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Die
Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung für eine
mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, und zwar insbesondere
eine Beleuchtungseinrichtung, die eine Lichtquelle zur Erzeugung
von Projektionslicht, eine Maskierungseinrichtung zur Maskierung
eines Retikels, ein Maskierungsobjektiv zur Abbildung der Maskierungseinrichtung
auf das Retikel und einen Polarisator enthält. Die Erfindung
betrifft ferner eine für eine solche Beleuchtungseinrichtung
geeignete Blende.
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Die
Leistungsfähigkeit von Projektionsbelichtungsanlagen für
die mikrolithographische Herstellung von Halbleiterbauelementen
und anderen fein strukturierten Bauteilen wird wesentlich durch
die Abbildungseigenschaften der Projektionsobjektive bestimmt. Darüber
hinaus werden die Bildqualität und der mit der Anlage erzielbare
Wafer-Durchsatz wesentlich durch Eigenschaften des dem Projektionsobjektiv
vorgeschalteten Beleuchtungssystems mitbestimmt. Dieses muss in
der Lage sein, das Licht einer primären Lichtquelle, beispielsweise
eines Lasers, mit möglichst hohem Wirkungsgrad zu präparieren und
dabei in einem Beleuchtungsfeld des Beleuchtungssystems eine möglichst
gleichmäßige Intensitätsverteilung zu
erzeugen.
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Ein
hoher Grad von Gleichmäßigkeit bzw. Homogenität
kann durch Mischung des von der Lichtquelle kommenden Lichtes mit
Hilfe einer Lichtmischeinrichtung erreicht werden. Bei Lichtmischeinrichtungen
unterscheidet man im wesentlichen zwischen Lichtmischeinrichtungen
mit Wabenkondensoren und Lichtmischeinrichtungen mit Integratorstäben bzw.
Lichtmischstäben.
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Zudem
soll es möglich sein, am Beleuchtungssystem verschiedene
Beleuchtungsmodi einzustellen, um beispielsweise die Beleuchtung
entsprechend der Strukturen der einzelnen abzubildenden Vorlagen
(Masken, Retikel) zu optimieren. Zur Einstellung der Beleuchtungsmodi
bzw. Beleuchtungssettings sind Pupillenformungseinheiten vorgesehen, die
eine vorgebbare Lichtverteilung in einer Pupillenebene erzeugen
können.
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Bei
Beleuchtungssystemen, die zur Einstellung unterschiedlicher Beleuchtungsmodi
mit auswechselbaren optischen Elementen (z. B. diffraktiven optischen
Elementen oder Raumfiltern) arbeiten, ist die Anzahl unterschiedlicher
Beleuchtungssettings durch die Anzahl der unterschiedlichen einwechselbaren
Elemente begrenzt. Sollen Beleuchtungssettings an solchen Systemen
zum Beispiel für experimentelle Zwecke ohne Austausch der
vorhandenen Elemente korrigierbar sein, müssen auswechselbaren
optischen Elementen zusätzlich zur Verfügung gestellt
werden, deren Herstellung aufwändig ist und mit erheblichen
Kosten verbunden sein kann. Zudem ist der Spielraum im Beleuchtungssystem
für den Einbau solcher Elemente begrenzt.
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Aufgabe
der Erfindung ist es deswegen, ein Beleuchtungssystem der eingangs
genannten Art anzugeben, mit der sich auf einfache Weise Beleuchtungssettings
korrigieren lassen.
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Gelöst
wird diese Aufgabe bei einem solchen Beleuchtungssystem dadurch,
dass eine Blende in dem Maskierungsobjektiv, und zwar beispielsweise
in einer Pupillenebene des Maskierungsobjektivs oder in der Nähe
einer solchen, angeordnet ist, wobei die Oberfläche der
Blende in Richtung der optischen Achse gewölbt ist.
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Gelöst
wird diese Aufgabe durch eine Beleuchtungseinrichtung für
eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einer
Lichtquelle zur Erzeugung von Projektionslicht, einer Maskierungseinrichtung
zur Maskierung eines Retikels, einem Maskierungsobjektiv zur Abbildung
der Maskierungseinrichtung auf das Retikel (R) und einer Pupillenformungseinheit
zum Empfang von Licht der zugeordneten Lichtquelle und zur Erzeugung
einer vorgebbaren Basislichtverteilung in einer Pupillenebene des
Beleuchtungssystems,
wobei eine Blende in dem Maskierungsobjektiv
angeordnet und die Oberfläche der Blende in Richtung der Lichtausbreitung
gewölbt ist.
