JP2000143730A - 不飽和ポリアルキルピペリジンを重合する方法 - Google Patents

不飽和ポリアルキルピペリジンを重合する方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 不飽和ポリアルキルピペリジンを重合する方
法を提供する。 【解決手段】 メタロセン触媒の方法によりポリアルキ
ルピペリジン型のエチレン系不飽和立体障害性アミン
（ＨＡＬＳ）を重合する方法、それにより得られた新規
ポリマーおよび新規不飽和ＨＡＬＳについて記載されて
いる。光、酸素および／または熱の損傷の影響に対して
有機材料を安定化するために新規モノマー性もしくはコ
ポリマー性化合物を有利に使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メタロセン触媒の
存在下で立体障害性アミン単位を含むポリマーを製造す
る方法；そのようなポリマー；ポリアルキルピペリジン
型の新規エチレン系不飽和立体障害性アミン；本発明の
モノマーもしくはポリマーの添加により安定化された有
機材料ならびに新規化合物の対応する用途に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】光、酸素または熱の損傷作用に対する有
機ポリマーの安定性は、しばしば安定剤としての立体障
害性アミンの添加により改良される。また、個々のポリ
マー性立体障害性アミンまたはある種の立体障害性アミ
ン（ＨＡＬＳ）単位を含むコポリマーも提案されてお
り：（US-5541274, US-4210612, US-4413096, US-42949
49, US-4499220, US-5047489）；この場合、フリーラジ
カル開始剤であるアゾ化合物もしくは過酸化物の添加に
よりＨＡＬＳモノマーの重合が開始されるか、または反
応により続いてＨＡＬＳ単位はポリマーに結合する。C.
-E. Wilen 等, J. Polym. Sc.(A), Polym. Chem. 30, 1
163 (1992)；および G. Bertolini 等, J. Polym. Sc.
(A), Polym. Chem. 32, 961 (1994) には、チグラー−
ナッタ型のある種の触媒の存在下で不飽和ＨＡＬＳとプ
ロピレンとを共重合することが記載されている。
【０００３】EP-B-94915, EP-A-611772, EP-A-611773
および W. Kaminsky 等, J. Organomet. Chem. 497, 1
81 (1995) に、ある種の重合に関してメタロセン触媒の
幾つかを使用することが記載されている。 US-A-570314
9 には、メタロセン触媒によるエチレン重合に関して、
重合反応の開始直後に立体障害性アミン類からの安定剤
を添加することが記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、今
や、立体障害性アミンを結合状態で含むポリマーであっ
て、そして特に光、酸素および／または熱による損傷の
影響に対する有機材料の安定剤として、もしくは自己安
定化ＨＡＬＳ含有コポリマーとして使用する場合に特に
有利な性質を持つために注目に値するポリマーを得るた
めにメタロセン触媒を使用することも可能であることが
発見された。
【０００５】
【課題を解決するための手段】従って第一に本発明は、
メタロセン型触媒の存在下で重合が行われることからな
るエチレン系不飽和立体障害性アミンの付加重合または
エチレン系不飽和立体障害性アミンおよび他のエチレン
系不飽和モノマーの一種もしくはそれより多くとの付加
重合によるポリマーまたはコポリマーの製造方法を提供
する。
【０００６】
【発明の実施の形態】メタロセン型触媒の存在下におけ
る重合は挿入重合 (insertion polymerization) にも関
連し、それはしばしばカチオン重合を包括する。
【０００７】エチレン系不飽和立体障害性アミンは炭素
−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ）を含み、そして好ましくは例
えば少なくとも一個の次式Ｉ
【化１３】 （式中、ＲおよびＲ’は水素原子、炭素原子数１ないし
１２のアルキル基または炭素原子数５ないし１２のシク
ロアルキル基を表すか、あるいは隣接した基Ｒは結合し
ている炭素原子と一緒になってシクロペンチル環または
シクロヘキシル環を形成し、そしてＲおよびＲ’の一つ
はまた炭素原子数２ないし１２のアルケニル基または炭
素原子数５ないし８のシクロアルケニル−もしくは炭素
原子数６ないし９のビシクロアルケニル−置換炭素原子
数１ないし８のアルキル基を表すことができるか、ある
いはＲ’は４位における結合の一つと一緒になって環構
造内のエチレン系二重結合を形成することができ、基Ｒ
は好ましくは水素原子もしくはメチル基または炭素原子
数２ないし１２のアルケニル基、特に水素原子または炭
素原子数２ないし１２のアルケニル基を表し、そして
Ｒ’は好ましくは水素原子を表す。）で表される基を含
む２，２，６，６−四置換ピペリジン類からのものであ
る。Ｒ’が４位における結合の一つと一緒になって環構
造内のエチレン系二重結合を形成する場合、エチレン系
不飽和立体障害性アミンは基Ｉ’
【化１４】 を含む。
【０００８】上記化合物は、しばしば次式Ｉａ
【化１５】 （式中、ｎは１または２、特に１であり；Ｒ1 、Ｒ2 お
よびＲ3 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す
か；またはＲ 2 およびＲ3 は一緒になって炭素原子数４
ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ4 およびＲ17は水
素原子を表すか、またはＲ4 はＲ17と一緒になって化学
結合を表し、そしてｎ＝１である場合、Ｒ5 は水素原
子、ＯＨ、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素
原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、炭素原子数
３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、シクロヘキセニル基、アクリロイ
ルオキシ基、アクリロイルアミド基、フェニレン−もし
くはシクロヘキシレン−中断炭素原子数１ないし１８の
アルキル基もしくは炭素原子数３ないし１２のアルケニ
ル基を表すか、または式−Ｘ−（ＣＯ）i−Ｒ8 もしく
は式−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ18）（Ｒ19）（Ｒ20）で表される基
を表すか、あるいはＲ17は水素原子を表す場合には、Ｒ
4 およびＲ5 は一緒になって＝Ｏを表し；指数ｉは０ま
たは１であり；そしてｎ＝２である場合、Ｒ5 は式−Ｘ
−ＣＯ−Ｒ10−ＣＯ−Ｘで表される基を表し；Ｒ6 は水
素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原
子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子数７ないし１
１のフェニルアルキル基またはフェニル環上で炭素原子
数１ないし１２のアルキル基および／もしくはＯＨによ
り置換された炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキ
ル基を表し；Ｒ7 は炭素原子数３ないし１２のアルケニ
ル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す
か；あるいはＲ7 およびＲ1 は一緒になって炭素原子数
４ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ8 は炭素原子数
１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２の
アルケニル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアル
キル基、炭素原子数８ないし１５のフェニルアルケニル
基、フェニル部分で炭素原子数１ないし４のアルキル基
もしくは炭素原子数２ないし４のアルケニル基もしくは
炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換された
炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表す
か、あるいはフェニル基、または炭素原子数１ないし４
のアルキル−もしくは炭素原子数２ないし４のアルケニ
ル−もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ−置換
フェニル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基を表し；Ｒ10は直接結合、炭素原子数１ないし１２
のアルキレン基または炭素原子数２ないし１２のアルケ
ニレン基あるいはフェニル−またはナフチル−置換炭素
原子数２ないし１２のアルケニレン基を表し；Ｒ18およ
びＲ19は互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキ
ル基、特にメチル基を表し；Ｒ20は炭素原子を１ないし
１８個含む炭化水素基を表し；Ｘは−ＮＨ−、−ＮＲ9
−または−Ｏ−を表す。）で表される化合物（ただし式
Ｉａで表される化合物はエチレン系二重結合を含む。）
を含む。
【０００９】次式Ｉｂ
【化１６】 （式中、ｎは１または２、特に１であり；Ｒ1 、Ｒ2 お
よびＲ3 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す
か；またはＲ 2 およびＲ3 は一緒になって炭素原子数４
ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ4 は水素原子を表
し、そしてｎ＝１である場合、Ｒ5 は水素原子、炭素原
子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルケニル−もしくは炭素原子数６ないし９
のビシクロアルケニル−置換炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド
基を表すか、または式−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ8 で表され
る基を表すか、あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒になって
＝Ｏを表し；指数ｉは０または１であり；そしてｎ＝２
である場合、Ｒ5 は式−Ｘ−（ＣＯ）j −Ｒ10−（Ｃ
Ｏ）j −Ｘ（指数ｊは０または１、特に０である。）で
表される基を表し；Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ない
し１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケ
ニル基またはフェニル−、炭素原子数５ないし８のシク
ロアルケニル−もしくは炭素原子数６ないし９のビシク
ロアルケニル−置換炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表し；Ｒ7 は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素
原子数５ないし８のシクロアルケニル−もしくは炭素原
子数６ないし９のビシクロアルケニル−置換炭素原子数
１ないし８のアルキル基を表すか；あるいはＲ7 はＲ1
と一緒になって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基
を表し；Ｒ8 は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数７
ないし１５のフェニルアルキル基、炭素原子数８ないし
１５のフェニルアルケニル基、またはフェニル部分で炭
素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基により置換された炭素原子数７
ないし１５のフェニルアルキル基を表すか、あるいはフ
ェニル基、または炭素原子数１ないし４のアルキル−も
しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ−置換フェニ
ル基を表すか；あるいはシクロヘキシル基を表すか；ま
たは炭素原子数５ないし８のシクロアルケニル基もしく
は炭素原子数６ないし９のビシクロアルケニル基により
置換された炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；
Ｒ9 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基または炭素
原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ10は
直接結合、炭素原子数１ないし１２のアルキレン基また
は炭素原子数２ないし１２のアルケニレン基あるいはフ
ェニル−またはナフチル−置換炭素原子数２ないし１２
のアルケニレン基を表すか；あるいは−Ｘ−Ｒ8 −置換
１，３，５−トリアジン基を表し；Ｘは−ＮＨ−、−Ｎ
Ｒ9 −または−Ｏ−を表す。）で表される化合物（ただ
し式Ｉｂで表される化合物はエチレン系二重結合を含
む。）が好ましい。
【００１０】式ＩａまたはＩｂ（式中、ｎは１または
２、特に１であり；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表すか；またはＲ 2 およびＲ
3 は一緒になって炭素原子数４ないし１１のアルキレン
基を表し；Ｒ4 は水素原子を表し、そしてｎ＝１である
場合、Ｒ5 は水素原子、炭素原子数３ないし１２のアル
ケニル基または式−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ8 で表される基
を表すか、あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒になって＝Ｏ
を表し；指数ｉは０または１であり；そしてｎ＝２であ
る場合、Ｒ5 は式−Ｘ−ＣＯ−Ｒ10−ＣＯ−Ｘで表され
る基を表し；Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
を表し；Ｒ7 は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；
あるいはＲ7 はＲ1 と一緒になって炭素原子数４ないし
１１のアルキレン基を表し；Ｒ8 は炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニ
ル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、
炭素原子数８ないし１５のフェニルアルケニル基、また
はフェニル部分で炭素原子数１ないし４のアルキル基も
しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換
された炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を
表すか、あるいはフェニル基、または炭素原子数１ない
し４のアルキル−もしくは炭素原子数１ないし４のアル
コキシ−置換フェニル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数１な
いし１２のアルキル基または炭素原子数５ないし１２の
シクロアルキル基を表し；Ｒ10は直接結合、炭素原子数
１ないし１２のアルキレン基または炭素原子数２ないし
１２のアルケニレン基あるいはフェニル−またはナフチ
ル−置換炭素原子数２ないし１２のアルケニレン基を表
し；Ｘは−ＮＨ−、−ＮＲ9 −または−Ｏ−を表す。）
で表される前記化合物（ただし式ＩａまたはＩｂで表さ
れる化合物はエチレン系不飽和基を含む。）が特に好ま
しい。
【００１１】式Ｉａで表される好ましい化合物におい
て、ｎ＝１である場合、Ｒ5 は炭素原子数３ないし１２
のアルケニル基または式−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ8 で表さ
れる基を表し、指数ｉは０または１であるか、あるいは
Ｒ4 およびＲ5 は一緒になって＝Ｏを表す。Ｘは好まし
くは−ＮＨ−または−ＮＲ9 −を表す。
【００１２】エチレン系不飽和基は、非芳香族炭素−炭
素二重結合を有するものを意味すると理解されたい。上
記立体障害性アミンは、好ましくはピペリジン環にエチ
レン系不飽和基が結合している形状で、ピペリジン環の
一部としてではなくエチレン系二重結合を含む。より好
ましくは、上記立体障害性アミンは末端位に、特にピペ
リジン窒素原子から炭素原子２個もしくはそれより多く
の距離で結合したエチレン系不飽和基、例えばビニル基
を含む。最も好ましくは、上記立体障害性アミンは単エ
チレン系不飽和基を一つだけ有する。
【００１３】活性窒素原子、例えばピペリジン環内の窒
素原子を除いて、更なるヘテロ原子を含まない不飽和立
体障害性アミンも好ましい。式ＩａまたはＩｂで表され
る好ましい化合物において、ｎが１の場合、Ｒ6 または
Ｒ7 あるいは存在する場合、Ｒ’7 はエチレン系不飽和
基を形成し、そしてｎが１または２の場合、Ｒ5 はエチ
レン系不飽和基を含む。
【００１４】上述の定義に関連して、芳香族基またはア
リール基は好ましくはフェニル基、ナフチル基またはよ
り高溶融性な環系であり、例えばハロゲン原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基の１ないし３個により置換され得るも
のである。炭化水素基Ｒ20は例えば炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニ
ル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、
炭素原子数７ないし１８のシクロアルキルアルキル基、
炭素原子数７ないし１８のシクロアルケニルアルキル
基、炭素原子数７ないし１８のビシクロアルキルアルキ
ル基、または炭素原子数７ないし１８のビシクロアルケ
ニルアルキル基である。
【００１５】本発明に関連して使用される他のエチレン
系不飽和モノマーは好ましくは次式ＩＩ
【化１７】 （式中、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原
子；−Ｃｌ；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；フ
ェニル基；−Ｃｌ、炭素原子数１ないし４のアルキル基
および／または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基に
より１ないし３回置換されたフェニル基を表すか、ある
いは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表
し；そしてＲ14はＲ11、Ｒ12またはＲ13に関して定義さ
れた通りであるか、あるいは−ＣＮ；炭素原子数１ない
し１２のアルキルオキシカルボニル基；炭素原子数１な
いし１２のアルカノイルオキシ基；または炭素原子数１
ないし１２のアルコキシ基を表す。）で表されるもので
ある。
【００１６】存在する場合、本発明に従って得られた製
造物中に式ＩＩで表されるコモノマーはしばしばモル分
率０ないし９９．９モル％、例えば０ないし５０モル％
の繰り返し単位を形成し；（コ）ポリマーに対して０な
いし９９．９重量％の量で式ＩＩで表されるコモノマー
は都合良く混入される。式ＩＩで表されるコモノマーの
添加なして得られるホモポリマーは安定剤として使用す
るのに特に重要である。
【００１７】コポリマーは特に技術的に重要であり；式
ＩＩで表されるコモノマーの分率が１０ないし９９．９
重量％、好ましくは５０ないし９９．９もしくは６０な
いし９９．８重量％、特に８０ないし９９．５重量％、
そして特には９０ないし９９重量％であるものが好まし
い。最も好ましい（コ）ポリマー中の（立体障害性アミ
ンの）活性窒素の量は、（コ）ポリマーに対して通常
０．０１および１重量％、特に０．０２ないし０．４重
量％の間である。
【００１８】上述および以下に示される式ＩおよびＩＩ
を有する構造単位はエチレン系不飽和モノマーである。
得られたポリマーの構造繰り返し単位は２つの開結合に
よるエチレン系二重結合の置換によりモノマー単位から
誘導され、ポリマー鎖の構造繰り返し単位部分が形成さ
れる。コポリマーは、例えばランダム、相互またはブロ
ックコポリマーであり得る。
【００１９】本発明で使用されるメタロセン触媒は例え
ば次式Ａ
【化１８】 （式中、ａは１または２であり、そしてｎおよびｑは互
いに独立して１ないし４の整数であり、Ｍは元素周期表
のグループＩＶｂないしＶＩＩｂ、ＶＩＩＩまたはＩｂ
からの一価ないし四価の金属カチオンを表し、ｍはＬの
原子価＋ｑに相当する整数であり、Ｑはハロゲン原子を
表し、Ｌは二価ないし七価の金属または非金属を表し、
Ｒ21はπ−アレーン基を表し、そしてＲ22はπ−アレー
ン基またはπ−アレーン基のアニオンを表す。）で表さ
れる化合物である。特に適当なπ−アレーン基Ｒ21およ
びＲ22は炭素原子数６ないし２４の芳香族基または炭素
原子数３ないし３０のヘテロ芳香族基であり、これらの
基は未置換、あるいは同一または異なる一価の基、例え
ばハロゲン原子、好ましくは塩素原子もしくは臭素原子
により、または炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭
素原子数１ないし８のアルコキシ基、シアノ基、炭素原
子数１ないし８のアルキルチオ基、炭素原子数２ないし
６のモノカルボン酸アルキルエステル基、フェニル基、
炭素原子数２ないし５のアルカノイル基もしくはベンゾ
イル基により一回もしくはそれより多く置換されたもの
であり得る。これらのπ−アレーン基は単環式、縮合多
環式または非縮合多環式系であってよく、後者の系にお
いて環は直接的に、または−Ｓ−もしくは−Ｏ−のよう
な架橋を経由して結合することができる。π−アレーン
のアニオンとしてのＲ22は、上述されたタイプのπ−ア
レーンのアニオン、例えばインデニルアニオンおよび特
にシクロペンタジエニルアニオンであってよく、これら
のアニオンは未置換、あるいは同一または異なる一価の
基、例えば炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原
子数２ないし６のモノカルボン酸アルキルエステル基、
シアノ基、炭素原子数２ないし５のアルカノイル基もし
くはベンゾイル基により一回もしくはそれより多く置換
されたものであり得る。
【００２０】上述のアルキル、アルコキシ、アルキルチ
オ、モノカルボン酸アルキルエステルおよびアルカノイ
ル置換基は直鎖または分枝鎖であり得る。代表的なアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、モノカルボン酸アル
キルエステルおよびアルカノイル置換基には、それぞ
れ、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ならびにｎ−オクチル
基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基
およびｎ−オクチルオキシ基、メチルチオ基、エチルチ
オ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−
ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基およびｎ−ヘキシル
チオ基、カルボン酸メチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、−ｎ−ブチルおよびｎ−ペンチルエステル
基、ならびにアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基
およびバレロイル基が挙げられる。これらの中で、アル
キル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ならびにアル
キル基部分に炭素原子を１ないし４個、特に１もしくは
２個有するモノカルボン酸アルキルエステルおよびまた
炭素原子を２もしくは３個有するアルカノイル基が好ま
しい。好ましい置換されたπ−アレーン基または置換さ
れたπ−アレーン基のアニオンは上述の置換基、特に塩
素もしくは臭素原子、メチル基、エチル基、メトキシ
基、エトキシ基、シアノ基、カルボン酸メチルもしくは
エチルエステル基およびアセチル基の１もしくは２個を
含むものである。
【００２１】同一または異なるπ−アレーン基はＲ21お
よびＲ22として存在し得る。適当なヘテロ芳香族π−ア
レーン基はＳ−、Ｎ−および／またはＯ−含有の系であ
る。Ｓおよび／またはＯ原子を含むヘテロ芳香族π−ア
レーン基が好ましい。
