JP2000103668A - 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ - Google Patents
誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサInfo
- Publication number
- JP2000103668A JP2000103668A JP10273049A JP27304998A JP2000103668A JP 2000103668 A JP2000103668 A JP 2000103668A JP 10273049 A JP10273049 A JP 10273049A JP 27304998 A JP27304998 A JP 27304998A JP 2000103668 A JP2000103668 A JP 2000103668A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- dielectric ceramic
- ceramic composition
- metal element
- barium titanate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 60
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 31
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 19
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 18
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 26
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 26
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 21
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 10
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 11
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOVRNJGDXREIBM-UHFFFAOYSA-N aid-1 Chemical compound O=C1NC(=O)C(C)=CN1C1OC(COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C(NC(=O)C(C)=C2)=O)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)COP(O)(=O)OC2C(OC(C2)N2C3=C(C(NC(N)=N3)=O)N=C2)CO)C(O)C1 MOVRNJGDXREIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012856 weighed raw material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
- C04B35/4682—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/12—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances ceramics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
- H01G4/1209—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
- H01G4/1218—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates
- H01G4/1227—Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material based on titanium oxides or titanates based on alkaline earth titanates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
以上、高周波・高電圧交流下での損失が小さく、高電界
強度下での絶縁抵抗が高く、B特性およびX7R特性を
満足し、高温負荷特性に優れた、誘電体セラミック組成
物を提供する。 【解決手段】組成物は、チタン酸バリウム系固溶体と添
加成分からなり、これを一般式、ABO3+aR+bM
(ABO3はチタン酸バリウム系固溶体、RはLa,C
e,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,H
o,Er,Tm,Yb,Luのうちの金属元素の酸化
物、MはMn,Ni,Mg,Fe,Al,Cr,Znの
うちの金属元素の酸化物であり、a,bは各酸化物を金
属元素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル
比)で表したとき、0.950≦A/B(モル比)≦
1.050、0.12<a≦0.30、0.04≦b≦
0.30の範囲内にある主成分に対し、副成分として、
焼結助材を含有する。
Description
組成物、およびそれを用いた積層セラミックコンデンサ
に関する。
誘電体材料として、例えば特開平8−151260号公
報に示されるBaTiO3−Nb2O5−MgO−MnO
系材料や、特開平5−109319号公報に示されるB
aTiO3−Ta2O5−ZnO系材料などがある。これ
らは空気雰囲気で焼成され、誘電率は2000以上にな
る。
て使用するために、低酸素分圧下で焼成しても、半導体
化せず、しかも静電容量の温度特性が平坦な積層コンデ
ンサ用誘電体材料として、例えば、特公昭61−146
11号公報に示されるBaTiO3−(Mg,Zn,S
r,Ca)O−B2O3−SiO2系材料や、特開平7−
272971号公報に示される(Ba,M,L)(T
i,R)O3系(ただし、M=Mg,Zn;L=Ca,
Sr;R=Sc,Y,希土類元素)材料などが報告され
ている。これらの誘電率は2000以上と高い。
TiO3−Re2O3系誘電体材料には、特公昭63−1
0526号公報に示されるのように、空気雰囲気で焼成
する材料もある。
組成物を用いた積層セラミックコンデンサは、低周波・
低電圧交流下で使用されることが多く、また、低電圧直
流下で使用されることが多かった。
積化、高機能化、低価格化が進展する中、積層セラミッ
クコンデンサの使用条件はますます厳しいものとなって
おり、積層セラミックコンデンサの低損失化、絶縁性の
向上、絶縁耐力の向上、信頼性の向上、大容量化の要求
が大きくなっている。また、低価格化の要求も強まって
いる。
や、特開平5−109319号公報および特公昭63−
10526号公報に示される誘電体材料は、大きな誘電
率が得られるものの、高周波、高電圧交流下での使用時
の、損失および発熱が大きいという欠点があった。ま
た、低コスト化を目的に、内部電極にNiまたはNi合
金を使用することができる雰囲気で焼成した場合、セラ
ミックが半導体化してしまうため、内部電極には高価な
Pd、Ag−Pdなどの貴金属を使用しなければならな
かった。
特開平7−272971号公報に示される誘電体材料の
誘電率は、それぞれ2000以上、3000以上と高
く、静電容量の温度変化率は小さいものの、高周波、高
電圧交流下での使用時の、損失および発熱が大きいとい
う欠点があった。また、これらの誘電体材料は耐還元性
を有するため、Niなどの卑金属を内部電極とする積層
セラミックコンデンサを得ることができるが、高電圧直
流下で使用したときには、絶縁抵抗値が低く、信頼性も
低いという欠点もあった。
セラミックコンデンサの低損失、低発熱化が要求される
ようになってきた。近年、積層セラミックコンデンサは
高周波、高電圧交流下で使用されることが多くなってお
り、積層セラミックコンデンサの損失、発熱はコンデン
サ自体の寿命を低下させる。また、積層セラミックコン
デンサの損失、発熱によって、回路内の温度上昇が起こ
り、周辺部品の誤作動、寿命の短縮を引き起こす。しか
しながら、従来の誘電体セラミック組成物を用いた積層
セラミックコンデンサは、特に高周波、高電圧交流下で
の損失、発熱が大きく、高周波、高電圧交流下で使用さ
れる回路に用いることはできなかった。
ンデンサの使用も増えてきている。しかしながら、従来
の、特にNiを内部電極として使用している積層セラミ
ックコンデンサは耐直流電圧性に劣り、高い電界強度下
で使用すると絶縁性、絶縁耐力、および信頼性が極端に
低下するという問題が生じていた。
00℃以下で、誘電率が200以上で、高周波・高電圧
交流下での損失および発熱の小さい、具体的には300
