JP2001143918A - セラミックインダクタ部品及び複合部品 - Google Patents

セラミックインダクタ部品及び複合部品

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 所望の特性を具備するとともに、特性の安定
性が高く、耐久性にも優れたセラミックインダクタ部品
及び複合部品を提供する。 【解決手段】 インダクタ部を構成するセラミック磁性
体として、Ni−Cu−Znフェライト、又はNi−C
uフェライトを含有するものを用い、かつ、フェライト
中のS,Cl及びNaの含有量をS:5〜150ppm、
Cl:5〜150ppm、Na:5〜100ppmの範囲とす
ることにより、Agを主成分とする内部導体金属の、セ
ラミック磁性体ヘの拡散を抑えて、電気特性の劣化を防
止するとともに、焼結を促進させることにより、セラミ
ックの絶縁抵抗値を向上させ、耐久性、信頼性を向上さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本願発明は、インダクタ部品に関
し、詳しくは、セラミック磁性体と、Agを主成分とす
る電極(電極材料)を一体に焼成することにより形成さ
れたインダクタ部を有するセラミックインダクタ部品及
び複合部品に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
セラミック磁性体を用いたインダクタ部品(セラミック
インダクタ部品)が広く用いられるようになっている。
そして、このようなセラミックインダクタ部品の一つ
に、積層型セラミックインダクタ部品がある。
【0003】この、積層型セラミックインダクタ部品
は、通常、フェライトなどを含む磁性体グリーンシート
に、内部導体となる電極をスクリーン印刷などの方法に
より形成し、この磁性体グリーンシートを積層、圧着し
て所定の条件下で焼成した後、内部導体と導通するよう
に外部電極を形成することにより製造されており、フェ
ライト系のセラミック磁性体(チップ)の内部にインダ
クタ部を構成する導体(例えばコイル部)が配設された
構造を有している。また、セラミックインダクタ部品に
は、上記のような積層型のもの以外にも、フェライト系
セラミックなどからなるコア上に導体材料を配設して焼
き付けることにより、コア上にコイル状導体を設けたも
のなどがある。
【0004】このようなセラミックインダクタ部品を製
造する場合、セラミック磁性体に用いられる磁性材料と
しては、比較的低い温度で焼成することが可能な、Ni
−Cu−Znフェライト、Ni−Cuフェライト、Ni
−Znフェライトなどが一般に用いられている。なお、
これらの低温で焼成が可能なフェライト材料が用いられ
ているのは、セラミックインダクタ部品の電気特性を向
上させる目的で、インダクタを構成する導体用の電極材
料として、電気伝導度の高いAgを主成分とする、低温
で焼成することが望ましい材料が用いられていることに
よる。
【0005】しかし、セラミックインダクタを構成する
磁性体用の材料として、Ni−Cu−Znフェライト
や、Ni−Znフェライトを用いた製品は、製造過程に
おけるわずかな要因で、特性や、製造工程における不良
率が大きく変動する傾向があり、信頼性が低いという問
題点がある。
【0006】本願発明は、かかる問題点を解決するもの
であり、所望の特性を具備するとともに、特性の安定性
が高く、耐久性にも優れたセラミックインダクタ部品及
び複合部品を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】発明者等は、上述のNi
−Cu−Znフェライト、Ni−Cuフェライト、Ni
−Znフェライトなどを用いたセラミックインダクタに
おいて、製造過程におけるわずかな要因で発生する、特
性の変動や、製造工程における不良率の変動の理由を解
明するため、種々の実験、検討を行い、フェライト原料
に添加するS,Cl及びNaの含有量を所定の範囲に調
整することにより、その電気的特性であるインダクタン
スLやQ値を向上させることが可能になるとともに、信
頼性評価の指標である絶縁抵抗値が上昇し、しかも、長
期間にわたって高い絶縁抵抗値が保持されることを知
り、さらに実験を重ねて本願発明を完成するに至った。
【0008】すなわち、本願発明(請求項1)のセラミ
ックインダクタ部品は、セラミック磁性体とAgを主成
分とする電極(電極材料)を一体に焼成することにより
形成されたインダクタ部を有するセラミックインダクタ
部品であって、前記セラミック磁性体がNi−Cu−Z
nフェライト、又はNi−Cuフェライトを含有し、か