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Da
das Maskierungsobjektiv üblicherweise nicht vollständig
korrigiert ist, zeigt sich in der Pupillenebene eine sogenannte
Bildfeldwölbung. Dabei wird ein Bild nicht auf einer Ebene,
sondern auf einer gewölbten Fläche erzeugt. Die
Position des Strahlenschnittpunkts längs der optischen
Achse ist dann von der Bildhöhe abhängig, das
bedeutet, je weiter Objekt- und damit Bildpunkt von der Achse entfernt
sind, umso mehr ist der Bildpunkt in Achsrichtung verschoben. Die
Ausführungen sind hierbei auf die Abbildung der Pupillenebenen
aufeinander bzw. die Abbildung der dort vorliegenden Intensitätsverteilungen
zu beziehen.
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Die
Bildfeldwölbung führt bei Einsatz einer planen
Blende zu Störungen des erwünschten Beleuchtungssettings.
Als Ergebnis variiert das Beleuchtungssetting über das
Objektfeld. Dadurch, dass die Oberfläche der Blende in
Richtung der Lichtausbreitung gewölbt ist, werden diese
Störungen verringert oder vermieden.
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In
einer Ausführungsform ist die Blende in der Pupillenebene
angeordnet.
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Mit
einer erfindungsgemäßen Blende kann ein vorgegebenes
Beleuchtungssetting korrigiert werden.
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Die
Pupillenformungseinheit kann z. B. zur Erzeugung von konventioneller
Beleuchtung mit unterschiedlichem Kohärenzgrad, von Ringfeldbeleuchtung
sowie von Dipol- oder Quadrupolbeleuchtung in einer Pupillenebene
des Beleuchtungssystems ausgelegt sein. Die von der Pupillenformungseinheit
erzeugte Basislichtverteilung kann für eine vorgegebene,
abzubildende Struktur auf dem Beleuchtungsfeld weiter optimiert
werden, indem die Basislichtverteilung mit Hilfe der Blende lokal
geringfügig korrigiert wird. Die Blende kann hierzu Teile
der Basislichtverteilung ausblenden, die für die Abbildung
der vorgegebenen Struktur nicht benötigt werden um ausgehend
von der Basislichtverteilung eine gewünschte Verteilung
exakt einzustellen.
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In
einer weiteren Ausführungsform weist die Blende eine oder
mehrere Blendenöffnungen in der Blendenoberfläche
auf. Damit kann gezielt ein Teil der Basislichtverteilung in verschiedenen
Bereichen der Blendenoberfläche durchgelassen werden. Neben
der Formänderung des Beleuchtungssettings kann auch Streu-
oder Falschlicht unterdrückt werden.
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Eine
Ausführungsform der Blende weist zwei oder mehr zueinander
punktsymmetrisch angeordnete Blendenöffnungen auf. Damit
kann gezielt die Größe der Dipole oder Quadrupole
einer Dipol- oder Quadrupolbeleuchtung beschnitten werden.
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Die
Blende kann weiterhin auswechselbar gestaltet sein, um so verschiedene
Ausblendungen der Basislichtverteilung zu ermöglichen.
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In
einer weiteren Ausführungsform ist die Blende drehbar gelagert.
Damit können die Blendenöffnungen an Drehungen
der Basislichtverteilung einfach angepasst werden.
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In
einer weiteren Ausführungsform mit einem oder mehreren
Graufiltern aus semitransparentem Material beispielsweise in den
Blendenöffnungen statt einfachen Öffnungen können
auch Intensitätsanpassungen vorgenommen werden.
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In
einer Ausführungsform umfasst die Pupillenformungseinheit
mindestens ein diffraktives optisches Element. Das diffraktive optische
Element ist für gewöhnlich in einer Feldebene
des Beleuchtungssystems positioniert und erzeugt dort eine Winkelverteilung
des Beleuchtungslichts, die bei der Übertragung auf eine
nachfolgende Pupillenebene eine Ortsverteilung der Intensität
erzeugt.