kHz、100Vp−pの条件下での損失が0.7%以
下であり、また、高電圧直流、具体的には10kV/m
mの高い電界強度下での絶縁抵抗が静電容量との積(C
R積)で表したときに、室温で7000Ω・F以上と高
く、また、静電容量の温度特性がJIS規格で規定する
B特性およびEIA規格で規定するX7R特性を満足
し、さらに、高温負荷試験に対して優れた特性を示す、
誘電体セラミック組成物を提供することにある。
体層とし、内部電極として、Pt、Au、PdまたはA
g−Pd合金などの貴金属だけでなく、NiまたはNi
合金などの卑金属を使用できる、積層セラミックコンデ
ンサを提供することにある。
め、本発明の誘電体セラミック組成物は、チタン酸バリ
ウム系固溶体と添加成分からなり、これを一般式、AB
O3+aR+bM(ただし、ABO3はチタン酸バリウム
系固溶体をペロブスカイト構造を示す一般式で表わした
もの、RはLa、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuか
ら選ばれる少なくとも1種の金属元素の酸化物、MはM
n、Ni、Mg、Fe、Al、CrおよびZnから選ば
れる少なくとも1種の金属元素の酸化物であり、a、b
はそれぞれの酸化物を金属元素が1元素含まれる化学式
に換算したときのモル比を示す)で表したとき、0.9
50≦A/B(モル比)≦1.050、0.12<a≦
0.30、0.04≦b≦0.30の範囲内にある主成
分に対し、副成分として、焼結助材を含有していること
を特徴とする。
成分100重量部に対して、0.8〜8.0重量部であ
ることを特徴とする。
らに、X(Zr,Hf)O3(ただし、XはBa、S
r、Caから選ばれる少なくとも1種の金属元素)、お
よびD(ただし、DはV,Nb,Ta,Mo,W,Yお
よびScから選ばれる少なくとも1種の金属元素の酸化
物)から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴
とする。
量は、前記主成分中のABO3で表わされるチタン酸バ
リウム固溶体1モルに対して、0.35モル以下である
ことを特徴とする。
ABO3で表わされるチタン酸バリウム固溶体1モルに
対して、前記Dで表わされる酸化物を金属元素が1元素
含まれる化学式に換算して0.02モル以下であること
を特徴とする。
バリウム系固溶体は、{(Ba1-x-ySrxCay)O}m
TiO2(ただし、0≦x+y≦0.20、0.950
≦m≦1.050)で表わされることを特徴とする。
元素のうち少なくとも1種を含有する酸化物、または酸
化珪素であることを特徴とする。
サは、複数の誘電体セラミック層と、該誘電体セラミッ
ク層間に形成された内部電極と、該内部電極に電気的に
接続された外部電極とを備える、積層セラミックコンデ
ンサにおいて、前記誘電体セラミック層が上記した誘電
体セラミック組成物で構成されていることを特徴とす
る。
の焼結層、またはガラスフリットを含有する導電性金属
粉末の焼結層によって構成されていることを特徴とす
る。
焼結層からなる第1層、またはガラスフリットを含有す
る導電性金属粉末の焼結層からなる第1層と、その上の
めっき層からなる第2層とを含むことを特徴とする。
組成物について説明する。本発明の誘電体セラミック組
成物は、チタン酸バリウム系固溶体、R(RはLa,C
e,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,H
o,Er,Tm,YbおよびLuから選ばれる少なくと
も1種の金属元素の酸化物)、M(MはMn,Ni,M
g,Fe,Al,CrおよびZnから選ばれる少なくと
も1種の金属元素の酸化物)の組成比を、上述したよう
に調整し、副成分である焼結助材を含有させた誘電体セ
ラミック組成物である。このような構成を有することに
よって、焼成温度が1300℃以下で、誘電率が200
以上で、高周波・高電圧交流下での損失および発熱の小
さい、具体的には300kHz、100Vp−pの条件
下での損失が0.7%以下であり、また、高電圧直流、
具体的には10kV/mmの高い電界強度下で絶縁抵抗
が静電容量との積(CR積)で表したときに、室温で7
000Ω・F以上と高く、また、静電容量の温度特性が
JIS規格で規定するB特性およびEIA規格で規定す
るX7R特性を満足し、さらに高温負荷試験に対して優
れた、具体的には150℃、電界強度25kV/mm条
件下での平均寿命が700時間以上と優れた特性を持つ
誘電体セラミック組成物を得ることができる。
らに、X(Zr,Hf)O3(ただし、XはBa,S
r,Caから選ばれる少なくとも1種の金属元素)およ
びD(ただし、DはV,Nb,Ta,Mo,W,Yおよ
びScから選ばれる少なくとも1種の金属元素の酸化
物)のうちの少なくとも1種を含有させることによっ
て、さらに特性を向上させることができる。
3におけるZrとHfの比率に関しては、特に規定しな
いが、焼結性の点からHfの比率が30mol%以下で
あることが好ましい。
ミックコンデンサの基本的構造を図面により説明する。
図1は積層セラミックコンデンサの一例を示す断面図、
図2は図1の積層セラミックコンデンサのうち、内部電
極を有する誘電体セラミック層部分を示す平面図、図3
は図1の積層セラミックコンデンサのうち、セラミック
積層体部分を示す分解斜視図である。
サ1は、図1に示すように、内部電極4を介して複数枚
の誘電体セラミック層2a、2bを積層して得られた直
方体形状のセラミック積層体3を備える。セラミック積
層体3の両端面上には、内部電極4の特定のものに電気
的に接続されるように、外部電極5がそれぞれ形成さ
れ、その上には、必要に応じて、第1のめっき層6、第
2のめっき層7が形成されている。
製造方法について製造工程順に説明する。まず、誘電体
セラミック層2aおよび2bの成分となる、所定比率に
秤量し混合した原料粉末を用意する。
ラリー化し、このスラリーをシート状に成形して、誘電
体セラミック層2a、2bのためのグリーンシートを得
る。その後、誘電体セラミック層2bとなるグリーンシ
ートの一方主面上に内部電極4を形成する。なお、内部
電極材料としては、Pt、Au、PdまたはAg−Pd
合金などの貴金属だけでなく、NiまたはNi合金など
の卑金属を使用できる。また、内部電極4を形成する方
法は、スクリーン印刷による方法でも、蒸着、めっき法
による形成でも構わない。
ク層2bのためのグリーンシートを必要枚数積層した
後、図3に示すように、内部電極を有しない誘電体セラ
ミック層2aのためのグリーンシートに挟んで圧着し、
生の積層体とする。その後、この積層体を所定の雰囲気
中、所定の温度にて焼成し、セラミック積層体3を得
る。
部電極4と電気的に接続するように、外部電極5を形成
する。この外部電極5の材料としては、内部電極4と同
じ材料を使用することができる。また、Ag、Pd、A
g−Pd、Cu、Cu合金などが使用可能であり、ま
た、これらの金属粉末にB2O3−SiO2−BaO系ガ
ラス、Li2O−SiO2−BaO系ガラスなどのガラス
フリットを添加したものも使用できるが、積層セラミッ
クコンデンサの使用用途、使用場所などを考慮に入れて
適当な材料を選択する。また、外部電極5は、材料とな
る金属粉末ペーストを、焼成により得たセラミック積層
体3に塗布して、焼き付けることによって形成するが、
焼成前に塗布して、セラミック積層体3と同時に形成し
てもよい。
めっきを施し、第1のめっき層6が形成される。最後
に、この第1のめっき層6の上に、半田、錫などの第2
のめっき層7を形成し、積層セラミックコンデンサ1が
製造される。なお、このように外部電極5の上にさらに
めっきなどで導体層を形成することは、積層セラミック
コンデンサの用途によっては省略することもできる。
的に説明する。
CO3、CaCO3、SrCO3、TiO2を用意した。こ
れらの原料を、表1に示す組成物のうちの、ペロブスカ
イト構造を示す一般式ABO3で表わされるチタン酸バ
リウム系固溶体の1種である{(Ba1-x-ySrxC
ay)O}mTiO2の組成物が得られるように秤量し
た。その後、これら秤量済み原料をボールミルで湿式混
合し、粉砕した後乾燥し、空気中にて1120℃で2時
間仮焼して、チタン酸バリウム系固溶体を得た。
びMの原料として、純度99%以上のLa2O3、CeO
2、Pr6O11、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2
O3、Tb4O7、 Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm
2O3、Yb2O3、Lu2O3および、MnO、NiO、M
gO、Fe2O3、Al2O3、Cr2O3、ZnOを準備し
た。
元素を含有する酸化物の例として0.55B2O3−0.
25Al2O3−0.03MnO−0.17BaO(ただ
し、係数はモル比であり、以下、焼結助材1と称す)、
Si元素を含有する酸化物の例として0.25Li2O
−0.65(0.30TiO2・0.70SiO2)−
0.10Al2O3(ただし、係数はモル比であり、以
下、焼結助材2と称す)、SiおよびB元素を含む酸化
物の例として0.25Li2O−0.30B2O3−0.
