JP2004525527A - マイクロリソグラフィーの投射露光装置、光学システム、マイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法、およびマイクロリソグラフィーによる構造化方法 - Google Patents

Abstract

投射露光装置、特に１５７ｎｍまたは１９３ｎｍで、像側の開口数ＮＡが０．８〜０．９５で、フッ化物クリスタルレンズ（４３，４３）を備えた投射露光装置において、フッ化物結晶レンズ（４３，４３）を光軸（Ｏ）のまわりで相対回転させることにより、および／または、瞳面（Ｐ）付近に配置した補正要素（４４）により、フッ化物結晶レンズ（４３，４３）の角度依存複屈折の効果を減少させる。

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１と４１の上位概念に記載のマイクロリソグラフィーの投射露光装置、請求項９と１２の上位概念に記載の光学システム、特にマイクロリソグラフィー投射レンズ、請求項４２の上位概念に記載のマイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法、および請求項４４の上位概念に記載のマイクロリソグラフィーによる構造化方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許出願ＰＣＴ／ＥＰ００／１３１８４は、市場において知られているこの種の投射露光装置に適した、純粋に屈折性のカタディオプトリック投射レンズを開示しており、この投射レンズは作動波長が１５７ｎｍの場合開口数は０．８および０．９である。
【０００３】
ＤＥ１９８０７１２０Ａ（ＵＳ Ｓｅｒ．Ｎｏ．０９／２５２６３６）からは、局所的に厚さが変化している複屈折性要素を使用して、光束を介して変化する偏光効果を補正することが知られている。
【０００４】
ＵＳ６２０１６３４Ｂは、この種の使用に適した技術的なフッ化物結晶が、結晶軸に関し方向依存性を示すような応力複屈折性を有していることを記載している。
【０００５】
インターネット刊行物、John H. Burnett, Eric L. Shirley, Zachary H. Lewin著"Preliminary Determination of an Intrinsic Birefringence in CaF₂"、NIST Gaithersburg MD 20899 USA（２００１年５月７日配布）からは、フッ化カルシウム単結晶が応力誘導複屈折性以外に固有複屈折性をも有していることが知られている。
【０００６】
以上引用したすべての文献は、全面的に本出願の開示事項の一部でもある。
【０００７】
上記複屈折効果はほぼ２００ｎｍ以下の低波長で初めて問題になり、高解像度リソグラフィーにとって有利な波長である１５７ｎｍで強くなる。
【０００８】
この複屈折は結晶軸に対する光放射方向に依存しているので、開口角の関数としても、また光軸のまわりでの回転角（方位角）の関数としてもバリエーションが生じる。
【０００９】
（１１１）結晶軸のまわりで回転対称に方向づけられている光学要素、特にレンズ（しかし、たとえば密閉板、フィルタのような平面板として構成されていてよい）に対しては、複屈折は光線が垂直に透過するときに最小になる。しかしながら、開口角がほぼ３５゜で、互いに１２０゜だけ互いに回転されている３つの回転角（方位角）では、入射方向は結晶の（１１０）指向性と同等であり、最大複屈折が生じる。
【００１０】
（１００）軸、（０１０）軸、または（００１）軸の１つに対し回転対称な配置では、開口角が４５゜の場合、現時点での４回の回転対称性で、最大複屈折性を備えた（１１０）軸に同等の軸が再び存在する。
【００１１】
１５７ｎｍの光線を開口数０．８で射出させる、ＣａＦ₂から成る要素の場合、ほぼ１．５６の屈折率で透過する場合の開口角は３１度に等しい。開口数ＮＡ＝０．９に対しては、ほぼ３５度の角度が生じる。すなわち方向依存性複屈折は、このようにこう開口システムでは問題である。
【００１２】
【特許文献１】
ＰＣＴ／ＥＰ００／１３１８４
【特許文献２】
ドイツ連邦共和国特許公開第１９８０７１２０Ａ号公報（ＵＳ Ｓｅｒ．Ｎｏ．０９／２５２ ６３６）
【特許文献３】
米国特許第６２０１６３４Ｂ号明細書
【非特許文献１】
インターネット刊行物、John H. Burnett, Eric L. Shirley, Zachary H. Lewin著"Preliminary Determination of an Intrinsic Birefringence in CaF2"、NIST Gaithersburg MD 20899 USA（２００１年５月７日配布）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の課題は、方向依存性複屈折によるこの種の障害を補正し、高アパーチャー投射レンズをも最適に作動させることができるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題は、請求項１と４１に記載の投射露光装置、請求項９または１２に記載の光学システム、請求項４２に記載の製造方法、および請求項４４に記載のマイクロリソグラフィーによる構造化方法によって解決される。
【００１５】
本発明は、複屈折による障害は、高角度のレンズで問題になるほぼ１０ｃｍの光路において１ｃｍにつき約６ｎｍの値の場合、互いに垂直に偏光した２つの光線に対し主としてほぼλ／４以下の位相シフトを示すという認識、さらには、高い放射角度は像に近い（フィールドに近い）要素で生じ、その放射角度分布はこれに対しフーリエ変換した瞳面内で位置分布として存在するという認識に基づくものである。
【００１６】
したがって障害は、瞳面付近に配置した位置依存性偏光回転光学要素または種々の位置依存性複屈折光学要素（補正要素）によって補正することができる。しかし、このような光学要素、および局所的な研磨によるその製造、特にイオン放射研磨による製造は前述のように公知のものであるが、この新たなる関連で提供可能である。
【００１７】
瞳面「付近の」位置、有利にはシステムアパーチャー面「付近の」位置とは、補正要素における偏光と位相との位置的分布が角度依存性複屈折要素における角度分布に十分正確に変換されるような位置に対する実質的な近似である。これは特に投射レンズの光学的設計と同調させる必要がある。
【００１８】
請求項１と９のこのような構成以外にも、これと組み合わせて（請求項１３，４１）、請求項１２にしたがってこの種の複数の要素を互いに回転させて組み込むことにより、これら要素の複屈折効果を低減させることが可能である。
【００１９】
光学システムを取り付けて位置調整する場合、フレームした要素のサンプル特有の障害を、互いに回転させることによって補正することは通常に行われていることであるが、しかし本発明では、障害を低減させるように、角度依存性複屈折によって相殺される回転対称を、光学的設計により予め設定される相対回転によって考慮する。
【００２０】
たとえば、同じ厚さの、且つ同じ角度で延びている、（１１１）指向性の２つのフッ化カルシウム要素を例にとると、両要素を互いに６０゜だけ回転させる。その結果、それぞれの複屈折の最大と最小とが重畳される。これは効果をほぼ半減させる。この場合、付属の補正板は６回の回転対称性を有している。
