EP1390813A2 - Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie - Google Patents

Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie

Info

Publication number
EP1390813A2
EP1390813A2 EP02769464A EP02769464A EP1390813A2 EP 1390813 A2 EP1390813 A2 EP 1390813A2 EP 02769464 A EP02769464 A EP 02769464A EP 02769464 A EP02769464 A EP 02769464A EP 1390813 A2 EP1390813 A2 EP 1390813A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
force introduction
optical element
optical system
optical
force
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP02769464A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Martin Brunotte
Jürgen HARTMAIER
Hubert Holderer
Winfried Kaiser
Alexander Kohl
Jens Kugler
Manfred Maul
Christian Wagner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of EP1390813A2 publication Critical patent/EP1390813A2/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/08—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of polarising materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
    • G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
    • G03F7/70966—Birefringence

Definitions

  • the invention relates to a projection exposure system of microlithography according to the preamble of claims 1 and 41, an optical system, in particular a microlithographic projection objective, according to the preamble of claims 9 and 12, a manufacturing method of a microlithography projection object according to the preamble of claim 42 as well as a microlithographic structuring method according to the preamble of claim 44.
  • a lens which, however, can also be designed as a plane plate, for example an end plate, filter), which is oriented symmetrically about the (111) crystal axis, the birefringence when a light beam passes perpendicularly is minimal.
  • the object of the invention is therefore to provide a compensation of this disturbance by direction-dependent birefringence, with which even high-aperture projection lenses can be operated optimally.
  • the invention is based on the knowledge that, on the one hand, the interference caused by birefringence at the value of approx. 6 nm per cm with a possible light path of around 10 cm in lenses at the high angles predominantly a phase shift of up to approximately lambda quarters for two mutually polarized beams, that the high beam angles also occur in near-field (field-near) elements whose Beam-angle distributions are present as local distributions in a pupil plane transformed to it by Fourier.
  • the disturbance can thus be surprisingly corrected by a location-dependent polarization-rotating or location-dependent different birefringent optical element (correction element) near a pupil plane.
  • correction element a location-dependent polarization-rotating or location-dependent different birefringent optical element
  • Such elements and their manufacture by local polishing, in particular by ion beam polishing are known as indicated above and are also available in this new context.
  • the position "close" to a pupil plane is a practical approximation to the position in which the local distribution of polarization and phase at the correction element is transformed sufficiently into its angular distribution at the angle-dependent birefringent element. This must be coordinated in particular with the optical design of the projection lens.
  • the embodiment according to claim 8 provides for a conversion from radial to tangential polarization with an optically active element in the projection objective.
  • Thickness distribution can also achieve a desired compensation effect of the correction element by introducing z. B. of tensile or compressive stresses by means of a force application device according to claim 14 and a stress birefringence caused thereby.
  • Piezo actuators can also be other active actuators, e.g. B. pneumatic actuators, or passive manipulators, z. B. adjusting screws or preloaded springs can be used.
  • Claim 17 can provide a defined introduction of force in the direction of the neutral surface of the optical element.
  • a movable body according to Claim 18 ensures a subsequent fine adjustment of the force application.
  • a spring according to claim 19 prevents the contact body from tilting with respect to the correction element.
  • Claim 20 prevents the contact body from tilting with respect to the correction element by creating a defined mobility of the contact body relative to the correction element.
  • a solid-state joint according to claim 21 is wear-free and can be produced in a compact manner.
  • Claim 22 can initiate a defined force distribution in the correction element.
  • a first can be done by the expansion or the offset of the force application locations
  • Claim 23 can be a Realize progressively variable distribution of force transmission in the circumferential direction.
  • Claim 25 offers an easy-to-implement possibility of applying force along the neutral surface of the correction element, since the forces which can be introduced via the two places of introduction of force can be correspondingly coordinated with one another.
  • Claim 26 offers the possibility of fine adjustment of the force distribution between the two force introduction bodies to generate a total force along the neutral surface of the correction element.
  • Claim 29 enables a design of a force introduction device that is flat in the direction of the optical axis of the optical system.
  • Claim 30 can the introduction of force on the arrangement and Design the force introduction component specifically to generate a total force in the direction of the neutral surface of the correction element.
  • Claim 31 can be done particularly easily.
  • a ring acc. Claim 32 is a particularly simple counter support body for a force introduction device, which can then also be designed as a component carried by the correction element itself.
  • a support ring which surrounds the correction element, can be used, on which the actuator acting on the correction element, which itself does not have to be annular, is supported. The use of such rings also enables a force application device in which no lateral displacement of the correction element can occur when the force is applied.
  • a force introduction device leads to a maximization of the corrective effect for a given application of force.
  • a projection exposure system according to claim 36 with the introduction of force coordinated with the emission of the projection light bundle leads to the fact that the compensation is always achieved exactly when the projection optics are illuminated with projection light. At the same time, the load on the correction element is reduced.
  • a control device ensures simple timing.
  • Claim 38 When using a force application device acc. Claim 38 generates a refractive index profile via the sound wave profile, which has a similar spatial distribution as the sound wave profile.
  • the sound wave profiles can be analogous to optical ones
  • a standing sound wave acc. Claim 39 leads to a static aberration correction.
  • dynamic imaging error correction This makes it z. B. possible to change the imaging properties of the lens during the projection in a targeted manner with an intermittent projection light bundle, so that at the time of influencing the light bundle by the optical element, optimal imaging conditions for the projection prevail.
  • Time scale of light exposure a slow, e.g. in the order of 1/100 s, to generate variable force distribution in the optical element, e.g. optimize the correction effect on the lighting distribution used or on the reticle structure just shown.
  • Figure 1 schematically shows a projection exposure system according to the invention, partly in meridional section
  • FIG. 2 shows an optical correction element which is alternative to that which is integrated in the projection exposure system according to FIG. 1;
  • FIG. 3 shows a meridional section of half of a further alternative optical correction element
  • Figure 4 shows a detail of a movable
  • FIG. 3 shows a cooperating force introduction device which, according to FIG. Figure 3 is;
  • FIG. 5 shows an illustration of an optical correction element similar to FIG. 3 with an alternative force introduction device;
  • Figure 6 is a plan view of the embodiment according to. Figure 5;
  • FIG. 7 shows a representation, similar to FIGS. 3 and 5, of an alternative optical correction element with an alternative force introduction device
  • Figure 8 is a plan view of the embodiment according to. Figure 7; such as
  • FIG. 1 shows a light source 1, which is preferably a laser emitting at narrow band at 157 nm or 193 nm. Their light is fed to an illumination system 2 which, as a special feature, can contain means 21 for generating radial polarization, as are known from DE 195 35 392 A1.
  • This illuminates a microlithographic reticle 3, which is connected to a reticle holding and positioning system 31.
  • the following projection objective 4 images the reticle 3 onto the object 5 arranged in the image plane - typically the wafer.
  • the object 5 is provided with an object holding and positioning system 51.
  • the projection lens 4 comprises a group 41 with lenses and, if necessary, also one or more mirror apply, a pupil plane or system aperture plane P and between this plane P and the plane of the object 5 lenses 42, 43, the passage angle a of which is characterized by the numerical aperture NA of the projection objective on the image side.
  • At least one of the lenses 42, 43 consists of a material with angle-dependent birefringence, for example calcium fluoride, the (111) orientation of which coincides with the optical axis 0 or deviates by up to approximately 5.
  • a material with angle-dependent birefringence for example calcium fluoride, the (111) orientation of which coincides with the optical axis 0 or deviates by up to approximately 5.
  • both of the lenses 42, 43 shown are preferably installed rotated relative to one another by the azimuth angle, that is, around the optical axis O.
  • the correction element 44 made of birefringent, stress birefringent or optically active material, which is arranged there according to the invention, can therefore have a distance from the optical axis O and with the
  • the means 21 and the correction element t 44 can generate radial polarization on the object 5, the correction element 44 also compensating for the angle-dependent birefringence in the sense of the invention. If the projection objective has 4 further pupil planes, which is the case, for example, in versions with an intermediate image, a correction element can also be arranged there.
  • lens surfaces e.g. can be reshaped by on-beam etching.
  • the described effect of the angle-dependent birefringence of the fluoride crystals can be taken into account in the optical design of high-projection lenses. For this, the variation over the azimuth angle must be taken into account.
  • the design or the effect of the correction element 44 can then be predetermined by the design.
  • the disturbance of the image due to the angle-dependent birefringence can also be measured and converted into a post-processing of the correction element 44 provided. This way, a specimen-specific birefringence distribution can be corrected at the same time.
  • FIGS. 2 to 12 Components which correspond to those which have already been described with reference to FIG. 1 have the same reference numerals in these further variants and are not explained again in detail.
  • FIG. 2 shows an alternative correction element on an enlarged scale.
  • ment 144 in the disassembled state, that is, not in a projection lens integrated state in supervision.
  • the correction element 144 is a CaF "plate with three-fold symmetry, ie it consists of a material with stress-birefringent properties.
  • Its circumferential surface 161 has essentially the shape of an equilateral triangle with rounded corners and side surfaces which are arched slightly in the direction of the center of the triangle (penetration point of the optical axis O).
  • the correction element 144 is mounted in a round socket 150 and is connected via a section at each of the rounded corners of the circumferential surface 161 to a respective piezo actuator 151 to 153.
  • Each piezo actuator 151 to 153 is embedded in the socket 150 on the side facing away from the correction element 144.
  • the piezo actuators 151 to 153 are connected to a piezo control unit 157 via signal lines 154 to 156, which are led to the outside through corresponding bores in the holder 150.
  • the latter is connected via a signal line 158 to a synchronization unit 159, which in turn is connected to the light source 101 via a signal line 160.
  • the correction element 144 When used, the correction element 144 is integrated in the projection objective (cf. objective 4 in FIG. 1), it being possible for projection light to pass through it in a circular passage area 162, which is shown in broken lines in FIG.
  • the correction element 144 then works as follows:
  • the light source 101 is an excimer laser which, by means of a quasi-cw projection light pulse train with individual pulses, has a short pulse duration (approximately 10 ns) and a relatively low repetition rate in the range of 10 kHz is characterized.
  • the piezo actuators 151 to 153 are controlled by the piezo control unit 157 such that the correction element 144 is set into radial density vibrations.
  • the frequency of these vibrations is tuned to the repetition rate of the light source 101 with the aid of the synchronization unit 159, so that during the laser pulse a maximum of the piezo actuators 151 to 153 e.g. Compressive stress generated in a sinsus shape is achieved in the correction element 144.
  • the short pulse duration of the individual light pulses which is only approx.
  • One ten thousandth of the repetition period of the light source 101 and the duration of the force introduction into the correction element 144 the instantaneous force introduced into the correction element is constant to a good approximation. Therefore, no significant changes in the birefringence state of the correction element 144 occur during the pulse duration of the individual light pulses, regardless of the phase relationship between the laser pulse and the introduction of force.
  • the voltage birefringence can be set by means of the piezo control unit 157.
  • the geometry of the correction element 144 is such the geometry of the force application by the piezo actuators 151 to 153 and adapted to the force application frequency such that a natural vibration of the correction element 144 is in resonance with the force application frequency. This ensures a maximum force effect and thus a maximum stress birefringence generated for a given amount of force. In addition to compressive stresses, this version also creates tensile stresses due to the resonant oscillation of the solid, which significantly increases the variety of birefringence distributions possible.
  • the piezo actuators 151 to 153 With the aid of the piezo actuators 151 to 153 (cf. FIG. 2), provided that a corresponding actuation frequency of the piezo actuators 151 to 153 is used, a standing or a running sound wave can be generated in the correction element 144. To generate a standing sound wave, the control frequency for the piezo actuators 151 to 153 is adapted accordingly to the geometry and the material of the correction element 144. According to the
  • a number of the piezo actuators acting on the correction element 144 via the circumferential surface 161 can generate a corresponding count of the sound wave that arises.
  • n piezo actuators With n piezo actuators, a standing sound wave with up to n / 2-fold symmetry can be generated.