つ、前記フェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、
それぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴としている。
【0009】セラミック磁性体として、Ni−Cu−Z
nフェライト、又はNi−Cuフェライトを含有するも
のを用い、かつ、フェライト中のS,Cl及びNaの含
有量をS:5〜150ppm、Cl:5〜150ppm、N
a:5〜100ppmの範囲とすることにより、必要な特
性を確実に備え、かつ、特性の安定性が高く、信頼性に
優れたセラミックインダクタ部品を提供することが可能
になる。
【0010】フェライト中のS,Cl,Naの含有量を
上記の範囲としたのは、S又はClの含有量が上記の範
囲を超えると、電極中のAgのセラミック磁性体中への
拡散が進行して、インダクタンスL及びQ値の著しい低
下を生じ、S又はClの含有量が上記の範囲を下回る
と、インダクタンスL及びQ値の低下を招くからであ
り、また、Naの含有量が上記の範囲を超えると負荷試
験での絶縁抵抗の劣化を招き、上記の範囲を下回ると初
期絶縁抵抗が規定値(logIR≧9)を満たさなくなる
からである。フェライト中のS,Cl及びNaの含有量
のさらに好ましい範囲は、S:40〜120ppm、C
l:10〜50ppm、Na:10〜20ppmの範囲であ
る。なお、フェライト中のS,Cl及びNaは、公知の
種々の方法で測定することが可能である。なお、フェラ
イト中において、Sは、S,S化合物、SOイオンな
どの形で存在し、Clは、FeCl、FeCl、N
iClなどの形で存在する。また、Naは、Na
S,NaSO,NaO,NaClなどの形で存
在する。
【0011】また、本願発明(請求項2)のセラミック
インダクタ部品は、セラミック磁性体とAgを主成分と
する電極(電極材料)を一体に焼成することにより形成
されたインダクタ部を有するセラミックインダクタ部品
であって、前記セラミック磁性体がNi−Cu−Znフ
ェライト、又はNi−Cuフェライトを含有していると
ともに、前記フェライトの、焼成前の原料(フェライト
原料)として、S,Cl及びNaの含有量が、それぞ
れ、 S :10〜600ppm Cl :10〜600ppm Na :30〜120ppm の範囲にあるフェライト原料が用いられており、焼成後
のフェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、それぞ
れ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴としている。
【0012】フェライト原料中のS,Cl及びNaは焼
成時にある程度揮発して失われるが、フェライト原料と
して、S:10〜600ppm、Cl:10〜600ppm、
Na:30〜120ppmの範囲にある原料を用いること
により、一般的な焼成条件で焼成した場合における、セ
ラミック磁性体に含まれるフェライト中のS,Cl及び
Naの含有量を、S:5〜150ppm、Cl:5〜15
0ppm、Na:5〜100ppmの範囲とすることが可能に
なり、必要な特性を確実に備え、かつ、特性の安定性が
高く、信頼性に優れたセラミックインダクタ部品を提供
することが可能になり、本願発明を実効あらしめること
ができる。
【0013】また、請求項3のセラミックインダクタ部
品は、前記インダクタ部として、セラミック磁性体層を
介して電極層を複数枚積層するとともに、各電極層を接
続することによりセラミック磁性体中に形成された積層
型コイルを備えていることを特徴としている。
【0014】本願発明は、電極(導体)の構造に特別の
制約はないが、セラミック磁性体層と電極層を積層して
なる積層型コイルをインダクタ部とするセラミックイン
ダクタ部品に適用した場合には、小型で大きなインダク
タンスを得ることが可能な積層型コイルをインダクタ部
とするセラミックインダクタ部品(積層型インダクタ)
の特性の安定性や信頼性の向上を図ることが可能にな
り、特に有意義である。
【0015】また、本願発明(請求項4)の複合部品
は、セラミック磁性体とAgを主成分とする電極(電極
材料)を一体に焼成することにより形成されたインダク
タ部と、前記インダクタ部に組み合わされた少なくとも
1つの他の素子とを有する複合部品であって、前記セラ
ミック磁性体がNi−Cu−Znフェライト、又はNi
−Cuフェライトを含有し、かつ、前記フェライト中の
S,Cl及びNaの含有量が、それぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴としている。
【0016】インダクタ部を含む複合部品においても、