【００２１】
障害も必要な補正要素の形状変更も少ないので、投射レンズを製造する場合、まず投射レンズを完全に組み立てて位置調整し、次に請求項４１に従って測定し、後加工することが可能である。この場合、固有の応力複屈折とサンプル特有の応力複屈折とを同時に補正することができる。
【００２２】
有利な実施形態は従属項の対象である。
【００２３】
この場合、請求項８に記載の実施態様によれば、光学的に活性な要素を用いて、投射レンズ内で半径方向の偏光から半径方向の偏光への置換が行なわれる。
【００２４】
適切な位置的厚さ分布を設定する以外にも、請求項１４に記載の力誘導装置を用いてたとえば引張り応力または圧縮応力を導入し、これによって生じる応力複屈折分布によっても、補正要素の所望の補正作用を生じさせることができる。
【００２５】
請求項１５に従ってピエゾアクチュエータを使用することにより、力誘導のための振幅の正確な設定が可能になる。ピエゾアクチュエータの代わりに、たとえば空気圧式アクチュエータのような他のアクチュエータも使用でき、或いは、たとえば位置調整ねじまたは予め緊張させたばねのような受動的なマニピュレータも使用できる。
【００２６】
請求項１６にしたがって、補正要素の周囲の面を介して力を導入する場合、補正要素のすべての自由なアパーチャーを維持することができる。補正要素に機械的な力を導入する場合には、補正要素の望ましくない変形を生じさせないように、力を中立なファイバーまたは補正要素の中立面に沿って導入するのが好ましい。第一次近似では、この種の力誘導は、光学要素の撓みを生じさせないよう注意する場合に達成される。
【００２７】
請求項１７に記載の力誘導装置を用いると、光学要素の中立面の方向で所定の力誘導を行なうことができる。
【００２８】
請求項１８に記載の可動な当接体は、力誘導の追加的な微細整合を保証する。
【００２９】
請求項１９に記載のばねは、補正要素に対する当接体の傾斜を阻止する。
【００３０】
請求項２０に従って択一的にまたは付加的に設けることのできるヒンジは、補正要素に対する当接体の所定の可動性が提供されることにより、補正要素に対する当接体の傾斜を阻止する。
【００３１】
請求項２１に記載の固体ヒンジは、摩擦なしに且つ小型に製造可能である。
【００３２】
請求項２２に記載の当接体を用いると、所定の力分布を補正要素に導入することができる。この場合、力誘導個所の拡がりまたはずれにより、この分布のための第１の自由度を設定することができ、この場合、無条件に導入される当接力を介して第２の自由度を設定することができる。
【００３３】
請求項２３に記載の当接体を用いると、周方向に漸進的に変化する力誘導分布を実現できる。
【００３４】
これは、請求項２４に記載の当接体の択一的または付加的な実施形態によっても可能である。
【００３５】
請求項２５に記載の力誘導要素の構成により、補正要素の中立面に沿った力誘導を簡単に実現できる。これは、両力誘導個所を介して導入された力が適宜互いに同調することができるからである。
【００３６】
請求項２６に従って力誘導体を配置することにより、両力誘導体の間で力分布を微細整合させて、補正要素の中立面に沿って全体の力を生じさせることができる。
【００３７】
請求項２７に従って力誘導体を配置することは簡単である。この場合、補正要素の中立面に沿って全体の力を生じさせるための力誘導の整合は、レバーアームの幾何学的構成によって行なわれる。
【００３８】
請求項２８に記載のアクチュエータの択一的な付設は、精密な力誘導を可能にする。
【００３９】
請求項２９に記載のアクチュエータを使用することにより、力誘導装置を光学システムの光軸の方向に構成する実施態様が可能になる。
【００４０】
請求項３０に記載の力誘導体を用いると、力誘導要素の配置と構成を介して力誘導を目的に応じて制御して、補正要素の中立面の方向で全体の力を生じさせることができる。
【００４１】
これは、請求項３１に記載のアクチュエータを用いると特に簡単に行なえる。
【００４２】
請求項３２に記載のリングは、力誘導装置のための特に簡単な対向支持体である。この対向支持体は、補正要素自身によって担持される要素として実施できる。これとは択一的に、または付加的に、補正要素を取り囲む支持リングを使用してもよい。この支持リングで、補正要素に作用するアクチュエータが支持され、アクチュエータ自身はリング状に形成する必要はない。この種のリングを使用することにより、力誘導の際に補正要素の横方向変位を生じさせないような力誘導装置が可能になる。
【００４３】
静力学的な力を導入する際には大きな静力学的力が必要であるので、補正要素の損傷を常に防止することはできない。さらに、力誘導が比較的長時間にわたると、たとえばドリフト効果により補正要素の応力時間が時間とともに変化することがある。このような制限を克服するため、請求項３３に記載の補正要素が使用される。動力学的な力誘導の際には、静力学的な力誘導の際よりもかなり高い応力複屈折を破損の危険なしに短時間で生じさせることができる。さらに、動力学的力誘導の振幅を介して、設定されるべき補正作用の値を、場合によっては微細に後調整することができる。この場合、これは完成した投射レンズにおいて外部から行なうことができる。
【００４４】
請求項３４に記載の力誘導装置を用いると、静力学的な力誘導の際と比較しうる、中位の力誘導が得られる。
【００４５】
この場合、請求項３５に記載の力誘導装置により、与えられた力で最大限の補正作用が可能になる。
【００４６】
力誘導が投射光束の放射に時間的に同調している、請求項３６に記載の投射露光装置により、投射光学系が投射光で照射されると、補正が常に正確に達成される。
【００４７】
この場合、請求項３７に記載の制御装置は簡単な時間的同調を保証する。
【００４８】
請求項３８に記載の力誘導装置を用いると、音波プロフィールを介して、該音波プロフィールと同様の空間的分布を有する屈折率プロフィールが発生する。音波プロフィールは、光の波面に対応してゼルニケ関数に分解できる。したがって、直交基本ゼルニケ関数の任意の重ね合わせを屈折率プロフィールとして生じさせることができる。Ｎ個のアクチュエータを用いると、たとえば補正プロフィールをＮ／２回の回数で生じさせることができる。これにより、原理的にはすべての公知の収差を低減させることができる。
【００４９】
請求項３９に記載の定常音波により、静力学的な収差補正が可能になる。
【００５０】
これとは択一的に、請求項４０によれば、動力学的な収差補正を行なうことができる。これにより、たとえば、投射光束が間欠的である場合に、投射レンズの結像特性を投射中に目的に応じて変化させることが可能であり、その結果光束を光学要素によって制御する時点で、投射にとって最適な結像条件が支配的になる。これとは択一的に、請求項４０に記載の動力学的収差補正により、光付勢の時間スカラーで、ゆっくり変化可能な力分布、たとえば１／１００ｓのオーダーで変化可能な力分布を光学要素内に生じさせて、たとえば使用した照射分布に対する補正作用，または、たった今結像させたレチクル構造に対する補正作用を最適化させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
次に、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
【００５２】
