JP4831447B2

JP4831447B2 - 塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置

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Publication number: JP4831447B2
Application number: JP2001030722A
Authority: JP
Inventors: 潤竹本; 慎一郎村上; 泰秀中島; 俊二宮川
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-02-07
Filing date: 2001-02-07
Publication date: 2011-12-07
Anticipated expiration: 2021-02-07
Also published as: JP2002233805A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＬＣＤ用カラーフィルターのガラス基板等に塗布液を塗布する塗布ヘッド並びにこの塗布ヘッドを用いた塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＷＯ９４／２７７３７には、ＬＣＤカラーフィルター用大型ガラス基板に感光性樹脂の塗布液を基板の主面に凹凸の影響を受けない均一な塗布膜として形成する装置が開示されている。この装置は、図５に示すように、装置本体１の一対の支持フレーム１Ａ間に基板Ｓのスライド方向において下流側の端部が高くなるように傾斜した状態で取り付けられた直線状のガイドフレーム２にスライド自在に取り付けられた基板ホルダー３と、上向きに開口する直線状のスリット４ａを有し、このスリット４ａがガイドフレーム２の軸方向と直交する方向に延びるようにガイドフレーム２の下方に配置された塗布ヘッド４とを備える。
【０００３】
基板ホルダー３は、ガイドフレーム２に沿って設置されたボールねじ５に螺合されており、ボールねじ５がモータＭに沿ってスライドされるように構成されており、また吸引管接続部３Ａに接続される図示しない吸引機構の作動によりその下向きの吸着面に基板Ｓを吸着して保持するように構成されている。
【０００４】
図６は、上記塗布装置の塗布開始時の状態を示しており、基板ホルダー３の吸着面に吸着された基板Ｓが、その先端部が塗布ヘッド４のスリット４ａの直上に所定のクリアランスを介して対向するように位置せしめられている。
【０００５】
塗布ヘッド４には塗布液供給機構から塗布液Ｒが供給されると、図７に拡大図示するように、供給された塗布液Ｒはスリット４ａから吐出されてビードＢが形成され、基板Ｓの先端部下面に付着する。このとき、スリット４ａの開口部と基板ホルダー３に吸着された基板Ｓの下面との間の最小クリアランスＣ１は、ビードＢから塗布液Ｒが零れ出さないように、塗布液Ｒの粘度や表面張力等の物性を考慮して設定されている。
【０００６】
図７において、ビードＢの基板Ｓの後端側（図において左側）にメニスカスＬ１が形成され、基板Ｓの前端側（図において右側）にメニスカスＬ２が形成されており、このメニスカスＬ１の高さ寸法ｈ１とメニスカスＬ２の高さ寸法ｈ２は、ガイドフレーム２が角度θで傾斜していることによってｈ１＜ｈ２の関係になっている。
【０００７】
図６の状態からモータＭが駆動され、ボールねじ５が回転されることによって、基板ホルダー３がガイドフレーム２に沿って斜め上方にスライドされる。
【０００８】
これによって図８及び図９に示されるように、ビードＢから塗布液が基板Ｓの下面に順次付着され、塗布液Ｒの層Ｒａが形成される。このとき、塗布ヘッド４には連続して塗布液Ｒの供給が行われ、ビードＢにおける塗布液Ｒの量が一定に保たれている。
【０００９】
上記のように基板Ｓに対する塗布液の塗布が行われている間、塗布ヘッド４への塗布液の供給は図１０に示される塗布液供給機構から行われる。