インダクタ部を構成するセラミック磁性体として、Ni
−Cu−Znフェライト、又はNi−Cuフェライトを
含有するものを用い、かつ、フェライト中のS,Cl及
びNaの含有量をS:5〜150ppm、Cl:5〜15
0ppm、Na:5〜100ppmの範囲とすることにより、
必要な特性を確実に備え、かつ、特性の安定性が高く、
信頼性に優れた複合部品を提供することが可能になる。
なお、フェライト中のS,Cl,Naの含有量を上記の
範囲としたのは、上述の請求項1のセラミックインダク
タ部品の場合と同様の理由による。なお、フェライト中
のS,Cl及びNaの含有量のさらに好ましい範囲は、
S:40〜120ppm、Cl:10〜50ppm、Na:1
0〜20ppmの範囲である。なお、本願発明において、
インダクタ部に組み合わされた少なくとも1つの他の素
子とは、コンデンサ部や、前記インダクタ部とは特性の
異なるインダクタ部、抵抗、バリスタなどを意味する広
い概念である。
【0017】また、本願発明(請求項5)の複合部品
は、セラミック磁性体とAgを主成分とする電極(電極
材料)を一体に焼成することにより形成されたインダク
タ部と、前記インダクタ部に組み合わされた少なくとも
1つの他の素子とを有する複合部品であって、前記セラ
ミック磁性体がNi−Cu−Znフェライト、又はNi
−Cuフェライトを含有しているとともに、前記フェラ
イトの、焼成前の原料(フェライト原料)として、S,
Cl及びNaの含有量が、それぞれ、 S :10〜600ppm Cl :10〜600ppm Na :30〜120ppm の範囲にあるフェライト原料が用いられており、焼成後
のフェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、それぞ
れ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴としている。
【0018】S:10〜600ppm、Cl:10〜60
0ppm、Na:30〜120ppmの範囲にあるフェライト
原料を用いることにより、焼成後のセラミック磁性体に
含まれるフェライト中のS,Cl及びNaの含有量を、
S:5〜150ppm、Cl:5〜150ppm、Na:5〜
100ppmの範囲とすることが可能になり、必要な特性
を確実に備え、かつ、特性の安定性が高く、信頼性に優
れた複合部品を提供することが可能になり、本願発明を
実効あらしめることができる。
【0019】また、請求項6の複合部品は、前記インダ
クタ部として、セラミック磁性体層を介して電極層を複
数枚積層するとともに、各電極層を接続することにより
セラミック磁性体中に形成された積層型コイルを備えて
いることを特徴としている。
【0020】本願発明は、電極(導体)の構造に特別の
制約はないが、セラミック磁性体層と電極層を積層して
なる積層型コイルをインダクタ部とする複合部品に適用
した場合には、小型で大きなインダクタンスを得ること
が可能な積層型コイルをインダクタ部とする複合部品の
特性の安定性や信頼性の向上を図ることが可能になり、
特に有意義である。
【0021】
【発明の実施の形態】本願発明のセラミックインダクタ
部品及び複合部品において、セラミック磁性体として
は、Ni−Cu−Znフェライト又はNi−Cuフェラ
イトを用いることが可能であり、特にNi−Cu−Zn
フェライトを用いることが好ましい。
【0022】また、Ni−Cu−Znフェライトの具体
的な組成については、特に制約はなく、目的に応じて種
々の組成のものを選択して用いることが可能であるが、
例えば、Ni(NiO)の含有量は、15〜25モル
%、Cu(CuO)の含有量は、5〜15モル%、Zn
(ZnO)の含有量は、20〜30モル%であることが
好ましい。
【0023】また、Ni−Cu−Znフェライトは、C
o、Mnなどを全体の5重量%程度以下の範囲で含有し
ていてもよい。さらにCa、Si、Bi、V、Pbなど
を1重量%程度以下の範囲で含有していてもよい。ま
た、Ni−Cuフェライトを用いる場合、ホウケイ酸ガ
ラスなどの各種ガラスを含有するものを用いてもよい。
【0024】また、本願発明において、インダクタを構
成する電極(導体)用の材料(電極材料)としては、イ
ンダクタとして実用的なQ値を得る見地からは、低抵抗
のAgを主体とする導電材料を用いることが好ましく、
Agの含有量が90重量%以上のものがより好ましい。
また、純度99.9重量%以上のものを用いることが特
に好ましい。
【0025】なお、ここでは、インダクタを構成する電
極(導体)の具体的な構成には、特に制約はなく、積層
型のコイルとすることも可能であり、コア上に配設され
たコイル状導体とすることも可能であり、さらには、コ