  • superimpositions of sound waves with different numbers can be generated. This leads to a refractive index profile in the correction element 14 that can be predetermined in a controlled manner via the sound wave profile.
  • a corresponding superposition of refractive index profiles can be set as a superposition, which can be used for the independent correction of a plurality of imaging errors, since e.g. B. about the Different refractive index contributions of sound wave profiles of different counts, the coefficients describing the imaging properties of Zernike functions are influenced in a predetermined manner.
  • the projection light beam passing through the correction element 144 is influenced in such a way that the other birefringence effects in the projection optics are compensated for, as explained in connection with FIG. 1.
  • piezo actuators As an alternative to piezo actuators, other pressure or traction devices can also be used to apply the force.
  • FIG. 3 shows, in a meridional section, a further variant of an optical correction element with a force introduction device, which is alternative to that which was described in connection with FIG. 2.
  • the optical correction element 244 is a symmetrically biconcave lens made of CaF_, on which a force introduction device, designated overall by 270, acts on the edge.
  • the optical correction element 244 and the force introduction device 270 3 are rotationally symmetrical in multiple numerals about an optical axis 271 shown in broken lines in FIG. 3, so that the illustration in FIG. 3 is limited to the right half as seen from the optical axis 271.
  • the edge of the correction element 244 is chamfered at the top and bottom, so that the circumferential surface 272 of the correction element 244 merges into the convex optical surfaces of the correction element 244 via an annular chamfer surface 273, 274 in each case. Since the chamfer surfaces 273, 274 are not part of the optical surfaces of the correction element 244, they can be regarded as part of the entire circumferential surface thereof.
  • the lower chamfer surface 274 in FIG. 3 rests on a base body 277, which forms the holder of the correction element 244, via a contact tip 275 of a contact body 276.
  • the contact body 276 and the base body 277 are connected to one another in a planar manner, for. B. glued together.
  • the base body 277 has a plurality of edge-side bores 278, which are made parallel to the optical axis 271 through the base body 277 and serve to fasten the base body 277 to a holding frame (not shown) for the correction element 244.
  • a plurality of lever bodies 279 are attached to the base body 277 in an articulated manner.
  • the number of lever bodies 279 specifies the count of the rotational symmetry of the force introduction device 270. Only one of the lever bodies 279 is shown in FIG.
  • the lever bodies 279 all have the same structure, so that it suffices below, the lever body shown in Figure 3 279 to describe. This is articulated on the base body 277 via a joint 280.
  • the joint 280 like the other joints which connect the other lever bodies 279 to the base body 277, has an axis of articulation which runs parallel to a tangent to the next point on the circumferential surface 272 of the correction element 244.
  • the joints (cf. joint 280) are arranged at a height that corresponds to the position of the central plane of the correction element 244 perpendicular to the optical axis 271.
  • the base body 277 and the lever body 279 have step-shaped recesses facing one another, so that a total of one adjacent to the joint 280
  • Receiving recess 281 is formed.
  • a piezo actuator 282 is inserted into this and can be changed in length in the direction parallel to the optical axis 271.
  • the piezo actuator 282 is connected to a control device 284 by a control line 283 indicated in FIG.
  • the lever body 279 bears against the chamfer surface 273 in FIG. 3, so that the lever body 279 with the section of the base body 277 assigned to it over the
  • Contact body 285, 276 acts like a pair of pliers on the chamfer surfaces 273, 274 of the correction element 244.
  • the correction element 244 coupled to the force introduction device 270 is used as follows:
  • the control device 284 calculates a voltage distribution which is to be set in the correction element 244, and thus by the voltage distribution caused by this Changes in the optical properties of the correction element 244 compensation of the aberration is achieved. From the calculated voltage distribution, the control device 284 determines deflection values that the piezo actuators 282 of the force introduction device 270 have to transmit to the respective lever bodies 279, so that the resulting forceps effect between the base body 277 (cf. contact tip 275) and the lever bodies 279 the contact tips 286 on the chamfer surfaces 273, 274 results in an introduction of force which leads to the formation of the calculated stress distribution.
  • the system tips 275, 286 ensure a defined application of force without tilting.
  • FIG. 4 shows an alternative contact body 385 in a detail section which corresponds to that which is marked by a solid circle in FIG. 3.
  • the contact body 385 is articulated on the lever body 379 via two articulated connections 387, 388. These are arranged on the "roof edges" of two triangular brackets of the lever body 379, between which the lever body 379 is set back, so that it is spaced from the contact body 385 between the articulated connections 387, 388.
  • the contact body 385 is made of resilient material. On its side facing away from the lever body 379, the contact body 385 has a contact nose 389, which on the Chamfer surface 373 of the correction element 344 rests.
  • Figure 3 can according to the type of investment body 385.
  • Fig. 4 be executed.
  • the contact body 385 works as follows:
  • the contact body 385 As long as no force is applied, is arranged either parallel to the chamfer surface 273 or at a certain angle to it.
  • the spring action of the contact body 385 and the articulated connections 378, 388 ensure that, regardless of the presence of such an angle, the contact nose 389 always acts on the chamfer surface 373 when the force is applied without tilting.
  • the articulated connections 387, 388 can be designed as conventional articulated connections or as solid-state joints.
  • An alternative force introduction device 470 having a three-fold rotational symmetry for the
  • Correction element 444 is shown in FIGS. 5 and 6.
  • the base body 477 with the bores 478 is designed as a ring surrounding the circumferential surface 472 of the correction element 444, which is also shown only in part in FIG. 6.
  • the force introduction device 470 is also mirror-symmetrical with respect to the central plane of the correction element 444, which is perpendicular to the optical axis 471, so that in the following it will suffice to use only the upper half of FIG To describe force introduction device 470 in detail.
  • a plurality of shear piezo actuators 490 are connected flat to the base body 470, two of which are shown in FIG. 5 and lie opposite one another on both sides of the base body 477.
  • the shear piezo actuators 490 are connected to the control device 484 via control lines 483.
  • the shear piezo actuators 490 are connected flatly to thrust bodies 491, which rest against the chamfer surfaces 473, 474 of the correction element 444 via contact bodies 476, 485 with contact tips 475, 486.
  • the force introduction device 470 is formed by three pairs of thrust bodies 491 lying opposite one another with respect to the base body 477 with associated shear piezo actuators 490, which are each offset by 120 ° around the circumferential surface 472 of the correction element 444.
  • the correction element 444 with the force introduction device 470 is used as follows:
  • control device 484 analogous to that described in connection with FIG. 3, a calculation of setpoints for the introduction of force of the thrust body 491 or the associated deflections of the shear piezo actuators 490 takes place. Actuators 490 are converted via control lines 483 into the desired voltage distribution in correction element 444.
  • Partial forces acting on the system tips 475 on the one hand and 486 on the other are dimensioned such that they add up to a total force in the neutral surface of the correction element 444. Analogous to that described above in connection with the force introduction device 270, no bending moments are thus exerted on the correction element 444.
  • FIGS. 7 and 8 show a further alternative of a correction element 544, in which a defined voltage distribution is generated by means of a force introduction device 570.
  • the correction element 544 is an asymmetrically biconcave lens with an upper chamfer surface 573 and a lower chamfer surface 574 in the edge region. This is held by a plurality of spring arms 592 which are flexible in the direction of the optical axis 571 of the correction element 544.
  • the lower chamfer surface 574 bears against a correspondingly beveled support surface of the spring arms 592.
  • the spring arms 592 each have a spring arm section which adjoins this support surface perpendicular to the optical axis 571 and a second spring arm section which bends at right angles thereto in the direction of the optical axis 571. This second
  • Federarma section merges into a connecting ring carrying the second spring arm sections of all spring arms 592, the inside diameter of which is larger than the outside diameter of the correction element 544.
  • the connecting ring merges in one piece into a spring ring 593 coaxially surrounding the connecting ring.
  • the latter has a smaller material thickness compared to the connecting ring parallel to the optical axis.
  • the spring ring 593 connects the connecting ring in one piece with the annular base body 577, which in turn surrounds the spring ring 593 coaxially on the outside.
  • FIG. 7 shows a section of the spring arm holder of the correction element 544, a total of six spring arms 592 being visible in this illustration, two spring arms 592 of which are each half.
  • the spring arm holder according to FIGS. 7 and 8 thus has twenty spring arms 592, which are integrally formed on the circumference of the base body 577 and whose inner spring arm sections, which have the support surfaces for the correction element 544, extend radially inward similarly to wheel spokes ,
  • the force introduction device 570 has a support ring 594, which is arranged coaxially with respect to the optical axis 571 around the peripheral surface 572 of the correction element 544.
  • a plurality of piezo actuators 595 which are variable in length in the radial direction with respect to the optical axis 571, are supported on the inner lateral surface of the support ring 594.
  • the piezo actuators 595 are connected to the control device 584 via control lines 583.
  • the piezo actuators 595 are supported between the support ring 594 and bearing bodies 576 which bear against the circumferential surface 572 of the correction element 544 and are arranged between the piezo actuators 595 and the correction element 544.
  • the contact bodies 576 each have two hemispherical contact projections 596, 597 which are offset parallel to the direction of the optical axis 571.
  • twenty are the same in the circumferential direction of the support ring 594 distributed piezo actuators 595 with associated contact bodies 576.
  • the arrangement of the piezo actuators 595 in the circumferential direction of the correction element 544 is such that, as the top view in FIG. 8 shows, one piezo actuator 595 is located in the circumferential direction of the support ring 594 between two spring arms 592.
  • the piezo actuators 595 By supporting the piezo actuators 595 on the support ring 594 on the one hand and via the contact bodies 576 on the correction element 544 on the other hand, there is a self-supporting mounting of the force introduction device 570, carried only by the correction element 544.
  • the piezo actuators 595 are parallel to the direction of the optical axis
  • the force introduction device 570 is installed as follows and used to generate a stress distribution in the correction element 544:
  • the auxiliary fixing elements for. B. on adjacent spring arms 592 holding elements, temporarily fixed.
  • the support ring 594 is then brought into position around the circumferential surface 572 and is also temporarily fixed by means of auxiliary fixing elements.
  • the piezo actuators 595 are now inserted between the contact bodies 576 and the support ring 594.
  • the piezo actuators 595 are dimensioned such that there is a snug fit between the contact bodies 576 and the support ring 594.
  • the auxiliary fixing elements can then be removed.
  • the piezo actuators 595 are adjusted in such a way that their change in length and the force effect of the respective piezo actuators exerted on the correction element 544 result in a total force of the respective piezo actuator 595 via the contact projections 596, 597 the correction element 544 results, which runs along its neutral surface, so that no bending moments are exerted on the correction element 544 by the piezo actuators 595.
  • a voltage calculated by the control device 584 is transmitted to the piezo actuators 595 via the control lines 583, so that a predetermined voltage distribution is generated.
  • a contact ring which is coaxial with the support ring 594 can also be used instead.
  • FIGS. 9 to 12 show further variants of contact bodies that can be used in connection with the force introduction devices, which were described above with reference to FIGS. 2 to 8.
  • the contact body 676 in FIG. 9 is opposed by a length-adjustable piezo actuator 695 in the radial direction to the optical axis of the correction element 644
  • the contact body 676 is a total of 5 engaging projections 697 ', 697 Y 697, / 697'''',697''''', on the circumferential surface 672 at.
  • the contact body 697 'to 697''''' are formed on a contact bar 698, which is in a to the optical axis of the
  • FIG. 11 shows a further variant of an abutment body 876.
  • the abutment bar 898 is there via a central one
  • the contact bar 898 has a cross-sectional design similar to the contact bar 698 according to FIG. 9, that is to say with respect to the sectional planes parallel to the drawing plane in FIG. 11 in the region of the middle contact projection
  • a pressure distribution on the correction element 844 by means of the piezo actuator 895 results in a predetermined pressure distribution which 'on the circumferential surface 872 of the correction element 844.
  • FIG. 12 also shows an embodiment of an abutment body 976. It also lies flat on the piezo actuator 995 on its side facing away from the correction element 944. On the surface facing away from the piezo actuator 995 and facing the circumferential surface 972 of the correction element 944, four pressure springs 967 ′ to 967 ′′ ′′ are attached to the contact body 976, which bear against the circumferential surface 972 of the correction element 944 via hemispherical contact sections.
  • the compression springs 967 'to 967 1 ''' point different predetermined spring constants. For example, the two central compression springs 967 '', 967 '''have a higher spring hardness than the two external compression springs 967', 967 ''''.
  • the cross-sectional surface shapes of the contact strips 698 to 898 or the spring constants of the compression springs 967 'to 967' '' 'can also have other shapes or value distributions.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)