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In
einer Ausführungsform umfasst die Pupillenformungseinheit
ein Axikon-System. Mit verstellbaren Axikons können außeraxiale
Beleuchtungseinstellungen (z. B. annulare Beleuchtung) ohne Lichtverlust
realisiert werden.
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In
einer Ausführungsform umfasst die Pupillenformungseinheit
eine Zoom-Einheit. Die Zoom-Einheit dient zur Maßstabs-Vergrößerung/Verkleinerung
der erzeugten Lichtverteilung. In Kombination mit dem Axikon und
dem diffraktiven optischen Element kann die Pupillenformungseinheit
eine Mehrzahl von Basislichtverteilungen praktisch ohne Lichtverlust
erzeugen. Die Pupillenformungseinheit kann z. B. so aufgebaut sein,
wie es in der
EP 0 747 772 der
Anmelderin beschrieben ist. Deren Inhalt wird durch Bezugnahme zum
Inhalt der Beschreibung gemacht.
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In
einer weiteren Ausführungsform ist hinter der Pupillenformungseinheit
eine Integratorstabanordnung mit mindestens einem Integratorstab
vorgesehen. Der Integratorstab dient zur Homogenisierung einer in
diesen eintretenden Lichtverteilung.
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In
einer weiteren Ausführungsform ist hinter der Pupillenformungseinheit
ein Wabenkondensor mit mindestens einer Rasteranordnung von Rasterelementen
angeordnet. Wabenkondensoren gängiger Bauart bestehen aus
einer in einer ersten Ebene positionierten Rasteranordnung und einer
in einer nachgeordneten zweiten, zur ersten konjugierten Ebene positionierten
Rasteranordnung. Der Transmissionsfilter kann z. B. in der Nähe
der ersten Rasteranordnung vor dieser positioniert sein.
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Bei
einer erfindungsgemäßen Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
umfasst diese mindestens ein oben beschriebenes Beleuchtungssystem.
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Ein
erfindungsgemäßes Verfahren zur Beleuchtung eines
Beleuchtungsfeldes welches insbesondere mit einem oben beschriebenen
Beleuchtungssystem durchgeführt werden kann, wird die Lichtverteilung
in einer Pupillenebene des Beleuchtungssystems an eine zu beleuchtende
Maskenstruktur angepasst, indem mit einer Pupillenformungseinheit
eine Basislichtverteilung in oder in der Nähe einer Pupillenebene
eingestellt wird wobei eine Blende in dem Maskierungsobjektiv angeordnet
und die Oberfläche der Blende in Richtung der Lichtausbreitung
gewölbt ist und wobei die Blende die Basislichtverteilung
in vorgebbarer Weise korrigiert.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHUNGEN
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Weitere
Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden
Beschreibung der Ausführungsbeispiele anhand der Zeichnung. Darin
zeigen:
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1:
eine schematische perspektivische Darstellung einer mikrolithographischen
Projektionsbelichtungsanlage;
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2:
eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen
Beleuchtungseinrichtung für die in der 1 gezeigte
Projektionsbelichtungsanlage mit einer Blende, die in einem Maskierungsobjektiv angeordnet
ist;
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3:
schematisch eine erfindungsgemäße Blende 10 mit
einer gewölbten Oberfläche 25.