【００２２】適当なπ−アレーンの例はベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、
エトキシベンゼン、ジメトキシベンゼン、ｐ−クロロト
ルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、アセチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリ
メトキシベンゼン、ナフタレン、１，２−ジヒドロナフ
タレン、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、メ
チルナフタレン、メトキシナフタレン、エトキシナフタ
レン、クロロナフタレン、ブロモナフタレン、ビフェニ
ル、インデン、ビフェニレン、フルオレン、フェナント
レン、アントラセン、９，１０−ジヒドロアントラセ
ン、トリフェニレン、ピレン、ナフタセン、コロネン、
チオフェン、クロメン、キサンテン、チオキサンテン、
ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、チアントレン、
ジフェニレンオキシド、ジフェニルスルフィド、アクリ
ジンおよびカルバゾールである。
【００２３】ａが２である場合、Ｒ22は好ましくはπ−
アレーン基のアニオンを表し、そしてＭはそれぞれの場
合において同様の金属原子を表す。置換されたπ−アレ
ーンのアニオンの例はメチル−、エチル−、ｎ−プロピ
ル−およびｎ−ブチルシクロペンタジエンのアニオンな
らびにジメチルシクロペンタジエンのアニオン、シクロ
ペンタジエンカルボン酸メチルおよびエチルエステルの
アニオン、ならびにアセチルシクロペンタジエン、プロ
ピオニルシクロペンタジエン、シアノシクロペンタジエ
ンおよびベンゾイルシクロペンタジエンのアニオンであ
る。好ましいアニオンは未置換のインデンのアニオン、
そして特に未置換のシクロペンタジエンのアニオンであ
る。
【００２４】好ましくは、ａは１であり、そしてＲ22は
ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、ク
ロロベンゼン、ｐ−クロロトルエン、ナフタレン、メチ
ルナフタレン、クロロナフタレン、メトキシナフタレ
ン、ビフェニル、インデン、ピレンまたはジフェニレン
スルフィドを表し、そしてＲ22はシクロペンタジエン、
アセチルシクロペンタジエンまたはインデンのアニオン
を表すか、またはベンゼン、トルエン、キシレン、トリ
メチルベンゼン、ナフタレンまたはメチルナフタレンを
表す。
【００２５】ａが１であり、Ｒ21はη6 −ピレンまたは
η6 −ナフタレンを表し、そしてＲ 22はη5 −シクロペ
ンタジエンのアニオンを表し、ｎは好ましくは１または
２、特に１であり、そしてｑは好ましくは１である式
（Ａ）の錯体が特に好ましい。例えばＭはＴｉ2+，Ｔｉ
3+，Ｔｉ4+，Ｚｒ+ ，Ｚｒ2+，Ｚｒ3+，Ｚｒ4+，Ｈ
ｆ+，Ｈｆ2+，Ｈｆ3+，Ｈｆ4+，Ｎｂ+ ，Ｎｂ2+，Ｎｂ
3+，Ｃｒ+ ，Ｍｏ+ ，Ｍｏ2+，Ｗ+ ，Ｗ2+，Ｍｎ+ ，Ｍ
ｎ2+，Ｒｅ+ ，Ｆｅ2+，Ｃｏ2+，Ｃｏ3+，Ｎｉ2+または
Ｃｕ2+である。Ｍは好ましくはチタン、ジルコニウムま
たはハフニウムカチオ、特にチタンまたはジルコニウム
カチオンを表し、特に好ましくはＴｉ4+またはＺｒ4+で
ある。
【００２６】同様に、セミメタロセン、例えばシクロペ
ンタジエニル配位子の１個のみが遷移金属中心に結合し
ているモノシクロペンタジエニル誘導体も触媒として適
当である。
【００２７】適当な金属および非金属Ｌの例はＳｂ，Ｆ
ｅ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｓ
ｃ，Ｖ，Ｃｒ，ＭｎおよびＣｕ；Ｃｅ，ＰｒおよびＮｄ
のようなランタノイド、またはＴｈ，Ｐａ，Ｕもしくは
Ｎｐのようなアクチノイドである。適当な非金属は、特
にＢ，ＰおよびＡｓである。Ｌは好ましくはＰ，Ａｓ，
ＢまたはＳｂであり、特に好ましくはＰである。錯アニ
オン［ＬＱm ］q-は例えばＢＦ4 - ，ＰＦ6 - ，ＡｓＦ
6 - ，ＳｂＦ6 - ，ＦｅＣｌ4 - ，ＳｎＣｌ6 - ，Ｓｂ
Ｃｌ6 - およびＢｉＣｌ6 - である。特に好ましい錯ア
ニオンはＳｂＦ6 - ，ＢＦ4 - ，ＡｓＦ6 - およびＰＦ
6 - である。
【００２８】本発明の方法において、２つの主要な成分
（Ａ−１およびＡ−２）からなるメタロセン触媒を使用
することも可能である。この場合、成分Ａ−１はメタロ
セン化合物である。その構造および組成に関係なく、原
則的にいずれのメタロセンを使用することも可能であ
る。メタロセンは架橋されていても架橋されていなくて
も、どちらでもよく、そして同一または異なる配位子を
有する。それらは周期表のグループＩＶｂ，Ｖｂまたは
ＶＩｂの金属の化合物であり、例としてチタン、ジルコ
ニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、
クロム、モリブデンまたはタングステンの化合物であ
り、好ましくはジルコニウム、ハフニウムおよびチタン
の化合物、特にジルコニウムの化合物である。
【００２９】そのようなメタロセンは公知であり、そし
て例えば以下のような刊行物に記載されている：EP-A-0
336127；EP-A-0336128；EP-A-0387690；EP-A-0387691；
EP-A-0302424；EP-A-0129368；EP-A-0320762；EP-A-028
4707；EP-A-0316155；EP-A-0351392；US 5017714；J. O
rganomet. Chem., 342 (1988) 21；Polymeric Material
s Encyclopedia, Ed. J. C. Salamone, CRC Press, 199
7 ; EP-A-0781783。
【００３０】以下の通式
【化１９】 〔式中、Ｍm+は周期表のグループＩＶｂ、ＶｂまたはＶ
Ｉｂの金属のｍ価のカチオンを表し、例えばチタン、ジ
ルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデンまたはタングステン、好ましく
はジルコニウム、ハフニウムおよびチタン、特にチタン
を表し；（Ｃ5 Ｈ5-x Ｒx ）は置換基Ｒの０ないし５個
により置換されたシクロペンタジエニル環を表し；ｘは
数０、１、２、３、４または５であり；ｎは０または１
であり；Ｒは、それぞれが独立して、炭素原子数１ない
し２０の炭化水素基、ハロゲン原子の一個もしくはそれ
より多くにより置換された炭素原子数１ないし２０の炭
化水素基、メタロイド−置換炭素原子数１ないし２０の
炭化水素基、またはハロゲン原子を表すか、あるいは二
個の隣接した基Ｒは炭素原子数４ないし２０の環を表す
か；あるいはｎが１である場合、Ｒは基Ｂy −ＪＲ’
z-1-y （式中、Ｊは配位数３を有する周期表のグループ
ＶＡからの元素を表すか、または配位数２を有する周期
表のグループＶＩＡからの元素を表し、好ましくはＮ、
Ｐ、ＯまたはＳを表し；Ｒ’は、それぞれが独立して、
炭素原子数１ないし２０の炭化水素基を表すか、または
ハロゲン原子の一個もしくはそれより多くにより置換さ
れた炭素原子数１ないし２０の炭化水素基を表し；ｚは
元素Ｊの配位数であり；ｙは０または１であり；ｙが１
である場合、Ｂは周期表のグループＩＶＡまたはＶＡの
元素からなる架橋を表し、例えば炭素原子数１ないし２
０のアルキレン基、ジ−炭素原子数１ないし２０のアル
キル−、炭素原子数７ないし２０のアルキルアリール−
もしくはジ−炭素原子数６ないし２０のアリール−ケイ
素もしくは−ゲルマニウム基、またはアルキル−もしく
はアリール−リンもしくはアミン基を表す。）を表す
か；あるいはｎが２である場合、Ｒは−Ｍ2 （Ｒ10）
（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ 11）−Ｍ2 （Ｒ10）
（Ｒ11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ（Ｒ10）
（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ−、−Ｃ
（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、
−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｂ
（Ｒ 10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2 −、−Ｎ
（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−または−Ｐ
（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同一または
異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし１０のフ
ルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリール
基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリール基、炭
素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数２な
いし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし４０のア
リールアルキル基、炭素原子数８ないし４０のアリール
アルケニル基または炭素原子数７ないし４０のアルキル
アリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11はそれぞ
れが結合している原子と一緒になって環を形成し、そし
てＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表す。）か
ら選択される基を表し；Ｑは、それぞれが独立して、水
素原子、炭素原子数１ないし５０の炭化水素基；電子吸
引基、例えばハロゲン原子もしくはアルコキシ基の一個
もしくはそれより多くにより置換された炭素原子数１な
いし５０の炭化水素基を表すか、または式（Ｃ5 Ｈ5-x
Ｒx ）で表される炭化水素基を除くメタロイド−置換炭
素原子数１ないし５０の炭化水素基（メタロイドとは周
期表のグループのＩＶＡの元素である）を表すか、ある
いは二個の基Ｑはアルキリデン基、オレフィン基、アセ
チレン基または環式金属化炭化水素基を表し；Ｌは中性
ルイス塩基、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルアニリン、アニリン、トリメチルホスフ
ィンまたはｎ−ブチルアミンを表し；そしてｗは０ない
し３の数である。〕で表されるメタロセンは特記される
べきである。メタロイドは例えば元素ケイ素、ゲルマニ
ウム、錫および鉛を意味すると理解されたい。
【００３１】この場合、以下の構造
【化２０】 （式中、ＭはＴｉまたはＺｒを表し、そして他の置換基
は上述された通りである。）に相当するタイプのメタロ
センが好ましい。上述のタイプのメタロセンの更なる詳
細は WO 92/ 00333 に見出され得る。
【００３２】式ＩＩの置換されたオレフィンコモノマ
ー、例えばプロペン、ブテン、スチレンのイソスペシフ
ィック重合 (isospesific polymerization) およびそれ
らの相互および他のオレフィンとの共重合に関して、メ
タロセン、特に配位子としてインデニル基を有するジル
コノセンは興味深い。重要な化合物は特に以下の式Ｃ
【化２１】 〔式中、Ｍ1 は周期表ＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金
属を表し；Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なり、そして
水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素
原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数６ない
し１０のアリール基、炭素原子数６ないし１０のアリー
ルオキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルケニル基、
炭素原子数７ないし４０のアリールアルキル基、炭素原
子数７ないし４０のアルキルアリール基、炭素原子数８
ないし４０のアリールアルケニル基、ＯＨ基またはハロ
ゲン原子を表し、基Ｒ3 は同一または異なり、そして水
素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化され得る炭素原子数
１ないし１０のアルキル基、炭素原子数６ないし１０の
アリール基、−ＮＲ2 、−ＳＲ、−ＯＳｉＲ3 、−Ｓｉ
Ｒ3 またはＰＲ2 基を表し、Ｒはハロゲン原子、炭素原
子数１ないし１０のアルキル基または炭素原子数６ない
し１０のアリール基を表し；Ｒ4 ないしＲ8 はＲ3 に関
して定義された通りであるか、あるいは隣接した基Ｒ 4
ないしＲ8 は、それらが結合している原子と一緒になっ
て芳香族または脂肪族環を表し、Ｒ9 は−Ｍ2 （Ｒ10）
（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）
（Ｒ 11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ（Ｒ10）
（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ−、−Ｃ
（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、
−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｂ
（Ｒ10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2 −、−Ｎ
（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−または−Ｐ
（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同一または
異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１
ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし１０のフ
ルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリール
基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリール基、炭
素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数２な
いし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし４０のア
リールアルキル基、炭素原子数８ないし４０のアリール
アルケニル基または炭素原子数７ないし４０のアルキル
アリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11はそれぞ
れが結合している原子と一緒になって環を形成し、そし
てＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表す。）か
ら選択される基を表す。〕で表されるものである。
【００３３】式（Ｃ）の化合物に相当する４，５，６，
７−テトラヒドロインデニル類似体も同様に重要であ
る。式（Ｃ）において好ましくは、Ｍ1 はジルコニウム
を表し、Ｒ1 およびＲ2 は同一であり、そしてメチル基
または塩素原子、特に塩素原子を表し、Ｒ3 ないしＲ8
は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を
表し、Ｒ9 は−Ｓｉ（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｃ（Ｒ10）
（Ｒ11）−または−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ（Ｒ10）
（Ｒ11）−を表し、そしてＲ10およびＲ11は同一または
異なり、そして炭素原子数１ないし４のアルキル基また
は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表す。特にＲ
10およびＲ11は同一または異なり、そしてメチル基また
はフェニル基を表す。
【００３４】式（Ｃ）におけるインデニルまたはテトラ
ヒドロインデニル配位子は好ましくは２、２，４、４，
７、２，６、２，４，６、２，５，６、２，４，５，６
および２，４，５，６，７位、特に２，４，６位におい
て置換されている。好ましくは炭素原子数１ないし４の
アルキル基、例えばメチル基、エチル基またはイソプロ
ピル基により置換される。２位は好ましくはメチル基に
より置換される。
【００３５】また、４および５位のインデニル置換基
（Ｒ5 およびＲ6 ）がそれらが結合している原子と一緒
になってベンゼン環を形成する式（Ｃ）で表される化合
物は特に重要である。この縮合環系は同様にＲ3 ないし
Ｒ8 の定義を有する基により置換され得る。このような
化合物の例は、ジメチルシランジイルビス（２−メチル
−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド
である。
【００３６】高い立体規則性を有する高分子量ポリオレ
フィンを製造するために、式（Ｃ）で表されるメタロセ
ンは特に適当である。４位に置換されたフェニル置換
基、ナフチル置換基を有する式（Ｃ）で表される化合物
も特に重要である。
【００３７】式ＩＩの置換されたオレフィンコモノマ
ー、例えばプロペン、ブテンおよびスチレンのシンジオ
スペシフィック重合 (syndiospesific polymerization)
およびそれらの相互および他のオレフィンとの共重合に
関して、式（Ｄ）
【化２２】 〔式中、Ｍ1 は周期表ＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の金
属を表し；Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なり、そして
水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素
原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数６ない
し１０のアリール基、炭素原子数６ないし１０のアリー
ルオキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルケニル基、
炭素原子数７ないし４０のアリールアルキル基、炭素原
子数７ないし４０のアルキルアリール基、炭素原子数８
ないし４０のアリールアルケニル基、ＯＨ基またはハロ
ゲン原子を表し、基Ｒ3 は同一または異なり、そして水
素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化され得る炭素原子数
１ないし１０のアルキル基、炭素原子数６ないし１０の
アリール基、−ＮＲ2 、−ＳＲ、−ＯＳｉＲ3 、−Ｓｉ
Ｒ3 またはＰＲ2 基を表し、Ｒはハロゲン原子、炭素原
子数１ないし１０のアルキル基または炭素原子数６ない
し１０のアリール基を表し；Ｒ4 ないしＲ8 はＲ3 に関
して定義された通りであるか、あるいは隣接した基Ｒ 4
ないしＲ8 は、それらが結合している原子と一緒になっ
て芳香族または脂肪族環を形成し、Ｒ9 は−Ｍ
2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2
（Ｒ10）（Ｒ 11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ
（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ
−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ
11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）
−、−Ｂ（Ｒ10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−
Ｓｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2
−、−Ｎ（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−ま
たは−Ｐ（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同
一または異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素
原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし
１０のフルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０の
アリール基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリー
ル基、炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原
子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし
４０のアリールアルキル基、炭素原子数８ないし４０の
アリールアルケニル基または炭素原子数７ないし４０の
アルキルアリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11
はそれぞれが結合している原子と一緒になって環を形成
し、そしてＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表
す。）から選択される基を表し、そしてＲ12ないしＲ17
はＲ3 に関して定義された通りである。〕で表されるメ
タロセンも興味深い。
【００３８】本発明で使用され得るメタロセンの例には
以下の化合物が含まれる：ビスシクロペンタジエニルジ
ルコニウムジクロリド、ビスシクロペンタジエニルジル
コニウムジメチル、ビスシクロペンタジエニルジルコニ
ウムジフェニル、ビスシクロペンタジエニルジルコニウ
ムジベンジル、ビスシクロペンタジエニルジルコニウム
ビストリメチルシリル、ビス（メチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（１，２−ジメチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビ
ス（１，３−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド、ビス（１，２，４−トリメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビスインデニルジルコニ
ウムジクロリド、ビス（テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリルビス−１−テトラ
ヒドロインデニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシ
リルビス−１−（２−メチルテトラヒドロインデニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス−１−
（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロリド、ジメチルシリルビス−１−（２，
４−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリルビス−１−インデニルジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリルビス−１−インデニル
ジルコニウムジメチル、ジメチルゲルミルビス−１−イ
ンデニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス
−１−（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリルビス−１−（２−メチル−４−イソ
プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、フェニ
ルメチルシリルビス−１−（２−メチルインデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス−１−（２
−メチル−４−エチルインデニル）ジルコニウムジクロ
リド、エチレンビス−１−（４，７−ジメチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、フェニル（メチル）シリ
