JP2001093591A - 光電変換素子 - Google Patents
光電変換素子Info
- Publication number
- JP2001093591A JP2001093591A JP27400099A JP27400099A JP2001093591A JP 2001093591 A JP2001093591 A JP 2001093591A JP 27400099 A JP27400099 A JP 27400099A JP 27400099 A JP27400099 A JP 27400099A JP 2001093591 A JP2001093591 A JP 2001093591A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- fine particles
- particle size
- average particle
- oxide semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 21
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 27
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 abstract description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 35
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- -1 polycyclic aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- GKXDJYKZFZVASJ-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC GKXDJYKZFZVASJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002971 CaTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020923 Sn-O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 239000011245 gel electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- WSRHMJYUEZHUCM-UHFFFAOYSA-N perylene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical class C=12C3=CC=CC2=CC=CC=1C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O WSRHMJYUEZHUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/542—Dye sensitized solar cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】色素増感型太陽電池などの光電変換素子におい
て、n型酸化物半導体微粒子を電極として用いる場合、
その内部での電荷担体の移動が妨げられ、結果として光
電変換効率が低下するという問題があった。 【解決手段】透光性基板1に透明導電膜4を形成し、そ
の上に微粒子からなるn型酸化物半導体電極2を形成
し、隣接して電荷輸送層3を配置し、さらに対向電極5
を持つ基板6を向き合わせて配置した色素増感型太陽電
池セルに代表される光電変換素子において、上記n型酸
化物半導体微粒子の平均粒径が、その層内部において透
明導電体層側に比べて電荷輸送層側の方が大きいことを
特徴とする。
て、n型酸化物半導体微粒子を電極として用いる場合、
その内部での電荷担体の移動が妨げられ、結果として光
電変換効率が低下するという問題があった。 【解決手段】透光性基板1に透明導電膜4を形成し、そ
の上に微粒子からなるn型酸化物半導体電極2を形成
し、隣接して電荷輸送層3を配置し、さらに対向電極5
を持つ基板6を向き合わせて配置した色素増感型太陽電
池セルに代表される光電変換素子において、上記n型酸
化物半導体微粒子の平均粒径が、その層内部において透
明導電体層側に比べて電荷輸送層側の方が大きいことを
特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池などの光
電変換素子に関する。
電変換素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の太陽電池セルとしては、単結晶あ
るいは多結晶のSiを用い、その中にp−nジャンクシ
ョンを形成し、太陽光が照射された際にSi内部に生成
する電子とホールをp−nジャンクション内部の電位勾
配を利用して分離して外部に取り出し太陽電池として作
動するものが現在利用されており、その効率向上が主な
開発項目となっている。また、製造コスト削減も一方で
重要な開発課題であり、a(アモルファス)−Siを用
いた太陽電池の開発も進められている。しかしながらこ
れまでSi系の太陽電池では、高効率と低コストの両立
が困難であった。
るいは多結晶のSiを用い、その中にp−nジャンクシ
ョンを形成し、太陽光が照射された際にSi内部に生成
する電子とホールをp−nジャンクション内部の電位勾
配を利用して分離して外部に取り出し太陽電池として作
動するものが現在利用されており、その効率向上が主な
開発項目となっている。また、製造コスト削減も一方で
重要な開発課題であり、a(アモルファス)−Siを用
いた太陽電池の開発も進められている。しかしながらこ
れまでSi系の太陽電池では、高効率と低コストの両立
が困難であった。
【0003】この問題を解決するために、新しい光化学
太陽電池が考案されている。例えば特開平1−2203
80号公報もしくは特表平5−504023号公報の様
なものが図1に示す様に開示されている。この光化学電
池では、n型酸化物半導体3として比較的安価な材料で
ある酸化チタン微粒子を用い、この表面に太陽光に対す
る光吸収特性を改良し可視域の波長の光吸収を可能とす
るための錯体色素(図示せず)を吸着させ、高効率で安
価な太陽電池セルを製造することを可能とした色素増感
型太陽電池セルである。ここで、1は透光性基板(基板
1)、3は電解質、4は透明導電膜、5は対向電極、6
は対向基板である。
太陽電池が考案されている。例えば特開平1−2203
80号公報もしくは特表平5−504023号公報の様
なものが図1に示す様に開示されている。この光化学電
池では、n型酸化物半導体3として比較的安価な材料で
ある酸化チタン微粒子を用い、この表面に太陽光に対す
る光吸収特性を改良し可視域の波長の光吸収を可能とす
るための錯体色素(図示せず)を吸着させ、高効率で安
価な太陽電池セルを製造することを可能とした色素増感
型太陽電池セルである。ここで、1は透光性基板(基板
1)、3は電解質、4は透明導電膜、5は対向電極、6
は対向基板である。
【0004】この色素増感型太陽電池で使用するn型酸
化物半導体3は、粒径が1μm以下、という非常に微細
な酸化チタン粒子を比較的低温で焼結することによって
得られる厚さ3〜10μm程度のポーラス構造を持つ酸
化チタン薄膜に、その比表面積が大きいことを利用して
太陽光の可視域の波長の光を吸収しうる錯体色素を多く
吸着させ、これに液体の電解質層を隣接して設け、少な
くとも一方が透明導電体薄膜からなる対向電極で挟み込
むことにより形成されている。これによって、エネルギ
ー変換効率5%以上でかつ製造コストがSi系太陽電池
に比べて著しく低減された太陽電池の製造が可能となっ
た。
化物半導体3は、粒径が1μm以下、という非常に微細
な酸化チタン粒子を比較的低温で焼結することによって
得られる厚さ3〜10μm程度のポーラス構造を持つ酸
化チタン薄膜に、その比表面積が大きいことを利用して
太陽光の可視域の波長の光を吸収しうる錯体色素を多く
吸着させ、これに液体の電解質層を隣接して設け、少な
くとも一方が透明導電体薄膜からなる対向電極で挟み込
むことにより形成されている。これによって、エネルギ
ー変換効率5%以上でかつ製造コストがSi系太陽電池
に比べて著しく低減された太陽電池の製造が可能となっ
た。
【0005】この新規の光化学太陽電池において、変換
効率を向上させるポイントとしては太陽光をより多く吸
収できるようになるべく多くの錯体色素を酸化チタンな
どのn型酸化物半導体電極上に吸着させることである。
その方法としては、(1)n型酸化物半導体電極の厚さ
を厚くする、(2)できるだけ細かい粒径のn型酸化物
半導体微粒子を用いて比表面積を増大させる等が考えら
れる。しかしながら(1)では錯体色素の光吸収で生じ
た電子がn型酸化物半導体層中をその膜厚方向に伝達す
る際に非常に多くの粒界を横切ることになり、その際に
ホールとの再結合の確率が高まり、結果として外部に電
流として取り出せる電子の数が減少し効率が低下してし
まう。一方(2)のように粒径を小さくしてしまうと、
n型酸化物半導体電極のポーラス構造中の空隙が著しく
小さくなり、電荷輸送層中に含まれるイオンなどの拡散
が制約されて効率低下につながる問題が生じていた。
効率を向上させるポイントとしては太陽光をより多く吸
収できるようになるべく多くの錯体色素を酸化チタンな
どのn型酸化物半導体電極上に吸着させることである。
その方法としては、(1)n型酸化物半導体電極の厚さ
を厚くする、(2)できるだけ細かい粒径のn型酸化物
半導体微粒子を用いて比表面積を増大させる等が考えら
れる。しかしながら(1)では錯体色素の光吸収で生じ
た電子がn型酸化物半導体層中をその膜厚方向に伝達す
る際に非常に多くの粒界を横切ることになり、その際に
ホールとの再結合の確率が高まり、結果として外部に電
流として取り出せる電子の数が減少し効率が低下してし
まう。一方(2)のように粒径を小さくしてしまうと、
n型酸化物半導体電極のポーラス構造中の空隙が著しく
小さくなり、電荷輸送層中に含まれるイオンなどの拡散
が制約されて効率低下につながる問題が生じていた。
【0006】上記のような理由から、色素吸着量を著し
く増加させることは困難であり、結果として太陽光の照
射強度がある程度以上増加しても色素で十分光を吸収す
ることができず、結果として照射強度に対して出力が頭
