DE2354838A1

DE2354838A1 - Vorsensibilisierte flachdruckplatte

Info

Publication number: DE2354838A1
Application number: DE19732354838
Authority: DE
Inventors: Shinzo Kishimoto; Asaji Kondo; Shizuo Miyano; Kenichiro Yazawa
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1972-11-02
Filing date: 1973-11-02
Publication date: 1974-05-09
Also published as: GB1400337A; FR2209122A1; JPS4968803A; US3953212A; FR2209122B1

Description

, MTENTAHWJtITE . _{Q Q}

■-■ DR. E. WIEGAND DIPL-ING. V/. NItEMAiNN ·

. DR. M. KOHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT

MÖNCHEN . HAMBURG

TELEFON: 55 54 7« ".-.;.. - - 8000 MÖNCHEN 2

TELEGRAMME:KARPATENT - ύ

W. 41 827/73 13/Ja _ 2. November 1973

Fuji Photo Film Co.,Ltd. Minami Ashigara-shi, Kanagawa, Japan '

Vorsensibilisierte Flachdruckplatte

Die Erfindung betrifft eine vorsensilisierte Flachdruckplatte (Lithodruckplätte), die keine Hydrophilisierungslpsung (Fountain solution) erfordert. Insbesondere ,betrifft die Erfindung eine vorsensibiliäerte Flachdruckplatte -(die nachstehend abgekürzt als PS-Platte bezeichnet wird), die keine HydrophilfiFferuiigslösiing,, bzw. wässrige Lösung erfordert und die durch eine lichtempfindliche Überzugsschicht gekennzeichnet ist, die eine Mischung aus einem lichtempfindlichen Material und einem' Siliconkautschuk umfaßt.

Eine Flachdruckplatte, die keine Hydrophlisierungslösung erfordert, bezweckt eine Vereinfachung der gebrauch- ■ liehen Offsetdruck-Arbeitsweise. Bei dem gebräuchlichen Flachdruck (Lithographie), worin Offset-Arbeitsweisen vorherrschen, wird eine Druckplatte hergestellt", indem man eine PS-Platte durch ein negatives oder positives Bild belichtet und die so belichtete PS-Platte mit einer geeigneten Behandlungslösung zur bildweisen Bildung von oleophilen und hydrophilen Bereichen behandelt. Beim Drucken wird eine wässrige Lösung oder HydrophiLmerungslösung auf die hydrophilen Bereiche, d.h. die"bildfreien Bereiche, aufgebracht, und danach

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wird eine Druckfarbe auf die oleophilen Bereiche, d.h. die Bildbereiche, aufgetragen. Bei diesem Verfahren ist das Aufbringen der HydrophilisLerungslösung sehr mühsam und stellt einen signifikanten Nachteil .dieses Verfahrens dar. Eine Arbeitsweise zur Ausschaltung dieses Nachteils wird durch ein Flachdruckyerfahren geschaffen, bei welchem keine wässrige oder Hydrophilisierungslösung erforderlich ist» Bei diesem Verfahren wird in der Praxis das Drucken in der-Weise ausgeführt, daß eine Druckplatte mit einer Schicht aus einem stark druckfarbabweisenden Siliconkautschuk verwendet wird und eine ölige Druckfarbe ohne,die Anwendung irgend einer Hydrophillsierungslösung zugeführt wird, Einige Arbeitsweisen zur Herstellung von PS-Plaxten in dieser Weise sind in den japanischen Patentschriften Nr. 23042/1969, 2361/1972 und 16044/1971 und in den US-Patentschriften 3511178 und 3632375 beschrieben.