03TiO2−0.42SiO2(ただし、係数はモル比
であり、以下、焼結助材3と称す)が得られるように、
各成分の酸化物、炭酸塩または水酸化物を秤量し、混合
粉砕して粉末を得た。この粉末を白金ルツボ中におい
て、1500℃まで加熱した後、急冷し、粉砕すること
によって、平均粒径が1μm以下のそれぞれの酸化物粉
末を得た。また、Si元素を含む酸化物のもう一つの例
として、酸化珪素をSiO2換算で30重量%含有した
コロイドシリカ溶液も準備した(以下、焼結助材4と称
す)。
に、以上準備したチタン酸バリウム系固溶体、添加成分
用原料および副成分としての焼結助剤を秤量した。な
お、添加成分R(ただし、RはLa,Ce,Pr,N
d,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,T
m,YbおよびLuから選ばれる少なくとも1種の金属
元素の酸化物)の係数aは、それぞれの酸化物を金属元
素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を示
す。また、添加成分M(ただし、MはMn,Ni,M
g,Fe,Al,CrおよびZnから選ばれる少なくと
も1種の金属元素の酸化物)の係数bは、それぞれの酸
化物を金属元素が1元素含まれる化学式に換算したとき
のモル比を示す。また、焼結助材の含有量は、主成分
[{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2+aR+b
M]100重量部に対する含有部数である。
系バインダーおよびエタノールなどの有機溶剤を加え
て、ボールミルにより湿式混合し、スラリーを調製し
た。このスラリーをドクターブレード法によりシート成
形し、厚み25μmの矩形のグリーンシートを得た。
成分とする導電ペーストを印刷し、内部電極を構成する
ための導電ペースト層を形成した。その後、導電ペース
ト層が形成されたグリーンシートを、導電ペースト層が
引き出されている側が互い違いとなるように複数枚積層
し、積層体を得た。この積層体を、N2雰囲気中にて3
50℃の温度に加熱し、バインダーを除去した後、酸素
分圧10-9〜10-12MPaのH2−N2−H2Oガスから
なる還元性雰囲気中において表2に示す温度で2時間焼
成し、セラミック焼結体を得た。
面にB2O3−Li2O−SiO2−BaO系のガラスフリ
ットを含有するAgペーストを塗布し、N2雰囲気中に
おいて600℃の温度で焼付け、内部電極と電気的に接
続された外部電極を形成した。
ホウ酸からなるニッケルめっき液を用意し、バレルめっ
き法にてAg外部電極上にニッケルめっきした。最後
に、AS浴(アルカノールスルホン酸)からなるはんだ
めっき液を用意し、バレルめっき法にて、このニッケル
めっき被膜上にはんだめっきして、外部電極上にめっき
被膜された積層セラミックコンデンサを得た。
ンサの外形寸法は、幅3.2mm、長さ4.5mm、厚
さ1.0mmであり、内部電極間に介在する誘電体セラ
ミック層の厚みは20μmであった。また、有効誘電体
セラミック層の総数は10であり、一層当たりの対向電
極の面積は8.8×10-6m2であった。
ンサについて、電気的特性を測定した。静電容量(C)
および誘電損失(tanδ)は自動ブリッジ式測定器を
用いて、周波数1KHz、1Vrms、温度25℃にて
測定し、静電容量から誘電率(ε)を算出した。次に、
絶縁抵抗(R)を測定するために、絶縁抵抗計を用い、
200Vの直流電圧を2分間印加して25℃での絶縁抵
抗(R)を測定し、静電容量(C)と絶縁抵抗(R)と
の積、すなわちCR積を求めた。
を測定した。温度変化に対する静電容量の変化率につい
ては、20℃での静電容量を基準とした、−25℃〜2
0℃間での静電容量の最大変化率(−25℃(%))
と、20℃〜85℃間での静電容量の最大変化率(85
℃(%))を求めた(ΔC/C20)。また、25℃で
の静電容量を基準とした、−55℃〜25℃間での静電
容量の最大変化率(−55℃(%))と、25℃〜12
5℃間での静電容量の最大変化率(125℃(%))を
求めた(ΔC/C25)。
個づつ、温度150℃にて直流電圧を500V印加し
て、その絶縁抵抗の経時変化を測定した。なお、高温負
荷寿命試験は各試料の絶縁抵抗値(R)が106Ω以下
になったときの時間を寿命時間とし、その平均寿命時間
を求めた。
して、周波数300KHz、100Vp−p、温度25
℃での誘電損失(tanδ)を測定した。
おいて、試料番号に*印を付したものは、本発明の範囲
外のものであり、その他は本発明の範囲内のものであ
る。
かなように、本発明によれば、内部電極にNiなどの卑
金属を用いることができ、誘電率が200以上であっ
て、300kHz、100Vp−pの条件下での誘電損
失(tanδ)が0.7%以下と小さくて発熱が抑えら
れた、高周波・高電圧交流下での特性に優れた積層セラ
ミックコンデンサが得られる。さらに、試料番号1、1
0〜17のように、焼結助剤の含有量を限定することに
より、1300℃以下で焼結が可能であり、静電容量の
温度特性がJIS規格で規定するB特性およびEIA規
格で規定するX7R特性を満足する。さらにまた、試料
番号10〜17のように、チタン酸バリウム系固溶体を
{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2と表わしたと
きのx+yの値を限定することにより、10kV/mm
の電界強度下での絶縁抵抗が静電容量との積(CR積)
で表した場合に、室温で7000Ω・F以上と高い値を
示す。また、150℃、DC25kV/mm印加の高温
負荷試験において、平均寿命時間が700時間以上と長
い。
明する。試料番号2のように、Rの含有量aが0.12
以下の場合には、300kHz、100Vp−pでのt
anδが0.7%を超えて大きくなり、発熱が大きくな
るので好ましくない。一方、試料番号3のようにRの含
有量aが0.30を超える場合には、焼結性が低下し、
焼成温度が1300℃を超える。また、誘電率も小さく
なり、200未満となるので好ましくない。
04未満の場合、絶縁抵抗が低く、静電容量の温度特性
がB特性およびX7R特性を満足しないので好ましくな
い。一方、試料番号5のように、Mの添加量bが0.3
0を超えると、焼成温度が1300℃を超えるので好ま
しくない。
けるA/Bモル比であるmが0.950未満の場合、静
電容量の温度特性がB特性/X7R特性を満足しないの
で好ましくない。一方、試料番号7のように、mが1.