【００１０】
この塗布液供給機構は、加圧タンク（図示せず）内に収容されている塗布液を手動バルブ３１を介して供給される空気圧によって押し出し、粗調節用ニードルバルブ３２、フィルタ３３、流量計３４、微調節用ニードルバルブ３５、空気作動弁３６およびサックバックバルブ３７を介して塗布ヘッド３０に供給するようになっているものである。この塗布液供給機構は、基板Ｓの後端部が塗布ヘッド４の上方を通過すると、空気作動弁３６が空気圧によって自動的に作動して、塗布ヘッド４への塗布液の供給を停止する。そして、空気作動弁３６の閉鎖と同時に、サックバックバルブ３７のピストン３７ａが図１０に示す矢印の方向にスライドされてシリンダ３７ｂ内に負圧が発生され、これによって塗布ヘッド３０に供給されている塗布液がサックバックバルブ３７によって吸引されることにより回収される。しかしながら、一枚の基板への塗布液の塗布の終了ごとに塗布液供給機構による塗布液の供給が停止され、サックバックバルブによって一旦塗布ヘッドに供給された塗布液が吸引されて回収されるようになっているので、塗布ヘッドの内壁部に付着して残留した塗布液が、次の基板に対する塗布開始までの間に乾燥して、その粘度が大きくなってしまったり、更には固化してしまったりする恐れがある。
【００１１】
このように、塗布ヘッド内にその粘度が大きくなったりまたは固化してしまった塗布液が残留していると、この塗布液が次の基板に塗布されるので、基板の塗布面上に筋等が発生して均一な塗布を行うことができなくなる。
【００１２】
上記のような事情を考慮した、塗布ヘッドにおける塗布液の乾燥を防止して、常に均一な塗布液の塗布を行うことができると共に、塗布液の供給制御が容易な塗布装置の塗布液供給機構が特開平９−１５５２７０号公報に開示されている。
【００１３】
この塗布装置の塗布液供給機構は、図１１に示すように、上方に向かって開口すると共に水平方向に延びる帯状の吐出スリット１０Ａを有する塗布ヘッド１０を備えた塗布装置において、塗布ヘッド１０の上面に、吐出スリット１０Ａと平行に延びると共に開口面１０ｃが吐出スリット１０Ａの開口面１０ａよりも低い位置に位置する吸込スリッ１０Ｃが形成され、塗布液排出口１０Ｇに循環パイプＬ３を介して塗布液供給ポンプＰの吸込側が接続され、塗布液供給口１０Ｆに循環パイプＬ１及びＬ２を介して塗布液供給ポンプの吐出側が接続されて、塗布液排出口１０Ｇと塗布液供給口１０Ｆとの間に塗布液の循環回路が形成されているものである。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら特開平９−１５５２７０号公報に記載の塗布装置の塗布ヘッドには、図１２に示すように、下記のような問題点がある。
(1) 塗布ヘッド１１は前壁１２と隔壁１４の間に吐出される塗布液の液溜め部１Ａと隔壁１４と後壁１３の間に吸い込まれる塗布液の液溜め部１Ｂを備えており、吐出スリットＳ１から吐出されてビードＢが形成され、過剰の塗布液が吸込スリットＳ２のほうへ流れるように構成されているが、隔壁１４の先端が単純に鋭角に形成されている場合、吸込スリットＳ２への塗布液の流れが幅方向に不均一となりビードから基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋むら等の不良が生じる。
(2) また隔壁１４の先端の吸込スリットＳ２側の傾斜部１６の傾斜角度が大きいとき同様に吸込スリットＳ２への塗布液の流れが幅方向に不均一となりビードから基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋むら等の不良が生じる。
(3) ビードＢの液が前壁１２のエッジを越えて塗布ヘッドの下方へ垂れてしまい塗布液の損失を生じる。
(4) 塗布液が塗布ヘッドの下方へ垂れることによって、塗布ヘッドの下方に設けられたパンが汚され洗浄作業が必要となる。
(5) 垂れた塗布液の固化したものがゴミとなって塗布面に付着し塗布不良を起こす原因にもなる。
【００１５】