打ちになるという問題が生じていた。
く増加させることは困難であり、結果として太陽光の照
射強度がある程度以上増加しても色素で十分光を吸収す
ることができず、結果として照射強度に対して出力が頭
打ちになるという問題が生じていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の光増感型太陽電
池は、色素の光吸収能に限界があるため、光照射強度が
強くなるに従って出力が頭打ちになるという問題があ
り、エネルギー変換効率を向上できないと言う問題があ
った。
池は、色素の光吸収能に限界があるため、光照射強度が
強くなるに従って出力が頭打ちになるという問題があ
り、エネルギー変換効率を向上できないと言う問題があ
った。
【0008】本発明は上記課題を鑑みてなされたもので
あり、錯体色素でより多くの光吸収をさせるとともに電
荷輸送層中の電荷担体の拡散を容易にし、結果としてエ
ネルギー変換効率を高めた光増感型太陽電池の提供を課
題とする。
あり、錯体色素でより多くの光吸収をさせるとともに電
荷輸送層中の電荷担体の拡散を容易にし、結果としてエ
ネルギー変換効率を高めた光増感型太陽電池の提供を課
題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1の光電変換素子は、透明導電体層及びこの透
明導電体層上に形成され微粒子を積層して形成されるn
型酸化物半導体電極と、このn型酸化物半導体電極上に
吸着された色素と、この色素と接する電荷輸送層と、こ
の電荷輸送層と接する対向電極とを具備する光電変換素
子において、前記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均
粒径に比べて前記電荷輸送層側の前記微粒子の平均粒径
が大きいことを特徴とする。
に請求項1の光電変換素子は、透明導電体層及びこの透
明導電体層上に形成され微粒子を積層して形成されるn
型酸化物半導体電極と、このn型酸化物半導体電極上に
吸着された色素と、この色素と接する電荷輸送層と、こ
の電荷輸送層と接する対向電極とを具備する光電変換素
子において、前記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均
粒径に比べて前記電荷輸送層側の前記微粒子の平均粒径
が大きいことを特徴とする。
【0010】請求項2の光電変換素子は、請求項1にお
いて、前記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均粒径が
5〜50nmであり、且つ前記電荷輸送層近傍の前記微粒子
の平均粒径が30〜500nmであることを特徴とする請求項
1記載の光電変換素子。
いて、前記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均粒径が
5〜50nmであり、且つ前記電荷輸送層近傍の前記微粒子
の平均粒径が30〜500nmであることを特徴とする請求項
1記載の光電変換素子。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の光電変換素子において
は、n型酸化物半導体電極を形成する微粒子の粒径が、
その電極内部において厚さ方向で特定の分布を持ってお
り、透明導電体層側よりも電荷輸送層側においてその平
均粒径が大きい分布であることを最大の特徴とする。本
発明の光電変換素子においては、一般的に透明導電体層
側から光を入射させ色素においてその光を吸収させるた
め、透明導電体層側では光を散乱させることなく入射さ
せる必要があるためn型酸化物半導体微粒子の粒径はで
きる限り小さいことが望ましい。一方、電荷輸送層側に
おいては、電荷担体であるイオンなどが色素近傍まで容
易に拡散できるように、ポーラス体であるn型酸化物半
導体電極内部の気孔径はできる限り大きいことが望まし
い。これらを考慮し、発明者らは図2に示すような微粒
子構造をもつn型酸化物半導体電極を形成することで効
率が向上できることを見いだしたものである。ここで、
Aは粒子径の比較的小さな粒子21の領域、Bは粒子径の
比較的大きな粒子20の領域である。
は、n型酸化物半導体電極を形成する微粒子の粒径が、
その電極内部において厚さ方向で特定の分布を持ってお
り、透明導電体層側よりも電荷輸送層側においてその平
均粒径が大きい分布であることを最大の特徴とする。本
発明の光電変換素子においては、一般的に透明導電体層
側から光を入射させ色素においてその光を吸収させるた
め、透明導電体層側では光を散乱させることなく入射さ
せる必要があるためn型酸化物半導体微粒子の粒径はで
きる限り小さいことが望ましい。一方、電荷輸送層側に
おいては、電荷担体であるイオンなどが色素近傍まで容
易に拡散できるように、ポーラス体であるn型酸化物半
導体電極内部の気孔径はできる限り大きいことが望まし
い。これらを考慮し、発明者らは図2に示すような微粒
子構造をもつn型酸化物半導体電極を形成することで効
率が向上できることを見いだしたものである。ここで、
Aは粒子径の比較的小さな粒子21の領域、Bは粒子径の
比較的大きな粒子20の領域である。
【0012】また、その平均粒径の範囲も精密な検討の
結果、透明導電体層側において5〜50nm、電荷輸送層側
においては50〜200nmの範囲に制御することで特性が著
しく向上できることを見いだした。透明導電体層側の平
均粒径が5nm未満ではn型酸化物半導体電極を形成する
際の熱処理の際に収縮率が著しく大きくなり、透明導電
体層からの剥離の問題が生じやすい。一方平均粒径が50
nmより大きいと比表面積が小さくなり色素吸着量が少な
くなるために変換効率が低下してしまう問題が生じる。
より好ましくは10〜50nmである。電荷輸送層側の平均粒
径が50nmより小さいと電荷担体であるイオンなどの拡散
を促進する効果がなくなり、一方200nmより大きくなる
と低温での焼成では焼結が促進せず、色素から注入され
た電子の透明導電体層への伝達が阻害され効率が低下し
てしまう。より好ましくは50〜120nmである。
結果、透明導電体層側において5〜50nm、電荷輸送層側
においては50〜200nmの範囲に制御することで特性が著
しく向上できることを見いだした。透明導電体層側の平
均粒径が5nm未満ではn型酸化物半導体電極を形成する
際の熱処理の際に収縮率が著しく大きくなり、透明導電
体層からの剥離の問題が生じやすい。一方平均粒径が50
nmより大きいと比表面積が小さくなり色素吸着量が少な
くなるために変換効率が低下してしまう問題が生じる。
より好ましくは10〜50nmである。電荷輸送層側の平均粒
径が50nmより小さいと電荷担体であるイオンなどの拡散
を促進する効果がなくなり、一方200nmより大きくなる
と低温での焼成では焼結が促進せず、色素から注入され
た電子の透明導電体層への伝達が阻害され効率が低下し
てしまう。より好ましくは50〜120nmである。
【0013】また、透明導電体層側と電荷輸送層側で平
均粒径は明確に異なっている必要はあるが、その中間は
連続的に平均粒径が変化していることも、また不連続に
平均粒径が変化していることも許容される。
均粒径は明確に異なっている必要はあるが、その中間は
連続的に平均粒径が変化していることも、また不連続に
平均粒径が変化していることも許容される。
【0014】n型酸化物半導体電極を形成する物質は電
子伝導性で一般に公知の酸化物材料を利用することがで
き特に限定されないが、Ti,Nb,Sn,Zn,Ta等の遷移金
属酸化物、あるいはSrTiO3,BaTiO3,CaTiO3などのペロ
ブスカイト系酸化物などを利用することが好適である。
また、これらの酸化物にドーピングを施したもの、ある
いは酸素欠損を含むものなども選択できる。特に酸化チ
タン(TiO2)はその材料費が比較的安価であること、種
々の粒径の材料を入手可能であること、特性が安定して
おり取り扱いが容易であること、結晶表面に水酸基を持
っており色素吸着が強固に起こること、可視域に吸収が
少なく増感色素の太陽光吸収の妨げにならないことなど
からもっとも有用な材料である。酸化チタンにおいても
アナターゼ相がもっとも好適である。
子伝導性で一般に公知の酸化物材料を利用することがで
き特に限定されないが、Ti,Nb,Sn,Zn,Ta等の遷移金
属酸化物、あるいはSrTiO3,BaTiO3,CaTiO3などのペロ
ブスカイト系酸化物などを利用することが好適である。
また、これらの酸化物にドーピングを施したもの、ある
いは酸素欠損を含むものなども選択できる。特に酸化チ
タン(TiO2)はその材料費が比較的安価であること、種
々の粒径の材料を入手可能であること、特性が安定して
おり取り扱いが容易であること、結晶表面に水酸基を持
っており色素吸着が強固に起こること、可視域に吸収が
少なく増感色素の太陽光吸収の妨げにならないことなど
からもっとも有用な材料である。酸化チタンにおいても
アナターゼ相がもっとも好適である。
【0015】n型酸化物半導体電極の形成方法として
は、市販の金属酸化物粉末を好適な溶媒とバインダー、
界面活性剤等を用いてペースト化し、これを透明導電体
層上にスキージ印刷、スクリーン印刷法など一般的な方
法で所望の厚さ塗布し、乾燥後所定の温度、時間で熱処
理を行い電極とする方法が適用可能である。また、原料
として市販の金属酸化物粉末を用いる代わりにゾルゲル
法などを用いて所望の微粒子を得て、これをペースト化
して塗布する方法を用いることもできる。熱処理条件
は、焼成後に得られるn型酸化物半導体電極の微構造を
考慮して選択されるが、色素吸着サイトに有効な面積が
その投影面積に対して20以上、より好ましくは100
以上となるよう選択することが望ましい。
は、市販の金属酸化物粉末を好適な溶媒とバインダー、
界面活性剤等を用いてペースト化し、これを透明導電体
層上にスキージ印刷、スクリーン印刷法など一般的な方
法で所望の厚さ塗布し、乾燥後所定の温度、時間で熱処
理を行い電極とする方法が適用可能である。また、原料
として市販の金属酸化物粉末を用いる代わりにゾルゲル
法などを用いて所望の微粒子を得て、これをペースト化
して塗布する方法を用いることもできる。熱処理条件
は、焼成後に得られるn型酸化物半導体電極の微構造を
考慮して選択されるが、色素吸着サイトに有効な面積が
その投影面積に対して20以上、より好ましくは100
以上となるよう選択することが望ましい。
【0016】n型酸化物半導体電極内部において、透明
導電体層側と電荷輸送層側で粒径が異なる構造を形成す
るためには、透明導電体層上にまず粒径の小さな粉末を