050を超える場合、焼結不足となり好ましくない。
CO3、CaCO3、SrCO3、TiO2を用意し、実施
例1と同様にして、表3に示す組成物のうちの、ペロブ
スカイト構造を示す一般式ABO3で表わされるチタン
酸バリウム系固溶体の1種である{(Ba1-x-ySrxC
ay)O}mTiO2を得た。
して、純度99%以上のLa2O3、CeO2、Pr
6O11、Eu2O3、Gd2O3、Tb4O7、 Dy2O3、H
o2O3、Er2O3および、MnO、NiO、MgO、F
e2O3、Al2O3、Cr2O3を準備した。
3(ただし、XはBa,Sr,Caから選ばれる少なく
とも1種の金属元素)の原料として、BaZrO3、S
rZrO3およびCaZrO3を準備した。
1、2、3および4を準備した。
に、以上準備したチタン酸バリウム系固溶体、添加成分
用原料、焼結助剤を秤量した。なお、添加成分R(ただ
し、RはLa,Ce,Pr,Eu,Gd,Tb,Dy,
HoおよびErから選ばれる少なくとも1種の金属元素
の酸化物)の係数aは、それぞれの酸化物を金属元素が
1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を示す。
また、添加成分M(ただし、MはMn,Ni,Mg,F
e,AlおよびCrから選ばれる少なくとも1種の金属
元素の酸化物)の係数bは、それぞれの酸化物を金属元
素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を示
す。また、焼結助材の含有量は、主成分[{(Ba
1-x-ySrxCay)O}mTiO2+aR+bM+cX
(Zr,Hf)O3]100重量部に対する含有部数で
ある。
ミックコンデンサを得た。以上得られた積層セラミック
コンデンサの寸法形状は、実施例1と同様である。その
後、実施例1と同様にして、電気特性を測定した。これ
らの結果を表4に示す。
添加成分として、さらにX(Zr、Hf)O3(ただ
し、XはBa,Sr,Caから選ばれる少なくとも1種
の金属元素)を含有させることにより、積層セラミック
コンデンサの内部電極としてNiなどの卑金属を用いる
ことができ、誘電率が300以上で300kHz、10
0Vp−pの条件下でのtanδが0.7%以下で、静
電容量の温度特性がJIS規格で規定するB特性および
EIA規格で規定するX7R特性を満足するものが得ら
れる。
有量としては、試料番号101〜105で示すとおり、
主成分中のABO31モルに対して、0.35モル以下
が好ましい。試料番号106、107のように、X(Z
r,Hf)O3の含有量が0.35モルを超えると、静
電容量の温度特性がB特性、X7R特性を満足しなくな
る。
CO3、CaCO3、SrCO3、TiO2を用意し、実施
例1と同様にして、表5に示す組成物のうちの、ペロブ
スカイト構造を示す一般式ABO3で表わされるチタン
酸バリウム系固溶体の1種である{(Ba1-x-ySrxC
ay)O}mTiO2を得た。
して、純度99%以上のCeO2、Pr6O11、Eu
2O3、Gd2O3、Tb4O7、 Dy2O3、Ho2O3、E
r2O3、Tm2O3および、MnO、NiO、MgO、F
e2O3、Al2O3、Cr2O3を準備した。
V,Nb,Ta,Mo,W,YおよびScから選ばれる
少なくとも1種の金属元素の酸化物)として、純度99
%以上のV2O5、Nb2O5、Ta2O5、MoO3、W
O3、Y2O3、Sc2O3を準備した。
1、2、3および4を準備した。
に、以上準備したチタン酸バリウム系固溶体、添加成分
用原料および焼結助剤を秤量した。なお、添加成分R
(ただし、RはCe,Pr,Eu,Gd,Tb,Dy,
Ho,ErおよびTmから選ばれる少なくとも1種の金
属元素の酸化物)の係数aは、それぞれの酸化物を金属
元素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を
示す。また、添加成分M(ただし、MはMn,Ni,M
g,Fe,AlおよびCrから選ばれる少なくとも1種
の金属元素の酸化物)の係数bは、それぞれの酸化物を
金属元素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル
比を示す。また、添加成分D(ただし、DはV,Nb,
Ta,Mo,W,YおよびScから選ばれる少なくとも
1種の金属元素の酸化物)の係数dは、それぞれの酸化
物を前記金属元素が1元素含まれる化学式に換算したと
きのモル比を示す。また、焼結助材の含有量は、主成分
[{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2+aR+b
M+dD]100重量部に対する含有部数である。
ミックコンデンサを得た。以上得られた積層セラミック
コンデンサの寸法形状は、実施例1と同様である。その
後、実施例1と同様にして、電気特性を測定した。これ
らの結果を表6に示す。
添加成分として、さらにD(ただし、DはV,Nb,T
a,Mo,W,YおよびScから選ばれる少なくとも1
種の金属元素の酸化物)を含有させることにより、積層
セラミックコンデンサの内部電極としてNiなどの卑金
属を用いることができ、誘電率が200以上で300k
Hz、100Vp−pの条件下でのtanδが0.7%
以下で、静電容量の温度特性がJIS規格で規定するB
特性およびEIA規格で規定するX7R特性を満足する
ものが得られる。しかも、10kV/mmの高い電界強
度で使用したときに、絶縁抵抗が静電容量との積(CR
積)で表した場合に、室温で11000Ω・F以上と高
い値を示す。さらに、150℃、DC25kV/mmの
加速試験において、平均寿命時間が900時間以上と長
い。
量としては、試料番号201〜205で示すとおり、主
成分中のABO31モルに対して、0.02モル以下が
好ましい。試料番号206、207のように、Dの含有
量が0.02モルを超えると、絶縁性と信頼性が低下す
る。
CO3、CaCO3、SrCO3、TiO2を用意し、実施
例1と同様にして、表7に示す組成物のうちの、ペロブ
スカイト構造を示す一般式ABO3で表わされるチタン
酸バリウム系固溶体の1種である{(Ba1-x-ySrxC
ay)O}mTiO2を得た。
して、純度99%以上のCeO2、Nd2O3、Eu
2O3、Gd2O3、 Dy2O3、Ho2O3、Tm2O3、Y
b2O3、Lu2O3、および、MnO、NiO、MgO、
Fe2O3、Al2O3、Cr2O3を準備した。
3(ただし、XはBa,Sr,Caから選ばれる少なく
とも1種の金属元素)の原料として、BaZrO3、S
rZrO3およびCaZrO3を準備した。
V,Nb,Ta,Mo,W,YおよびScから選ばれる
少なくとも1種の金属元素の酸化物)として、純度99
%以上のV2O5、Nb2O5、Ta2O5、MoO3、W
O3、Y2O3、Sc2O3を準備した。
1、2、3および4を準備した。
に、以上準備したチタン酸バリウム系固溶体、添加成分
用原料および焼結助剤を秤量した。なお、添加成分R
(ただし、RはCe,Nd,Eu,Gd,Dy,Ho,
Tm,YbおよびLuから選ばれる少なくとも1種の金
属元素の酸化物)の係数aは、それぞれの酸化物を金属
元素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を
示す。また、添加成分M(ただし、MはMn,Ni,M
g,Fe,AlおよびCrから選ばれる少なくとも1種
の金属元素の酸化物)の係数bは、それぞれの酸化物を
金属元素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル
比を示す。また、添加成分D(ただし、DはV,Nb,
Ta,Mo,W,YおよびScから選ばれる少なくとも
1種の金属元素の酸化物)の係数dは、それぞれの酸化
物を金属元素が1元素含まれる化学式に換算したときの
モル比を示す。また、焼結助材の含有量は、主成分
[{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2+aR+b
M+cX(Zr,Hf)O3+dD]100重量部に対
する含有部数である。
ミックコンデンサを得た。以上得られた積層セラミック
コンデンサの寸法形状は、実施例1と同様である。その
後、実施例1と同様にして、電気特性を測定した。これ
らの結果を表8に示す。
添加成分として、さらにX(Zr,Hf)O3(ただ
し、XはBa,Sr,Caから選ばれる少なくとも1種
の金属元素)、およびD(ただし、DはV,Nb,T
a,Mo,W,YおよびScから選ばれる少なくとも1
種の金属元素の酸化物)から選ばれる少なくとも1種を
含有させることにより、積層コンデンサの内部電極とし
てNiなどの卑金属を用いることができ、誘電率が30
0以上で300kHz、100Vp−pの条件下でのt
anδが0.7%以下で、、静電容量の温度特性がJI
S規格で規定するB特性およびEIA規格で規定するX
7R特性を満足するものが得られる。しかも、10kV
/mmの高い電界強度で使用したときに、絶縁抵抗が静
電容量との積(CR積)で表した場合に、室温で130
00Ω・F以上と高い値を示す。さらに、150℃、D
C25kV/mmの加速試験において、平均寿命時間が
900時間以上と長い。
O3の具体的な含有量としては、試料番号301〜30
5で示すとおり、主成分中のABO31モルに対して、
0.35モル以下が好ましい。また、添加成分としての
Dの具体的な含有量としては、試料番号301〜305
で示すとおり、主成分中のABO31モルに対して、
0.02モル以下が好ましい。
X(Zr,Hf)O3の含有量cが0.35よりも大き
いと、静電容量の温度特性がB特性、X7R特性を満足
しない。試料番号307のように、Dの含有量dが0.
