JP2001308129A - 鉛フリーバンプの形成方法 - Google Patents
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Abstract
すること。 【解決手段】 フリップチップ用のはんだバンプをチッ
プ又はウェハ上に形成する方法であって、(a)チップ
又はウェハであって、該チップ又はウェハに電気接続す
るための複数の金属ボンドパッド10が形成されたチッ
プ又はウェハ8を準備するステップと、(b)純錫、又
は、錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス若しくは錫−銀−銅
から成る群から選択された1種の錫合金を含むはんだバ
ンプ20を、電気メッキ法によって形成するステップ
と、(c) 前記はんだバンプ20を、該はんだの融点
以上の温度に加熱してリフローさせるステップとを備え
たことを特徴とする。
Description
ンディングアプリケーションのための半導体ウェハにお
ける鉛フリーはんだバンプ接続の形成方法に関する。
に、バンプと呼ばれる一段高くされた導電性コンタクト
が、集積回路(IC)の入力/出力接続パッド上に形成
され、続いて、従来のワイヤーボンドまたはリードを使
用することなしに、集積回路(IC)がフェースダウン
(またはフリップチップ接続)で組み立てられる。金、
鉛−錫はんだ、ニッケル、銅、および導電性高分子を含
有する様々なバンプ接続媒体が提案されている。鉛−錫
バンプは、より強く、大量生産可能な接着工程を可能に
するはんだの自己整合性および自己平坦性(リフローに
関して)のために、特に魅力的である。電気的な接続を
提供するに加えて、はんだバンプは、チップと基板との
間の機械的および熱的な接続も提供する。フリップチッ
プアプリケーションの鉛−錫はんだバンプの使用は、バ
ンプ製造のために蒸発方法を使用するC4(制御―コラ
プス―チップ−接続)技術において、1960年代にI
BMによって初めて導入された。
術の主な利点には、下記(1)〜(5)がある。 (1)小さなバンプ接触が、チップ表面上の、特定のア
プリケーション(ワイヤボンディングおよびテープ自動
ボンディング(TAB)のような「外辺部のみの」ボン
ディング技術とは違って)に便利な位置の事実上どこに
でも配置可能であるために、チップに形成可能な接続全
数を極めて増大させることができるという能力、(2)
ダイサイズを小さくし、かつ、周辺パッドに接続する長
い金属配線を不要にして、ICの製造効率および信頼性
の両方に好都合な影響を与えるという潜在能力、(3)
比較的速い接続速度および低い消費電力を与える、比較
的低い電気的抵抗およびインダクタンス値(4)はんだ
バンプを介して伝導が行われ、かつ、フリップチップボ
ンディング後にIC背面が露出されることからくる、良
好な熱放散性、(5)ピン当たりのパッケージングコス
トを全面的に低下させると共に、より小さく、より軽
く、かつコンパクトなパッケージの提供。
従来から様々な要因、特に融点によって影響を及ぼされ
ている。特に、たいてい低コストの比較的低いTg(ガ
ラス転移温度)を有する有機材料から形成される基板に
チップが接続されている場合には、はんだの融点に注意
を払わなければならない。ICがフリップチップ接続さ
れている場合、ICは通常、典型的にはんだの融点より
も20〜30℃高い温度に加熱される。はんだバンプの
融点が高すぎると、基板にダメージを与えてしまうこと
がある。
ンに使用されている、2つのもっとも一般的なバンプ材
料は、純金と、鉛−錫ベースの合金である。前者は主
に、液晶表示装置(LCD)またはTABパッケージ中
のシリコンICのフリップチップに使用される。鉛−錫
はんだバンプは、主に、フリップチップ搭載(フリップ
チップオンボード)または、パッケージ中のフリップチ
ップ(フリップチップインパッケージ)アプリケーショ
ンに使用される。はんだバンプは一般的に、低コスト、
および、より大量生産可能で、より強いフリップチップ