原料としたペーストを所望の厚さ塗布し熱処理まで行
い、次に粒径の大きな粉末を原料としたペーストをやは
り所望の厚さ塗布して熱処理を行うことで形成可能であ
る。このプロセスを複数回繰り返すことでn型酸化物半
導体電極内部の微粒子の平均粒径を厚さ方向に連続的に
変化させることも可能である。なお、原料として用いる
粉末の粒径は、熱処理中の粒成長を考慮して所望の粒径
分布よりも幾分小さい原料を選択することが望ましい。
得られた電極内部の平均粒径の変化は、断面TEM観察
などの手法を用いて確認することができる。
導電体層側と電荷輸送層側で粒径が異なる構造を形成す
るためには、透明導電体層上にまず粒径の小さな粉末を
原料としたペーストを所望の厚さ塗布し熱処理まで行
い、次に粒径の大きな粉末を原料としたペーストをやは
り所望の厚さ塗布して熱処理を行うことで形成可能であ
る。このプロセスを複数回繰り返すことでn型酸化物半
導体電極内部の微粒子の平均粒径を厚さ方向に連続的に
変化させることも可能である。なお、原料として用いる
粉末の粒径は、熱処理中の粒成長を考慮して所望の粒径
分布よりも幾分小さい原料を選択することが望ましい。
得られた電極内部の平均粒径の変化は、断面TEM観察
などの手法を用いて確認することができる。
【0017】上記のようにして得られたn型酸化物半導
体電極の比表面積をさらに増大させるためにふっ酸、硫
酸、塩酸、硝酸、酢酸などの無機酸中に浸漬する、ある
いは必要ならばさらに加熱して電極をエッチングするこ
とも許容される。
体電極の比表面積をさらに増大させるためにふっ酸、硫
酸、塩酸、硝酸、酢酸などの無機酸中に浸漬する、ある
いは必要ならばさらに加熱して電極をエッチングするこ
とも許容される。
【0018】上記のような手法で得られた内部に平均粒
径の分布を持つ酸化物半導体電極を利用して光電変換素
子を作製するためには、図2の断面図に示すように透明
導電膜4がついた透明基板1、上述のn型酸化物半導体
電極、増感色素、電荷輸送層、対向電極を必要とする。
径の分布を持つ酸化物半導体電極を利用して光電変換素
子を作製するためには、図2の断面図に示すように透明
導電膜4がついた透明基板1、上述のn型酸化物半導体
電極、増感色素、電荷輸送層、対向電極を必要とする。
【0019】まず透明基板としては、ガラスや耐熱性の
有機物などを用いることが可能であるが、微粒子を熱処
理により焼結する必要があるため耐熱性の高いガラスな
どを用いることが好適である。
有機物などを用いることが可能であるが、微粒子を熱処
理により焼結する必要があるため耐熱性の高いガラスな
どを用いることが好適である。
【0020】透明導電体層としては、可視広域に光吸収
の少ない導電性材料であれば特に限定されないが、耐熱
性や導電特性などの観点からITO(In-Sn-O)やフッ
素ドープされた酸化スズあるいはAlをドープした酸化亜
鉛などの金属酸化物薄膜が望ましい。
の少ない導電性材料であれば特に限定されないが、耐熱
性や導電特性などの観点からITO(In-Sn-O)やフッ
素ドープされた酸化スズあるいはAlをドープした酸化亜
鉛などの金属酸化物薄膜が望ましい。
【0021】増感色素は太陽光などの入射光を吸収して
励起状態になり、その内部に電子とホールが生成するも
のならば特に限定されないが、太陽電池として利用する
場合には太陽光の波長分布と近い吸収特性を有する材料
が望ましく、またn型酸化物半導体電極に電子を効率よ
く注入するためには、増感色素のLUMO準位のエネル
ギー位置がn型酸化物半導体の伝導体のそれよりも同じ
かそれ以上であることが望ましい。ルテニウム−トリ
ス、ルテニウム−ビス、オスミウム−トリス、オスミウ
ム−ビス型遷移金属錯体、多核錯体、またはルテニウム
−シス−ビピリジル錯体、またはフタロシアニンやポル
フィリン、多環芳香族化合物が望ましい。
励起状態になり、その内部に電子とホールが生成するも
のならば特に限定されないが、太陽電池として利用する
場合には太陽光の波長分布と近い吸収特性を有する材料
が望ましく、またn型酸化物半導体電極に電子を効率よ
く注入するためには、増感色素のLUMO準位のエネル
ギー位置がn型酸化物半導体の伝導体のそれよりも同じ
かそれ以上であることが望ましい。ルテニウム−トリ
ス、ルテニウム−ビス、オスミウム−トリス、オスミウ
ム−ビス型遷移金属錯体、多核錯体、またはルテニウム
−シス−ビピリジル錯体、またはフタロシアニンやポル
フィリン、多環芳香族化合物が望ましい。
【0022】電荷輸送層としては、液体、疑似液体(ゲ
ルなど)、固体の電荷輸送層のいずれもが利用可能であ
る。イオン導電性物質としては、ヨウ化物、臭化物、キ
ノン錯体、TCNQ錯体などを含む電解質溶液、架橋ポ
リアクリル樹脂誘導体、架橋ポリアクリロニトリル誘導
体などをマトリックスとして電解質溶液を含浸させた高
分子ゲル電解質、高分子アンモニウム塩などの溶融塩電
解質が用いられる。また、固体ホールもしくは電子移動
材料なども適用でき、各種金属フタロシアニン、ペリレ
ンテトラカルボン酸、ペリレンやコロネンなどの多環芳
香族、テトラシアノキノジメタンなどの電荷移動錯体な
どの結晶性材料、あるいはAlq3、ジアミン、ポリピロー
ル、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレンなどのアモ
ルファス導電性高分子なども適用可能である。なお、電
解質溶液を用いた場合、多孔質セラミックスやポリ(弗
化ビニリデン)などの有機多孔物質に含浸させることも
選択可能である。固体電解質の場合は、n型酸化物半導
体電極に含浸させるために、固体電解質のガラス転移温
度あるいは融点以上に加熱し、軟化あるいは溶融した固
体電解質とn型酸化物半導体電極を接触させ、必要に応
じて加圧することで良好な接合を実現することができ
る。
ルなど)、固体の電荷輸送層のいずれもが利用可能であ
る。イオン導電性物質としては、ヨウ化物、臭化物、キ
ノン錯体、TCNQ錯体などを含む電解質溶液、架橋ポ
リアクリル樹脂誘導体、架橋ポリアクリロニトリル誘導
体などをマトリックスとして電解質溶液を含浸させた高
分子ゲル電解質、高分子アンモニウム塩などの溶融塩電
解質が用いられる。また、固体ホールもしくは電子移動
材料なども適用でき、各種金属フタロシアニン、ペリレ
ンテトラカルボン酸、ペリレンやコロネンなどの多環芳
香族、テトラシアノキノジメタンなどの電荷移動錯体な
どの結晶性材料、あるいはAlq3、ジアミン、ポリピロー
ル、ポリアニリン、ポリフェニレンビニレンなどのアモ
ルファス導電性高分子なども適用可能である。なお、電
解質溶液を用いた場合、多孔質セラミックスやポリ(弗
化ビニリデン)などの有機多孔物質に含浸させることも
選択可能である。固体電解質の場合は、n型酸化物半導
体電極に含浸させるために、固体電解質のガラス転移温
度あるいは融点以上に加熱し、軟化あるいは溶融した固
体電解質とn型酸化物半導体電極を接触させ、必要に応
じて加圧することで良好な接合を実現することができ
る。
【0023】対向電極としては、白金や金、銀などの貴
金属材料のほか銅やアルミニウムなどの金属材料、さら
には先述のITOなどの透明導電性材料が選択可能であ
る。長年の使用でも特性が劣化しない安定性の面を考慮
すると貴金属材料がより望ましい。
金属材料のほか銅やアルミニウムなどの金属材料、さら
には先述のITOなどの透明導電性材料が選択可能であ
る。長年の使用でも特性が劣化しない安定性の面を考慮
すると貴金属材料がより望ましい。
【0024】上記のような材料を使用して本発明の光電
変換素子を作製する場合は、例えば次のような方法で行
う。
変換素子を作製する場合は、例えば次のような方法で行
う。
【0025】まず、ガラス基板上にフッ素をドープした
酸化スズなどの透明導電膜を形成し、その上に焼結途中
の粒成長を考慮して平均粒径が5〜50nmの範囲よりやや
小さい酸化チタンなどのn型酸化物半導体微粒子からな
るペーストをスキージ印刷法などで所望の厚さ塗布す
る。このペーストを乾燥後、必要に応じて雰囲気を調整
しながら500℃程度の温度で所定の時間熱処理を行う。
この工程1回で所望の厚さのn型酸化物半導体電極が形
成できない場合は、この工程を複数回行うことで所望の
厚さの電極を形成する。次に平均粒径がやはり焼結中の
粒成長を考慮して50〜200nmよりやや小さい酸化チタン
などのn型酸化物半導体微粒子からなるペーストを、先
ほどの5〜50nmの粒子からなる層の上にやはりスキージ
印刷法などで塗り重ね、乾燥後熱処理を行う。この結
果、透明導電体層上に平均粒径が5〜50nmの層を下に、5
0〜200nmの層が上になったn型酸化物半導体電極が形成
される。
酸化スズなどの透明導電膜を形成し、その上に焼結途中
の粒成長を考慮して平均粒径が5〜50nmの範囲よりやや
小さい酸化チタンなどのn型酸化物半導体微粒子からな
るペーストをスキージ印刷法などで所望の厚さ塗布す
る。このペーストを乾燥後、必要に応じて雰囲気を調整
しながら500℃程度の温度で所定の時間熱処理を行う。
この工程1回で所望の厚さのn型酸化物半導体電極が形
成できない場合は、この工程を複数回行うことで所望の
厚さの電極を形成する。次に平均粒径がやはり焼結中の
粒成長を考慮して50〜200nmよりやや小さい酸化チタン
などのn型酸化物半導体微粒子からなるペーストを、先
ほどの5〜50nmの粒子からなる層の上にやはりスキージ
印刷法などで塗り重ね、乾燥後熱処理を行う。この結
果、透明導電体層上に平均粒径が5〜50nmの層を下に、5
0〜200nmの層が上になったn型酸化物半導体電極が形成
される。
【0026】引き続きこのn型酸化物半導体電極を形成
したガラス基板を増感色素を溶解したアルコール溶液中
に浸漬して放置し、n型酸化物半導体電極上に増感色素
を吸着させる。その後基板を引き上げ乾燥させた後、対
向電極である白金などが形成された基板などと必要に応
じてスペーサーとなる粒子を介して間隔を制御しながら
対向して配置し、電解液を注入するための口を残して周
囲をエポキシ樹脂などで封止する。次に電荷輸送材料で
ある電解液を2枚の基板の間に充填して完全に封止し、
光電変換素子を作製する。
したガラス基板を増感色素を溶解したアルコール溶液中
に浸漬して放置し、n型酸化物半導体電極上に増感色素
を吸着させる。その後基板を引き上げ乾燥させた後、対
向電極である白金などが形成された基板などと必要に応
じてスペーサーとなる粒子を介して間隔を制御しながら
対向して配置し、電解液を注入するための口を残して周
囲をエポキシ樹脂などで封止する。次に電荷輸送材料で
ある電解液を2枚の基板の間に充填して完全に封止し、