図１は、光軸Ｏに対して配置されている光源１を示している。光源１は、有利には、１５７ｎｍまたは１９３ｎｍで狭帯域放射するレーザーである。その光は照射システム２に送られ、照射システム２は、ドイツ連邦共和国特許公開第１９５３５３９２Ａ１号公報から知られているような、特に放射（radial）偏光を生じさせるための手段２１を有している。これによりマイクロリソグラフィーレチクル３が照射される。マイクロリソグラフィーレチクル３はレチクル保持・位置決めシステム３１と結合されている。次の投射レンズ４はレチクル３を像面内に配置される対象物（典型的にはウェーハー）５の上に結像させる。対象物５は対象物保持・位置決めシステム５１を備えている。
【００５３】
投射レンズ４は、レンズおよび必要な場合には１個または複数個のミラーをも備えたレンズ群４１と、瞳面またはシステムアパーチャー面Ｐと、この面Ｐと対象物５の面との間に配置されるレンズ４２，４３とを有している。レンズ４２，４３の透過角αは、投射レンズの像側開口数ＮＡによって決定される。
【００５４】
レンズ４２，４３のうち少なくとも１つのレンズは、角度に応じて複屈折を生じさせる材料、たとえばフッ化カルシウムから成っており、その（１１１）指向性は光軸Ｏと一致しており、或いはほぼ５゜以下でずれている。
【００５５】
図示した両レンズ４２，４３（もちろんこの領域にはもっと多くのレンズが必要である）がこのように構成されている場合、これらレンズを方位角の分だけ互いに回転させて、すなわち光軸Ｏのまわりに互いに回転させて取り付けるのが有利である。
【００５６】
各光線に対し、フィールドに近い位置にあるレンズ４２，４３のうちの一方に生じる開口角は瞳面Ｐの付近で光軸Ｏからの距離に変化する。それ故、本発明にしたがってそこに配置される補正要素４４、すなわち複屈折性材料、ひずみ複屈折性材料、或いは光学的に活性な材料から成っている補正要素４４は、光軸Ｏまでの距離と方位角とにしたがって変化する厚さにより、すなわち位置依存性偏光回転または種々の位置依存性複屈折作用により、レンズ４２，４３の角度依存性複屈折を補正する。
【００５７】
前記手段２１と補正要素４４は対象物５において放射偏光を生じさせることができ、この場合本発明よれば、補正要素４４は同時に角度依存性複屈折を補正する役をも果たす。
【００５８】
投射レンズ４がさらに複数の瞳面を有している場合には（これはたとえば中間像を持った実施形態のケースである）、そこにも１個の補正要素を配置してよい。
【００５９】
補正要素４４の厚み変化による屈折作用が障害となる場合には、ドイツ連邦共和国特許公開第１９８０７１２０Ａ号公報から知られている、複屈折性を持たない材料から成る補正板またはわずかに複屈折性のある材料から成る補正板を用いて補正することができる。このために、レンズ表面をたとえばイオン噴射エッチングにより後成形してもよい。
【００６０】
以上説明した、フッ化物結晶の角度依存性複屈折作用は、高アパーチャー投射レンズの光学的設計において考慮することができる。このためには方位角のバリエーションを考慮しなければならない。この場合補正要素４４は設計の段階からその形状または作用を設定することができる。
【００６１】
これとは択一的に或いは付加的に、角度依存性複屈折による結像障害を測定して、準備した補正要素４４の後加工に反映させてもよい。これにより同時にサンプル特有の複屈折分布をも補正することができる。
【００６２】
光学補正要素の他の変形実施形態は図２ないし図１２に図示されている。これらの変形実施形態においては、すでに図１に関連して説明した構成要素に関してはその符号に１００を加えた符号を使用し、再度詳細に説明することはしない。
【００６３】
図２は、択一的な補正要素１４４を取り外し状態で示した拡大平面図で、すなわち投射レンズに取り付けていない状態で示したものである。補正要素１４４は３回対称性のＣａＦ₂板であり、ひずみ複屈折特性を持った材料から成っている。その周囲の面１６１は実質的に二等辺三角形の形状を有し、隅角部は丸くなっており、三角形の中心（光軸Ｏが通っている点）の方向へわずかに湾曲した側面を備えている。
【００６４】
補正要素１４４は円形のフレーム１５０に装着されており、周囲の面１６１の丸い隅角部の各一部分を介してそれぞれピエゾアクチュエータ１５１〜１５３と接続している。各ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３は補正要素１４４とは反対側でフレーム１５０に挿着されている。フレーム１５０の適切な穴を通って外部へ案内されている信号線１５４〜１５６を介してピエゾアクチュエータ１５１〜１５３はピエゾ制御ユニット１５７に接続されている。ピエゾ制御ユニット１５７は信号線１５８を介してシンクロユニット１５９に接続されている。シンクロユニット１５９は信号線１６０を介して光源１０１に接続されている。
【００６５】
補正要素１４４は使用時には投射レンズ（図１の対物レンズ４を参照）のなかに組み込まれており、円形の透過領域１６２（図２では破線で示した）を投射光が透過する。このとき補正要素１４４は次のように機能する。
【００６６】
光源１０１はエキシマーレーザーであり、パルス持続時間が短い（ほぼ１０ｎｓ）単一パルスの準持続波投射光パルス列と、比較的少ない繰り返し数（１０ｋＨｚの範囲）とを特徴としている。
【００６７】
ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３は、ピエゾ制御ユニット１５７により、補正要素１４４が半径方向に密度振動(density oscillation)を行なうように制御される。この振動の振動数はシンクロユニット１５９を用いて光源１０１の繰り返し数に整合させられるので、レーザーパルスの印加中、ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３によりたとえば正弦状に発生される補正要素１４４の圧縮応力の最大値が達成される。単一光パルスのパルス持続時間は、光源１０１の繰り返し時間および補正要素１４４への力誘導時間のほぼ一万分の一にすぎないが、この短いパルス持続時間の間、補正要素に導入される瞬時応力はほぼ一定である。したがって、単一光パルスのパルス持続時間の間、レーザーパルスと力誘導との位相関係に関係なく、補正要素１４４の複屈折状態が著しく変化することはない。
【００６８】
信号線１５４〜１５６におけるたとえば正弦状の信号電圧の振幅を介して、ピエゾ制御ユニット１５７を用いてひずみ複屈折を生じさせることができる。或いは択一的に、レーザーパルスと力誘導との位相関係を介してひずみ複屈折を生じさせてもよい。この位相関係は、圧縮応力が最大になっている間にレーザーパルスが補正要素１４４により導入された圧縮応力の上昇エッジまたは下降エッジに当たるのではなく、たとえば選定可能な一時期の間に当たるように変化させることができる。
【００６９】
補正要素１４４の形状は、補正要素１４４の固有振動数が力誘導振動数と共振するように、ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３による力誘導形状と力誘導振動数とに適合している。これは最大の力作用を保証し、よって与えられたエネルギーコストで最大発生ひずみ複屈折を保証している。この実施形態では、圧縮応力に加えて、固体の共鳴振動により引張り応力も発生し、したがって可能な複屈折分布の多様性が著しく増大する。