Abstract

Bei einer Projektionsbelichtungsanlage besonders mit 157 oder 193 nm und bildseitigen NA von 0,8 bis 0,95, mit Fluorid-Kristallinsen (43, 43) wird deren winkelabhängige Doppelbrechung durch Relativdrehung um die optische Achse (O) und/oder durch ein Korrekturelement (44) nahe einer Pupillenenbene (P) in ihrem störenden Effekt vermindert.

Description

Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, optisches System, Herstellverfahren eines Mikrolithographie-Proj ektionsobj ektivs und mikrolithographisches Strukturierverfahren
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie nach dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 41, ein optisches System, insbesondere ein mikro- lithographisches Projektionsobjektiv, nach dem Oberbegriff der Ansprüche 9 und 12, ein Herstellverfahren eines Mikrolithographie-Proj ektionsobj ektivs nach dem Oberbegriff des Anspruch 42 sowie ein mikrolithographisches Strukturier- verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruchs 44.
Die Patentanmeldung PCT/EPO0/13184 zeigt für derartige vom Markt her bekannte Projektionsbelichtungsanlagen geeignete rein refraktive und katadioptrische Projektionsobjektive mit numerischen Aperturen von 0,8 und 0,9 bei einer Betriebswellenlänge bei 157nm.
Aus der DE 198 07 120 A (US Ser. No. 09/252 636) ist der Einsatz von lokal in der Dicke variierenden doppelbrechenden Elementen zum Ausgleich von über ein Lichtbün- del variierenden Polarisationseffekten bekannt.
Die US 6 201 634 B beschreibt, daß für diesen Einsatz geeignete technische Fluoridkristalle Spannungsdoppelbrechung aufweisen, die bezogen auf die Kristallachsen Richtungsabhängigkeit zeigt.
Aus der Internet-Publikation "Preliminary Determination of an Intrinsic Birefringence in CaF " von John H. Burnett, Eric L. Shirley und Zachary H. Lewin, NIST Gaithersburg MD 20899 USA (verbreitet am 07.05.01) ist bekannt, daß Kalziumfluorid-Einkristalle außer spannungsinduzierter auch intrinsische Doppelbrechung aufweisen.
Alle zitierten Schriften sollen in vollem Umfang auch Teil der Offenbarung dieser Anmeldung sein.
Erheblich sind diese Doppelbrechungseffekte erst bei den niedrigen Wellenlängen unterhalb etwa 200 nm, also insbesondere bei 193 nm und verstärkt bei 157 nm, den für die hochauflösende Mikrolithographie bevorzugten Wellenlängen .
Da diese Doppelbrechung von der Lichtstrahlrichtung bezogen auf die Kristallachsen abhängig ist, ergibt sich eine Variation als Funktion sowohl des Offnungs- winkeis wie auch des Drehwinkels (Azimutwinkels) um die optische Achse.
Für ein optisches Element, insbesondere eine Linse (das jedoch auch als Planplatte, z. B. Abschlußplatte, Filter, ausgebildet sein kann) , das rdtationssymmetrisch um die (111) Kristallachse orientiert ist, ist die Doppelbrechung bei senkrechtem Durchtritt eines Lichtstrahls minimal.
Unter einem Öffnungswinkel von ca. 35 und unter drei gegeneinander um 120 verdrehten Drehwinkeln (Azimut- winkeln) ist die Einfallsrichtung jedoch äquivalent der (110) Orientierung des Kristalls, und es tritt maximale
Doppelbrechung auf .
Bei einer Anordnung rotationssymmetrisch zu einer der
(100) , (010) oder (001) Achsen liegen unter einem Öffnungswinkel von 45 in jetzt vierzähliger Rotationssymmetrie wieder die (110) äquivalenten Achsen mit maximaler Doppelbrechung. Nun ist bei einem Element aus CaF , aus dem ein 157 nm Lichtstrahl mit der numerischen Apertur 0,8 austritt, der Öffnungswinkel im Durchtritt mit dem Brechungsindex von ca. 1,56 gleich 31 Grad; für NA = 0,9 ergibt sich ein Winkel von etwa 35 Grad. Die richtungsabhängige Doppelbrechung ist also bei so hoch geöffneten Systemen ein Problem.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Kompensation dieser Störung durch richtungsabhängige Doppelbrechung anzugeben, mit der auch höchstaperturige Projektionsobjektive optimal betrieben werden können.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine P.rojektionsbelich- tungsanlage nach den Ansprüchen 1 und 41, durch ein optisches System nach Anspruch 9 oder 12 sowie durch ein Herstellverfahren nach Anspruch 42 und ein mikrolithographisches Strukturierverfahren nach Anspruch 4 .
Die Erfindung geht aus von der Erkenntnis, daß zum einen die Störung durch die Doppelbrechung bei dem Wert von ca . 6 nm pro cm bei einem in Frage kommenden Lichtweg von rund 10 cm in Linsen bei den hohen Winkeln überwiegend eine Phasenverschiebung von bis zu etwa Lambdaviertel für zwei zueinander senkrecht polarisierte Strahlen darstellt, daß weiter die hohen StrahlWinkel in bildnahen (feldnahen) Elementen auftreten, deren Strahl-Winkel-Verteilungen in einer dazu fouriertransformierten Pupillenebene als Orts- Verteilungen vorliegen.
Damit kann überraschend die Störung durch ein ortsabhängig polarisationsdrehendes bzw. ortsabhängig unterschiedlich doppelbrechendes optisches Element (Korrekturelement) nahe einer Pupillenebene korrigiert werden. Solche Elemente und ihre Herstellung durch lokales Polieren, insbesondere durch Ionenstrahlpolieren, sind wie oben angegeben aber bekannt und auch in diesem neuen Zusammenhang verfügbar.
Die Lage "nahe" einer Pupillenebene, vorzugsweise der Systemaperturebene, ist eine praktische Annäherung an die Lage, bei der hinreichend gut die örtliche Verteilung von Polarisation und Phase am Korrekturelement in ihre Winkelverteilung am winkelabhängig doppelbrechenden Element transformiert wird. Dies ist insbeson- dere mit dem optischen Design des Projektionsobjektivs abzustimmen.
Neben diesem Ansatz der Ansprüche 1 und 9 ist es auch allein oder in Kombination damit (Ansprüche 13, 41) möglich, die Doppelbrechungseffekte mehrerer derartiger Elemente dadurch zu mindern, daß sie nach Anspruch 12 verdreht gegeneinander eingebaut werden.
Zwar ist es gängige Praxis, bei der Montage und Justage optischer Systeme exemplarspezifische Störungen gefass- ter Elemente durch Verdrehen gegeneinander zu kompensieren. Hier wird aber die durch die winkelabhängige Doppelbrechung aufgehobene RotationsSymmetrie durch eine vom optischen Design vorzugebende Relativdrehung berücksichtigt und die Störung vermindert.
Im Beispiel zweier gleich dicker, unter gleichen Winkeln durchlaufener Kalziumfluorid-Elemente in (111) -Orientierung wird man beide um 60 gegeneinander verdrehen, so daß gerade Maxima und Minima der jeweiligen Doppelbrechung überlagert werden, was den Effekt etwa halbiert. Eine zugehörige Korrekturplatte weist dann sechszählige Rotationssymmetrie auf.
Da sowohl die Störung als auch die erforderliche Form- Veränderung am Korrekturelement gering sind, ist es möglich, bei der Herstellung eines Proj ektionsobjektivs dieses zunächst vollständig aufzubauen und zu justieren und es dann gemäß Anspruch 41 zu vermessen und nachzube- arbeiten. Intrinsische und exemplarspezifische Spannungsdoppelbrechungen können dann zugleich kompensiert werden.
Vorteilhafte Ausführungsformen sind Gegenstand der Unteransprüche .
Die Ausführungsform nach Anspruch 8 sieht dabei im Projektionsobjektiv eine Umwandlung von radialer zu tangentialer Polarisation mit einem optisch aktiven Element vor.
Neben der Bereitstellung einer geeigneten örtlichen
Dickenverteilung kann eine gewünschte Kompensationswirkung des Korrekturelements auch durch eine Einbringung z . B. von Zug- oder Druckspannungen mittels einer Krafteinleitungseinrichtung gemäß Anspruch 14 und eine dadurch gezielt hervorgerufene Spannungsdoppelbrechung erzeugt werden .
Der Einsatz mindestens eines Piezo-Aktuators gemäß Anspruch 15 führt zur Möglichkeit der präzisen Vorgabe einer Amplitude für die Krafteinleitung. Alternativ zu
Piezo-Aktuatoren können auch andere aktive Aktuatoren, z. B. pneumatische Aktuatoren, oder auch passive Manipulatoren, z. B. Einstellschrauben oder vorgespannte Federn, eingesetzt werden.
Bei einer Krafteinleitung über die Umfangsflache des Korrekturelements gemäß Anspruch 16 kann die gesamte freie Apertur des Korrekturelements erhalten bleiben. Beim Einleiten mechanischer Kräfte in das Korrektur- element ist es günstig, die Kräfte entlang einer neutralen Faser bzw. einer neutralen Fläche des Korrekturelements einzuleiten, damit keine unerwünschte Deformationen des Korrekturelements induziert werden. In erster Näherung wird eine derartige Krafteinleitung dann erreicht, wenn darauf geachtet wird, keine Durchbiegung des optischen Elements hervorzurufen.
Mit Hilfe einer Krafteinleitungseinrichtung gem. Anspruch 17 läßt sich eine definierte Krafteinleitung in Richtung der neutralen Fläche des optischen Elements vorgeben.
Ein beweglicher Anlagekörper gem. Anspruch 18 gewährleistet eine nachträgliche Feinanpassung der Krafteinleitung.
Eine Feder gemäß Anspruch 19 verhindert ein Verkanten des Anlagekörpers bezüglich des Korrekturelements.
Ein alternativ oder zusätzlich vorsehbares Gelenk gem. Anspruch 20 verhindert ein Verkanten des Anlagekörpers bezüglich des Korrekturelements, indem eine definierte Beweglichkeit des Anlagekörpers relativ zum Korrekturelement geschaffen wird.
Ein Festkörpergelenk gemäß Anspruch 21 ist verschleißfrei und bauklein herstellbar.
Mit Hilfe eines Anlagekörpers gem. Anspruch 22 läßt sich eine definierte Kraftverteilung in das Korrekturelement einleiten. Hierbei läßt sich durch die Ausdehnung bzw. den Versatz der Krafteinleitungsorte ein erster
Freiheitsgrad für diese Verteilung vorgeben, wobei sich über die absolut einzuleitende Anlagekraft ein zweiter Freiheitsgrad einstellen lässt .
Mit einem Anlagekörper gem. Anspruch 23 läßt sich eine progressiv in Umfangsrichtung veränderliche Verteilung der Krafteinleitung realisieren.
Dies ist ebenso durch eine alternative oder zusätzliche Ausführung des Anlagekörpers gem. Anspruch 24 möglich.
Die Ausbildung einer Krafteinleitungskomponente gem. Anspruch 25 bietet eine einfach zu realisierende Möglichkeit einer Krafteinleitung längs der neutralen Fläche des Korrekturelements, da die über die beiden Kraftein- leitungsorte einleitbaren Kräfte entsprechend aufeinander abgestimmt werden können.
Eine Anordnung der Krafteinleitungskörper gem. Anspruch 26 bietet die Möglichkeit der Feinanpassung der Kraftverteilung zwischen den beiden Krafteinleitungskörpern zur Erzeugung einer Gesamtkraft längs der neutralen Fläche des Korrekturelements.
Die Anordnung der Krafteinleitungskörper gem. Anspruch
27 ist einfach. Die Anpassung der Krafteinleitung zur Erzeugung einer Gesamtkraft längs der neutralen Fläche des Korrekturelements erfolgt hierbei durch die geometrische Auslegung der Hebelarme.
Die alternative Zuordnung der Aktuatoren gem. Anspruch
28 ermöglicht eine präzise Krafteinleitung.
Der Einsatz eines Aktuators gem. Anspruch 29 ermöglicht eine in Richtung der optischen Achse des optischen Systems flach bauende Ausführung einer Krafteinleitungseinrichtung.
Mit Hilfe eines Krafteinleitungskörpers gem. Anspruch 30 läßt sich die Krafteinleitung über die Anordnung und Auslegung der Krafteinleitungskomponente gezielt zur Erzeugung einer Gesamtkraft in Richtung der neutralen Fläche des Korrekturelements steuern.
Dies kann mittels eines Aktuators gem. Anspruch 31 besonders einfach erfolgen.