ボンディングプロセスを提供する自己平坦性リフロー特
性および自己整合性リフロー特性のために、金バンプよ
りも好ましい。
錫合金には、特に、95重量%Pb/5重量%Sn、9
7重量%Pb/3重量%Sn、および共晶の37重量%
Pb/63重量%Snがある。In、Ag、およびBi
添加剤入りの鉛ベースのはんだも提案されている。
対する意識が深まる中、鉛を含有するはんだを電気製品
に使用することを、世界的に禁止することが考慮されて
いる。これは、上記電気製品の鉛が、最終的には飲み水
のシステムに混入されてしまうからである。
同体で実行され、これと同様の鉛使用を禁止する立法措
置が、米国および日本で審議されている。従って、電気
製品の好適な鉛フリー加工を実現するために、主とし
て、プリント回路基板、リードフレームパッケージおよ
びはんだペーストの選択が注目を浴びている。しかしな
がら、フリップチップアプリケーションのバンプ接続の
製造には、ほとんど注目が向けられていない。
びインジウム合金ベースに、ビスマス、錫、アンチモ
ン、亜鉛および銀を添加することが提案されている。
プアプリケーションのために使用されている鉛−錫合金
に直接替わる、鉛フリーはんだのバンプ組成および、こ
のような鉛フリーのはんだバンプ組成物を使用する製造
方法である。
5410184号は、主成分としての錫と、2〜8重量
%以上好ましくは3〜5重量%の銅、および1.5重量
%以下の銀を含む、鉛フリーのはんだ合金を使用するこ
とを提案している。このはんだは、ある程度の金属間結
合の確実性を保持するために、好ましくは3〜5重量%
の銅を含むことを必要とする。しかし、このような組成
によると、錫−銅の金属間化合物が過剰に形成されるた
めに、接続がもろくなるという問題が生じてしまう。
る、はんだバンプを形成するプロセスの提供を目的とす
る。
に、本件第1の発明は、フリップチップ用のはんだバン
プをチップ又はウェハ上に形成する方法であって、
(a)チップ又はウェハであって、該チップ又はウェハ
に電気接続するための複数の金属ボンドパッドが形成さ
れたチップ又はウェハを準備するステップと、(b)純
錫、又は、錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス若しくは錫−
銀−銅から成る群から選択された1種の錫合金を含むは
んだバンプを、電気メッキ法によって形成するステップ
と、(c) 前記はんだバンプを、該はんだの融点以上
の温度に加熱してリフローさせるステップとを備えたこ
とを特徴とする。
(好ましくは約0.7%)が銅である錫−銅合金、20
wt%以下(好ましくは約3.5wt%又は約10wt
%)が銀である錫−銀合金、5〜25wt%(好ましく
は約20wt%)がビスマスである錫−ビスマス合金、
5wt%以下(好ましくは約3.5wt%)が銀であ
り、2wt%以下(好ましくは約0.7wt%)が銅で
あり、残りが錫である錫−銀−銅合金から成ることが望
ましい。
を直接置き換えることができ、しかも、電気メッキ法に
より、形状が制御された均一なはんだバンプを形成する
ことができることがわかった。上述の錫ベースはんだ
は、従来のリフロープロセスやその材料、表面実装法や
その装置と、相性が良い。
の2成分系の場合、これらは単一のメッキ溶液から同時
に合金として析出させることができる。
から成分を順次析出させ、リフロープロセス中に加熱し
て必要な合金を得ても良い。この順次析出の手法は、3
成分系の錫−銀−銅合金にも適用することができる。3
成分系の場合、錫−銅合金を単一のメッキ浴から同時に
析出させ、次に純銀を析出させ、加熱して3成分の合金
を得ることができる。また、純銀を析出させ、次に錫−
銅合金を単一のメッキ浴から同時に析出させ、加熱して
3成分の合金を得ても良い。さらに、3種類の元素を、
順次析出させても良い。
金属層を1層又は複数層、スパッタによって形成しても
良い。この金属層は、拡散に対するバリア、酸化に対す
るバリア、接着、メッキのコンタクト層(電気バス)の