光電変換素子を作製する。
【0027】さらに、上記で述べたような手法で作製さ
れた光電変換素子は、両側の基板において透明導電膜を
用いた場合、光透過性のある光電変換素子となる。これ
は従来のSi系光電変換素子においては容易に作製する
ことが困難であったもので、本発明の光電変換素子では
比較的容易に作製することができる特徴がある。その結
果、現在広く利用されている携帯電子機器の液晶部の上
に設置することで、液晶部の視認性をそれほど落とすこ
となく発電し、携帯機器の駆動電源の一部として使用す
ることが可能である。
れた光電変換素子は、両側の基板において透明導電膜を
用いた場合、光透過性のある光電変換素子となる。これ
は従来のSi系光電変換素子においては容易に作製する
ことが困難であったもので、本発明の光電変換素子では
比較的容易に作製することができる特徴がある。その結
果、現在広く利用されている携帯電子機器の液晶部の上
に設置することで、液晶部の視認性をそれほど落とすこ
となく発電し、携帯機器の駆動電源の一部として使用す
ることが可能である。
【0028】
【実施例】次に、具体的ではあるが限定的ではない実施
例を説明することによって本発明をより深く理解するこ
とができる。実施例は本発明の内容を理解するのを容易
にするために記述するもので、なんら本発明の範囲を制
約するものではない。
例を説明することによって本発明をより深く理解するこ
とができる。実施例は本発明の内容を理解するのを容易
にするために記述するもので、なんら本発明の範囲を制
約するものではない。
【0029】(実施例1)厚さ0.3mm、面積70cm2の硼珪
酸ガラス基板上にCVD法を用いて厚さ0.5μmのフッ
素をドープした酸化スズ(SnO2)透明導電膜を作製し
た。次にこの透明導電膜上に、ゾルゲル法から作製した
平均粒径が13nmの酸化チタンペーストをスキージ印刷法
により塗布した。ペーストを室温で乾燥後、ガラス基板
を450℃で30分熱処理を行い酸化チタンを焼結させ
た。焼結後の厚さを確認したところおよそ2.5μmであ
った。次に、平均粒径が60nmの酸化チタンペーストを先
ほど形成した酸化チタン層の上にさらにスキージ印刷法
により塗布し、500℃で1時間熱処理を行った。断面を
SEMにより観察したところ粒径が大きな層の厚さはお
よそ0.5μmであった。
酸ガラス基板上にCVD法を用いて厚さ0.5μmのフッ
素をドープした酸化スズ(SnO2)透明導電膜を作製し
た。次にこの透明導電膜上に、ゾルゲル法から作製した
平均粒径が13nmの酸化チタンペーストをスキージ印刷法
により塗布した。ペーストを室温で乾燥後、ガラス基板
を450℃で30分熱処理を行い酸化チタンを焼結させ
た。焼結後の厚さを確認したところおよそ2.5μmであ
った。次に、平均粒径が60nmの酸化チタンペーストを先
ほど形成した酸化チタン層の上にさらにスキージ印刷法
により塗布し、500℃で1時間熱処理を行った。断面を
SEMにより観察したところ粒径が大きな層の厚さはお
よそ0.5μmであった。
【0030】この酸化チタン電極層が形成されたガラス
基板を、図3に示す錯体色素を濃度0.8×10-4 mol/lで
エタノールに溶解した溶液中に浸漬し8時間放置して酸
化チタン電極表面に錯体色素を吸着させた。錯体色素が
吸着後に溶液から基板を引き上げ乾燥した。色素吸着量
を透過率から計算したところおよそ1.5×10-7mol/cm2で
あった。
基板を、図3に示す錯体色素を濃度0.8×10-4 mol/lで
エタノールに溶解した溶液中に浸漬し8時間放置して酸
化チタン電極表面に錯体色素を吸着させた。錯体色素が
吸着後に溶液から基板を引き上げ乾燥した。色素吸着量
を透過率から計算したところおよそ1.5×10-7mol/cm2で
あった。
【0031】対向電極としてやはりCVD法により0.5
μmのフッ素ドープ酸化スズ薄膜を前述の厚さ0.3mmの
ガラス基板上作製したものを、前述の酸化チタン電極を
形成したガラス基板にガラス製の直径23μmのスペーサ
ーを介して対向して配置し、周囲を電解液注入孔を一部
残してエポキシ樹脂により封止した。引き続き、注入孔
からよう化テトラプロピルアンモニウム0.5M,よう
化カリウム0.02M,ヨウ素0.03Mのアセトニトリ
ル/炭酸エチレン混合溶媒電解質溶液を注入した。注入
後、エポキシ樹脂を封孔して光電変換素子を作製した。
μmのフッ素ドープ酸化スズ薄膜を前述の厚さ0.3mmの
ガラス基板上作製したものを、前述の酸化チタン電極を
形成したガラス基板にガラス製の直径23μmのスペーサ
ーを介して対向して配置し、周囲を電解液注入孔を一部
残してエポキシ樹脂により封止した。引き続き、注入孔
からよう化テトラプロピルアンモニウム0.5M,よう
化カリウム0.02M,ヨウ素0.03Mのアセトニトリ
ル/炭酸エチレン混合溶媒電解質溶液を注入した。注入
後、エポキシ樹脂を封孔して光電変換素子を作製した。
【0032】この光電変換素子に疑似太陽光を照射強度
100mW/cm2で照射してそのエネルギー変換効率を測定し
たところおよそ2.5%であった。この光電変換素子を図4
(a)に示すように試作の携帯型PDA端末の液晶(面
積およそ70cm2)表面に配置し、端末の電源として使用
できるよう回路を接続し日中屋外にて使用を続けたとこ
ろ、この光電変換素子を設置しなかった端末に比べてお
よそ3割使用時間を延長することができ、小電力携帯端
末の発電用電源として有用であることが判明した。ここ
で、41は操作スイッチ、42は光増感型太陽電池の光
入力窓、43スピーカー等の情報出力部分である。図4
(b)は光増感型太陽電池の断面図、図4(c)はその重
要部分の拡大図である。
100mW/cm2で照射してそのエネルギー変換効率を測定し
たところおよそ2.5%であった。この光電変換素子を図4
(a)に示すように試作の携帯型PDA端末の液晶(面
積およそ70cm2)表面に配置し、端末の電源として使用
できるよう回路を接続し日中屋外にて使用を続けたとこ
ろ、この光電変換素子を設置しなかった端末に比べてお
よそ3割使用時間を延長することができ、小電力携帯端
末の発電用電源として有用であることが判明した。ここ
で、41は操作スイッチ、42は光増感型太陽電池の光
入力窓、43スピーカー等の情報出力部分である。図4
(b)は光増感型太陽電池の断面図、図4(c)はその重
要部分の拡大図である。
【0033】以上の様に実施例1は、透明導電体層およ
び前記透明導電体層上に形成されたn型酸化物半導体電
極、ならびにn型酸化物半導体電極上に吸着された色
素、色素と接する電荷輸送層、電荷輸送層と接する対向
電極からなる光電変換素子において、製造プロセスを精
密に制御し上記n型酸化物半導体微粒子の平均粒径が、
その層内部において透明導電体層側に比べて電荷輸送層
側の方が大きい構造を形成することで、従来に比べて光
吸収特性とイオンの拡散性を改良でき、光電変換効率を
高めるに成功した。また、光照射強度に対する出力特性
も改良することができるため、結果として低コストで高
信頼性をもつ光電変換素子を提供することが可能であ
る。
び前記透明導電体層上に形成されたn型酸化物半導体電
極、ならびにn型酸化物半導体電極上に吸着された色
素、色素と接する電荷輸送層、電荷輸送層と接する対向
電極からなる光電変換素子において、製造プロセスを精
密に制御し上記n型酸化物半導体微粒子の平均粒径が、
その層内部において透明導電体層側に比べて電荷輸送層
側の方が大きい構造を形成することで、従来に比べて光
吸収特性とイオンの拡散性を改良でき、光電変換効率を
高めるに成功した。また、光照射強度に対する出力特性
も改良することができるため、結果として低コストで高
信頼性をもつ光電変換素子を提供することが可能であ
る。
【0034】(実施例2)厚さ1.1mm、面積10cm2の硼珪
酸ガラス基板上に拡散防止層としてSiO2層を作製し、さ
らにその上にCVD法を用いて厚さ0.6μmのフッ素を
ドープした酸化スズ(SnO2)透明導電膜を作製した。次
にこの透明導電膜上に、ゾルゲル法から作製した平均粒
径が22nmの酸化チタンペーストをスキージ印刷法により
塗布した。ペーストを室温で乾燥後、ガラス基板を450
℃で30分熱処理を行い酸化チタンを焼結させた。焼結
後の酸化チタン層の厚さを確認したところおよそ3μm
であった。この酸化チタンペースト塗布から焼成までの
工程を複数回行い、厚さ10μmで平均粒径が25nmの酸化
チタン層を作製した。引き続き、平均粒径が150nmの酸
化チタンペーストを先ほど形成した酸化チタン層の上に
さらにスキージ印刷法により塗布し、500℃で1時間熱
処理を行った。断面をSEMにより観察したところ粒径
が大きな(平均粒径165nm)層の厚さはおよそ1.8μmで
あった。
酸ガラス基板上に拡散防止層としてSiO2層を作製し、さ
らにその上にCVD法を用いて厚さ0.6μmのフッ素を
ドープした酸化スズ(SnO2)透明導電膜を作製した。次
にこの透明導電膜上に、ゾルゲル法から作製した平均粒
径が22nmの酸化チタンペーストをスキージ印刷法により
塗布した。ペーストを室温で乾燥後、ガラス基板を450
℃で30分熱処理を行い酸化チタンを焼結させた。焼結
後の酸化チタン層の厚さを確認したところおよそ3μm
であった。この酸化チタンペースト塗布から焼成までの
工程を複数回行い、厚さ10μmで平均粒径が25nmの酸化
チタン層を作製した。引き続き、平均粒径が150nmの酸
化チタンペーストを先ほど形成した酸化チタン層の上に
さらにスキージ印刷法により塗布し、500℃で1時間熱
処理を行った。断面をSEMにより観察したところ粒径
が大きな(平均粒径165nm)層の厚さはおよそ1.8μmで
あった。
【0035】この酸化チタン電極層が形成されたガラス
基板を、図3に示す錯体色素を濃度3.2×10-4 mol/lで
エタノールに溶解した溶液中に浸漬し8時間放置して酸
化チタン電極表面に錯体色素を吸着させた。錯体色素が
吸着後に溶液から基板を引き上げ乾燥した。色素吸着量
を透過率から計算したところおよそ4.3×10-7mol/cm2で
あった。
基板を、図3に示す錯体色素を濃度3.2×10-4 mol/lで
エタノールに溶解した溶液中に浸漬し8時間放置して酸
化チタン電極表面に錯体色素を吸着させた。錯体色素が
吸着後に溶液から基板を引き上げ乾燥した。色素吸着量
を透過率から計算したところおよそ4.3×10-7mol/cm2で
あった。
【0036】対向電極として白金電極を形成した厚さ1.
1mmのガラス基板上作製したものを、前述の酸化チタン