本発明の目的は、塗布液が塗布ヘッドの吸込スリット内へ巾方向に均一に流れ落ち、安定したビードを形成し、筋ムラ等の不良の発生はない塗布ヘッド及びこの塗布ヘッドを用いた塗布装置を提供することである。
【００１６】
本発明の他の目的は、塗布液が塗布ヘッドの吸込スリット内へ巾方向に均一に流れ落ち、安定したビードを形成し、筋ムラ等の不良の発生はなく、且つ塗布ヘッドの前壁のエッジからビードの液が下方へ垂れることを防止した塗布ヘッド及び塗布装置を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、上記の塗布ヘッドに係る課題を解決するもので、上方に向かって開口すると共に水平方向に延びる帯状の吐出スリットを有する塗布ヘッドであって、被塗布物である基板が塗布を終えて離れていく側にある前壁と被塗布物である基板が塗布されるために接近してくる側にある後壁と前記両壁間を仕切る隔壁を備え、前壁、後壁及び隔壁の両側部には夫々側壁が固着され、前壁と隔壁の間に第１液溜め部が形成され、後壁と隔壁の間に第２液溜め部が形成され、隔壁の先端には曲面状端部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲面状端部の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁に対面する側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成されており、前壁及び隔壁は後壁より高く形成され、前壁の上端とそれに対向する隔壁面間に吐出スリットが形成され、後壁の上端とそれに対向する隔壁面間に塗布液の吸込スリットが形成されており、前壁の先端の外側エッジは３０°〜６０°の角度に形成されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明に係る塗布装置は請求項１に記載の塗布ヘッドを備え、この塗布ヘッドの吐出スリットを上方へ塗布液を供給する手段とし、実質的に平板状の基板を、傾斜状態で且つ傾斜角度調節可能に、しかも基板下側の塗布をする面が下方に向くように支持する基板支持手段と、塗布液ビードの、基板の高く位置する側に面するメニスカスより大きい高さ寸法をもつような状態に維持しつつ、基板の高く位置する端縁寄り部分から低く位置する端縁寄り部分へ、基板が塗布ヘッドの吐出スリットを横切って相対移動するように、基板と塗布ヘッドを相対的に移動させる移動手段とを備える。
【００１９】
本発明の塗布装置において、前壁には塗布液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設けられ、排出口には循環パイプを介して塗布液供給ポンプの吸込側が接続され、供給口には供給パイプを介して塗布液供給ポンプの吐出側が接続されている。
【００２０】
本発明の塗布装置において、前壁には塗布液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設けられ、液面調整タンクを備え、この液面調整タンクはその中間の高さ位置に吸込スリットの開口面が位置するように配置され、またこの液面調整タンクが吸込スリットの開口面よりも低い位置において前記排出口と連通され、塗布液供給タンクを備え、この塗布液供給タンクは塗布ヘッドよりも低い位置に配置され、液面調整タンクは排出パイプを介して塗布液供給タンクに接続され、供給口は塗布液供給ポンプを介して塗布液供給タンクに接続されている。
【００２１】
本発明によれば、隔壁の先端には曲面状端部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲面状端部の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁に対面する側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成されていることにより、塗布液が塗布ヘッドの吸込スリット内へ巾方向に均一に流れ落ち、安定したビードを形成し、筋ムラ等の不良の発生はなくなる。