イル状でない導体とすることも可能である。
【0026】また、セラミックインダクタ部品及び複合
部品の外部電極を構成する導電材料にも特に制約はな
く、例えば、Ag、Pt、Pd、Au、Cu、Ni、こ
れらの1種以上を含有する合金などから選択して使用す
ることができる。なお、特に好ましいものとしては、A
g、Ag−Pd合金などが例示される。
【0027】また、本願発明のセラミックインダクタ部
品及び複合部品の寸法には特に制約はなく、目的や用途
などに応じて適宜その寸法を決定することができる。
【0028】なお、磁性体グリーンシートを製造するに
は、通常、Ni−Cu−Znフェライトのスラリー(セ
ラミックスラリー)を用いるが、このセラミックスラリ
ーは、例えば、以下のようにして調製することができ
る。
【0029】まず、S,Cl及びNaの含有量が本願発
明の範囲に設定されたフェライトの原料粉末、例えばN
iO、CuO、ZnO、Feなどの各種原料粉末
の所定量をボールミルなどにより湿式混合する。なお、
各種原料粉未の粒経は0.1〜10μmの範囲とするこ
とが好ましい。
【0030】それから、湿式混合したスラリーを、スプ
レードライヤーなどにより乾操し、その後仮焼する。こ
れをさらにボールミルで十分に湿式粉砕し、スプレード
ライヤーにより乾燥する。
【0031】得られたフェライト粉末を、溶剤に分散さ
せてセラミックスラリーを調製し、これをシート状に成
形して磁性体グリーンシートを得る。
【0032】なお、セラミックスラリーには、必要に応
じて各種ガラスや酸化物などを含有させることができ
る。
【0033】電極(導体)形成用の導電ペースト、及び
外部電極用の導電ペーストとしては、それぞれ、上述の
金属、合金、あるいは焼成後に上述の導電材となる各種
酸化物、有機金属化合物、レジネートなどと、各種バイ
ンダ及び溶剤とを混練して調製したものを用いることが
可能であり、場合によっては、市販のものを用いてもよ
い。
【0034】なお、インダクタ素子、あるいは複合部品
素子(未焼成の積層体など)の焼成温度は、800〜9
30℃の範囲が好ましく、850〜900℃の範囲がさ
らに好ましい。また、焼成時間は、0.05〜5時間の
範囲が好ましく、0.1〜3時間の範囲がさらに好まし
い。なお、焼成は、通常、PO=1〜100%の雰囲
気中で行なうことが望ましい。
【0035】また、外部電極を焼き付ける際の焼成温度
は、通常500〜700℃であり、焼付け時間は、通常
10分〜3時間程度とする。なお、焼成は、通常、空気
中で行なう。
【0036】本願発明では、焼成時及び焼成後、大気よ
り酸素を過剰に含む雰囲気中で熱処理を行なうことが好
ましい。これは、酸素過剰雰囲気中で熱処理を行なうこ
とによって、前述の焼成工程で、Cu、Znなどの金属
や、CuO、ZnOなどの抵抗が低い酸化物として
析出していたものを、CuO、ZnOなどの高抵抗で、
無害な酸化物の形で析出させることができることによ
る。なお、熱処理雰囲気中の酸素分圧は、20〜100
%の範囲とすることが好ましい。これは、この範囲未満
では、Cu、Zn、CuO、ZnOなどの析出を抑
制する能力が低下することによる。なお、酸素分圧は、
50〜100%の範囲とすることがより好ましく、さら
には、酸素分圧100%とすることが最も好ましい。ま
た、この熱処理は、焼成時の最終段階か、又は焼成工程
の終了後に行なうことが好ましい。
【0037】
【実施例】以下、本願発明の実施例を示して、その特徴
とするところをさらに詳しく説明する。なお、この実施
例では、例えば、図1(a),(b)に示すように、セラミ
ック磁性体からなる素子(チップ状素子)51中に、複
数の内部導体(コイルパターン)52a(図1(b))を
接続することにより形成された積層型のコイル52(図
1(b))が配設され、かつ、素子51の両端側に、コイ
ル52の両端部と接続するように外部電極53a,53
b(図1(a))が形成されたセラミックインダクタ部品
を例にとって説明する。
【0038】[セラミックインダクタ部品の製造]ま
ず、このセラミックインダクタ部品の製造方法について
説明する。 S,Cl及びNaを表1〜5に示すような種々の割合
で含有するNi−Cu−Znフェライトのスラリー(セ
ラミックスラリー)をシート状に成形し、所定の位置に
ビアホール55を形成することにより磁性体グリーンシ
ート54を作製する。 それから、この磁性体グリーンシート54の表面に、
Agを主成分とする内部導体(電極)形成用の導電ペー
ストをスクリーン印刷などの方法で印刷して、所定のコ
イルパターン(電極パターン)52aを形成する。 次に、このコイルパターン52aが形成された磁性体
グリーンシート54を複数枚積層するとともに、その上