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4:
Schema der gewölbten Blendenoberfläche 25
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5a eine
Ausführungsform der Blende 10 mit 2 Blendenöffnungen 40 in
der Blendenoberfläche 25
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5b eine
Ausführungsform der Blende 10 mit 4 Blendenöffnungen 40 in
der Blendenoberfläche 25
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6:
eine drehbare Blende 10
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7:
ein Beispiel einer drehbaren Blende 10 mit 4 Blendenöffnungen 40
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Die 1 zeigt
eine Projektionsbelichtungsanlage PEA in einer stark schematisierten
und nicht maßstäblichen Darstellung, die für
die Herstellung mikrostrukturierter Bauteile geeignet ist. Die Projektionsbelichtungsanlage
PEA umfaßt eine Beleuchtungseinrichtung IS zur Erzeugung
eines Projektionslichtbündels, mit dem auf einem Retikel
R, das zu projizierende Strukturen enthält, ein schmales,
in dem dargestellten Ausführungsbeispiel rechteckförmiges
Lichtfeld LF ausgeleuchtet wird. Die innerhalb des Lichtfeldes LF
liegenden Strukturen des Retikels R werden mit Hilfe eines Projektionsobjektivs
PL auf eine lichtempfindliche Schicht abgebildet, die auf einem
Wafer W aufgebracht ist und sich in der Bildebene des Projektionsobjektivs
PL befindet. Da das Projektionsobjektiv PL einen Abbildungsmaßstab
hat, der kleiner ist als 1, wird der Bereich LF auf dem Retikel
R verkleinert als Bereich LF' auf dem Wafer W abgebildet. Während
der Projektion werden das Retikel R und der Wafer W entlang einer
Y-Richtung verfahren. Das Verhältnis der Verfahrgeschwindigkeiten ist
dabei gleich dem Abbildungsmaßstab des Projektionsobjektivs
PL. Falls das Projektionsobjektiv PL eine Invertierung des Bildes
erzeugt, verlaufen die Verfahrbewegungen des Retikels R und des
Wafers W gegenläufig, wie dies in der 1 durch
Pfeile A1 und A2 angedeutet ist. Auf diese Weise wird das Lichtfeld
LF in einer Scanbewegung über das Retikel R geführt,
so daß auch größere strukturierte Gereicht zusammenhängend
auf den Wafer W projiziert werden können. Die Y-Richtung
wird deswegen im Folgenden auch als Scanrichtung bezeichnet.
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In
der
2 ist in einem vereinfachten und nicht maßstäblichen
Meridionalschnitt die in der
1 angedeutete
Beleuchtungseinrichtung IS gezeigt. Eine beispielsweise als Excimer-Laser
ausgeführte Lichtquelle
1 erzeugt monochromatisches
und stark kollimiertes Licht mit einer Wellenlänge im tiefen
ultravioletten Spektralbereich, z. B. 193 nm oder 157 nm. In einem
Strahlaufweiter
2, bei dem es sich z. B. um eine verstellbare
Spiegelanordnung handeln kann, wird das von der Lichtquelle
1 erzeugte
Licht zu einem rechteckigen und weitgehend parallelen Strahlenbüschel
aufgeweitet. Das aufgeweitete Strahlenbüschel durchtritt
anschließend ein erstes optisches Rasterelement RE1, bei
dem es sich z. B. um ein diffraktives optisches Element handeln
kann. Weitere Beispiele für geeignete Rasterelemente sind der
US 6 285 443 der Anmelderin
entnehmbar, deren Offenbarung hiermit vollumfänglich aufgenommen wird.
Das erste optische Rasterelement RE1 hat die Aufgabe, die Beleuchtungswinkelverteilung
des Projektionslichts zu verändern und den Lichtleitwert,
der häufig auch als geometrischer optischer Fluss bezeichnet
wird, zu erhöhen. Das erste optische Rasterelement RE1
ist in einer Objektebene OP eines Strahlumformobjektivs
3 angeordnet,
mit dem sich die Beleuchtungswinkelverteilung weiter modifizieren und
kontinuierlich verändern lässt. Das Strahlumformobjektiv
3 enthält
zu diesem Zweck eine Zoom-Gruppe
3a mit mindestens einer
verstellbaren Linse
3L und eine Axicon-Gruppe
3b.
Die Axicon-Gruppe
3b umfasst zwei Axicon-Elemente mit konischen
Flächen, deren Abstand veränderbar ist. Das optische
Rasterelement RE1 und das Strahlumformobjektiv
3 bilden
zusammen eine Pupillenformungseinheit (RE1,
3) zur Erzeugung
einer vorgebbaren Basislichtverteilung in einer Pupillenebene PP der
Beleuchtungseinrichtung. In der Pupillenebene PP, bei der es sich
um die Austrittspupille des Strahlumformobjektivs
3 handelt,
ist ein zweites optisches Rasterelement RE2 angeordnet. Das zweite
optische Rasterelement RE2 hat die Aufgabe, die Intensitätsverteilung
in einer nachfolgenden konjugierten Feldebene festlegen. Die Austrittsebene
des zweiten Rasterelements RE2 fällt damit mit der Pupillenebene
zusammen und wird im Weiteren als Objektebene der Pupillenabbildung
bezeichnet.
