Es
ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung sowie ein Verfahren
der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, daß damit
durch irreversible Effekte hervorgerufene Abbildungsfehler in Projektionsobjektiven
besonders wirksam verringert werden können.
Bei
einer Projektionsbelichtungsanlage der eingangs genannten Art wird
diese Aufgabe dadurch gelöst,
daß durch
ein Korrekturelement der Korrektureinrichtung in einem Korrekturmodus
der Projektionsbelichtungsanlage Projektionslicht auf einen Korrekturbereich
auf der optischen Komponente richtbar ist, der in einem Projektionsmodus
nicht oder nur zu einem geringen Teil dem Projektionslicht ausgesetzt ist
und sich an einen Projektionsbereich auf der optischen Komponente,
der in dem Projektionsmodus dem Projektionslicht ausgesetzt ist,
unmittelbar anschließt.
Bei
einem Verfahren der eingangs genannten Art wird diese Aufgabe dadurch
gelöst,
daß ein Korrekturelement
einer Korrektureinrichtung in einem Korrekturmodus der Projektionsbelichtungsanlage Projektionslicht
auf einen Korrekturbereich auf der optischen Komponente richtet,
der in einem Projektionsmodus nicht oder nur zu einem geringen Teil
dem Projektionslicht ausgesetzt ist und sich an einen Projektionsbereich
auf der optischen Komponente, der in dem Projektionsmodus dem Projektionslicht
ausgesetzt ist, unmittelbar anschließt.
Die
Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß irreversible lichtinduzierte
Effekte wie etwa die "Compaction" ihre größte Störwirkung
dort entfalten, wo sich die damit zusammenhängenden Materialeigenschaften
am stärksten ändern. Da
das Projektionslicht viele optische Komponenten scharf begrenzt durchtritt, ändern sich
die Materialeigenschaften dort, wo das Material den Randbereichen
des Lichtbündels
ausgesetzt ist, sehr abrupt, denn dort hat die Lichtintensität ihren
größten Gradienten.
Durch diese sehr inhomogene Verteilung der Materialeigenschaften
innerhalb der optischen Komponenten ist es nachträglich kaum
möglich,
durch herkömmliche
Korrektur- oder Kompensationsmaßnahmen
wie etwa der Nachbearbeitung von Linsenoberflächen oder durch Einfügen optischer
Korrekturkomponenten Abhilfe zu schaffen.
Die
vorliegende Erfindung setzt nun genau an diesem Punkt an, indem
durch zwischenzeitliches Bestrahlen eines unmittelbar an den Projektionsbereich
angrenzenden Korrekturbereichs mit Projektionslicht auch dort die
Materialeigenschaften verändert
werden. Auf diese Weise verringert sich der Gradient der Materialeigenschaften
und kann außerdem weiter
zu den achsenfernen Bereichen der optischen Komponente verlegt werden,
so daß er
sich auf die Abbildungseigenschaften der Komponente weniger auswirkt.
Auch wenn durch diese Maßnahme
die irreversiblen lichtinduzierten Effekte natürlich nicht eliminiert werden
können,
so erlaubt es die dadurch erzielbare Homogenisierung den Materialeigenschaften
dennoch, die Lebensdauer der optischen Komponenten erheblich zu
verlängern.
Außerdem
ist es aufgrund der homogeneren Materialeigenschaften nun viel leichter
möglich,
degradierte optische Komponenten mit an sich bekannten Mitteln zu
korrigieren.
Die
Erfindung ist auch bei der lichtinduzierten irreversiblen Degradation
von Antireflexschichten verwendbar, die auf die Oberfläche der
optischen Komponenten aufgebracht sind und in diesem Zusammenhang
als deren Bestandteil angesehen werden. Hier hat sich überraschenderweise
gezeigt, daß sich
das Projektionslicht zwar nicht auf die Antireflexwirkung, jedoch
auf andere optische Eigenschaften dieser Schichten ungünstig auswirkt.
Auch hier ist die Beeinträchtigung
der Abbildungseigenschaften dort am stärksten, wo die Schichten bei
der Projektionsbelichtung dem stärksten
Intensitätsgradienten
ausgesetzt sind.
