JP2001051417A5

JP2001051417A5 -

Info

Publication number: JP2001051417A5
Application number: JP1999227792A
Authority: JP
Filing date: 1999-08-11
Publication date: 2005-07-07
Anticipated expiration: 2019-08-11

Claims

アルカリ可溶性樹脂、感放射線性酸発生剤及び酸により架橋する架橋剤を含有する化学増幅系ネガ型レジスト組成物において、酸により架橋する架橋剤は、分子内にベンゼン環原子団を３〜５個含むフェノール誘導体であり、分子量は１２００以下、ヒドロキシメチル基及び／又はアルコキシメチル基を分子内全体で２個以上有し、それを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合していることを特徴とする電子線用及び／又はＸ線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。
感放射線性酸発生剤が、下記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＩＩ）のうちのいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の電子線用及び／又はＸ線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物。

〔一般式（Ｉ）〜(III)において、Ｒ₁〜Ｒ₃₇は、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は−Ｓ−Ｒ₃₈で示せる基を表す。−Ｓ−Ｒ₃₈中のＲ₃₈は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₃₈は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ₁〜Ｒ₁₅の場合、その中から選択される二つ以上は互いに直接末端で結合しあい、あるいは酸素、イオウ及び窒素から選ばれる元素を介して結合しあって環構造を形成していてもよい。Ｒ₁₆〜Ｒ₂₇の場合も、同じように環構造を形成していてもよい。Ｒ₂₈〜Ｒ₃₇の場合も、同じように環構造を形成していてもよい。
Ｘ^-は酸のアニオンである。アニオンを形成している酸は、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、又はアントラセンスルホン酸の中から選択される酸である。それらの酸にはフッ素原子が置換している。又はその酸は、アルキル基、アルコキシル基、アシル基、アシロキシル基、スルホニル基、スルホニルオキシ基、スルホニルアミノ基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基からなる群から選択された少なくとも１種の有機基を有し、しかも、その有機基は少なくとも１個のフッ素原子を更に置換している。〕
請求項１または２に記載の電子線用及び／又はＸ線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。