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In
Lichtausbreitungsrichtung hinter dem zweiten optischen Rasterelement
RE2 ist ein zweites Objektiv 4 angeordnet, in dessen Bildebene
IP eine an sich bekannte Maskierungseinrichtung 5 (sog. REMA-Blende)
ist. Die Maskierungseinrichtung 5 kann verstellbaren Schneiden
umfassen und legt die Formen des Bereichs fest, der auf dem Retikel
R von Projektionslicht durchsetzt werden. Um eine scharfe Umrandung
dieses Bereichs zu erzielen, ist ein hier als Maskierungsobjektiv
bezeichnetes drittes Objektiv 6 vorgesehen, in dessen Objektebene
die Schneiden der Maskeneinrichtung 5 angeordnet sind und
in dessen Bildebene das Retikel R mit Hilfe einer Verfahreinrichtung
eingeführt werden kann.
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Bei
Bedarf kann zwischen dem zweiten Objektiv
4 und der Maskierungseinrichtung
5 noch
ein Glasstab zur Strahlhomogenisierung eingefügt sein, wie
dies in der bereits erwähnten
US 6 285 443 beschrieben ist. Ebenso
kann hier ein Wabenkondensor mit mindestens einer Rasteranordnung
von Rasterelementen zur Strahlhomogenisierung angeordnet sein.
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In
einer mit 8 angedeuteten Pupillenebene des Maskierungsobjektivs 6 ist
eine Blende 10 eingeschoben. Die Blende 10 kann
auch in jeder anderen Pupillenebene des Maskierungsobjektivs 6 oder
in der Nähe einer Solchen angeordnet sein. Diese Blendenebene
bildet eine Zwischenbildebene der Pupillenabbildung, insbesondere
eine konjugierte Bildebene zur obengenannten Objektebene der Pupillenabbildung.
Um Linsen zu sparen, verzichtet man im Allgemeinen bei der Abbildung
der Objektebene der Pupillenabbildung PP in die Blendenebene 8 auf
die Korrektur der Bildebene, daher ist diese Blendenebene 8 nicht
plan, sondern entsprechend einer Bildfeldwölbung gewölbt.
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Verschiedene
Ausführungsbeispiele werden im Folgenden mit Bezug auf
die übrigen Figuren erläutert.
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3 zeigt
schematisch eine erfindungsgemäße Blende 10 mit
einer gewölbten Oberfläche 25. Die Blende 10 ist
in Richtung der Lichtausbreitung von Lichtquelle 1 gewölbt.
Mit Hilfe dieser Blende 10 wird die Basislichtverteilung
korrigiert. Die Pupillenformungseinheit (RE1, 3) kann z.
B. zur Erzeugung von konventioneller Beleuchtung mit unterschiedlichem
Kohärenzgrad, von Ringfeldbeleuchtung sowie von Dipol-
oder Quadrupolbeleuchtung in einer Pupillenebene des Beleuchtungssystems
ausgelegt sein. Eine solche Pupillenformungseinheit kann derart ausgelegt
sein, dass auch im Falle außeraxialer Beleuchtung nur ein
geringer Lichtverlust bei der Pupillenformung auftritt. Die von
der Pupillenformungseinheit erzeugte Basislichtverteilung kann für
eine vorgegebene, abzubildende Struktur auf dem Beleuchtungsfeld
weiter optimiert werden, indem die Basislichtverteilung mit Hilfe
der Blende 10 lokal geringfügig korrigiert wird.
Die Blende kann hierzu Teile der Basislichtverteilung ausblenden,
die für die Abbildung der vorgegebenen Struktur nicht benötigt
werden, sie kann zum Beispiel die Größe der Pole
verkleinern, um ausgehend von der Basislichtverteilung eine gewünschte
Verteilung exakt einzustellen.
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Anhand
von 4 werden die Vorteile einer gewölbten
Blende 10 erläutert. Da das Maskierungsobjektiv 6 üblicherweise
nicht vollständig korrigiert ist, zeigt sich in der Pupillenebene 8 eine
Bildfeldwölbung. Dabei wird ein Bild nicht auf einer Ebene,
sondern auf einer gewölbten Fläche erzeugt. Die
Position des Strahlenschnittpunkts längs der optischen Achse
ist dann von der Bildhöhe abhängig, das bedeutet,
je weiter Objekt- und damit Bildpunkt von der Achse entfernt sind,
umso mehr ist der Bildpunkt in Achsrichtung verschoben. Die Pupillenebene 8 ist also
gewölbt. In 4 ist dies schematisch gezeigt. Auf
der linken Seite ist eine übliche plane Blende mit hier
beispielsweise 3 Blendenöffnungen in den Strahlengang eingebracht.