【００７０】
ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３（図２を参照）を用いると、補正要素１４４に定常音波或いは進行音波も生じさせることができる（ただし、ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３の適切な制御周波数が前提である）。定常音波を生じさせるため、ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３に対する制御周波数を補正要素１４４の形状と材料とに適宜適合させる。周囲の面１６１を介して補正要素１４４に作用するピエゾアクチュエータの数量に応じた数量の音波を発生させることができる。この場合、ｎ個のピエゾアクチュエータを用いると、ｎ／２回対称性までの定常音波を生じさせることができる。さらに、対称回数が異なる音波を重畳させることができる。これにより、補正要素１４４の屈折率プロフィールを音波プロフィールを介して制御して予め設定することができる。
【００７１】
対称回数が異なる音波プロフィールを重畳することにより、重ね合わせとして、対応的に屈折率プロフィールの重畳が生じる。この重畳は多数の収差を独立に補正するために使用できる。というのは、たとえば異なる屈折率を与えることにより、対称回数の異なる音波プロフィールから、結像特性を表わすゼルニケ関数の係数が所定の態様で制御されるからである。
【００７２】
現在使用されている補正要素の材料とその典型的な形状に対し使用されるピエゾアクチュエータ１５１〜１５３の制御周波数は、超音波範囲にある。
【００７３】
発生したひずみ複屈折分布は、補正要素１４４の形状と、ピエゾアクチュエータ１５１〜１５３の連結部の形状と、力誘導の振幅および振動数と、場合によっては補正要素１４４内での振動節点を強要する構成要素とを介して調整することができるが、このひずみ複屈折分布を用いて、補正要素１４４を透過する投射光束を制御して、図１との関連で説明したような投射光学系でのその他の複屈折作用が補正される。
【００７４】
ピエゾアクチュエータの代わりに、力誘導用の他の圧縮手段または引張り手段を使用してもよい。
【００７５】
図３は、力誘導装置を備えた光学的補正要素の他の実施形態の子午線断面図である。この力誘導装置は、図２との関連で説明した力誘導装置に対し択一的なものである。
【００７６】
図３の実施形態では、光学的補正要素２４４は、ＣａＦ₂から成る左右対称の両凹のレンズであり、このレンズに対しては、全体を２７０で示した力誘導装置がエッジ側で作用する。光学的補正要素２４４と力誘導装置２７０は、図３で一点鎖線で示した光軸２７１を中心にしてマニフォルド回転対称である。したがって図３の図示は、光軸２７１から見て右半分に限定した。
【００７７】
補正要素２４４はエッジ側で上部および下部を面取りされており、その結果補正要素２４４の周囲の面２７２はそれぞれ１つのリング状の面取り面２７３，２７４を経て補正要素２４４の凸の光学面へ移行している。面取り面２７３，２７４は補正要素２４４の光学面の一部ではないので、補正要素２４４の周囲の面全体の一部と見なすことができる。
【００７８】
図３で下側の面取り面２７４は、当接体２７６の当接尖端部２７５を介して、補正要素２４４のフレームを形成している基礎体２７７の上に載置されている。当接体２７６と基礎体２７７とは互いに面結合しており、たとえば互いに接着されている。基礎体２７７はエッジ側に複数個の穴２７８を有し、これらの穴２７８は光軸２７１に対し平行に基礎体２７７を貫通するように形成され、補正要素２４４用の保持フレーム（図示せず）に基礎体２７７を固定するために用いる。
【００７９】
基礎体２７７には複数のレバー体２７９が揺動自在に取り付けられている。補正要素２４４の周囲の面２７２のまわりに均等に配分して配置される、たとえば３個のレバー体２７９を設けることができる。レバー体２７９の数は力誘導装置２７０の回転対称の数を設定する。図３には、これらレバー体２７９のうち１個のレバー体のみ図示した。レバー体２７９は同一の構成を有しているので、以下では図３に図示したレバー体２７９を説明すれば十分である。このレバー体２７９はヒンジ２８０を介して基礎体２７７に揺動自在に取り付けられている。ヒンジ２８０は、他のレバー体２７９を基礎体２７７と結合させている他のヒンジと同様に、補正要素２４４の周囲の面２７２の最も近い点における接線に対し平行に延びている揺動軸線を有している。これらのヒンジは（ヒンジ２８０を参照）、光軸２７０に対し垂直な補正要素２４４の中心面の位置に対応する高さに配置されている。
【００８０】
基礎体２７７とレバー体２７９とは、ヒンジ２８０の周囲の面２７２とは逆の側に、切欠部を有しているので、その結果全体としてヒンジ２８０に隣接する収容凹部２８１が生じている。収容凹部２８１にはピエゾアクチュエータ２８２が挿入され、ピエゾアクチュエータ２８２は光軸２７１に対し平行な方向に長さを変えることができる。図３に図示した制御線２８３によりピエゾアクチュエータ２８２は制御装置２８４と接続されている。
【００８１】
レバー体２７９は当接体２８５と当接尖端部２８６とを介して、図３で上側の面取り面２７３に当接しているので、レバー体２７９は該レバー体に付設されている基礎体２７７の一部分とともに、当接体２８５，２７６を介してやっとこのように補正要素２４４の面取り面２７３，２７４に係合する。
【００８２】
力誘導装置２７０に連結された補正要素２４４は次のように使用する。
【００８３】
補正されるべき収差に基づき、制御装置２８４は補正要素２４４に発生すべき応力分布を算出する。この応力分布を介して生じる補正要素２４４の光学特性の変化により収差の補正が達成される。制御装置２８４は、算出した応力分布から、力誘導装置２７０のピエゾアクチュエータ２８２がそれぞれのレバー体２７９に伝達すべき変位値を算出し、これにより生じる、面取り面２７３，２７４に対する基礎体２７７（当接尖端部２７５を参照）と載置尖端部２８６を備えたレバー体２７９とのやっとこ作用によって、算出した応力分布を形成させる応力が導入される。この場合当接尖端部２７５，２８６は、傾斜のない所定の力誘導を保証している。導入された応力の合力は、当接体２７６，２８５によって形成されるやっとこが補正要素２４４の中心面に関し対称であるので、補正要素２４４の中立面と一致しているこの中心面内に延びている。このようにして、補正要素２４４の湾曲、或いは、補正要素２４４への曲げモーメントの伝達は、ピエゾアクチュエータ２８２の力作用によって避けられる。
【００８４】
図４は当接体３８５の変形実施形態の部分詳細図であり、この詳細図は図３で実線の円で示した部分に相当している。当接体３８５は２つのヒンジ結合部３８７，３８８を介してレバー体３７９に揺動自在に取り付けられている。２つのヒンジ結合部３８７，３８８は、レバー体３７９の２つの三角形アームの「ルーフエッジ」に配置されている。２つの三角形アームの間でレバー体３７９は後退しており、その結果レバー体３７９はヒンジ結合部３８７，３８８の間において当接体３８５から間隔をもって位置している。
【００８５】
当接体３８５は弾性材から成っている。当接体３８５はレバー体３７９とは逆の側に当接突起３８９を有しており、当接突起３８９は補正要素３４４の面取り面３７３上に載置されている。