下両面側にコイルパターンの形成されていない磁性体グ
リーンシート(外層用シート)54aを積層した後、圧
着する。これにより、各コイルパターン52aがビアホ
ール55により接続され、積層型のコイル52が形成さ
れる。 それから、内部にコイル52が形成された積層体(未
焼成の素子)を例えば900℃で焼成することにより、
内部に積層型のコイル52を備えた素子(インダクタ素
子)51を得る。 次に、この素子51の両端部に導電ペーストを塗布、
焼き付けすることにより、外部電極53a,53b(図
1(a))を形成する。これにより、セラミック磁性体中
に内部導体として積層型のコイルが配設されたセラミッ
クインダクタ部品が得られる。
【0039】なお、この実施例では、本願発明の範囲内
で、S,Cl及びNaを含むようにするために、フェラ
イト原料として、Sの含有量が10〜600ppm、Cl
の含有量が10〜600ppm、Naの含有量が30〜1
20ppmのものを用いた。
【0040】[特性の評価]上述の〜の工程を経て
製造された積層型のセラミックインダクタ部品につい
て、電気的特性であるインダクタンスL、Q値、初期絶
縁抵抗値などを測定するとともに、信頼性を評価するた
めに、加速試験における絶縁抵抗値変化を調べた。
【0041】表1,2,3,4及び5に、その結果を示
す。なお、表1〜5において、試料番号に*印を付した
ものは本願発明の範囲外の比較例(従来例)である。
【0042】
【表1】
【0043】
【表2】
【0044】
【表3】
【0045】
【表4】
【0046】
【表5】
【0047】なお、表1,2,3,4及び5において、
内部導体の欄に○が付されているものは内部電極の減少
が認められなかったもの、△が付されているものは10
%以内の減少が認められたもの、×が付されているもの
は50%以上の減少が認められたものを示している。
【0048】また、表1,2,3,4及び5において、
信頼性試験の欄に○が付されているものは、2000時
間の試験で、絶縁抵抗劣化がまったく認められなかった
もの、△が付されているものは、2000時間の試験
で、LOGIRが8まで低下したもの、×が付されてい
るものは、2000時間の試験で、LOGIRが8以下
にまで低下したものを示す。
【0049】表1,2,3,4及び5に示すように、
S,Cl及びNaの含有量が本願発明の範囲外にある試
料(試料番号に*印を付した、Sが5〜150ppm、C
lが5〜150ppm、Naが5〜100ppmの範囲外にあ
るセラミックインダクタ部品)については、必ずしも十
分な電気特性が得られなかったり、初期絶縁抵抗値が低
かったり、信頼性試験における絶縁抵抗値が低下したり
する現象が認められた。
【0050】これに対し、S,Cl及びNaの含有量が
本願発明の範囲内にある試料(試料番号に*印を付して
いない、Sが5〜150ppm、Clが5〜150ppm、N
aが5〜100ppmの範囲内にあるセラミックインダク
タ部品)については、良好な電気特性が得られるととも
に、初期絶縁抵抗値が高く、信頼性試験においても絶縁
抵抗値が低下しないことが確認された。このように、本
願発明によれば、高品質で寿命が長く、しかも、製造工
程における不良発生の少ない信頼性の高いセラミックイ
ンダクタ部品を提供することが可能になる。
【0051】また、表2の試料番号35の比較例と、表
2の試料番号37の本願発明の実施例のセラミックイン
ダクタ部品について、セラミック磁性体の焼結密度を比
較したところ、本願発明の範囲外の比較例の試料では、
焼結密度が5.1g/cmであったのに対して、実施例
の試料の場合、焼結密度が5.2g/cmに向上してい
ることが確認された。
【0052】また、焼結密度を比較した上述の比較例及
び実施例の試料について、外部電極にめっきを施し、そ
の場合のめっき不具合の発生率を調べたところ、比較例
の試料では、5%にめっき不具合が発生したが、実施例
の試料の場合、めっき不具合の発生は認められなかっ
た。なお、ここで、めっき不具合とは、外部電極のはん
だ付け性を改善するために、外部電極にSnやはんだな
どのめっきを施す工程で、めっき層の素子表面への異常
成長が認められた場合を意味するものである。
【0053】また、上記実施例では、セラミック磁性体
中に内部導体(コイル)が配設された構造を有する積層
型のセラミックインダクタ部品について説明したが、本
願発明は、積層型のものに限られるものではなく、セラ
ミック磁性体からなるコア上に導体材料を配設して焼き
付けることにより、コア上にコイル状導体を設けたセラ
ミックインダクタ部品などにも適用することが可能であ
る。
【0054】なお、この実施例では、セラミックインダ