Bei den Arbeitsweisen, wie sie in der japanischen Patentschrift Nr. 16044/1971 und in der US-Patentschrift 3 511 178 beschrieben sind, wird eine PS-Platte mit einer Schicht aus einem Siliconkautschuk auf einer Schicht aus einem lichtempfindlichen Material, die auf einen Träger aufgebracht ist, verwendet. Die PS—Platte wird durch ein negatives Bild belichtet und mit einer Behandlungslösung behandelt, um die lichtempfindliche Schicht und die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen, d.h. In den Bildbereichen, zu entfernen. Andererseits

bleibt in den unbelichteten Bereichen, d.h. in den bildfreien Bereichen, die Siliconkautschukschicht unverändert zurück. Wenn eine Druckfarbe auf die so erhaltene Druckplatte aufgebracht wird, haftet die Druckfarbe allein an den Bildbereichen an. Die PS-Platte von dieser Art, die keine Hydrophilisierungslösung oder wässrige Lösung verlangt, besitzt eine Schicht aus einem Siliconkautschuk über einer lichtempfindlichen Schicht, wobei hierbei das Problem der Haftung zwischen den beiden Schichten auftritt. Eine Zwischenschicht mit einem Gehalt an einer Diazoverbindung zwisdsn den beiden Schichten zur ,Erhöhung der· Haftung ist erforderlich, und demgemäß besitzt 'diese Platte einen Dreischichtenaufbau. Da ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd,

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das als Zwischenschicht, «Uli.. als ; liaftungsverbessernde Schicht verwendet wird, hydrophil ist, ist es schwierig, das Kondensat gleichförmig* auf eine lichtempfindliche Schient mit einem Gehalt an einem oieophllen Bindemittel aufzubringen. Femer wird durch das "bloße Einführen des Kondensats als Zwischenschicht zwischen die Siiieonkautsxihuksehicht- und die lichtempfindliche Schicht keine Erhöhung der Haftung erreicht, und „ es ist erforderlich, nach dem Auf bringen: einer ~ Siliconkautschukschicht ein Erhitzen bei 9Q®C/während 5 Ms 10 Minuten in einem Ofen auszuführen, um den Siliconkautschuk zu här-Äen, .und dann bei 120°C während 10 Minuten das p-Diazodiphenjlamin-förmaldehyd-kondensat thermisch zu zersetzein,, um den Effekt zu erhalten. Die Herstellung dieser Druckplatte unter Anwendung dieses Verfahrens ist aufgrund dieser Nachteile erheblieh beschränkt.

Bei den Arbeitsweisen, die in den japanisch en Patentschriften 23042/196.9 und 2361/1972 beschrieben sind, wird ein Film aus einem wasserlöslichen Polymeren auf einem abstreifbaren Hilfsträger gebildet,und ein ίIchtempfindliches Diazomaterial wird darauf aufgebracht. Auf einen getrennt vorgesehenen Träger wird ein Siliconkautschuk aufgebracht,., und die lichtempfindliche Schicht wird dann auf die -Oberfläche, des ungehärteten Siliconkautschuks gepreßt. Nach-dem Härten des Siliconkautschuks wird der Hilfsträger abgestreift. Die so erhaltene PS-Platte wird durch ein Negativbild belichtet und behandelt, um die lichtempfindliche Schicht in den unbelieh— teten Bereichen, d.h. den bildfreien Bereichen, zu entfernen.. Auf diese Weise'wird die Oberfläche des Siliconkautschuks der unteren Schicht freigelegt, während die bestrahlten Bildbereiche unverändert verbleiben. Wenn eine Druckfarbe auf die so erhaltene Platte aufgebracht wird, haftet die Druckfarbe allein an den Bildbereichen an. Bei diesem Verfahren ist es notwendig, einen Hilfsträger zu^verwenden, um das schwierige. Problem der Aufbringung'". Vphydrophile lichtempfindliche Diäzomaterialsauf einen wasser- und ölabweisenden

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Siliconkautschuk zu lösen. . Somit ist die Herstellung der Druckplatte nach diesem Verfahren durch diese, zweifachen Nachteil noch mehr "beschränkt, d.h. durch die Verwendung eines Hilfsträgers zusätzlich zu dem mehrschichten Aufbau der Platte.

