JP2004101819A5

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Publication number: JP2004101819A5
Application number: JP2002262880A
Authority: JP
Filing date: 2002-09-09
Publication date: 2005-09-22
Anticipated expiration: 2022-09-09

Claims

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）電子線又はＥＵＶの照射により酸を発生する化合物、及び、
（Ｃ）一般式（Ｉ）〜（III）のいずれかで表される基を有する化合物を少なくとも１種含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、又は、オリゴアルキレンオキシ基を表す。但し、Ｒ³〜Ｒ⁵又はＲ⁶〜Ｒ¹⁰が、同時に水素原子となることはない。
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）電子線又はＥＵＶの照射により酸を発生する化合物、及び、
（Ｃ'）一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）のいずれかで表される基を有する化合物を少なくとも１種含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、又は、オリゴアルキレンオキシ基を表す。但し、Ｒ³〜Ｒ⁵又はＲ⁶〜Ｒ¹⁰が、同時に水素原子となることはない。Ｒは酸解離性基である。
（Ａ）成分の樹脂が、一般式（ａ）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のネガ型レジスト組成物。

式中、Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、オキシアルキル基、又はハロアルキル基を表す。ｘは０〜３の整数を表す。Ｒ₂は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、又はアシル基を表す。Ｒ₂が複数存在するとき、複数のＲ₂は同じでも異なっていてもよい。Ｒ₃は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ₃が複数存在するとき、複数のＲ₃は同じでも異なっていてもよい。また複数のＲ₂のうちの二つ、複数のＲ₃のうちの二つ、又はＲ₂とＲ₃は、結合して環を形成しても良い。Ａ₁は単結合、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、もしくはアリーレン基、又は−Ｏ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ₅−、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ₆−、又は−ＣＯ−Ｎ（Ｒ₇）−Ｒ₈−を表す。Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₈は、同じでも異なっていても良く、単結合、又はエーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基もしくはウレイド基を有しても良い、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｒ₇は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、又はアリール基を表す。
（Ｂ）成分の酸発生剤が、下記一般式（Ｉ）〜（III）で表わされる化合物のうち少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。

〔一般式（Ｉ）〜(III)において、Ｒ₁〜Ｒ₃₇は、水素原子、アルキル基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、又は−Ｓ−Ｒ₃₈で示せる基を表す。−Ｓ−Ｒ₃₈中のＲ₃₈は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₃₈は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ₁〜Ｒ₁₅の場合、その中から選択される二つ以上は互いに直接末端で結合しあい、あるいは酸素、イオウ及び窒素から選ばれる元素を介して結合しあって環構造を形成していてもよい。Ｒ₁₆〜Ｒ₂₇の場合も、同じように環構造を形成していてもよい。Ｒ₂₈〜Ｒ₃₇の場合も、同じように環構造を形成していてもよい。
Ｘ^-は酸のアニオンである。アニオンを形成している酸は、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、又はアントラセンスルホン酸の中から選択される酸である。又はその酸は、アルキル基、アルコキシル基、アシル基、アシロキシル基、スルホニル基、スルホニルオキシ基、スルホニルアミノ基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基からなる群から選択された少なくとも１種の有機基を有する。〕
更に、架橋剤として酸により架橋する架橋剤が分子内にベンゼン環原子団を３〜５個含み、ヒドロキシメチル基及び／又はアルコキシメチル基をそのベンゼン環原子団に２個以上有するフェノール誘導体を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
請求項１〜５のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。