【００８６】
図３の実施形態における他の当接体も、図４の当接体３８５のように実施してよい。
【００８７】
当接体３８５は以下のように機能する。
【００８８】
当接体３８５は、応力の導入が行なわれない限りは、面取り面３７３に対する両ヒンジ結合部３８７，３８８の幾何学的位置に応じて、面取り面３７３に対し平行に配置されるか、或いは、面取り面３７３に対し特定の角度で配置されている。当接体３８５の弾性作用とヒンジ結合部３７８，３８８とにより、この種の角度があるかないかに関わらず、当接突起３８９は力誘導時に常に傾斜することなく面取り面３７３に作用するよう保証されれる。
【００８９】
ヒンジ結合部３８７，３８８は通常のヒンジ結合部として構成してよく、或いは、固定ヒンジとして構成してもよい。
【００９０】
３個の回転対称を有する、補正要素４４４用の力誘導装置４７０の変形実施形態を図５と図６に示す。穴４７８を備えた基礎体４７７は、補正要素４４４の周囲の面４７２を取り囲むリングとして構成されている。リングは図６においても一部しか図示していない。
【００９１】
力誘導装置４７０は、光軸４７１に対し垂直な補正要素４４４の中心面に関し左右対称であり、よって以下では図５において力誘導装置４７０の上半分を詳細に説明する。
【００９２】
基礎体４７０には複数個の剪断型ピエゾアクチュエータ４９０が面結合され、図５ではこれら剪断型ピエゾアクチュエータ４９０のうち２個を図示した。両剪断型ピエゾアクチュエータ４９０は基礎体４７７の両側で互いに対向するように位置して該基礎体４７７に当接している。剪断型ピエゾアクチュエータ４９０は制御線４８３を介して制御装置４８４と接続している。
【００９３】
剪断型ピエゾアクチュエータ４９０は基礎体４７７とは逆の各側でスラスト体４９１と結合されている。スラスト体４９１は、当接尖端部４７５，４８６を備えた当接体４７６，４８５を介して補正要素４４４の面取り面４７３，４７４に当接している。
【００９４】
力誘導装置４７０は、全体的には、基礎体４７７に関し互いに対向するように位置し且つ剪断型ピエゾアクチュエータ４９０を備えた３対のスラスト体４９１によって形成される。スラスト体４９１は補正要素４４４の周囲の面４７２のまわりにそれぞれ１２０゜ずらして配置されている。
【００９５】
力誘導装置４７０を備えた補正要素４４４は以下のように使用する。
【００９６】
まず、図３との関連で説明した態様に対応して、スラスト体４９１の力誘導目標値または剪断型ピエゾアクチュエータ４９０の変位に対する目標値を制御装置４８４で算出する。この目標設定値は、剪断型ピエゾアクチュエータ４９０を制御することにより、制御線４８３を介して補正要素４４４での所望の応力分布に置換される。
【００９７】
剪断型ピエゾアクチュエータ４９０を介して導入され、当接尖端部４７５と当接尖端部４８６とを介して作用する部分応力の大きさは、これら部分応力が補正要素４４４の中立面で加算されて全応力を成すように選定される。したがって、力誘導装置２７０との関連で前述したことに対応して、補正要素４４４には曲げモーメントが作用しない。
【００９８】
図７と図８は、力誘導装置５７０により所定の応力分布が発生する補正要素５４４の他の変形実施形態を示している。この場合、補正要素５４４は、エッジ領域に上部面取り面５７３と下部面取り面５７４とを備えた非対称の両凹のレンズである。レンズは、補正要素５４４の光軸５７１の方向に撓み可能な複数個の弾性アーム５９２を介して保持されている。このため、下部面取り面５７４は弾性アーム５９２の対応する傾斜支持面に当接している。
【００９９】
弾性アーム５９２は、光軸５７１に対し垂直に前記支持面に接続している弾性アーム部分と、これに対して直角に光軸５７１の方向に屈曲して延びている第２の弾性アーム部分とを有している。この第２の弾性アーム部分は、すべての弾性アーム５９２の第２の弾性アーム部分を担持している結合リングに移行している。結合リングの内径は補正要素５４４の外径よりも大きい。
【０１００】
結合リングは、その外周囲の面において、その結合リングを同軸に取り囲んでいる弾性リング５９３に一体的に移行している。光軸に対し平行に測定すると、弾性リング５９３の材料の厚さは結合リングに比較して薄い。弾性リング５９３は結合リングをリング状の基礎体５７７と一体的に結合させている。基礎体５７７は弾性リング５９３を外側から同軸に取り囲んでいる。
【０１０１】
図７は補正要素５４４の弾性アーム保持部の部分図であり、この図では全部で６個の弾性アーム５９２が図示され、そのうち２個の弾性アーム５９２はそれぞれ半分である。すなわち図７と図８に図示した弾性アーム保持部は全体で２０個の弾性アーム５９２を有しており、これらの弾性アーム５９２は基礎体５７７の周囲に均等に配分して該基礎体５７７に一体成形されており、補正要素５４４のための支持面を有しているその弾性アーム部分は、車輪のスポークのように半径方向内側へ延びている。
【０１０２】
図７と図８の実施形態の力誘導装置５７０は支持リング５９４を有している。支持リング５９４は光軸５７１に対し同軸に補正要素５４４の周囲の面５７２のまわりに配置されている。支持リング５９４の内側面には複数個のピエゾアクチュエータ５９５が支持され、ピエゾアクチュエータ５９５は光軸５７１に対し半径方向に長さを可変である。ピエゾアクチュエータ５９５は制御線５８３を介して制御装置５８４と接続されている。
【０１０３】
ピエゾアクチュエータ５９５は、支持リング５９４と補正要素５４４の周囲の面５７２に当接している当接体５７６とで支持されている。当接体５７６はピエゾアクチュエータ５９５と補正要素５４４との間に配置されている。当接体５７６は、光軸５７１の方向に対し平行にずらして配置された２つの半球状の当接突起５９６，５９７を有している。総じて、図７と図８の実施形態では、支持リング５９４の周方向に均等に配分して配置された２０個のピエゾアクチュエータ５９５が付属の当接体５７６とともに設けられている。この場合、補正要素５４４の周方向におけるピエゾアクチュエータ５９５の配置は、図８の平面図が示すように、２つの弾性アーム５９２の間にそれぞれ１つのピエゾアクチュエータ５９５が支持リング５９４の周方向に位置するように行なわれている。
【０１０４】
ピエゾアクチュエータ５９５を支持リング５９４で支持するとともに、当接体５７６を介して補正要素５４４でも支持することにより、力誘導装置の片持ち式保持が得られ、すなわち補正要素５４４だけで保持される。この場合ピエゾアクチュエータ５９５は、光軸５７１の方向に対し平行に支持リング５９４に対し相対的に変位可能であり、且つこれとは独立に当接体５７６に対しても変位可能である。
【０１０５】
力誘導装置５７０は次のように取り付けられ、補正要素５４４内での応力分布を得るために使用される。
【０１０６】
まず、生じさせるべき応力分布に対する要求に応じて、当接体５７６を補正要素５４４の周囲の面５７２のまわりに分配し、位置を調整する。当接体５７６はその目標位置において補助固定要素を用いて、たとえば隣接する弾性アーム５９にの上に載置される保持要素を用いて一時的に固定される。次に、支持リング５９４を周囲の面５７２を取り囲む位置へもたらし、同様に保持固定要素を用いて一時的に固定する。このときピエゾアクチュエータ５９５を当接体５７６と支持リング５９４との間に挿入する。ピエゾアクチュエータ５９５のサイズは、当接体５７６と支持リング５９４との間に十分な嵌め合いが存在するように選定されている。その後保持固定要素を取り外すことができる。