02よりも大きいと、絶縁性と信頼性が低下する。ま
た、試料番号308のように、X(Zr,Hf)O3の
含有量cが0.35を超え、かつ、Dの含有量がdが
0.02を超えると、静電容量の温度特性がB特性、X
7R特性を満足せず、さらに絶縁性と信頼性が低下す
る。
CO3、CaCO3、SrCO3、TiO2を用意し、実施
例1と同様にして、表9に示す組成物のうちの、ペロブ
スカイト構造を示す一般式ABO3で表わされるチタン
酸バリウム系固溶体の1種である{(Ba1-x-ySrxC
ay)O}mTiO2を得た。
して、純度99%以上のLa2O3、CeO2、Pr
6O11、Eu2O3、Gd2O3、 Dy2O3、Ho2O3、T
m2O3および、MnO、NiO、MgO、Fe2O3、
Al2O3、Cr2O3を準備した。
1、2、3および4を準備した。
に、以上準備したチタン酸バリウム系固溶体、添加成分
用原料および焼結助剤を秤量した。なお、添加成分R
(ただし、RはLa,Ce,Pr,Eu,Gd,Dy,
HoおよびTmから選ばれる少なくとも1種の金属元素
の酸化物)の係数aは、それぞれの酸化物を金属元素が
1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を示す。
また、添加成分M(ただし、MはMn,Ni,Mg,F
e,AlおよびCrから選ばれる少なくとも1種の金属
元素の酸化物)の係数bは、それぞれの酸化物を金属元
素が1元素含まれる化学式に換算したときのモル比を示
す。また、焼結助材の含有量は、主成分[{(Ba
1-x-ySrxCay)O}mTiO2+aR+bM]100
重量部に対する含有部数である。
ル系バインダーおよびエタノールなどの有機溶剤を加え
て、ボールミルにより湿式混合し、スラリーを調製し
た。このスラリーをドクターブレード法によりシート成
形し、厚み25μmの矩形のグリーンシートを得た。
dを主成分(Ag/Pd=30/70重量比)とする導
電ペーストを印刷し、内部電極を構成するための導電ペ
ースト層を形成した。その後、導電ペースト層が形成さ
れたグリーンシートを、導電ペースト層が引き出されて
いる側が互い違いとなるように複数枚積層し、積層体を
得た。この積層体を、空気雰囲気中にて350℃の温度
に加熱し、バインダーを除去した後、空気雰囲気中にお
いて表10に示す温度で2時間焼成し、セラミック焼結
体を得た。
面にB2O3−Li2O−SiO2−BaO系のガラスフリ
ットを含有する銀ペーストを塗布し、空気雰囲気中にお
いて600℃の温度で焼付け、内部電極と電気的に接続
された外部電極を形成した。
をして、外部電極上にめっき被膜された積層セラミック
コンデンサを得た。以上得られた積層セラミックコンデ
ンサの寸法形状は、実施例1と同様である。その後、実
施例1と同様にして、電気特性を測定した。これらの結
果を表10に示す。
セラミック組成物の組成の範囲内であれば、試料番号4
01〜406のように、内部電極にAg/Pdなどの貴
金属を用いることができ、誘電率が200以上で300
kHz、100Vp−pの条件下でのtanδが0.7
%以下で、静電容量の温度特性がJIS規格で規定する
B特性およびEIA規格で規定するX7R特性を満足す
る。
用したときに、絶縁抵抗が静電容量との積(CR積)で
表した場合に、室温で7000Ω・F以上と高い値を示
す。また、150℃、DC25kV/mmの加速試験に
おいて、平均寿命時間が700時間以上と長い。さら
に、焼成温度も1300℃以下と、比較的低温で焼成可
能である。
では、チタン酸バリウム系固溶体として、固相法により
作製した粉末を用いたが、本発明は、これに限定される
ものではなく、シュウ酸法、アルコキシド法あるいは水
熱合成法などの湿式法により作製されたチタン酸バリウ
ム系粉末を用いることができる。これらの粉末を用いる
ことにより、本実施例で示した特性よりも向上すること
も有り得る。
2、Pr6O11、Nd2O3、Sm2O3、Eu2O3、Gd2
O3、Tb4O7、 Dy2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm
2O3、Yb2O3、Lu2O3、MnO、NiO、MgO、
Fe2O3、Al2O3、Cr2O3、ZnO、BaZr
O3、SrZrO3、CaZrO3、V2O5、Nb2O5、
Ta2O5、MoO3、WO3、Y2O3、Sc2O3の酸化物
の粉末を用いたが、これに限定されるものではなく、こ
の発明の範囲の誘電体セラミック組成物を構成するよう
に配合すれば、アルコキシド、金属有機化合物などを用
いても、得られる特性を何ら損なうものではない。
よれば、焼成温度が1300℃以下で、誘電率が200
以上で、高周波・高電圧交流下での損失および発熱の小
さい、具体的には300kHz、100Vp−pの条件
下での損失が0.7%以下であり、また、高電圧直流、
具体的には10kV/mmの高い電界強度下での絶縁抵
抗が静電容量との積(CR積)で表したときに、室温で
7000Ω・F以上と高く、また、静電容量の温度特性
がJIS規格で規定するB特性およびEIA規格で規定
するX7R特性を満足し、さらに、高温負荷試験に対し
て優れた特性を示す、誘電体セラミック組成物を得るこ
とができる。
体層とすることにより、内部電極として、Pt、Au、
PdまたはAg−Pd合金などの貴金属だけでなく、N
iまたはNi合金などの卑金属を使用した、積層セラミ
ックコンデンサを得ることができる。
デンサを示す断面図である。
極を有する誘電体セラミック層部分を示す平面図であ
る。
ック積層体部分を示す分解斜視図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 チタン酸バリウム系固溶体と添加成分か
らなり、これを一般式、 ABO3+aR+bM (ただし、ABO3はチタン酸バリウム系固溶体をペロ
ブスカイト構造を示す一般式で表わしたもの、RはL
a,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,D
y,Ho,Er,Tm,YbおよびLuから選ばれる少
なくとも1種の金属元素の酸化物、MはMn,Ni,M
g,Fe,Al,CrおよびZnから選ばれる少なくと
も1種の金属元素の酸化物であり、a,bはそれぞれの
酸化物を金属元素が1元素含まれる化学式に換算したと
きのモル比を示す)で表したとき、 0.950≦A/B(モル比)≦1.050 0.12<a≦0.30 0.04≦b≦0.30 の範囲内にある主成分に対し、副成分として、焼結助材
を含有していることを特徴とする、誘電体セラミック組
成物。 - 【請求項2】 前記焼結助材の含有量は、前記主成分1
00重量部に対して、0.8〜8.0重量部であること
を特徴とする、請求項1に記載の誘電体セラミック組成
物。 - 【請求項3】 前記主成分中の添加成分として、さら
に、X(Zr,Hf)O3(ただし、XはBa,Sr,
Caから選ばれる少なくとも1種の金属元素)、および
D(ただし、DはV,Nb,Ta,Mo,W,Yおよび
Scから選ばれる少なくとも1種の金属元素の酸化物)
から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とす
る、請求項1または請求項2に記載の誘電体セラミック
組成物。 - 【請求項4】 前記X(Zr,Hf)O3の含有量は、
前記主成分中のABO3で表わされるチタン酸バリウム
固溶体1モルに対して、0.35モル以下であることを
特徴とする、請求項3に記載の誘電体セラミック組成
物。 - 【請求項5】 前記Dの含有量は、前記主成分中のAB
O3で表わされるチタン酸バリウム固溶体1モルに対し
て、前記Dで表わされる酸化物を金属元素が1元素含ま
れる化学式に換算して0.02モル以下であることを特
徴とする、請求項3に記載の誘電体セラミック組成物。 - 【請求項6】 前記ABO3で表わされるチタン酸バリ
ウム系固溶体は、 {(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2 (ただし、0≦x+y≦0.20、0.950≦m≦
1.050)で表わされることを特徴とする、請求項1
から5のいずれかに記載の誘電体セラミック組成物。 - 【請求項7】 前記焼結助材は、B元素およびSi元素
のうち少なくとも1種を含有する酸化物であることを特
徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の誘電体セ
ラミック組成物。 - 【請求項8】 前記焼結助材は、酸化珪素であることを
特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の誘電体
セラミック組成物。 - 【請求項9】 複数の誘電体セラミック層と、該誘電体
セラミック層間に形成された内部電極と、該内部電極に
電気的に接続された外部電極とを備える、積層セラミッ
クコンデンサにおいて、前記誘電体セラミック層が請求
項1から8のいずれかに記載の誘電体セラミック組成物
で構成されていることを特徴とする、積層セラミックコ
ンデンサ。 - 【請求項10】 前記外部電極は、導電性金属粉末の焼
結層、またはガラスフリットを含有する導電性金属粉末
の焼結層によって構成されていることを特徴とする、請
求項9に記載の積層セラミックコンデンサ。 - 【請求項11】 前記外部電極は、導電性金属粉末の焼
結層からなる第1層、またはガラスフリットを含有する
導電性金属粉末の焼結層からなる第1層と、その上のめ
っき層からなる第2層とを含むことを特徴とする、請求
項9に記載の積層セラミックコンデンサ。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27304998A JP3567759B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
US09/388,173 US6346497B1 (en) | 1998-09-28 | 1999-09-01 | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
DE69913284T DE69913284T2 (de) | 1998-09-28 | 1999-09-15 | Dielektrische keramische Zusammensetzung und monolithischer keramischer Kondensator |
EP99118316A EP0992469B1 (en) | 1998-09-28 | 1999-09-15 | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
SG9904539A SG87050A1 (en) | 1998-09-28 | 1999-09-15 | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
TW088116394A TW424243B (en) | 1998-09-28 | 1999-09-23 | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
KR1019990041519A KR100326951B1 (ko) | 1998-09-28 | 1999-09-28 | 유전체 세라믹 조성물 및 모놀리식 세라믹 커패시터 |
CN99120872A CN1118444C (zh) | 1998-09-28 | 1999-09-28 | 介电陶瓷组合物及叠层陶瓷电容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27304998A JP3567759B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000103668A true JP2000103668A (ja) | 2000-04-11 |
JP3567759B2 JP3567759B2 (ja) | 2004-09-22 |
Family
ID=17522459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27304998A Expired - Lifetime JP3567759B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6346497B1 (ja) |
EP (1) | EP0992469B1 (ja) |