Ein Ring gem. Anspruch 32 ist ein besonders einfacher Gegenstützkörper für eine Krafteinleitungseinrichtung, die dann zudem als vom Korrekturelement selbst getragene Komponente ausgeführt werden kann. Alternativ oder zusätzlich kann ein Stützring, der das Korrekturelement umgibt, eingesetzt sein, an dem sich der auf das Korrekturelement wirkende Aktuator, der selbst nicht ringförmig ausgebildet sein muß, abstützt. Die Verwendung derartiger Ringe ermöglicht zudem eine Krafteinleitungseinrichtung, bei der keine Lateralverschiebung des Korrekturelements bei der Krafteinleitung auftreten kann.
Aufgrund der bei statischer Krafteinleitung erforderlichen hohen statischen Kräfte ist eine Beschädigung des Korrekturelements nicht immer auszuschließen. Außerdem kann sich der Spannungszustand des Korrekturelements bei einer länger andauernden Krafteinleitung über die Zeit aufgrund z.B. von Drifteffekten ändern. Diese Einschränkungen werden überwunden, wenn ein Korrekturelement gemäß dem Anspruch 33 eingesetzt wird. Bei dynamischer Krafteinleitung läßt sich kurzzeitig eine wesentlich höhere Spannungs- doppelbrechnung ohne Zerstörungsgefahr erzeugen, als dies bei einer statischen Krafteinleitung der Fall ist. Zudem läßt sich über die Amplitude der dynamischen Krafteinleitung der Wert der einzustellenden Korrekturwirkung ggf . feinfühlig nachstellen, wobei dies auch bei fertigem Projektionsobjektiv von außen erfolgen kann. Mittels einer Krafteinleitungseinrichtung gemäß Anspruch 34 läßt sich eine mittlere Krafteinleitung erzielen, die derjenigen bei einer statischen Krafteinleitung vergleichbar ist.
Hierbei führt eine Krafteinleitungseinrichtung gemäß Anspruch 35 zu einer Maximierung der Korrekturwirkung bei gegebenem Krafteinsatz.
Eine Projektionsbelichtungsanlage gemäß Anspruch 36 mit auf die Emission des Projektionslichtbündels zeitlich abgestimmter Krafteinleitung führt dazu, daß die Kompensation immer genau dann erreicht wird, wenn die Projektionsoptik mit Projektionslicht durchleuchtet wird. Gleichzeitig ist die Belastung des Korrekturelements reduziert .
Eine Steuereinrichtung gemäß Anspruch 37 gewährleistet hierbei eine einfache zeitliche Abstimmung.
Beim Einsatz einer Krafteinleitungseinrichtung gem. Anspruch 38 wird über das Schallwellenprofil ein Brechungs- indexprofil erzeugt, welches eine ähnliche räumliche Verteilung wie das Schallwellenprofil aufweist. Die Schallwellenprofile lassen sich analog zu optischen
Wellenfronten in Zernike-Funktionen zerlegen. Somit können beliebige Superpositionen orthogonaler Basis-Zernike- Funktionen als Brechungsindexprofile erzeugt werden. Mit einer Anzahl N Aktuatoren lassen sich z.B. Korrek- turprofile mit einer Zähligkeit von N/2 erzeugen. Hierdurch können prinzipiell alle bekannten Abbildungsfehler reduziert werden.
Eine stehende Schallwelle gem. Anspruch 39 führt zu einer statischen Abbildungsfehlerkorrektur. Alternativ kann gem. Anspruch 40 eine dynamische Abbil- ungsfehlerkorrektur erfolgen. Hierdurch ist es z. B. möglich, bei einem intermittierenden Projektionslichtbündel die Abbildungseigenschaften des Objektivs während der Projektion gezielt zu ändern, so daß zum Zeitpunkt der Beeinflussung des Lichtbündels durch das optische Element optimale Abbildungsbedingungen für die Projektion vorherrschen. Alternativ ist es möglich, durch die dynamische Abbildungsfehlerkorrektur gemäß Anspruch 40 auf der
Zeitskala der Lichtbeaufschlagung eine langsam, z.B. in der Größenordnung von 1/100 s, veränderbare Kraftverteilung im optischen Element zu erzeugen, um z.B. die Korrekturwirkung auf die eingesetzte Beleuchtungsverteilung oder auf die gerade abgebildete Retikelstruktur zu optimieren.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert; es zeigen
Figur 1 schematisch eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtunganlage, teilweise im Meridionalschnitt;
Figur 2 ein optisches Korrekturelement, das zu demjenigen alternativ ist, welches in die Projektions- belichtungsanlage nach Figur 1 integriert ist;
Figur 3 einen Meridionalschnitt einer Hälfte eines weiteren alternativen optischen Korrekturelements;
Figur 4 einen Detailausschnitt, der einen beweglichen
Anlagekδrper einer mit dem optischen Korrekturelement gem. Figur 3 zusammenwirkenden Krafteinleitungseinrichtung zeigt, der alternativ zum Anlagekörper gem. Figur 3 ist; Figur 5 eine zur Figur 3 ähnliche Darstellung eines optischen Korrekturelements mit einer alternativen Krafteinleitungseinrichtung;
Figur 6 eine Aufsicht auf die Ausführungsform gem. Figur 5;
Figur 7 eine zu den Figuren 3 und 5 ähnliche Darstellung eines alternativen optischen Korrekturelements mit einer alternativen Krafteinleitungseinrichtung;
Figur 8 eine Aufsicht auf die Ausführungsform gem. Figur 7; sowie
Figuren Ausführungsvarianten von im Zusammenhang mit den 9 bis 12 oben dargestellten Krafteinleitungseinrichtungen verwendbaren Alternativen von Anlagekörpern.
Bezogen auf eine optische Achse 0 angeordnet, zeigt Figur 1 eine Lichtquelle 1, die vorzugsweise ein bei 157 nm oder 193 nm schmalbandig emittierender Laser ist. Deren Licht wird einem Beleuchtungssystem 2 zugeführt, das als Besonderheit Mittel 21 zur Erzeugung ra- dialer Polarisation enthalten kann, wie sie aus DE 195 35 392 AI bekannt sind. Damit wird ein mikrolithographisches Retikel 3 beleuchtet, das mit einem Retikel-Halte- und Positioniersystem 31 verbunden ist. Das folgende Projektionsobjektiv 4 bildet das Retikel 3 auf das in der Bildebene angeordnete Objekt 5 - typisch den Wafer - ab. Das Objekt 5 ist mit einem Objekt-Halte- und Positioniersystem 51 versehen.
Das Projektionsobjektiv 4 umfaßt eine Gruppe 41 mit Linsen und bedarfsweise auch einem oder mehreren Spie- geln, eine Pupillenebene bzw. Systemaperturebene P und zwischen dieser Ebene P und der Ebene des Objekts 5 Linsen 42, 43, deren Durchtrittswinkel a durch die bild- seitige numerische Apertur NA des Proj ektionsobjek- tivs geprägt ist.
Mindestens eine der Linsen 42, 43 besteht aus einem Material mit winkelabhängiger Doppelbrechung, beispielsweise Kalziumfluorid, dessen (111) Orientierung mit der optischen Achse 0 zusammenfällt oder bis zu ca. 5 abweicht .
Sind beide gezeigten Linsen 42, 43 (natürlich sind in diesem Bereich überwiegend noch mehr Linsen erforderlich) derartig, so werden sie vorzugsweise um den Azimutwinkel, also um die optische Achse O verdreht gegeneinander eingebaut .
Für jeden Lichtstrahl ist ein an einer der feldnahen Linsen 42, 43 auftretender Öffnungswinkel in der Nähe der Pupillenebene P zu einem Abstand von der optischen Achse O transformiert. Das dort erfindungsgemäß angeordnete Korrekturelement 44 aus doppelbrechendem, spannungsdoppel- brechendem oder optisch aktivem Material kann deshalb mit einer vom Abstand zur optischen Achse O und mit dem
Azimutwinkel variierenden Dicke und damit ortsabhängiger Polarisationsdrehung bzw. ortsabhängiger unterschiedlicher doppelbrechender Wirkung die winkelabhängige Doppelbrechung der Linsen 42, 43 kompensieren.
Die Mittel 21 und das Korrektureleme t 44 können radiale Polarisation am Objekt 5 erzeugen, wobei im Sinne der Erfindung das Korrekturelement 44 zugleich die winkelabhängige Doppelbrechung kompensiert . Hat das Projektionsobjektiv 4 weitere Pupillenebenen, was z.B. bei Ausführungen mit Zwischenbild der Fall ist, so kann ein Korrekturelement auch dort angeordnet sein.
Sind die refraktiven Wirkungen des Dickenverlaufs des Korrekturelements 44 störend, so kann mit aus der DE 198 07 120 A bekannten Kompensationsplatten aus nicht oder wenig doppelbrechendem Material ausgeglichen wer- den. Dazu können auch Linsenoberflächen z.B. durch onen- strahlätzen nachgeformt werden.
Der beschriebene Effekt der winkelabhängigen Doppelbrechung der Fluorid-Kristalle kann im optischen Design hoσhaperturiger Projektionsobjektive berücksichtigt werden. Dazu muß die Variation über den Azimutwinkel berücksichtigt werden. Das Korrekturelement 44 kann dann vom Design in seiner Form bzw Wirkung, vorgegeben werden.
Alternativ oder ergänzend kann aber auch die Störung der Abbildung durch die winke1abhängige Doppelbrechung gemessen und in eine Nachbearbeitung des bereitgestellten Korrekturelements 44 umgesetzt werden. Damit kann zugleich eine exemplarspezifische Doppelbrechungsverteilung korrigiert werden.
Weitere Varianten optischer Korrekturelemente sind in den Figuren 2 bis 12 gezeigt. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die schon unter Bezugnahme auf Figur 1 beschrieben wurden, tragen bei diesen weiteren Varianten jeweils um Einhundert erhöhte Bezugszeichen und werden nicht nochmals im einzelnen erläutert.
Figur 2 zeigt vergrößert ein alternatives Korrekturele- ment 144 in demontiertem, also nicht in ein Projektionsobjektiv integriertem Zustand in Aufsicht. Das Korrekturelement 144 ist eine CaF„-Platte mit dreizähliger Symmetrie, besteht also aus einem Material mit spannungs- doppelbrechenden Eigenschaften. Seine Um angsflache 161 hat im wesentlichen die Form eines gleichseitigen Dreiecks mit abgerundeten Ecken und leicht in Richtung auf den Dreiecksmittelpunkt (Durchstoßpunkt der optischen Achse O) hin eingewδlbten Seitenflächen.
Das Korrekturelement 144 ist in einer runden Fassung 150 montiert und steht über je einen Abschnitt an jeder der abgerundeten Ecken der Umfangsflache 161 mit jeweils einem Piezo-Aktuator 151 bis 153 in Verbindung. Jeder Piezo-Aktuator 151 bis 153 ist auf der vom Korrekturelement 144 abgewandten Seite in die Fassung 150 eingelassen. Über Signalleitungen 154 bis 156, die durch entsprechende Bohrungen in der Fassung 150 nach außen geführt sind, stehen die Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 mit einer Pie- zo-Ansteuereinheit 157 in Verbindung. Letztere steht über eine Signalleitung 158 mit einer Synchronisations- einheit 159 in Verbindung, die wiederum über eine Signal- leitung 160 mit der Lichtquelle 101 verbunden ist.
Beim Einsatz ist das Korrekturelement 144 in das Projektionsobjektiv (vgl. Objektiv 4 in Fig. 1) integriert, wobei es in einem kreisförmigen Durchtrittsbereich 162, der in Figur 2 gestrichelt dargestellt ist, von Projektions- licht durchtreten werden kann. Das Korrekturelement 144 funktioniert dann folgendermaßen:
Die Lichtquelle 101 ist ein Excimer-Laser, der durch einen Quasi-cw-Projektionslicht-Impulszug mit Einzelimpulsen kurzer Impulsdauer (ungefähr 10 ns) und einer relativ geringen Repetitionsrate im Bereich von 10 kHz charakterisiert ist.
Die Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 werden durch die Piezo- Ansteuereinheit 157 so angesteuert, daß das Korrektureele- ment 144 in radiale Dichteschwingungen versetzt wird. Die Frequenz dieser Schwingungen wird mit Hilfe der Synchronisiereinheit 159 auf die Repetitionsrate der Lichtquelle 101 abgestimmt, so daß während des Laserimpulses ein Maximum der durch die Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 z.B. sinsusförmig erzeugten Druckspannung im Korrekturelement 144 erreicht wird. Während der kurzen Impulsdauer der Einzellichtimpulse, die nur ca. ein Zehntausendstel der Repetitionsperiode der Lichtquelle 101 und der Dauer der Krafteinleitung in das Korrektur- element 144 beträgt, ist die in das Korrekturelement eingeleitete momentane Kraft in guter Näherung konstant. Daher treten während der Impulsdauer der Einzellichtimpulse, unabhängig von der Phasenbeziehung zwischen dem Laserimpuls und der Krafteinleitung, keine nennenswerten Änderungen des Doppelbrechungszustandes des Korrekturelements 144 auf .
