液排出口25には、塗布液戻り管92が接続さ
れ、その他端は、塗布液貯留タンクTに挿入されてい
る。この塗布液貯留タンクTには、塗布液補給管81、
82を介して、図示しない塗布液補給タンクから、いつ
でも塗布液を補給することができる。また、塗布液補給
管81と82の間には、塗布液の補給量を調節するため
の補給調節弁V3が接続されている。
【0029】(塗布液供給手段の作用動作)図2に示し
た塗布液供給機構では、塗布液貯留タンクT内に充填さ
れた塗布液が、塗布液循環ポンプPの駆動によって、塗
布液供給管75〜71を介して、塗布ヘッド2の塗布液
供給口24から吐出液溜め部22に導入される。この
間、流量調節弁V2によって、塗布ヘッド2に供給され
る塗布液の量が一定量に調節され、また、塗布液濾過フ
ィルタFによって、塗布液に含まれる固化分が濾過され
る。そして、吐出液溜め部22に導入された塗布液は、
吐出スリット20を経由して、塗布ヘッド2の上面に吐
出し、液溜まりBを形成する。さらに、この液溜まりB
から、過剰な塗布液が吸込スリット21の方向に流れ
る。
【0030】吸込スリット21を通って、吐出液溜め部
23に流れ込んだ過剰の塗布液は、塗布ヘッドの後壁部
28に設けた塗布液排出口25から、塗布液戻り管92
を介して、塗布液貯留タンクTに回収される。すなわ
ち、本塗布液供給手段では、塗布液循環ポンプPを常時
駆動することによって、塗布液貯留タンクTに充填され
た塗布液が、一定量づつ塗布ヘッド2に供給されて、吐
出スリット20から吐出し、塗布ヘッド上面に液溜まり
Bを形成するが、この液溜まりBの過剰な塗布液は、塗
布ヘッド2に設けられた吸込スリット21に流れ込み、
塗布液排出口25から、塗布液戻り管92を介して、塗
布液貯留タンクTに回収されるので、塗布ヘッド2を含
む塗布液供給手段の中で塗布液が常に循環することにな
る。
【0031】このように、塗布ヘッド2内には常時塗布
液が充満され、かつ、この塗布液が循環されているの
で、塗布液の粘度上昇や固化を生じて基板への塗布が不
均一になるのが効果的に防止される。また、塗布液が塗
布液循環ポンプPから塗布ヘッド2に供給される際に、
塗布液濾過フィルタFを通過することによって、万一塗
布液に固化分がある場合であっても、この固化分が濾過
されるので、吐出スリット20から吐出した塗布液は、
塗布ヘッド2の上面に、均一な液溜まりを形成すること
ができる。
【0032】上述の如く構成された塗布液供給手段にお
いて、基板に塗布する塗布液を交換するときや、塗布処
理を終了する場合、塗布ヘッドを含む塗布液供給手段の
各部に貯留している塗布液をすべて除去し、塗布液供給
手段を洗浄する必要がある。塗布液を除去する際は、先
ず、塗布液循環ポンプPの駆動を止め、塗布液の循環を
停止する。次いで、流路切替弁V1を操作して、塗布ヘ
ッド2の吐出液溜め部22に貯留している塗布液を、塗
布液供給管71、および塗布液戻り管91を介して塗布
液貯留タンクTに回収する。なお、塗布ヘッド2の排出
液溜め部23に貯留している塗布液は、塗布液戻り管9
2を介して自重により塗布液貯留タンクTに回収され
る。
【0033】塗布ヘッド2内の塗布液を塗布液貯留タン
クTに回収したら、塗布液貯留タンクTを取り外し、洗
浄液を充填した洗浄用タンクを交換装着する。そして、
塗布液循環ポンプPを駆動して、塗布液濾過フィルタ
F、塗布ヘッド2、および流量調節弁などの各バルブ
や、それらを接続しているパイプに洗浄液を供給循環し
て、塗布液を溶解希釈し、洗浄用タンクに回収する。も
し、塗布ヘッド2を含む塗布液供給手段の洗浄が不十分
なときは、再度、新しい洗浄液を充填した洗浄用タンク
を塗布液供給手段に交換装着し、洗浄作業を繰り返す。
このとき、塗布ヘッド2の吐出スリット20や吸込スリ
ット21の液溜まり形成部周辺は、拭き取り清掃具を用
いて入念に清掃するのが望ましい。
【0034】(塗布液供給手段の実施例)本発明の塗布
装置では、上記構成の塗布ヘッド2を含む塗布液供給手
段1を、塗布装置本体に容易に着脱できるように構成し
た。すなわち、図3に示す外観斜視図から分かるよう
に、先ず、塗布ヘッドを固定するための移動基台15上
に、移動基台15の移動方向と平行な方向に延びる、左
右および上下方向の位置を規制するガイドレール群を設
けている。一方、塗布ヘッド2を含む塗布液供給手段
は、基台4に装着されており、基台4の下面には、移動
基台15上のガイドレール群と噛み合って摺動する図示
しない摺動部材を備えている。したがって、塗布ヘッド
2を含む塗布液供給手段は、移動基台15上において、
移動基台の移動方向と平行な方向に位置規制されなが
ら、ガイドレール群に沿って摺動可能となる。
【0035】なお、塗布液供給手段1の基台4には、位
置決め可能な固定手段が設けられ、この固定手段は、例
えば、ハンドルを備えたネジ式の一対の固定具5で構成
される。この固定具5を回転して締めることにより、塗