Die Abschattung erfolgt nicht nur in der Pupillenebene 8,
sondern auch außerhalb davon. Es hat sich gezeigt, dass
dies dazu führt, dass das Feld in der Retikelebene R von
dem gewünschten Zustand abweicht, wie er bei einer planen
Pupillenebene mit planer Blende erzielt werden kann. Dies vermeidet
eine Blende, die eine gewölbte Oberfläche 25 aufweist.
Die Wölbung der Blende ist in vorteilhafter Weise an die
Bildfeldwölbung der Pupillenebene 8 angepasst.
Dies ist auf der rechten Seite von 4 dargestellt.
Die Blendenoberfläche ist so geformt, dass sie der Wölbung
der Pupillenebene 8 folgt. Dadurch werden die unerwünschten
Feldeffekte verringert oder ganz vermieden. Da die Oberfläche
der Blende in Richtung der Lichtausbreitung gewölbt ist, werden
diese Störungen verringert oder vermieden.
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In
den 5a und 5b sind
zwei Ausführungsformen der Blende 10 mit verschiedenen
Blendenöffnungen 40 in der Blendenoberfläche 25 gezeigt.
Die Blendenöffnungen 40 lassen das Licht passieren,
während der Rest der Blendenoberfläche 25 das
Licht abschattet. 5a zeigt eine Blende mit zwei
zueinander punktsymmetrischen Blendenöffnungen 40,
die zur gezielten Abschattung einer Dipolbeleuchtung dienen können.
In 5b ist eine Blende 40 gezeigt, die vier
Blendenöffnungen 40 aufweist, die punktsymmetrisch
zueinander in der Blendenoberfläche 25 angeordnet
sind, die zur gezielten Abschattung einer Quadrupolbeleuchtung dienen können.
Selbstverständlich sind auch alle anderen möglichen
Varianten von Anzahl, Anordnung und Größe von
Blendenöffnungen 40 möglich. Beispielsweise
ist es auch möglich, die Blendenoberfläche transparent
oder offen zu gestalten und statt der Blendenöffnungen 40 Bereiche
auf der Oberfläche anzubringen, die Licht abschatten.
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Mit
einem oder mehreren Graufiltern aus semitransparentem Material beispielsweise
in den Blendenöffnungen statt einfachen Öffnungen
können auch Intensitätsanpassungen vorgenommen
werden.
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Die 6 und 7 zeigen
eine weitere Ausführungsform der Blende 10.
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6 zeigt
eine Blende 10 mit einer Blendenoberfläche 25,
auf der Blendenöffnungen 40 sein können
mit einem Blendenhalter 50. Die Blende 10 ist
drehbar in dem Blendenhalter 50 gelagert. Somit ist es
möglich, die Blende 10 um die optische Achse zu
drehen. Damit kann man die Blende 10 beispielsweise einfach
an mögliche Drehungen der Basislichtverteilung anpassen
oder gezielt Winkelbereiche der Basislichtverteilung abzuschatten. 7 zeigt,
wie eine Blende 10 mit vier Blendenöffnungen 40 gedreht wird.
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In
einer weiteren Ausführungsform ist die Blende 10 auswechselbar
ausgestaltet. So kann beispielsweise der Blendenhalter 50 so
ausgelegt sein, dass eine Blende 10 aus der Beleuchtungseinrichtung
einfach zu entnehmen und gegen eine andere Blende ausgetauscht werden
kann.
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In
einer weiteren Ausführung wird ein Verfahren zur Herstellung
einer erfindungsgemäßen Blende beschrieben. Mit
Hilfe dieses Verfahrens ist es beispielsweise dem Benutzer der Beleuchtungseinrichtung
möglich, in einfacher Weise selbst die Blende nach seinen
Wünschen zu gestalten.
