DK3271496T3 - Lithiumholdigt overgangsmetaloxidmål - Google Patents

Lithiumholdigt overgangsmetaloxidmål Download PDF

Info

Publication number
DK3271496T3
DK3271496T3 DK16712293.6T DK16712293T DK3271496T3 DK 3271496 T3 DK3271496 T3 DK 3271496T3 DK 16712293 T DK16712293 T DK 16712293T DK 3271496 T3 DK3271496 T3 DK 3271496T3
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
equal
lithium
transition metal
metal oxide
target
Prior art date
Application number
DK16712293.6T
Other languages
English (en)
Inventor
Jong-Won Shin
Original Assignee
Umicore Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Umicore Nv filed Critical Umicore Nv
Application granted granted Critical
Publication of DK3271496T3 publication Critical patent/DK3271496T3/da

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/02—Compacting only
    • B22F3/04—Compacting only by applying fluid pressure, e.g. by cold isostatic pressing [CIP]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/002—Soldering by means of induction heating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G51/00—Compounds of cobalt
    • C01G51/40—Cobaltates
    • C01G51/42—Cobaltates containing alkali metals, e.g. LiCoO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/6261—Milling
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62695—Granulation or pelletising
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H01J37/342—Hollow targets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H01J37/3426—Material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3491—Manufacturing of targets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C01P2004/53—Particles with a specific particle size distribution bimodal size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/327—Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3275—Cobalt oxides, cobaltates or cobaltites or oxide forming salts thereof, e.g. bismuth cobaltate, zinc cobaltite
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54—Particle size related information
    • C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
    • C04B2235/602—Making the green bodies or pre-forms by moulding
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
    • C04B2235/612—Machining
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74—Physical characteristics
    • C04B2235/77—Density
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10—Energy storage using batteries

Claims (43)

1. Lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret cylindrisk hult mållegeme, der er tilpasset til anvendelse i en sputtering-målsamling, hvilket cylindriske hule mållegeme er egnet til vedhæftning på et bærerrør med henblik på at danne sputtering-målsamlingen, hvor det cylindriske hule mållegeme har en relativ densitetsværdi på > 90,0 %, og hvor det lithiumholdige overgangsmetaloxid består af en lithiumovergangsmetaloxidmikrostruktur, der indeholder en bimodal kornstørrelsesfordeling.
2. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 1 med en relativ densitetsværdi på over eller lig med 91,0 % og på under eller lig med 99,8 %.
3. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 1 eller 2 med en modstandsværdi på 5 kQ cm, fortrinsvis < 3 kQ cm, mere fortrinsvis < 2 kQ cm.
4. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 2 eller 3, hvor det lithiumholdige overgangsmetaloxid har en middelkorndiameter på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 50 pm, fortrinsvis 46 pm, mere fortrinsvis 45 pm, mest fortrinsvis 40 pm.
5. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 4, hvor det lithiumholdige overgangsmetaloxid har en middelkorndiameter på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 20 pm.
6. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 5, hvor hver modus for den bimodale kornstørrelsesfordeling er centreret ved en middeldiameterværdi på under 50 pm, fortrinsvis 46 pm, mere fortrinsvis 40 pm, endog mere fortrinsvis på under eller lig med 30 pm, valgfrit på under eller lig med 20 pm.
7. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 6, hvor hver modus for den bimodale kornstørrelsesfordeling er centreret ved en middeldiameterværdi på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 20 pm, fortrinsvis på under 20 pm.
8. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 7, hvor det lithiumholdige overgangsmetaloxid har en almen formel: UMO2 eller L1MMO2, hvor M er et overgangsmetal, der er valgt fra gruppen bestående af: Ni, Co, Mn, Ti, Al, V, Cr, Y, Sr, Ca, Zr, Zn, Si, Mg, Ga, W, Fe, Cu, La eller mindst én kombination deraf, og M’ er et doteringsstof, der er valgt fra gruppen bestående af: Ti, Al, V, Cr, Y, Sr, Ca, Zr, Zn, Si, Mg, Ga, W, Fe, Cu, La eller mindst én kombination deraf.
9. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 8, hvor det UMO2- eller LiMM’02-lithiumholdige overgangsmetaloxid har et Li/M- eller Li/(M+M’)-atomforhold på over eller lig med 0,90 og på under eller lig med 1,25, fortrinsvis på over eller lig med 0,98 og på under eller lig med 1,05.
10. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 8 eller 9, hvor det LiMM’02- lithiumholdige overgangsmetaloxid har et M’/M-atomforhold på over eller lig med 0,001 og på under eller lig med 0,05.
11. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 8 til 10, hvor det LiMCte-lithiumholdige overgangsmetaloxid har en almen formel: UC0O2.
12. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 11, hvor Li/Co-forholdet er lig med 1,00 + 0,01, fortrinsvis er forholdet lig med 1,00 ± 0,50, mere fortrinsvis er forholdet på over eller lig med 0,60 ± 0,01 og på under eller lig med 0,80 ± 0,01.
13. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 12, der udviser en ruhed på den ydre overflade og/eller den indre overflade på over eller lig med 0,2 pm og på under eller lig med 3,0 pm.
14. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 13, der udviser en ruhed på den ydre overflade og/eller den indre overflade lig med 2,5 + 0,25 pm.
15. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 14, der udviser et aksialt længdeområde på over eller lig med 100 mm og på under eller lig med 1000 mm, fortrinsvis på over eller lig med 150 mm og på under eller lig med 500 mm.
16. Cylindrisk hult mållegeme ifølge krav 1 til 15, der udviser en ydre diameter på over eller lig med 75 mm og på under eller lig med 175 mm samt en indre diameter på over eller lig med 50 mm og på under eller lig med 160 mm.
17. Cylindrisk hult mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 16 med en renhed på mindst 99,995 vægt-%.
18. Fremgangsmåde til fremstilling af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret cylindrisk hult mållegeme, hvilken fremgangsmåde omfatter følgende trin: der tilvejebringes et lithiumholdigt overgangsmetaloxidmateriale, fortrinsvis et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver; der tilvejebringes en vandig opløsning; det lithiumholdige overgangsmetaloxidmateriale eller det lithiumholdige overgangsmetaloxidpulver bringes i kontakt med den vandige opløsning under agitation med henblik på at danne en opslæmning, hvor det lithiumholdige overgangsmetaloxidmateriale eller det lithiumholdige overgangsmetaloxidpulver dispergeres, fortrinsvis på en homogen måde, i den vandige opløsning; - opslæmningen vådformales, fortrinsvis med henblik på at danne en homogen opslæmning fremstillet af pulveret og den vandige opløsning; der tilsættes under agitation mindst ét bindemiddel i opslæmningen, hvilket resulterer i en homogen opslæmning, der omfatter det mindst ene bindemiddel; opslæmningen, der omfatter det mindst ene bindemiddel, spraytørres med henblik på at danne et lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret granulat; og det lithiumholdige overgangsmetaloxidbaserede granulat formes i en hul cylinderformet form under koldisostatisk tryk (ClP)-betingelser med henblik på at danne et formet legeme; det formede legeme opvarmes med henblik på at fjerne det mindst ene bindemiddel og fortrinsvis opnå et bindemiddelfrit formet legeme; og - efter opvarmningstrinnet sintres det formede legeme med henblik på at opnå det lithiumholdige cylindriske hule overgangsmetaloxidmållegeme bestående i en lithiumovergangsmetaloxidmikrostruktur, der indeholder en bimodal kornstørrelsesfordeling.
19. Fremgangsmåde ifølge krav 18, der omfatter et første trin med bearbejdning af det cylindriske hullegeme med henblik på at forme det i et aksialt længdeområde på over eller lig med 100 mm og på under eller lig med 1000 mm, i en ydre diameter på over eller lig med 75 mm og på under eller lig med 175 mm og en indre diameter på over eller lig med 50 mm og på under eller lig med 160 mm.
20. Fremgangsmåde ifølge krav 18 eller 19, der omfatter et andet trin med bearbejdning af det cylindriske hullegeme med henblik på at forme det med en ruhed på den ydre overflade og/eller den indre overflade på over eller lig med 0,2 pm og på under eller lig med 3,0 pm.
21. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 20, hvor trinnet med formning af det lithiumholdige overgangsmetaloxidbaserede granulat foretages under CIP med et trykområde på mellem 2000 og 4000 bar og mere fortrinsvis mellem 3000 og 4000 bar.
22. Fremgangsmåde ifølge krav 21, hvor formningstrinnet udføres ved en temperatur i intervallet mellem 20 °C og 30 °C.
23. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 22, hvor vådformalingstrinnet udføres med henblik på at opnå et lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret granulat, der omfatter mindst 50 %, fortrinsvis mindst 70 % af det totale antal granulater med en størrelse på mellem 40 pm og 120 pm.
24. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 23, hvor opvarmningstrinnet med henblik på at fjerne det mindst ene bindemiddel udføres ved en første temperatur på over eller lig med 150 °C og på under eller lig med 600 °C, og hvor sintringstrinnet udføres ved en anden temperatur, der er over den første temperatur og under eller lig med 1050 °C, idet den anden sintringstemperatur fortrinsvis er over 600 °C.
25. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 24, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidmateriale i pulverform med en medianpartikelstørrelse på mindre end 40 pm.
26. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 25, hvor vådformalingstrinnet udføres med henblik på at tilvejebringe suspenderet partikelpulver med en medianpartikelstørrelse på over eller lig med 0,15 pm og på under eller lig med 2,0 pm, fortrinsvis på over eller lig med 0,15 pm og på under eller lig med 1,0 pm, endog mere fortrinsvis på over eller lig med 0,15 pm og på under eller lig med 0,8 pm, mest fortrinsvis er middelpartikelstørrelsen lig med 0,5 pm ± 0,3 pm.
27. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 19 til 26, hvor vådformalingstrinnet udføres med henblik på at tilvejebringe suspenderet partikelpulver med en bimodal partikelstørrelsesfordeling, hvor en første modus er centreret ved en første partikelstørrelsesværdi omfattet mellem 0,1 pm og 0,3 pm, fortrinsvis 0,15 til 0,25 pm, og hvor en anden modus er centreret ved en anden partikelstørrelsesværdi omfattet mellem 1,0 pm og 7,0 pm.
28. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 27, hvor vådformalingstrinnet udføres med henblik på at opnå en opslæmning, der har en viskositet på over eller lig med 30 cP og på under eller lig med 120 cP, fortrinsvis på over eller lig med 30 cP og på under eller lig med 100 cP.
29. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 28, hvor trinnet med tilsætning af mindst ét bindemiddel udføres med henblik på at opnå en opslæmning, der har en viskositet på over eller lig med 25 cP og på under eller lig med 125 cP, fortrinsvis på over eller lig med 30 cP og på under eller lig med 100 cP.
30. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 29, hvor det mindst ene bindemiddel tilsættes opslæmningen i en kvantitet angivet ved 0,25 vægt-% til 3,0 vægt-% af det lithiumholdige overgangsmetaloxidmateriale eller af det lithiumholdige overgangsmetaloxidpulver.
31. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 30, hvor sintringstrinnet resulterer i et lithiumholdigt overgangsmetaloxid, der har en middelkorndiameter på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 40 pm.
32. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 31, hvor sintringstrinnet resulterer i et lithiumholdigt overgangsmetaloxid, der har en middelkorndiameter på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 20 pm.
33. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 32, hvor sintringstrinnet resulterer i et lithiumholdigt overgangsmetaloxid, der udviser en bimodal kornstørrelsesfordeling, hvor hver modus forden bimodale kornstørrelsesfordeling er centreret ved en middeldiameterværdi på under eller lig med 50 pm, fortrinsvis 40 pm, fortrinsvis på under eller lig med 30 pm, mere fortrinsvis på under eller lig med 20 pm.
34. Fremgangsmåde ifølge krav 33, hvor sintringstrinnet resulterer i et lithiumholdigt overgangsmetaloxid, der udviser en bimodal kornstørrelsesfordeling, hvor hver modus for den bimodale kornstørrelsesfordeling er centreret ved en middeldiameterværdi på over eller lig med 5 pm og på under eller lig med 20 pm, fortrinsvis på under 20 pm.
35. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 34, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver med en almen formel: LiMO2 eller LiMM’O2, hvor M er et overgangsmetal, der er valgt fra gruppen bestående af: Ni, Co, Mn, Ti, Al, V, Cr, Y, Sr, Ca, Zr, Zn, Si, Mg, Ga, W, Fe, Cu, La eller mindst én kombination deraf, og M’ er et doteringsstof, der er valgt fra gruppen bestående af: Ti, Al, V, Cr, Y, Sr, Ca, Zr, Zn, Si, Mg, Ga, W, Fe, Cu, La eller mindst én kombination deraf.
36. Fremgangsmåde ifølge krav 35, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver med et Li/M- eller Li/(M+M’)- atomforhold på over eller lig med 0,90 og på under eller lig med 1,25, fortrinsvis på over eller lig med 0,98 og på under eller lig med 1,05.
37. Fremgangsmåde ifølge krav 35 eller 36, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver med et M7M-atomforhold på over eller lig med 0,001 og på under eller lig med 0,05.
38. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 37, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver med en almen formel: LiCoCte.
39. Fremgangsmåde ifølge krav 38, der omfatter et trin med tilvejebringelse af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidpulver med en almen formel: L1C0O2, og hvor Li/Co-forholdet er lig med 1,0 ± 0,01, fortrinsvis er forholdet lig med 1,0 ± 0,50, mere fortrinsvis er forholdet på over eller lig med 0,60 + 0,01 og på under eller lig med 0,80 + 0,01.
40. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 39 til fremstilling af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret cylindrisk hult mållegeme med en relativ densitetsværdi på > 90,0 %, fortrinsvis mellem 91,0 % og 99,8 %.
41. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 40 til fremstilling af et lithiumholdigt overgangsmetaloxidbaseret cylindrisk hult mållegeme med en modstandsværdi på 5 kQ cm, fortrinsvis < 3 kQ cm, mere fortrinsvis < 2 kQ cm.
42. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 18 til 41 til fremstilling af det lithiumholdige overgangsmetaloxidbaserede cylindriske hule mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 17.
43. Anvendelse af det cylindriske hule mållegeme ifølge et hvilket som helst af kravene 1 til 17 i en sputtering-målsamling.
DK16712293.6T 2015-03-18 2016-03-17 Lithiumholdigt overgangsmetaloxidmål DK3271496T3 (da)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562134807P 2015-03-18 2015-03-18
US201562134762P 2015-03-18 2015-03-18
PCT/EP2016/055779 WO2016146732A1 (en) 2015-03-18 2016-03-17 Lithium-containing transition metal oxide target

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK3271496T3 true DK3271496T3 (da) 2019-04-01

Family

ID=55589824

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK16712293.6T DK3271496T3 (da) 2015-03-18 2016-03-17 Lithiumholdigt overgangsmetaloxidmål

Country Status (7)

Country Link
US (2) US10822690B2 (da)
EP (2) EP3271496B1 (da)
JP (2) JP6744323B2 (da)
KR (3) KR102206547B1 (da)
CN (2) CN107771224B (da)
DK (1) DK3271496T3 (da)
WO (2) WO2016146733A1 (da)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102206547B1 (ko) 2015-03-18 2021-01-22 바이탈 씬 필름 머티리얼즈 (광동) 캄파니 리미티드 회전 스퍼터링 타겟의 형성 방법
US10655212B2 (en) 2016-12-15 2020-05-19 Honeywell Internatonal Inc Sputter trap having multimodal particle size distribution
JP6556384B2 (ja) * 2017-01-11 2019-08-07 信越石英株式会社 中空状多孔質石英ガラス母材の製造方法
BE1025799B1 (nl) * 2017-12-18 2019-07-19 Soleras Advanced Coatings Bvba Gespoten lithiumcobaltoxide-targets
JP6518809B1 (ja) * 2018-03-19 2019-05-22 Ｊｘ金属株式会社 スパッタリングターゲット及びその梱包方法
CN108546921A (zh) * 2018-05-10 2018-09-18 苏州精美科光电材料有限公司 一种管靶贴合控制间隙的方法
CN108817588A (zh) * 2018-05-30 2018-11-16 苏州精美科光电材料有限公司 一种管靶贴合方法
CN109554675B (zh) * 2018-11-30 2020-11-24 深圳市华星光电技术有限公司 保护盖及溅射装置
CN109518147A (zh) * 2018-12-08 2019-03-26 东曹(上海)电子材料有限公司 一种旋转靶的生产方法
KR101956017B1 (ko) * 2018-12-12 2019-03-08 (주)코아엔지니어링 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리의 인듐 충진장치 및 충진방법
CN109763106A (zh) * 2019-02-28 2019-05-17 先导薄膜材料（广东）有限公司 平面靶材的退绑修复方法
CN109706345B (zh) * 2019-03-18 2023-10-20 绍兴市天龙锡材有限公司 一种旋转靶材合金及其加工方法
CN109807453B (zh) * 2019-03-18 2020-10-02 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种高纯铜旋转靶的焊接方法
CN111719124A (zh) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司 一种组合靶件
CN111719123A (zh) * 2019-03-21 2020-09-29 广东太微加速器有限公司 组合式靶件
CN111778486A (zh) * 2019-04-04 2020-10-16 领凡新能源科技(北京)有限公司 旋转靶材、旋转靶材的绑定方法和装置
US11830712B2 (en) 2019-05-22 2023-11-28 Sci Engineered Materials, Inc. High efficiency rotatable sputter target
KR102376281B1 (ko) * 2019-06-10 2022-03-17 가부시키가이샤 아루박 스퍼터링 타깃 및 스퍼터링 타깃의 제조방법
CN110282984A (zh) * 2019-06-25 2019-09-27 兰品军 测试用可变组分的陶瓷旋转靶材及其制备方法
CN110270730B (zh) * 2019-07-26 2021-07-09 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种管靶脱焊装置及其使用方法
CN110408897B (zh) * 2019-08-13 2023-05-05 北京航大微纳科技有限公司 一种旋转靶材的垂直绑定装置以及绑定方法
CN110373643B (zh) * 2019-08-21 2020-07-03 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种ito旋转靶绑定方法
CN110747438B (zh) * 2019-12-02 2021-11-23 广西晶联光电材料有限责任公司 一种高贴合强度旋转靶材的绑定方法
JP7250723B2 (ja) * 2020-03-31 2023-04-03 Ｊｘ金属株式会社 スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法
CN111468799A (zh) * 2020-04-22 2020-07-31 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种陶瓷旋转靶材的焊接方法
CN113249693A (zh) * 2021-05-08 2021-08-13 浙江大学台州研究院 一种管靶绑定装置
CN113427096B (zh) * 2021-07-01 2022-06-03 中国航发贵州黎阳航空动力有限公司 一种用于试样钎焊的工装及试样装炉方法
CN114481049B (zh) * 2021-12-24 2023-07-18 凯盛信息显示材料(洛阳)有限公司 一种ito旋转靶绑定装置
CN115533359A (zh) * 2022-09-07 2022-12-30 有研稀土新材料股份有限公司 一种稀土旋转靶材及其制备方法

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5955051A (en) 1996-08-02 1999-09-21 Westaim Technologies Inc. Synthesis of lithium nickel cobalt dioxide
WO2002020866A1 (fr) 2000-09-08 2002-03-14 Asahi Glass Company, Limited Cible cylindrique et procede de fabrication de ladite cible
CN1289709C (zh) * 2001-08-13 2006-12-13 贝卡尔特股份有限公司 用于制造溅射靶的方法
DE102004060423B4 (de) 2004-12-14 2016-10-27 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Rohrtarget und dessen Verwendung
WO2007041425A2 (en) * 2005-10-03 2007-04-12 Thermal Conductive Bonding, Inc. Very long cylindrical sputtering target and method for manufacturing
JP2008050625A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 Toppan Printing Co Ltd マグネトロンスパッタ用ターゲット及び透明導電膜形成方法並びに有機電界発光素子の製造方法
PL3366648T3 (pl) 2007-06-29 2020-04-30 Umicore Tlenek litowo-kobaltowy o dużej gęstości dla baterii wielokrotnego ładowania
JP5393674B2 (ja) 2007-08-10 2014-01-22 ユミコア ソシエテ アノニム 硫黄を含むドープされたリチウム遷移金属酸化物
JP2009158416A (ja) 2007-12-27 2009-07-16 Ulvac Japan Ltd 固体電解質薄膜の製造方法、平行平板型マグネトロンスパッタ装置、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法
KR100999694B1 (ko) * 2008-09-01 2010-12-08 엘지이노텍 주식회사 발광 소자
US20110089030A1 (en) * 2009-10-20 2011-04-21 Miasole CIG sputtering target and methods of making and using thereof
CN102612775B (zh) 2009-11-05 2015-03-11 尤米科尔公司 双壳芯型锂镍锰钴氧化物
WO2011086650A1 (ja) * 2010-01-15 2011-07-21 株式会社アルバック ＬｉＣｏＯ２焼結体の製造方法及びスパッタリングターゲット
KR101364414B1 (ko) 2010-01-15 2014-02-18 가부시키가이샤 아루박 ＬｉＣｏＯ₂ 소결체의 제조방법 및 스퍼터링 타겟
CN102206802B (zh) * 2010-03-29 2012-12-19 苏州晶纯新材料有限公司 全固态薄膜锂离子电池相关靶材及其制造方法
TWI544099B (zh) 2010-05-21 2016-08-01 烏明克公司 濺鍍標靶對支撐材料的非連續性接合
CN102260847A (zh) * 2010-05-27 2011-11-30 苏州晶纯新材料有限公司 一种低熔点金属旋转靶材及生产技术
US20110311436A1 (en) * 2010-06-21 2011-12-22 Ngk Insulators, Inc. Method for producing spinel-type lithium manganate
CN102054964A (zh) 2010-07-22 2011-05-11 中信国安盟固利动力科技有限公司 磁控溅射正极极片
JPWO2012066764A1 (ja) * 2010-11-17 2014-05-12 株式会社アルバック バッキングプレート、ターゲットアセンブリ及びスパッタリング用ターゲット
JP5672537B2 (ja) 2010-12-28 2015-02-18 東ソー株式会社 円筒形スパッタリングターゲットおよびその製造方法
KR20180069073A (ko) * 2011-04-29 2018-06-22 프로테크 머터리얼즈 인크. 원통형 스퍼터 타깃 조립체를 형성하는 방법
JP5750060B2 (ja) 2012-01-18 2015-07-15 三井金属鉱業株式会社 セラミックス円筒形スパッタリングターゲット材およびその製造方法
JP6157387B2 (ja) * 2013-03-13 2017-07-05 株式会社コベルコ科研 ＬｉＣｏＯ２含有焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにＬｉＣｏＯ２含有焼結体の製造方法
JP6231428B2 (ja) 2013-04-30 2017-11-15 株式会社コベルコ科研 Ｌｉ含有酸化物ターゲット接合体およびその製造方法
KR101465235B1 (ko) * 2013-04-30 2014-11-25 한순석 스퍼터링용 로터리 타겟 어셈블리의 접합방법
JP2015036431A (ja) 2013-08-12 2015-02-23 住友金属鉱山株式会社 円筒形スパッタリングターゲットおよびその製造方法。
JP5937731B2 (ja) 2014-10-07 2016-06-22 Ｊｘ金属株式会社 スパッタリングターゲット
KR102206547B1 (ko) 2015-03-18 2021-01-22 바이탈 씬 필름 머티리얼즈 (광동) 캄파니 리미티드 회전 스퍼터링 타겟의 형성 방법
JP2017141515A (ja) 2017-03-17 2017-08-17 Ｊｘ金属株式会社 スパッタリングターゲット及び、それの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107532286B (zh) 2019-11-12
JP6784690B2 (ja) 2020-11-11
EP3271496B1 (en) 2018-12-19
KR20170128579A (ko) 2017-11-22
JP2018507961A (ja) 2018-03-22
CN107532286A (zh) 2018-01-02
US20180100231A1 (en) 2018-04-12
WO2016146733A1 (en) 2016-09-22
KR20170128580A (ko) 2017-11-22
US20180051371A1 (en) 2018-02-22
CN107771224A (zh) 2018-03-06
WO2016146732A1 (en) 2016-09-22
US10697056B2 (en) 2020-06-30
EP3271495B1 (en) 2019-04-17
KR102206547B1 (ko) 2021-01-22
CN107771224B (zh) 2019-08-30
US10822690B2 (en) 2020-11-03
JP6744323B2 (ja) 2020-08-19
EP3271496A1 (en) 2018-01-24
KR20220153675A (ko) 2022-11-18
JP2018511701A (ja) 2018-04-26
EP3271495A1 (en) 2018-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK3271496T3 (da) Lithiumholdigt overgangsmetaloxidmål
CN104975264B (zh) 磁记录膜用溅射靶及其制造方法
CN103249693B (zh) 氧化锌烧结体、溅射靶材以及氧化锌薄膜
JP2013507526A (ja) 酸化スズセラミックスパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP6166584B2 (ja) リチウムイオン伝導性固体電解質並びにそれを用いた複合体及び電池
JP6681406B2 (ja) エピタキシャル成長用配向アルミナ基板
KR20190137159A (ko) 질화알루미늄질 소결체 및 반도체 유지 장치
WO2015151566A1 (ja) 全固体リチウム電池
US20120037502A1 (en) Sintered Body for ZnO-Ga2O3-Based Sputtering Target and Method of Producing the Same
CN115073174A (zh) 一种致密高熵稀土铌酸盐高温陶瓷材料、制备方法及应用
JP2011195924A (ja) Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系複合酸化物焼結体およびその製造方法
JP5292130B2 (ja) スパッタリングターゲット
TWI750454B (zh) 複合燒結體、半導體製造裝置構件及複合燒結體之製造方法
JP5381724B2 (ja) ＺｎＯ蒸着材の製造方法
JP2016065311A (ja) スパッタリングターゲットおよびスパッタリングターゲットセット
JP5828522B2 (ja) 熱電変換材料の製造方法及びこれに用いる製造装置
JP2010185130A (ja) ＺｎＯ蒸着材の製造方法
JP2011195409A (ja) Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系複合酸化物焼結体およびその製造方法
EP1435501B1 (en) Heat-resistant coated member
JP2016117950A (ja) 円筒型ターゲット材の製造方法および円筒型ターゲット材
KR20220031913A (ko) 부식 방지층을 가진 다중 구역 실리콘 질화물의 웨이퍼 히터 어셈블리 및 이것의 제조 및 사용 방법
JP2014220174A (ja) リチウムイオン伝導性固体電解質−電極複合体の製造方法
JP6883431B2 (ja) ＬｉＣｏＯ２焼結体およびその製造方法