クタ部品を例にとって説明したが、図2に示すように、
インダクタ部Aと、コンデンサ部Bを複合させた複合部
品にも本願発明を適用することが可能であり、その場合
にも上記実施例の場合と同様の効果を得ることができ
る。
【0055】なお、この場合、インダクタ部Aとして
は、図1(a),(b)に示すような構造のインダクタを用
いることが可能であり、コンデンサ部Bとしては、例え
ば、図3に示すように、コンデンサ素子(セラミック素
子)61中に誘電体セラミック層64を介して内部電極
62が互いに対向するように配設されているとともに、
セラミック素子61の両端部に、交互に異なる側の端面
に引き出された内部電極62と導通するように一対の外
部電極63a,63bが配設された構造を有する積層型
セラミックコンデンサを用いることが可能である。な
お、コンデンサ部としてはさらに他の構成のものを用い
ることも可能である。
【0056】また、コンデンサ部以外の他の素子を複合
させた複合部品にも本願発明を適用することが可能であ
る。
【0057】なお、本願発明は、上記の実施形態及び実
施例に限定されるものではなく、フェライトの組成、電
極の形状や配設態様、S,Cl,Naの含有量の具体的
な値、製造方法などに関し、発明の要旨の範囲におい
て、種々の応用、変形を加えることが可能である。
【0058】
【発明の効果】上述のように、本願発明のセラミックイ
ンダクタ部品は、セラミック磁性体として、Ni−Cu
−Znフェライト、又はNi−Cuフェライトを含有す
るものを用い、かつ、フェライト中のS,Cl及びNa
の含有量をS:5〜150ppm、Cl:5〜150ppm、
Na:5〜100ppmの範囲とするようにしているの
で、必要な特性を確実に備え、かつ、特性の安定性が高
く、信頼性に優れたセラミックインダクタ部品を提供す
ることができる。
【0059】すなわち、本願発明によれば、 Agを主成分とする内部導体金属のセラミック磁性体
ヘの拡散を抑えることにより、電気特性の劣化を抑える
ことが可能になり、また、 焼結を促進させることにより、セラミックの絶縁抵抗
値を向上させるとともに、長期間にわたって、動作信頼
性を確保することが可能になり、さらに、 上記及びの効果により、外部電極のはんだ付け性
の向上を目的として、外部電極にSnやはんだなどのめ
っきを施す工程における、めっき層の素子表面への異常
成長を防止することができるという効果を得ることが可
能になる。
【0060】また、本願発明(請求項2)のセラミック
インダクタ部品は、フェライトの原料として、焼成前の
原料段階におけるS,Cl及びNaの含有量が、それぞ
れ、S:10〜600ppm、Cl:10〜600ppm、N
a:30〜120ppmの範囲にある原料(フェライト原
料)を用いるようにしているので、S,Cl,Naが焼
成時にある程度揮発して失われても、一般的な焼成条件
で焼成した場合における、焼成後のセラミック磁性体に
含まれるフェライト中のS,Cl及びNaの含有量を、
S:5〜150ppm、Cl:5〜150ppm、Na:5〜
100ppmの範囲とすることが可能になり、必要な特性
を確実に備え、かつ、特性の安定性が高く、信頼性に優
れたセラミックインダクタ部品を提供することが可能に
なり、本願発明を実効あらしめることができる。
【0061】また、本願発明は、電極(導体)の構造に
特別の制約はないが、請求項3のセラミックインダクタ
部品のように、セラミック磁性体層と電極層を積層して
なる積層型コイルをインダクタ部とするセラミックイン
ダクタ部品に適用した場合には、小型で大きなインダク
タンスを得ることが可能なセラミックインダクタ部品
(積層型インダクタ)の特性の安定性や信頼性の向上を
図ることが可能になり、特に有意義である。
【0062】また、本願発明は、請求項4、5及び6の
ように、インダクタ部に、少なくとも1つの他の素子を
組み合わせた複合部品にも適用することが可能であり、
その場合にも、前記請求項1,2,3のセラミックイン
ダクタ部品の場合と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の実施例にかかるセラミックインダク
タ部品を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は内部構造
を示す分解斜視図である。
【図2】本願発明の実施例にかかる複合部品の外観構成
を示す斜視図である。
【図3】本願発明の実施例にかかる複合部品を構成する
コンデンサ部の内部構造を示す断面図である。
【符号の説明】