布ヘッドを含む塗布液供給手段1が移動基台15に固定
される。また、固定具5を回転して緩めることにより、
塗布ヘッドを含む塗布液供給手段1が、移動基台15上
を摺動可能になり、図3に示す矢印方向に移動して、移
動基台15から塗布液供給手段1を離脱することができ
る。
【0036】次に、塗布装置に着脱可能に装着される塗
布液供給手段1の具体的構成について、図を用いて説明
する。なお、図4は、本塗布装置に用いられる塗布液供
給手段1の正面図であり、図5は、塗布液供給手段1の
平面図である。なお、図4において、15は、塗布ヘッ
ド2を含む塗布液供給手段1を塗布装置に装着するため
の移動基台である。移動基台15の上部には、塗布液供
給手段1の装着位置を規制するためのガイドレール群1
6、17が設けられている。なお、16は、塗布液供給
手段1の上下位置を規制するための、断面がコの字状の
一対のガイドレールである。また、17は、塗布液供給
手段1の左右位置を規制するための直角棒状の一対のガ
イドレールである。これらのガイドレール群は、紙面に
垂直な方向、すなわち、移動基台15の移動方向と平行
な方向に延びている。
【0037】一方、塗布液供給手段1を構成する塗布ヘ
ッド等は、移動基台15上のガイドレール群16、17
とそれぞれ噛み合って摺動する複数の摺動部材6、7を
下面に備えた基台4に組付けられている。図において、
6は、塗布液供給手段1の上下位置を規制するためのコ
の字状ガイドレール16に内挿されて摺動する摺動部材
である。摺動部材6は、例えば、ボールベアリングやニ
ードルベアリングを用いて構成する。また7は、塗布液
供給手段1の左右位置を規制するための直角棒状ガイド
レール17を挟んで摺動する摺動部材である。この摺動
部材7も、摺動部材6と同様に、ボールベアリングまた
はニードルベアリングを用いて構成する。
【0038】移動基台15上のガイドレール群16、1
7と摺動する摺動部材6および7を下面に備えた基台4
には、先ず、上向きに開口し、水平に延びるスリットを
備えた塗布ヘッド2が、その長手幅方向の両端を支える
コの字状の塗布ヘッド保持具3を介して固着されてい
る。また、基台4には、図5の平面図にも示すように、
塗布液循環ポンプP、および、塗布液供給手段1を移動
基台15に固定するための一対の固定具5が設けられて
いる。さらに、塗布液濾過フィルタF、および、塗布液
貯留タンクTが、それぞれ保持具を介して、基台4に固
着されている。
【0039】なお、図2において示した、塗布液供給手
段1を構成する各種弁類や各種管類は、他の図面上にお
いては図示されていない。また、図示していないが、塗
布液循環ポンプPへの駆動動力供給コンセントや、塗布
液補給タンクからの塗布液補給管接続コンセントなど
が、塗布液供給手段の基台4に直接、もしくはコンセン
ト台等を介して設けられている。
【0040】上記塗布液供給手段1を塗布装置10に装
着する際は、図4に示したように、その基台4の下面に
設けた摺動部材6、7を、移動基台15上に設けられた
ガイドレール群16、17に挿通して、上下左右方向を
規制しながらスライドし、さらに、図5に示すように、
移動基台15に備えた係止具18に当て止めして定位置
に係止したのち、基台4に設けネジ式の一対の固定具5
を締めることによって、塗布装置10の移動基台15に
固定する。
【0041】一方、塗布液供給手段1を塗布装置から離
脱するときは、移動基台15に固定するための一対の固
定具5を緩めることにより、塗布液供給手段1が移動基
台15上でスライド可能になるので、移動基台のガイド
レール群16、17に沿って塗布装置10から塗布液供
給手段1を引き出すことができる。
【0042】(移動台車)本発明においては、上記の如
く構成された塗布液供給手段1を、塗布装置10に装
着、または塗布装置10から離脱するする際、塗布液供
給手段1を移載するための移動台車が用いられる。この
移動台車の例を図3に示す。図において、40が移動台
車を示し、41は台車躯体、42は台車基台である。台
車躯体41の底面には、移動台車40を自在に走行する
ための複数の車輪44が備えられ、台車基台42の上面
には、塗布装置の移動基台15上に設けられたガイドレ
ール群16、17と同様な断面形状の、一対の上下規制
ガイドレール46と、一対の左右規制ガイドレール47
が固着されている。なお、図3において示す45は、塗
布液供給手段1を移動台車40上に移載し、塗布液等を
洗浄する際の、液こぼれを受け止める受け皿である。
【0043】この移動台車の構成について図を用いて説
明する。なお、図6は、移動台車の構成例を示す正面図
であり、二点鎖線の想像線は、移動台車40に載置され
た状態の塗布液供給手段1を示している。また、図7
は、移動台車40の構成例を示す平面図であり、想像線
は塗布液供給手段1を示している。図6に示すように、