JP (1) | JP3567759B2 (ja) |
KR (1) | KR100326951B1 (ja) |
CN (1) | CN1118444C (ja) |
DE (1) | DE69913284T2 (ja) |
SG (1) | SG87050A1 (ja) |
TW (1) | TW424243B (ja) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002252138A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法、それを用いた積層セラミックコンデンサ |
US6544916B1 (en) | 1999-10-05 | 2003-04-08 | Tdk Corporation | Manufacture method of dielectric ceramic composition |
WO2003040058A1 (fr) * | 2001-11-09 | 2003-05-15 | Noritake Co.,Limited | Materiau ceramique conducteur d'ions oxygene et son application |
WO2005016845A1 (ja) * | 2003-08-14 | 2005-02-24 | Rohm Co., Ltd. | 誘電体磁器組成物、積層型セラミックコンデンサ、および電子部品 |
WO2005082807A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミックコンデンサ |
JP2006169051A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd | 誘電体磁器組成物及び磁器コンデンサ並びにこれらの製造方法 |
JP2006199534A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP2006282483A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2006321670A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
US7271115B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-09-18 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
JP2008162830A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JPWO2006104026A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2008-09-04 | 松下電器産業株式会社 | 誘電体磁器組成物、およびこれを用いたコンデンサの製造方法 |
JP2012056840A (ja) * | 2011-10-13 | 2012-03-22 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
WO2012057216A1 (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 京セラ株式会社 | コンデンサ |
JP2013224433A (ja) * | 2008-05-23 | 2013-10-31 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 赤外線反射材料及びそれを含有した塗料、樹脂組成物 |
KR20150052378A (ko) * | 2013-10-31 | 2015-05-14 | 필코씨앤디(주) | 고주파용 유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법 |
JP2017119610A (ja) * | 2015-12-29 | 2017-07-06 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 誘電体組成物及びこれを含む積層セラミックキャパシター |
KR20180051219A (ko) * | 2016-11-08 | 2018-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 도전성 페이스트 |
WO2018088625A1 (ko) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 엘지전자 주식회사 | 도전성 페이스트 및 면상 발열체 |
KR101873418B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2018-07-02 | 엘지전자 주식회사 | 면상 발열체 |
KR101918036B1 (ko) | 2016-08-09 | 2018-11-13 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 세라믹 전자부품 및 유전체 자기 조성물 |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3367479B2 (ja) * | 1999-08-19 | 2003-01-14 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミックおよび積層セラミック電子部品 |
JP3840869B2 (ja) * | 1999-10-28 | 2006-11-01 | 株式会社村田製作所 | 高周波用誘電体磁器組成物、誘電体共振器、誘電体フィルタ、誘電体デュプレクサおよび通信機装置 |
WO2002008147A1 (en) * | 2000-07-26 | 2002-01-31 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dielectric ceramic barium titanate composition and electronic device |
JP2002050536A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Murata Mfg Co Ltd | 耐還元性誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ |
US6517626B2 (en) * | 2000-08-14 | 2003-02-11 | Gage Products Company | Universal paint solvent |
JP3991564B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2007-10-17 | 株式会社村田製作所 | 圧電磁器組成物及び圧電素子 |
KR100390468B1 (ko) * | 2000-09-15 | 2003-07-04 | 한국과학기술연구원 | 초미립 유전체 세라믹스의 제조방법 |
JP4392821B2 (ja) * | 2000-10-24 | 2010-01-06 | 株式会社村田製作所 | 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミックコンデンサ |
CN100497250C (zh) * | 2000-11-15 | 2009-06-10 | Tdk株式会社 | 压敏非线性电阻器陶瓷 |
KR100399800B1 (ko) * | 2000-11-21 | 2003-09-29 | 주식회사에스지테크놀러지 | 고품질 고주파용 세라믹 유전체 조성물 |
JP2002164247A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
JP2002187770A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-07-05 | Toho Titanium Co Ltd | 誘電体磁器組成物及びこれを用いた積層セラミックコンデンサ |
JP4898080B2 (ja) * | 2001-05-08 | 2012-03-14 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | セラミックの多層デバイス及びその製造方法 |
TW569254B (en) * | 2001-11-14 | 2004-01-01 | Taiyo Yuden Kk | Ceramic capacitor and its manufacturing method |
TWI240288B (en) * | 2003-01-31 | 2005-09-21 | Murata Manufacturing Co | Dielectric ceramic and the manufacturing method thereof, and the laminated ceramic condenser |
JP2005145791A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
KR100861100B1 (ko) * | 2003-11-21 | 2008-09-30 | 티디케이가부시기가이샤 | 적층형 세라믹 컨덴서 |
CN100583328C (zh) * | 2004-04-23 | 2010-01-20 | 株式会社村田制作所 | 电子元件及其制造方法 |
JP4095586B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2008-06-04 | Tdk株式会社 | 積層型セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
US7365958B2 (en) * | 2004-10-27 | 2008-04-29 | Kyocera Corporation | Dielectric ceramics, multilayer ceramic capacitor and method for manufacturing the same |
CN100519474C (zh) * | 2004-12-24 | 2009-07-29 | 株式会社村田制作所 | 电介质陶瓷及叠层陶瓷电容器 |
JP4483597B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2010-06-16 | Tdk株式会社 | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP3918851B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2007-05-23 | 株式会社村田製作所 | 積層型電子部品および積層型電子部品の製造方法 |
WO2006109369A1 (ja) * | 2005-04-12 | 2006-10-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd | 電子部品モジュール |
CN100456397C (zh) * | 2005-11-21 | 2009-01-28 | 天津大学 | 钛酸钡陶瓷电容器介质的钛位先驱体掺杂改性方法 |
CN100378032C (zh) * | 2005-11-21 | 2008-04-02 | 天津大学 | 钛酸钡基陶瓷电容器介质及其制备方法 |
JP2007230819A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物、電子部品およびその製造方法 |
JP4839913B2 (ja) | 2006-03-23 | 2011-12-21 | Tdk株式会社 | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007331956A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2007331958A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP4936825B2 (ja) * | 2006-08-02 | 2012-05-23 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサ |
JP5137429B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2013-02-06 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器およびコンデンサ |
EP1980545B1 (en) | 2007-04-12 | 2009-12-09 | TDK Corporation | Dielectric ceramic composition and electronic device |
JP4967963B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-07-04 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP5217405B2 (ja) | 2007-12-11 | 2013-06-19 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
CN101503293B (zh) * | 2009-03-06 | 2012-12-05 | 湖北大学 | 一种掺杂钛酸锶钡高介电性铁电陶瓷材料及其制备方法 |
JP5429299B2 (ja) * | 2009-10-05 | 2014-02-26 | 株式会社村田製作所 | 扁平形状のNi粒子の製造方法 |
JP2011162396A (ja) * | 2010-02-09 | 2011-08-25 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
CN103288444A (zh) * | 2012-02-29 | 2013-09-11 | 深圳光启创新技术有限公司 | 一种陶瓷复合材料及其制备的超材料 |
CN103848573B (zh) * | 2012-12-06 | 2016-08-17 | 北京有色金属研究总院 | 一种高储能密度高温度稳定性介电玻璃陶瓷复合材料及其制备方法 |
KR20140083509A (ko) * | 2012-12-26 | 2014-07-04 | 삼성전기주식회사 | 유전체 조성물 및 이를 유전체층으로 포함하는 적층 세라믹 커패시터 |
CN103408302B (zh) * | 2013-07-19 | 2015-02-04 | 江苏大学 | 一种高介高温度稳定陶瓷电容器介质及其制备方法 |
CN104193328B (zh) * | 2014-09-03 | 2015-11-18 | 鞍山信材科技有限公司 | 一种耐高功率型无铅环保陶瓷介质材料 |
KR102183423B1 (ko) * | 2014-12-08 | 2020-11-26 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 |
CN104609852B (zh) * | 2015-01-06 | 2017-02-22 | 福建火炬电子科技股份有限公司 | 一种线性高压低损耗电容器陶瓷材料及其制备方法 |
CN105384436B (zh) * | 2015-11-10 | 2017-09-12 | 江苏科技大学 | 一种富钛型钛酸锶钡基电介质陶瓷材料及其制备方法 |
CN105801112A (zh) * | 2016-03-23 | 2016-07-27 | 武汉理工大学 | Nd、Al共掺杂取代Ba0.4Sr0.6TiO3巨介电陶瓷及其制备方法 |
TWI642074B (zh) * | 2016-06-06 | 2018-11-21 | 村田製作所股份有限公司 | Multilayer ceramic capacitor |
CN106128758B (zh) * | 2016-06-13 | 2018-02-13 | 吴江佳亿电子科技有限公司 | 一种改良型半导体陶瓷电容器材料及其制备方法 |
KR101853191B1 (ko) | 2016-07-28 | 2018-04-27 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물, 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 및 적층 세라믹 커패시터의 제조 방법 |
JP7089402B2 (ja) * | 2018-05-18 | 2022-06-22 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
JP7145652B2 (ja) * | 2018-06-01 | 2022-10-03 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
JP7446705B2 (ja) * | 2018-06-12 | 2024-03-11 | 太陽誘電株式会社 | 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法 |
KR101949082B1 (ko) * | 2018-06-15 | 2019-05-02 | 이인우 | 선박용 로프커터 |
CN111517780B (zh) * | 2019-02-01 | 2023-07-25 | 三星电机株式会社 | 介电陶瓷组合物和包括其的多层陶瓷电容器 |
KR102225451B1 (ko) * | 2019-06-28 | 2021-03-09 | 삼성전기주식회사 | 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층형 전자 부품 |
CN110423116B (zh) * | 2019-07-24 | 2021-07-02 | 桂林理工大学 | 一种x7r型陶瓷电容器介质材料及其制备方法 |
KR20190116141A (ko) * | 2019-07-24 | 2019-10-14 | 삼성전기주식회사 | 유전체 자기 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 |
TWI766181B (zh) * | 2019-08-16 | 2022-06-01 | 興勤電子工業股份有限公司 | 陶瓷組成物用於熱敏電阻之用途、陶瓷燒結體用於熱敏電阻之用途、熱敏電阻及其製法 |
CN112759384B (zh) * | 2019-11-06 | 2022-09-30 | 兴勤电子工业股份有限公司 | 陶瓷组成物用于热敏电阻器的用途、陶瓷烧结体用于热敏电阻器的用途及热敏电阻器 |
EP4211709A1 (en) * | 2020-09-10 | 2023-07-19 | Kemet Electronics Corporation | Resonant multilayer ceramic capacitors |
CN112645708B (zh) * | 2020-12-24 | 2022-07-15 | 福建火炬电子科技股份有限公司 | 一种抗还原bme瓷介电容器及电容器用陶瓷材料 |
CN114956806B (zh) * | 2021-09-02 | 2023-06-27 | 深圳先进电子材料国际创新研究院 | 共掺杂钛酸钡陶瓷介电材料、制备及其应用 |
CN113831123B (zh) * | 2021-09-07 | 2022-08-12 | 成都宏科电子科技有限公司 | 钛酸钡基芯片电容器用介质陶瓷材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69027394T2 (de) | 1989-10-18 | 1997-02-06 | Tdk Corp | Keramischer Mehrschicht-Chipkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung |
JPH05109319A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-30 | Tdk Corp | 高誘電率誘電体磁器組成物 |
JP3250923B2 (ja) * | 1994-11-28 | 2002-01-28 | 京セラ株式会社 | 誘電体磁器組成物 |
US5650367A (en) * | 1994-01-28 | 1997-07-22 | Kyocera Corporation | Dielectric ceramic composition |
FR2718539B1 (fr) | 1994-04-08 | 1996-04-26 | Thomson Csf | Dispositif d'amplification de taux de modulation d'amplitude d'un faisceau optique. |
DE69503208T2 (de) * | 1994-10-03 | 1999-01-07 | Murata Manufacturing Co | Herstellung von keramischen dielektrischen Pulvern |
JP3161278B2 (ja) * | 1995-04-26 | 2001-04-25 | 株式会社村田製作所 | 誘電体磁器組成物 |
TW321776B (ja) * | 1995-07-21 | 1997-12-01 | Tdk Electronics Co Ltd |
-
1998
- 1998-09-28 JP JP27304998A patent/JP3567759B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-09-01 US US09/388,173 patent/US6346497B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-15 EP EP99118316A patent/EP0992469B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-15 SG SG9904539A patent/SG87050A1/en unknown
- 1999-09-15 DE DE69913284T patent/DE69913284T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-23 TW TW088116394A patent/TW424243B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-09-28 CN CN99120872A patent/CN1118444C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-09-28 KR KR1019990041519A patent/KR100326951B1/ko active IP Right Grant
Cited By (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6544916B1 (en) | 1999-10-05 | 2003-04-08 | Tdk Corporation | Manufacture method of dielectric ceramic composition |
JP2002252138A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-09-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法、それを用いた積層セラミックコンデンサ |
JP4660940B2 (ja) * | 2001-02-22 | 2011-03-30 | パナソニック株式会社 | 耐還元性誘電体セラミック及びその製造方法、それを用いた積層セラミックコンデンサ |
WO2003040058A1 (fr) * | 2001-11-09 | 2003-05-15 | Noritake Co.,Limited | Materiau ceramique conducteur d'ions oxygene et son application |