電極を形成したガラス基板にガラス製の直径23μmのス
ペーサーを介して対向して配置し、周囲を電解液注入孔
を一部残してエポキシ樹脂により封止した。
1mmのガラス基板上作製したものを、前述の酸化チタン
電極を形成したガラス基板にガラス製の直径23μmのス
ペーサーを介して対向して配置し、周囲を電解液注入孔
を一部残してエポキシ樹脂により封止した。
【0037】引き続き、注入孔からよう化テトラプロピ
ルアンモニウム0.5M,よう化カリウム0.02M,ヨ
ウ素0.03Mのアセトニトリル/炭酸エチレン混合溶
媒電解質溶液を注入した。注入後、エポキシ樹脂を封孔
して光電変換素子を作製した。
ルアンモニウム0.5M,よう化カリウム0.02M,ヨ
ウ素0.03Mのアセトニトリル/炭酸エチレン混合溶
媒電解質溶液を注入した。注入後、エポキシ樹脂を封孔
して光電変換素子を作製した。
【0038】この光電変換素子に疑似太陽光を100mW/cm
2の強度までの種々の照射強度で照射し、出力を評価し
た結果を図5に示す。80mW/cm2まではほぼ照射強度が強
くなるとともに出力が向上することが判明した。
2の強度までの種々の照射強度で照射し、出力を評価し
た結果を図5に示す。80mW/cm2まではほぼ照射強度が強
くなるとともに出力が向上することが判明した。
【0039】(比較例)酸化チタン層をすべて粒径が22
nmの酸化チタン微粒子からなるペーストで作製した以外
はすべて実施例2と同様の方法で作製した光電変換素子
に実施例2と同様の方法で出力の照射強度依存性を調べ
た結果を図5に示した。実施例2の光電変換素子と比較
すると、同じ光照射強度においても出力が低く、また照
射強度50mW/cm2程度で出力が頭打ちになる傾向が認めら
れた。
nmの酸化チタン微粒子からなるペーストで作製した以外
はすべて実施例2と同様の方法で作製した光電変換素子
に実施例2と同様の方法で出力の照射強度依存性を調べ
た結果を図5に示した。実施例2の光電変換素子と比較
すると、同じ光照射強度においても出力が低く、また照
射強度50mW/cm2程度で出力が頭打ちになる傾向が認めら
れた。
【0040】
【発明の効果】本発明は、上記構成によって、錯体色素
でより多くの光吸収をさせるとともに電荷輸送層中の電
荷担体の拡散を容易にし、結果としてエネルギー変換効
率を高めることができる。
でより多くの光吸収をさせるとともに電荷輸送層中の電
荷担体の拡散を容易にし、結果としてエネルギー変換効
率を高めることができる。
【図1】 本発明に関わる光電変換素子の断面図であ
る。
る。
【図2】 本発明に関わる光電変換素子内部に形成され
たn型酸化物半導体電極の構造模式図
たn型酸化物半導体電極の構造模式図
【図3】 本発明の実施例1,2で用いた増感色素の構
造
造
【図4】 本発明の光電変換素子を使用して作製した携
帯機器とその内部構造の模式図
帯機器とその内部構造の模式図
【図5】 本発明の実施例2と比較例の光電変換素子の
出力の照射光強度依存性の比較図
出力の照射光強度依存性の比較図
1. 透光性基板(基板1) 2. n型酸化物半導体電極(表面に増感色素吸着) 3. 電解質 4. 透明導電膜 5. 対向電極 6. 対向基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米津 麻紀 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 早瀬 修二 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 Fターム(参考) 5F051 AA14 FA10 5H032 AA06 AS16 EE16 HH04
Claims (2)
- 【請求項1】透明導電体層及びこの透明導電体層上に形
成され微粒子を積層して形成されるn型酸化物半導体電
極と、このn型酸化物半導体電極上に吸着された色素
と、この色素と接する電荷輸送層と、この電荷輸送層と
接する対向電極とを具備する光電変換素子において、前
記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均粒径に比べて前
記電荷輸送層側の前記微粒子の平均粒径が大きいことを
特徴とする光電変換素子。 - 【請求項2】前記透明導電体層近傍の前記微粒子の平均
粒径が5〜50nmであり、且つ前記電荷輸送層近傍の前記
微粒子の平均粒径が30〜500nmであることを特徴とする
請求項1記載の光電変換素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27400099A JP2001093591A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27400099A JP2001093591A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光電変換素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001093591A true JP2001093591A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17535562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27400099A Pending JP2001093591A (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光電変換素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001093591A (ja) |
Cited By (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001257012A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および太陽電池 |
WO2001080346A1 (fr) * | 2000-04-12 | 2001-10-25 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Couche semi-conductrice, cellule solaire l'utilisant, procedes de production et applications correspondantes |
JP2002222968A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および光電気化学電池 |
JP2002352868A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002352869A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002352870A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002367686A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Aisin Seiki Co Ltd | 色素増感型太陽電池及びその製造方法 |
WO2003085774A1 (en) * | 2002-04-11 | 2003-10-16 | Sony Corporation | Sensitizing dye solar cell |
WO2005053082A1 (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-09 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | 色素増感型太陽電池 |
WO2006013830A1 (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | 光電極、およびそれを用いた色素増感太陽電池、色素増感太陽電池モジュール |
JP2006086056A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Kyoto Univ | 色素増感太陽電池 |
US7159229B2 (en) | 2003-04-11 | 2007-01-02 | Sony Corporation | Disk cartridge |
WO2007026927A1 (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-08 | Kyocera Corporation | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
WO2007043533A1 (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Kyocera Corporation | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
US7222351B2 (en) | 2003-04-04 | 2007-05-22 | Sony Corporation | Shutter closing mechanism and disc driving apparatus |
JP2007141764A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Kyocera Corp | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
WO2007083461A1 (ja) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
WO2007100095A1 (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Organization | 色素増感型太陽電池用光電極の製造方法および色素増感型太陽電池用光電極、並びに色素増感型太陽電池 |
US7313800B2 (en) | 2003-04-18 | 2007-12-25 | Sony Corporation | Disk centering system |
JP2008204956A (ja) * | 2008-03-26 | 2008-09-04 | Sony Corp | 色素増感太陽電池 |