Über die Amplitude der z.B. sinusförmigen Signalspannung auf den Signalleitungen 154 bis 156 kann die Spannungsdop- pelbrechung mittels der Piezo-Ansteuereinheit 157 eingestellt werden. Alternativ ist auch eine Einstellung der Spannungsdoppelbrechung über die Phasenbeziehung zwischen dem Laserimpuls und der Krafteinleitung möglich. Diese Phasenbeziehung kann so geändert werden, daß der Laser- impuls nicht mehr während des Maximums der Druckspannung, sondern z.B. während eines wählbaren Abschnitts auf der steigenden oder fallenden Flanke der eingeleiteten Druckspannung durch das Korrekturelement 144 tritt .
Die Geometrie des Korrekturelements 144 ist derart an die Geometrie der Kraftaneinleitung durch die Piezo- Aktuatoren 151 bis 153 und an die Krafteinleitungsfrequenz angepaßt, daß eine Eigenschwingung des Korrekturelements 144 in Resonanz mit der Krafteinleitungs- frequenz ist. Dies gewährleistet eine maximale Kraftwirkung und damit eine maximale erzeugte Spannungsdoppelbrechung bei gegebenem Kraftaufwand. Bei dieser Ausführung entstehen zudem neben Druckspannungen auch Zugspannungen durch das resonante Schwingen des Festkörpers, wodurch die Vielfalt der möglichen Doppelbrechungsverteilungen wesentlich vergrößert wird.
Mit Hilfe der Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 (vgl. Fig. 2) kann, eine entsprechende Ansteuerfrequenz der Piezo- Aktuatoren 151 bis 153 vorausgesetzt, eine stehende oder auch eine laufende Schallwelle im Korrekturelement 144 erzeugt werden. Zur Erzeugung einer stehenden Schallwelle wird die Ansteuerfrequenz für die Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 an die Geometrie und an das Material des Korrektur- elements 144 entsprechend angepasst. Entsprechend der
Anzahl der über die Umfangsflache 161 auf das Korrekturelement 144 einwirkenden Piezo-Aktuatoren läßt sich eine entsprechende Zähligkeit der entstehenden Schallwelle erzeugen. Mit n Piezo-Aktuatoren läßt sich hierbei eine stehende Schallwelle mit bis zu n/2-zähliger Symmetrie erzeugen. Zudem lassen sich Überlagerungen von Schallwellen mit verschiedener Zähligkeit erzeugen. Dies führt zu einem über das Schallwellenprofil gesteuert vorgebbaren Brechungsindexprofil im Korrekturelement 14 .
Durch die Überlagerung von Schallwellenprofilen verschiedener Zähligkeiten läßt sich als Superposition eine entsprechende Überlagerung von Brechungsindexprofilen einstellen, die zur unabhängigen Korrektur einer Mehrzahl von Abbildungsfehlern einsetzbar ist, da z . B. über die verschiedenen Brechungsindexbeiträge von Schallwellenprofilen unterschiedlicher Zähligkeit die Abbildungseigenschaften beschreibende Koeffizienten von Zernike-Funktionen in vorgegebener Weise beeinflusst werden.
Für gegenwärtig eingesetzte Korrekturelement-Materialien und typische Korrekturelement-Geometrien ergeben sich einzusetzende Ansteuerfrequenzen für die Piezo-Aktuatoren 151 bis 153 im Ultraschallbereich.
Mit der erzeugten Spannungsdoppelbrechungsverteilung, die über die Geometrie des Korrekturelements 144, über die Geometrie der Ankopplung der Piezo-Aktuatoren 151 bis 153, über die Amplitude und Frequenz der Krafteinlei- tung sowie ggf. über Komponenten, welche Schwingungsknoten im Korrekturelement 144 erzwingen, angepaßt werden kann, wird das das Korrekturelement 144 durchtretende Projektionslichtbündel so beeinflußt, daß die sonstigen Doppel- brechungseffekte in der Projektionsoptik kompensiert werden, wie im Zusammenhang mit Fig. 1 erläutert.
Alternativ zu Piezo-Aktuatoren können auch andere Druckoder Zugmittel zur Krafteinleitung eingesetzt werden.
Figur 3 zeigt in einem Meridionalschnitt eine weitere Variante eines optischen Korrekturelements mit einer Krafteinleitungseinrichtung, die zu derjenigen, die im Zusammenhang mit der Figur 2 beschrieben wurde, alternativ ist .
Bei der Ausführung gemäß Figur 3 ist das optische Korrekturelement 244 eine symmetrisch bikonkave Linse aus CaF_ , auf die eine insgesamt mit 270 bezeichnete Krafteinleitungseinrichtung randseitig einwirkt . Das optische Korrek- turelement 244 und die Krafteinleitungseinrichtung 270 sind um eine in Figur 3 strichpunktiert gezeigte optische Achse 271 mehrzählig rotationssymmetrisch, so daß sich die Darstellung der Figur 3 auf die von der optischen Achse 271 aus gesehen rechte Hälfte beschränkt.
Randseitig ist das Korrekturelement 244 oben und unten abgefast, so daß die Umfangsflache 272 des Korrekturelements 244 über jeweils eine ringförmige Fasenfläche 273, 274 in die konvexen optischen Flächen des Korrekturelements 244 übergeht. Da die Fasenflächen 273, 274 nicht Teil der optischen Flächen des Korrekturelements 244 sind, können sie als Teil der gesamten Umfangsflache von diesem angesehen werden.
Die in Figur 3 untere Fasenfläche 274 liegt über eine Anlagespitze 275 eines Anlagekörpers 276 auf einem die Fassung des Korrekturelements 244 bildenden Grundkörper 277 auf. Der Anlagekörper 276 und der Grundkörper 277 sind flächig miteinander verbunden, z. B. miteinander verklebt. Der Grundkδrper 277 weist eine Mehrzahl rand- seitiger Bohrungen 278 auf, die parallel zur optischen Achse 271 durch den Grundkörper 277 ausgeführt sind und der Befestigung des Grundkörpers 277 an einem nicht dargestellten Halterahmen für das Korrekturelement 244 dienen.
Am Grundkörper 277 ist eine Mehrzahl von Hebelkörpern 279 gelenkig angebracht. Es können z.B. drei um die Umfangs- fläche 272 des Korrekturrelements 244 gleichverteilt angeordnete Hebelkörper 279 vorliegen. Die Anzahl der Hebel- körper 279 gibt die Zähligkeit der Rotationssymmetrie der Kraf einleitungseinrichtung 270 vor. Von den Hebelkörpern 279 ist in Figur 3 nur einer dargestellt. Die Hebelkörper 279 weisen alle den gleichen Aufbau auf, so daß es im folgenden genügt, den in Figur 3 dargestellten Hebelkörper 279 zu beschreiben. Dieser ist über ein Gelenk 280 am Grundkörper 277 angelenkt. Das Gelenk 280 weist wie die anderen Gelenke, die die anderen Hebelkörper 279 mit dem Grundkδrper 277 verbinden, eine Gelenkachse auf, die parallel zu einer Tangente an den nächsten Punkt der Umfangsflache 272 des Korrekturelements 244 verläuft. Die Gelenke (vgl. Gelenk 280) sind dabei in einer Höhe angeordnet, die der Lage der zur optischen Achse 271 senkrechten Mittelebene des Korrekturelements 244 ent- spricht.
Auf der von der Umfangsflache 272 abgewandten Seite des Gelenks 280 weisen der Grundkörper 277 und der Hebelkörper 279 einander zugewandte stufenförmige Rücksprünge auf, so daß insgesamt eine dem Gelenk 280 benachbarte
Aufnahmeausnehmung 281 entsteht. In diese ist ein Piezo- Aktuator 282 eingesetzt, der in zur optischen Achse 271 paralleler Richtung längenveränderlich ist. Durch eine in Figur 3 angedeutete Steuerleitung 283 ist der Piezo- Aktuator 282 mit einer Steuereinrichtung 284 verbunden.
Über einen Anlagekδrper 285 und eine Anlagespitze 286 liegt der Hebelkörper 279 an der in Figur 3 oberen Fasenfläche 273 an, so daß der Hebelkörper 279 mit dem ihm zugeordneten Abschnitt des Grundkörpers 277 über die
Anlagekörper 285, 276 nach Art einer Zange an den Fasenflächen 273, 274 des Korrekturelements 244 angreift.
Das an die Krafteinleitungseinrichtung 270 gekoppelte Korrekturelement 244 wird folgendermaßen eingesetzt:
Anhand des zu kompensierenden Abbildungsfehlers berechnet die Steuereinrichtung 284 eine Spannungsverteilung, die im Korrekturelement 244 einzustellen ist, damit durch die über diese Spannungsverteilung hervorgerufenen Änderungen der optischen Eigenschaften des Korrekturelements 244 eine Kompensation des Abbildungsfehlers erreicht wird. Aus der berechneten Spannungsverteilung ermittelt die Steuereinrichtung 284 Auslenkwerte, die die Piezo- Aktuatoren 282 der Krafteinleitungseinrichtung 270 auf die jeweiligen Hebelkörper 279 übertragen müssen, damit sich durch die sich hierdurch ergebende Zangenwirkung zwischen dem Grundkörper 277 (vgl. Anlagespitze 275) und den Hebelkörpern 279 mit den Auflagespitzen 286 auf die Fasenflächen 273, 274 eine Krafteinleitung ergibt, die zur Ausbildung der berechneten Spannungsverteilung führt. Die Anlagespitzen 275, 286 gewährleisten hierbei eine definierte Krafteinleitung ohne Verkanten. Diese Resultierende der eingeleiteten Kräfte verläuft aufgrund der Symmetrie der durch die Auflagekörper 276, 285 gebildeten Zangen bezüglich der Mittelebene des Korrekturelements 244 in dieser mit der neutralen Fläche des Korrekturelements 244 zusammenfallenden Mittelebene. Auf diese Weise wird ein Durchbiegen des Korrekturelements 244 bzw. das Übertragen eines Biegemomentes auf dieses durch die Kraftwirkung der Piezo-Aktuatoren 282 vermieden.
Figur 4 zeigt einen alternativen Anlagekörper 385 in einem Detailausschnitt, der demjenigen entspricht, der in Figur 3 durch einen durchgezogenen Kreis markiert ist. Der Anlagekörper 385 ist am Hebelkδrper 379 über zwei Gelenkverbindungen 387, 388 angelenkt. Diese sind an den "Dachkanten" zweier Dreiecksausleger des Hebelkörpers 379 angeordnet, zwischen denen der Hebelkörper 379 zurückversetzt ist, so daß er vom Anlagekörper 385 zwischen den Gelenkverbindungen 387, 388 beabstandet ist.
Der Anlagekörper 385 ist aus federndem Material. Auf seiner vom Hebelkörper 379 abgewandten Seite weist der Anlagekörper 385 eine Anlagenase 389 auf, die auf der Fasenfläche 373 des Korrekturelements 344 aufliegt.
Auch die anderen Anlagekörper bei der Ausführungsform gem. Figur 3 können nach Art des Anlagekörpers 385 gem. Fig. 4 ausgeführt sein.
Der Anlagekörper 385 funktioniert folgendermaßen:
Je nach der geometrischen Lage der beiden Gelenkverbin- düngen 387, 388 zur Fasenfläche 373 ist der Anlagekörper 385, solange keine Krafteinleitung erfolgt, entweder parallel zur Fasenfläche 273 oder unter einem bestimmten Winkel zu dieser angeordnet. Durch die Federwirkung des Anlagekörpers 385 sowie die Gelenkverbindungen 378, 388 wird sichergestellt, daß unabhängig vom Vorliegen eines derartigen Winkels die Anlagenase 389 bei der Krafteinleitung immer ohne Verkanten auf die Fasenfläche 373 wirkt .
Die Gelenkverbindungen 387, 388 können als konventionelle Gelenkverbindungen oder auch als Festkörpergelenke ausgeführt sein.
Eine alternative, eine dreizählige Rotationssymmetrie aufweisende Krafteinleitungseinrichtung 470 für das
Korrekturelement 444 ist in den Figuren 5 und 6 dargestellt. Der Grundkörper 477 mit den Bohrungen 478 ist als die Umfangsflache 472 des Korrekturelements 444 umgebender Ring ausgebildet, der auch in der Figur 6 nur ausschnitts- weise dargestellt ist.
Die Krafteinleitungseinrichtung 470 ist zudem bezüglich der senkrecht auf der optischen Achse 471 stehenden Mittelebene des Korrekturelements 444 spiegelsymmetrisch, so daß es im folgenden genügt, nur die in Figur 5 obere Hälfte der Krafteinleitungseinrichtung 470 im Detail zu beschreiben.