Da
erfindungsgemäß der dem
Projektionslicht ausgesetzte Korrekturbereich bis unmittelbar an den
Projektionsbereich heranreicht, der im Projektionsmodus Projektionslicht
ausgesetzt ist, kann die Korrektureinrichtung nur dann eingesetzt
werden, wenn keine Projektionsbelichtung stattfindet. Ansonsten
würde das
zur Korrektur verwendete Projektionslicht die Projektion stören. Wie
häufig
die Projektionsbelichtungsanlage im Korrekturmodus betrieben wird,
hängt insbesondere
davon ab, wie stark die Effekte sind, deren Wirkung durch die Homogenisierung
abgeschwächt
werden soll. Bei schwachen Effekten kann es ausreichend sein, nur
in größeren Zeitabständen in
den Korrekturmodus überzuwechseln,
beispielsweise beim Wechsel des Retikels. Bei stärkeren Effekten hingegen kann
es vorzuziehen sein, während
jeder Belichtungspause beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage,
die länger
als eine vorgebbare Zeitspanne ist, in den Korrekturmodus zu wechseln.
Um
bei dem Wechsel von dem Projektionsmodus in den Korrekturmodus das
von der Lichtquelle erzeugte Projektionslicht auf den Projektionsbereich
zu lenken, ist vorzugsweise das Korrekturelement in den Strahlengang
des Projektionslichts zwischen der Lichtquelle und der optischen
Komponente einführbar.
Auf diese Weise lassen sich die Abmessungen des Korrekturbereichs
erheblich einfacher festlegen, als dies bei anderen Maßnahmen
zum Ablenken des Projektionslichts, zum Beispiel durch Umlenkung
des Projektionslichts über
verstellbare Spiegel-, möglich
wäre.
Prinzipiell
kann bei dieser Ausgestaltung der Erfindung das Korrekturelement
an unterschiedlichen Orten innerhalb des Strahlengangs des Projektionslichts
zwischen der Lichtquelle und der optischen Komponente einführbar sein.
Als
Korrekturelement in Betracht kommt beispielsweise ein meist ohnehin
vorhandenes, in einer Pupillenebene angeordnetes Filter, das zur
Einstellung der Raumwinkelverteilung des Projektionslichts in der
Objektebene vorgesehen ist und beispielsweise als Loch- oder Ringblende
ausgeführt
sein kann.
Bei
einer anderen vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist das
Korrekturelement beim Wechsel von dem Projektionsmodus in den Korrekturmodus
gegen das Retikel austauschbar. Ein derartiges Korrekturelement
lässt sich
auch bei bereits vorhandenen Projektionsbelichtungsanlagen nachrüsten, da
das Korrekturelement bei Bedarf einfach anstelle des Retikels in
den Strahlengang eingeführt wird.
Hierbei wird die Tatsache ausgenutzt, daß sich der Korrekturmodus und
der Projektionsmodus zeitlich nicht überschneiden.
Das
zum Ablenken des Projektionslichts im Korrekturmodus verwendete
Korrekturelement kann beispielsweise zumindest ein refraktives optisches Element
enthalten, das so ausgeführt
sein kann, daß es
im Korrekturmodus die dem Projektionslicht ausgesetzte Fläche auf
der optischen Komponente gegenüber
der entsprechenden Fläche
im Projektionsmodus vergrößert. Vorzugsweise
geschieht dies dadurch, daß das
Korrekturelement den maximalen Beleuchtungswinkel hindurchtretenden
Projektionslichts vergrößert.
Realisiert
werden kann ein derartiges Korrekturelement etwa durch einen Keil,
insbesondere einen Doppelkeil, oder eine negative Zylinderlinse. Diese
Korrekturelemente sind besonders für Projektionsbelichtungsanlagen
mit schlitzförmiger
Projektionsblende geeignet. Bei dem Korrekturelement kann es sich
aber auch um ein Phasengitter handeln, das gegenüber refraktiven Korrekturelementen
den Vorteil einer sehr geringen Bauhöhe aufweist. Möglich ist auch
eine Kombination unterschiedlicher Korrekturelemente.
Eine
solche Kombination ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die verwendeten
Korrekturelemente das Projektionslicht nur in einer Raumrichtung aufweiten,
wie dies beispielsweise bei einem Doppelkeil der Fall ist. Eine
Aufweitung des Projektionslichts in beiden Raumrichtungen lässt sich
dann beispielsweise durch eine Kombination zweier solcher um 90 Grad
zueinander verdrehter Korrekturelemente erzielen. Es ist jedoch
auch möglich,
lediglich ein derartiges Korrekturelement zu verwenden und die Aufweitung
in der anderen Raumrichtung mit Hilfe des bereits erwähnten Transmissionsfilters
zu erzielen, das ohnehin zur Einstellung der Raumwinkelverteilung
des Projektionslichts vorhanden ist.