移動台車40には、台車躯体41の上面に設けられた台
車基台42に、塗布液供給手段1の上下位置を規制する
ための、断面がコの字状の一対のガイドレール46が固
定され、その内側に塗布液供給手段1の左右位置を規制
するための直角棒状の一対のガイドレール47が固定さ
れている。これらのガイドレール群46、47は、前述
した塗布装置の移動基台に設けられたガイドレール群1
6、17と同一の断面形状で、配列位置も同じである。
【0044】なお、このガイドレール群46、47は、
図7に示すように、その先端部40Aが台車躯体41か
ら突出しており、この先端部40Aは、図3に示した、
塗布装置の移動基台15上に設けられたガイドレールレ
ール群16、17と連接するように構成されている。ま
た、移動台車40に設けられたガイドレール群46、4
7の後端部には、一対の係止具43が固着されており、
移動台車40に移載された塗布液供給手段1の後端部
を、係止具43に押し当てて位置決めするように構成し
ている。
【0045】また、移動台車40は、台車躯体41の底
面に4個の車輪44を備えており、載置した塗布液供給
手段1を塗布装置の移動基台15に移載する場合や、塗
布液を洗浄したり交換するために、塗布装置から離脱し
た塗布液供給手段1を載置して移動台車40を自在に移
動することができる。なお、移動台車40に塗布液供給
手段1を載置した場合は、塗布液供給手段1の基台4に
装着されている固定具5を締めて、塗布液供給手段1を
移動台車40に固定して運搬するのが安全である。
【0046】(塗布液供給手段の着脱動作)次に、上記
移動台車40を利用して、塗布装置に塗布液供給手段を
装着する場合や、塗布液を洗浄あるいは交換する際の、
塗布液供給手段の着脱方法について説明する。本発明の
塗布装置は、基板に塗布液を塗布する塗布処理動作にお
いては、図1に示したように、塗布部躯体11を所定の
角度に傾斜した状態において、塗布処理が行われる。一
方、塗布処理動作を終了し、塗布液供給手段を洗浄する
場合や、あるいは、別の塗布液を用いて、塗布処理動作
を行うときは、塗布部躯体に装着している塗布液供給手
段を、一旦塗布装置から取り外し、別の塗布液供給手段
を装着する。
【0047】塗布液供給手段を装着したり、塗布液供給
手段を取り外す場合、本発明の塗布装置では、先ず、塗
布処理動作のために傾斜して係止しておいた塗布部躯体
11を、ほぼ水平になるように傾斜角度を調節する。す
なわち、図1に示した駆動源M3を起動して塗布部傾斜
機構33を駆動し、リニアガイド14上に移動可能に装
着されている移動基台15に設けられたガイドレール群
が、ほぼ水平になる位置まで、塗布部回動軸32を中心
にして塗布部躯体11を回動して停止する。
【0048】一方、図3、および図5、図6に示した移
動台車40に設けられているガイドレール群46、47
は、移動基台15のガイドレール群がほぼ水平になる位
置状態に塗布部躯体11を回動して停止したとき、移動
基台15に設けられたガイドレール群16、17と直線
状に並ぶように、移動基台40のガイドレール群の高さ
位置とその方向とが設定されている。
【0049】また、塗布装置においては、塗布部躯体1
1を回動可能に支持する架台31の一部に、図1に示す
ような、移動台車40を係止し固定するための、一対の
台車ガイド34、および台車係止具35とを設けておく
ことにより、移動台車40の車輪44を、架台31に設
けられた台車ガイド34に沿って、塗布装置10へ向け
て挿入し、台車係止具35に押し当てて係止することに
よって、簡便かつ正確に、塗布装置の移動基台15に設
けられたガイドレール群16、17と、移動台車40に
設けられているガイドレール群46、47とを、簡便か
つ正確に、連接することができる。
【0050】次に、塗布液供給手段1を塗布装置から離
脱したり、塗布装置に装着するときは、移動基台15の
ガイドレール群がほぼ水平になる位置状態に、塗布部躯
体11を回動して停止した後、図8に示すように、移動
台車40のガイドレール群が、移動基台15のガイドレ
ール群と連接するように、移動台車40を塗布装置の架
台部30に設けられた台車ガイド34と台車係止具35
を利用して塗布装置に連結する。
【0051】塗布装置から塗布液供給手段1を離脱する
ときは、塗布液循環ポンプPの図示しない駆動動力供給
コンセントや、塗布液補給タンクからの図示しない塗布
液補給管接続コンセントなどの接続を解除した後、塗布
液供給手段1の基台4に設けられた固定具5を緩め、移
動基台15のガイドレ−ル上を塗布液供給手段1が摺動
移動可能にする。次に、塗布液供給手段1に設けた摺動
部材を利用して、連接されたガイドレ−ルに沿って、塗
布液供給手段1を移動基台15から移動台車40へ移動
する。その後、移動台車40上にて固定具5を締め、塗
布液供給手段1を固定した後、塗布液供給手段1を移載
した移動台車40を、塗布装置から離脱する。