US7422922B2 (en) | 2003-01-08 | 2008-09-09 | Sony Corporation | Photoelectric conversion element and process for fabricating the same, electronic device and process for fabricating the same |
JP2009009740A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Kyushu Institute Of Technology | 色素増感太陽電池 |
WO2009154314A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-23 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用基板および色素増感型太陽電池用酸化物半導体電極 |
JP2010028068A (ja) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用導電膜付ガラス基板 |
EP2151884A1 (en) * | 2007-05-30 | 2010-02-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate and solar battery using the laminate |
JP2010033915A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Gunze Ltd | 色素増感太陽電池及び色素増感太陽電池の製造方法 |
JP2010073551A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 色素増感型太陽電池用基板および色素増感型太陽電池用酸化物半導体電極 |
WO2010044445A1 (ja) | 2008-10-17 | 2010-04-22 | シャープ株式会社 | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
WO2010050575A1 (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-06 | 富士フイルム株式会社 | 色素、これを用いた光電変換素子、光電気化学電池、および色素の製造方法 |
US7820471B2 (en) | 2003-01-30 | 2010-10-26 | Sony Corporation | Photoelectric conversion element and process for fabricating the same, electronic apparatus and process for fabricating the same, and semiconductor layer and process for forming the same |
JP2010272530A (ja) * | 2010-07-12 | 2010-12-02 | Fujifilm Corp | 光電変換素子の製造方法、光電変換素子及び光電気化学電池 |
WO2010147393A2 (en) * | 2009-06-16 | 2010-12-23 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
KR101017805B1 (ko) | 2008-12-17 | 2011-02-28 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 염료 감응형 태양전지 및 그 제조방법 |
EP2302650A2 (en) | 2009-09-28 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of producing photoelectric conversion element, photoelectric conversion element, and photoelectrochemical cell |
EP2306479A2 (en) | 2009-09-28 | 2011-04-06 | Fujifilm Corporation | Method of producing photoelectric conversion element, photoelectric conversion element, and photoelectrochemical cell |
KR101028192B1 (ko) | 2009-06-16 | 2011-04-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
WO2010147392A3 (en) * | 2009-06-16 | 2011-04-14 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
WO2011118581A1 (ja) | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子の製造方法、光電変換素子及び光電気化学電池 |
JP2012053983A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-03-15 | Fujifilm Corp | 光電変換素子及び光電気化学電池 |
CN102522207A (zh) * | 2011-12-06 | 2012-06-27 | 东华大学 | 一种染料敏化太阳能电池散射层的制备方法 |
KR101172361B1 (ko) | 2010-08-31 | 2012-08-08 | 인제대학교 산학협력단 | 염료감응 태양전지용 광전극의 제조방법 |
WO2012132855A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子及び光電気化学電池 |
WO2013077626A1 (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-30 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
US8563854B2 (en) | 2002-08-23 | 2013-10-22 | Sony Corporation | Dye-sensitized photoelectric conversion apparatus and manufacturing method thereof |
WO2014129575A1 (ja) | 2013-02-22 | 2014-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、光電変換素子の製造方法および色素増感太陽電池 |
US8871348B2 (en) | 2009-07-24 | 2014-10-28 | Nippon Electric Glass Co. Ltd. | Glass substrate with conductive film for solar cell |
US20140345678A1 (en) * | 2011-12-22 | 2014-11-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion element |
JP2016531443A (ja) * | 2013-08-23 | 2016-10-06 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. | 溶液から析出可能な長期安定型光起電力素子及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-09-28 JP JP27400099A patent/JP2001093591A/ja active Pending
Cited By (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001257012A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および太陽電池 |
WO2001080346A1 (fr) * | 2000-04-12 | 2001-10-25 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Couche semi-conductrice, cellule solaire l'utilisant, procedes de production et applications correspondantes |
JP2001357899A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-12-26 | Hayashibara Biochem Lab Inc | 半導体層、これを用いる太陽電池、及びそれらの製造方法並びに用途 |
JP2002222968A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光電変換素子および光電気化学電池 |
JP2002352868A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002352869A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002352870A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光電極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 |
JP2002367686A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Aisin Seiki Co Ltd | 色素増感型太陽電池及びその製造方法 |
KR101027083B1 (ko) * | 2002-04-11 | 2011-04-05 | 소니 주식회사 | 색소증감 태양전지 |