役割を持つ。25〜200μm厚の感光性ポリマー材
料、例えばフォトレジスト(ネガ又はポジ)やドライフ
ィルムは、メッキするはんだバンプの体積や位置を決め
るのに用いることができる。フォトレジストやドライフ
ィルムを厚く形成しておくことは、メッキするはんだバ
ンプが、隣接するバンプとの短絡を起こすことなく十分
な高さと体積を持つようにすると共に、チップと基板の
間に必要な距離を保つために重要である。チップと基板
の間に距離を保つのは、チップと基板の間の熱膨張係数
の違いを補償し、フリップチップボンディングの後にア
ンダーフィル材料が基板とチップの間に流入するのに十
分なギャップを持たせるためである。
(DC)又はパルス交互電流のいずれを用いても良い。
電流と電圧の値は、ウェハの大きさとメッキするように
露出された面積の合計とに依存する。DCメッキの好ま
しい条件は、電圧3〜5V、電流0.05〜0.1Aで
ある。パルスメッキサイクルの好ましい電圧は、+5V
で1ミリ秒、ゼロVで1ミリ秒かそれ以下、約−5〜−
10Vで約1ミリ秒、ゼロボルトで約1ミリ秒である。
untain)メッキ装置のいずれも、ウェハ上にはんだをメ
ッキするのに用いることができる。
はんだバンプをチップ又はウェハ上に形成する方法であ
って、(a)保護膜と、該保護膜から露出した複数の金
属ボンドパッドとを備えたチップ又はウェハを準備する
ステップと、(b)前記金属ボンドパッドに、はんだ濡
れ性のある金属層を少なくとも1層形成するステップ
と、(c)前記チップ又はウェハに、前記金属パッドの
位置に開口を有する感光性材料層を形成するステップ
と、(d)純錫、又は、錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス
若しくは錫−銀−銅から成る群から選択された1種の錫
合金を含むはんだを、電気メッキ法によって形成するス
テップと、(e)前記感光性材料層を除去するステップ
と、(f)前記はんだを溶かして、リフローするステッ
プとを備えたことを特徴とする。
て製造されたはんだバンプを有するチップ又はウェハも
含まれる。
1は、当該技術で「バンプ」と呼ばれるはんだの含金属
接触6によって、基板4に「フリップチップ」接続され
た集積回路2を示す。基板4はプリント回路基板であり
得るか、または、はんだボール7またはリードを介して
プリント回路基板9に接続されたボールグリッドアレー
(BGA)またはチップスケールパッケージ(CSP)
のような中間パッケージであり得る。パッケージは、有
機、セラミック、または金属材料から形成される。
10p.p.m.が許容される、不純物レベルで鉛が存在
することを除く)の金属はんだを使用する。特に効果的
な組成には、(a)純錫、又は(b)銅、銀、ビスマ
ス、又は銀および銅の両方のような合金成分を少量含む
錫、がある。このような合金成分の混合は、純錫の融点
を低下させ、メッキ析出物(as-plated deposit)にお
けるひげ結晶の形成を抑制し、錫(232℃で550ダ
イン/cm)の表面張力を低下させるのに効果的であ
り、これにより、錫の(延性などの)機械的性質を向上
させて、13℃未満で生じる純錫のβからの相転移を防
ぐことができる。この相転移は体積変化を伴い、この体
積変化は、結合の完全性および強度を低下させるだけで
なく、機械的強度の低下を導く。はんだバンプの材料
は、さらに詳細に後述する。図2(a)〜(d)および
3(a)/(a1)〜(d)は、電気メッキ法を用い
る、上述した組成を有する金属はんだバンプ接続を形成
するための製造工程を示す。
る。半導体ウェハ8上の適当な位置にボンドパッド10
が形成され、さらに、ウェハを覆いながら、ボンドパッ
ド10を露出するように一部除去されたガラス保護膜1
2が形成されている。ボンドパッド10は、従来、A
l:Si(1〜2重量%Si)またはAl:Si:Cu
(1〜2重量%Siおよび、1〜5重量%Cu)また
は、最近では純銅から成る。ボンドパッド10により、