Zum
Einführen
des Korrekturelements in den Strahlengang wird vorzugsweise eine
Verfahreinrichtung verwendet, die gleichzeitig auch zum Transport eines
anderen Objekts vorgesehen sein kann. Falls die Korrektureinrichtung
in der Objektebene angeordnet sein soll, kann es sich hierbei insbesondere um
die Verfahreinrichtung für
das Retikel handeln. Denkbar sind aber auch Verfahreinrichtungen
für Transmissionsfilter,
die in den Strahlengang bei Bedarf eingeführt werden können.
Weitere
Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden
Beschreibung eines Ausführungsbeispiels
anhand der Zeichnung. Darin zeigen:
1:
eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage
mit einer Korrektureinrichtung in geschnittener, stark vereinfachter
und nicht maßstäblicher
Darstellung in einem Projektionsmodus;
2:
die Intensitätsverteilung
des von einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage aus 1 erzeugten
Projektionslichts an der Oberseite einer Eingangslinse des Projektionsobjektivs
in einer dreidimensionalen Darstellung;
3:
einen Ausschnitt aus der Projektionsbelichtungsanlage aus 1,
dargestellt in einem Korrekturmodus;
4:
eine von Projektionslicht bestrahlte Fläche auf der Oberseite der Eingangslinse
des Projektionsobjektivs im Korrekturmodus und im Projektionsmodus;
5:
eine nicht maßstäbliche Seitenansicht
eines als Korrekturelement verwendeten Doppelkeils;
6:
eine nicht maßstäbliche Seitenansicht
einer als Korrekturelement verwendeten Zylinderlinse;
7:
eine nicht maßstäbliche Seitenansicht
einer als Korrekturelement verwendeten Mikrolinsenanordnung;
8:
eine nicht maßstäbliche Seitenansicht
eines als Korrekturelement verwendeten Phasengitters;
9:
die sich bei Verwendung eines Doppelkeils als Korrekturelement ergebende
Intensitätsverteilung
an der Oberseite der Eingangslinse des Projektionsobjektivs in einer
dreidimensionalen Darstellung;
10:
die sich bei Verwendung einer Mikrolinsenanordnung als Korrekturelement
ergebende Intensitäts verteilung
an der Oberseite der Eingangslinse des Projektionsobjektivs in einer
dreidimensionalen Darstellung;
11a und 11b:
Schnitte durch die in den 2, 9 und 10 dargestellten
Intensitätsverteilungen
in Längs-
bzw. Querrichtung.
In 1 ist
eine Projektionsbelichtungsanlage in einer vereinfachten, nicht
maßstäblichen Schnittdarstellung
gezeigt und insgesamt mit 10 bezeichnet. Die Projektionsbelichtungsanlage 10 ist
zur mikrolithographischen Herstellung hochintegrierter elektrischer
Schaltkreise vorgesehen und weist eine nur schematisch angedeutete
Lichtquelle 12 auf, bei der es sich beispielsweise um einen
Argon-Fluorid-Excimer-Laser handeln kann. Zwischen der Lichtquelle 12 und
einer Objektebene 13 ist eine ebenfalls nur schematisch
angedeutete Beleuchtungsoptik 14 angeordnet, die von der
Lichtquelle 12 erzeugtes Projektionslicht 18 derart
aufweitet, daß ein
Projektionsbereich der Objektebene 13 möglichst gleichmäßig ausgeleuchtet
wird. Bei dem in 1 dargestellten Projektionsmodus
der Projektionsbelichtungsanlage 10 befindet sich in der
Objektebene 13 ein Retikel 16, das in an sich
bekannter und deswegen in 1 nicht
näher dargestellter
Weise in der mit einem Pfeil 17 angedeuteten Richtung aus
dem Strahlengang des Projektionslichtes herausgefahren werden kann,
um es auf diese Weise gegen ein anderes Retikel auszutauschen.
Das
von der Beleuchtungsoptik 14 aufgeweitete Projektionslicht 18,
das in 1 nur mit zwei parallelen Strahlen angedeutet
ist, gelangt von der Objektebene 13 in ein insgesamt mit 22 bezeichnetes katadioptrisches
Pro jektionsobjektiv, d. h. ein Objektiv, das sowohl refraktive als
auch reflektive optische Komponenten enthält.