【００２２】
また、前壁の先端の外側角部は３０°〜６０°に形成されていることにより、塗布ヘッドの前壁のエッジからビードの液が下方へ垂れることが防止される。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明につき説明する。
図１及び図２は本発明の塗布ヘッドを示し、図１は斜視図、図２は図１のＩ−Ｉ線で切断した状態を示す。
【００２４】
本発明の塗布ヘッド２１は前壁２２、後壁２３及び隔壁２４を備える。前壁２２、後壁２３及び隔壁２４の両側部には夫々側壁２５が固着され、前壁２２と隔壁２４の間に第１液溜め部２１Ａが形成され、後壁２３と隔壁２４の間に第２液溜め部２１Ｂが形成されている。隔壁２４の先端には曲面状端部２６が形成され、隔壁２４の前壁２２に対面する側には曲面状端部２６の面に連続する鉛直面２７が形成され、隔壁２４の後壁２３に対面する側には曲面状端部２６に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度αで傾斜した傾斜面２８が形成されている。前壁２２及び隔壁２４は後壁２３より高く形成され、前壁２２の上端とそれに対向する隔壁２４面間に吐出スリットＳ１が形成され、後壁２３の上端とそれに対向する隔壁２４面間に塗布液の吸込スリットＳ２が形成されている。また、パッキングＤが設けられている。また、前壁２２には塗布液供給口（図示せず）が設けられ、塗布液供給口から供給された塗布液が第１液溜め部２１Ａを通って吐出スリットＳ１を経て吐出され。ビードＢが形成される。また、後壁２３には塗布液排出口（図示せず）が設けられており、ビードＢから吸込スリットＳ２を経て第２液溜め部２１Ｂに流れた塗布液はこの塗布液排出口から排出されるように構成されている。
【００２５】
隔壁２４の先端には曲面状端部２６が形成され、隔壁２４の後壁２３に対面する側には曲面状端部２６に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度αで傾斜した傾斜面２８が形成されていることにより、吐出スリットＳ１から吐出された塗布液は塗布ヘッドの軸方向に均一に吸込スリットＳ２に流れ落ちる。これにより、ビードＢは軸方向に常時安定した形状を保つことができ、ビードＢから基板（図示せず）の塗布面に液を付着させる際、筋ムラ等の不良は発生しない。これに対し傾斜角度αが１５°よりも小さいとき或いは３０°よりも大きいときは、吸込スリットＳ２への塗布液の流れが幅方向に不均一となりビードから基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋むら等の不良が生じる。
【００２６】
また本発明の塗布ヘッドにおいて前壁２２の先端の外側エッジ２９の角度βは３０°〜６０°であるのでビートＢの表面張力によりビードＢから基板の塗布面への塗布を開始する等の塗布動作時の変化が生じる際でもビードＢの液が外側エッジ２９を越えて前壁２２の外壁を伝わり塗布ヘッド２１の下方へ垂れてしまうことはない。これに対し外側エッジ２９の角度βが６０°よりも大きいときは吐出側の液溜め部の前壁２２のエッジを越えて塗布ヘッドの下方へ垂れてしまい塗布液の損失を生じる。また、塗布液が塗布ヘッドの下方へ垂れることによって、塗布ヘッドの下方に設けられたパンが汚され洗浄作業が必要となる。さらには垂れた塗布液の固化したものがゴミとなって塗布面に付着し塗布不良を起こす原因にもなる。一方、角度βが３０°より小さいときは外側エッジ２９の加工が困難となる。
【００２７】
図３は本発明の塗布ヘッドに塗布液を供給する機構を示す。塗布ヘッド２１の前壁２２には第１液溜め部２１Ａに連通する塗布液供給口１０Ｆが設けられており、この塗布液供給口１０Ｆから第１液溜め部２１Ａ内に塗布液が供給されるように構成されている。この塗布液供給口１０Ｆは、塗布ヘッド２１の長手方向の中央部に１個設けられていればよい。尚、複数の塗布液供給口が存在すると筋ムラが発生するので好ましくない。