ルビス−１−インデニルジルコニウムジクロリド、フェ
ニル（ビニル）シリルビス−１−インデニルジルコニウ
ムジクロリド、ジフェニルシリルビス−１−インデニル
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス（１−
（２−メチル−４−第三ブチルインデニル））ジルコニ
ウムジクロリド、
【００３９】メチルフェニルシリルビス（１−（２−メ
チル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリルビス（１−（２−エチル−４−
メチルインデニル））ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリルビス（１−（２，４−ジメチルインデニル））
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス（１−
（２−メチル−４−エチルインデニル））ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリルビス（２−メチル−４，６
−ジイソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリルビス（２，４，６−トリメチルイン
デニル）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシリ
ルビス（２−メチル−４，６−ジイソプロピルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、１，２−エタンジイルビ
ス（２−メチル−４，６−ジイソプロピルインデニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル−（９−フル
オレニル）（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、ジフェニルシリル−（９−フルオレニル）（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェ
ニルメチレン−（９−フルオレニル）シクロペンタジエ
ニルジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン−（９
−フルオレニル）シクロペンタジエニルジルコニウムジ
クロリド、フェニルメチルメチレン−（９−フルオレニ
ル）シクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、イ
ソプロピリデン−（９−フルオレニル）（１−（３−イ
ソプロピル）シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、イソプロピリデン−（９−フルオレニル）（１
−（３−メチル）シクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド、ジフェニルメチレン−（９−フルオレニ
ル）（１−（３−メチル）シクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロリド、メチルフェニルメチレン−（９−
フルオレニル）（１−（３−メチル）シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル−（９
−フルオレニル）（１−（３−メチル）シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリル−
（９−フルオレニル）（１−（３−メチル）シクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニルメチ
レン−（９−フルオレニル）（１−（３−第三ブチル）
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドおよび
イソプロピリデン−（９−フルオレニル）（１−（３−
第三ブチル）シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド。
【００４０】触媒の製造に関しては、好ましくはラセミ
体の形状でキラルなメタロセンが使用される。あるいは
また、純粋なＲまたはＳ体が使用され得る。これらの純
粋な立体異性体により光学活性ポリマーを製造すること
が可能である。しかしながら、メタロセンの重合活性中
心（金属原子）はその中心金属における鏡面対象のため
にキラルではないため、メタロセンのメソ体を単離しな
ければならず、そして従って高いタクチックポリマーを
製造することは不可能である。メソ体を単離しない場
合、イソタクチックおよび／またはシンジオタクチック
ポリマーと共にアタクチックポリマーが形成される。あ
る種の用途−例えば、軟質成形品 (soft mouldings) −
もしくはポリエチレングレードの製造のために、これは
実際に望ましい。立体異性体は文献からの公知の方法に
従って分離される。
【００４１】成分Ａ−２）は例えば適当に以下の化合物
からなる。 ａ）アルミノキサン 使用されるアルミノキサンは好ましくは、直鎖型に関し
ては次式（ＩＩＩ）
【化２３】 および／または環式に関しては次式（ＩＶ）
【化２４】 （式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）中、Ｒは同一または異な
り、そして炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原
子数６ないし１８のアリール基、ベンジル基もしくは水
素原子を表し、そしてｐは２ないし５０、好ましくは１
０ないし３５の整数である。）で表される化合物であ
る。
【００４２】好ましくは、基Ｒは同一であり、そしてメ
チル基、イソブチル基、ｎ−ブチル基、フェニル基また
はベンジル基、特にメチル基を表す。基Ｒが異なる場
合、それらは好ましくはメチル基および水素原子、メチ
ル基およびイソブチル基、またはメチル基およびｎ−ブ
チル基を表し、この場合、好ましくは０．０１ないし４
０％の基Ｒが存在し、水素原子および／またはイソブチ
ル基またはｎ−ブチル基を表す。
【００４３】アルミノキサンを公知の方法により種々の
方法で製造することができる。製造方法の一つとして、
例えば不活性溶媒（例えばトルエン）中で炭化水素アル
ミニウム化合物および／または炭化水素ヒドリドアルミ
ニウム化合物と水（気体、固体、液体または例えば水の
結晶としての結合水）とを反応させることが挙げられ
る。種々のアルキル基Ｒを有するアルミノキサンを製造
するために、望ましい組成および反応性により２つの異
なるアルミニウムトリアルキル（ＡｌＲ3 ＋Ａｌ
Ｒ’3 ）を水と反応させることができる ( S. Pasynkie
wicz, Polymer 9 (1990)およびEP-A-302424 を参照せ
よ。）。
【００４４】式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）で表されるア
ルミノキサンの正確な構造は知られていない。それらの
製造の種類に関係なく全てのアルミノキサン溶液に共通
である特徴は、遊離の状態で、または付加物として存在
する未反応のアルミニウム出発化合物の変化する含有量
である。
【００４５】ｂ）イオン交換化合物 イオン交換化合物は、立体的にかさ高く、ラベルされ、
そして化学的に不活性である成分Ａ−１の配位子および
配位していないアニオンと不可逆的に反応するカチオン
を含む化合物である。成分Ａ−１およびＡ−２を組み合
わせることにより、Ａ−２のカチオンおよびＡ−１の配
位子からなるイオン対が生成する。成分Ａ−２のカチオ
ンの例としてはアンモニウムイオンのようなブレンステ
ッド酸またはＡｇ+ もしくはフェロセンイオンのような
還元可能なルイス酸が挙げられる。また、成分Ａ−２と
して使用され得るアルミノキサンはトリメチルアルミニ
ウムからの支持触媒の製造において形成され得る。
【００４６】均一な触媒系に加えて、不均一な触媒とし
てもメタロセンは使用され得る。この場合、文献から当
業者に公知である方法で有機または無機担体に触媒を適
用する。無機担体材料は好ましくはシリカゲルであり；
これに関する更なる詳細は、例えば US 5240894 に見出
され得る。
【００４７】有機担体材料の例としては、市販で入手可
能な微孔性ポリマー担体（例えばアクゾ(AKZO)からの登
録商標アキュレル(Accurel) グレード, 例えば約７５体
積％の空隙含有率を有する登録商標アキュレル−ＰＥ，
登録商標アキュレル−ＰＰ，登録商標アキュレル−ＰＡ
−６または登録商標アキュレル−ＰＡ−１２）が挙げら
れる。登録商標アキュレル材の孔サイズは０．５ないし
５μｍ（ＰＰ），１．０ないし５μｍ（ＨＤＰＥ），
０．５ないし３μｍ（ＰＡ−６およびＰＡ−１２であ
る。例えばアルミニウムアルキル溶液による処理を行
い、次いで洗浄し、そして不活性ガス下で不活性にする
ことにより、あらかじめ微孔性ポリマー担体は有利に乾
燥される。
【００４８】これに対する好ましい方法は、第一に激し
い混合により−例えば攪拌により−適当な溶媒、例えば
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエンおよびジクロ
ロメタン中でメタロセンの少なくとも一種とアルミノキ
サンを反応させることである。反応温度は好ましくは−
２０ないし＋１２０℃、特に１５ないし４０℃である。
メタロセンのアルミニウムと遷移金属Ｍのモル比は好ま
しくは１０：１ないし１００００：１、特に１００：１
ないし２０００：１である。反応時間は一般的に５ない
し１２０分、好ましくは１０ないし３０分である。０．
０１モル／ｌより多い、特に０．５モル／ｌより多いア
ルミニウム濃度で反応を行うことが好ましい。反応は不
活性状態で行われる。
【００４９】メタロセンとの望ましい反応のために、ア
ルミノキサンの代わりにアルミノキサンと他のアルミニ
ウムアルキル化合物、例えばトリメチル−、トリエチル
−またはトリイソブチルアルミニウムとの混合物を使用
することも可能である。
【００５０】反応後、例えば溶媒を部分的に真空で留去
することが可能であり、または濃縮後に他の溶媒で置き
換えることが可能である。この方法で製造された溶液を
適当に微孔性ポリマー担体と反応させる。この場合、少
なくとも全孔体積が先行の反応からの溶液を調節できる
量で担体を添加する。好ましくは−２０ないし＋１２０
℃、特に１５ないし４０℃の温度で、激しい混合により
−例えば攪拌または超音波処理によりこの反応は行われ
る。均一化は徹底的に行われるべきである。この場合、
例えば簡単な真空排気によって孔体積の不活性ガスの交
換が促進され得る。
【００５１】また原則的に、支持触媒の製造はワン−ポ
ット反応で行われ得る：言い換えると、３つの出発成分
の全てを同時に適当な溶媒／懸濁液媒体中で互いに反応
させる。この場合、ポリマー担体の量は好ましくは全液
体体積を調節し得る量であるべきである。例えばヘプタ
ン、ｎ−デカン、ヘキサンまたはディーゼル油のような
不活性懸濁液媒体中の懸濁液として、または他に乾燥状
態で、可能であれば例えば真空下での乾燥段階による残
渣溶媒の除去後の乾燥状態で、触媒を重合系に測り入れ
ることが可能である。
【００５２】気相において、液体モノマーにおいて、ま
たは懸濁液において、触媒を有利に前重合することが可
能であり、この場合、更なる有機アルミニウム化合物の
添加なしで行うことが可能である。これらの触媒を用い
た重合を、液または気相において公知の方法により行う
ことができる。例えば液相は脂肪族炭化水素または液体
モノマー自体であり得る。チグラーまたはフィリップス
触媒のような他のタイプの触媒との混合物として、メタ
ロセン触媒を使用することも可能である。重合の最終段
階で、例えば水（蒸気）、湿式窒素、二酸化炭素または
アルコールの添加により触媒を殺す。メタロセン触媒系
の製造は公知であり、例えば刊行物 EP-A- 755948 およ
びそこに記載された文献に記述されている。
【００５３】触媒（１，１’−ジメチルシラニレンビス
（η5 −４，５，５，７−テトラヒドロ−１−インデニ
ル））ジルコニウムジクロリド／メチルアルミノキサ
ン；ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（ＩｎｄＨ4 ）2 ＺｒＣ
ｌ2 ／メチルアルミノキサン；ｒａｃ−（ＣＨ3 ）２Ｓ
ｉ（Ｉｎｄ）2 ＺｒＣｌ2 ／メチルアルミノキサン；ｒ
ａｃ−（１，４−ブタンジイル）2 Ｓｉ（ＩｎｄＨ4 ）
2 ＺｒＣｌ2 ／メチルアルミノキサン；ｒａｃ−Ｃ2 Ｈ
5 （２−（第三ブチルジメチルシリルオキシ）Ｉｎｄ）
2 ＺｒＣｌ2 ／メチルアルミノキサン；（ＣＨ3 ）2 Ｃ
（フルオレニル）（シクロペンタジエニル）ＺｒＣｌ2
／メチルアルミノキサン；ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ
（Ｉｎｄ）ＺｒＣｌ2 ／トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボラン；が特に好ましい。
【００５４】本発明に従って得られたポリマーは、以下
により詳細に記載されるような顕著な特質を有する。従
って本発明は、本発明の方法により得られるポリマーま
たはコポリマーも提供する。しばしば本発明のポリマー
は、１０００ないし２００００００、特に２０００ない
し１００００００、とりわけ５０００ないし５００００
０の範囲で、そして特に狭い分子量分布で、分子量（Ｍ
ｎ；ゲル透過クロマトグラフィーにより測定される。）
を有する。式Ｉの構造単位から形成されたホモポリマー
は、しばしば１０００ないし３００００ｇ／モル、特に
１０００ないし１００００ｇ／モルの分子量Ｍｎを有
し；式ＩＩの単位を含む上述されたコポリマーは好まし
くは１００００ないし１００００００ｇ／モルの範囲の
分子量Ｍｎを有する。
【００５５】本発明の方法に関して、公知のポリオレフ
ィン製造におけるメタロセン触媒の使用と同様に（金属
中心の対称性に依存して）イソタクチック、シンジオタ
クチックまたはアタクチックコポリマーの特異的な製造
を行うことが可能である。
【００５６】本発明の方法による出発材料として好まし
く使用される不飽和立体障害性アミンの幾つかは新規化
合物である。従って本発明は更に次式Ｖ，ＶＩ，ＶＩＩ
またはＶＩＩＩ
【化２５】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表すか、またはＲ2 およびＲ3 は一緒に
なって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；
Ｒ4 は水素原子を表し；Ｒ5 は水素原子、ＯＨ、炭素原
子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１
２のアルケニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイ
ルアミド基を表すか、または式−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ8
（式中、ｉは０または１である。）で表される基を表す
か；あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒になって＝Ｏを表
し；Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子
数７ないし１１のフェニルアルキル基、またはフェニル
環上で炭素原子数１ないし１２のアルキル基および／も
しくはＯＨにより置換された炭素原子数７ないし１１の
フェニルアルキル基を表し；指数ｊは１ないし１２、特
に４ないし１２からなる範囲からの数であり；Ｒ’7 は
炭素原子数１ないし８のアルキレン基を表し；Ｒ’’7
は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；または
Ｒ’’7 はＲ1と一緒になって炭素原子数４ないし１１
のアルキレン基を表し；Ｒ8 は炭素原子数１ないし１８
のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、炭
素原子数８ないし１５のフェニルアルケニル基、フェニ
ル部分で炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換された炭
素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、あるいは
フェニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル−も
しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ−置換フェニ
ル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を
表し；Ｒ’9 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基を表し；Ｒ18およびＲ19は互いに独立して炭素原子
数１ないし８のアルキル基、特にメチル基を表し；Ｒ20
は炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数
７ないし１８のシクロアルケニルアルキル基もしくは炭
素原子数７ないし１８のビシクロアルケニルアルキル基
を表し；Ｒ17およびＲ21は水素原子を表すか、またはＲ
17はＲ21と一緒になって化学結合を表し；Ｒ22は炭素原
子数２ないし１６のアルキレン基、フェニレン基、フェ
ニレン−もしくはシクロヘキシレン−中断炭素原子数２
ないし１０のアルキレン基、または全炭素原子数が２な
いし１６であるアルキレン−フェニレン基；特に直鎖の
炭素原子数２ないし１６のアルキレン基を表し；Ｘは−
ＮＨ−、−ＮＲ9 −または−Ｏ−を表す。〕で表される
化合物を提供する。特に好ましくは、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3
およびＲ’’7 は水素原子である。
【００５７】これらの化合物で、式ＶまたはＶＩ（式
中、Ｒ1 ないしＲ6 は式Ｉａに関して上述で定義された
通りであり；指数ｊは範囲１ないし１２、特に４ないし
１２からの数であり；Ｒ’7 は炭素原子数１ないし８の
アルキレン基を表し；Ｒ’’7は炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表すか；またはＲ’’7 はＲ1 と一緒に
なって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；
Ｒ’9 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル
基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を
表す。）で表される化合物が好ましい。
【００５８】化合物ＶないしＶＩＩにおいて、好ましく
はＲ1 ないしＲ6 は以下の定義を有する。Ｒ1 、Ｒ2 お
よびＲ3 は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す
か；またはＲ2 およびＲ3 は一緒になって炭素原子数４
ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ4 は水素原子を表
し；そしてＲ5 は水素原子または−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ
8 を表し；指数ｉは０または１であり；Ｒ6 は水素原
子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニ
ル置換炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ8
は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７
ないし１５のフェニルアルキル基；フェニル部分で炭素
原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１な
いし４のアルコキシ基により置換された炭素原子数７な
いし１５のフェニルアルキル基を表すか、あるいはフェ
ニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル−もしく
は炭素原子数１ないし４のアルコキシ−置換フェニル基
を表し；Ｒ 9 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま
たは炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表
し；そしてＸは−ＮＨ−、−ＮＲ9 −または−Ｏ−を表
す。式ＶＩにおける単位（Ｃj Ｈ2j）は好ましくは式
（ＣＨ2 ）j に相当する直鎖である。
【００５９】特に式Ｖで表される化合物、特に次式Ｖａ
【化２６】 〔式中、ｍは１ないし８の範囲からの数であり；Ｒ1 は
メチル基またはエチル基を表し；Ｒ2 およびＲ3 はＲ1
に関して定義された通りであるか、または一緒になって
炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ4 は
水素原子を表し、そしてＲ5 は水素原子または式−Ｘ−
（ＣＯ）i −Ｒ8 （式中、ｉは０または１である。）で
表される基を表すか；あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒に
なって＝Ｏを表し；Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１
ないし１８のアルキル基を表し；Ｒ8 は炭素原子数１な
いし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェ
ニルアルキル基、フェニル部分で炭素原子数１ないし４
のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基により置換された炭素原子数７ないし１５のフェニ
ルアルキル基、あるいはフェニル基または炭素原子数１
ないし４のアルキル−もしくは炭素原子数１ないし４の
アルコキシ−置換フェニル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数
１ないし１２のアルキル基または炭素原子数５ないし１
２のシクロアルキル基を表し；そしてＸは−ＮＨ−、−
ＮＲ9 −または−Ｏ−を表す。〕で表される化合物が好
ましい。
【００６０】溶媒を添加して、もしくは添加せずに、適
当な飽和ケトン、例えばジアセトンアミンと好ましい末
端不飽和ケトン、例えば３−ブテン−２−オン、４−ペ
ンテン−２−オン、５−ヘキセン−２−オン、６−ヘプ
テン−２−オン、７−オクテン−２−オン、８−ノネン
−２−オンまたは９−デセン−２−オンとを反応させる
ことにより式Ｖで表される新規化合物は有利に製造され
る。他に、立体障害性アミンの公知の製造方法と同様に
反応を行うことができる。温度、仕上げ、およびいずれ
の続く反応、例えば水素化、エステル化、アミド化等を
公知の方法と同様に行うことができる。
【００６１】次式Ｘ
【化２７】 で表される化合物と適当な不飽和の酸または酸誘導体、
例えば次式Ｘ’−ＣＯ−（Ｃj Ｈ2j）−ＣＨ＝ＣＨ
2 （指数ｊは式ＶＩに関して上述で定義された通りであ
り、そしてＸは水素原子またはハロゲン原子、特に水素
原子または塩素原子を表す。）とを縮合することにより
式ＶＩで表される化合物は妥当に得られる。当業者に公
知の方法で、例えば溶媒および／または触媒の存在下で
反応を行うことが可能であり、またそのような添加剤を
使用せずに、例えば酸を使用して縮合を行い、そして熱
により縮合生成物を除去することも可能である。使用さ
れ得る溶媒には例えば炭化水素および塩化炭化水素が含
まれ、触媒の例には、例えば第三アミンを含む塩基が含
まれる。
【００６２】例えば続く水の除去を伴って、望ましい４
−オキソピペリジン化合物にハロゲン原子またはＸ’−
Ｒ22−ＣＨ＝ＣＨ2 型のグリニャール化合物を添加する
ことにより、公知の方法と同様に式ＶＩＩで表される化
合物が妥当に得られる。例えば適当に置換されたモノク
ロロシランと望ましい４−オキソピペリジン化合物また
は４−ヒドロキシピペリジン化合物とを反応させること
により、公知の方法と同様に式ＶＩＩＩで表される化合
物が妥当に得られる。
【００６３】所望の場合、例えば蒸留、クロマトグラフ
ィー、結晶化または溶液からの再結晶のような慣用の方
法で仕上げを行うことができる。式ＩａおよびＩｂで表
される他の化合物は殆どの場合、公知であるか、もしく
は公知の化合物と同様に製造することが可能である。
【００６４】本発明の方法に従って得られるポリマーお
よびコポリマー、特に１０ないし１００モル％、例えば
５０ないし１００モル％、特に５ないし１０重量％の立
体障害性アミン型の単位、およびまた式ＶないしＶＩＩ
Ｉ、特にＶおよびＶＩで表される新規化合物を含むもの
は、光、酸素および／または熱による損傷に対する有機
材料の安定剤として使用するために特に適当である。式