US7312507B2 (en) | 2002-04-11 | 2007-12-25 | Sony Corporation | Sensitizing dye solar cell |
US7332782B2 (en) | 2002-04-11 | 2008-02-19 | Sony Corporation | Dye-sensitized solar cell |
WO2003085774A1 (en) * | 2002-04-11 | 2003-10-16 | Sony Corporation | Sensitizing dye solar cell |
US7332785B2 (en) | 2002-04-11 | 2008-02-19 | Sony Corporation | Dye-sensitized solar cell |
US8563854B2 (en) | 2002-08-23 | 2013-10-22 | Sony Corporation | Dye-sensitized photoelectric conversion apparatus and manufacturing method thereof |
US7422922B2 (en) | 2003-01-08 | 2008-09-09 | Sony Corporation | Photoelectric conversion element and process for fabricating the same, electronic device and process for fabricating the same |
US7820471B2 (en) | 2003-01-30 | 2010-10-26 | Sony Corporation | Photoelectric conversion element and process for fabricating the same, electronic apparatus and process for fabricating the same, and semiconductor layer and process for forming the same |
US7222351B2 (en) | 2003-04-04 | 2007-05-22 | Sony Corporation | Shutter closing mechanism and disc driving apparatus |
US7159229B2 (en) | 2003-04-11 | 2007-01-02 | Sony Corporation | Disk cartridge |
US7313800B2 (en) | 2003-04-18 | 2007-12-25 | Sony Corporation | Disk centering system |
AU2004310584C1 (en) * | 2003-11-28 | 2009-10-08 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Dye-sensitized solar cell |
WO2005053082A1 (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-09 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | 色素増感型太陽電池 |
AU2004310584B2 (en) * | 2003-11-28 | 2007-11-29 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Dye-sensitized solar cell |
WO2006013830A1 (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | 光電極、およびそれを用いた色素増感太陽電池、色素増感太陽電池モジュール |
US8581095B2 (en) | 2004-08-04 | 2013-11-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photoelectrode, and dye-sensitized solar cell and dye-sensitized solar cell module using the same |
JP2006086056A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Kyoto Univ | 色素増感太陽電池 |
JP4856079B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2012-01-18 | 京セラ株式会社 | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
WO2007026927A1 (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-08 | Kyocera Corporation | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
WO2007043533A1 (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Kyocera Corporation | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
JP4856089B2 (ja) * | 2005-10-11 | 2012-01-18 | 京セラ株式会社 | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
JP2007141764A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Kyocera Corp | 光電変換装置及びその製造方法並びに光発電装置 |
JP2007194039A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Sharp Corp | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
WO2007083461A1 (ja) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
US10366842B2 (en) | 2006-01-18 | 2019-07-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Dye-sensitized solar cell and method for manufacturing thereof |
WO2007100095A1 (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Organization | 色素増感型太陽電池用光電極の製造方法および色素増感型太陽電池用光電極、並びに色素増感型太陽電池 |
EP2151884A1 (en) * | 2007-05-30 | 2010-02-10 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Laminate and solar battery using the laminate |
EP2151884A4 (en) * | 2007-05-30 | 2014-04-16 | Nippon Electric Glass Co | LAMINATE AND SUNBATTERY WITH LAMINATE |
JP2009009740A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Kyushu Institute Of Technology | 色素増感太陽電池 |
JP2008204956A (ja) * | 2008-03-26 | 2008-09-04 | Sony Corp | 色素増感太陽電池 |
JP2010028068A (ja) * | 2008-06-17 | 2010-02-04 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 太陽電池用導電膜付ガラス基板 |
WO2009154314A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-23 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用基板および色素増感型太陽電池用酸化物半導体電極 |
JP2010033915A (ja) * | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Gunze Ltd | 色素増感太陽電池及び色素増感太陽電池の製造方法 |
JP2010073551A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 色素増感型太陽電池用基板および色素増感型太陽電池用酸化物半導体電極 |
WO2010044445A1 (ja) | 2008-10-17 | 2010-04-22 | シャープ株式会社 | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
WO2010050575A1 (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-06 | 富士フイルム株式会社 | 色素、これを用いた光電変換素子、光電気化学電池、および色素の製造方法 |
EP2845882A2 (en) | 2008-10-29 | 2015-03-11 | Fujifilm Corporation | Dye, Photoelectric Conversion Element and Photoelectrochemical Cell |
KR101017805B1 (ko) | 2008-12-17 | 2011-02-28 | 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 염료 감응형 태양전지 및 그 제조방법 |
CN102460717A (zh) * | 2009-06-16 | 2012-05-16 | Lg伊诺特有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