【００２８】
塗布液供給口１０Ｆには供給パイプＬ１及びＬ２を介して塗布液供給ポンプＰの吐出側が接続されており、この塗布液供給ポンプＰから塗布液供給口１０Ｆに塗布液が供給されるように構成されている。供給パイプＬ１とＬ２の間には、フィルターＦが接続されている。
【００２９】
後壁２３に設けられた塗布液排出口１０Ｇには塗布液の循環パイプＬ３の一端部が接続され、この循環パイプＬ３の他端部が塗布液供給ポンプＰの吸込み側に接続されている。
【００３０】
本発明の塗布装置は、図１、図２に示す塗布ヘッド２１を備え、図５の従来の塗布装置の場合と同様に、この塗布ヘッド２１の吐出スリットＳ１を上方へ塗布液を供給する手段とし、実質的に平板状の基板を、傾斜状態で且つ傾斜角度調節可能に、しかも基板下側の塗布をする面が下方に向くように支持する基板支持手段（基板ホルダー３）と、塗布液ビードＢの、基板の高く位置する側に面するメニスカスより大きい高さ寸法をもつような状態に維持しつつ、基板の高く位置する端縁寄り部分から低く位置する端縁寄り部分へ、基板が塗布ヘッドの吐出スリットＳ１を横切って相対移動するように、基板と塗布ヘッド２１を相対的に移動させる移動手段（ガイドフレーム２、ガイドフレーム２に沿って設置されたボールねじ５及びボールねじを駆動するモーターＭからなる）とを備える。
【００３１】
上記塗布液供給機構を備える塗布ヘッド２１は、図５の従来の塗布装置の場合と同様に、塗布装置と同様に、塗布ヘッド２１が傾斜したガイドフレームに沿って搬送される基板の搬送路の下方位置に吐出スリットＳ１を上方に向けて配置され、塗布ヘッド２１の第１液溜め部２１Ａ及び第２液溜め部２１Ｂ、供給パイプＬ１、Ｌ２及び循環パイプＬ３内に塗布液が充満される。
【００３２】
そして、塗布液供給ポンプＰが常時駆動されており、この塗布液供給ポンプＰから塗布液供給口１０Ｆに塗布液が供給される。
【００３３】
塗布液供給口１０Ｆから第１液溜め部２１Ａに導入された塗布液は、吐出スリットＳ１から塗布ヘッドの上面上に吐出され、ビードＢが形成される。
【００３４】
このビードＢには、塗布液供給ポンプＰが常時駆動されていることによって常時吐出スリットＳ１から塗布液が供給され、この塗布液の供給によってビードＢこおける塗布液が供給され、この塗布液の供給によってビードＢにおける塗布液の量が増加するが、この増加分の塗布液は、吐出スリットＳ１の開口面よりも若干低い位置に形成された開口面を有する吸込スリットＳ２の方向に流れる。
【００３５】
そして、塗布液排出口１０Ｇ及び循環パイプＬ３を介して接続されている塗布液供給ポンプＰの吸引力によって、ビードＢから吸込スリットＳ２に流れた塗布液が第２液溜め部２１Ｂ内に吸い込まれる。この第２液溜め部２１Ｂ内に吸込まれた塗布液は、塗布液排出口１０Ｇ−循環パイプＬ３−塗布液供給ポンプＰ−供給パイプＬ１−フィルターＦ−供給パイプＬ２の経路で循環して塗布液供給口１０Ｆから再び第１液溜め部２１Ａ内に導入される。
【００３６】
上記のように塗布ヘッド１０内には常時塗布液が充満され、且つこの塗布液が循環されているので、塗布液の粘度上昇や固化が生じて基板への塗布が不均一なことが有効に防止される。
【００３７】
また、前述したように、隔壁２４の曲面状端部２６及び曲面状端部２６に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度で傾斜した傾斜面２８は、吐出スリットＳ１から吐出された塗布液が塗布ヘッドの軸方向に均一に吸込スリットＳ２に流れ落ちるようにする役目を果たすので、筋ムラ等の発生は防止される。
【００３８】
また、塗布液が塗布液供給ポンプＰから塗布ヘッド２１に供給される際に、塗布液がフィルターＦを通過することによって循環路内における塗布液の量が徐々に減っていくことになるが、塗布液供給機構の循環路の総面積を十分に大きくすることによって、塗布液の減少による塗布膜の厚さへの影響を少なくすることができる。