チップの活性領域(電極)に電気的に接続される。
形成された酸化膜を除去するための真空下における逆ス
パッタ処理によるウエハ8のクリーニングを含む。その
クリーニングステップに続いて一層又は多層の、金属層
14をスパッタリングにより堆積させる。金属層14
は、図2(b)に示すように通常は二層である。第1金
属層は典型的な例ではクロムで形成され、500Å〜1
000Åの厚さを有し、清浄にされたボンドパッドやガ
ラスパッシベーションに対する接着力を向上させるこ
と、金属パッドの再酸化を防止すること及びハンダに対
する拡散バリア層を形成すること等を含む種々の機能を
発揮する。第1金属層として、Ti/W、NiV又はT
iもまた使用することができる。第2金属層は、下側バ
ンプ金属用の種層(たね層)を形成するため、及びコン
タクトメッキ層(電気的バス)を提供するために、25
00Å〜10000Åの厚さの銅により形成される。ニ
ッケルもまた銅の代わりに使用することができる。
に、紫外線感光性フォト有機フィルム16の厚い層(好
ましくは、50〜200μmの間)を用いたウエハのパ
ターンニングが含まれる。この紫外線感光性フォト有機
フィルム16は、例えば、ウエハの表面上に液体フォト
レジストをスピンコートにより塗布した後に、ベークし
て硬化するか、又は、ドライフィルムを積層して形成す
ることができる。液体レジストを用いてそのような厚さ
にするためには、2回の塗布とベークが必要とされる。
感光性層は、金属コートされたガラスフォトマスクを介
して露光されることによりパターンニングされる。フォ
トマスクは、金属層が選択的にエッチングされてなる開
口を有している。これにより、バンプが形成される領域
が定義される。これらの開口を通じて、紫外線が通過
し、感光性層が露光する。感光性層の厚さと開口部の寸
法により、ハンダバンプの形状と最終的な体積が決定さ
れる。感光性層の厚さは、バンプがリフローされフリッ
プチップが接合された後に、基板とチップの間の十分な
距離を確保するための、バンプの十分な高さを確保する
ために重要である。このプロセスにはポジティブ又はネ
ガティブのどちらのタイプの感光性ポリマーも使用する
ことができる。メッキがされるべきでない領域を保護す
る感光性層を現像した後、電気的接触ポイントとなる開
口部が、ウエハの端において、下に位置しているスパッ
タ形成された銅層に達するように形成される。それか
ら、図2(d)に示すようにウエハは下側バンプメタル
(UBM)18を形成するために銅(又はニッケル)で
メッキされる。この層は、通常3〜7μmの間の厚さを
有し、ハンダバンプに対するぬれ性を有する土台として
機能する。
る(図3(a))。メッキ層の中に、適当なタイプのメ
ッキ液とアノードを選択することにより、単一のメッキ
液から、望ましい化学量論の各成分が同時に析出され
た、純粋な錫又は、錫−銅若しくは錫−銀を含む合金、
又は錫−ビスマスからなる鉛フリー被覆物バンプ20が
形成される。例えば、シップレイロナル(Shipley Ron
al)のもの等、種々の供給者からのメッキ液を使用する
ことができる。錫−ビスマス用として彼らのソルダロン
BI(Solderon BI)という製品も適しているが、純
粋な錫の電気メッキ用として、シップレイロナル(Ship
ley Ronal)のチングロクロモ(TingloCulmo)という
製品が特に好ましい。負の電圧は通常、ウエハに印加さ
れ、実効的にカソードを構成する。これらの望ましい合
金のそれぞれに対して、溶解性のアノード技術では、純
粋な錫アノード又は錫−銅アノードのどちらも使用さ
れ、錫−ビスマス堆積に対しては、白金チタンアノード
が好ましい。錫−銅、錫−ビスマス及び錫−銀のメッキ
堆積層は、それぞれの成分が必要な化学量論の割合で同
時に堆積する単一メッキ溶液からでも、純粋な成分(必
要な量の)の連続したメッキした後に堆積させた層を必
要な組成の合金とするためにリフローする方法のどちら
の方法を用いても形成することができる。3〜5A.