Flächig mit dem Grundkörper 470 verbunden ist eine Mehrzahl von Scher-Piezo-Aktuatoren 490, von denen in Figur 5 zwei gezeigt sind, die einander gegenüberliegend beidseitig des Grundkörpers 477 an diesem anliegen. Über Steuerleitungen 483 stehen die Scher-Piezo-Aktuatoren 490 mit der Steuereinrichtung 484 in Verbindung.
Auf der vom Grundkörper 477 jeweils abgewandten Seite sind die Scher-Piezo-Aktuatoren 490 flächig mit Schubkörpern 491 verbunden, die über Anlagekδrper 476, 485 mit Anlagespitzen 475, 486 an den Fasenflächen 473, 474 des Korrekturelements 444 anliegen.
Insgesamt wird die Krafteinleitungseinrichtung 470 durch drei Paare von bezüglich des Grundkörpers 477 einander gegenüberliegenden Schubkδrpern 491 mit zugehörigen Scher- Piezo-Aktuatoren 490 gebildet , die, jeweils um 120 ° versetzt , um die Umfangsf lache 472 des Korrekturelements 444 angeordnet sind.
Das Korrekturelement 444 mit der Krafteinleitungseinrichtung 470 wird folgendermaßen eingesetzt :
Zunächst erfolgt in der Steuereinrichtung 484 analog zum im Zusammenhang mit der Figur 3 Beschriebenen eine Berechnung von Sollwerten für die Krafteinleitung der Schubkörper 491 bzw. der zugehörigen Auslenkungen der Scher-Piezo-Aktuatoren 490. Diese Soll-Vorgaben werden durch Ansteuerung der Scher-Piezo-Aktuatoren 490 über die Steuerleitungen 483 in die gewünschte Spannungsverteilung im Korrekturelement 444 umgesetzt.
Die über die Scher-Piezo-Aktuatoren 490 vermittelten, über die Anlagespitzen 475 einerseits und 486 andererseits wirkenden Teilkräfte werden derart bemessen, daß sie sich zu einer Gesamtkraft in der neutralen Fläche des Korrekturelements 444 addieren. Analog zum oben im Zusammenhang mit der Krafteinleitungseinrichtung 270 beschriebenen werden somit keine Biegemomente auf das Korrekturelement 444 ausgeübt.
Die Figuren 7 und 8 zeigen eine weitere Alternative eines Korrekturelements 544, in dem mittels einer Krafteinleitungseinrichtung 570 eine definierte Spannungsverteilung erzeugt wird. Das Korrekturelement 544 ist in diesem Fall eine asymmetrisch bikonkave Linse mit einer oberen Fasenfläche 573 und einer unteren Fasenfläche 574 im Randbereich. Diese ist über eine Mehrzahl von in Richtung der optischen Achse 571 des Korrekturelements 544 nachgiebigen Federarmen 592 gehaltert. Hierzu liegt die untere Fasenfläche 574 an einer entsprechend abgeschrägten Stützfläche der Federarme 592 an.
Die Federarme 592 weisen jeweils einen 'sich an diese Stützfläche anschließenden Federarmabschnitt senkrecht zur optischen Achse 571 und einen diesen gegenüber rechtwinklig in Richtung der optischen Achse 571 abknickend verlaufenden zweiten Federarmabschnitt auf. Dieser zweite
Federarma schnitt geht über in einen die zweiten Federarmabschnitte aller Federarme 592 tragenden Verbindungsring über, dessen Innendurchmesser größer ist als der Außendurchmesser des Korrekturelements 544.
An seiner äußeren Umfangsflache geht der Verbindungsring einstückig in einen den Verbindungsring koaxial umgebenden Federring 593 über. Letzterer hat verglichem mit dem Verbindungsring gemessen parallel zur optischen Achse eine geringere Materialstärke. Der Federring 593 verbindet den Verbindungsring einstückig mit dem ringförmigen Grundkörper 577 über, welcher seinerseits den Federring 593 koaxial außen umgibt.
Figur 7 zeigt einen Ausschnitt der Federarm-Halterung des Korrekturelements 544, wobei insgesamt sechs Federarme 592 in dieser Darstellung sichtbar sind, davon zwei Federarme 592 je zur Hälfe. Insgesamt weist die Federarm- Halterung nach den Figuren 7 und 8 also zwanzig Federarme 592 auf, die gleichverteilt um den Umfang des Grundkörpers 577 an diesen angeformt sind und deren innere, die Stützflächen für das Korrekturelement 544 aufweisende Federarmabschnitte sich ähnlich wie Radspeichen radial nach innen erstrecken.
Die Krafteinleitungseinrichtung 570 der Ausführungsform gem. den Figuren 7 und 8 weist einen Stützring 594 auf, der koaxial in Bezug auf die optische Achse 571 um die Umfangsflache 572 des Korrekturelements 544 herum ange- ordnet ist. An der inneren Mantelfläche des Stützrings 594 stützt sich eine Mehrzahl von Piezo-Aktuaktoren 595 ab, die in zur optischen Achse 571 radialer Richtung längenveränderlich sind. Über Steuerleitungen 583 sind die Piezo-Aktuatoren 595 mit der Steuereinrichtung 584 verbunden.
Die Piezo-Aktuatoren 595 stützen sich zwischen dem Stützring 594 und an der Umfangsflache 572 des Korrekturelements 544 anliegenden Anlagekörpern 576 ab, die zwischen den Piezo-Aktuatoren 595 und dem Korrekturelement 544 angeordnet sind. Die Anlagekörper 576 weisen jeweils zwei parallel zur Richtung der optischen Achse 571 versetzt angeordnete halbkugelige Anlagevorsprünge 596, 597 auf. Insgesamt liegen beim Ausführungsbeispiel der Figuren 7 und 8 zwanzig in Umfangsrichtung des Stützrings 594 gleich verteilt angeordnete Piezo-Aktuatoren 595 mit zugehörigen Anlagekörpern 576 vor. Die Anordnung der Piezo-Aktuatoren 595 in Umfangsrichtung des Korrekturelements 544 ist dabei derart, daß, wie die Aufsicht der Figur 8 zeigt, jeweils ein Piezo-Aktuator 595 in Umfangsrichtung des Stützrings 594 zwischen zwei Federarmen 592 liegt.
Durch die Abstützung der Piezo-Aktuatoren 595 am Stützring 594 einerseits und über die Anlagekörper 576 am Korrektur- element 544 andererseits ergibt sich eine freitragende Halterung der Krafteinleitungseinrichtung 570, getragen nur durch das Korrekturelement 544. Dabei sind die Piezo- Aktuatoren 595 parallel zur Richtung der optischen Achse
571 relativ zum Stützring 594 und unabhängig davon auch zu den Anlagekörpern 576 verschiebbar.
Die Krafteinleitungseinrichtung 570 wird folgendermaßen montiert und zur Erzeugung einer Spannungsverteilung im Korrekturelement 544 eingesetzt :
Zunächst werden die Anlagekörper 576 um die Umfangsflache
572 des Korrekturelements 544 herum entsprechend den Anforderungen, die an die zu erzeugende SpannungsVerteilung gestellt sind, verteilt und ausgerichtet. In ihren Soll- Positionen werden die Anlagekδrper 576 mittels Hilfs- Fixierelementen, z. B. auf benachbarten Federarmen 592 aufgesetzten Halteelementen, vorläufig fixiert. Anschlies- send wird der Stützring 594 in Position um die Umfangs- fläche 572 herum gebracht und ebenfalls mittels Hilfs- Fixierelementen vorläufig fixiert. Die Piezo-Aktuatoren 595 werden nun zwischen die Anlagekörper 576 und den Stütz- ring 594 eingeführt. Die Piezo-Aktuatoren 595 sind so bemaßt, daß ein satter Paßsitz zwischen den Anlagekörpern 576 und dem Stützring 594 vorliegt. Die Hilfs-Fixierele- mente können dann abgenommen werden. In zur optischen Achse 571 paralleler Richtung werden die Piezo-Aktuatoren 595 derart justiert, daß sich über ihre Längenveränderung und die dadurch auf das Korrekturelement 544 ausgeübte Kraftwirkung der jeweiligen Piezo-Aktuatoren über die Anlagevorsprünge 596, 597 eine Gesamtkraft des jeweiligen Piezo-Aktuators 595 auf das Korrekturelement 544 ergibt, die längs dessen neutraler Fläche verläuft, so daß durch die Piezo-Aktuatoren 595 keine Biegemomente auf das Korrekturelement 544 ausgeübt werden.
Schließlich wird, wie oben im Zusammenhang mit der Steuereinrichtung 284 beschrieben, über die Steuerleitungen 583 eine von der Steuereinrichtung 584 berechnete Spannung an die Piezo-Aktuatoren 595 übertragen, so daß eine vorgegebene Spannungsverteilung erzeugt wird.
Alternativ zu den voneinander getrennten Anlagekörpern 576 beim Ausführungsbeispiel der Figuren 7 und 8 kann stattdessen auch ein zum Stützring 594 koaxial ausgeführter Anlagering eingesetzt werden.
Weitere Varianten von Anlagekörpern, die im Zusammenhang mit den Krafteinleitungseinrichtungen einsetzbar sind, welche oben unter Bezug auf die Fig. 2 bis 8 beschrieben wurden, zeigen die Figuren 9 bis 12.
Der Anlagekörper 676 in Figur 9 wird von einem längenveränderlichen Piezo-Aktuator 695 in zur optischen Achse des Korrekturelements 644 radialer Richtung gegen dessen
Umfangsflache 672 gedrückt. Dabei liegt der Anlagekörper 676 über insgesamt 5 Anlagevorsprünge 697', 697 Y 697, , , / 697' ' ' ' , 697' ' ' ' ' , an der Umfangsflache 672 an. Die Anlagekörper 697' bis 697' ' ' ' ' sind an einer Anlageleiste 698 angeformt, die in einer zur optischen Achse des
vorsprungs 797' ' ' am geringsten und nimmt in Richtung der äußeren AnlagevorSprünge 797' , 797' ' ' ' ' progressiv zu. Beim Druck auf den Anlagekörper 776 mit dem Piezo-Aktuator 795 resultiert daher eine entsprechend andere Druckvertei- lung über die Anlagevorsprünge 797' bis 797' ' ' ' ' auf das Korrekturelement 744, als dies beim Druck auf den Anlage- körper 676 der Fall ist.
Figur 11 zeigt eine weitere Variante eines Anlagekörpers 876. Dort ist die Anlageleiste 898 über einen zentralen
Verbindungsabschnitt 868 mit der Tragleiste 869 verbunden. Die Anlageleiste 898 hat eine zur Anlageleiste 698 gemäß Figur 9 ähnliche Querschnittsgestaltung, weist also bezüglich den zur Zeichenebene der Fig. 11 parallelen Schnittebenen im Bereich des mittleren AnlagevorSprungs
897' ' ', in dem sie in den Verbindungsabschnitt 868 übergeht, den größten Querschnitt auf, welcher hin zu den randsei- tigen Anlagevorsprüngen 897' bzw. 897' ' ' ' ' progressiv abnimmt. Entsprechend der Form des Anlagekδrpers 876 und der Querschnitts-Gestaltung sowie der Materialauswahl für die Anlageleiste 898 ergibt sich auch hier bei einer Druckausübung auf das Korrekturelement 844 mittels des Piezo-Aktuators 895 eine vorgegebene Druckverteilung, die die Anlagevorsprünge 897' bis 897' ' ' ' ' auf die Um- fangsflache 872 des Korrekturelements 844 ausüben.
Figur 12 zeigt noch eine Ausgestaltung eines Anlagekörpers 976. Dieser liegt auf seiner vom Korrekturelement 944 abgewandten Seite ebenfalls flächig am Piezo-Aktuator 995 an. An der vom Piezo-Aktuator 995 abgewandten und der Umfangsfläche 972 des Korrekturelements 944 zugewandten Fläche sind am Anlagekörper 976 vier Druckfedern 967' bis 967' ' ' ' angebracht, die über halbkugelige Anlageabschnitte an der Umfangsfläche 972 des Korrekturelements 944 anliegen. Die Druckfedern 967' bis 9671''' weisen unterschiedliche vorgegebene Federkonstanten auf. So haben die beiden mittleren Druckfedern 967' ', 967' ' ' eine größere Federhärte als die beiden außenliegenden Druckfedern 967', 967' ' ' ' . Dies führt dazu, daß bei einer Druckausübung auf den Anlagekδrper 976 mittels des Piezo-Aktuators 995 die beiden mittleren Druckfedern 967'', 967' '' eine größere Kraft auf die Umfangsfläche 972 ausüben als die beiden außenliegenden Druckfedern 967', 967 I I I I
Je nach den Anforderungen an die vorzugebende Spannungs- Verteilung können die Querschnittsflächenformen der Anlageleisten 698 bis 898 bzw. die Federkonstanten der Druckfedern 967' bis 967' ' ' ' auch andere Formen bzw. Wertverteilungen aufweisen.
Die beschriebenen und zitierten und beanspruchten Maßnahmen können in unterschiedlichster Weise kombiniert werden, auch wenn dies nicht im einzelnen beschrieben ist .