【００３９】
なお、塗布液供給機構への塗布液の補給は、供給パイプＬ１、Ｌ２又は循環パイプＬ３内に図示しない三方弁を介して補給タンクから塗布液を供給する方法等の方法によって行うことができる。
【００４０】
図４は本発明の塗布ヘッド２１と組み合わせて使用する他の塗布液供給機構を示す。
【００４１】
塗布液排出口１０Ｇには排出パイプＬ４を介してサブタンク４１が接続され、このサブタンク４１には、下端部が塗布液供給タンク４２内に挿入された排出パイプＬ５が接続されている。
【００４２】
サブタンク４１は中を循環する塗布液の液位が塗布ヘッド２１の吸込スリットＳ２の開口面と同じ高さを取ることができる位置に配置されており、排出パイプＬ４はこのサブタンク４１の底部に接続され、排出パイプＬ５はサブタンク４１の側壁の吸込スリットＳ２の開口面とほぼ同じ高さ程度に接続されている。
【００４３】
塗布液供給ポンプＰの吸引側には吸引パイプＬ６が接続され、この吸引パイプＬ６の下端部は塗布液供給タンク４２内に挿入されている。この塗布液供給タンク４２の上部は開放されている。
【００４４】
塗布ヘッド２１の第１液溜め部２１Ａ、第２液溜め部２１Ｂ、供給パイプＬ１、Ｌ２、排出パイプＬ４及びサブタンク４１内には塗布液が充満されている。
【００４５】
塗布供給タンク４２内の塗布液は、塗布液供給ポンプＰの駆動によって吸引パイプＬ６に吸い上げられることにより、供給パイプＬ１、フィルターＦ及び供給パイプＬ２を介して塗布液供給口１０Ｆから塗布ヘッド２１の第１液溜め部２１Ａに導入される。
【００４６】
そして、第１液溜め部２１Ａに導入された塗布液は、図３の塗布液供給機構の場合と同様に、吐出スリットＳ１から塗布ヘッド２１の上面上に吐出されてビードＢを形成し、さらにこのビードＢから過剰な塗布液が吸込スリットＳ２の方向に流れる。
【００４７】
このとき、塗布液排出口１０Ｇとサブタンク４１の底部とが排出パイプＬ４を介して連通されていることによりサブタンク１１内の塗布液の液面と吸込スリットＳ２における塗布液の液面とが平衡して同一高さに維持されるので、ビードＢから吸込スリットＳ２に流れる塗布液によって吸込スリットＳ２における塗布液の液面が上昇するとサブタンク４１内の塗布液の液面も上昇して、上昇分だけ塗布液がサブタンク４１から排出パイプＬ５を介して塗布液供給タンク４２内に排出される。
【００４８】
上述のようにサブタンク１１が設けられていることによって、吸込スリットＳ２における塗布液の液位が一定の高さに維持されるので第２液溜め部２１Ｂから塗布液が流出して塗布液と空気との接触面積が増大することが防止される。
【００４９】
また、本発明の塗布ヘッドにおいては筋ムラ等の発生がないことから循環ポンプとして例えばシリンジ型ポンプを使用し、基板への塗布動作時に塗布液をシリンジ型ポンプから吐出スリットへ吐出し、塗布動作外においては塗布液タンクからシリンジ型ポンプに吸入され、その際には吐出スリットから吐出しない、間欠塗布動作時においても、吐出初期時でも瞬時に液の流れが塗布ヘッド２１の幅方向にわたり均一となりビードＢから基板の塗布面に塗布液を付着させる際に筋ムラ等の不良は発生しない。
【００５０】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように本発明の塗布ヘッドは吐出スリットから吐出される塗布液が吸込スリットへ流れ落ちる際、幅方向に均一に流れるために安定したビードを形成することができ、筋ムラ等の不良が発生しないという利点を有する。
【００５１】
また塗布液が前壁の外側エッジから前壁の外壁面を伝って塗布ヘッドの下方へ垂れることがないため、塗布液の損失がないという利点を有する。また、垂れる塗布液を受けるパンの洗浄の必要がなく垂れた塗布液が固着しゴミとなって基材の塗布面に付着することがないという利点を有する。
【００５２】