S.D(amps per square decimetre)の電流密度が
適していることが分った。ラック又は噴流メッキ装置に
関連して直流でもパルスメッキ技術でも用いることがで
きる。0.05A〜0.1Aの間の電流で3〜5Vの電
圧が好ましい。パルス交互電流として、+5Vで約1ミ
リ秒、次にゼロVで約1ミリ秒、その次に約−5Vで約
1ミリ秒、その後さらにゼロVで約1ミリ秒を含むパル
スが、バンプの均一性及び堆積組成の点で有益であるこ
とが見出された。
時に析出させることに代えて、各成分の相対的な量を制
御するためにメッキ時間を制御し、独立したメッキ溶液
から単一の成分を順次メッキにより堆積させてもよいこ
とが見出された。この結果得られたものは単一成分の層
構造になるけれども、メッキされた堆積物がリフローさ
れた時、その結果、バンプは必要な化学量論組成の合金
となる。この一連のメッキによる方法は、先に述べた2
成分系の合金のいずれについても適用することができ
る。どの成分を最初にするか2番目にするかについては
通常は重要でないことが分った。
ッキをすることは、結果として得られる合金成分の正確
なコントロールが困難であることから難しいので、錫―
銀―銅の場合において、この一連メッキ技術が特に有用
であるとが分った。この場合、最初に単一の2成分系の
メッキ溶液から錫−銅同時に堆積させ、続いて純粋な銀
をメッキすることにより、錫−銅堆積物を銀と分離して
形成することが好ましい。そのようなメッキされた堆積
物はリフローされることにより、必要な3成分系の合金
が形成される。この方法は、比較的大きなバンプにも適
用することができるが、銅の含有量が少ない(2%以
下、好ましくは0.7%以下)という事実及び銅の堆積
量の正確な制御がより難しくなることから、小さいバン
プの場合に比較して難しくなる。
ンニングされた感光性層の上面に到達する前に中止され
たら、バンプは柱形状に形成されるであろう(図3(a
1))。もしメッキプロセスがフォトレジストの高さよ
り上まで続けられたら、“マッシュルーム”形状に形成
されるであろう(図3(a))。マッシュルーム形状に
することは、例えば、感光性層を所望の高さに形成する
ことが不可能である場合等において、ハンダの体積を増
大させる必要がある場合に適用することができる。
ップは、図3(b)に示す保護用の感光性層を除去する
ことと、図3(c)に示すように化学的な方法を用いて
スパッタリングされた銅とクロムの層をバックエッチン
グすることを含む。
が塗布され、球形のハンダ形状を形成するために20分
間、オーブンでリフローされる。これに代えて、水素と
窒素を減少させた環境を用いる場合は、フラックス無し
のバンプリフローを適用できる。
ようなものである。
ことから、鉛−錫バンプに代わる鉛フリーハンダとして
選択され、鉛−錫ハンダと物理的、電気的及び熱的特性
がまったく同様である。また、毒性が低く、ハンダ付け
性が優れている。
欠陥及び短絡の原因となる)が形成されるというよく文
献に記載された性質によりマイクロエレクトロニクスパ
ッケージにおいて純粋な錫を使用することに対して強い
先入観があるにもかかわらず、フリップチップアプリケ
ーション用のハンダバンプとしての使用では、ウイスカ
ーの形成という問題に悩まされることはない。ウイスカ
ーの形成は、ストレスと時間とに依存するものであるこ
とが信じられており、リフロープロセスがこのストレス
を緩和する。
共晶点である約0.7wt%であることが好ましく、こ
の組成ではメルティングポイントは227℃である。銅
の濃度が2wt%より大きくなると、メルティングポイ
ントが高くなり(これは製造上の問題を増加させる)、
かつ銅が、錫をもろくする、それゆえ機械的に不安定に
する金属間化合物を形成するので好ましくない。99.
3wt%Sn/0.7wt%Cuの組成からなり、22
7℃のメルティングポイントを有する錫−銅合金系は、
メルティングポイントが300℃を超える鉛の多い合金
(95wt%Pb/5wt%Sn又は97wt%Pb/
3wt%Sn)の置き換えとして考えられる。錫−銅合
金系は、基板が260℃のリフロー温度に耐えるなら、
共晶鉛−錫バンプの置き換えとして考えられる。
ージは、5wt%以下にしなければならず、好ましくは
合金系の共晶点である3.5wt%に設定する。銀の少
量の添加は、純粋な錫の延性を十分増加させることがで
きるので、バンプが多くの熱サイクル及びストレスにさ
らされる場合には望ましい。銀の濃度を3.5wt%よ
り高くすることは、銀の価格が高いので望ましくない。
さらに、Sn−Ag系のメルティングポイントは、銀の
含有量の増加とともに急激に増加する。例えば、銀3.