ＶないしＶＩＩＩ、特にＶおよびＶＩで表されるモノマ
ーは、更に、それらが混成される支持体に反応的に結合
することが可能である。本発明のポリマーまたはモノマ
ー化合物は高い基材相溶性および基材に対する良好な耐
久性を有する特徴をなす。
【００６５】本発明に従って安定化される材料の例は以
下の通りである。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１
−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィ
ン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、ポリエチレン（所望に架橋されることができ
る。）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密
度および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、
高密度および超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨ
ＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリ
エチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬ
ＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。ポリ
オレフィン、すなわち前段落において例示されたモノオ
レフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポ
リプロピレンを、様々な方法によって、そして特に以下
の方法によって製造することができる。
【００６６】ａ）ラジカル重合（通常、高圧下および高
温で）。 ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩ
Ｉ群の金属原子の１種またはそれより多くを含む触媒を
使用する触媒重合。これらの金属原子は通常１個または
それより多くの、代表的にはπ−またはσ−配位され得
るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エー
テル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはア
リールのようなリガンドを有する。これらの金属錯体は
遊離状態または代表的には活性化塩化マグネシウム、塩
化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素のよう
な基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に
可溶または不溶であり得る。触媒は重合においてそれら
自身で使用されることができ、または代表的には金属ア
ルキル、金属ヒドライド、金属アルキルハライド、金属
アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンのような
さらなる活性化剤が使用されることができ、該金属原子
は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ群の元
素である。活性化剤はさらなるエステル、エーテル、ア
ミンまたはシリルエーテル基を用いて都合よく変性され
得る。これらの触媒系は通常、フィリップス（Phillip
s）、スタンダード オイル インディアナ（Standard
Oil Indiana）、チグラー（−ナッタ）（Ziegler(-Natt
a) ）、ＴＮＺ（デュポン（Dupont））、メタロセンま
たはシングルサイト触媒（single site catalyst）（Ｓ
ＳＣ）と命名される。
【００６７】２．１）以下で上記されたポリマーの混合
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤ
ＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる型のポリエチレン
の混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００６８】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば
エチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチ
レン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エン
コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ
チレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセ
ンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、
エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコ
ポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマ
ーおよびそれらと一酸化炭素とのコポリマーまたはエチ
レン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（アイオ
ノマー）並びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンのようなジエンとのターポリマー；およびそのよう
なコポリマー相互および１）において上記されたポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロ
ピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテ
ートコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アク
リル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、Ｌ
ＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキ
レン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらと例えばポリ
アミドのような他のポリマーとの混合物。
【００６９】４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５な
いし９）であって、それらの水素化変性物（例えば粘着
付与剤）を含むもの、およびポリアルキレンおよび澱粉
の混合物。 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキル
アクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタク
リレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アク
リロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマ
ーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーの高衝撃強度性の混合物；およびスチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、
スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレン
のブロックコポリマー。
【００７０】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアク
リロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸または
マレイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミ
ド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジ
エンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；
ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリ
レートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレー
ト／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、並びにそれらの６）以下に列挙されたコポリマ
ーとの混合物、例えば、ＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたは
ＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。
【００７１】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの
塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩
素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび
塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリン ホ
モ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物
のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びに
それらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル／ビニルアセテートまたは塩化ビニリデ
ン／ビニルアセテートコポリマー。 ９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマーおよびポ
リアクリレート並びにポリメタクリレートのようなそれ
らの誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃変性された
（impact-modified ）ポリメチルメタクリレート、ポリ
アクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。 １０．９）以下で述べられたモノマーの相互または他の
不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリ
ル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキ
ルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコ
キシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ビ
ニルハライドコポリマーまたはアクリロニトリル／アル
キルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【００７２】１１．不飽和アルコールおよびアミンから
誘導されたポリマーまたはアシル誘導体またはそれらの
アセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
アセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；
並びに１）において上記されたオレフィンとのそれらの
コポリマー。 １２．ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドのような環式エーテルのホ
モポリマーおよびコポリマーまたはそれらのビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。 １３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよ
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポ
リオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレー
トまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。 １４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およ
びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポ
リアミドとの混合物。
【００７３】１５．一方の成分としてヒドロキシル末端
基で終了されたポリエーテル、ポリエステルまたはポリ
ブタジエン、および他方の成分として脂肪族または芳香
族ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、並
びにそれらの前駆物質。 １６．ジアミン並びにジカルボン酸および／またはアミ
ノカルボン酸または対応するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポ
リアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６
／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリア
ミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から
出発した芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンお
よびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から変性
剤としてエラストマーを用いてまたは用いずに製造され
たポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘ
キサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニ
レンイソフタルアミド；およびまた上記されたポリアミ
ドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノ
マーまたは化学結合もしくはグラフトされたエラストマ
ーとのブロックコポリマー、またはポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチ
レングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポ
リマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリ
アミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合され
たポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。 １７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポ
リエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダント
インおよびポリベンズイミダゾール。
【００７４】１８．ジカルボン酸並びにジオールおよび
／またはヒドロキシカルボン酸または対応するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，
４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレートおよび
ポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末端
基で終了されたポリエーテルから誘導されたブロックコ
ポリエーテルエステル；およびまたポリカーボネートま
たはＭＢＳで変性されたポリエステル。 １９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネー
ト。 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ２１．一方の成分としてアルデヒド、および他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。
【００７５】２２．乾式および不乾式アルキド樹脂。 ２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、およびまた低
燃焼性のそれらのハロゲン含有変性物。 ２４．置換されたアクリレートから誘導された架橋可能
なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレートまたはポリエステルアクリレート。 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソ
シアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂
で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびア
クリレート樹脂。
【００７６】２６．脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式ま
たは芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキ
シ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノール
Ｆのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物ま
たはアミンのような慣用の硬化剤と、促進剤を用いてま
たは用いずに架橋されたもの。 ２７．セルロース、ゴム、ゼラチンのような天然ポリマ
ーおよびそれらの化学的に変性された同族の誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよびブ
タン酸セルロース、またはメチルセルロースのようなセ
ルロースエーテル；ならびにロジンおよびその誘導体。 ２８．上記されたポリマーのブレンド（ポリブレン
ド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭま
たはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ
／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／Ａ
ＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリ
レート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵ
Ｒ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／
ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ
／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ
／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００７７】従って本発明は更に、Ａ）酸化、熱および
／または化学線作用による分解を起こしやすい有機材
料、ならびにＢ）本発明の方法により得られるポリマー
またはコポリマーおよび／または式Ｖ，ＶＩ，ＶＩＩお
よび／またはＶＩＩＩで表される化合物の少なくとも一
種からなる組成物を提供し、そして酸化、熱または化学
線作用による分解に対して有機材料を安定化するために
新規ポリマーおよび／またはモノマー化合物を使用する
方法を提供する。同様に本発明は、本発明の方法により
得られるポリマーまたはコポリマーおよび／または式
Ｖ，ＶＩ，ＶＩＩおよび／またはＶＩＩＩで表される化
合物の少なくとも一種を添加することからなる熱、酸化
および／または化学線作用による分解に対して有機材料
を安定化する方法を包括する。
【００７８】合成有機ポリマー、特に熱可塑性ポリマー
および相当する組成物において、コーティングのための
皮膜形成バインダーにおいて安定剤として新規ポリマー
および／またはモノマー化合物を使用することは特に興
味深い。
【００７９】保護される有機材料は好ましくは天然、半
合成もしくは、好ましくは合成有機材料である。特に好
ましくは合成有機ポリマーまたはそのようなポリマーの
混合物、特にポリオレフィンまたはスチレンコポリマー
のような熱可塑性ポリマーである。例えば上述の１、
２、３、６および７項に記載されたポリマーであり、例
えばポリエチレン、ポリプロピレンまたはスチレンおよ
びコポリマー、特にポリエチレン（ＰＥ）およびポリプ
ロピレン（ＰＰ）である。
【００８０】一般的に、（安定化される材料の重量を基
準として）０．０１ないし５０％、好ましくは０．０５
ないし２０％、そして特に好ましくは０．０５ないし１
０％の量で、新規ポリマーおよび／またはモノマー化合
物を安定化される材料に添加する。特に好ましくは、Ｈ
ＡＬＳモノマーもしくはコモノマーが０．０５ないし
１．５％、特に０．１ないし０．５％の量で存在するよ
うに本発明の化合物を使用することである。
【００８１】当該分野で慣用な方法により、例えば更な
る添加剤を伴って、もしくは伴わずに本発明の安定剤を
混合することまたは適用することにより、材料への混成
を行うことが可能である。ポリマー、特に合成ポリマー
を伴う場合、成形操作の前または間に、あるいはそれに
続く溶媒の除去を伴ってまたは伴わずに溶解または分散
させた化合物をポリマーに適用することにより混成を行
うことができる。エラストマーの場合、ラテックスとし
て安定化させることも可能である。更に、ポリマー中に
本発明の安定剤を混成することに関しては、相当するモ
ノマーの重合の前、間または直後に、あるいは架橋の前
に、それらを添加することも可能である。この場合、新
規ポリマーまたはモノマー化合物をそれ自体で、もしく
はカプセル化された形状（例えば、ワックス、オイルま
たはポリマー中にカプセル化された形状）で添加するこ
とができる。
【００８２】本発明の安定剤を、例えば安定化されるポ
リマーに対して２．５ないし２５重量％の濃度で該化合
物を含むマスターバッチの形状で添加することもでき
る。
【００８３】以下に示す方法により、本発明の安定剤を
妥当に混成することができる。 ・乳濁液または分散液（例えばラテックスまたは乳化ポ
リマー）として。 ・付加的な成分またはポリマー混合物の混合間の乾式混
合物として。 ・加工装置（例えば押出機、内部混合機など）中への直
接的な導入により。または ・溶液または溶融物として。高温での加工前に本発明の
安定剤を熱可塑性ポリマーに添加することが特に有利で
あり、例えば押出機の方法によりしばしば実行されてい
る。
【００８４】例えばフィルム、繊維、テープ、成形材
料、異形材を製造するために、またはコーティング材
料、粘着剤もしくはパテのバインダーとして、本発明の
ポリマー組成物を様々な形状で使用することおよび／ま
たは様々な製品を製造するために加工することができ
る。本発明の安定剤に加えて、本発明の組成物は付加的
な成分Ｃとして例えば以下に記載されるような慣用の添
加剤の一種またはそれより多くを含んでもよい。慣用の
添加剤は、安定化される材料を基準として０．０１ない
し１０重量％、例えば０．０１ないし３重量％の量で妥
当に使用される。
【００８５】１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 、例えば、２，６−
ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチ
ル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖におい
て枝分れ鎖であるノニルフェノール、例えば、２，６−
ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル
−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノー
ル、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ
−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール 、例えば、２，
４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノー
ル、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノ
ール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェ
ノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニル
フェノール。
【００８６】１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒ
ドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
トキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジ
−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，
６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
アジペート。１．４．トコフェロール 、例えば、α−トコフェロー
ル、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−ト
コフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）。１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェ
ノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−
メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブ
チル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビ
ス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジス
ルフィド。
【００８７】１．６．アルキリデンビスフェノール、例
えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブ
タン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００８８】１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化
合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチ
ル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル
メルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、ジ
オクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシ
ル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。
【００８９】１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。１．１０．トリアジン化合物 、例えば、２，４−ビス
（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソ
シアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５
−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサ
ヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート。
【００９０】１．１１．ベンジルホスホネート、例え
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。１．１２．アシルアミノフェノール 、例えば、４−ヒド
ロキシラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン
酸アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
【００９１】１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、 アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノ
ール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−
ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレン
グリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル
グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリト
ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３
−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多
価アルコールとのエステル 、 アルコール例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノ
ール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−
ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレン
グリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル
グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリト
ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００９２】１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、 アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル酢酸の以下の一価または多価アルコールとのエス
テル 、 アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノー
ル、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
［２．２．２］オクタン。
【００９３】１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例
えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’
−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキ
サミド（ユニロイヤル（Uniroyal）社によって供給され
る登録商標ナウガード（Naugard ）ＸＬ−１）。１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ） 。
【００９４】１．１９．アミン系酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノ
ール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイル
アミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノー
ル、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４
−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジ
アミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニ
ルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２
−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フ
ェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、
ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］
アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−
アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフ
ェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−イ
ル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【００９５】２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール 、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’
−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−
クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−
５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチ
ルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド
ロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２
−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキ
シルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチ
ル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシ
ルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−
２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−
ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−ベンゾトリアゾル−２−イルフェノール］、２−
［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル
エチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエス
テル交換生成物、次式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯＣＨ
2 ＣＨ2 −］2 −［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’
−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イ
ルフェニル基を表す。］で表されるもの、２−［２’−
ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−
５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−
３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’
−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリ
アゾール。
【００９６】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチル
オキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−
ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよ
び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。２．３．置換および未置換安息香酸のエステル 、例え
ば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエートおよび２−メチル−４，６−ジ−第三ブチル
フェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。２．４．アクリレート 、例えば、エチル−α−シアノ−
β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−α−
シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−α
−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シアノ−
β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル−α−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチ
ル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートお
よびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−
２−メチルインドリン。２．５．ニッケル化合物 、例えば、２，２’−チオ−ビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェ
ノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯
体であって、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン
またはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような
さらなる配位子を伴うまたは伴わないもの；ニッケルジ
ブチルジチオカルバメート；４−ヒドロキシ−３，５−
ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエス
テル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデ
シルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体；１
−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うまた
は伴わないもの。
【００９７】２．６．立体障害アミン、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよ
びスクシン酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖または環式縮合
生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，
５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステ
アリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オク
チル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト
リアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネー
ト、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モ
ルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン
の直鎖または環式縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビ
ス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンおよび１，
２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生
成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミ
ノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル
−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジ
オン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４
−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロ
ヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリ
アジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，
３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ
Ｒｅｇ． Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）、Ｎ
−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシ
ルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−
テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキ
ソスピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメ
チル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジ
アザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンおよびエピク
ロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカル
ボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン、Ｎ，
Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジ
アミン、４−メトキシメチレン−マロン酸と１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジン
とのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−
４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン
−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−ア
ミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００９８】２．７．オキサミド、例えば、４，４’−
ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシ
オキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’
−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキ
シ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ
−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジ
メチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５
−第三ブチル−２’−エトキサニリド、およびその２−
エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサ
ニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−
二置換オキサニリドの混合物。
【００９９】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリ
ス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェ
ニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，
３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／ト
リデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒ
ドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−
プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメ
チルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−
ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−
ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プ
ロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェ
ニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−
｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−
１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニ
ル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン。
【０１００】３．金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフ
ェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイ
ルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。
【０１０１】４．ホスフィットおよびホスホナイト、例
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルソルビトールト
リホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−
第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２
−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，
２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，
５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−
２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシ
ル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，
１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【０１０２】特に好ましいものは以下のホスフィットで
ある。トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホス
フィット（登録商標イルガホス(Irgafos) 168 ：チバ−
ガイギー(Ciba-Geigy)社製）、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフィット。
【化２８】
【０１０３】５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘
導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。６．ニトロン 、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−
ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オ
クチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−
ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデ
シル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロ
ン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−
オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛
脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシ
ルアミンから誘導されたニトロン。
【０１０４】７．チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオ
ジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネー
ト。８．過酸化物捕捉剤 、例えば、β−チオジプロピオン酸
のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル
ジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−
ドデシルメルカプト）プロピオネート。９．ポリアミド安定剤 、例えば、ヨウ化物および／また
はリン化合物との組合せによる銅塩ならびに二価のマン
ガン塩。
【０１０５】１０．塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは亜鉛ピロカテコレート。１１．核剤 、例えば、タルクのような無機材料、二酸化
チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフ
ェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好
ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−またはポリカ
ルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例え
ば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル
酢酸、ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾ
エート、イオン性コポリマー（”アイオノマー”）のよ
うなポリマー性化合物。
【０１０６】１２．充填剤および強化剤、例えば、炭酸
カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェー
ト、金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラッ
ク、グラファイト、木粉および他の天然生成物の粉末ま
たは繊維、合成繊維。１３．その他の添加剤 、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白
剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
【０１０７】１４．ベンゾフラノンおよびインドリノ
ン、例えば、米国特許第４３２５８６３号明細書、米国
特許第４３３８２４４号明細書、米国特許第５１７５３
１２号明細書、米国特許第５２１６０５２号明細書、米
国特許第５２５２６４３号明細書、ドイツ特許第４３１
６６１１号明細書、ドイツ特許第４３１６６２２号明細
書、ドイツ特許第４３１６８７６号明細書、欧州特許第
０５８９８３９号明細書もしくは欧州特許第０５９１１
０２号明細書に記載されているものや、あるいは３─
［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７
−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−
ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシ
エトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，
３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２
−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−
オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシ
フェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセト
キシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三
ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメ
チル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−
第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−
ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフ
ラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−
５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
【０１０８】
【実施例】以下の実施例によりは本発明を更に説明す
る。特記しない限り、明細書の残りの部分および請求項
の部分と同様に、実施例中の部およびパーセントの全て
は重量によるものである。実施例では以下の記号が使用
される。 ＧＣ：ガスクロマトグラフィー； ＨＰＬＣ：高圧液体クロマトグラフィー； ＧＰＣ：ゲル透過クロマトグラフィー； ＴＨＦ：テトラヒドロフラン； ＭＡＬＤＩ：マトリックス補助レーザー放出電離 (Matr
ix Assisted Laser Desorption Ionization)； ＭＳ：質量スペクトロメトリー； ＤＳＣ：示差熱分析； ＭＡＯ：メチルアルミノキサン（製造元：ヴィトコ(Wit
co) ）； Ｍn ：数平均分子量（単位：ｇ／ｍｏｌ）； Ｍw ：質量均分子量（単位：ｇ／ｍｏｌ）； Ｈ−ＮＭＲ：核種 1Ｈの核磁気共鳴； １トール（＝１ｍｍＨｇ）は約１３３Ｐａの圧力に相当
する。
【０１０９】Ａ）モノマー（ＨＡＬＳ）の製造 Ａ１）２−（ブト−３−エニル）−２，６，６−トリメ
チル−４−オキソピペリジン；
【化２９】 の製造： ａ）温度計および還流冷縮器を取り付けた５００ｍｌの
丸底フラスコ中でジアセトンアミン３１ｇ（０．２７ｍ
ｏｌ）、５−ヘキサン−２−オン５２．８ｇ（０．５４
ｍｏｌ）および塩化カルシウム１７ｇ（０．１５ｍｏ
ｌ）を５９℃まで加熱する。５日後、粘性のある反応混
合物を、水酸化ナトリウム溶液およびジクロロメタンの
混合物中に添加する。有機層を分離し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、ろ過し、そしてろ液をロータリーエバポレ
ーターで濃縮する。残渣を真空で蒸留する（沸点：９０
℃／２トール）。５ｇ（収率１０％）の２−（ブト−３
−エニル）−２，６，６−トリメチル−４−オキソピペ
リジンが得られる。 Ｈ−ＮＭＲ：１．１９（ｓ，ｂｒ，ＣＨ3 ，３Ｈ），
１．２４（ｓ，ｂｒ，ＣＨ3 ，３Ｈ），１．４ないし
１．６（ｍ，ＣＨ2 −Ｃ＝Ｃ，２Ｈ），１．９（ｍ，Ｃ
Ｈ2 −Ｃ−Ｃ＝Ｃ，２Ｈ），２．１ないし２．３（ｍ，
ＣＨ2 −ＣＯ，４Ｈ），４．９ないし５．１（ｍ，ＣＨ
2 ＝，２Ｈ），５．７ないし５．９（ｍ，ＣＨ＝Ｃ，１
Ｈ）。 ＭＳ：Ｍ＋（０），１８０（１６），１４０（１０
０），１２３（１１），９８（２０），８３（７９），
５８（３２），４２（７６）。
【０１１０】Ａ１ｂ）あるいはまた、−４７℃で粉末状
塩化カルシウム無水物（７５ｇ，０．６７ｍｏｌ），５
−ヘキサ−２−オン（１２５ｇ，１．２８ｍｏｌ）およ
びジアセトンアルコール（１５０ｇ，１．２８ｍｏｌ）
のよく攪拌された混合物にアンモニア無水物（３０ｇ，
１．７６ｍｏｌ）を４日間以上かけて４部に分けて導入
する。続いて、均一な上記混合物を５９℃まで加熱し、
そして更に４日間攪拌する。水酸化ナトリウム１００ｇ
を含む水溶液５００ｍｌに反応混合物を注入する。油状
物をデカンテーションし、そして残渣の苛性スラリーを
ジクロロメタンで洗浄する。油状物およびジクロロメタ
ン抽出物を無水硫酸ナトリウム上で乾燥させる。乾燥剤
をろ過により除去し、そしてろ液をロータリーエバポレ
ーターで濃縮する。次いで、装置を蒸留用に変え、そし
て反応混合物を減圧下（５ｍｍＨｇ）、４０℃で攪拌す
る。残渣溶液は重さ４５ｇであり、本質的にトリアセト
ンアミンおよび２−（ブト−３−エニル）−２，６，６
−トリメチル−４−オキソピペリジンが１：１である混
合物からなる。表題の生成物を蒸留（２ｍｍＨｇ）によ
り単離する。
【０１１１】Ａ２）２−（ブト−３−エニル）−２，
６，６−トリメチルピペリジン；
【化３０】 の製造：２−（ブト−３−エニル）−２，６，６−トリ
メチル−４−オキソピペリジン（実施例Ａ１の生成物）
５ｇ（０．０２６ｍｏｌ），水酸化カリウム４．７ｇ
（０．０８６ｍｏｌ），水素化ヒドラジン６ｇ（０．１
９ｍｏｌ）およびジエチレングリコール１８．２ｇを１
３０℃で２時間加熱し、次いで１９５℃で水滴分離器上
で沸騰させる。有機層を蒸留する（８０℃，１０トー
ル）。収量は２ｇである（４３％）。 Ｈ−ＮＭＲ：１．０８（ｓ，ＣＨ3 ，３Ｈ），１．１
（ｓ，ＣＨ3 ，３Ｈ），１．１３（ｓ，ＣＨ3 ，３
Ｈ），１．３５（ｍ，ＣＨ2 ，６Ｈ），１．５ないし
１．７（ｍ，ＣＨ2 ，２Ｈ），２．０ないし２．１
（ｍ，ＣＨ2 −Ｃ＝Ｃ，２Ｈ），４．９ないし５．１
（ｍ，ＣＨ2 ＝，２Ｈ），５．７ないし５．９（ｍ，Ｃ
Ｈ＝，１Ｈ）。 ＭＳ：１８１（５），１６６（２６），１３８（２），
１２６（１００），１１０（１２），８１（６），７０
（４４），４１（３２）。
【０１１２】Ａ３）次式
【化３１】 で表される化合物の製造：マグネチックスターラーおよ
び、上部に蒸留器具を取り付けた１００ｍｌの丸底フラ
スコ中で１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミ
ノピペリジン３４．０ｇ（０．２ｍｏｌ）および１０−
ウンデセン酸３６．８ｇ（０．２ｍｏｌ）を攪拌しなが
ら１８０℃まで加熱する。７時間の反応時間および蒸留
による水の除去に続いて、混合物を室温まで冷却する。
続いて行われる０．０３トールおよび２００℃における
蒸留により表題の生成物が得られる。
【０１１３】Ａ４）次式
【化３２】 で表される化合物の製造：１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ブチルアミノピペリジン２２．６ｇおよび
トリエチルアミン１１．１ｇを塩化メチレン１５０ｍｌ
に溶解する。氷／塩化ナトリウムを使用して、溶液を０
℃まで冷却する。塩化メチレン５０ｍｌ中の溶液として
の塩化（１０−）ウンデセノイル２０．３ｇを２０分以
上かけて滴下する。氷浴を除き、溶液を１時間室温で攪
拌し、次いで毎回５０ｍｌの水で２回洗浄を行い、Ｎａ
2 ＳＯ4 上で乾燥し、そしてロータリーエバポレーター
で塩化メチレンを留去する。銅パイプ蒸留装置中、０．
０２トールおよび１７０℃で残渣を蒸留し、表題の生成
物３０ｇを得る。
【０１１４】Ａ５）２，２，６，６−テトラメチル−
３，４−デヒドロ−４−アリルピペリジンの合成：
【化３３】 ａ）ＤＭＦ５０ｍｌ中２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリドンヒドロクロリド５ｇおよびアリルブロミド６．
３１ｇの攪拌溶液に、亜鉛粉末３．７５ｇを添加する。
発熱反応が非常に迅速に開始し、そして２０分以内に停
止する。減圧および加熱を使用することにより殆どのＤ
ＭＦを留去する。次いでクロロホルムおよびアルカリ性
の水で残渣を洗浄する。そしてクロロホルム層を回収
し、Ｎａ2ＳＯ4 上で乾燥し、次いで溶媒を留去し、そ
して生成物を蒸留する。蒸留の間に冷却器および受けフ
ラスコにおいて生成物を結晶化する。２，２，６，６−
テトラメチル−４−ヒドロキシ−４−アリルピペリジン
４．３ｇを得る。
【０１１５】ｂ）製造された２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ヒドロキシ−４−アリルピペリジンに、室温
で塩化チオニル７．８５ｇを滴下し、次いで溶液を３時
間、５０℃まで加熱する。塩化チオニルを留去し、そし
て抽出のためにＮａＯＨ溶液およびジエチルエーテルに
続いて水を添加する。ジエチルエーテル層をＮａ2 ＳＯ
4 で乾燥し、減圧下で４５ないし５０℃で留去および蒸
留し、２，２，６，６−テトラメチル−３，４−デヒド
ロ−４−アリルピペリジン１．８ｇを得る。
【０１１６】Ａ６）４−（ブト−３−エニル）−１，
２，２，６，６−ペンタメチル−３，４−デヒドロピペ
リジンの製造：
【化３４】 ＴＨＦ８０ｍｌ中マグネシウム屑(magnesium turnings)
０．１４ｍｏｌおよび４−ブロモ−１−ブテン０．１４
ｍｏｌを使用して通常の方法によりアルゴン雰囲気下で
グリニャール試薬を製造する。次いでＴＨＦ２０ｍｌ中
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−オキソピペリ
ジン（０．１２ｍｏｌ）の溶液を滴下する。反応混合物
を一晩攪拌し、そして水性塩化アンモニウム溶液中に注
入する。ＴＨＦ層を分離し、そして水層をジクロロメタ
ンで抽出する。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そ
して濃縮する。減圧下で蒸留後、４−（ブト−３−エニ
ル）−４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン（沸点：７０℃／５ｍｍＨｇ）７．２ｇ
（２７％）を回収する。
【０１１７】次いで、４−（ブト−３−エニル）−４−
ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリ
ジン７．２ｇをクロロホルムに溶解し、そしてアルゴン
ブランケット下で塩化チオニル８０ｍｌを混合物に滴下
する。混合物を６０℃まで加熱し、そして１６時間の持
続的な加熱の間この温度を保つ。室温まで冷却後、塩化
チオニルの過剰量を留去し、そして残渣を水に溶解し、
次いで過剰量の５０％水酸化ナトリウム溶液でアルカリ
性とする。エーテルで水層を抽出後、溶媒を除去し、そ
して生成物を蒸留し、４−（ブト−３−エニル）−１，
２，２，６，６−ペンタメチル−３，４−デヒドロピペ
リジン２．５ｇ（３７．５％）を得る（約２０％の４−
（ブト−３，１−ジエニル）−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジン異性体を含み、該異性体は分離さ
れない）（沸点：９０℃／１０ｍｍＨｇ）。単離された
生成物は以下のスペクトルデータを示す。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ＴＭＳ）：
１．０（ｄ），１．１（ｓ，ｂｒ，−ＣＨ3 ，６Ｈ），
１．９（ｓ，ｂｒ，−Ｃ５ＣＨ2 ，２Ｈ），２．０
（ｍ，−ＣＨ2 −Ｃ＝Ｃ，２Ｈ），２．１（ｍ，ｂｒ，
−ＣＨ2 −ピペリジン），２．２（ｓ，Ｎ−ＣＨ3 ，３
Ｈ），４．９ないし５．１（ｍ，＝ＣＨ2 ，２Ｈ），
５．２（ｓ，ｂｒ，Ｃ３Ｈ，１Ｈ），５．７ないし５．
９（ｍ，−ＣＨ＝，１Ｈ）。13 Ｃ−ＮＭＲ：２４．７，２６．８，２８．７，３１．
７，３３．６，４３．８，５２．５，５４．９，１１
４．３，１３０．４，１３０．６および１３８．４。 主成分化合物に対するＭＳ ｍ／ｅ（ｒｅｌ．ｉｎ
ｔ．）：Ｍ+ ２０７（１），１９２（１００），１５１
（１２），１３６（１３），１１９（４），１０８
（３），９６（２），７７（４），７２（３）および５
６（２１）。副成分化合物に対するＭＳ ｍ／ｅ（ｒｅ
ｌ．ｉｎｔ．）は、Ｍ+ ２０７（８），１９３（１
６），１９２（１００），１３６（７），１１９
（５），９３（５），７７（１３），７２（４３），５
６（３３）および５１（７）でピークを示す。
【０１１８】Ａ７）１−（ブト−３−エニル）−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの製造：ジオキサ
ン（１１ｍｌ）中、２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン（１４．１ｇ，０．１ｍｏｌ）および４−ブロモ
−１−ブテン（１６．２ｇ，０．１２ｍｏｌ）の混合物
を１日間１００℃で還流する。次いでナトリウム片を添
加し、混合物を更に３日間１００℃で攪拌する。不溶物
質をろ過により分離し、そして減圧下でジオキサンを除
去する。ジエチルエーテルを添加し、そして有機層を水
性炭酸ナトリウムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、そして濃縮する。減圧下での蒸留により１−（ブト
−３−エニル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン（沸点：６２℃／１０ｍｍＨｇ）３ｇ（１５．４
％）を得る。生成物には約１７．５％の異性体、例えば
１−（ブト−２−エニル）−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジンが含まれ、この異性体は分離されない。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ＴＭＳ）：
５．７（ｍ，＝ＣＨ，１Ｈ），４．９（ｍ，＝ＣＨ2 ，
２Ｈ），２．４（ｓ，−Ｎ−ＣＨ2 −，２Ｈ），２．１
（ｍ，＝Ｃ−ＣＨ2 −，２Ｈ），１．４５（ｍ，Ｃ４Ｈ
2 ，２Ｈ），１．３（ｍ，ｂｒ，Ｃ３Ｈ2 およびＣ５Ｈ
2 ，４Ｈ），０．９（ｓ，−ＣＨ3 ，１２Ｈ）。13 Ｃ−ＮＭＲ：１３７，１１４．７，５４．５，４４．
５，４１．１，４０．３，３１．４および１７．７。 ＭＳ ｍ／ｅ（ｒｅｌ．ｉｎｔ．）：主成分化合物に対
して１９５（２），１８０（２７），１５４（１０
０），１２４（１６），１１２（５），８３（７），６
９（６９），４１（５９）ならびに、副成分化合物に対
して１９５（５），１８０（１００），１５４（１．
５），１２４（１５），１０９（７），８２（５），７
０（２７）および５５（４２）。
【０１１９】Ａ８）１−（３，５−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−４−ブト−３−エニル−２，
２，６，６−テトラメチル−３，４−デヒドロピペリジ
ンの製造：
【化３５】 ａ）４−ヒドロキシ−４−（ブト−３−エニル）−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジンの製造：ジエチル
エーテル２００ｍｌ中マグネシウム屑(magnesium turni
ngs)０．５ｍｏｌおよび４−ブロモブテン０．４９ｍｏ
ｌを使用して通常の方法により窒素雰囲気下でグリニャ
ール試薬を製造する。次いでジエチルエーテル中２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン０．２４５ｍｏｌ
の溶液を滴下し、還流を続ける。反応混合物を室温で１
２時間攪拌し、そして１０％塩酸により溶液をｐＨ１ま
で酸性とする。ジエチルエーテルで二回洗浄後、水層を
分離する。過剰量のアンモニア溶液で水層をアルカリ性
とし、クロロホルムで水層を抽出する。クロロホルムを
分離し、乾燥し、溶媒を除去し、そして真空蒸留により
４−ヒドロキシ−４−（ブト−３−エニル）−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン２１ｇ（４３．５％）
を得る；７２ないし７６℃／３ｍｍＨｇ。
【０１２０】ｂ）４−（ブト−３−エニル）−２，２，
６，６−テトラメチル−３，４−デヒドロピペリジンの
製造：クロロホルム２１０ｍｌ中４−ヒドロキシ−４−
（ブト−３−エニル）−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン２１ｇの溶液に、３０分以内５０℃で塩化チ
オニル２１９ｇを滴下する。攪拌下で混合物をこの温度
に４時間保つ。２５℃まで冷却後、真空下で過剰量の塩
化チオニルを留去する。残渣を水５０ｍｌに溶解し、次
いで過剰量の水酸化ナトリウム溶液によりアルカリ性と
する。エーテルによる水層の抽出後、溶媒を除去し、生
成物を蒸留し、８０℃／１０ｍｍＨｇで４−（ブト−３
−エニル）−２，２，６，６−テトラメチル−３，４−
デヒドロピペリジン１２．９ｇを得る。
【０１２１】ｃ）１−（メチレン−２，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）−４−（ブト−３−エニル）−２，
２，６，６−テトラメチルデヒドロピペリジンの製造：
４−（ブト−３−エニル）−２，２，６，６−テトラメ
チル−３，４−デヒドロピペリジン（５．６ｇ，３１ｍ
ｍｏｌ）にｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中２．５Ｍ溶液１
０．３ｍｌ，２６ｍｍｏｌ）を滴下し、そして−６０℃
で３０分間、反応混合物を強力に攪拌する。次いで、ヘ
キサン１５ｍｌ中に溶解された４−ブロモメチル−２，
６−ジ−第三ブチルフェノール（７．７ｇ，２６ｍｍｏ
ｌ）を滴下する。完全に滴下が行われた後、反応混合物
を室温まで温め、一晩攪拌し、そして水で３回洗浄す
る。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を
留去する。次いで、過剰量の２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジンを５０℃／１ｍｍＨｇで留去する。残渣
をヘキサン／水混合物（１：１）５０ｍｌに溶解し、そ
してＨＣｌで酸性とし、それにより所望の生成物を塩と
して沈澱させる。塩をろ過により分離する。エーテルな
らびに水酸化ナトリウムによりアルカリ性とされた水に
よる塩の抽出後、１−（メチレン−２，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）−４−（ブト−３−エニル）−２，
２，６，６−テトラメチルデヒドロピペリジンの粗生成
物２ｇを得る。
【０１２２】Ａ９）４−（２−（３−シクロヘキセニ
ル）エチルジメチルシロキシル）−１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジンの製造：
【化３６】 ＤＭＦ（６０ｍｌ）中１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−オキソ−ピペリジン（１０ｇ，０．０６ｍｏ
ｌ）およびイミダゾール（４．１ｇ，０．０６ｍｏｌ）
の溶液を２−（３−シクロヘキセニル）−エチルジメチ
ルクロロシラン（１３．８ｇ，０．０６ｍｏｌ）と反応
させ、次いでアルゴンブランケット下で室温で一晩攪拌
する。反応混合物を水で処理し、そしてジエチルエーテ
ル（２×１５０ｍｌ）で抽出する。全有機層を水で数回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶媒を減圧下
で除去すると残渣に有機油状物が残る。減圧下で蒸留
し、白色の液体として４−（２−（３−シクロヘキセニ
ル）エチルジメチルシロキシル）−１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジン（沸点：１５０℃／３ｍｍＨ
ｇ）７．９ｇ（３８．９％）を得る。
【０１２３】Ａ１０）（２，２，６，６−テトラメチル
−３，４−デヒドロピペリジン−４−イル）−（４−ビ
ニルフェニル）−メタンの製造：
【化３７】 ａ）（２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ
ピペリジン−４−イル）−（４−ビニルフェニル）−メ
タン（Ｉ）は、アリルブロミドの代わりに等量の４−ビ
ニルベンジルブロミドを使用することを除いて実施例Ａ
５（ａ）に記載の方法に従って製造される。同様の化合
物は実施例Ａ８（ａ）に記載された手順で同様の抽出物
を使用して得られる。 ｂ）実施例Ａ８（ｂ）に記載の方法に従って、上述の生
成物を塩化チオニルと一緒に加熱し、（２，２，６，６
−テトラメチル−３，４−デヒドロピペリジン−４−イ
ル）−（４−ビニルフェニル）−メタンを得る。
【０１２４】Ａ１１）４−ブロモ−１−ブテンの代わり
に等量の１１−ブロモ−１−ウンデセンを使用すること