51 素子 52 コイル 52a 内部導体(コイルパターン) 53a,53b 外部電極 54 磁性体グリーンシート 54a 外層用シート 55 ビアホール 61 コンデンサ素子(セラミック素子) 62 内部電極 63a,63b 外部電極 64 誘電体セラミック層 A インダクタ部 B コンデンサ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 邦明 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Fターム(参考) 5E041 AB12 AB19 BD01 CA10 HB15 NN02 5E062 DD04 5E070 AA01 AB01 BA12 BB01 CB03 CB08 CB13

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セラミック磁性体とAgを主成分とする電
    極(電極材料)を一体に焼成することにより形成された
    インダクタ部を有するセラミックインダクタ部品であっ
    て、 前記セラミック磁性体がNi−Cu−Znフェライト、
    又はNi−Cuフェライトを含有し、かつ、 前記フェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、それ
    ぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴とするセラミックインダクタ部
    品。
  2. 【請求項2】セラミック磁性体とAgを主成分とする電
    極(電極材料)を一体に焼成することにより形成された
    インダクタ部を有するセラミックインダクタ部品であっ
    て、前記セラミック磁性体がNi−Cu−Znフェライ
    ト、又はNi−Cuフェライトを含有しているととも
    に、 前記フェライトの、焼成前の原料(フェライト原料)と
    して、S,Cl及びNaの含有量が、それぞれ、 S :10〜600ppm Cl :10〜600ppm Na :30〜120ppm の範囲にあるフェライト原料が用いられており、 焼成後のフェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、
    それぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴とするセラミックインダクタ部
    品。
  3. 【請求項3】前記インダクタ部として、セラミック磁性
    体層を介して電極層を複数枚積層するとともに、各電極
    層を接続することによりセラミック磁性体中に形成され
    た積層型コイルを備えていることを特徴とする請求項1
    又は2記載のセラミックインダクタ部品。
  4. 【請求項4】セラミック磁性体とAgを主成分とする電
    極(電極材料)を一体に焼成することにより形成された
    インダクタ部と、前記インダクタ部に組み合わされた少
    なくとも1つの他の素子とを有する複合部品であって、 前記セラミック磁性体がNi−Cu−Znフェライト、
    又はNi−Cuフェライトを含有し、かつ、 前記フェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、それ
    ぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴とする複合部品。
  5. 【請求項5】セラミック磁性体とAgを主成分とする電
    極(電極材料)を一体に焼成することにより形成された
    インダクタ部と、前記インダクタ部に組み合わされた少
    なくとも1つの他の素子とを有する複合部品であって、 前記セラミック磁性体がNi−Cu−Znフェライト、
    又はNi−Cuフェライトを含有しているとともに、 前記フェライトの、焼成前の原料(フェライト原料)と
    して、S,Cl及びNaの含有量が、それぞれ、 S :10〜600ppm Cl :10〜600ppm Na :30〜120ppm の範囲にあるフェライト原料が用いられており、 焼成後のフェライト中のS,Cl及びNaの含有量が、
    それぞれ、 S :5〜150ppm Cl :5〜150ppm Na :5〜100ppm の範囲にあることを特徴とする複合部品。
  6. 【請求項6】前記インダクタ部として、セラミック磁性
    体層を介して電極層を複数枚積層するとともに、各電極
    層を接続することによりセラミック磁性体中に形成され
    た積層型コイルを備えていることを特徴とする請求項4
    又は5記載の複合部品。
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