5wt%の共晶点における、メルティングポイントは2
21℃である。銀3.5wt%の共晶点における、メル
ティングポイントは、300℃であり、その温度は、ほ
とんどの有機樹脂基板又はパッケージ材料にとって高す
ぎる。しかしながら、セラミック基板上にボンディング
されるフリップチップ用のように高いメルティングポイ
ント(300℃以上)の鉛フリーハンダバンプが必要と
される場合には、銀濃度は20wt%以下が好ましく、
より好ましくは銀濃度を約10wt%とする。銀濃度が
10wt%であるときのメルティングポイントは、約3
00℃であり、この温度は、95wt%Pb/5wt%
Sn及び97wt%Pb/3wt%Sn合金に匹敵する
けれども、銀濃度が20wt%であるときのメルティン
グポイントは、約375℃であり、特定の高温用途に使
用できる可能性がある。このように、共晶(96.5w
t%Sn/3.5wt%Ag)及び高濃度銀合金(90
wt%Sn/10wt%Ag)は、(37wt%Pb/
63wt%Sn)共晶及び(95wt%Pb/5wt%
Sn又は97wt%Pb/3wt%Sn)合金の鉛フリ
ー品としての置き換えが考えられる。
から選択される。この錫−ビスマス系のメルティングポ
イントは、Biが10%のとき225℃であり、Biが
60%(これは共晶点)のとき138.5℃であり、広
い組成の範囲に亙って受け入れ可能なメルティングポイ
ントを示す。Bi濃度が20wt%のとき、Sn−Bi
合金のメルティングポイントは、185℃であり、この
温度は共晶鉛−錫のメルティングポイントである183
℃とほぼ同じであるので、それゆえ、この特定のSn−
Bi合金は、容易に共晶鉛−錫ハンダと置き換えること
ができる。
銀、好ましくは3.5wt%の銀と、2wt%以下の
銅、好ましくは0.7wt%の銅と、錫とからなる組成
を有する。この合金は、共晶鉛−錫ハンダの置き換えに
適する216℃と217℃の間のメルティングポイント
を有する。
は錫合金は、鉛フリーながらも、従来の鉛錫はんだバン
プに匹敵する特性を有していた。
のメッキした状態における電子顕微鏡写真を示し、図4
(b)は、そのリフロー後の写真を示す。図に示すよう
に、均一で形状の制御されたバンプが形成されている。
んだバンプ(錫90wt%、ビスマス10%wt)の電
子顕微鏡写真を示すが、これらも均一で形状の制御され
たはんだバンプとなっており、基板にボンディングする
のに適した高さとなっている。
プの電気メッキ後と、リフロー後の電子顕微鏡写真であ
る。
ンプ(錫96.5wt%、銀3・5wt%)のメッキ後
及びリフロー後の電子顕微鏡写真であるが、これらもま
た均一で形状の制御されたはんだバンプとなっている。
だバンプ(錫95.7wt%、銀3・5wt%、銅0.
8wt%)のメッキ後及びリフロー後の電子顕微鏡写真
である。このはんだバンプは、錫−銀をメッキした後
に、錫−銅をメッキする方法によって作製されたもので
ある。
を示す断面図である。
の最初の4ステップを示す模式図である。
図2(a)から(d)に続くはんだバンプ形成ステップ
を示す模式図である。
って形成された錫−銅バンプを示す電子顕微鏡写真であ
る。
って形成された錫−ビスマスバンプを示す電子顕微鏡写
真である。
って形成された純錫バンプを示す電子顕微鏡写真であ
る。
って形成された錫−銀バンプを示す電子顕微鏡写真であ
る。
って形成された錫−銀−銅バンプを示す電子顕微鏡写真
である。
体ウェハ、10 ボンドパッド、12 ガラス保護膜、
14 金属層、16 感光性材料層、18 下側バンプ
メタル、20 はんだバンプ
Claims (22)
- 【請求項1】 フリップチップ用のはんだバンプをチッ
プ又はウェハ上に形成する方法であって、 チップ又はウェハであって、該チップ又はウェハに電気
接続するための複数の金属ボンドパッドが形成されたチ
ップ又はウェハを準備するステップと、 純錫、又は、錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス若しくは錫
−銀−銅から成る群から選択された1種の錫合金を含む
はんだバンプを、電気メッキ法によって形成するステッ
プと、 前記はんだバンプの融点以上の温度に加熱して、前記は
んだバンプをリフローさせるステップとを備えた方法。 - 【請求項2】 前記はんだバンプが、2wt%以下が銅
であり、残りが錫である錫−銅合金から成ることを特徴
とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記はんだバンプが、銅含有率が約0.