【0052】もし、塗布装置から離脱した塗布液供給手
段に使用されていた塗布液とは異なる別種の塗布液を用
いて、塗布処理動作を継続するときは、別途準備してお
いた塗布液供給手段を、移動台車に積載しておき、移動
台車40を塗布装置に連接した後、塗布装置の移動基台
15へ、別種の塗布液を充填した塗布液供給手段を上記
離脱手順とは逆の手順で移載し固定する。そして、移動
台車を塗布装置から離脱した後、図1に示したように、
別種の塗布液を充填した塗布液供給手段を装着した塗布
部躯体11を、所定の傾斜角度に回動し、塗布処理動作
を再開する。
【0053】このように、本発明の塗布装置では、着脱
可能に構成された塗布液供給手段と、塗布装置から離脱
する塗布液供給手段、または塗布装置へ装着する塗布液
供給手段をそれぞれ載置する移動台車とを利用して、塗
布処理する塗布液を簡便かつ迅速に切り替えることがで
きる。また、塗布処理動作を終了したときの、塗布液供
給手段の清掃作業を塗布装置内ではなく、移動台車上で
行うことができ、作業性に優れている。
【0054】ちなみに、従来の塗布装置では、塗布処理
に使用する塗布液の交換時間は、塗布液供給手段の清掃
作業を含め平均1時間以上を要したが、本発明の着脱可
能な塗布液供給手段を備えた塗布装置では、塗布液の交
換時間を、15分以下に短縮でき、飛躍的に塗布処理作
業の生産性を向上できた。また、塗布液供給手段の清掃
作業も迅速化をすることができた。
【0055】
【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明の塗
布装置は、請求項1に示したように、塗布ヘッドを含む
塗布液供給手段が、着脱可能に構成されているので、使
用後の塗布液供給手段を塗布装置から取り外し、別の塗
布液供給手段を塗布装置に装着することで、簡便かつ迅
速に別の種類の塗布液に切り替えることができ、塗布装
置の運転効率が向上する。また、塗布ヘッドを含む塗布
液供給手段を洗浄する際、塗布装置から取り外して作業
できるので、作業性に優れている。
【0056】また、本発明の塗布装置では、請求項2に
示したように、着脱可能な塗布液供給手段は、塗布ヘッ
ドと、塗布液循環ポンプと、塗布液濾過フィルタと、塗
布液貯留タンクとを含むので、塗布液供給手段の内部の
閉じられた領域以外には塗布液が付着することなく、し
たがって、塗布液供給手段を交換する際に、種類の異な
る塗布液が混じり合うことがなく、簡便確実に、別の種
類の塗布液に切り替えることができる。
【0057】さらに、本発明の塗布装置は、請求項3に
示したように、塗布ヘッドを含む塗布液供給手段は、塗
布装置に連接可能な、移動自在な台車へ移載可能に構成
されているので、安全確実に、かつ迅速に、塗布液供給
手段を塗布装置に着脱できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 塗布装置の構成例を示す外観斜視図である。
【図2】 塗布液供給手段の構成例を示す模式図であ
る。
【図3】 塗布液供給手段の着脱動作を示す部分斜視図
である。
【図4】 塗布液供給手段の構成例を示す正面図であ
る。
【図5】 塗布液供給手段の構成例を示す平面図であ
る。
【図6】 移動台車の構成例を示す平面図である。
【図7】 移動台車の構成例を示す正面図である。
【図8】 塗布液供給手段の着脱動作を示す側面図であ
る。
【符号の説明】
1 塗布液供給手段 2 塗布ヘッド 3 ヘッド保持具 4 基台 5 固定具 6、7 摺動部材 P 塗布液循環ポンプ F 塗布液濾過フィルタ T 塗布液貯留タンク 10 塗布装置 11 塗布部躯体 12 基板保持部材 13 回動軸 14 リニアガイド 15 移動基台 16、17 ガイドレール 18 係止具 20 吐出スリット 30 架台部 31 架台 32 塗布部回動軸 33 塗布部傾斜機構 34 台車ガイド 35 台車係止具 40 移動台車 41 台車躯体 42 台車基台 43 係止具 44 車輪 45 受け皿 46、47 ガイドレール M1、M2、M3 駆動源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 慎一郎 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 竹本 潤 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 宮川 俊二 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 中島 泰秀 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4F041 AA02 AA05 CA03 CA12 CA15 4F042 AA02 AA06 CB02 CB24 CB25 DF09 DF22 DF28 DF29

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 塗布面を下方へ向け、かつ傾斜状態で基
    板を吸引保持する基板保持部材と、基板保持部材の下方
    に設けられ、上方へ向かって開口し水平方向に延びるス
    リットを有する塗布ヘッドと、塗布ヘッドに塗布液を供
    給し、スリットから塗布液を吐出する塗布液供給手段
    と、基板保持部材、または塗布ヘッドを、基板の傾斜方
    向と平行な方向へ相対的に移動させる移動手段と、基板
    保持部材を回動可能に軸承するとともに、基板の塗布面
    と塗布ヘッドとが塗布処理時において一定の間隙を維持
    するように、基板保持部材と塗布ヘッド、および移動手
    段を保持する塗布部躯体と、塗布部躯体を回動可能に保
    持する架台とで構成され、塗布液供給手段にて塗布ヘッ
    ドに塗布液を供給することにより、基板保持部材に吸引
    保持された基板の塗布面と塗布ヘッドとの間隙に、スリ
    ットから吐出される塗布液によって液溜まりを形成しつ
    つ、移動手段にて、塗布ヘッド、または基板保持部材を
    基板の傾斜方向と平行に、傾斜した基板の最も高い端縁
    から最も低い端縁の方向へ移動することにより、液溜ま
    りの塗布液を基板の塗布面に付着させて、塗布膜を形成
    する塗布装置において、塗布ヘッドを含む塗布液供給手
    段が、位置決め可能な固定手段を介して、着脱可能に装
    着されていることを特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項2】 着脱可能な塗布液供給手段は、塗布ヘッ
    ドと、塗布液循環ポンプと、塗布液濾過フィルタと、塗
    布液貯留タンクとを含むことを特徴とする請求項1に記
    載の塗布装置。
  3. 【請求項3】 塗布ヘッドを含む塗布液供給手段は、塗
    布装置に連接可能な、移動自在な台車へ移載可能に構成
    されていることを特徴とする請求項1または請求項2に
    記載の塗布装置。
JP00626799A 1999-01-13 1999-01-13 塗布装置 Expired - Fee Related JP4390886B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00626799A JP4390886B2 (ja) 1999-01-13 1999-01-13 塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00626799A JP4390886B2 (ja) 1999-01-13 1999-01-13 塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000202346A true JP2000202346A (ja) 2000-07-25
JP4390886B2 JP4390886B2 (ja) 2009-12-24