【０１０７】
ピエゾアクチュエータ５９５は光軸５７１に平行な方向で次のように位置調整される。すなわちその長さ変化と、それによって補正要素５４４に作用するそれぞれのピエゾアクチュエータの力作用とにより、当接突起５９６，５９７を介してそれぞれのピエゾアクチュエータ５９５の全部の力が補正要素５４４の中立面に沿って作用し、その結果ピエゾアクチュエータ５９５により曲げモーメントが補正要素５４４に作用しないように位置調整される。
【０１０８】
最後に、制御装置２８４との関連で前述したように、制御装置５８４によって算出した応力を制御線５８３を介してピエゾアクチュエータ５９５に伝達し、その結果所定の応力分布が生じる。
【０１０９】
図７と図８の実施形態では、当接体５７６が互いに分離していたが、これとは択一的に、支持リング５９４に対し同軸に構成した当接リングを使用してもよい。
【０１１０】
図２〜図８を用いて述べた力誘導装置と関連して使用可能な当接体の他の実施形態を図９〜図１２に示す。
【０１１１】
図９の当接体６７６は、長さを可変なピエゾアクチュエータ６９５により、補正要素６４４の光軸に対し半径方向において該補正要素６４４の周囲の面６７２に対し押圧される。この場合当接体６７６は全部で５個の当接突起６９７’，６９７''，６９７'''，６９７''''，６９７'''''を介して周囲の面６７２に当接する。当接突起６９７’〜６９７'''''は当接板６９８に一体成形されている。当接板６９８は補正要素６４４の光軸に対し垂直な断面においてほぼ三日月形の横断面を有している。当接板６９８は担持アーム６９９を介して支持板６６９と一体に結合されている。支持板６６９は当接板６９８とは逆の側の端面によってピエゾアクチュエータ６９５に当接している。
【０１１２】
当接板６９８は、その横断面の構成により、中央の当接突起６９７'''の領域において最大の曲げ剛性を有している。曲げ剛性は、エッジ側の当接突起６９７’または６９７'''''のほうへ漸進的に減少する。ピエゾアクチュエータ６９５が当接突起６９７’〜６９７'''''を介して補正要素６４４を押すと、前記横断面の構成から、補正要素６４４に対する特徴的な圧力分布が生じる。この特徴的な圧力分布は、すでに述べた他の実施形態の場合のように、さらに当接板６９８に対し垂直な横断面の構成にも依存している。この圧力分布は対応的に補正要素６４４内での応力分布になる。当接板６９８の横断面の構成以外にも、該当接板６９８に対する材料選択も曲げ剛性分布に影響する。この場合、当接板は弾性モジュールが一定の材料から成ることができ、或いは、特に当接板６９８に沿って曲げ剛性が異なっている種々の材料の複合体から成っていてもよい。
【０１１３】
図１０は当接体７７６の他の実施形態を示している。この実施形態では、図示した平面図を比較するとわかるように、当接板７９８は補正要素７４４とは逆の側で図９の当接板６９８に対しほぼ補完的に成形されており、すなわち当接板７９８の横断面は中央の当接突起７９７'''の領域で最も狭くなっており、外側の当接突起７９７’，７９７'''''の方向へ漸進的に増大している。したがって、ピエゾアクチュエータ７９５によって当接体７７６を押すと、前記当接体６７６を押す場合とは異なる圧力分布が当接突起７９７’〜７９７'''''を介して補正要素７４４に生じる。
【０１１４】
図１１は当接体８７６の他の実施形態を示している。この実施形態では、当接板８９８は中央の結合部分８６８を介して支持板８６９と結合されている。当接板８９８は図９の当接板６９８と同様の横断面の構成を持っており、すなわち図１１の図面に平行な断面に対し、該当接板８９８が結合部分８６８へ移行している中央の当接突起８９７'''の領域において最も大きな横断面を有している。この横断面はエッジ側の当接突起８９７’または８９７'''''のほうへ漸進的に減少している。当接体８７６の形状および当接板８９８に対する横断面の構成と材料の選択とに応じて、この実施形態でも、ピエゾアクチュエータ８９６により補正要素８４４に圧力が作用すると、当接突起８９７’〜８９７'''''を介して補正要素８４４の周囲の面８７２に作用する所定の圧力分布が生じる。
【０１１５】
図１２は当接体９７６の更なる構成を示している。この当接体９７６も、補正要素９４４とは逆の側でピエゾアクチュエータ９９５に面で当接している。当接体９７６には、ピエゾアクチュエータ９９５とは逆の側の面にして補正要素９４４の周囲の面９７２側の面に４つの圧縮ばね９６７’〜９６７''''が装着されている。圧縮ばね９６７’〜９６７''''は半球状の当接部分を介して補正要素９４４の周囲の面９７２に当接している。圧縮ばね９６７’〜９６７''''は所定の異なる弾性定数を有している。すなわち中央の２つの圧縮ばね９６７''，９６７'''は、外側の２つの圧縮ばね９６７’，９６７''''よりも大きなばね強さを有している。これにより、ピエゾアクチュエータ９９５により当接体９７６に圧力が作用すると、中央の２つの圧縮ばね９６７''，９６７'''は外側の２つの圧縮ばね９６７’，９６７''''よりも大きな力を周囲の面９４２に及ぼす。
【０１１６】
所定の応力分布に応じては、当接板６９８〜８９８の横断面の形状或いは、圧縮ばね９６７’〜９６７''''の弾性定数は、他の形状または値分布を有していてよい。
【０１１７】
以上説明し、引用し、請求の範囲の対象となる個々の手段は、個別に説明しないが、別様に組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】本発明による投射露光装置を部分的に子午線断面図で示した概略図である。
【図２】図１の投射露光装置に組み込まれているものとは択一的な光学的補正要素を示す図である。
【図３】他の択一的な光学的補正要素の半部分の子午線断面図である。
【図４】図３の光学的補正要素と協働する力誘導装置の可動な当接体であって、図３の当接体とは択一的な前記当接体の詳細図である。
【図５】択一的な力誘導装置を備えた光学的補正要素の図３と同様の図である。
【図６】図５の実施形態の平面図である。
【図７】択一的な力誘導装置を備えた択一的な光学的補正要素の図３および図５と同様の図である。
【図８】図７の実施形態の平面図である。
【図９】上に図示した力誘導装置との関連で使用可能な当接体の変形実施形態を示す図である。
【図１０】上に図示した力誘導装置との関連で使用可能な当接体の変形実施形態を示す図である。
【図１１】上に図示した力誘導装置との関連で使用可能な当接体の変形実施形態を示す図である。
【図１２】上に図示した力誘導装置との関連で使用可能な当接体の変形実施形態を示す図である。

Claims (44)

1. マイクロリソグラフィーの投射露光装置であって、
   ａ）光源（１）、特に２５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の波長を持った光源（１）と、
   ｂ）照射システム（２）と、
   ｃ）マスク位置決めシステム（３１）と、
   ｄ）有利には０．７〜０．９５の範囲の像側の開口数（ＮＡ）と、システムアパーチャー面（Ｐ）と、像面（５）とを備えた投射レンズ（４）にして、透過角（α）に依存した複屈折を有する材料から成り特に像面（５）付近に配置される少なくとも１つのレンズ（４２，４３）を含んでいる前記投射レンズ（４）と、