Claims

Patentansprüche
1. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit
a) einer Lichtquelle (1) , insbesondere mit einer Wellenlänge im Bereich von 250 bis 100 nm;
b) einem Beleuchtungssystem (2) ;
c) einem Masken-Positionier-System (31) ;
d) einem Projektionsobjektiv (4) , vorzugsweise mit einer bildseitigen numerischen Apertur (NA) im Bereich von 0,7 bis 0,95, mit einer Systemaperturebene (P) und mit einer Bildebene (5) , enthaltend mindestens eine Linse (42,43) aus einem Material, das vom Durchtrittswinkel (α abhängige Doppelbrechung aufweist, insbesondere nahe der Bildebene (5) angeordnet;
e) einem Objekt-Positionier-System (51) ;
dadurch gekennzeichnet, daß
im BeleuchtungsSystem (2) oder im Projektionsobjektiv (4) nahe einer Pupillenebene (P) ein optisches Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) vorgesehen ist, das eine ortsabhängige polarisationsdrehende bzw. ortsabhängige unterschiedliche doppelbrechende Wirkung aufweist und die von der mindestens einen Linse (42, 43) erzeugten Doppelbrechungseffekte in der Bildebene (5) mindestens teilweise kompensiert .
2. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Material der mindestens einen Linse ein kubischer Fluoridkristall, insbesondere CaF„ , BaF_ oder SrF ist .
3. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Durchtrittswinkel (a) abhängige Doppelbrechung und die ortsabhängige polarisationsdrehende bzw. ortsabhängige unterschiedliche doppelbrechende Wirkung die gleiche mehrzählige, insbesondere drei- oder vierzählige Rotationssymmetrie aufweisen.
4. Projektionsbelichtungsanlage nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens eine Linse (42, 43) aus besagtem Material, welches eine vom Durchtrittswinkel (α) abhängige Doppelbrechung aufweist, zwischen der Systemaperturebene (P) und der Bildebene (5) angeordnet ist, insbesondere als bildseitig letzte Linse (43) .
5. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der vorher- gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das
Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) mit ortsabhängiger polarisationsdrehender bzw. ortsabhängiger unterschiedlicher doppelbrechender Wirkung nahe der Systemaperturebene (P) des Pro ektionsobjektivs (4) angeordnet ist.
6. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das
Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) mit ortsabhängiger polarisationsdrehender bzw. ortsabhängiger unterschiedlicher doppelbrechender Wirkung ein optisch aktives Element, insbesondere aus Quarz, oder ein doppelbrechendes Element mit örtlich variierender Dicke ist.
7. Projektionsbelichtungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Bildebene (5) tangentiale oder radiale Polarisation vorliegt .
8. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 6 und
7, dadurch gekennzeichnet, daß im Beleuchtungssystem (2) oder im objektseitigen Teil (41) des Projektionsobjektivs (4) radiale Polarisation erzeugt wird und daß nahe der Systemaperturebene (P) ein optisch aktives Element
(44) , insbesondere aus Quarz, angeordnet ist, welches eine Polarisationsdrehung zur tangentialen Polarisation mit überlagerter Kompensation der von der mindestens einen Linse (42, 43) erzeugten Doppelbrechungseffekte bewirkt, und zwar durch geeignete örtliche Dickenverteilung des Elements (44) .
9. Optisches System, insbesondere mikrolithographisches Projektionsobjektiv, mit
a) mindestens einem ersten optischen Element, das eine polarisationsabhängige Störung der Propagation über die Winkel der Lichtstrahlen eines durchtretenden Lichtbündels bewirkt;
dadurch gekennzeichnet, daß
b) mindestens ein zweites optisches Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) vorgesehen ist, das eine vom Ort der Lichtstrahlen des Lichtbündels am zweiten optischen Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) abhängigen Einfluss auf die Polarisation bewirkt, derart, daß die Störung durch das erste optische Element (42, 43) zumindest teilweise kompensiert wird.
10. Optisches System nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß es
a) mindestens eine Feldebene (3, 5) und
b) mindestens eine dazu fouriertransformierte Pupillenebene (P) aufweist, und daß
c) das erste optische Element (42, 43) nahe besagter Feldebene (3, 5) und
d) das zweite optische Element (44; 144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) nahe einer besagten Pupillen- ebene (P) angeordnet ist.
11. Optisches System nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Störung der Propagation und der Einfluß auf die Polarisation die gleiche mehr- zählige, insbesondere drei- oder vierzählige Rotationssymmetrie aufweisen.
12. Optisches System, insbesondere mikrolithographisches Projektionsobjektiv, mit mindestens einem ersten und einem zweiten optischen Element, die beide eine polarisationsabhängige Störung der Propagation über die Winkel der Lichtstrahlen eines durchtretenden Licht- bündeis bewirken,
dadurch gekennzeichnet, daß
das erste und das zweite optische Element derart um eine gemeinsame Symmetrieachse gegeneinander verdreht sind, daß die Drehwinkelbereiche maximaler Doppelbrechung des ersten und des zweiten Elements gegeneinander versetzt sind.
13. Optisches System nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich die Merkmale mindestens eines der Ansprüche 9 bis 11 erfüllt sind.
14. Optisches System nach einem der Ansprüche 9 bis
13, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein optisches Element (144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) mit spannungsabhängiger ortsabhängig polarisations- drehender bzw. ortsabhängig unterschiedlicher doppelbrechender Wirkung zur Änderung der polarisationsbeeinflussenden Wirkung an eine Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157; 270; 470; 570) angekoppelt ist.
15. Optisches System nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157; 270; 470; 570) mindestens einen Piezo-Aktuator (151 bis 153; 282; 490; 595) aufweist.
16. Optisches System nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157; 270; 470; 570) auf die Umfangsfläche (161; 272; 372; 472; 572; 672; 772; 872; 972) des optischen Elements (144; 244; 344; 444; 544; 644; 744; 844; 944) wirkt, ohne eine Durchbiegung von diesem hervorzurufen.
17. Optisches System nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Krafteinleitungseinrichtung (270; 470; 570) mindestens eine Krafteinleitungskomponente (276, 277, 279, 285; 379, 385; 476, 485, 491; 576) aufweist, die über Krafteinleitungskörper (275, 286; 389; 475, 486; 596, 597) an mindestens zwei Krafteinleitungsorten derart auf das optische Element (244; 344; 444; 544) wirkt, daß die Resultierende der Kräfte, die über die Kraftein- leitungsorte auf das optische Element (244; 344; 444; 544) wirken, in einer neutrale Fasern des optischen Elements (244; 344; 444; 544) enthaltenden neutralen Fläche verläuft.
18. Optisches System nach einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß ein Anlagekörper (389; 698; 798; 898), über den der Krafteinleitungskörper (385; 676; 776; 876) am Krafteinleitungsort anliegt, derart beweglich ausgebildet ist, daß eine Ausrichtung des Anlagekδr- pers (389; 698; 798; 898) zum Krafteinleitungsort möglich ist .
19. Optisches System nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlagekδrper (389; 698; 798; 898) über eine Feder an einem Grundkörper (379; 669; 769; 869) des Krafteinleitungskörpers (385; 676; 776; 876) angebracht ist .
20. Optisches System nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlagekörper (389) über mindestens ein Gelenk (387, 388) an einem Grundkörper (379) des Krafteinleitungskörpers (385) angebracht ist.
21. Optisches System nach Anspruch 18, dadurch gekennzeich- net, daß der Anlagekörper (389; 698; 798; 898) mit einem Grundkörper (379; 669; 769; 869) des Krafteinleitungs- körpers (385; 676; 776; 876) über mindestens ein bewegliches Festkörpergelenk (387, 388; 698; 798; 898) verbunden ist .
22. Optisches System nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlagekörper (698; 798; 898) über einen in Umfangsrichtung des optischen Elements (644; 744; 844) ausgedehnten Krafteinleitungsort oder über mindestens zwei in Umfangsrichtung des optischen Elements versetzte Krafteinleitungsorte (697; 797; 897) auf das optische Element (644; 744; 844) wirkt, wobei der Anlagekörper (698; 798; 898) eine in Umfangsrichtung des optischen Elments (644; 744; 844) variierende Anlagekraft in das optische Element (644; 744; 844) einleitet.
23. Optisches System nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlagekörper (698; 798; 898) eine in
Umfangsrichtung des optischen Elements (644; 744; 844) variierende Biegesteifigkeit aufweist.
24. Optisches System nach einem der Ansprüche 14 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Anlagekörper (976) über mindestens zwei in Umfangsrichtung des optischen Elements (944) versetzte Federkörper (967) mit vorgegebener Federhärte eine in Umfangsrichtung des optischen Elements (944) variierende Kraft in das optische Element (944) einleitet .
25. Optisches System nach einem der Ansprüche 17 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß eine Krafteinleitungskomponente (276, 277, 279, 285; 379, 385; 476, 485, 491; 576) genau zwei Krafteinleitungskörper (275, 286; 389; 475, 486; 596, 597) aufweist, deren Krafteinleitungsorte außerhalb der neutralen Fläche des optischen Elements (244; 344; 444; 544) angeordnet sind.
26. Optisches System nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Krafteinleitungskörper (276, 277, 279, 285) über ein Gelenk (280) miteinander verbunden sind, wobei zwischen dem Gelenk (280) und einem der Krafteinleitungsorte jeweils ein erster Hebelarm des Krafteinleitungskörpers (276, 277, 279, 285) ausgebildet ist und an einem zweiten Hebelarm des Krafteinleitungs- körpers (276, 277, 279, 285) ein Aktuator (282) angreift.
27. Optisches System nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Krafteinleitungskörper (276, 277, 279, 285) nach Art einer Zange ausgebildet sind, wobei ein einzelner Aktuator (282) zwischen den beiden zweiten Hebelarmen der Krafteinleitungskörper (276, 277, 279, 285) angeordnet ist und gleichzeitig auf beide zweite Hebelarme wirkt .
28. Optisches System nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, daß einem Krafteinleitungskörper (475, 486; 596, 597) jeweils mindestens ein Aktuator (490; 595) zur Steuerung der Krafteinleitung in das optische Element (444; 544) zugeordnet ist.
29. Optisches System nach Anspruch 28, gekennzeichnet durch mindestens einen eine Scherwirkung aufweisenden
Aktuator (490) , der zwischen dem Krafteinleitungskörper (475, 486) und einem fassungsfesten Bauteil (477) einer Fassung des optischen Elements (444) wirkt.
30. Optisches System nach einem der Ansprüche 17 bis 24, gekennzeichnet durch eine Krafteinleitungskomponente
(576) mit einem Krafteinleitungskδrper (596, 597) mit mindestens zwei Krafteinleitungsorten, die in Richtung der optischen Achse (592) des optischen Elements (544) versetzt angeordnet sind.
31. Optisches System nach Anspruch 30, gekennzeichnet durch einen radial zum optischen Element (544) auf den Krafteinleitungskörper (596, 597) wirkenden Aktuator (595) , der in Richtung der optischen Achse (592) des optischen Elements (544) verschiebbar angeordnet ist.
32. Optisches System nach Anspruch 31, gekennzeichnet durch einen als Ring (594) um das optische Element (544) ausgebildeten Reaktionskörper für den Aktuator (595) .
33. Optisches System nach einem der Ansprüche 14 bis 32, gekennzeichnet durch eine dynamisch wirkende Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) .
34. Optisches System nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) derart ausgeführt ist, daß sie mit vorgegebener Frequenz auf das optische Element (144) wirkt.
35. Optisches System nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, daß die Frequenz der Krafteinleitungseinrich- tung (151 bis 157) im Bereich einer Resonanzfrequenz der Körperschwingung des optischen Elements (144) liegt.
36. Optisches System nach einem der Ansprüche 33 bis 35, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (101) derart ausgeführt ist, daß sie ein intermittierendes Projektionslichtbündel emittiert, und daß die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) derart ausgeführt ist, daß sie zeitlich abgestimmt auf das Projektionslichtbündel intermittierend auf das optische Element (144) wirkt.
37. Optisches System nach Anspruch 36, gekennzeichnet durch eine Steuereinrichtung (159) zur Synchronisierung der Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) mit der Lichtquelle (101) .
38. Optisches System nach einem der Ansprüche 33 bis 37, dadurch gekennzeichnet, daß die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) derart ausgebildet ist, daß sie innerhalb des optischen Elements (144) ein Schallwellen- profil erzeugt, dessen Verteilung einer vorgegebenen Superposition von Zernikef nktionen entspricht.
39. Optisches System nach Anspruch 38, dadurch gekennzeich- net, daß durch die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) eine stehende Schallwelle im optischen Element (144) erzeugt wird.
40. Optisches System nach Anspruch 38, dadurch gekennzeich- net, daß durch die Krafteinleitungseinrichtung (151 bis 157) eine laufende Schallwelle im optischen Element (144) erzeugt wird.
41. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie enthaltend ein optisches System, insbesondere ein
Projektionsobjektiv, nach einem der Ansprüche 9 bis 40.
42. Herstellverfahren eines Mikrolithographie-Projektionsobjektivs, bei dem das Objektiv (4) komplett montiert wird und die Wellenfront in der Bildebene vermessen wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine mehrzählig, insbesondere drei- oder vierzählig rotationssymmetrische Störung ausgewertet wird und davon abhängig das Dickenprofil eines optischen Elements (44) , das insbesondere pu- pillennah angeordnet ist, mit der gleichen mehrzähligen Rotationssymmetrie verändert wird, so daß die mehrzählige rotationssymmetrische Störung der Wellenfront in der Bildebene (5) zumindest teilweise kompensiert wird.
43. Herstellverfahren nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, daß das Mikrolithographie-Projektions- objektiv ein optisches System nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 40 und/oder Teil einer Projektionsbelichtungsanlage nach mindestens einem der An- sprüche 1 bis 8 oder 41 ist.
44. Mikrolithographisches Strukturierverfahren, gekennzeichnet durch die Verwendung einer Projektionsbelichtungsanlage nach mindestens einem der An- Sprüche 1 bis 8 oder 41 oder enthaltend ein optisches System nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 40 oder hergestellt nach Anspruch 42 oder 43.
EP02769464A 2001-05-15 2002-05-04 Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie Withdrawn EP1390813A2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10123725A DE10123725A1 (de) 2001-05-15 2001-05-15 Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, Optisches System und Herstellverfahren
DE10123725 2001-05-15
PCT/EP2002/004900 WO2002093257A2 (de) 2001-05-15 2002-05-04 Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie,

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EP1390813A2 true EP1390813A2 (de) 2004-02-25

Family

ID=7684936

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP02769464A Withdrawn EP1390813A2 (de) 2001-05-15 2002-05-04 Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie

Country Status (7)

Country Link
US (3) US6879379B2 (de)
EP (1) EP1390813A2 (de)
JP (1) JP2004525527A (de)
KR (1) KR20030019577A (de)
DE (1) DE10123725A1 (de)
TW (1) TWI266149B (de)
WO (1) WO2002093257A2 (de)

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100857931B1 (ko) 2000-10-10 2008-09-09 가부시키가이샤 니콘 결상성능의 평가방법
JP2004526331A (ja) * 2001-05-15 2004-08-26 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ
US7239447B2 (en) * 2001-05-15 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Objective with crystal lenses
US6683710B2 (en) 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
EP1780570A3 (de) * 2001-06-01 2008-01-02 ASML Netherlands B.V. Kompensation der Doppelbrechung in kubisch kristallinen Projektionslinsen und optischen Systemen
US6831731B2 (en) 2001-06-28 2004-12-14 Nikon Corporation Projection optical system and an exposure apparatus with the projection optical system
US6775063B2 (en) 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
DE10133841A1 (de) 2001-07-18 2003-02-06 Zeiss Carl Objektiv mit Kristall-Linsen
US6844915B2 (en) 2001-08-01 2005-01-18 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus provided with the optical system
US6995908B2 (en) 2001-10-30 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing aberration in optical systems
US6970232B2 (en) 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
US7453641B2 (en) 2001-10-30 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in optical systems
TW583657B (en) * 2002-04-03 2004-04-11 Ind Tech Res Inst Driving structure of optical head
JP4333078B2 (ja) 2002-04-26 2009-09-16 株式会社ニコン 投影光学系、該投影光学系を備えた露光装置および該投影光学系を用いた露光方法並びにデバイス製造方法
US7072102B2 (en) 2002-08-22 2006-07-04 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing polarization aberration in optical systems
AU2002364974A1 (en) * 2002-09-03 2004-03-29 Carl Zeiss Smt Ag Objective with birefringent lenses
AU2003298405A1 (en) 2002-09-03 2004-03-29 Carl Zeiss Smt Ag Optimization method for an objective with fluoride crystal lenses and objective with fluoride crystal lenses
DE10258715B4 (de) 2002-12-10 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Herstellung eines optischen Abbildungssystems
EP3226073A3 (de) 2003-04-09 2017-10-11 Nikon Corporation Belichtungsverfahren und -vorrichtung sowie verfahren zur herstellung der vorrichtung
DE10324477A1 (de) * 2003-05-30 2004-12-30 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE10328938A1 (de) * 2003-06-27 2005-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Korrektureinrichtung zur Kompensation von Störungen der Polarisationsverteilung sowie Projektionsobjektiv für die Mikrolithografie
DE10344010A1 (de) * 2003-09-15 2005-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Wabenkondensor und Beleuchtungssystem damit
TWI457712B (zh) 2003-10-28 2014-10-21 尼康股份有限公司 照明光學裝置、投影曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI519819B (zh) 2003-11-20 2016-02-01 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
US8854602B2 (en) * 2003-11-24 2014-10-07 Asml Netherlands B.V. Holding device for an optical element in an objective
US7466489B2 (en) 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
WO2005059645A2 (en) 2003-12-19 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Microlithography projection objective with crystal elements
US7460206B2 (en) * 2003-12-19 2008-12-02 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for immersion lithography
CN1910672A (zh) * 2004-01-16 2007-02-07 皇家飞利浦电子股份有限公司 光学系统
TWI494972B (zh) 2004-02-06 2015-08-01 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
DE102004011733A1 (de) 2004-03-04 2005-09-22 Carl Zeiss Smt Ag Transmissionsfiltervorrichtung
US8212988B2 (en) * 2004-08-06 2012-07-03 Carl Zeiss GmbH Projection objective for microlithography
JPWO2006016469A1 (ja) * 2004-08-10 2008-05-01 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、および露光方法
US20060204204A1 (en) * 2004-12-20 2006-09-14 Markus Zenzinger Method for improving the optical polarization properties of a microlithographic projection exposure apparatus
US20070115551A1 (en) * 2005-04-01 2007-05-24 Alexis Spilman Space-variant waveplate for polarization conversion, methods and applications
DE102006021334B3 (de) * 2006-05-05 2007-08-30 Carl Zeiss Smt Ag Polarisationsbeeinflussendes optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung sowie optisches System und mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Element
CN101467090A (zh) * 2006-06-16 2009-06-24 卡尔蔡司Smt股份公司 微平版印刷投影曝光装置的投影物镜
DE102006034755A1 (de) 2006-07-24 2008-01-31 Carl Zeiss Smt Ag Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung
DE102006047665A1 (de) * 2006-09-28 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des optischen Systems
DE102007014587A1 (de) 2007-03-23 2008-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Doppelbrechende Verzögerungsplattenanordnung
US9018561B2 (en) * 2007-05-23 2015-04-28 Cymer, Llc High power seed/amplifier laser system with beam shaping intermediate the seed and amplifier
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
DE102008054818A1 (de) 2008-01-29 2009-07-30 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Manipulieren eines optischen Systems, sowie optisches System
CN102099745B (zh) * 2008-07-21 2014-08-20 Asml荷兰有限公司 用于光刻设备的光学元件支座
US8287129B2 (en) 2010-05-21 2012-10-16 Eastman Kodak Company Low thermal stress birefringence imaging system
US8649094B2 (en) 2010-05-21 2014-02-11 Eastman Kodak Company Low thermal stress birefringence imaging lens
US8504328B2 (en) 2010-05-21 2013-08-06 Eastman Kodak Company Designing lenses using stress birefringence performance criterion
US8786943B2 (en) 2011-10-27 2014-07-22 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging system
US8830580B2 (en) 2011-10-27 2014-09-09 Eastman Kodak Company Low thermal stress catadioptric imaging optics
DE102013109274B3 (de) * 2013-08-27 2014-10-16 Jenoptik Optical Systems Gmbh Thermisch kompensierte optische Baugruppe mit einem zwischen Wälzkörpern gelagerten optischen Element
DE102016215540A1 (de) * 2016-08-18 2018-02-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system, lithographieanlage sowie verfahren
US10732336B2 (en) * 2017-02-02 2020-08-04 Corning Incorporated Method of assembling optical systems and minimizing retardance distortions in optical assemblies

Family Cites Families (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1332410A (en) 1919-03-22 1920-03-02 Oscero W Potts Lens and method of making the same
JPS5949508A (ja) 1982-09-14 1984-03-22 Sony Corp 複屈折板の製造方法
US4993823A (en) * 1989-06-29 1991-02-19 Eastman Kodak Company Method for correction of distortions of an imaging device
RU2093866C1 (ru) 1990-03-15 1997-10-20 Фиала Вернер Бифокальная внутриглазная линза
JP2894808B2 (ja) 1990-07-09 1999-05-24 旭光学工業株式会社 偏光を有する光学系
EP0480616B1 (de) * 1990-10-08 1997-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Projektionsbelichtungsapparat mit einer Vorrichtung zur Ausgleichung der Verzeichnung einer Projektionslinse
JP3368091B2 (ja) * 1994-04-22 2003-01-20 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3534363B2 (ja) 1995-07-31 2004-06-07 パイオニア株式会社 結晶レンズ及びこれを用いた光ピックアップ光学系
DE19535392A1 (de) * 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
JP3623032B2 (ja) 1995-12-15 2005-02-23 フジノン佐野株式会社 複屈折板およびこれを用いた光学系
DE19637563A1 (de) * 1996-09-14 1998-03-19 Zeiss Carl Fa Doppelbrechende Planplattenanordnung und DUV-Viertelwellenplatte
DE19704936A1 (de) 1997-02-10 1998-08-13 Zeiss Carl Fa Optisches Glied und Herstellverfahren
JP3413067B2 (ja) * 1997-07-29 2003-06-03 キヤノン株式会社 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
US6829041B2 (en) * 1997-07-29 2004-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus having the same
DE19807120A1 (de) 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
US6201634B1 (en) * 1998-03-12 2001-03-13 Nikon Corporation Optical element made from fluoride single crystal, method for manufacturing optical element, method for calculating birefringence of optical element and method for determining direction of minimum birefringence of optical element
JP3031375B2 (ja) 1998-04-23 2000-04-10 キヤノン株式会社 レンズ鏡筒及びそれを用いた投影露光装置
DE19824030A1 (de) * 1998-05-29 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit adaptivem Spiegel und Projektionsbelichtungsverfahren
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6248486B1 (en) 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
DE19942281A1 (de) 1999-05-14 2000-11-16 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
DE19859634A1 (de) 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
DE60042186D1 (de) * 1999-01-06 2009-06-25 Nikon Corp Onssystems
JP2000331927A (ja) * 1999-03-12 2000-11-30 Canon Inc 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
EP1224497A4 (de) 1999-06-25 2003-08-27 Corning Inc Linsenelementen für vuv-mikrolithographie von doppelbrechung-minimierenden fluoridkristallen und rohlingen dafür
DE19929403A1 (de) 1999-06-26 2000-12-28 Zeiss Carl Fa Objektiv, insbesondere Objektiv für eine Halbleiter-Lithographie-Projektionsbelichtungsanlage und Herstellungverfahren
EP1139138A4 (de) 1999-09-29 2006-03-08 Nikon Corp Projektionsbelichtungsverfahren, vorrichtung und optisches projektionssystem
JP2001108801A (ja) 1999-10-08 2001-04-20 Tsuguo Fukuda 真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材
EP1242843B1 (de) 1999-12-29 2006-03-22 Carl Zeiss SMT AG Projektionsobjektiv mit benachbart angeordneten asphärischen linsenoberflächen
DE10000193B4 (de) * 2000-01-05 2007-05-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
US6397401B2 (en) * 2000-05-02 2002-06-04 Timothy A. Belcher 2-layer firefighter garment
US7239447B2 (en) * 2001-05-15 2007-07-03 Carl Zeiss Smt Ag Objective with crystal lenses
AU2002257270A1 (en) 2001-05-16 2002-11-25 Corning Incorporated Preferred crystal orientation optical elements from cubic materials
JP2003050349A (ja) 2001-05-30 2003-02-21 Nikon Corp 光学系および該光学系を備えた露光装置
US6683710B2 (en) 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
JP3639807B2 (ja) 2001-06-27 2005-04-20 キヤノン株式会社 光学素子及び製造方法
JPWO2003003429A1 (ja) 2001-06-28 2004-10-21 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置および方法
US6775063B2 (en) 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
US6788389B2 (en) 2001-07-10 2004-09-07 Nikon Corporation Production method of projection optical system
TW571344B (en) 2001-07-10 2004-01-11 Nikon Corp Manufacturing method for projection optic system
US6994747B2 (en) 2001-07-17 2006-02-07 Nikon Corporation Method for producing optical member
US6785051B2 (en) 2001-07-18 2004-08-31 Corning Incorporated Intrinsic birefringence compensation for below 200 nanometer wavelength optical lithography components with cubic crystalline structures
JP2003050993A (ja) 2001-08-06 2003-02-21 Omron Corp 指紋読取方法および指紋読取装置
FR2828933A1 (fr) 2001-08-27 2003-02-28 Corning Inc Procede de determination de la qualite optique d'un monocristal de fluorure et element optique
US7453641B2 (en) 2001-10-30 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in optical systems
EP1451619A4 (de) 2001-10-30 2007-10-03 Asml Netherlands Bv Strukturen und verfahren zur verringerung der aberration in optischen systemen
US6844972B2 (en) 2001-10-30 2005-01-18 Mcguire, Jr. James P. Reducing aberration in optical systems comprising cubic crystalline optical elements
US6970232B2 (en) 2001-10-30 2005-11-29 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing aberration in integrated circuit fabrication systems
US6995908B2 (en) * 2001-10-30 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing aberration in optical systems
JP3741208B2 (ja) 2001-11-29 2006-02-01 株式会社ニコン 光リソグラフィー用光学部材及びその評価方法
JP2003161882A (ja) 2001-11-29 2003-06-06 Nikon Corp 投影光学系、露光装置および露光方法
US7075721B2 (en) * 2002-03-06 2006-07-11 Corning Incorporated Compensator for radially symmetric birefringence
JP2003309059A (ja) 2002-04-17 2003-10-31 Nikon Corp 投影光学系、その製造方法、露光装置および露光方法
US7251029B2 (en) 2002-07-01 2007-07-31 Canon Kabushiki Kaisha Birefringence measurement apparatus, strain remover, polarimeter and exposure apparatus
US7072102B2 (en) 2002-08-22 2006-07-04 Asml Netherlands B.V. Methods for reducing polarization aberration in optical systems
JP4078161B2 (ja) 2002-09-12 2008-04-23 キヤノン株式会社 蛍石とその製造方法
JP4455024B2 (ja) 2002-12-13 2010-04-21 キヤノン株式会社 複屈折測定装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See references of WO02093257A2 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20050264786A1 (en) 2005-12-01
WO2002093257A3 (de) 2003-09-25
DE10123725A1 (de) 2002-11-21
US20040150806A1 (en) 2004-08-05
US20050134967A1 (en) 2005-06-23
KR20030019577A (ko) 2003-03-06
TWI266149B (en) 2006-11-11
US6879379B2 (en) 2005-04-12
WO2002093257A8 (de) 2003-12-31
JP2004525527A (ja) 2004-08-19
WO2002093257A2 (de) 2002-11-21
US7170585B2 (en) 2007-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1390813A2 (de) Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie
EP0687956B1 (de) Beleuchtungseinrichtung
EP1015931A2 (de) Optisches system, insbesondere projektions-belichtungsanlage der mikrolithographie
DE10143385C2 (de) Projektionsbelichtungsanlage
EP1431826A2 (de) Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie, sowie Verfahren zur Abstimmung eines Projektionsobjektives
DE102009055184B4 (de) Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102006047666A1 (de) Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives
WO2005085955A2 (de) Transmissionsfiltervorrichtung
DE102008001553A1 (de) Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
EP1639393B1 (de) Korrektureinrichtung zur kompensation von störungen der polarisationsverteilung sowie projektionsobjektiv für die mikrolithographie
WO2003036359A2 (de) Optisches element mit einer optischen achse
DE102018207454A1 (de) Aktuatoranordnung, Projektionsbelichtungsanlage und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterlithographie
EP0565069A1 (de) Verstellbare Blende und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102007058158A1 (de) Optisches System mit einer austauschbaren, manipulierbaren Korrekturanordnung zur Reduzierung von Bildfehlern
DE102006021334B3 (de) Polarisationsbeeinflussendes optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung sowie optisches System und mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Element
WO2003046663A2 (de) Charakterisierung der beleuchtungswinkelverteilung einer projektionsbelichtungs anlage
WO2003098350A2 (de) Verfahren zur gezielten deformation eines optischen elements
DE10132988A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage
WO2007096250A1 (de) Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102018216964A1 (de) Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Ausrichtung eines Elements
DE10209661A1 (de) Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
DE10127320A1 (de) Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen
DE102012205045A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2003087944A2 (de) Vorrichtung zur deformationsarmen lagerung eines nicht rotationssymmetrischen optischen elementes
DE10125487A9 (de) Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographic-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20031018

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE TR

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: CARL ZEISS SMT AG

RIN1 Information on inventor provided before grant (corrected)

Inventor name: MAUL, MANFRED

Inventor name: KOHL, ALEXANDER

Inventor name: HARTMAIER, JUERGEN

Inventor name: KAISER, WINFRIED

Inventor name: KUGLER, JENS

Inventor name: HOLDERER, HUBERT

Inventor name: BRUNOTTE, MARTIN

Inventor name: WAGNER, CHRISTIAN

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: CARL ZEISS SMT AG

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION HAS BEEN WITHDRAWN

18W Application withdrawn

Effective date: 20090115