を除いて実施例Ａ７に記載の方法に従って、１−（ウン
デク−１０−エニル）−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジンを製造する。
【０１２５】Ａ１２）１−ベンジル−２，２，６，６−
テトラメチル−３，４−デヒドロピペリジンの製造：
２，２，６，６−テトラメチルピペリジノール２４．５
ｇ（０．１５ｍｏｌ）に濃硫酸７５ｇを添加する。混合
物を１００℃まで加熱し、１．５時間攪拌する。次いで
混合物を室温まで冷却し、そして水２５０ｍｌ中水酸化
ナトリウム１００ｇの溶液に滴下する。水層をジクロロ
メタン２００ｍｌで３回抽出する。全有機抽出物を硫酸
ナトリウム上で乾燥させ、そして蒸発させることにより
溶媒を除去する。残渣を蒸留し、２，２，６，６−テト
ラメチル−３，４−デヒドロピペリジン１２．３ｇ（５
３％）を得る（沸点：１４９℃／７６０ｍｍＨｇ）。次
いで製造された２，２，６，６−テトラメチル−３，４
−デヒドロピペリジン１２．３ｇ（０．０８ｍｏｌ）に
臭化ベンジル３８ｇを添加し、３．５時間、１５０℃ま
で加熱する。過剰量の臭化ベンジルを蒸発させることに
より除去し、そして残渣をベンゼンに溶解し、水性の炭
酸カリウムにより洗浄し、無水炭酸カリウム上で乾燥さ
せる。ベンゼンを除去し、残渣を蒸留し、１−ベンジル
−２，２，６，６−テトラメチル−３，４−デヒドロピ
ペリジン８．２ｇ（４１％）を得る（沸点：１１５℃／
４ｍｍＨｇ）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，ＴＭＳ）：
１．０（ｓ，ｂｒ，−ＣＨ3 ，６Ｈ），１．１（ｓ，ｂ
ｒ，−ＣＨ3 ，６Ｈ），２．０（ｓ，ｂｒ，−Ｃ３Ｈ2
−ピペリジン，２Ｈ），３．８（ｍ，−ＣＨ2 −フェニ
ル，２Ｈ），５．６（ｍ，ｂｒ，−ＣＨ＝ＣＨ−，２
Ｈ），７．１ないし７．４（ｍ，フェニル，５Ｈ）。13 Ｃ−ＮＭＲ：４１．１，４７．５，５３．５，５５．
８，１２０．２，１２５．６，１２６．６，１２７．
８，１３６．７および１４６．３。ＭＳ ｍ／ｅ（ｒｅ
ｌ．ｉｎｔ．）：２２９（３），２１４（９５），１７
２（２），１４５（６），１２２（２），９１（１０
０），６５（１５）および４１（１０）。
【０１２６】Ｂ）自己安定化ポリマーの製造 ２ｐｐｍ未満の酸素および５ｐｐｍ未満の水を含むグロ
ーブボックス中、窒素下で、触媒、活性化剤およびＨＡ
ＬＳモノマーのサンプリングを行う。反応温度を循環式
水浴で±０．３℃以内に制御する。ソックスレー装置で
２４時間、２−プロパノール／シクロヘキサンを還流し
てコポリマーを抽出した後に元素分析により結合ＨＡＬ
Ｓの量を決定する。重合に相当する比較例（Ｖ）はＨＡ
ＬＳモノマーを添加せずに行われる。
【０１２７】実施例Ｂ１ないしＢ１７） ナトリウム上で乾燥させた２５０ｍｌのトルエンをそれ
ぞれの表に記載された量のＭＡＯと混成する（それぞれ
の場合で使用されたＺｒ化合物の０．０１１ｍｍｏｌに
対するモル比に関して以下の表を参照せよ）。この溶液
の半分を温度計を装着させた１リットルの反応容器に添
加し、いずれの可能な不純物も無効にするために５分間
攪拌を行う。残りの半分の溶液に０．００００１１ｍｏ
ｌのジルコニウム化合物（以下に記載の触媒）を添加
し、そして混合物を１０分間攪拌する（触媒を活性化す
るため）。触媒溶液を反応容器に移し入れ、そしてエチ
レンまたはプロピレンに通すことにより重合を開始す
る。予定の期間（通常５分）後にトルエン１５ｍｌ中溶
液としてＨＡＬＳモノマーを添加する。６０分後、オー
トクレーブの圧を下げ、メタノールまたはエタノール１
００ｍｌの添加により重合を停止させる。エタノール９
６０ｍｌおよび濃塩酸４０ｍｌの混合物中でコポリマー
を攪拌して触媒残渣を除去し、次いで純粋なアルコール
で二回洗浄し、そして真空下で乾燥させる。コポリマー
の収率は重量測定により決定する。イソプロパノール／
シクロヘキサン混合物によりソックスレー抽出器中でコ
ポリマーの一片を抽出し、窒素分析の方法により結合Ｈ
ＡＬＳの比率を決定する。比較例ＣはＨＡＬＳモノマー
未使用である重合を意味する。
【０１２８】使用されたＨＡＬＳコモノマーの比率、お
よび重合に関する他の詳細、ならびに生成物の性質を以
下の表１および２に記載する。ＧＰＣにより分子量を決
定し；ＨＡＬＳを含まないコモノマーはエチレン（Ｅ
ｔ）またはプロピレン（Ｐｒ）であり；温度は℃で表示
される。Ｚｒを基準とする量は使用されたＺｒのモル分
率を基準とするモル分率であり；生成物中ＨＡＬＳの量
は得られたコポリマー中のＨＡＬＳモノマーの重量％に
よるものである。
【０１２９】以下の触媒が使用される。 触媒０：ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（ＩｎｄＨ4 ）Ｚｒ
Ｃｌ2 ，メチルアルミノキサン３３ｍｍｏｌ 触媒１：ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（ＩｎｄＨ4 ）2 Ｚ
ｒＣｌ2 ／メチルアルミノキサン 触媒２：ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（Ｉｎｄ）2 ＺｒＣ
ｌ2 ／メチルアルミノキサン 触媒３：ｒａｃ−（１，４−ブタンジイル）2 Ｓｉ（Ｉ
ｎｄＨ4 ）2 ＺｒＣｌ 2 ／メチルアルミノキサン 触媒４：ｒａｃ−Ｃ2 Ｈ5 （２−（第三ブチルジメチル
シリルオキシ）Ｉｎｄ）2 ＺｒＣｌ2 ／メチルアルミノ
キサン 触媒５：（ＣＨ3 ）2 Ｃ（フルオレニル）（シクロペン
タジエニル）ＺｒＣｌ 2 ／メチルアルミノキサン 触媒６：ｒａｃ−（ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（Ｉｎｄ）2 ＺｒＣ
ｌ2 ／トリフェニルメチル テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボラン
【０１３０】表１：エチレンによる共重合；触媒モル比
Ａｌ／Ｚｒ＝３０００
【表１】
【０１３１】表２：２バールのプロピレンによるモノマ
ーＡ３の共重合
【表２】
【０１３２】実施例Ｂ１８ないしＢ６６）：ブレードタ
ービン攪拌機を取り付けた０．５ｌジャケット型ガラス
オートクレーブ（ブッチ(Buchi) ，スイス）中でスラリ
ー重合を行う。乾式ガラスオートクレーブから空気を排
除し、そして窒素をバックフラッシュさせる。この作業
を数回繰り返す。蒸留した新しいトルエン２５０ｍｌを
オートクレーブ中に注入する。使用するメチルアルミノ
キサン／トルエン溶液の半分をＨＡＬＳモノマーと一緒
に反応容器に添加し、３０分間攪拌する。２５分後、メ
タロセン触媒を残りのＭＡＯ／トルエン溶液に溶解し、
そして５分間室温に放置することにより前活性化させ
る。エチレンまたはプロピレンを過剰圧力で使用するこ
とにより触媒／活性化剤混合物を反応容器に充填する。
ブッチプレスフロー ガスコントローラー モデルｂｐ
ｃ１２０２ ( Buchi PressflowGas Controller Model b
pc 1202 )を使用して、反応全体にわたって自動的にガ
スの供給を制御することによりエチレンまたはプロピレ
ンの圧力は一定に保たれる。２０または６０分後、急速
にエチレンまたはプロピレンを排出し、そしてエタノー
ル１００ｍｌを添加することにより共重合を停止させ
る。エタノール／ＨＣｌ（ａｑ）溶液で一晩処理するこ
とにより生成したコポリマーの触媒残渣を除去する。ろ
過後、ポリオレフィンをエタノールで２回洗浄し、Ｎａ
ＯＨ（ａｑ）／エタノール溶液で一晩攪拌する。次いで
ポリオレフィンをエタノールで再び２回洗浄し、真空下
で乾燥し、そして重量を測定して重合収率を決定する。
【０１３３】−２０℃および２．０バールプロピレン圧
で、不純物除去剤としてのトリエチルアルミニウム（Ｔ
ＥＡ）およびアルキル化剤を使用して、ＭＡＯ遊離カチ
オン触媒系による共重合を行う。その場でアルキル化触
媒先駆体が製造される。代表的には、ＴＥＡ０．３ｇと
トルエン５０ｍｌおよび適当な量のＨＡＬＳモノマーと
を３０分間攪拌し、続いてメタロセン触媒５ｍｍｏｌを
添加する。プロピレンの過剰圧力で、カチオン形成剤
（トリチル テトラ（ペルフルオロ−フェニル）ボレー
ト（ＴＲＩ−ＦＡＢＡ）またはＮ，Ｎ−ジメチル−アニ
リニウム テトラ（ペルフルオロフェニル）ボレート
（ＤＡＮ−ＦＡＢＡ））を注入することにより共重合は
開始する。６０分後に共重合を中断し、そして上述され
たものと同様の洗浄工程を行う。
【０１３４】シリカ支持メタロセン触媒系における共重
合は８０℃、および３００ｍｌペンタン中５バールのエ
チレン圧で行われる。ＴＩＢＡ（トリイソブチルアルミ
ニウム）０．３ｇは不純物除去剤および外部活性剤とし
て使用される。触媒懸濁液（ペンタン５ｍｌ中、支持触
媒１００ｍｇ）をエチレンの過剰圧力で反応容器に注入
し、共重合を開始する。１８０分後に共重合を中断し、
そして上述されたものと同様の洗浄工程を行う。
【０１３５】メタロセン触媒：ｒａｃ−［ジメチルシリ
レンビス（１−インデニル）］ジルコニウムジクロリド
（ＣＡ１），ｒａｃ−［ジメチルシリレンビス（４，
５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）］ジルコ
ニウムジクロリド（ＣＡ２），ｒａｃ−［エチレンビス
（４，５，６，７−テトラヒドロ−１−インデニル）］
ジルコニウムジクロリド（ＣＡ４），ｒａｃ−［ジメチ
ルシリレンビス（２−メチル−４，５−ベンゾインデニ
ル）］ジルコニウムジクロリド（ＣＡ６），イソプロピ
ル（シクロペンタジエニル−１−フルオレニル）ジルコ
ニウムジクロリド（ＣＡ７）およびｒａｃ−［エチレン
ビス（２−（第三ブチルジメチルシロキシル）−１−イ
ンデニル）］ジルコニウムジクロリド（ＣＡ８）は、以
下の文献に記載の方法により合成される。 ハールマン(Herrmann)等, Angew.Chem., int. Ed. Eng
l.,28, 1511 (1989); ハールマン(Herrmann)等, Angew. Chem. 101, 1536 (19
89); スパレック(Spaleck) 等, Organometallics 13, 954 (1
994); エウェン(Ewen)等, J.Am.Chem.Soc. 110, 6255 (1988); レイノ(Leino) 等, Organometallics 15, 2450 (1996)
。 ｒａｃ−［エチレンビス（１−インデニル）］ジルコニ
ウムジクロリド（ＣＡ３）およびビス（ペンタメチル−
η5 −シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド
（ＣＡ５）は、それぞれストレム(Strem) およびアルド
リッチ(Aldrich) から入手し、そのまま使用する。ｒａ
ｃ−［エチレンビス（２−（第三ブチルジメチルシロキ
シル）−１−インデニル）］ジルコニウムジクロリド触
媒は、 WO 94/ 28034 に記載の製法に従ってシリカに支
持される。
【０１３６】以下の表３および表４に、エチレン共重合
に関して得られた結果を示す。トルエン２５０ｍｌ中エ
チレン、ＨＡＬＳおよび１−ヘキサン３５ｍｍｏｌで得
られたターポリマーを表５に記載する。表６および表７
に、種々のメタロセン／ＭＡＯ触媒系（表６）またはＣ
Ａ２／トリエチルアルミニウム／ボレート触媒系（表
７）を使用したプロピレン共重合の結果をまとめる。結
合Ｎとは、元素分析により決定された、ポリマー生成物
の重量％で表される窒素の量である。
【０１３７】表３：ＣＡ２／ＭＡＯ触媒系（Ａｌ／Ｚｒ
＝３０００）／トルエン２５０ｍｌにおける２０分間の
エチレン（２バール）の共重合；温度は８０℃または表
示された通りである。
【表３】
【０１３８】表４：（ＣＡ５）／ＳｉＯ2 ／ＭＡＯ触媒
系（ＭＡＯ／Ｚｒ＝１００）／ペンタン３００ｍｌにお
ける１８０分間、８０℃でのエチレン（５バール）の共
重合。
【表４】
【０１３９】表５：ＣＡ２／ＭＡＯ触媒系（Ａｌ／Ｚｒ
＝３０００）／トルエン２５０ｍｌにおける２０分間、
８０℃でのエチレン（２バール）および１−ヘキセンに
よる三元重合。
【表５】
【０１４０】表６：種々のメタロセン／ＭＡＯ触媒系
（Ａｌ／Ｚｒ＝３０００；トルエン２５０ｍｌ；６０分
間；８０℃）におけるプロピレン（２バール）の共重
合。
【表６】
【０１４１】表７：ＣＡ２／ＴＥＡ／ボレート補助触媒
系 *（Ａｌ＝３３ｍｍｏｌ／ｌ；トルエン２５０ｍｌ；
２０分間；−２０℃）におけるプロピレン（２バール）
の共重合。
【表７】
【０１４２】Ｃ）有機材料の安定化 実施例Ｃ１：ポリプロピレンの安定化 登録商標ブラベンダープラストグラフ(Brabender Plast
ograph) 中、２００℃で１０分間、表８および９に説明
されたポリマーを０．１または０．２重量％のＨＡＬＳ
モノマーとポリプロピレン粉末（登録商標プロファック
ス(Profax) 6501 ）とともに希釈する。付加的に混成さ
れた補助安定剤は、０．１％ステアリン酸カルシウム、
０．１％トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホ
スフィットおよび０．０５％ペンタエリスリトール テ
トラキス［３−（３’，５’−ジ−第三ブチル−４’−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（補助安定剤タ
イプａ）または０．０２％オクタデシル３−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート（補助安定剤タイプｂ）である。
【０１４３】この方法により得られた組成物を表面温度
２３０℃の圧縮機で薄さ１ｍｍの板に圧縮し、そこから
幅１ｃｍおよび長さ１０ｃｍのストリップを切り取る。
比較の目的のために、安定剤を添加せずに更なる試料を
製造する。それぞれの板からのこのようなストリップの
５枚を１３５℃に加熱された空気循環オーブン中に吊り
下げ、規則的な間隔で、曲げによる脆化に対する時間を
試験する。これらのストリップの酸化分解はストリップ
の破損から明白である。破損までの時間（日数）は試料
の安定性の尺度である。 表８：試料の破損に要する時間（日数） 安定剤の HALS 補助安定剤 分解までに要する 実施例番号 モノマー分率 タイプ オーブン老化の日数 ───────────────────────────────── Ｂ８ ０．１％ ａ ２３ Ｂ１４ ０．１％ ｂ １５
【０１４４】上述に記載された同様の種類の材料を慣例
的に薄さ０．１ｍｍのフィルムに加工する（圧縮状態は
２６０℃で３分間であり、続いて冷却水で停止させ
る）。登録商標ウェザー−オー−メーター６５ＷＲ型
（アトラス社(Atlas Corp.) ）の装置を使用して、ブラ
ックスタンダード温度６５℃でホワイトバックグラウン
ドに対してフィルムを曝露する。酸化過程をフーリエ変
換赤外線スペクトロメーター（カルボニル吸収）の方法
により監視する。カルボニル吸収の高さは深刻なポリマ
ーの分解を示唆する。カルボニル吸収が０．１に達する
までの時間（時間）を以下の表９に示す。 表９：カルボニル吸収０．１に達するまでの曝露時間（時間） 安定剤の HALS 補助安定剤 曝露時間 実施例番号 モノマー分率 タイプ （時間） ───────────────────────────── Ｂ８ ０．１％ ａ ２０００ Ｂ８ ０．２％ ａ ２５００ Ｂ１４ ０．１％ ｂ ２５００ Ｂ１４ ０．２％ ｂ ３９００
【０１４５】実施例Ｃ２：ポリエチレンの安定化 登録商標ブラベンダープラストグラフ(Brabender Plast
ograph) 中、１８０℃で１０分間、表１０に列挙された
ポリマーを０．１重量％のＨＡＬＳモノマーとポリエチ
レン粉末（登録商標スタトイル(Statoil) H 870 ）とと
もに希釈する。付加的に混成された補助安定剤は、０．
１％ステアリン酸カルシウム、０．１％トリス（２，４
−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィットおよび０．０
２％オクタデシル３−（３’，５’−ジ−第三ブチル−
４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネートである。
【０１４６】この方法により得られた組成物を表面温度
２００℃の圧縮機で圧縮し、薄さ１ｍｍの板を形成し、
そこから幅１ｃｍおよび長さ１０ｃｍのストリップを切
り取る。比較の目的のために、安定剤を添加せずに更な
る試料を製造する。それぞれの板からのこのようなスト
リップの５枚を１２０℃に加熱された空気循環オーブン
中に吊り下げ、規則的な間隔で、曲げによる脆化に対す
る時間を試験する。破損までの時間（日数）は試料の安
定性の尺度である。 表１０：試料の破損に要する時間（日数） 安定剤の HALS 分解までに要する 実施例番号 モノマー分率 オーブン老化の日数 ────────────────────────── Ｂ３ ０．１％ １１５
【０１４７】Ｃ３：変性ポリマーの耐久性 空気雰囲気下、ＦＴＩＲ分析機との組み合わせで、１１
５℃でのオーブン老化により以下の表１１に記載のポリ
マーの熱−酸化安定性を決定する。安定性試験の前に、
２４時間、ソックスレー装置でイソプロパノール／シク
ロヘキサンおよびクロロホルムの両方を還流してコポリ
マーを抽出する。安定化されていないポリエチレンと比
較して上記コポリマーは高い熱−酸化安定性を示し、す
なわち１１５℃におけるオーブン老化において、安定化
されていないポリエチレンは２日以内に強いカルボニル
ピークを示すのに対し、上記コポリマーでは１年経過後
にもカルボニルピークが出現しない。 表１１：カルボニルピーク出現までの時間（ＦＴＩＲ） （コ）ポリマー 結合窒素 ＩＲカルボニルピーク の実施例番号 （重量％） の検出時間（時間） ──────────────────────────── Ｖ１０ ０ ４８ Ｂ２９ ０．２ ＞８５４４
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 101/16 Ｃ０８Ｆ 20/60 // Ｃ０８Ｆ 20/60 30/08 30/08 Ｃ０８Ｌ 101/00 (Ｃ０８Ｌ 101/16 101:02） (72)発明者 ジャン アンデルス ハリー ナスマン スウェーデン国，75322 アップサラ， クンサンスガタン 41アー (72)発明者 アルフレッド スタンマン スイス国，1724 プラロマン，レス ルシ レス

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 メタロセン型触媒の存在下で重合が行わ
    れることからなるエチレン系不飽和立体障害性アミンの
    付加重合またはエチレン系不飽和立体障害性アミンおよ
    び他のエチレン系不飽和モノマーの一種もしくはそれよ
    り多くとの付加重合によるポリマーまたはコポリマーの
    製造方法。
  2. 【請求項２】 エチレン系不飽和立体障害性アミンが炭
    素−炭素二重結合および少なくとも一個の次式Ｉ 【化１】 （式中、ＲおよびＲ’は水素原子、炭素原子数１ないし
    １２のアルキル基または炭素原子数５ないし１２のシク
    ロアルキル基を表すか、あるいは隣接した基Ｒは結合し
    ている炭素原子と一緒になってシクロペンチル環または
    シクロヘキシル環を形成し、そしてＲおよびＲ’の一つ
    はまた炭素原子数２ないし１２のアルケニル基または炭
    素原子数５ないし８のシクロアルケニル−もしくは炭素
    原子数６ないし９のビシクロアルケニル−置換炭素原子
    数１ないし８のアルキル基を表すことができるか、ある
    いはＲ’は４位における結合の一つと一緒になって環構
    造内のエチレン系二重結合を形成することができる。）
    で表される基を含む請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 エチレン系不飽和立体障害性アミンが次
    式Ｉａ 【化２】 （式中、ｎは１または２であり；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3
    は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；または
    Ｒ2 およびＲ3 は一緒になって炭素原子数４ないし１１
    のアルキレン基を表し；Ｒ4 およびＲ17は水素原子を表
    すか、またはＲ4 はＲ17と一緒になって化学結合を表
    し、そしてｎ＝１である場合、Ｒ5 は水素原子、ＯＨ、
    炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数７な
    いし１５のフェニルアルキル基、炭素原子数３ないし１
    ２のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア
    ルキル基、シクロヘキセニル基、アクリロイルオキシ
    基、アクリロイルアミド基、フェニレン−もしくはシク
    ロヘキシレン−中断炭素原子数１ないし１８のアルキル
    基もしくは炭素原子数３ないし１２のアルケニル基を表
    すか、または式−Ｘ−（ＣＯ）i−Ｒ8 もしくは式−Ｏ
    −Ｓｉ（Ｒ18）（Ｒ19）（Ｒ20）で表される基を表す
    か、あるいはＲ17は水素原子を表す場合には、Ｒ4 およ
    びＲ5 は一緒になって＝Ｏを表し；指数ｉは０または１
    であり；そしてｎ＝２である場合、Ｒ5 は式−Ｘ−ＣＯ
    −Ｒ10−ＣＯ−Ｘで表される基を表し；Ｒ6 は水素原
    子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数
    ３ないし８のアルケニル基、炭素原子数７ないし１１の
    フェニルアルキル基またはフェニル環上で炭素原子数１
    ないし１２のアルキル基および／もしくはＯＨにより置
    換された炭素原子数７ないし１１のフェニルアルキル基
    を表し；Ｒ7 は炭素原子数３ないし１２のアルケニル基
    または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すか；あ
    るいはＲ7 およびＲ1 は一緒になって炭素原子数４ない
    し１１のアルキレン基を表し；Ｒ8 は炭素原子数１ない
    し１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケ
    ニル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル
    基、炭素原子数８ないし１５のフェニルアルケニル基、
    フェニル部分で炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
    くは炭素原子数２ないし４のアルケニル基もしくは炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ基により置換された炭素
    原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表すか、あ
    るいはフェニル基、または炭素原子数１ないし４のアル
    キル−もしくは炭素原子数２ないし４のアルケニル−も
    しくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ−置換フェニ
    ル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数１ないし１２のアルキル
    基または炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を
    表し；Ｒ10は直接結合、炭素原子数１ないし１２のアル
    キレン基または炭素原子数２ないし１２のアルケニレン
    基あるいはフェニル−またはナフチル−置換炭素原子数
    ２ないし１２のアルケニレン基を表し；Ｒ18およびＲ19
    は互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基、
    特にメチル基を表し；Ｒ20は炭素原子を１ないし１８個
    含む炭化水素基を表し；Ｘは−ＮＨ−、−ＮＲ9 −また
    は−Ｏ−を表す。）で表される化合物（ただし式Ｉａで
    表される化合物はエチレン系二重結合を含む。）である
    請求項１記載の方法。
  4. 【請求項４】 ホモポリマーがエチレン系不飽和立体障
    害性アミンの付加重合により製造されるか、またはコポ
    リマーがエチレン系不飽和立体障害性アミンおよび全コ
    ポリマー重量を基準として１０ないし９９．９重量％の
    次式ＩＩ 【化３】 （式中、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は互いに独立して水素原
    子；−Ｃｌ；炭素原子数１ないし１８のアルキル基；フ
    ェニル基；−Ｃｌ、炭素原子数１ないし４のアルキル基
    および／または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基に