Die
in einem Gehäuse 24 des
Projektionsobjektivs 22 enthaltenen optischen Komponenten
sind in 1 nur unvollständig und
vereinfacht wiedergegeben. Beispielhaft sind dabei ein Strahlteilerwürfel 28,
zwei im Strahlengang zwischen dem Strahlteilerwürfel 28 und einem
Abbildungsspiegel 30 angeordnete stehende Linsen 32 und 34 und
ein Umlenkspiegel 36 dargestellt, der das von dem Abbildungsspiegel 30 reflektierte
Licht auf einen mit liegenden Linsen 38, 40 und 42 angedeuteten
refraktiven Teil des katadioptrischen Projektionsobjektivs 22 wirft.
Von dort aus gelangt das Projektionslicht auf einen in der Bildebene
des Projektionsobjektivs 22 angeordneten Wafer 44.
Eingangsseitig
weist das Projektionsobjektiv 22 eine Eingangsoptik auf,
von der lediglich die erste Linse dargestellt und mit 26 bezeichnet
ist.
2 zeigt
die Intensitätsverteilung
des Projektionslichts 18, wie sie von der Beleuchtungsoptik 14 im
Zusammenwirken mit einer schlitzförmigen Blende 15 an
der Oberfläche
der Eingangslinse 26 erzeugt wird, wenn kein Retikel 16 in
der Objektebene 13 angeordnet ist. Im Projektionsmodus
der Projektionsbelichtungsanlage 10, d. h. bei im Strahlengang
des Projektionslichts angeordnetem Retikel 16, wird diese
Intensitätsverteilung
durch das Retikel 16 der Maskengeometrie entsprechend abgeändert, wobei
jedoch die Einhüllende
der resultierenden Verteilung im wesentlichen erhalten bleibt.
In 2 ist
erkennbar, daß sich
die Intensitätsver verteilung
aufgrund der schlitzförmigen
Projektionsblende 15 auf der Oberseite der Eingangslinse 26 annähernd als
Rechteckfunktion beschreiben läßt. Die
Intensitätsverteilung
weist einen zentralen Bereich 50 auf, in dem die Intensität des Projektionslichts 18 weitgehend
konstant ist.
Der
Bereich 50 der Intensitätsverteilung
wird in den beiden Raumrichtungen X und Y durch jeweils zwei Längs- und Querflanken 52 bzw. 54 begrenzt.
In diesem Bereich sinkt die Intensität des Projektionslichts 18 stark
ab, so daß hier
der größte Intensitätsgradient
auftritt. Die endliche Steilheit dieser Flanken wird durch Beugungserscheinungen
an der Projektionsblende 15 hervorgerufen.
Wenn
ein Lichtbündel
mit der in 2 gezeigten Intensitätsverteilung
die Eingangslinse 26 durchsetzt, ruft das Projektionslicht
in dieser und ggfs. auch nachfolgenden optischen Komponenten Materialveränderungen
hervor, die teils reversibel, teils irreversibel sind.
Zu
den reversiblen Materialveränderungen zählt in der
Regel insbesondere die Ausdehnung aufgrund der Wärme, die in der Eingangslinse 26 infolge von
Absorption des Projektionslichts 18 entsteht. Da die wärme – wenn auch
aufgrund der geringen Wärmeleitfähigkeit
nur langsam – zu
den Rändern
der Eingangslinse 26 abtransportiert wird, stellt sich
eine Temperaturverteilung in der Eingangslinse 26 ein,
die wesentlich flachere Flanken als die Intensitätsverteilung gemäß der 2 aufweist.
Dementsprechend verändern
sich die optischen Eigenschaften aufgrund der Wärmeausdehnung relativ kontinuierlich über die Eingangslinse 26 hinweg.
Irreversible
Materialveränderungen
wie etwa das "Compaction" oder "Rarefaction" rühren direkt von
der Wechsel wirkung der Projektionslichts mit dem Material her. Daher
können
diese Auswirkungen auch nicht "zerfließen", sondern sind sehr
weitgehend auf den Bereich der Eingangslinse 26 beschränkt, der
der Intensitätsverteilung
nach Figur 2 aufgesetzt ist. Es versteht sich, daß diese
Intensitätsverteilung
sich über
die Ausdehnung der Eingangslinse 26 in axialer Richtung
hinweg aufgrund der Abbildungseigenschaften der Linse verändert.