KR101028192B1 (ko) | 2009-06-16 | 2011-04-11 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
WO2010147393A3 (en) * | 2009-06-16 | 2011-03-31 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
KR101081194B1 (ko) * | 2009-06-16 | 2011-11-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지의 제조장치, 이를 이용한 태양전지의 제조방법 |
WO2010147393A2 (en) * | 2009-06-16 | 2010-12-23 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
WO2010147392A3 (en) * | 2009-06-16 | 2011-04-14 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
US8871348B2 (en) | 2009-07-24 | 2014-10-28 | Nippon Electric Glass Co. Ltd. | Glass substrate with conductive film for solar cell |
EP2302650A2 (en) | 2009-09-28 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of producing photoelectric conversion element, photoelectric conversion element, and photoelectrochemical cell |
EP2306479A2 (en) | 2009-09-28 | 2011-04-06 | Fujifilm Corporation | Method of producing photoelectric conversion element, photoelectric conversion element, and photoelectrochemical cell |
WO2011118581A1 (ja) | 2010-03-24 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子の製造方法、光電変換素子及び光電気化学電池 |
JP2010272530A (ja) * | 2010-07-12 | 2010-12-02 | Fujifilm Corp | 光電変換素子の製造方法、光電変換素子及び光電気化学電池 |
JP2012053983A (ja) * | 2010-08-03 | 2012-03-15 | Fujifilm Corp | 光電変換素子及び光電気化学電池 |
KR101172361B1 (ko) | 2010-08-31 | 2012-08-08 | 인제대학교 산학협력단 | 염료감응 태양전지용 광전극의 제조방법 |
WO2012132855A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子及び光電気化学電池 |
WO2013077626A1 (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-30 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
CN104067398A (zh) * | 2011-11-21 | 2014-09-24 | Lg伊诺特有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
KR101306529B1 (ko) | 2011-11-21 | 2013-09-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
CN104067398B (zh) * | 2011-11-21 | 2016-08-24 | Lg伊诺特有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
US9773929B2 (en) | 2011-11-21 | 2017-09-26 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
CN102522207A (zh) * | 2011-12-06 | 2012-06-27 | 东华大学 | 一种染料敏化太阳能电池散射层的制备方法 |
US20140345678A1 (en) * | 2011-12-22 | 2014-11-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion element |
US9330853B2 (en) * | 2011-12-22 | 2016-05-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion element |
WO2014129575A1 (ja) | 2013-02-22 | 2014-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 光電変換素子、光電変換素子の製造方法および色素増感太陽電池 |
JP2016531443A (ja) * | 2013-08-23 | 2016-10-06 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. | 溶液から析出可能な長期安定型光起電力素子及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001093591A (ja) | 光電変換素子 | |
EP1562205B1 (en) | Method of manufacturing a dye-sensitized solar cell | |
US20040248394A1 (en) | Organic dye-sensitized metal oxide semiconductor electrode and its manufacturing method, and organic dye-sensitized solar cell | |
EP2439779B1 (en) | Transparent Electrode Comprising Doped Graphene, Process of Preparing the Same, and Display Device and Solar Cell Comprising the Electrode | |
EP1562206A2 (en) | Dye-sensitized solar cell having enlarged wavelength range for light absorption and method of fabricating same | |
US20100294350A1 (en) | Photo-electrode comprising conductive non-metal film, and dye-sensitized solar cell comprising the same | |
WO2008004553A1 (en) | Dye-sensitized solar cell module and method for fabricating same | |
KR20050115406A (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
JP3544888B2 (ja) | 光増感型太陽光発電セル | |
JP3777289B2 (ja) | 色素増感型太陽電池および色素増感型太陽電池の製造方法 | |
JP2000285974A (ja) | 光増感型太陽光発電素子 | |
Chen et al. | Multilayer Cascade Charge Transport Layer for High‐Performance Inverted Mesoscopic All‐Inorganic and Hybrid Wide‐Bandgap Perovskite Solar Cells | |
Hu et al. | Transparent conductive oxide layer and hole selective layer free back-contacted hybrid perovskite solar cell | |
JP3505400B2 (ja) | 光化学電池およびその製造方法 | |
JP4777592B2 (ja) | 対極及びこれを備えた色素増感型太陽電池 | |
JP4601285B2 (ja) | 色素増感型太陽電池用電極基板及びその製造方法並びに色素増感型太陽電池 | |
JP2005158379A (ja) | 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法 | |
JP4678125B2 (ja) | 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法 | |
JP2002299665A (ja) | 色素増感型太陽電池の製造方法 | |
JP2007115514A (ja) | 色素増感太陽電池の作用極及びそれを備えた色素増感太陽電池並びに色素増感太陽電池の作用極の製造方法 | |
JP2002314108A (ja) | 太陽電池 | |
JP2003187883A (ja) | 光電変換素子 | |
JP2002151168A (ja) | 色素増感型太陽電池 | |
JP2003123858A (ja) | 有機色素増感型金属酸化物半導体電極及びこの半導体電極を有する太陽電池 | |
JP4008727B2 (ja) | 色素増感型太陽電池 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050414 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050606 |