    より１ないし３回置換されたフェニル基を表すか、ある
    いは炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表
    し；そしてＲ14はＲ11、Ｒ12またはＲ13に関して定義さ
    れた通りであるか、あるいは−ＣＮ；炭素原子数１ない
    し１２のアルキルオキシカルボニル基；炭素原子数１な
    いし１２のアルカノイルオキシ基；または炭素原子数１
    ないし１２のアルコキシ基を表す。）で表される他のエ
    チレン系不飽和モノマーとの付加重合により製造される
    請求項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 メタロセン触媒として使用される系が、 Ａ−１）メタロセン化合物、ならびに Ａ−２）アルミノキサン、好ましくは次式（ＩＩＩ） 【化４】 および／または次式（ＩＶ） 【化５】 （式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）中、Ｒは同一または異な
    り、そして炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原
    子数６ないし１８のアリール基、ベンジル基もしくは水
    素原子を表し、そしてｐは２ないし５０の整数であ
    る。）で表されるもの、あるいはイオン交換化合物；か
    らなる請求項１記載の方法。
  6. 【請求項６】 以下の化合物 ａ）次式Ａ 【化６】 （式中、ａは１または２であり、そしてｎおよびｑは互
    いに独立して１ないし４の整数であり、Ｍは元素周期表
    の遷移元素グループＩＶｂないしＶＩＩｂ、ＶＩＩＩま
    たはＩｂからの一価ないし四価の金属カチオンを表し、
    ｍはＬの原子価＋ｑに相当する整数であり、Ｑはハロゲ
    ン原子を表し、Ｌは二価ないし七価の金属または非金属
    を表し、Ｒ21はπ−アレーン基を表し、そしてＲ22はπ
    −アレーン基またはπ−アレーン基のアニオンを表
    す。）で表される化合物； ｂ）遷移金属カチオンに結合したシクロペンタジエニル
    アニオンからなるヘミメタロセン； ｃ）次式 【化７】 〔式中、Ｍm+は周期表のグループＩＶｂ、ＶｂまたはＶ
    Ｉｂの遷移金属のｍ価のカチオンを表し、好ましくはチ
    タン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオ
    ブ、タンタル、クロム、モリブデンまたはタングステン
    を表し；（Ｃ5 Ｈ5-x Ｒx ）は置換基Ｒの０ないし５個
    により置換されたシクロペンタジエニル環を表し；ｘは
    数０、１、２、３、４または５であり；ｎは０または１
    であり；Ｒは、それぞれが独立して、炭素原子数１ない
    し２０の炭化水素基、ハロゲン原子の一個もしくはそれ
    以上により置換された炭素原子数１ないし２０の炭化水
    素基、メタロイド−置換炭素原子数１ないし２０の炭化
    水素基、またはハロゲン原子を表すか、あるいは二個の
    隣接した基Ｒは炭素原子数４ないし２０の環を表すか；
    あるいはｎが１である場合、Ｒは基Ｂy −ＪＲ’z-1-y
    （式中、Ｊは配位数３を有する周期表メイングループＶ
    Ａからの元素を表すか、または配位数２を有する周期表
    メイングループＶＩＡからの元素を表し、好ましくは
    Ｎ、Ｐ、ＯまたはＳを表し；Ｒ’は、それぞれが独立し
    て、炭素原子数１ないし２０の炭化水素基を表すか、ま
    たはハロゲン原子の一個もしくはそれより多くにより置
    換された炭素原子数１ないし２０の炭化水素基を表し；
    ｚは元素Ｊの配位数であり；ｙは０または１であり；ｙ
    が１である場合、Ｂは周期表メイングループＩＶＡまた
    はＶＡの元素からなる架橋を表し、例えば炭素原子数１
    ないし２０のアルキレン基、ジ−炭素原子数１ないし２
    ０のアルキル−、炭素原子数７ないし２０のアルキルア
    リール−もしくはジ−炭素原子数６ないし２０のアリー
    ル−ケイ素もしくは−ゲルマニウム基、またはアルキル
    −もしくはアリール−リンもしくはアミン基を表す。）
    を表すか；あるいはｎが２である場合、Ｒは−Ｍ2 （Ｒ
    10）（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ
    2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ（Ｒ
    10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ−、
    −Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ 2 （Ｒ10）（Ｒ11）
    −、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、
    −Ｂ（Ｒ10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ
    −、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2 −、
    −Ｎ（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−または
    −Ｐ（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同一ま
    たは異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
    数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし１０
    のフルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリ
    ール基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリール
    基、炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子
    数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし４
    ０のアリールアルキル基、炭素原子数８ないし４０のア
    リールアルケニル基または炭素原子数７ないし４０のア
    ルキルアリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11は
    それぞれが結合している原子と一緒になって環を形成
    し、そしてＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表
    す。）から選択される基を表し；Ｑは、それぞれが独立
    して、水素原子、炭素原子数１ないし５０の炭化水素
    基；電子吸引基、好ましくはハロゲン原子もしくはアル
    コキシ基の一個もしくはそれより多くにより置換された
    炭素原子数１ないし５０の炭化水素基を表すか、または
    式（Ｃ5 Ｈ5-x Ｒx ）で表される炭化水素基を除くメタ
    ロイド−置換炭素原子数１ないし５０の炭化水素基（メ
    タロイドとは周期表メイングループのＩＶＡの元素であ
    る）を表すか、あるいは二個の基Ｑはアルキリデン基、
    オレフィン基、アセチレン基または環式金属化炭化水素
    基を表し；Ｌは中性ルイス塩基、好ましくはジエチルエ
    ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルアニリン、アニ
    リン、トリメチルホスフィンまたはｎ−ブチルアミンを
    表し；そしてｗは０ないし３の数である。〕で表される
    化合物； ｄ）次式 【化８】 （式中、ＭはＴｉまたはＺｒを表し、そして他の置換基
    は上述された通りである。）で表される化合物； ｅ）次式Ｃ 【化９】 〔式中、Ｍ1 は周期表ＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の遷
    移金属を表し；Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なり、そ
    して水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、
    炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数６
    ないし１０のアリール基、炭素原子数６ないし１０のア
    リールオキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルケニル
    基、炭素原子数７ないし４０のアリールアルキル基、炭
    素原子数７ないし４０のアルキルアリール基、炭素原子
    数８ないし４０のアリールアルケニル基、ＯＨ基または
    ハロゲン原子を表し、基Ｒ3 は同一または異なり、そし
    て水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化され得る炭素原
    子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数６ないし１
    ０のアリール基、−ＮＲ2 、−ＳＲ、−ＯＳｉＲ3 、−
    ＳｉＲ3 またはＰＲ2 基を表し、Ｒはハロゲン原子、炭
    素原子数１ないし１０のアルキル基または炭素原子数６
    ないし１０のアリール基を表し；Ｒ4 ないしＲ8 はＲ3
    に関して定義された通りであるか、あるいは隣接した基
    Ｒ 4 ないしＲ8 は、それらが結合している原子と一緒に
    なって芳香族または脂肪族環を表し、Ｒ9 は−Ｍ2 （Ｒ
    10）（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ
    2 （Ｒ10）（Ｒ 11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ（Ｒ
    10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ−、
    −Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）
    −、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、
    −Ｂ（Ｒ10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ
    −、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2 −、
    −Ｎ（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−または
    −Ｐ（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同一ま
    たは異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素原子
    数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし１０
    のフルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリ
    ール基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリール
    基、炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子
    数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし４
    ０のアリールアルキル基、炭素原子数８ないし４０のア
    リールアルケニル基または炭素原子数７ないし４０のア
    ルキルアリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11は
    それぞれが結合している原子と一緒になって環を形成
    し、そしてＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表
    す。）から選択される基を表す。〕で表される化合物；
    ならびに ｆ）次式（Ｄ） 【化１０】 〔式中、Ｍ1 は周期表ＩＶｂ、ＶｂまたはＶＩｂ族の遷
    移金属を表し；Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なり、そ
    して水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、
    炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原子数６
    ないし１０のアリール基、炭素原子数６ないし１０のア
    リールオキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルケニル
    基、炭素原子数７ないし４０のアリールアルキル基、炭
    素原子数７ないし４０のアルキルアリール基、炭素原子
    数８ないし４０のアリールアルケニル基、ＯＨ基または
    ハロゲン原子を表し、基Ｒ3 は同一または異なり、そし
    て水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化され得る炭素原
    子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数６ないし１
    ０のアリール基、−ＮＲ2 、−ＳＲ、−ＯＳｉＲ3 、−
    ＳｉＲ3 またはＰＲ2 基を表し、Ｒはハロゲン原子、炭
    素原子数１ないし１０のアルキル基または炭素原子数６
    ないし１０のアリール基を表し；Ｒ4 ないしＲ8 はＲ3
    に関して定義された通りであるか、あるいは隣接した基
    Ｒ 4 ないしＲ8 は、それらが結合している原子と一緒に
    なって芳香族または脂肪族環を形成し、Ｒ9 は−Ｍ
    2 （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2
    （Ｒ10）（Ｒ 11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｃ
    （Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）−Ｏ
    −、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−、−Ｏ−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ
    11）−、−Ｃ（Ｒ10）（Ｒ11）−Ｍ2 （Ｒ10）（Ｒ11）
    −、−Ｂ（Ｒ10）−、−Ａｌ（Ｒ10）−、−Ｇｅ−、−
    Ｓｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）2
    −、−Ｎ（Ｒ10）−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｐ（Ｒ10）−ま
    たは−Ｐ（Ｏ）（Ｒ10）−（式中、Ｒ10およびＲ11は同
    一または異なり、そして水素原子、ハロゲン原子、炭素
    原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数１ないし
    １０のフルオロアルキル基、炭素原子数６ないし１０の
    アリール基、炭素原子数６ないし１０のフルオロアリー
    ル基、炭素原子数１ないし１０のアルコキシ基、炭素原
    子数２ないし１０のアルケニル基、炭素原子数７ないし
    ４０のアリールアルキル基、炭素原子数８ないし４０の
    アリールアルケニル基または炭素原子数７ないし４０の
    アルキルアリール基を表すか、あるいはＲ10およびＲ11
    はそれぞれが結合している原子と一緒になって環を形成
    し、そしてＭ2 はケイ素、ゲルマニウムまたはスズを表
    す。）から選択される基を表し、そしてＲ12ないしＲ17
    はＲ3 に関して定義された通りである。〕で表される化
    合物；からメタロセン触媒が選択される請求項１記載の
    方法。
  7. 【請求項７】 請求項１記載の方法により得ることが可
    能なポリマーまたはコポリマー。
  8. 【請求項８】 次式Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩまたはＶＩＩＩ 【化１１】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は炭素原子数１ないし４
    のアルキル基を表すか、またはＲ2 およびＲ3 は一緒に
    なって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；
    Ｒ4 は水素原子を表し；Ｒ5 は水素原子、ＯＨ、炭素原
    子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１
    ２のアルケニル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイ
    ルアミド基を表すか、または式−Ｘ−（ＣＯ）i −Ｒ8
    （式中、ｉは０または１である。）で表される基を表す
    か；あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒になって＝Ｏを表
    し；Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ
    ル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子
    数７ないし１１のフェニルアルキル基、またはフェニル
    環上で炭素原子数１ないし１２のアルキル基および／も
    しくはＯＨにより置換された炭素原子数７ないし１１の
    フェニルアルキル基を表し；指数ｊは１ないし１２から
    なる範囲からの数であり；Ｒ’7 は炭素原子数１ないし
    ８のアルキレン基を表し；Ｒ’’7 は炭素原子数１ない
    し４のアルキル基を表すか；またはＲ’’7 はＲ1と一
    緒になって炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表
    し；Ｒ8 は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素
    原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数７ない
    し１５のフェニルアルキル基、炭素原子数８ないし１５
    のフェニルアルケニル基、フェニル部分で炭素原子数１
    ないし４のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基により置換された炭素原子数７ないし１５
    のフェニルアルキル基、あるいはフェニル基または炭素
    原子数１ないし４のアルキル−もしくは炭素原子数１な
    いし４のアルコキシ−置換フェニル基を表し；Ｒ9 は炭
    素原子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数５
    ないし１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ’9 は水素原
    子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基または炭素原
    子数５ないし１２のシクロアルキル基を表し；Ｒ18およ
    びＲ19は互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキ
    ル基を表し；Ｒ20は炭素原子数３ないし１８のアルケニ
    ル基、炭素原子数７ないし１８のシクロアルケニルアル
    キル基もしくは炭素原子数７ないし１８のビシクロアル
    ケニルアルキル基を表し；Ｒ17およびＲ21は水素原子を
    表すか、またはＲ17はＲ21と一緒になって化学結合を表
    し；Ｒ22は炭素原子数２ないし１６のアルキレン基、フ
    ェニレン基、フェニレン−もしくはシクロヘキシレン−
    中断炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、または全
    炭素原子数が２ないし１６であるアルキレン−フェニレ
    ン基を表し；Ｘは−ＮＨ−、−ＮＲ9 −または−Ｏ−を
    表す。〕で表される化合物か；あるいは化合物１−（ブ
    ト−３−エニル）−２，２，６，６−テトラメチルピペ
    リジン。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の式Ｖで表される化合物で
    あって、次式Ｖａ 【化１２】 〔式中、ｍは１ないし８の範囲からの数であり；Ｒ1 は
    メチル基またはエチル基を表し；Ｒ2 およびＲ3 はＲ1
    に関して定義された通りであるか、または一緒になって
    炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を表し；Ｒ4 は
    水素原子を表し、そしてＲ5 は水素原子または式−Ｘ−
    （ＣＯ）i −Ｒ8 （式中、ｉは０または１である。）で
    表される基を表すか；あるいはＲ4 およびＲ5 は一緒に
    なって＝Ｏを表し；Ｒ6 は水素原子または炭素原子数１
    ないし１８のアルキル基を表し；Ｒ8 は炭素原子数１な
    いし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェ
    ニルアルキル基、フェニル部分で炭素原子数１ないし４
    のアルキル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルコキ
    シ基により置換された炭素原子数７ないし１５のフェニ
    ルアルキル基、あるいはフェニル基または炭素原子数１
    ないし４のアルキル−もしくは炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ−置換フェニル基を表し；Ｒ9 は炭素原子数
    １ないし１２のアルキル基または炭素原子数５ないし１
    ２のシクロアルキル基を表し；そしてＸは−ＮＨ−、−
    ＮＲ9 −または−Ｏ−を表す。〕で表される化合物。
  10. 【請求項１０】 Ａ）酸化、熱および／または化学線作
    用による分解を受けやすい有機材料；ならびにＢ）安定
    剤として、請求項７記載のポリマーもしくはコポリマー
    の少なくとも一種および／または請求項８記載の化合
    物；からなる組成物。
  11. 【請求項１１】 有機材料が合成有機ポリマー、特に熱
    可塑性ポリマーである請求項１０記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 安定化すべき有機材料の重量を基準と
    して、安定剤（成分Ｂ）を０．０１ないし５０％の量で
    含む請求項１０記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 付加的な成分Ｃとして慣用の添加剤の
    一種またはそれより多くを含む請求項１０記載の組成
    物。
  14. 【請求項１４】 酸化、熱または化学線作用による分解
    または結合に対して有機材料を安定化するために請求項
    ７記載のポリマーもしくはコポリマーおよび／または請
    求項８記載の化合物を使用する方法。
  15. 【請求項１５】 熱、酸化および／または化学線作用に
    よる分解または結合に対して有機材料を安定化する方法
    であって、該材料に請求項７記載のポリマーもしくはコ
    ポリマーの少なくとも一種および／または請求項８記載
    の化合物を添加することからなる方法。
  16. 【請求項１６】 有機材料が熱可塑性ポリマーであっ
    て、該ポリマーに式Ｖ、ＶＩ、ＶＩＩおよび／またはＶ
    ＩＩＩで表される化合物を混合し、そして得られた混合
    物を加熱することからなる請求項１５記載の方法。
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