Irreversible
Degradationen der Eingangslinse 26 lassen sich dort mit
an sich bekannten Mitteln korrigieren, wo das Projektionslicht 18 mit
weitgehend konstanter Intensität
durch die Linse hindurchtritt. Dies trifft für den zentralen Bereich der
Eingangslinse 26 zu, der räumlich dem Bereich 50 der Intensitätsverteilung
gemäß 2 ausgesetzt
ist. Dort jedoch, wo sich die Intensität stark ändert, d. h. im Bereich der
Längs-
und Querflanken 52 bzw. 54, kommt es zu irreversiblen
Materialveränderungen
in der Eingangslinse 26, die sich aufgrund ihrer räumlichen
Begrenzung entlang eines Randbereichs 56 (siehe 1)
erstrecken. In diesen Bereichen ändert sich
die Materialeigenschaft abrupt, so daß eine konventionelle Korrektur
der hierdurch verursachten Abbildungsfehler praktisch unmöglich ist.
Um
diesen Randbereich 56 räumlich
zum Rand der Eingangslinse 26 hin auszudehnen bzw. zu verschieben,
weist die Projektionsbelichtungsanlage 10 ein Korrekturelement 60 auf,
das anstelle des Retikels 16 in einem Korrekturmodus der
Projektionsbelichtungsanlage 10 in den Strahlengang des
Projektionslichts eingebracht werden kann.
3 zeigt
die oberen Teile der Projektionsbelichtungsanlage 10 in
diesem Korrekturmodus. Das Korrekturelement 60 bewirkt,
daß sich
der maximale Beleuchtungs winkel des Projektionslichts vergrößert, so
daß nunmehr
ein größerer Bereich
der Eingangslinse 26 von Projektionslicht durchsetzt wird.
Aufgrund der von dem Korrekturelement 60 erzeugten Strahlaufweitung
verlaufen die Randstrahlen des Projektionslichts 18 nunmehr
näher am
Rand der Eingangslinse 26. Dadurch wird in dem Korrekturmodus
auch der Übergangsbereich 56' nach außen hin verbreitert.
4 zeigt
die von Projektionslicht 18 bestrahlte Fläche auf
der der Beleuchtungsoptik 14 zugewandten Oberseite der
Eingangslinse 26 im Projektionsmodus und im Korrekturmodus.
Der Projektionsbereich 62 entspricht dabei der Fläche, die
in dem in 1 dargestellten Projektionsmodus
von Projektionslicht 18 durchsetzt wird. In dem in 3 gezeigten
Korrekturmodus vergrößert sich
die bestrahlte Fläche
aufgrund der Aufweitung der Beleuchtungswinkelverteilung, so daß zusätzlich zum
Projektionsbereich 62 auch ein sich unmittelbar daran anschließender Korrekturbereich 64 beleuchtet
wird.
Da
es zum Zwecke der Homogenisierung der Materialeigenschaften nur
auf diesen zusätzlichen Korrekturbereich 64 ankommt,
kann das Korrekturelement 60 auch derart beschaffen sein,
daß im
Korrekturmodus Licht nur oder ganz überwiegend auf diesen Korrekturbereich 64 gelenkt
wird.
Das
den Korrekturbereich 64 durchtretende Projektionslicht 18 ruft
dort an der Oberfläche
und auch in den darunter liegenden Bereichen der Eingangslinse 26 Materialveränderungen
hervor, die ebenfalls irreversibel sind. Da sich der Korrekturbereich 64 unmittelbar
an den Projektionsbereich 62 anschließt, ändern sich nun die Materialeigenschaften lokal
weniger abrupt, da sich, wenn man über die Belichtung im Projektionsmodus
und im Korrekturmodus mittelt, für
das Projektionslicht ein breiterer Intensitätsverlauf mit flacheren Flanken
als der in 2 dargestellte ergibt.
Es
versteht sich, daß die
vorstehend für
die Eingangslinse 26 angestellten Überlegungen auch für alle weiteren
optischen Komponenten des Projektionsobjektivs 22 entsprechend
gelten. Da durch jede weitere optische Komponente sich jedoch die
Intensitätsverteilung ändert, variieren
auch die Breite und die Anordnung des Korrekturbereichs 64 entsprechend.