   ｅ）対象物位置決めシステム（５１）と
   を備えた前記投射露光装置において、
   照射システム（２）内または投射レンズ（４）内に、位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を有し、且つ少なくとも１つのレンズ（４２，４３）によって像面（５）内に生じた複屈折効果を少なくとも部分的に補正する光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が瞳面（Ｐ）付近に設けられていることを特徴とする投射露光装置。
2. 少なくとも１つのレンズの材料が立方晶フッ化物、特にＣａＦ₂、ＢａＦ₂、またはＳｒＦ₂であることを特徴とする請求項１に記載の投射露光装置。
3. 透過角（α）に依存する複屈折と、位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用とが、同じ複数回の回転対称性、特に３回または４回の回転対称性を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の投射露光装置。
4. 少なくとも１つのレンズ（４２，４３）が、透過角（α）に依存する複屈折を有する前記材料から成り、且つシステムアパーチャー面（Ｐ）と像面（５）との間に配置され、特に像側の最後のレンズ（４３）として配置されていることを特徴とする上記請求項の少なくとも一つに記載の投射露光装置。
5. 位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を備えた光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が投射レンズ（４）のシステムアパーチャー面（Ｐ）の付近に配置されていることを特徴とする上記請求項のいずれか一つに記載の投射露光装置。
6. 位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を備えた光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が光学的に活性な要素であり、特に水晶から成る要素であり、或いは、位置に応じて厚さが異なる複屈折要素であることを特徴とする上記請求項のいずれか一つに記載の投射露光装置。
7. 像面（５）内で接線方向または半径方向の偏光があることを特徴とする上記請求項のいずれか一つに記載の投射露光装置。
8. 照明システム（２）内または投射レンズ（４）の対象物側部分（４１）内に半径方向の偏光を生じさせること、システムアパーチャー面（Ｐ）の付近に光学的に活性な要素（４４）が配置され、特に水晶から成る要素（４４）が配置され、該要素（４４）は、少なくとも１つのレンズ（４２，４３）によって生じた複屈折効果を重畳補正することで接線方向の偏光に対し偏光回転を生じさせ、特に該要素（４４）の適切な位置的厚さ分布によって生じさせることを特徴とする請求項６と７に記載の投射露光装置。
9. 光学システム、特にマイクロリソグラフィーの投射レンズであって、
   ａ）透過する光束の光線の角度に対して偏光依存性の伝播障害を生じさせる少なくとも１つの第１の光学要素を備えている前記光学システムにおいて、
   ｂ）少なくとも１つの第２の光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が設けられ、第２の光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）は、該第２の光学要素における光束の光線の位置に応じて偏光を制御して、第１の光学要素（４２，４３）による前記障害を少なくとも部分的に補正することを特徴とする光学システム。
10. 請求項９に記載の光学システムにおいて、
    ａ）少なくとも１つのフィールド面（３，５）と、
    ｂ）該フィールド面（３，５）に対しフーリエ変換された少なくとも１つの瞳面（Ｐ）と、
    を有していること、
    ｃ）第１の光学要素（４２，４３）が前記フィールド面（３，５）の付近に配置され、
    ｄ）第２の光学要素（４４；１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が前記瞳面（Ｐ）の付近に配置されていること、
    を特徴とする光学システム。
11. 伝播障害と偏光制御とが同じ複数回数の回転対称性、特に３回または４回の回転対称性を有していることを特徴とする請求項９または１０に記載の光学システム。
12. 光学システム、特にマイクロリソグラフィーの投射レンズであって、
    透過する光束の光線の角度に関して偏光依存性の伝播障害を生じさせる少なくとも１つの第１および第２の光学要素を備えている前記光学システムにおいて、
    第１および第２の光学要素の最大複屈折の回転角度範囲が互いにずれるように該第１および第２の光学要素が共通の対称軸線のまわりに互いに回転していることを特徴とする光学システム。
13. 付加的に請求項９から１１までの少なくとも１つの請求項の構成要件を満たしていることを特徴とする請求項１２に記載の光学システム。
14. 応力に応じた位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を備える少なくとも１つの光学要素（１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）が、偏光制御作用を変化させるため、力誘導装置（１５１〜１５７；２７０；４７０；５７０）に連結されていることを特徴とする請求項９から１３までのいずれか一つに記載の光学システム。
15. 力誘導装置（１５１〜１５７；２７０；４７０；５７０）が少なくとも１つのピエゾアクチュエータ（１５１〜１５３；２８２；４９０；５９５）を有していることを特徴とする請求項１４に記載の光学システム。
16. 力誘導装置（１５１〜１５７；２７０；４７０；５７０）が、光学要素（１４４；２４４；３４４；４４４；５４４；６４４；７４４；８４４；９４４）を撓ませることなく該光学要素の周囲の面（１６１；２７２；３７２；４７２；５７２；６７２；７７２；８７２；９７２）に作用することを特徴とする請求項１４または１５に記載の光学システム。
17. 力誘導装置（２７０；４７０；５７０）が少なくとも１つの力誘導要素（２７６，２７７，２７９，２８５；３７９，３８５；４７６，４８５，４９１；５７６）を有し、該力誘導要素は、力誘導個所を介して光学要素（２４４；３４４；４４４；５４４）に作用する力の合成力が光学要素（２４４；３４４；４４４；５４４）の中立ファイバーを含んでいる中立面内に延びるように、少なくとも２つの力誘導個所に設けた力誘導体（２７５，２８６；３８９；４７５，４８６；５９６，５９７）を介して光学要素（２４４；３４４；４４４；５４４）に作用することを特徴とする請求項１６に記載の光学システム。
18. 力誘導体（３８５；６７６；７７６；８７６）を力誘導個所に当接させる当接体（３８９；６９８；７９８；８９８）が、力誘導個所に対する該当接体（３８９；６９８；７９８；８９８）の方向調整が可能であるように可動に形成されていることを特徴とする請求項１４から１７までのいずれか一つに記載の光学システム。
19. 当接体（３８９；６９８；７９８；８９８）が、ばねを介して、力誘導体（３８５；６７６；７７６；８７６）の基礎体（３７９；６６９；７６９；８６９）に装着されていることを特徴とする請求項１８に記載の光学システム。
20. 当接体（３８９）が少なくとも１つのヒンジ（３８７，３８８）を介して力誘導体（３８５）の基礎体（３７９）に装着されていることを特徴とする請求項１８または１９に記載の光学システム。
21. 当接体（３８９；６９８；７９８；８９８）が少なくとも１つの可動な固体ヒンジ（３８７，３８８；６９８；７９８；８９８）を介して力誘導体（３８５；６７６；７７６；８７６）の基礎体（３７９；６６９；７６９；８６９）に接続されていることを特徴とする請求項１８に記載の光学システム。
22. 当接体（６９８；７９８；８９８）が、光学要素（６４４；７４４；８４４）の周方向に拡がっている１つの力誘導個所を介して、または、光学要素の周方向にずらして配置されている少なくとも２つの力誘導個所（６９７；７９７；８９７）を介して光学要素（６４４；７４４；８４４）に作用し、当接体（６９８；７９８；８９８）は光学要素（６４４；７４４；８４４）の周方向に変化する当接力を光学要素（６４４；７４４；８４４）内へ導入することを特徴とする請求項２１に記載の光学システム。
23. 当接体（６９８；７９８；８９８）が、光学要素（６４４；７４４；８４４）の周方向に変化する曲げ剛性を有していることを特徴とする請求項２２に記載の光学システム。
24. 当接体（９７６）が、光学要素（９４４）の周方向にずらして配置され且つ所定のばね強さを持った少なくとも２つの弾性体（９６７）を介して、光学要素（９４４）の周方向に変化する力を光学要素（９４４）内に導入することを特徴とする請求項１４から２３までのいずれか一つに記載の光学システム。
25. 力誘導要素（２７６，２７７，２７９，２８５；３７９，３８５；４７６，４８５，４９１；５７６）が２つの力誘導体（２７５，２８６；３８９；４７５，４８６；５９６，５９７）を有し、これら力誘導体の力誘導個所が光学要素（２４４；３４４；４４４；５４４）の中立面の外側に配置されていることを特徴とする請求項１７から２４までのいずれか一つに記載の光学システム。
26. 両力誘導体（２７６，２７７，２７９，２８５）がヒンジ（２８０）を介して互いに結合され、ヒンジ（２８０）と複数の力誘導個所のうちの１つの力誘導個所との間にそれぞれ力誘導体（２７６，２７７，２７９，２８５）の第１のレバーアームが形成され、該第１のレバーアームは力誘導体（２７６，２７７，２７９，２８５）の第２のレバーアームに係合していることを特徴とする請求項２５に記載の光学システム。
27. 両力誘導体（２７６，２７７，２７９，２８５）がやっとこ状に形成され、個々のアクチュエータ（２８２）が力誘導体（２７６，２７７，２７９，２８５）の２つの第２のレバーアームの間に配置されて、同時にこれら２つの第２のレバーアームに作用することを特徴とする請求項２６に記載の光学システム。
28. １つの力誘導体（４７５，４８６；５９６，５９７）に、光学要素（４４４；５４４）内への力誘導を制御するための少なくとも１つのアクチュエータ（４９０；５９５）がそれぞれ付設されていることを特徴とする請求項２５または２６に記載の光学システム。
29. 剪断作用を有する少なくとも１つのアクチュエータ（４９０）が設けられ、該アクチュエータ（４９０）は、力誘導体（４７５，４８６）と光学要素（４４４）のフレームに固定されたフレーム固定部材（４７７）との間で作用することを特徴とする請求項２８に記載の光学システム。
30. 光学要素（５４４）の光軸（５９２）の方向にずらして配置された少なくとも２つの力誘導個所を備える力誘導体（５９６，５９７）を有する力誘導要素（５７６）が設けられていることを特徴とする請求項１７から２４までのいずれか一つに記載の光学システム。
31. 光学要素（５４４）に対し半径において力誘導体（５９６，５９７）に作用するアクチュエータ（５９５）が設けられ、該アクチュエータ（５９５）は光学要素（５４４）の光軸（５９２）の方向に変位可能に配置されていることを特徴とする請求項３０に記載の光学システム。
32. 光学要素（５４４）のまわりにリング（５９４）として形成されたアクチュエータ（５９５）用の反応体が設けられていることを特徴とする請求項３１に記載の光学システム。
33. 動力学的に作用する力誘導装置（１５１〜１５７）が設けられていることを特徴とする請求項１４から３２までのいずれか一つに記載の光学システム。
34. 力誘導装置（１５１〜１５７）が、所定の振動数で光学要素（１４４）に作用するように構成されていることを特徴とする請求項３３に記載の光学システム。
35. 力誘導装置（１５１〜１５７）の振動数が光学要素（１４４）の本体振動の共振振動数の範囲にあることを特徴とする請求項３４に記載の光学システム。
36. 光源（１０１）が、間欠投射光束を放射するように構成されていること、力誘導装置（１５１〜１５７）が、投射光束に対し時間的に同調して間欠的に光学要素（１４４）に作用するように構成されていることを特徴とする請求項３３から３５までのいずれか一つに記載の光学システム。
37. 力誘導装置（１５１〜１５７）を光源（１０１）と同期させるための制御装置（１５９）が設けられていることを特徴とする請求項３６に記載の光学システム。
38. 力誘導装置（１５１〜１５７）が、光学要素（１４４）の内部に音波を生じさせてその分布がゼルニケ関数の所定の重ね合わせに対応するように構成されていることを特徴とする請求項３３から３７までのいずれか一つに記載の光学システム。
39. 力誘導装置（１５１〜１５７）により光学要素（１４４）内に定常音波を生じさせることを特徴とする請求項３８に記載の光学システム。
40. 力誘導装置（１５１〜１５７）により光学要素（１４４）内に進行音波を生じさせることを特徴とする請求項３８に記載の光学システム。
41. 請求項９から４０までのいずれか一つに記載の光学システム、特に投射レンズを有しているマイクロリソグラフィーの投射露光装置。
42. 投射レンズ（４）一式を取り付け、像面内の波面を測定するようにした、マイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法において、複数回の回転対称性の、特に３回または４回の回転対称性の障害を評価し、これに依存して、特に瞳付近に配置されている光学要素（４４）の厚さプロフィールを同じ複数回の回転対称性で変化させることにより、像面（５）内の波面の複数回の回転対称性の障害を少なくとも部分的に補正することを特徴とする製造方法。
43. マイクロリソグラフィー投射レンズが請求項９から４０までの少なくとも一つに記載の光学システム、および／または請求項１から８までの少なくとも１つまたは請求項４１に記載の投射露光装置の一部であることを特徴とする請求項４２に記載の製造方法。
44. マイクロリソグラフィーによる構造化方法において請求項１から８までの少なくとも１つまたは請求項４１に記載の投射露光装置を使用すること、または請求項９から４０までの少なくとも１つに記載の光学システムを含んでいる投射露光装置を使用すること、または請求項４２または４３にしたがって製造した投射露光装置を使用することを特徴とする前記構造化方法。