7wt%である錫−銅合金から成ることを特徴とする請
求項2記載の方法。 - 【請求項4】 前記はんだバンプが、20wt%以下が
銀であり、残りが錫である錫−銀合金から成ることを特
徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 前記錫−銀合金の約3.5wt%が銀で
あり、残りが錫であることを特徴とする請求項4記載の
方法。 - 【請求項6】 前記錫−銀合金の約10wt%が銀であ
り、残りが錫であることを特徴とする請求項4記載の方
法。 - 【請求項7】 前記はんだバンプが、5〜25wt%が
ビスマスであり、残りが錫である錫−ビスマス合金から
成ることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 前記錫−ビスマス合金の約20wt%が
ビスマスであり、残りが錫であることを特徴とする請求
項7記載の方法。 - 【請求項9】 前記はんだバンプが、5wt%以下が銀
であり、2wt%以下が銅であり、残りが錫である錫−
銀−銅合金から成ることを特徴とする請求項1記載の方
法。 - 【請求項10】 前記錫−銀−銅合金が、約3.5wt
%の銀を含むことを特徴とする請求項9記載の方法。 - 【請求項11】 前記錫−銀−銅合金が、約0.7wt
%の銅を含むことを特徴とする請求項9記載の方法。 - 【請求項12】 前記錫−銅、錫−銀、又は錫−ビスマ
ス合金は、単一のメッキ溶液から同時に合金として析出
することを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項13】 前記錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス、
又は錫−銀−銅合金は、純金属を順次析出させ、加熱し
て必要な合金を得ることを特徴とする請求項1記載の方
法。 - 【請求項14】 前記錫−銀−銅合金は、錫−銅合金を
単一のメッキ浴から同時に析出させ、次に純銀を析出さ
せ、加熱して3成分の合金を得ることを特徴とする請求
項1記載の方法。 - 【請求項15】 前記錫−銀−銅合金は、純銀を析出さ
せ、次に錫−銅合金を単一のメッキ浴から同時に析出さ
せ、加熱して3成分の合金を得ることを特徴とする請求
項1記載の方法。 - 【請求項16】 前記チップ又はウェハには、感光性材
料が、25〜200μm厚に形成され、はんだバンプの
位置を決定するようにパターニングされていることを特
徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項17】 前記電気メッキは、直流電流を用いて
行われることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項18】 前記電気メッキは、パルス交互電流を
用いて行われることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項19】 各パルスは、約+5Vで約1ミリ秒、
ゼロVで約1ミリ秒、約−5Vで約1ミリ秒、ゼロボル
トで約1ミリ秒という波形を有することを特徴とする請
求項18記載の方法。 - 【請求項20】 フリップチップ用のはんだバンプをチ
ップ又はウェハ上に形成する方法であって、(a)保護
膜と、該保護膜から露出した複数の金属ボンドパッドと
を備えたチップ又はウェハを準備するステップと、
(b)前記金属ボンドパッドに、はんだ濡れ性のある金
属層を少なくとも1層形成するステップと、(c)前記
チップ又はウェハに、前記金属パッドの位置に開口を有
する感光性材料層を形成するステップと、(d)純錫、
又は、錫−銅、錫−銀、錫−ビスマス若しくは錫−銀−
銅から成る群から選択された1種の錫合金を含むはんだ
を、電気メッキ法によって形成するステップと、(e)
前記感光性材料層を除去するステップと、(f)前記は
んだを溶かして、リフローするステップとを備えた方
法。 - 【請求項21】 請求項1に記載の方法によって製造さ
れたはんだバンプを有するチップ又はウェハ。 - 【請求項22】 請求項20記載の方法によって製造さ
れたはんだバンプを有するチップ又はウェハ。
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