US7442344B2 (en) | 2001-11-09 | 2008-10-28 | Chubu Electric Power Co., Inc. | Ceramic member with oxygen ion conductivity and use thereof |
WO2005016845A1 (ja) * | 2003-08-14 | 2005-02-24 | Rohm Co., Ltd. | 誘電体磁器組成物、積層型セラミックコンデンサ、および電子部品 |
US7351676B2 (en) | 2003-08-14 | 2008-04-01 | Rohm Co., Ltd. | Dielectric porcelain composition, multilayer ceramic capacitor, and electronic component |
GB2426515A (en) * | 2004-02-27 | 2006-11-29 | Murata Manufacturing Co | Dielectric ceramic composition and laminated ceramic condenser |
WO2005082807A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミックコンデンサ |
US7160827B2 (en) | 2004-02-27 | 2007-01-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielectric ceramic composition and multilayer ceramic capacitor |
GB2426515B (en) * | 2004-02-27 | 2007-10-24 | Murata Manufacturing Co | Dielectric ceramic composition and laminated ceramic condenser |
US7271115B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-09-18 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor |
JP2006169051A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd | 誘電体磁器組成物及び磁器コンデンサ並びにこれらの製造方法 |
JP4622537B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2011-02-02 | Tdk株式会社 | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP2006199534A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JPWO2006104026A1 (ja) * | 2005-03-28 | 2008-09-04 | 松下電器産業株式会社 | 誘電体磁器組成物、およびこれを用いたコンデンサの製造方法 |
JP4935671B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2012-05-23 | パナソニック株式会社 | 誘電体磁器組成物、およびこれを用いたコンデンサの製造方法 |
JP2006282483A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
JP2006321670A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ |
JP2008162830A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物および電子部品 |
JP2013224433A (ja) * | 2008-05-23 | 2013-10-31 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 赤外線反射材料及びそれを含有した塗料、樹脂組成物 |
US8906272B2 (en) | 2008-05-23 | 2014-12-09 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Infra-red reflective material and production method thereof, and paint and resin composition containing the same |
WO2012057216A1 (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 京セラ株式会社 | コンデンサ |
JP2012056840A (ja) * | 2011-10-13 | 2012-03-22 | Tdk Corp | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 |
KR20150052378A (ko) * | 2013-10-31 | 2015-05-14 | 필코씨앤디(주) | 고주파용 유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법 |
KR101589687B1 (ko) | 2013-10-31 | 2016-01-29 | 알에프엠엔씨 주식회사 | 고주파용 유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법 |
JP2017119610A (ja) * | 2015-12-29 | 2017-07-06 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 誘電体組成物及びこれを含む積層セラミックキャパシター |
KR20170078064A (ko) | 2015-12-29 | 2017-07-07 | 삼성전기주식회사 | 유전체 조성물 및 이를 포함하는 적층 세라믹 커패시터 |
KR101918036B1 (ko) | 2016-08-09 | 2018-11-13 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 세라믹 전자부품 및 유전체 자기 조성물 |
KR20180051219A (ko) * | 2016-11-08 | 2018-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 도전성 페이스트 |
WO2018088625A1 (ko) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 엘지전자 주식회사 | 도전성 페이스트 및 면상 발열체 |
KR101873418B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2018-07-02 | 엘지전자 주식회사 | 면상 발열체 |
KR102003939B1 (ko) * | 2016-11-08 | 2019-07-25 | 엘지전자 주식회사 | 도전성 페이스트 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1249286A (zh) | 2000-04-05 |
TW424243B (en) | 2001-03-01 |
DE69913284T2 (de) | 2004-05-27 |
EP0992469B1 (en) | 2003-12-03 |
CN1118444C (zh) | 2003-08-20 |
KR100326951B1 (ko) | 2002-03-13 |
KR20000023492A (ko) | 2000-04-25 |
SG87050A1 (en) | 2002-03-19 |
JP3567759B2 (ja) | 2004-09-22 |
US6346497B1 (en) | 2002-02-12 |
DE69913284D1 (de) | 2004-01-15 |
EP0992469A2 (en) | 2000-04-12 |
EP0992469A3 (en) | 2000-09-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000103668A (ja) | 誘電体セラミック組成物および積層セラミックコンデンサ | |
EP0977217B1 (en) | Dielectric ceramic composition and laminated ceramic capacitor | |
KR100438517B1 (ko) | 내환원성 유전체 세라믹 콤팩트 및 적층 세라믹 커패시터 | |
JP3918372B2 (ja) | 誘電体セラミック組成物、および積層セラミックコンデンサ | |
JP3039403B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP3039397B2 (ja) | 誘電体磁器組成物とそれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
KR100256199B1 (ko) | 적층 세라믹 커패시터 | |
JP3024537B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JPH1012479A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2001143955A (ja) | 誘電体セラミック組成物、および積層セラミックコンデンサ | |
JP3039409B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP3039426B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
EP1056102B1 (en) | Nonreducing dielectric ceramic and monolithic ceramic capacitor | |
JP2000058378A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP4491842B2 (ja) | 誘電体磁器組成物および積層セラミックコンデンサ | |
JP4691790B2 (ja) | 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ | |
JP2001080959A (ja) | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミック部品 | |
JP4258172B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2001089234A (ja) | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミック部品 | |
JPH10172858A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2001089233A (ja) | 誘電体セラミック組成物及び積層セラミック部品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040525 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080625 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100625 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110625 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120625 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130625 Year of fee payment: 9 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |