DE68916072T2

DE68916072T2 - Lichtempfindliche lithographische Platte, die kein Befeuchtungswasser benötigt.

Info

Publication number: DE68916072T2
Application number: DE68916072T
Authority: DE
Inventors: Tatsuji C O Fuji Photo Higashi; Nobuyuki C O Fuji Photo F Kita; Hiroshi C O Fuji Pho Takahashi; Yoshihiko C O Fuji Photo Urabe
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-03-18
Filing date: 1989-03-16
Publication date: 1994-09-22
Anticipated expiration: 2009-03-17
Also published as: DE68916072D1; EP0333186A3; JPH01237663A; EP0333186B1; JP2520686B2; US4874686A; EP0333186A2

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lithographische Platte, die für den Druckvorgang kein Befeuchtungswasser benötigt.
Es wurden bereits viele lithographische Platten erfunden, die für den Druckvorgang kein Befeuchtungswasser benötigen (diese werden nachfolgend als "wasserfreie lithographische Platten" bezeichnet). Sie werden beispielsweise beschrieben in den US-Patenten Nr. 3,677,178; 3,511,178; 3,865,588; 3,894,873 und 4,342,820 sowie in dem britischen Patent Nr. 1,419,643. Insbesondere werden die lichtempfindlichen Schichten positiv arbeitender lithographischer Platten üblicherweise in zwei Klassen eingeteilt. Ein Typ ist die Gruppe lichtempfindlicher Schichten des Photopolymerisations-Typs, wie sie beispielsweise in den japanischen Patentveröffentlichungen für Einspruchszwecke (nachfolgend bezeichnet als "J. P. KOKOKU") Nr. 54-26,923 und 56-23,150 offenbart werden. Die anderen sind die lichtempfindlichen Schichten des Photo-Dimerisations-Typs, wie sie in der J. P. KOKOKU Nr. 55-22,781 offenbart werden.
Wenn die lithographische Platte, die die lichtempfindliche Schicht des Photopelymerisations- Typs aufweist, mit Licht belichtet wird, wird durch Lichteinwirkung die Siliconschicht auf der lichtempfindlichen Schicht zum Haften gebracht. Daher besteht keine Notwendigkeit, ein Haftungshilfsmittel (wie beispielsweise ein Silan-Kupplungsmittel) der Siliconkautschuk- Schicht zuzusetzen, um die Haftung zwischen der Kautschukschicht und der lichtempfindlichen Schicht zu erleichtern. Im Falle einer derartigen durch Lichteinfluß induzierten Haftung kann nur die Siliconkautschuk-Schicht von der nicht belichteten Fläche entfernt werden, ohne die Photopolymerisations-Schicht zu lösen. Dies geschieht in der Weise, daß man die Platte mit einem Lösungsmittel entwickelt, das die Siliconschicht quellen kann.
Jedoch ist die Reproduzierbarkeit von Halbton-Rasterpunkten im Schattenbereich, in dem die Lichtmenge unzureichend ist, nicht immer ausreichend, da die Technik der lichtinduzierten Haftung im wesentlichen bei diesem Bildform-Verfahren eingesetzt wird. Um dieses Problem zu lösen, wurde ein Verfahren vorgeschlagen, in dem ein Haftungshilfsmittel, wie beispielsweise ein Aminosilan-Kupplungsmittel, in die Siliconkautschuk-Schicht eingearbeitet wird, um diese Schicht fest mit der lichtempfindlichen Schicht zu verbinden. In diesem Verfahren wird auch ein Entwickler verwendet, der die lichtempfindliche Schicht lösen kann, um die Photopolymerisations-Schicht zusammen mit der Kautschukschicht in den nicht belichteten Bereich unter Bildung eines Bildes zu lösen. Obwohl die Reproduzierbarkeit der Halbton-Rasterpunkte im Schattenbereich durch dieses Verfahren verbessert wird, werden die Halbton-Rasterpunkte im Bereich voller Lichteinwirkung mit Ablauf der Zeit schwach, da das Haftvermögen zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschuk-Schicht schrittweise erhöht und die Entwickelbarkeit verschlechtert wird.
Bei der lithographischen Platte, die eine lichtempfindliche Schicht des Photo-Dimerisations- Typs aufweist, ist es erforderlich, ein Haftungs-Hilfsmittel, wie beispielsweise ein Silan- Kupplungsmittel, in die Siliconkautschuk-Schicht einzuarbeiten, um die Siliconkautschuk- Schicht fest und vorab mit der lichtempfindlichen Schicht zu verbinden, da eine ausreichende durch Licht induzierte Haftung im Unterschied zu der lithographischen Platte mit der lichtempfindlichen Schicht des Photopolymerisations-Typs nicht eueicht wird. Die lithographische Platte dieses Typs weist auch den Nachteil auf, daß sich die Reproduzierbarkeit der Halbton-Rasterpunkte im stark belichteten Bereich im Lauf der Zeit verschlechtert.
Demgemäß ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine wasserfreie lithographische Platte mit einer auch bei Zeitablauf exzellenten Bild-Reproduzierbarkeit und -Stabilität bereitzustellen.
Nach intensiven Untersuchungen, die zum Zweck der Lösung der oben angegebenen Aufgabe durchgeführt wurden, wurde erfindungsgemäß gefunden, daß die obige Aufgabe gelöst wird durch eine lithographische Platte, die auf einem Träger eine lichtempfindliche Schicht und eine Siliconkautschuk-Schicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Kautschukschicht durch Additionsreaktion einer T SiH-Gruppe an eine -CH=CH--Gruppe gebildet wird, um ein Vernetzen zu verursachen, und wobei die lichtempfindliche Schicht aus einer unter Lichteinfluß polymerisierbaren (photopelymerisierbaren) Zubereitung gebildet wird, die ein Polymer mit einer Allyl-Gruppe in seiner Seitenkette umfaßt, sowie einen Photopelymerisations-Initiator umfaßt. Die vorliegende Erfindung wurde auf der Grundlage dieses Untersuchungsergebnisses zum Abschluß gebracht. Die vorliegende Erfindung betrifft nämlich eine lichtempfindliche, wasserfreie lithographische Platte, die auf einem Träger eine lichtempfindliche Schicht und eine Siliconkautschuk-Schicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Kautschukschicht durch Additionsreaktion einer T SiH- Gruppe mit einer -CH=CH--Gruppe gebildet wird, um ein Vernetzen zu verursachen, wobei die Platte dadurch gekennzeichnet ist, daß die lichtempfindliche Schicht umfaßt:
(1) ein Polymer, das wenigstens eine Struktureinheit der folgenden allgemeinen Formel (I) umfaßt,
worin R für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht; R&sub1;, R&sub2;, R&sub3;, R&sub4; und R&sub5; jeweils für eine Gruppe stehen, die gewählt ist aus der Gruppe, die besteht aus einem Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einer Carboxyl-Gruppe, einer Sulfo- Gruppe, einer Nitro-Gruppe, einer Cyano-Gruppe, einer Amido-Gruppe, einer Amino-Gruppe, einer Alkyl-Gruppe, einer Aryl-Gruppe, einer Alkoxy-Gruppe, einer Aryloxy-Gruppe, einer Alkylamino-Gruppe, einer Arylamino-Gruppe, einer Alkylsulfonyl-Gruppe und einer Arylsulfo-Gruppe; und Z für ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -NH-, -NR&sub6;- (worin R&sub6; für eine Alkyl-Gruppe steht), -OCH&sub2;CH&sub2;O- oder -OCH&sub2;CH(OH)- steht,
(2) gegebenenfalls ein Monomer oder Oligomer, das wenigstens eine photopelymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist; und
(3) einen Photopolymerisations-Initiator.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im einzelnen beschrieben.
Die vorliegende lichtempfindliche, wasserfreie lithographische Platte muß eine Flexibilität aufweisen, die ausreichend ist, um sie auf einer üblichen Druckmaschine einzusetzen, und sie muß eine ausreichende Festigkeit aufweisen, um der Belastung zu widerstehen, die wahrend des Druckvorgangs aufgebracht wird. Daher schließen typische Beispiele des Trägers mit einer Beschichtung überzogene Papiere, Metallplatten, Kunststoffilme wie beispielsweise Polyethylenterephthalat-Filme, Kautschukplatten und Verbundmateralien daraus ein.
Die Oberfläche des Trägers kann unter Bildung einer Grundierungsschicht oder anderer Schichten zum Verhindern der Lichthof-Bildung (Halation) oder für andere Zwecke mit einem Überzug versehen sein.
Die Grundierungsschicht kann gebildet werden
(1) durch Härten von einem von verschiedenen lichtempfindlichen Polymeren, wie sie in der japanischen ungeprüften veröffentlichten Patentanmeldung (nachfolgend bezeichnet als "J. P. KOKAI") Nr. 60-229,031 beschrieben sind, indem man sie vor der Bildung der lichtempfindlichen Schicht belichtet;
(2) durch Wärmehärten eines Epoxyharzes, wie es in der J.P. KOKAI Nr. 62-50,760 beschrieben ist; oder
(3) durch Härten einer Gelatineschicht, wie sie in der J.P. KOKAI Nr. 63-133, 153 (GB 2,199,415 A) beschrieben ist. Außerdem ist auch eine gehärtete Casein-Schicht verwendbar.
Die Grundierungsschicht kann Zusätze wie beispielsweise ein Farbstoff, ein Ausdruckmittel, ein polymerisierbares Monomer zur lichtinduzierten Haftung und einen Photopelymerisations-Initiator enthalten, um die Lichthof-Bildung zu verhindern, oder für andere Zwecke. Die Dicke der Grundierungsschicht beträgt üblicherweise 2 bis 10 g/m².
Das Polymer, das eine Struktureinheit mit der oben angegebenen allgemeinen Formel (I) umfaßt und die lichtempfindliche Schicht der vorliegenden Erfindung ausmacht, wird in der Weise hergestellt, daß man ein Monomer, das die folgende allgemeine Formel (Ia) aufweist,
worin R für ein Wasserstoffatom oder eine Methyl-Gruppe steht; R&sub1;, R&sub2; R&sub3;, R&sub4; und R&sub5; jeweils für ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Carboxyl-Gruppe, eine Sulfo-Gruppe, eine Nitro-Gruppe, eine Cyano-Gruppe, eine Amido-Gruppe, eine Amino-Gruppe, eine Alkyl-Gruppe, eine Aryl-Gruppe, eine Alkoxy-Gruppe, eine Aryloxy-Gruppe, eine Alkylamino-Gruppe, eine Arylamino-Gruppe, eine Alkylsulfonyl-Gruppe oder eine Arylsulfo-Gruppe stehen; und Z für ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -NH-, -NR&sub6;- (worin R&sub6; für eine Alkyl-Gruppe steht), -OCH&sub2;CH&sub2;O- oder -OCH&sub2;CH(OH)- steht,
mit einem anderen Monomer copelymerisiert, beispielsweise Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, einem Alkylacrylat, einem Alkylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, Acrylnitril, Acrylamid, Methacryloyloxyethylphthalat, Tetrahydroxyfurfurylmethacrylat, Dicyclopentenyloxyethylmethacrylat, N, N'-Diethylaminoethylmethacrylat, Styrol, Vinyltoluol oder Hydroxystyrol.
Beispiele bevorzugter Monomere mit der Formel (Ia) schließen ein: Allylacrylat, Allylmethacrylat,
Von diesen Copelymeren sind besonders bevorzugt diejenigen, die durch Copelymerisation eines Monomers der allgemeinen Formel (Ia) mit einer ungesättigten Carbonsäure als Monomer hergestellt werden.
Außerdem sind auch Produkte verwendbar, die durch Neutralisation dieser Copolymere mit einem einwertigen Alkalimetallhydroxid oder einem organischen Amin hergestellt werden. Beispiele dieser Copelymere schließen diejenigen ein, die in ihrer Seitenkette eine ungesättigte Doppelbindung und eine Carboxyl-Gruppe aufweisen, wie dies in dem US-Patent Nr. 4,511,645 beschrieben ist, und Produkte die durch Neutralisieren der genannten Verbindungen mit einem Alkalimetallhydroxid oder einem organischen Amin hergestellt werden. Von diesen besonders bevorzugt sind Copolymere von Allylmethacrylat mit Methacrylsäure und Produkte, die durch deren Neutralisation mit Alkali hergestellt werden.
Der Säurewert dieser Copelymere vor oder nach der Neutralisation mit dem Alkali ist vorzugsweise wenigstens 20. Wenn der Säurewert geringer als 20 ist, ist deren Löslichkeit in einer wässrigen Alkali-Lösung oder die Löslichkeit des neutralisierten Produktes in Wasser schlecht.
Die Menge der Struktureinheit mit der Formel (I) ist vorzugsweise 10 bis 90 Mol %, noch mehr bevorzugt 40 bis 90 Mol %, bezogen auf das Copolymer. Das Molekulargewicht des Copolymers beträgt 10.000 bis 500.000, vorzugsweise 20.000 bis 200.000.
Das Monomer oder Oligomer mit wenigstens einer photopelymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, das gegebenenfalls im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendet wird, schließt beispielsweise ein: monofunktionelle Acrylate und Methacrylate, wie beispielsweise Polyethylenglykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykolmono(meth)acrylat und Phenoxyethyl(meth)acrylat, polyfunktionelle Acrylate und Methacrylate, wie beispielsweise Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantrl(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat, Pentaerythritoltetra(meth)acrylat, Dipentaerythritolhexa( meth)acrylat, Hexandioldi(meth)acrylat, Trimethylolpropantri-(acryloyloxypropyl-)ether, Tri(acryloyloxyethyl-)isocyanurat, Calcium(meth)acrylat, Barium(meth)acrylat, Verbindungen, die durch Austausch von Ethylenoxid oder Propylenoxid in ein Additiv mit einem polyfunktionellen Alkohol, wie beispielsweise Glycerin oder Trimethylolethan und dessen Umwandlung zu einem (Meth-)Acrylat hergestellt werden, Urethanacrylate, wie sie beschrieben sind in den Druckschriften J. P. KOKOKU Nr. 48-41,708 und 50-6,034 und J. P. KOKAI Nr. 51-37,193, Polyesteracrylate, wie sie beschrieben sind in J. P. KOKAI Nr. 48-64,183 und in den Dokumenten J. P. KOKOKU Nr. 49-43, 191 und 52-30,490, sowie Epexyacrylate, die hergestellt werden durch die Umsetzung eines Epoxyharzes mit (Meth-)Acrylsäure, sowie N-Methylolacrylamido-Derivate, wie sie beschrieben sind in dem US-Patent Nr. 4,540,649. Außerdem sind verwendbar unter Lichteinfluß härtende Monomere und Oligomere, wie sie beschrieben sind auf den Seiten 300 bis 308 der Druckschrift "Nippon Setchaku Kyokaishi (Journal of The Adhesion Society of Japan), Band 20, Nr. 7".
Das Verhältnis von Monomer oder Oligomer zu dem Polymer (1) liegt vorzugsweise bei 0 :10 bis 7 : 3, noch mehr bevorzugt bei 1,5 : 8,5 bis 5 : 5.
Der Photopelymerisations-Initiator, der im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendbar ist, schließt ein: vicinale Polyketaldonyl-Verbindungen, wie sie in dem US-Patent Nr. 2,367,660 beschrieben sind, α-Carbonyl-Verbindungen, wie sie in den US-Patenten Nr. 2,367,661 und 2,367,670 beschrieben sind, Acyloinether, wie sie in dem US-Patent Nr. 2,448,828 beschrieben sind, aromatische Acyloin-Verbindungen, die mit einem α-Kohlenwasserstoff substituiert sind und in dem US-Patent Nr. 2,722,512 beschrieben sind mehrkernige Chinon-Verbindungen, wie sie in den US-Patenten Nr. 3,046,127 und 2,951,758 beschrieben sind, eine Kombination eines Triarylimidazol-Dimers mit p-Aminophenylketon, wie sie in dem US-Patent Nr. 3,549,367 beschrieben ist, Benzothiazol-Verbindungen, wie sie in dem US-Patent Nr. 3,870,524 beschrieben sind, eine Kombination einer Benzothiazol- Verbindung mit einer Trihalogenmethyl-S-triazin-Verbindung, wie sie in dem US-Patent Nr. 4,239,850 beschrieben ist, Acridin- und Phenazin-Verbindungen, wie sie in dem US-Patent Nr. 3,751,259 beschrieben sind, Oxadiazol-Verbindungen, wie sie in dem US-Patent Nr. 4,212,970 beschrieben sind, und Trihalogenmethyl-S-triazin-Verbindungen mit einer chromophoren Gruppe, wie sie in den US-Patenten Nr. 3,954,475; 4,189,323; 4,619,998 und 4,772,534 sowie in dem britischen Patent Nr. 1,602,903 und in der GB-A 2,195,121 beschrieben sind.
Die Menge an Photopolymerisations-Initiator beträgt 0, 1 bis 20 Gew.- %, vorzugsweise 1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtzubereitung der lichtempfindlichen Schicht.
Es ist wünschenswert, der Zubereitung einen Wärmepolymerisations-Inhibitor zuzusetzen. Der Wärmepelymerisations-Inhibitor schließt beispielsweise Hydrochinon, p-Methoxyphenoi, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6- t-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und 2-Mercaptobenzimidazol ein. Wenn nötig, können der Zubereitung auch ein Farbstoff oder ein Pigment zum Färben der lichtempfindlichen Schicht oder ein pH-Wert-Indikator als Ausdruckmittel zugesetzt werden.
Die Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht wird in einem geeigneten Lösungsmittel, wie beispielsweise 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Methanol, Ethanol, Methylethylketon oder Wasser, oder in einer geeigneten Mischung dieser Lösungsmittel gelöst. Die Lösung wird auf den Träger in einer Menge von etwa 0,1 bis 10 g/m² aufgebracht, vorzugsweise 0,5 bis 5 g/m² (auf Trockenbasis).
Die Siliconkautschuk-Schicht der vorliegenden Erfindung wird durch Additionsreaktion einer TSiH-Gruppe an eine -CH=CH--Gruppe unter Hervorrufen eines Vernetzungsvorgangs gebildet. Im Vergleich zu einer Siliconkautschuk-Schicht, die durch eine Reaktion des Typs Kondensation gebildet wird, ist die so gebildete Siliconkautschuk-Schicht durch ihr ausgezeichnetes Vermögen gekennzeichnet, Druckfarbe abzustoßen. Andere Vorteile dieser Siliconkautschuk-Schicht bestehen darin, daß sie eine ausgezeichnete Haftfestigkeit zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Kautschukschicht aufweist, und daß die Siliconkautschuk-Schicht in ausreichendem Maße selbst in Gegenwart einer Carbonsäure gehärtet wird, während eine Siliconkautschuk-Schicht des Kondensations-Typs in Gegenwart der Carbonsäure nicht ausreichend gehärtet wird. Daher stellt die Siliconkautschuk-Schicht der vorliegenden Erfindung noch einen weiteren Vorteil insofern bereit, als die Entwicklung mit einem Entwickler durchgeführt werden kann, der hauptsächlich Wasser oder eine wässrige Alkali-Lösung umfaßt, da die lichtempfindliche Schicht eine Carbonsäure enthalten kann.
Die Gruppe -CH=CH- schließt substituierte oder unsubstituierte Alkenyl-Gruppen, Alkenylen-Gruppen, Alkinyl-Gruppen und Alkinylen-Gruppen mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen ein, schließt jedoch eine aromatische -CH=CH--Bindung aus.
Der Siliconkautschuk der vorliegenden Erfindung wird in der Weise gebildet, daß man ein mehrwertiges Hydrogenorganopelysiloxan mit einer Polysiloxan-Verbindung mit zwei oder mehreren -CH=CH--Bindungen im Molekül umsetzt. Er wird bevorzugt hergestellt durch Härten und Vernetzen einer Zubereitung, die die folgenden Kompenenten umfaßt:
(1) 100 Gewichtsteile eines Organopolysiloxans mit wenigstens zwei Alkenyl- Gruppen, vorzugsweise mit einer Vinyl-Gruppe, die direkt mit einem Siliciumatom im Molekül verbunden ist;
(2) 0,1 bis 1000 Gewichtsteile eines Organohydrogenpolysiloxans mit wenigstens zwei TSiH-Bindungen im Molekül; und
(3) 0,00001 bis 10 Gewichtsteilen eines Additionskatalysators.
Die Alkenyl-Gruppe von Kompenente (1) kann an einer Position der Kette wie an ihrem Ende oder in einer Mittelpesition der Kette sein. Die organische Gruppe, die außer der Alkenyl-Gruppe vorhanden ist, schließt substituierte oder unsubstituierte Alkyl-Gruppen und Aryl-Gruppen ein. Die Komponente (1) kann eine sehr kleine Menge einer Hydroxyl- Gruppe enthalten.
Die Kompenente (2) bildet einen Siliconkautschuk durch ihre Umsetzung mit Komponente (1), und sie dient auch als Kleber für die lichtempfindliche Schicht. Die Hydroxyl-Gruppe der Komponente (2) kann an jeder beliebigen Position, wie beispielsweise an ihrem Ende oder in einer Position in der Mitte der Kette stehen.
Die organische Gruppe, die außer einem Wasserstoffatom vorhanden ist, ist dieselbe wie die von Komponente (1). Es ist bevorzugt aus Sicht des Abstoßungsvermögens für Druckfarbe, daß wenigstens 60 % der organischen Gruppen der Komponenten (1) und (2) Methyl-Gruppen umfassen. Die Molekülstrukturen der Komponenten (1) und (2) können linear, cyclisch oder verzweigt sein. Aus Sicht der physikalischen Eigenschaften des Kautschuks ist es bevorzugt, daß wenigstens eine der Komponenten (1) und (2) ein Mo1ekulargewicht oberhalb von 1000 aufweist und das besonders das Molekulargewicht der Komponente (1)1000 übersteigt.
Die Komponente (1) schließt beispielsweise α,ω-Diviny1polydimethylsiloxan und Methylvinylsiloxan-dimethylsiloxan-Copelymere mit Methyl-Gruppen an beiden Enden ein. Die Komponente (2) schließt beispielsweise Polydimethylsiloxan mit Hydroxyl-Gruppen an beiden Enden, α,ω-Dimethylpolymethylhydwgensiloxan, Methylhydrogensiloxan/Dimethylsiloxan-Copolymere mit Methyl-Gruppen an beiden Enden und cyclisches Polymethylhydrogensiloxan ein.
Der Additionskatalysator als Komponente (3) wird in geeigneter Weise aus bekannten derartigen Katalysatoren gewählt. Insbesondere Platin als solches und Platinverbindungen, wie beispielsweise Platinchlorid, Chloroplatinsäure und mit einem Olefin koordiniertes Platin, sind bevorzugt.
Ein Vernetzungsinhibitor, wie beispielsweise ein Vinylgruppen aufweisendes Organopolysiloxan, z.B. Tetracyclo-(methylvinyl-)siloxan, oder ein Alkohol mit einer Kohlenstoff-Kohlenstoff-Dreifachbindung kann der Zubereitung auch zugesetzt werden, um die Härtungsgeschwindigkeit der Zubereitung zu steuern.
Die Additionsreaktion erfolgt unmittelbar nach Mischen der drei Kompenenten der oben beschriebenen Zubereitung unter Hervorrufen des Härtungsvorgangs. Die Härtungsgeschwindigkeit steigt scharf an, wenn die Reaktionstemperatur erhöht wird. Dies ist ein charakteristisches Merkmal der Zubereitung. Daher ist es aus Sicht der Stabilisierung der Haftung zu der lichtempfindlichen Schicht bevorzugt, daß die Zubereitung bei hoher Temperatur gehalten wird, bis der Härtungsvorgang abgeschlossen ist, während die Temperatur so gesteuert wird, daß die charakteristischen Eigenschaften des Trägers und der lichtempfindlichen Schicht unverändert sind. Bei einer derartigen hohen Temperatur wird die Standzeit der Zubereitung verlängert, und ihre Härtungszeit auf der lichtempfindlichen Schicht wird verkürzt.
Die Zubereitung kann auch ein bekanntes Mittel enthalten, das hohe Haftung verleiht, beispielsweise ein Alkenyltrialkoxysilan, sowie ein Hydroxyl-Gruppen aufweisendes Organopolysiloxan, das eine Komponente des Siliconkautschuks des Kondensations-Typs ist, sowie ein Silan (oder Siloxan), das hydrolysierbare funktionellen Gruppen aufweist. Außerdem kann auch ein bekannter Füllstoff, wie beispielsweise Siliciumdioxid, der Zubereitung zugesetzt werden, um die Kautschuk-Festigkeit zu verbessern.
Die Siliconkautschuk-Schicht der vorliegenden Erfindung dient als druckfarbenabweisende Schicht, und ihre geeignete Dicke beträgt 0,5 bis 5 um. Wenn die Dicke geringer ist als 0,5 m, ist das Druckfarben-Abstoßvermögen verringert, und die Kautschukschicht wird leicht verkratzt. Wenn andererseits die Dicke über 5 um liegt, verschlechtert sich die Entwickelbarkeit.
Die Siliconkautschuk-Schicht der vorliegenden lichtempfindlichen lithographischen Platte kann weiter mit einer von verschiedenen Arten von Siliconkautschuk-Schichten überzogen werden. Außerdem kann eine Klebeschicht zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschuk-Schicht zu dem Zweck gebildet werden, zu verhindern, daß der Katalysator in der Siliconkautschuk-Zubereitung als Katalysatorgift dient. Die Siliconkautschuk- Schicht kann mit einem transparenten Film, wie beispielsweise einem Film aus Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylalkohol, Polyethylenterephthalat oder Cellophan, laminiert werden. Alternativ dazu kann die Schicht mit einem Polymer überzogen werden, um die Oberfläche der Siliconkautschuk-Schicht zu schützen.
Die vorliegende lichtempfindliche lithographische Platte wird durch ein transparentes Original belichtet und danach mit einem Entwickler entwickelt, der die lichtempfindliche Schicht im Bildbereich lösen oder quellen kann, oder sie wird mit einem Entwickler entwickelt, der die Siliconkautschuk-Schicht quellen kann. In diesem Schritt werden sowohl die lichtempfindliche Schicht als auch die Siliconkautschuk-Schicht im Bildbereich entfernt, oder nur die Siliconkautschuk-Schicht im Bildbereich wird entfernt. Welcher Weg des Entfernens eingeschlagen wird, hängt von der Stärke des Entwicklers ab. Die Entwickler, die als solche Entwickler für lichtempfindliche lithographischen Platten bekannt sind, die kein Befeuchtungswasser benötigen, können im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Ein bevorzugter Entwickler ist beispielsweise eine Lösung eines aliphatischen Kohlenwasserstoffs, beispielsweise Hexan, Heptan, Isopar E, H oder G (Handelsbezeichnung der Firma Esso Kagaku Co., Ltd.) Benzin oder Kerosin, ein aromatischer Kohlenwasserstoff, wie beispielsweise Toluol oder Xylol, oder ein halogenierter Kohlenwasserstoff, wie beispielsweise Trichlorethylen. Diesem wird das folgende polare Lösungsmittel zugesetzt:
Alkohol, wie beispielsweise Methanol, Ethanol oder Benzylalkohol;
Ether, wie beispielsweise Methylcellosolve, Ethylcellosolve, Butylcellosolve, Methylcarbitol, Ethylcarbitol, Butylcarbitol oder Dioxan;
Keton, wie beispielsweise Aceton oder Methylethylketon; oder
Ester, wie beispielsweise Ethylacetat, Methylcellosolveacetat, Cellosolveacetat oder Carbitolacetat.
Die Entwickler, die das organische Lösungsmittel gemäß der obigen Beschreibung enthalten, können außerdem Wasser enthalten, oder sie können in Wasser gelöst werden, wobei man ein oberflächenaktives Mittel (Tensid) oder dergleichen zusetzt. Außerdem kann ein alkalisches Mittel, wie beispielsweise Natriumcarbonat, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid oder Natriumborat zugesetzt werden. In einigen Fällen können Stadtwasser (Trinkwasser) oder eine wässrige alkalische Lösung als Entwickler verwendet werden.
Die Schritte des Entwickelns und Färbens des Bildbereichs können gleichzeitig in der Weise durchgeführt werden, daß man dem Entwickler einen Farbstoff, wie beispielsweise Kristallviolett oder Astaazonrot zusetzt.
Die Entwicklung kann im Rahmen eines bekannten Verfahrens durchgeführt werden, in dem die Oberfläche der Platte mit einem Entwicklungspolster (Pad) eingerieben wird, das den oben beschriebenen Entwickler enthält, oder in dem der Entwickler auf die Plattenoberfläche gegossen und dann mit einer Entwicklerbürste abgerieben wird. Durch dieses Verfahren werden die Siliconkautschuk-Schicht und die lichtempfindliche Schicht von dem Bildbereich entfernt, so daß die Oberfläche des Trägers oder die Grundierschicht freigelegt wird, die ein Druckfarbe annehmender Teil ist. Alternativ wird nur die Siliconkautschuk- Schicht in dem Bildbereich entfernt und so die lichtempfindliche Schicht freigelegt, die ein Druckfarbe annehmender Teil ist.
Die lichtempfindliche lithographische Platte der vorliegenden Erfindung umfaßt auf dem Träger die lichtempfindliche Schicht und die Siliconkautschuk-Schicht in dieser Reihenfolge, wobei die Kautschukschicht gebildet wird durch eine Additionsreaktion unter Hervorrufen einer Vernetzung, und wobei die lichtempfindliche Schicht gebildet wird aus einer unter Lichteinfluß pelymerisierenden (photopolymerisierenden) lichtempfindlichen Schicht, die ein Polymer der oben angegebenen allgemeinen Formel (I), sofern erforderlich ein Monomer oder Oligomer mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung und einen Photopolymerisations-Initiator umfaßt. Durch diesen Aufbau weist die vorliegende lichtempfindliche lithographische Platte eine exzellente Haftung an der Siliconkautschuk-Schicht und eine exzellente Ton-Reproduzierbarkeit auf, und ihre Haftung ist bei Zeitablauf im wesentlichen unverändert.
Die folgenden Beispiele veranschaulichen weiter die vorliegende Erfindung, beschränken die vorliegende Erfindung jedoch keineswegs.

Beispiel 1

Eine Grundierungsschicht-Zubereitung, die die nachfolgend genannten Komponenten umfaßte, wurde in einer Menge von 8,0 g/m² (auf Trockenbasis) auf eine glatte Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm aufgebracht, die man mit einem üblichen Verfahren entfettet hatte. Diese wurde danach 2 min lang auf 120ºC erwärmt, um die Schicht zu trocknen und zu härten.
Milchcasein 98 Gewichtsteile
Glyoxal-Lösung (40 %ige wässrige Lösung; ein Produkt der Firma Wako Junyaku Kogyo Co., Ltd.) 2 Gewichtsteile
γ-Glycidoxypropyltri(β-methoxyethoxy)-silan 3 Gewichtsteile 5 Gewichtsteile
Kaliumhydroxid 4 Gewichtsteile
reines Wasser 2000 Gewichtsteile
Die Aluminiumplatte, die die Grundierungsschicht, wie sie oben beschrieben wurde, aufwies, wurde in eine Farbstofflösung mit der folgenden Zusammensetzung 1 min lang eingetaucht, um sie einzufärben. Danach wurde sie mit Wasser gewaschen und bei Raumtemperatur getrocknet: 1 Gewichtsteil
reines Wasser 2000 Gewichtsteile
Eine lichtempfindliche Zubereitung, die die folgenden Komponenten umfaßte, wurde auf die Aluminiumplatte mit der eingefarbten Grundierungsschicht in einer Menge von 1 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und danach 1 min lang bei 100ºC getrocknet:
Allylmethacrylat/Methacrylsäure- Copolymer (83/17 Mol-%) (mittleres Molekulargewicht: 90.000) 2 Gewichtsteile 0,6 Gewichtsteile 0,05 Gewichtsteile 0,15 Gewichtsteile
Leukokristallviolett 0,02 Gewichtsteile 0,02 Gewichtsteile
Defenser MCF 323 (ein Produkt der Firma Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,02 Gewichtsteile
Danach wurden 2,0 g/m² (auf Trockenbasis) einer Siliconkautschuk-Zubereitung, die die folgenden Kompenenten umfaßte, auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und danach 2 min lang bei 140ºC unter Bildung einer gehärteten Siliconkautschuk-Schicht getrocknet:
α,ω-Diviny1polydimethylsiloxan (mittleres Molekulargewicht: 300.000) 90 Gewichtsteile
α,ω-Divinylpolymethylhydrogenpolysiloxan (mittleres Molekulargewicht: 2500) 6 Gewichtsteile
KF 410 (α-Methylstyrolmodifiziertes Dimethylsiloxan) 0,5 Gewichtsteile
Olefin/Chloroplatinsäure (10%ige Lösung in Toluol) 20 Gewichtsteile
Inhibitor (10 %ige Lösung in Toluol) 10 Gewichtsteile
Isopar G (ein Produkt der Firma Esso Kagaku Co., Ltd.) 1400 Gewichtsteile
Toluol 210 Gewichtsteile
Ein Polyethylenterephthalat-Film mit einer Dicke von 7 um, dessen Oberfläche mattiert worden war, wurde larninatartig auf die so erhaltene Siliconkautschuk-Schicht unter Bildung einer wasserfreien, lichtempfindlichen lithographischen Platte aufgebracht.
Ein Positiv-Film wurde auf die lithographische Platte gelegt und belichtet (30 Zählimpulse) mit einer Vorrichtung namens "FT 26V UDNS ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLATE MAKER" (ein Produkt der Firma Nuark). Danach wurde der Positiv-Film abgezogen. Die Platte wurde für die Zeit von t min in einen Entwickler eingetaucht, der 8 Gewichtsteile Benzylalkohol, 3 Gewichtsteile Natriumisopropyinaphthalinsulfonat, 1 Gewichtsteil Natriumcarbonat und 88 Gewichtsteile Wasser umfaßte. Danach wurde er leicht mit einem Entwicklerkissen abgerieben, um die lichtempfindliche Schicht und die Siliconkautschuk- Schicht in dem unbelichteten Bereich zu entfernen. So wurde die wasserfreie lithographische Platte, auf der das Bild des Positiv-Films getreu im Bereich der gesamten Oberfläche reproduziert worden war, hergestellt.
Die so hergestellte Platte wurde zum Drucken mit einer Heidelberg-GTO-Druckmaschine verwendet, von der man die Vorrichtung zur Zufuhr von Befeuchtungswasser abgebaut hatte. Man verwendete eine wasserfreie G Sumi-Druckfarbe der Bezeichnung "TOYO KING ULTRA TUK" (Produkt der Firma Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) unter Herstellung von Drucken mit einem getreu reproduzierten Bild.

Beispiel 2

Es wurde ein Träger verwendet, der einen 200 um starken Polyesterterephthalat-Film umfaßte, der auf seinen beiden Oberflächen mittels eines Klebers mit einer 30 um starken Alummiumfolie larniniert war. Die folgende Grundierungsschicht-Zubereitung wurde auf den Träger in einer Menge von 2,0 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht. Der mit dem Überzug versehene Träger wurde 2 min lang auf 120ºC erwärmt, um die Schicht zu trocknen und zu härten.
Photographen-Gelatine 680 (ein Produkt der Firma Nitta Gelatin Co., Ltd.) 100 Gewichtsteile
14,4 Gewichtsteile
N-(β-Aminoethyl-)γ-aminopropyltrimethoxysilan 7 Gewichtsteile
Dispersion aus TiO&sub2;/Photographen- Gelatine 680/reinem Wasser (Gewichtsverhältnis: 30/3/67) 20 Gewichtsteile Tartrazin (gelber Farbstoff) 2 Gewichtsteile
reines Wasser 4000 Gewichtsteile.
Nach Trocknen ließ man den mit einem Überzug versehenen Träger bei Raumtemperatur (etwa 20ºC) vier Tage lang altern, um die gehärtete Schicht zu stabilisieren.
Eine lichtempfindliche Zubereitung, die die folgenden Komponenten umfaßte, wurde auf den eine Grundierungsschicht aufweisenden Träger in einer Menge von 1,0 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und danach 1 min lang bei 100ºC getrocknet: 2 Gewichtsteile
Epoxyester 3002 A (Epoxyacrylat der Firma Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 0,6 Gewichtsteile 0,2 Gewichtsteile
Bromphenolblau 0,1 Gewichtsteile
Methanol-Siliciumdioxid-Sol (30 Gew. - % Methanol) (ein Produkt der Firma Nissan Chemical Industries, Ltd.) 1 Gewichtsteil
Ethylenglykolmonomethylethanol 25 Gewichtsteile
Methylethylketon 35 Gewichtsteile.
Danach wurde eine Siliconkautschuk-Zubereitung, die die folgenden Komponenten umfaßte, auf die lichtempfindliche Schicht in einer Menge von 1,0 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und 2 min lang bei 140ºC unter Bildung einer gehärteten Siliconkautschuk-Schicht getrocknet:
α,ω-Divinylpolydimethylsiloxan (mittleres Molekulargewicht: 300.000) 90 Gewichtsteile
Methylhydrogenpolysiloxan (mittleres Molekulargewicht: 2500) 3 Gewichtsteile
KF 410 (α-Methylstyrol-modifiziertes Dimethylsiloxan (ein Produkt der Firma Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0,5 Gewichtsteile
Olefin/Chloroplatinsäure (10 %-ige Lösung in Toluol) 20 Gewichtsteile
Ethanol 10 Gewichtsteile
Isopar G (ein Produkt der Firma Esso Chemical Co, Ltd.) 1400 Gewichtsteile
Toluol 210 Gewichtsteile
Ein Polyethylenterephthalat-Film mit einer Dicke von 7 um wurde laminatartig auf die Oberfläche der Siliconkautschuk-Schicht unter Bildung einer wasserfreien lichtempfindlichen Druckplatte aufgetragen.
Die Platte wurde mit dem Drucker FT 26 V 2 UPNS (ein Produkt der Firma Nuarc, USA) unter Verwendung einer 2 kW-Metallhalogenid-Lampe als Lichtquelle (100 Zählimpulse) in einer Entfernung von 1 m belichtet. Nach der bildartigen Belichtung wurde der Film abgeschält. Die Platte wurde in einen wässrigen Entwickler der nachfolgend genannten Zusammensetzung 1 min lang eingetaucht und mit einem Entwicklungskissen (Pad) 1 bis 2 min abgerieben, um die lichtempfindliche Schicht und die Siliconkautschuk-Schicht in dem nicht-belichteten Bereich zu entfernen.
Benzylalkohol 8 Gewichtsteile
Pelex NBL (38 %ige wässrige Lösung eines anionischen Tensids; ein Produkt der Firma Kao Aflas Co.) 7,5 Gewichtsteile
Wasser 84,5 Gewichtsteile
Die resultierende wasserfreie Platte wurde mit einer Färbelösung eingerieben, die die folgende Zusammensetzung aufwies, um nur den belichteten Bereich der Grundierungsschicht (Bildbereich) klar violett zu färben:
Kristallviolett 1 Gewichtsteil
Wasser 99 Gewichtsteile
Die so hergestellte Druckplatte wurde zum Drucken in derselben Weise wie die von Beispiel 1 verwendet. Man erhielt Drucke mit einem getreu reproduzierten Bild.

Beispiel 3

Eine lichtempfindliche Grundierungslösung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf eine entfettete, glatte Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm in einer Menge von 4 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und danach 1 min lang bei 120ºC getrocknet:
Epikote 1255-HX-30 (30 %ige Lösung) (Bisphenol A/Epichlorhydrin-Kondensat; Produkt der Firma Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) 5 Gewichtsteile
Takenate D-110 N (75 %ige Lösung) (polyfunktionelle Isocyanat-Verbindung; ein Produkt der Firma Takeda Chemical Industries, Ltd.) 1,5 Gewichtsteile
Trimethylolpropantriacrylat 1 Gewichtsteil
Defenser MCF 323 (ein Produkt der Firma Dainippon Ink & Chemicals Inc.) 0,02 Gewichtsteile
Benzanthron 0,2 Gewichtsteile
Methylethylketon 30 Gewichtstelle
Propylenglykolmonomethyletheracetat 30 Gewichtsteile
Danach wurde eine wasserlösliche lichtempfindliche Lösung mit der folgenden Zusammensetzung hergestellt und auf die Platte in einer Menge von 1,0 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und 1 min lang bei 100ºC getrocknet:
Pentaerythritoltriacrylat 0,7 Gewichtsteile
Poly-(allylmethacrylat)/Kaliummethacrylat- Copolymer (molares Verhältnis: 80/20) (Molekulargewicht: 40.000) 1,5 Gewichtsteile
S-LEC W-201 (wasserlösliches Poly-vinylacetal- Harz; ein Produkt der Firma Sekisui Plastic Co., Ltd.) (25 %ige wässrige Lösung) 2,0 Gewichtsteile
CH&sub2; =CHSi(OCH&sub2;CH&sub2;OOCH&sub3;)³ 0,1 Gewichtsteile
Methanol-siliciumdioxid (30 %ige Dispersion) 1 Gewichtsteil 0, 1 Gewichtsteile
Wasser 25 Gewichtsteile
Methanol 15 Gewichtsteile.
Dieselbe Siliconlösung wie diejenige, die im Beispiel 2 verwendet worden war, wurde auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und danach 2 min lang bei 140ºC getrocknet. Die Menge der Siliconschicht nach dem Trocknen betrug 1,08 g/m².
Ein Polyethylenterephthalat-Film mit einer Dicke von 7 um wurde laminataatig auf die in der oben beschriebenen Weise hergestellte Platte unter Bildung einer wasserfreien, lichtempfindlichen lithographischen Platte aufgetragen.
Die Platte wurde in derselben Weise wie diejenige von Beispiel 1 belichtet, mit der Ausnahme, daß die schrittweise Anleitung Fuji PS verwendet wurde. Danach wurde der Abdeckfilm entfernt, und die Platte wurde bei 50ºC 30 s lang in Wasser getaucht, und mit einem Schwamm 30 s abgerieben, um die Siliconschicht und die lichtempfindliche Schicht in dem nicht belichteten Bereich zu entfernen. Danach wurde nur die Grundierungsschicht in dem nicht belichteten Bereich mit einer Färbelösung eingefärbt, die die folgende Zusammensetzung aufwies, wobei man eine wasserfreie lithographische Platte erhielt, die eine exzellente Ton-Reproduzierbarkeit zeigte:
Benzylalkohol 5 Gewichtsteile
Wasser 95 Gewichtsteile
Victoria-Rein-Blau (Victoria Pure Blue) BOH 2 Gewichtsteile
Nichtionisches Tensid 2 Gewichtsteile

Claims

1. Lichtempfindliche, lithographische Platte, die kein Befeuchtungswasser benötigt und auf einem Träger eine lichtempfindliche Schicht und eine Silikongummischicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Gummischicht durch Additionsreaktion einer T SiH-Gruppe mit einer -CH=CH--Gruppe gebildet ist, um ein Vernetzen zu verursachen, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht die folgenden Bestandteile umfaßt:

(1) ein Polymer, umfassend mindestens eine Struktureinheit der folgenden Formel (I):

worin R ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; R&sub1;, R&sub2;, R&sub3;, R&sub4; und R&sub5; jeweils ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem Wasserstoffatom, einem Halogenatom, einer Carboxylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Nitrogruppe, einer Cyanogruppe, einer Amidogruppe, einer Aminogruppe, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Aryloxygruppe, einer Alkylaminogruppe, einer Arylaminogruppe, einer Alkyisulfonylgruppe und einer Arylsulfogruppe, darstellen; und Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -NH-, -NR&sub6;- (R&sub6; stellt eine Alkylgruppe dar), -OCH&sub2;CH&sub2;O- oder -OCH&sub2;CH(OH)- darstellt, und

(2) einen Photopolymerisationsinitiator.

2. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 1, wobei das Polymer durch Copolymerisieren von

(a) einem Monomer, dargestellt durch die folgende Formel:

worin R ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; R&sub1;, R&sub2;, R&sub3;, R&sub4; und R&sub5; jeweils ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus einem Wasserstof fatom, einem Halogenatom, einer Carboxylgruppe, einer Sulfogruppe, einer Nitrogruppe, einer Cyanogruppe, einer Amidogruppe, einer Aminogruppe, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Aryloxygruppe, einer Alkylaminogruppe, einer Arylaminogruppe, einer Alkylsulfonylgruppe und einer Arylsulfogruppe, darstellen; und Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -NH-, -NR&sub6;- (R&sub6; stellt eine Alkylgruppe dar), -OCH&sub2;CH&sub2;O- oder -OCH&sub2;CH(OH)- darstellt, und

(b) einem copolymerisierbaren Monomer hergestellt ist.

3. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 2, wobei das Monomer (a) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Allylacrylat, Allylmethacrylat,

4. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 2, wobei das Monomer (b) ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, einem Alkylacrylat, einem Alkylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, Acrylonitril, Acrylamid, Methacryloyloxyethylphthalat, Tetrahydroxyfurfurylmethacrylat, Dicyclopentenyloxyethylmethacrylat, N,N'-Diethylaminoethylmethacrylat, Styrol, Vinyltoluol und Hydroxystyrol.

5. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 4, wobei das Monomer (b) ein ungesättigtes Carbonsäuremonomer ist.

6. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 1, wobei die Menge der Struktureinheit 10 bis 90 Mol.-% des Polymers ist.

7. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 6, wobei die Menge 40 bis 90 Mol.-% des Polymers ist.

3. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 1, wobei das Molekulargewicht des Polymers 10000 bis 500000 ist.

9. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 8, wobei das Molekulargewicht 20000 bis 200000 ist.

10. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 1, wobei die lichtempfindliche Schicht weiterhin (3) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Doppelbindung umfaßt.

11. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 1, wobei der Photopolymerisationsinitiator (2) in der lichtempfindlichen Schicht in einer Menge von 0,1 bis 20 Gew.-% enthalten ist.

12. Lichtempfindliche lithographische Platte nach Anspruch 11, wobei der Photopolymerisationsinitiator (2) in der lichtempfindlichen Schicht in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-% enthalten ist.