Family

ID=11633673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP00626799A Expired - Fee Related JP4390886B2 (ja) 1999-01-13 1999-01-13 塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4390886B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002233805A (ja) * 2001-02-07 2002-08-20 Dainippon Printing Co Ltd 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置
CN111844777A (zh) * 2020-08-05 2020-10-30 王辉 一种橡塑保温材料施工安装工艺

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002233805A (ja) * 2001-02-07 2002-08-20 Dainippon Printing Co Ltd 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置
CN111844777A (zh) * 2020-08-05 2020-10-30 王辉 一种橡塑保温材料施工安装工艺
CN111844777B (zh) * 2020-08-05 2021-08-06 河北莫特美橡塑科技有限公司 一种橡塑保温材料施工安装工艺

Also Published As

Publication number Publication date
JP4390886B2 (ja) 2009-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4643684B2 (ja) 液処理装置および液処理方法
JP2008253981A (ja) 塗布装置及びこれを利用したコーティング液の塗布方法
JP2006263535A (ja) スリットコータ
JP5301120B2 (ja) 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置
JP2000202346A (ja) 塗布装置
JP6783105B2 (ja) ノズル洗浄方法、塗布装置
JP4830329B2 (ja) スリットノズルの洗浄方法、及びスリットコータ
JP4334645B2 (ja) 塗布装置
JP4130971B2 (ja) 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法
JP5255823B2 (ja) 予備吐出装置、及び予備吐出方法
JP2004154893A (ja) 板硝子の研磨方法および研磨装置
JP2009011919A (ja) 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、塗布装置及び予備吐出方法
JPH10202163A (ja) 基板保持部材および塗布装置
JP3957569B2 (ja) 液処理装置
JP5160953B2 (ja) 予備塗布装置、塗布装置及び予備塗布装置の洗浄方法
JP2004352454A (ja) 搬送装置、洗浄装置、薬液処理装置および回路基板の製造方法
JP3883340B2 (ja) カラー表示プラズマディスプレイパネルの蛍光体膜形成方法及び装置とそれらにより作製したプラズマディスプレイパネル
JP3383033B2 (ja) 基板処理方法
JP2003057843A (ja) 洗浄処理装置および現像処理装置
JP3355264B2 (ja) レジスト塗布装置
KR20070119167A (ko) 러빙 장치 및 시스템과 이를 이용한 표시 장치의 러빙 방법
JP2000079367A (ja) 処理液供給用ノズルおよび該ノズルを備えた基板処理装置、ならびに該ノズルを用いた塗布方法
JP2002233805A (ja) 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置
JP2004113958A (ja) 高分子膜形成装置
KR19990063413A (ko) 기판의 액처리방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051220

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080723

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080922

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090310

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090415

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090515

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090707

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090907

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090930

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091007

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121016

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131016

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees