DE102008001553A1

DE102008001553A1 - Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage

Info

Publication number: DE102008001553A1
Application number: DE102008001553A
Authority: DE
Inventors: Ralf STÜTZLE; Martin Endres; Jens Ossmann; Michael Layh
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2008-05-05
Filing date: 2008-05-05
Publication date: 2009-11-12
Anticipated expiration: 2028-05-06
Also published as: WO2009135576A1; JP2011520271A; DE102008001553B4; US9310692B2; US20110096317A1

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Die Komponente umfasst dabei eine Mehrzahl von Blenden, die bezüglich einer zur Scanbewegung senkrechten Richtung nebeneinander angeordnet sind und sich in ihrer Form unterscheiden und deren Position etwa in Scanrichtung veränderbar ist, so dass ein Anteil der Beleuchtungsenergie durch wenigstens eine Blende vignettierbar ist. Die Form der einzelnen Blende ist dabei speziell an die Form der Ausleuchtung in einer Blendebene angepasst, in der die Komponente angeordnet ist. Dies führt dazu, dass zumindest Teile der begrenzenden Kanten zweier Blenden sich bei einer beliebigen Verschiebung der Blenden stets unterscheiden.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von Blenden, die jeweils eine begrenzende Kante aufweisen, mit der ein Beleuchtungsfeld in der Objektebene begrenzt werden kann. Ferner betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem und eine Projektionsbelichtungsanlage, die eine solche Komponente beinhalten, sowie ein Verfahren zur Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage.
Komponenten der eingangs genannten Art sind zum Beispiel aus der EP 0952491 A2 und der US 2006/0244941 bekannt.
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen, die zur Produktion von mikroelektronischen Bauelementen verwendet werden, bestehen unter anderem aus einer Lichtquelle und einem Beleuchtungssystem zur Ausleuchtung einer strukturtragenden Maske, dem sogenannten Retikel, und einer Projektionsoptik zur Abbildung der Maske auf ein Substrat, den Wafer. Dieses Substrat enthält eine photosensitive Schicht, die durch das Aufbringen einer Strahlungsdosis chemisch verändert wird. Das Retikel ist dabei in der Objektebene und der Wafer in der Bildebene der Projektionsoptik der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage angeordnet. Die optischen Komponenten des Beleuchtungssystems und der Projektionsoptik können dabei sowohl refraktive als auch reflektive Komponenten sein. Auch Kombinationen von refraktiven und reflektiven Komponenten sind möglich. Gleichfalls kann das Retikel sowohl reflektiv als auch transmitiv ausgebildet sein. Vollständig aus reflektiven Komponenten bestehen solche Anlagen insbesondere dann, wenn sie mit einer Strahlung mit einer Wellenlänger kleiner als ca. 100 nm betrieben werden.
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen werden häufig als sogenannte Scanner betrieben. Das bedeutet, dass das Retikel durch ein schlitzförmiges Beleuchtungsfeld entlang einer Scanrichtung bewegt wird, während der Wafer in der Bildebene der Projektionsoptik entsprechend bewegt wird. Das Verhältnis der Geschwindigkeiten von Wafer zu Retikel entspricht der Vergrößerung der Projektionsoptik zwischen Retikel und Wafer, die üblicherweise kleiner 1 ist.
Da die chemische Veränderung der photosensitiven Schicht erst ausreichend stattfindet, nachdem eine bestimmte Strahlungsdosis verabreicht wurde, ist es notwendig sicherzustellen, dass alle Bereiche des Wafers, die belichtet werden sollen, die gleiche Strahlungsenergie erhalten. Ungleichmäßigkeiten bei der Verteilung der Strahlungsenergie in der Objektebene können zu Variationen der Strukturbreite führen, da die Position der Kanten von zu belichtenden Strukturen davon abhängt, ob die nötige Strahlungsenergie zur Belichtung erreicht wurde oder nicht.
Zum Ausgleich von Ungleichmäßigkeiten bei der Verteilung der Strahlungsenergie werden spezielle Komponenten verwendet. Eine solche Komponente kann zum Beispiel aus zwei sich beispielsweise gegenüberliegenden Anordnungen von identischen, vignettierenden, fingerartigen Blenden bestehen, die aneinander angrenzen und im Wesentlichen parallel zur Scanrichtung ausgerichtet sind. Jede dieser Blende ist zum Beispiel in Scanrichtung beweglich, so dass der Abstand zwischen sich in Scanrichtung gegenüberliegenden Enden eines Blendenpaares einstellbar ist. Damit ist es möglich, ein schlitzförmiges Beleuchtungsfeld in der Objektebene zur Verfügung zu stellen, dessen Breite in Scanrichtung entlang der zur Scanrichtung senkrechten Richtung variiert. Da entlang der Scanrichtung aufgrund des Scanprozesses eine Integration der Strahlungsenergie erfolgt, kann die zur chemischen Veränderung der photosensitiven Schicht notwendige scanintegrierte Strahlungsenergie gezielt eingestellt werden. Die das Beleuchtungsfeld begrenzenden Kanten der Blenden fungieren damit als obere und untere Integrationsgrenze. Im Weiteren werden solche Kanten als begrenzende Blendenkanten bezeichnet, da sie das Beleuchtungsfeld in der Objektebene begrenzen.
Durch die vorliegende Erfindung soll eine solche Komponente verbessert und weitergebildet werden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird diese Aufgabe gelöst durch eine Komponente der eingangs genannten Art, wobei die Komponente derart gestaltet ist, dass zumindest Teile der begrenzenden Kanten zweier Blenden sich bei einer beliebigen Verschiebung der Blenden stets unterscheiden.
Dadurch ist eine gezielte Einstellung der Blendenform jeder einzelnen der Mehrzahl der Blenden auf die spezifische Ausleuchtung der Blendenebene möglich. Somit lässt sich eine genauere Einstellung der scanintegrierten Beleuchtungsenergie realisieren. Dies ist insbesondere dann wichtig, wenn die Ausleuchtung in der Blendenebene starke Inhomogenitäten oder ungleichmäßige Berandungen aufweist. Durch die erfindungsgemäße unterschiedliche Ausgestaltung der begrenzenden Kanten zweier Blenden, die sich bezüglich ihrer Form, z. B. in. Krümmung oder Winkel, unterscheiden kann die Komponente zum Beispiel der ungleichmäßigen Berandung der Ausleuchtung angepasst werden.
Eine Ausgestaltung der Komponente derart, dass sie eine Verstellvorrichtung zur Veränderung der Position der Blenden umfasst hat den Vorteil, dass bei einer Änderung der Ausleuchtung in der Blendenebene die Position der Blenden angepasst werden kann, um eine Korrektur der scanintegrierten Beleuchtungsenergie vorzunehmen. Dabei sind Positionsänderungen denkbar, die so groß sind, dass bis zu 10% oder mehr der Energie in der Blendeebene vignettiert werden können. Eine solche Vorrichtung kann zum Beispiel ansteuerbare Aktuatoren beinhalten, mit denen die Position der Blenden beruhend auf einem Steuersignal einer Steuer- oder Regeleinheit gezielt verändert werden kann. Eine solche Ansteuerung oder Regelung ermöglicht eine schnelle und flexible Einstellung der Blendenposition.
Die Anordnung der Blenden derart, dass sich benachbarte Blenden zumindest teilweise überlappen, hat den Vorteil, dass keinerlei Lücken zwischen nebeneinander liegenden Blenden auftreten können.
Ein weiterer Vorteil ergibt sich, wenn wenigstens eine Blende austauschbar ist. Verändert sich nämlich die Ausleuchtung der Blendenebene zum Beispiel durch Degradation von optischen Elementen, so kann es erforderlich werden, die Form der begrenzenden Blendenkante an die neue geänderte Ausleuchtung anzupassen. Hierzu können dann einzelne oder alle Blende ausgetauscht werden gegen Blenden, die eine andere Form der begrenzenden Kante aufweisen. Alternativ oder ergänzend ist es auch möglich, die Blenden so zu gestalten, dass wenigstens eine Blende eine Anpassungsvorrichtung zur Veränderung der begrenzenden Kanten umfasst. In einem solchen Fall kann vorteilhaft die Form der begrenzenden Blendenkante auch ohne einen Austausch von Blenden verändert werden. Damit ist eine schnellere und flexiblere Einstellung der begrenzenden Kante möglich. Eine solche Veränderung der Form der begrenzenden Kanten kann auch erforderlich werden, wenn die Position der Blende verändert wird. Um eine gute Korrektur der scanintegrierten Beleuchtungsenergie zu gewährleisten, ist die Form der begrenzenden Blendenkante an die Energieverteilung im Bereich der begrenzenden Blendenkante angepasst. Wird nun die Blendenposition und damit die Lage der begrenzenden Blendenkante verändert, so kann eine Anpassung der Kantenform erforderlich sein, um weiterhin die Güte der Korrektur der scanintegrierten Beleuchtungsenergie zu gewährleisten.
Eine vorteilhafte Anpassung an die Energieverteilung im Bereich der begrenzenden Blendenkante ist insbesondere dann möglich, wenn die Kante eine Krümmung aufweist. Der Wert des Krümmungsradius kann dabei zwischen Null und Unendlich liegen.
Alternativ kann die begrenzende Kante auch eine beliebige andere Form haben. Damit ist es möglich, die begrenzende Kante an eine Vielzahl von möglichen Energieverteilungen anzupassen.
Ein Beleuchtungssystem mit einer solchen beschriebenen Komponente hat die Vorteile, die vorstehend bereits in Bezug auf die Komponente erläutert wurden. Die Anordnung einer solchen Komponente in oder nahe der Objektebene oder in oder nahe einer zur Objektebene optisch konjugieren Ebene hat den Vorteil, dass jeder fingerartigen Blende ein Einflussbereich in der Objektebene im Wesentlichen eineindeutig zugeordnet ist.
Unter dem zugeordneten Einflussbereich einer Blende in der Objektebene ist der Bereich der Objektebene zu verstehen, in dem mit Hilfe der Blende die scanintegrierte Beleuchtungsenergie verändert wird. Das heißt, es handelt sich beim zugeordneten Einflussbereich um den Teil der Objektebene, in dem sich die scanintegrierte Beleuchtungsenergie verändert, wenn die Position oder Form der zugeordnete Blende verändert wird.
Eine im Wesentlichen eineindeutige Zuordnung liegt vor, wenn die Einflussbereiche verschiedener Blenden in der Objektebene nur wenig überlappen. In einem solchen Fall kann gut festgelegt werden, welche Blende in Form oder Position verändert werden muss, um die scanintegrierte Beleuchtungsenergie in einem bestimmten Gebiet der Objektebene zu beeinflussen. Dies liegt daran, dass durch Variation der Blendenform oder der Position einer Blende ein bestimmter Bereich der Ausleuchtung in der Blendenebene vignettiert oder durchgelassen werden kann. Dieser Bereich wird im Folgenden als Blendenbereich dieser Blende bezeichnet. Ist die Blende in oder nahe der Objektebene bzw. einer optisch konjugierten Ebene angeordnet, so existiert in Form der Abbildung eine im Wesentliche eineindeutige Zuordnung von einem Blendenbereich zu einem Einflussbereich. Diese im Wesentlichen eineindeutige Zuordnung führt dazu, dass nach einer Messung der Inhomogenitäten in der Verteilung der Strahlungsenergie in der Objektebene festgestellt werden kann, welche der Blenden in ihrer Einstellposition oder, falls eine Justage der Einstellposition der Blende nicht ausreichend ist, um die Variation zu beseitigen, in der Form ihrer begrenzenden Blendenkante verändert werden muss, um die scanintegrierte Strahlungsenergie in der Objektebene zu korrigieren.
Ein derartiges Beleuchtungssystem kann unterschiedliche Beleuchtungsfelder besitzen. Ein bogenförmiges Beleuchtungsfeld ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die Projektionsoptik aus reflektiven Komponenten, besteht, da bei einem solchen System Vignettierung der Strahlung durch mehrfaches Auftreffen auf die gleiche reflektive Komponente leichter vermieden werden kann, wenn das Beleuchtungsfeld eine Bogenform aufweist. Im Falle eines unendlichen Krümmungsradius des bogenförmigen Feldes geht das Feld zu einer Rechteckform über. Ein rechteckiges Beleuchtungsfeld hat den Vorteil, dass es sich relativ einfach mit einem Beleuchtungssystem realisieren lässt.
Die Anordnung von Blenden derart, dass nur eine Seite des Beleuchtungsfeldes in der Objektebene begrenzt werden kann, hat den Vorteil, dass die Blenden auch nur auf einer Seite der Ausleuchtung in der Blendenebene angeordnet werden müssen. Hiermit ist eine bessere Ausnutzung des Bauraums möglich. Insbesondere wenn die Projektionsbelichtungsanlage zumindest teilweise aus reflektiven Komponenten besteht, kann es möglich sein das Strahlung die Blendenebene mehrfach passiert. Um eine unbeabsichtigte Vignettierung von Strahlung zu vermeiden, ist es daher vorteilhaft, wenn die Blenden in einem eng begrenzten Bereich angeordnet sind, zum Beispiel also auf einer Seite des Strahlenganges.
Dagegen hat die Anordnung von Blenden derart, dass das Beleuchtungsfeld auf zwei sich gegenüberliegenden Seiten begrenzt werden kann, den Vorteil, dass eine größere Anzahl von Freiheitsgraden bei der Festlegung von Position und Form der begrenzenden Blendenkanten vorliegt, da in diesem Fall die scanintegrierte Beleuchtungsenergie an einer Stelle in der Objektebene mit Hilfe von zwei sich gegenüberliegenden Blenden verändert werden kann.
Dabei ist es nicht zwingend erforderlich, dass alle Blenden in der gleichen Ebene angeordnet sind. So ist es zum Beispiel denkbar, dass ein Teil der Blenden in einer ersten Ebene und ein zweiter Teil der Blenden in einer zweiten Ebene angeordnet ist. Auch eine Anordnung in mehr als zwei Ebenen ist möglich. Dies hat den Vorteil, dass der Bauraum besser ausgenutzt werden kann.
Darüber hinaus ist es insbesondere vorteilhaft, wenn die Form der begrenzenden Blendenkante derart an die Ausleuchtung in der Blendenebene angepasst ist, dass die scanintegrierte Energie im zugeordneten Einflussbereich um weniger als 0.5%, besonders bevorzugt um weniger als 0.3%, variiert.
Dies führt dazu, dass alle Blenden so eingestellt werden können, dass auch die scanintegrierte Beleuchtungsenergie entlang der zur Scanrichtung senkrechten Richtung in der Objektebene um weniger als 0.5% variiert und somit eine sehr gleichmäßige Strukturbreite bei der Abbildung der strukturtragenden Maske in die Bildebene entsteht.
Realisiert werden kann diese Anpassung, indem die Form der begrenzenden Blendenkante der Form der Berandungskurve der Ausleuchtung im Blendenbereich möglichst nahe kommt. Unter Berandungskurve kann zum Beispiel die Isointensitätslinie für die Beleuchtungsleistungsflächendichte von 1% der maximalen Beleuchtungsleistungsflächendichte verstanden werden. Andere Definitionen einer Berandungskurve sind auch denkbar. Isointensitätslinien sind Linien konstanter Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Blendenebene. Dies bedeutet, dass, über ein festes Zeitintervall integriert, an allen Punkten dieser Linie die gleiche Energieflächendichte vorliegt.
Dass die Form der begrenzenden Blendenkante der Form der Berandungskurve nahe kommt, bedeutet insbesondere, die Abweichung Δy zwischen der begrenzenden Blendenkante und der definierenden Linie kleiner ist als 0.5% der Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung. Damit ergibt sich unter anderem, dass die begrenzende Blendenkanten einen mittleren Winkel zur Berandungskurve der Ausleuchtung aufweist, der kleiner als 10 ist, beziehungsweise, dass die begrenzende Blendenkante eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius der Berandungskurve im Blendenbereich um weniger als 0.5% unterscheidet.
Entspricht die Form der begrenzenden Blendenkante im Wesentlichen einer Isointensitätslinie, so hat das System weitere Vorteile. Ist die so gestaltete Blende zum Beispiel so angeordnet, dass die begrenzende Blendenkante im Wesentlichen mit dieser Isointensitätslinie zusammenfällt, so hat der Verlauf der Beleuchtungsleistungsflächendichte entlang der Scanrichtung, das Scanprofil, an allen Punkten des Einflussbereichs den gleichen Randanstieg und Randabfall.
Dass die Form der begrenzenden Blendenkante im Wesentlichen der Form einer Isointensitätslinie entspricht, bedeutet insbesondere, dass die begrenzende Blendenkanten einen mittleren Winkel zur einer Isointensitätslinie der Ausleuchtung aufweist, der kleiner ist als 1°, beziehungsweise, dass die begrenzende Blendenkante eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius einer Isointensitätslinie im Blendenbereich um weniger als 0.5% unterscheidet.
Alternativ ist es auch denkbar die Blendenform so zu wählen, dass sie im Wesentlichen der Form einer Isodosislinie entspricht. Dabei sind Isodosislinien definiert als Punkte gleicher scanintegrierter Beleuchtungsleistungsflächendichte. Das bedeutet, dass für alle Punkte dieser Linie der Wert des Integrals entlang der Scanrichtung von minus (bzw. plus) unendlich bis zu diesem Punkt über die Beleuchtungsleistungsflächendichte gleich ist.
Dass die Form der begrenzenden Blendenkante im Wesentlichen der Form einer Isodosislinie entspricht, bedeutet insbesondere, dass die begrenzende Blendenkanten eine mittleren Winkel zur einer Isodosislinie der Ausleuchtung aufweist, der kleiner ist als 1°, beziehungsweise, dass die begrenzende Blendenkante eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius einer Isodosislinie im Blendenbereich um weniger als 0.5% unterscheidet. Dies hat den Vorteil, dass die Variation der scanintegrierten Energie über den Einflussbereich der Blende automatisch minimiert wird, wenn die Blendenposition in Scanrichtung so gewählt ist, dass die begrenzende Blendenkante mit der Isodosislinie zusammenfällt. Da in diesem Fall die begrenzende Blendekante als obere (bzw. untere) Integralgrenze wirkt, führt die Definition der Isodosislinie automatisch zu Minimierung der Variation der scanintegrierten Beleuchtungsenergie.
Ein Beleuchtungssystem, das eine Einrichtung zur Messung der scanintegrierten Beleuchtungsenergie in der Objektebene umfasst, die ein Messsignal zur Verfügung stellt, hat den Vorteil, dass mit Hilfe eines solchen Messergebnisses zum Beispiel Blendenposition oder Form der begrenzenden Kante gezielt eingestellt werden können, um eine möglichst kleine Variation der scanintegrierten Beleuchtungsenergie über das Beleuchtungsfeld zu gewährleisten. Umfasst das Beleuchtungssystem zusätzlich eine Regeleinheit zur Einstellung der Komponente beruhend auf dem Messsignal, so kann eine schnelle Veränderung der Komponenteneinstellung bewirkt werden. Eine solche Veränderung kann zum Beispiel in einer Positionsänderung mindestens einer Blende, der Änderung der begrenzenden Blendenkante oder dem Austausch von Blenden bestehen.
Eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, die ein Beleuchtungssystem der oben genannten Art umfasst, und ein Verfahren zur Herstellung von mikrostrukturierten Bauelementen mittels einer solchen Projektionsbelichtungsanlage haben die gleichen Vorteile, die bereits oben in Bezug auf das Beleuchtungssystem genannt wurden.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung erläutert. In dieser zeigen
1 eine schematische Schnittdarstellung einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage;
2 eine schematische Schnittdarstellung eines Beleuchtungssystems einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, welches im Wesentlichen refraktive Komponenten enthält;
3 eine schematische Darstellung eines Beleuchtungssystems einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage in einer Ausführungsform mit reflektiven Komponenten;
4 eine Beleuchtungsleistungsflächendichte in einer Blendenebene mit Isointensitätslinien;
5 den Verlauf der Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Blendenebene entlang der in 4 dargestellten Linien;
6 eine Ausleuchtung der Blendenebene mit Isodosislinien;
7 die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Blendenebene als Funktion der oberen Integralgrenze entlang der in 6 dargestellten Linie;
8a eine Detaildarstellung einer erfindungsgemäß gestalteten Blende;
8b eine Detaildarstellung der Anpassung einer begrenzenden Kante an eine Isodosislinie
9 eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen optischen Komponente;
10 eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen optischen Komponente in einer weiteren Ausführungsform;
11 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäß gestalteten Blende mit einer Vorrichtung zur Veränderung der begrenzenden Kante;
Die Bezugszeichen sind so gewählt, dass Objekte, die in 1 dargestellt sind, mit einstelligen oder zweistelligen Zahlen versehen wurden. Die in den weiteren Figuren dargestellten Objekte haben Bezugszeichen, die drei- und mehrstellig sind, wobei die letzten beiden Ziffern das Objekt angeben und die vorangestellten Ziffern die Nummer der Figur, auf der das Objekt dargestellt ist. Damit stimmen die Bezugsziffern von gleichen Objekten, die in mehreren Figuren dargestellt sind, in den letzten beiden Ziffern überein. Zum Beispiel kennzeichnen die Bezugszeichen 3, 203 und 503 das Objekt 3 in den 1, 2 und 5.
Die Erläuterung eines Objektes mit einer Bezugsziffer findet sich daher gegebenenfalls in der Beschreibung zu einer der vorangegangenen Figuren unter der entsprechenden Bezugsziffer.
In 1 ist eine vereinfachte Darstellung einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage 1 dargestellt. Das Beleuchtungssystem 3 beleuchtet dabei die strukturtragende Maske 5, die in der Objektebene 7 angeordnet ist. Die strukturtragende Maske kann dabei in Scanrichtung 9 bewegt werden. Nachgeschaltet ist die Projektionsoptik 11, die die Maske in die Bildebene 13 abbildet. In der Bildebene befindet sich ein Substrat 15, das eine photosensitive Schicht 17 enthält, die bei der Belichtung chemisch verändert wird. Man spricht hierbei auch von einem lithographischen Schritt. Dieses Substrat kann ebenfalls entlang der Scanrichtung 9 bewegt werden. Das Verhältnis der Scangeschwindigkeiten von Substrat zu Maske entspricht der Vergrößerung der Projektionsoptik zwischen Maske und Substrat, die üblicherweise kleiner 1 ist, zum Beispiel 1:4. Durch die Belichtung der photosensitiven Schicht und weiterer Prozesse, die unter anderem chemischer Natur sind, entsteht ein mikroelektronisches Bauelement.
2 zeigt eine vereinfachte schematische Darstellung eines Beleuchtungssystems 203 einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage in einer vollständig oder überwiegend refraktiven Ausführungsform. Dieses Beleuchtungssystem enthält eine Lichtquelle 219, die hochfrequente Folgen von kurzen Lichtpulsen erzeugt, die die Beleuchtungsstrahlung 221 bilden. Diese Lichtquelle kann, insbesondere für ein Beleuchtungssystem aus refraktiven Komponenten, ein Excimerlaser sein, der eine Beleuchtungsstrahlung mit einer Wellenlänge von zum Beispiel 193 nm erzeugt. Die Beleuchtungsstrahlung passiert nachfolgend eine Strahlformungseinheit 223, ein Zoom-Axikon-Objektiv 225 zur Einstellung verschiedener Beleuchtungstypen und einen Stabhomogenisierer 227, der zur Mischung und Homogenisierung der Beleuchtungsstrahlung dient. Hieran schließt die erfindungsgemäße Komponente 229 zur Einstellung der scanintegrierten Beleuchtungsenergie in der Objektebene 207 an. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel ist diese Komponente in einer zur Objektebene 207 optisch konjugierten Ebene 231 angeordnet. Gezeigt sind in der 2 aus Darstellungsgründen nur zwei fingerartige Blenden 233, die in Scanrichtung 209 liegen. Nachgeschaltet ist ein Objektiv 235 gezeigt, dass die Ebene 231, in der die erfindungsgemäße Komponente angeordnet ist, auf die Objektebene 207 abbildet. In dieser Objektebene ist dann die strukturtragende Maske 205 angeordnet.
In 3 ist eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage schematisch dargestellt, die aus reflektiven Komponenten besteht. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die Wellenlänge der verwendeten Beleuchtungsstrahlung kleiner als 193 nm und insbesondere zwischen 3 nm und 15 nm ist. Die Beleuchtungsstrahlung wird hier durch eine Lichtquelle 319 erzeugt, die zum Beispiel ein Plasma sein kann, dass durch einen Laser oder eine Entladung generiert wird. Die Beleuchtungsstrahlung 321 wird dann von einem Kollektor 337 auf den ersten Spiegel 339 einer Mischeinheit 339, 341 gelenkt. Nach dem zweiten Spiegel 341 der Mischeinheit wird die Beleuchtungsstrahlung mit Hilfe der weiteren Spiegel 343, 345, 347 auf eine Objektebene 307 geleitet. In dieser Objektebene ist wiederum die strukturtragende Maske angeordnet (nicht in der Zeichnung dargestellt), die in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel reflektiv ausgestaltet ist. Mit Hilfe einer Projektionsoptik 311 wird diese Maske auf die Bildebene 313 abgebildet. Die erfindungsgemäße Komponente 329 ist im vorliegenden Ausführungsbeispiel nahe zur Objektebene angeordnet und enthält fingerartige Blenden vorzugsweise, aber nicht notwendigerweise auf der der Projektionsoptik gegenüberliegenden Seite, um den Strahlengang zwischen Objekt- und Bildebene der Projektionsoptik in der dargestellten Ausführungsform der Projektionsbelichtungsanlage nicht zu beeinflussen. Eine Vignettierung der Strahlung in diesem Bereich würde die Abbildung der strukturtragenden Maske verschlechtern.
4 zeigt beispielhaft eine Beleuchtungsleistungsflächendichte ρ(x, y) in der Ebene der erfindungsgemäßen Komponente, wie sie bei einem Beleuchtungssystem aus 3 erzeugt wird. Dargestellt ist die Beleuchtungsleistungsflächendichte mit Hilfe der Isointensitätslinien 449 in einem kartesischen Koordinatensystem. Dabei verläuft die y-Achse parallel zur Scanrichtung 409 und die x-Achse steht senkrecht auf der Scanrichtung. Die zur Scanrichtung senkrechte Richtung ist mit 410 bezeichnet.
Anhand der Berandungskurve 451 sieht man, dass es sich in diesem Fall um ein bogenförmiges Feld handelt. Die Geraden 452, 453 und 454 verlaufen parallel zur Scanrichtung und schneiden die x-Achse an den Positionen x₁, x₂ und x₃. Mit y₁₀ und y₁₁ sind die y-Koordinaten der Punkte bezeichnet, an denen entlang der Gerade 452 die Beleuchtungsleistungsflächendichte 20% ihres Maximalwertes annimmt.
Entsprechendes gilt für die Koordinaten y₂₀, y₂₁ und die Gerade 453, sowie für die Koordinaten y₃₀, y₃₀ und die Gerade 454. Damit liegen die sechs Punkte (x₁, y₁₀), (x₁, y₁₁), (x₂, y₂₀), (x₂, y₂₁), (x₃, y₃₀) und (x₃, y₃₁) auf der gleichen Isointensitätslinie.
In 5 ist der Verlauf der Beleuchtungsleistungsflächendichte, das Scanprofil, entlang der Geraden aus 5 dargestellt. Dabei bezeichnet 555 das Scanprofil entlang der Gerade 452, 556 das Scanprofil entlang der Gerade 453 und 557 das Scanprofil entlang der Gerade 454. Diese drei Scanprofile 555, 556 und 557 sind im Wesentlichen in y-Richtung gegeneinander verschoben aufgrund der Bogenform des Beleuchtungsfeldes. Um eine gute Abbildung zu gewährleisten sollte jedoch die scanintegrierter Beleuchtungsleistungsflächendichte, das heißt das Integral
möglichst wenig in x-Richtung variieren. Stimmt die Blendenebenen mit der Objektebene überein, so bezeichnet man dieses Integral häufig auch als Uniformitykurve U(x). Dieses Integral kann eingestellt werden, indem eine Blende in der Ebene der erfindungsgemäßen Komponente eingebracht wird. Eine solche Blende sorgt dafür, dass ein Punkt im Retikel nicht mehr die vollständige scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte sieht, sondern nur einen Anteil davon. Dies geschieht, indem das Integral mit Hilfe der Blende begrenzt wird. In 5 ist zum Beispiel das Integral 559 dargestellt, das sich ergibt, wenn die Blende 461 in 4 die Integration entlang der Geraden 452 beschneidet. Die begrenzende Blendenkante schneidet somit die Gerade 452 an den Koordinaten (x₁, y₁₁). Die Position der begrenzenden Blendenkante auf der Gerade 452 wirkt somit als obere Integralgrenze. Die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte D(x, y) bei einer Position x kann daher als Funktion der Koordinate der begrenzenden Blendenkanten dargestellt werden
In der vorliegenden Ausführungsform sind die Blenden nur auf einer Seite angeordnet, so dass die Integration über die Beleuchtungsleistungsflächendichte nur auf einer Seite begrenzt werden kann. Es ergibt sich daher minus unendlich als untere Integralgrenze und y als obere Integralgrenze. Alternativ können jedoch auch Blenden eingesetzt werden, die die Integration auf beiden Seiten begrenzen. Dann ergibt sich die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte als Funktion beider Blendenpositionen y_o für die obere Grenze und y_u für die untere Grenze.
Im Folgenden wird nur der Fall einer einseitigen Blende weiter betrachtet. Die Erfindung betrifft jedoch auch den beidseitigen Fall und die folgenden Ausführungen lassen sich direkt auf diesen Fall übertragen.
Die Blende 461 mit der begrenzenden Blendenkante, die senkrecht zur Scanrichtung steht, wie sie aus dem Stand der Technik bekannt ist, hat jedoch den Nachteil, dass die Integrale entlang der Geraden 452 und 453 beide die gleiche obere Integralgrenze bekommen. Damit unterscheiden sich die Werte der beiden Integrale jedoch deutlich, da die Scanprofile 555 und 556 in y-Richtung gegeneinander versetzt sind. Dies kann durch den Einsatz einer erfindungsgemäßen Blende 463 vermieden werden. Hier kann zum Beispiel die Form der begrenzenden Blendenkante derart gewählt werden, dass der Versatz der Scanprofile berücksichtigt wird. Auf diese Weise ist es möglich die Variation in x-Richtung der Werte der Integrale zu minimieren.
Liegen die x-Position zweier Geraden parallel zur Scanrichtung soweit auseinander, dass sie nicht mehr in den gleichen Blendenbereich fallen, wie zum Beispiel die x-Positionen der Geraden 452 und 454, so kann ein großer Teil des Versatzes der Scanprofile 555 und 557 zueinander durch die Einstellung der Blendenposition in y-Richtung geleistet werden. In der 4 deuten die Doppelpfeile auf den Blenden 461, 463 und 465 an, dass die Blenden in Scanrichtung in ihrer Position verändert werden können. Die Einstellung der Blendenposition ermöglicht jedoch nur eine Anpassung mit begrenzter Genauigkeit. Zur Verbesserung der Genauigkeit ist zusätzlich die erfindungsgemäße Anpassung der begrenzenden Blendenkante an die Form der Ausleuchtung im Blendenbereich erforderlich.
In 6 ist die Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Ebene der erfindungsgemäßen Komponente mit Hilfe der Isodosislinien 667 dargestellt. Isodosislinien sind definiert als Punkte gleicher scanintegrierter Beleuchtungsleistungsflächendichte, das heißt, dass an allen Punkten einer solchen Linie das Integral D(x, y) mit
den gleichen Wert hat. Würde eine Blende exakt einer solchen Linie folgen, wäre der Wert des Integrals überall gleich, so dass die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte nicht entlang der x-Richtung variierte. Dies hätte den Vorteil, dass dann eine sehr geringe Variation der scanintegrierten Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Retikelebene gewährleistet werden kann.
In 7 ist die entlang der in 6 dargestellten Geraden 653 scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte D(x₁, y) nach Normierung auf ihren Maximalwert dargestellt.
Als y₄ ist die Position in 5 und 6 markiert, an der die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte 20% ihres Maximalwertes annimmt. Die Gerade 653 schneidet in 6 also die 20%-Isodosislinie an der Position (x₁, y₄).
8a zeigt eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Komponente, wobei eine fingerartige Blende 833 im Detail dargestellt ist. Die Blende 833 definiert durch ihre Ausdehnung senkrecht zur Scanrichtung 810 einen Blendenbereich 871. Die Strahlung, die dieses Gebiet passiert, kann durch Verschieben der Blende 833 in Scanrichtung, angedeutet durch den Doppelpfeil, vignettiert werden. Die Ausleuchtung der Blendenebene besitzt in diesem Blendenbereich 871 eine definierende Linie 869. Dabei kann es sich um die Berandungskurve, eine Isointensitätslinie oder um eine Isodosislinie handeln. Approximiert man die definierende Linie im Blendenbereich 871 durch eine Gerade 873 so ergibt sich der mittlere Winkel 875 zur Scanrichtung 809. Zur genaueren Beschreibung der definierenden Linie lässt sich ferner der Radius 877 des besten Kreisfits an den Abschnitt der definierenden Linie im Blendenbereich 871 verwenden.
Würde man nun eine rechteckige Blende einsetzen, deren vordere Kante senkrecht zur Scanrichtung verläuft, so ergäbe sich eine Variation entlang der zur Scanrichtung senkrechten Richtung 810 der scanintegrierten Beleuchtungsleistungsflächendichte in der Objektebene sobald die Blende so eingestellt ist, dass sie einen Teil der Strahlungsenergie vignettiert. Dies sieht man daran, dass in einem solchen Fall der das Beleuchtungsfeld begrenzende Abschnitt der rechteckigen Blende die definierende Linie unter großem Winkel schnitte. Dieser Nachteil kann durch die erfindungsgemäße Blende vermieden werden, indem die Form der begrenzenden Blendenkante 879, welche in den Blendebereich 871 eingreift, der Form der definierenden Linie 869 im Blendenbereich 871 im Wesentlichen entspricht. Ändert man die Position einer solchen Blende in Scanrichtung, so dass zum Beispiel bis zu 10% oder mehr der Beleuchtungsenergie im Blendenbereich vignettiert werden, so variiert der Wert der scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte entlang der zur Scanrichtung senkrechten Richtung 810 nur wenig, wenn die begrenzende Blendenkante 879 mit einer Isodosislinie zusammenfällt und im Wesentlichen auch die gleiche Form hat.
8b zeigt eine begrenzende Blendenkante 879 zusammen mit einer definierenden Linie in einer detaillierten Darstellung. Dabei kann es sich zum Beispiel um eine Isodosislinie 869 handeln. Die begrenzende Blendenkante 879 verläuft in diesem Fall senkrecht zur Scanrichtung 809. Aufgrund der Abweichung Δy zwischen der Blendenkante und der Isodosislinie ergibt sich eine Variation der scanintegrierten Beleuchtungsenergie in dem zugeordneten Einflussbereich entlang der zur Scanrichtung senkrechten Richtung 810. Damit eine sehr gleichmäßige Strukturbreite bei der Abbildung der strukturtragenden Maske in die Bildebene entsteht, ist es vorteilhaft, wenn die scanintegrierte Beleuchtungsenergie um weniger als 0.5% variiert. Hieraus lässt sich abschätzen, wie groß daher die Abweichung Δy maximal sein darf. Dabei geht man näherungsweise davon aus, dass in der Ebene der erfindungsgemäßen Komponente eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer konstanten Beleuchtungsleistungsflächendichte ρ(x, y) = ρ₀ vorliegt. Somit ist die scanintegrierter Beleuchtungsleistungsflächendichte D(x) gegeben durch D(x) = ρ₀·l(x), wobei l(x) die Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung an der Position x bezüglich der zur Scanrichtung senkrechten Richtung 810 angibt. Damit nun das Integral D(x) um weniger als 0.5% entlang dieser Richtung variiert, darf auch l(x) um nicht mehr als 0.5% variieren. Es ergibt sich also, dass an allen Positionen im Blendenbereich die Abweichung Δy nicht mehr als 0.5% der Ausdehnung entlang der Scanrichtung betragen darf, das heißt
Beträgt die Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung zum Beispiel etwa 6 mm, so darf die begrenzende Blendenkante um nicht mehr als 0.03 mm von der definierenden Linie abweichen. Bei einer Ausdehnung der Blende in der zur Scanrichtung senkrechten Richtung von zum Beispiel Δx = 4 mm ergibt sich ein maximaler Winkel 875 zwischen der besten Fitgerade an die definierende Linie und der begrenzenden Blendenkante von
Es ist also vorteilhaft, wenn der Winkel 881 zwischen der besten Fitgerade an die begrenzende Blendenkante 879 und der Scanrichtung vom mittleren Winkel 875 der definierenden Linie um weniger als 1° abweicht. Der Winkel 881 ist in 8b nicht dargestellt, da der Winkel in diesem speziellen Fall 0° beträgt.
Entsprechend ist es vorteilhaft, wenn zusätzlich der Radius des besten Kreisfit (nicht in der Zeichnung dargestellt) an die begrenzende Blendenkante 867 vom Radius 877 des besten Kreisfit an die definerende Linie 869 um weniger als 0.5% abweicht.
Ferner ist in 8a eine Verstellvorrichtung 833 in Form eines Aktuator angedeutet, mit dessen Hilfe die Position der Blende in Scanrichtung 809 verändert werden kann.
Dieser Aktuator wird angesteuert durch eine Regeleinheit 885, die schematisch dargestellt wurde. Zur Steuerung und/oder Regelung der Blendenposition verwendet die Regeleinheit 885 zum Beispiel ein Messsignal eines Sensors 887, der die scanintegrierten Beleuchtungsenergie beispielsweise in der Retikelebene misst.
In 9 ist die erfindungsgemäße Komponente schematisch dargestellt. Die Form der begrenzenden Blendenkanten 979 ist hier auf die Berandungskurve 951 angepasst. In dieser Figur ist die Position aller Blenden derart, dass keine Beleuchtungsstrahlung vignettiert wird. Jede einzelne der Blende 933 ist in ihrer Position jedoch variabel verstellbar. Dies ist in 9 durch Doppelpfeile angedeutet. Verändert man die Blendenposition einer Blende in Scanrichtung 909, so lässt sich gezielt ein Teil der Beleuchtungsstrahlung im Blendenbereich vignettieren. Da jedoch jede der Blenden eine angepasste begrenzende Blendekante 979 aufweist, kann eine solche Vignettierung durchgeführt werden ohne dass die scanintegrierte Beleuchtungsleistungsflächendichte in dem zugeordneten Einflussbereich einer Blende um wesentlich mehr als 0.5% variiert, wie vorstehend mit Bezug auf die 4 und 5 erläutert wurde.
10 zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung. In dieser Ausgestaltung sind die Blenden 1033 derart angeordnet, dass nur eine Seite des Beleuchtungsfeldes begrenzt werden kann. Alternativ oder zusätzlich können auch Blenden auf der anderen Seite des Beleuchtungsfeldes angeordnet sein. Ferner haben alle Blenden die gleiche Form. Im in 10 dargestellten Falle ist die begrenzende Blendenkante 1079, welche die Beleuchtungsstrahlung bei entsprechender Blendeneinstellung vignettiert, senkrecht zur Bewegungsrichtung der Blende 1033, angedeutet durch die Doppelpfeile, ausgebildet. Alternativ kann die begrenzende Kante 1079 auch wie in einer der anderen Ausführungsformen ausgebildet sein. Trotz der geraden begrenzenden Kanten 1079 ist durch die Anordnung der Blenden 1033 gewährleistet, dass die begrenzenden Blendenkanten 1079 an die Berandungskurve 1051 angepasst sind. Dies ist dadurch erreicht worden, dass die Blenden 1033 gedreht zueinander angeordnet worden sind. Somit ergibt sich auch hier, dass sich die begrenzenden Blendenkanten 1079 zweier Blenden bei einer beliebigen Verschiebung der Blenden stets unterscheiden. Dies liegt daran, dass die begrenzenden Blendenkanten 1079 zweier Blenden einen Winkel zueinander aufweisen.
Alternativ oder ergänzend können die Blenden 1033 auch so ausgestaltet sein, dass sie drehbar um einen Drehpunkt 1089 gelagert sind. Der Drehpunkt ist hier innerhalb der Blende dargestellt. Es ist auch möglich die Blende um eine Achse zu drehen, die außerhalb der Blende liegt. Die drehbare Lagerung ermöglicht zum Beispiel eine Anpassung der begrenzenden Blendenkante 1079 an die Form der Berandungskurve 1051, indem die Blende verdreht werden kann, angedeutet durch den gekrümmten Doppelpfeil 1091. Um die Übersichtlichkeit der Figur nicht zu reduzieren, ist die drehbare Lagerung um den Drehpunkt 1089 nur für eine der Blenden 1033 dargestellt. Eine entsprechende Lagerung mehrerer oder aller Blenden ist ebenso möglich.
Ferner ist in 10 gezeigt, dass sich die Blenden zum Beispiel im Bereich 1093 teilweise überlappen, um Lücken zu vermeiden.
In 11 ist eine erfindungsgemäß weitergebildete Form einer einzelnen Blende mit einem Ausführungsbeispiel für eine Anpassungsvorrichtung zur Veränderung der begrenzenden Kante schematisch dargestellt. Die Blende 1133 ist an ihrem vorderen Ende mit einem variablen Blendenbereich 1195 ausgestattet, der um einen Drehpunkt 1197 drehbar gelagert ist. Diese Ausgestaltung ermöglicht den Winkel 1181 der begrenzenden Blendenkante 1179 zu verändern, um die Blendenkante besser an die Ausleuchtung im Blendenbereich anpassen zu können. Eine solche Anpassung kann zum Beispiel erforderlich sein, wenn sich die Ausleuchtung im Blendenbereich verändert. Dies ist zum Beispiel der Fall, wenn weitere Blenden im Beleuchtungssystem eingebracht oder verändert werden, um zum Beispiel die Winkelverteilung der Strahlung in der Objektebene zu verändern. Des Weiteren kann eine solche Veränderung durch Degradation von optischen Elementen verursacht werden.
Weiterhin kann es erforderlich sein, die Blendenkante anzupassen, wenn die Position der Blende verändert wird. Bei einer Positionsänderung ist gegebenenfalls erforderlich die Blendenkante an eine andere definierende Linie anzupassen, die möglicherweise eine unterschiedliche Form aufweist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- EP 0952491 A2 [0002]
- US 2006/0244941 [0002]

Claims

Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene (7, 207, 307) einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Mehrzahl von Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133), die jeweils eine begrenzende Kante (879, 979, 1079, 1179) aufweisen, mit der ein Beleuchtungsfeld in der Objektebene (7, 207, 307) begrenzt werden kann, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest Teile der begrenzenden Kanten (879, 979, 1079, 1179) zweier Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) sich bei einer beliebigen Verschiebung der Blenden stets unterscheiden.
Komponente nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Verstellvorrichtung (833) zur Veränderung der Position der Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133).
Komponente nach einem der Ansprüche 1–2, dadurch gekennzeichnet, dass die Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) nebeneinander angeordnet sind, wobei sich benachbart angeordnete Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) zumindest teilweise überlappen.
Komponente nach einem der Ansprüche 1–3, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Blende (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) austauschbar ausgestaltet ist.
Komponente nach einem der Ansprüche 1–4, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine der Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) derart ausgestaltet ist, dass die begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) angepasst werden kann.
Komponente nach einem der Ansprüche 1–5, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) eine Krümmung aufweist.
Beleuchtungssystem (3) für eine Mikrolithograpie-Projektionsbelichtungsanlage (1) zur Ausleuchtung eines Beleuchtungsfeldes in einer Objektebene (7, 207, 307) der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (1) dadurch gekennzeichnet, dass eine Komponente nach einem der Ansprüche 1–6 in oder nahe der Objektebene (7, 207, 307) oder in oder nahe einer zur Objektebene (7, 207, 307) optisch konjugieren Ebene, angeordnet ist.
Beleuchtungssystem (3) nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Beleuchtungsfeld eine Bogenform aufweist.
Beleuchtungssystem (3) nach einem der Ansprüche 7–8, dadurch gekennzeichnet, dass das Beleuchtungsfeld rechteckig ist.
Beleuchtungssystem (3) nach einem der Ansprüche 7–9, dadurch gekennzeichnet, dass alle Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) derart angeordnet sind, dass das Beleuchtungsfeld durch die Blenden auf nur einer Seite begrenzt werden kann.
Beleuchtungssystem (3) nach einem der Ansprüche 7–9, dadurch gekennzeichnet, dass alle Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) derart angeordnet sind, dass das Beleuchtungsfeld durch die Blenden auf zwei sich gegenüberliegenden Seiten begrenzt werden kann.
Beleuchtungssystem (3) nach einem der Ansprüche 7–11, dadurch gekennzeichnet, dass es zu jeder Blende (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) einen Blendenbereich (871) und einen zugeordneten Einflussbereich in der Objektebene gibt, derart, dass die scanintegrierte Beleuchtungsenergie in dem zugeordneten Einflussbereich des Beleuchtungsfeldes mit Hilfe der Blende (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) verändert werden kann und die begrenzende Blendenkante derart gestaltet ist, dass die scanintegrierte Beleuchtungsenergie in dem zugeordneten Einflussbereich um weniger als 0.5% variiert.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleuchtung in der Ebene, in der Komponente angeordnet ist, eine Isointensitätslinie (449) aufweist und es eine Abweichung Δy in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909) zwischen der begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) und der Isointensitätslinie (449) gibt und die Abweichung Δy kleiner ist als 0.5% der Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909).
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–13, dadurch gekennzeichnet, dass die begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) einen mittleren Winkel zu einer Isointensitätslinie (449) im Blendenbereich (871) aufweist, der kleiner ist als 10.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–14, dadurch gekennzeichnet, dass die begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius einer Isointensitätslinie (449) im Blendenbereich (871) um weniger als 0.5% unterscheidet.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleuchtung in der Ebene, in der Komponente angeordnet ist, eine Berandungskurve (451) aufweist und es eine Abweichung Δy in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909) zwischen der begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) und der Berandungskurve (451) gibt und die Abweichung Δy kleiner ist als 0.5% der Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909).
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleuchtung in der Ebene, in der Komponente angeordnet ist, eine Berandungskurve (451) aufweist und die begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) einen mittleren Winkel zur Berandungskurve (451, 951, 1051) im Blendenbereich (871) aufweist, der kleiner ist als 1°.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 oder 16–17, dadurch gekennzeichnet, dass die begrenzende Blendenkante Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius der Berandungskurve (451, 951, 1051) im Blendenbereich (871) um weniger als 0.5% unterscheidet.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleuchtung in der Ebene, in der Komponente angeordnet ist, eine Isodosislinie (667) aufweist und es eine Abweichung Δy in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909) zwischen der begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) und der Isodosislinie (667) gibt und die Abweichung Δy kleiner ist als 0.5% der Ausdehnung der Ausleuchtung in Scanrichtung (9, 209, 409, 509, 609, 709, 809, 909).
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausleuchtung in der Ebene, in der Komponente angeordnet ist, eine Isodosislinie (667) aufweist und die begrenzende Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) einen mittleren Winkel zur Isodosislinie (667) im Blendenbereich (871) aufweist, der kleiner ist als 10.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–12 oder 19–20, dadurch gekennzeichnet, dass die begrenzende Blendenkante Blendenkante (879, 979, 1079, 1179) eine mittlere Krümmung aufweist, deren Krümmungsradius sich vom mittleren Krümmungsradius der Isodosislinie (667) im Blendenbereich (871) um weniger als 0.5% unterscheidet.
Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 7–21, dadurch gekennzeichnet, dass das Beleuchtungssystem eine Einrichtung (887) zur Messung der scanintegrierten Beleuchtungsenergie in Objektebene umfasst, die ein Messsignal zur Verfügung stellt.
Beleuchtungssystem nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Beleuchtungssystem ein Regeleinheit (885) zur Einstellung der Komponente beruhend auf dem Messsignal umfasst, wobei die Einstellung aus der Positionsänderung von Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133), der Veränderung von begrenzenden Blendenkanten (879, 979, 1079, 1179) und/oder dem Austausch von Blenden (233, 463, 465, 833, 933, 1033, 1133) besteht.
Projektionsbelichtungsanlage (1) umfassend ein Beleuchtungssystem (3) nach einem der Ansprüche 7–23.
Verfahren zur Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen unter Einsatz eine Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 24.