Dabei kann es u. U. auch vorkommen, daß bei einzelnen optischen Komponenten
der Korrekturbereich verschwindet oder das Projektionslicht im Korrekturmodus
die entsprechende Komponente sogar auf einer geringeren Fläche durchsetzt
als im Projektionsmodus. Um bei allen optischen Komponenten eine
Homogenisierung der optischen Eigenschaften im Randbereich zu erzielen,
muß das
Korrekturelement 60 derart ausgelegt sein, daß die dadurch
hervorgerufene Aufweitung des Beleuchtungswinkels durch das dazwischen
liegende Abbildungssystem auf die betreffende optische Komponente übertragen
wird.
Die 5 bis 7 zeigen
mögliche
Realisierungen von Korrekturelementen 60, wie sie insbesondere
bei schlitzförmigen
Projektionsblenden 15 vorteilhaft eingesetzt werden können. Bei
den Korrekturelementen handelt es sich im einzelnen in 5 um
einen Doppelkeil 66, in 6 um eine plan-konkave
Zylinderlinse 68, in 7 um eine
Mikrolinsenanordnung und in 8 um ein
optisches Phasengitter 72. Die Aufweitung der Winkelverteilung
des Projektionsstrahles ist jeweils durch Randstrahlen des Projektionslichts
angedeutet.
Die 9 und 10 zeigen
Intensitätsverteilungen,
wie sie an der Oberfläche
der Eingangslinse 26 bei Ver wendung eines Doppelkeils 66 bzw.
eines refraktiven optischen Elements 70 als Korrekturelement
erzielt werden können.
Im Vergleich zu der Intensitätsverteilung
ohne Korrekturelement 60 nach 2 ist dabei
deutlich zu erkennen, daß in
beiden Fällen
die Winkelverteilung des Projektionslichts 18 derart auf
geweitet wird, daß es
nunmehr auch die weiter zum Rand liegenden Bereiche der Eingangslinse 26 erreicht.
Mit Hilfe der Mikrolinsenanordnung 70 läßt sich außerdem, wie dies in 10 gut
zu erkennen ist, im Korrekturmodus eine Verringerung der Flankensteilheit
und damit des Intensitätsgradienten erzielen.
Die entlang der Symmetrieachse des Doppelkeils 66 liegende
Verringerung der Intensität,
die in 9 mit 74 bezeichnet ist, ist für die Homogenisierung
der Materialeigenschaften weitgehend ohne Bedeutung, da es insoweit
vor allem darauf ankommt, daß der
Doppelkeil 66 Licht auf Bereiche der Eingangslinse 26 lenkt,
die im Projektionsmodus keinem Projektionslicht ausgesetzt sind.
Die 11a und 11b zeigen
die Intensitätsverteilungen
an der Oberseite der Eingangslinse 26 in X-Richtung und
Y-Richtung für
den Doppelkeil 66 (punktiert), die Mikrolinsenanordnung 70 (strichpunktiert)
und ohne jegliche Korrektureinrichtung 60 (durchgezogen).
Den in den 11a und 11b dargestellten
Intensitätsverteilungen
entsprechen somit vertikale Schnitte in X- und Y-Richtung durch
die in den 2, 9 und 10 jeweils
dreidimensional dargestellten Intensitätsverteilungen. Auch hier ist
zu erkennnen, daß es
aufgrund der Korrekturelemente zu Aufweitungen der Winkelverteilung
des Projektionsstrahles kommt.
Zum Übergang
von dem Projektionsmodus in den Korrekturmodus ist lediglich ein
in der Objektebene 13 angeordnetes Retikel 16 gegen
das Korrekturelement 60 auszutauschen.
Hierfür kann beispielsweise
eine ohnehin für das
Auswechseln von Retikeln vorgesehene Verfahreinrichtung verwendet
werden, die, da an sich bekannt, in den 1 und 3 mit 76 lediglich
angedeutet ist. Ansonsten ist die Projektionsbelichtungsanlage 10 nicht
zu modifizieren. Dies ermöglicht
es, eine Belichtung der Korrekturbereiche 64 schnell und mit
geringem Aufwand durchzuführen,
so daß ein Umschalten
in den Korrekturmodus auch in den ohnehin erforderlichen Belichtungspausen
zwischen zwei Belichtungen möglich
ist.
Bei
einem in der Zeichnung nicht dargestellten Ausführungsbeispiel wird das Korrekturelement nicht
in der Objektebene sondern oberhalb oder unterhalb von dieser oder
in der Nähe
einer sonstigen Feldebene der Beleuchtungsoptik in den Projektionsstrahlengang
eingeführt.
In diesem Falle braucht also das Retikel im Korrekturmodus nicht
ausgefahren zu werden.