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Dazu
wird eine Blendenrohlings mit gewölbter Blendenoberfläche
erzeugt. Dieser Blendenrohling weist beispielweise schon die an
die Bildfeldwölbung angepasste Blendenoberfläche
auf. Ferner können auf dem Blendenrohling Markierungen
angebracht sein, die auf die Position der optischen Achse schließen
lassen, wie weitere Markierungen, die die x- bzw. die y-Achse bzw.
weitere Achsen versinnbildlichen, wie auch weitere Markierungen
wie beispielsweise Kreise, die auf verschiedene Aperturdurchmesser
hinweisen.
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Danach
werden die für den Einsatz in der Beleuchtungseinrichtung
benötigten Parameter für den Ort, die Größe
und die Position geeigneter Blendenöffnungen ermittelt.
Diese können beispielsweise von den gewünschten
verschiedenen Beleuchtungssettings abhängen. Anhand dieser
Parameter werden Markierungen für Positionsmarken oder
Maßstäbe auf der gewölbten Blendenoberfläche
aufgebracht. Dies kann beispielsweise durch Ritzen, Prägen
oder Aufbringen von Farben erfolgen. In einem optionalen weiteren
Schritt kann die Blendenoberfläche anhand der Markierungen
so verändert wird, dass sich Teile der Blendenoberfläche
gezielt einfach herauslösen lassen. Dies kann beispielsweise
durch anritzen oder Stanzen von Löchern oder andere bekannte
Verfahren zur gezielten Schwächung bestimmter Oberflächenbereiche
geschehen.
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In
einem nächsten Schritt kann der Benutzer Teile der Blendenoberfläche
anhand der Markierungen auf der Blendenoberfläche entfernen
um Blendenöffnungen zu erzeugen, die für die vorgegebene Korrektur
der Basislichtverteilung geeignet sind.
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In
einem erfindungsgemäßen Verfahren zur Beleuchtung
eines Beleuchtungsfeldes mit einer Beleuchtungseinrichtung nach
einem der wird die Lichtverteilung in einer Pupillenebene der Beleuchtungseinrichtung
an eine zu beleuchtende Maskenstruktur angepasst, indem mit einer
Pupillenformungseinheit eine Basislichtverteilung in oder in der
Nähe einer Pupillenebene eingestellt wird. Dabei ist eine
Blende (10) in dem Maskierungsobjektiv (6) angeordnet
und die Oberfläche der Blende in Richtung der Lichtausbreitung
gewölbt. Mit Hilfe der Blende 10 können
gezielt Bereiche der Basislichtverteilung ausgeblendet werden und
auf diese Weise mit Hilfe der Blende die Basislichtverteilung in
vorgebbarer Weise korrigiert werden.
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In
einem weiteren erfindungsgemäßen Verfahren wird
eine Blende zum Einsatz in einer oben beschriebenen Beleuchtungseinrichtung
nach den mit folgenden Verfahrenschritten hergestellt:
- – Erzeugung eines Blendenrohlings mit gewölbter Blendenoberfläche
- – Bestimmung der für den Einsatz in der Beleuchtungseinrichtung
Parameter für den Ort, die Größe und
die Position geeigneter Blendenöffnungen
- – Anbringen von Markierungen für Positionsmarken
oder Maßstäbe auf der gewölbten Blendenoberfläche
anhand dieser Parameter
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In
einer Weiterbildung des Verfahrens wird die Blendenoberfläche
anhand der Markierungen so verändert, dass sich Teile der
Blendenoberfläche gezielt einfach herauslösen
lassen.
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In
einer Weiterbildung des Verfahrens werden Teile der Blendenoberfläche
anhand der Markierungen auf der Blendenoberfläche entfernt
zur Erzeugung von Blendenöffnungen, die für die
vorgegebene Korrektur der Basislichtverteilung geeignet sind.
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Die
Erfindung ist nicht auf den Bereich der Mikrolithographie beschränkt.
Es können z. B. auch Beleuchtungssysteme in der Mikroskopie
erfindungsgemäß ausgestaltet sein. Ebenso können
die erfindungsgemäßen gewölbten Blenden
auch in anderen Blendenebenen, beispielsweise in Blendenebenen eines
Projektionsobjektives, eingesetzt werden, mit entsprechend angepasster
Wölbung der Blende.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - EP 0747772 [0021]
- - US 6285443 [0036, 0038]