また本発明の塗布ヘッドを備える塗布装置によれば筋ムラ等の不良のない製品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の塗布ヘッドの斜視図である。
【図２】図１に示すＩ−Ｉ線で切断した断面を図示する一部断面図示斜視図である。
【図３】塗布液供給機構を備える本発明の塗布ヘッドの一例の略図である。
【図４】塗布液供給機構を備える本発明の塗布ヘッドの他の例の略図である。
【図５】従来の塗布装置を示す略図である。
【図６】図５に図示する従来例における塗布開始時の基板とビードとの関係を示す略図である。
【図７】図５に図示する従来例における塗布開始時のビードの状態を示す説明図である。
【図８】図５に図示する従来例における塗布途中の基板とビードとの関係を示す略図である。
【図９】図５に図示する従来例における塗布途中のビードの状態を示す説明図である。
【図１０】図５に図示する従来例の塗布液供給機構の略図である。
【図１１】特開平９−１５５２７０号公報に記載の塗布装置の塗布液供給機構の説明図である。
【図１２】図５に図示する塗布ヘッドの問題点の説明図である。
【符号の説明】
２１塗布ヘッド
２２前壁
２３後壁
２４隔壁
２５側壁
２６隔壁の曲面状端部
２７側壁鉛直面
２８隔壁の傾斜面
２９前壁の先端の外側エッジ
α 鉛直面に対する隔壁の傾斜角度
β 前壁の先端の外側エッジの角度

Claims

上方に向かって開口すると共に水平方向に延びる帯状の吐出スリットを有する塗布ヘッドであって、被塗布物である基板が塗布を終えて離れていく側にある前壁と被塗布物である基板が塗布されるために接近してくる側にある後壁と前記両壁間を仕切る隔壁を備え、前壁、後壁及び隔壁の両側部には夫々側壁が固着され、前壁と隔壁の間に第１液溜め部が形成され、後壁と隔壁の間に第２液溜め部が形成され、隔壁の先端には曲面状端部が形成され、隔壁の前壁に対面する側には曲面状端部の面に連続する鉛直面が形成され、隔壁の後壁に対面する側には曲面状端部に連続する鉛直面に対して１５°〜３０°の傾斜角度で傾斜した傾斜面が形成されており、前壁及び隔壁は後壁より高く形成され、前壁の上端とそれに対向する隔壁面間に吐出スリットが形成され、後壁の上端とそれに対向する隔壁面間に塗布液の吸込スリットが形成されており、前壁の先端の外側エッジは３０°〜６０°の角度に形成されていることを特徴とする塗布ヘッド。
請求項１に記載の塗布ヘッドを備え、この塗布ヘッドの吐出スリットを上方へ塗布液を供給する手段とし、実質的に平板状の基板を、傾斜状態で且つ傾斜角度調節可能に、しかも基板下側の塗布をする面が下方に向くように支持する基板支持手段と、塗布液ビードの、基板の高く位置する側に面するメニスカスより大きい高さ寸法をもつような状態に維持しつつ、基板の高く位置する端縁寄り部分から低く位置する端縁寄り部分へ、基板が塗布ヘッドの吐出スリットを横切って相対移動するように、基板と塗布ヘッドを相対的に移動させる移動手段とを備えることを特徴とする塗布装置。
前壁には塗布液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設けられ、排出口には循環パイプを介して塗布液供給ポンプの吸込側が接続され、供給口には供給パイプを介して塗布液供給ポンプの吐出側が接続されていることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
前壁には塗布液の供給口が、また後壁には塗布液の排出口が夫々設けられ、液面調整タンクを備え、この液面調整タンクはその中間の高さ位置に吸込スリットの開口面が位置するように配置され、またこの液面調整タンクが吸込スリットの開口面よりも低い位置において前記排出口と連通され、塗布液供給タンクを備え、この塗布液供給タンクは塗布ヘッドよりも低い位置に配置され、液面調整タンクは排出パイプを介して塗布液供給タンクに接続され、供給口は塗布液供給ポンプを介して塗布液供給タンクに接続されていることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。