Bei dem in der US-Patentschrift 3 632 375 "beschriebenen ■ Verfahren wird ein Siliconkautschuk auf einen Träger aufgebracht und während der Siliconkautschuk noch in einem ungehärteten Zustand vorliegt, wird ein haftungsverbegserndes Material von ho-

. Dzvi. gesprüht·' -

hem Molekulargewicht darübergestreuV. Eine wässrige Lösung einer lichtempfindlichen Diazoverbindung mit einem Gehalt an einer Emulsion eines filmbildenden Materials wird darüber ausgebreitet und der Siliconkautschuk wird gehärtet. Dieses Verfahren umfaßt auch die mühsame Arbeitsweise bezüglich des Aufbringens eines feinteiligen wasserlöslichen Polymeren als Häftungsverbesserer, um eine starke Bindung zwischen dem Siliconkautschuk und dem lichtempfindlichen Material zu erhalten. Es ist ersichtlich, daß die Herstellung der Platte bei diesem Verfahren durch diese umständliche Stufe noch wesentlich stärker beschränkt ist.

Die der bisherigen Technik anhaftenden Probleme können wie folgt zusammengefaßt werden werden:

(1) Die Platte ist von einem mehrschichtigen Aufbau, wobei ein lichtempfindliches Material und ein Siliconkautschuk zwei deutlich getrennte Schichten bilden.

(2) Es ist bei der Herstellung der Platte wichtig, eine starke Bindung zwischen den beiden Schichten zu erzielen.

(3) Im Falle von PS-Platten, bei welchen die oberste Schicht eine Siliconkautschukschicht ist, ist die Dicke der Siliconkautschukschicht begrenzt, um ein Durchdringen einer Entwicklerlösung zu ermöglichen. ■

(4) Wenn eine lichtempfindliche Schicht auf einer Siliconkautschukschicht gebildet wird, ist es notwendig, ein zusatzliches Element, z.B. einen Hilfsträger, anzuwenden, und außerdem kann eine ausreichende Verbesserung der Haftung zwischen der Siliconkautschukschicht und der lichtempfindlichen Schicht nicht erwartet werden.

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Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer vorsensibilisierten Platte, die keine Hydrophillsierungslösung erfordert und die von den vorstehend aufgeführten Nachteilen frei ist, d.h. einen einfachen Aufbau aufweist und in einfacher -. Weise hergestellt werden kann. '

Insbesondere wird gemäß der vorliegenden' Erfindung eine vorsensibilisierte Platte, die keine Hydrophilisierungslösung erfordert, für den Gebrauch sowohl beim positiven als auch beim negativen Arbeiten geschaffen, wobei die Platte durch das Aufbringen einer einzigen Schicht aus einer Mischung von einem lichtempfindlichen Material und einem Siliconkautschuk auf einem Träger hergestellt wird, ■

Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert. ♦ ". _. \ ..-■■" "V ·

Fig. 1 zeigt eine Querschnittsansichfc einer PS-Platte in den Hauptstufen im Verlauf der Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer positiv' arbeitenden PS-Platte -gemäß der Erfindung. V · ' - -

Fig. 2 zeigt eine Querschnittsansicht einer PS-Platte in den Hauptstufen im Verlauf der Herstellung einer Druckplatte unter Verwendung einer negativ arbeitenden PS-Platte gemäß der Erfindung.- . ■ _ .-■-.'■

Unter Be rück sieht igung- der vorstehenäert Ausführungen zu .den bekannten Arbeitsweisen scheint es unmöglich, eine PS-Platte, die keine Hydrophili.erungslösung erfordert, herzustellen, wenn nicht ein lichtempfindliches Material · und ein Siliconkautschuk stets in getrennten Schichten ■_ gebildet werden, da ein; .Siliconkautschuk möglichst rein sein soll,' um eine Durckfarbeabweisiäliigkelt auszuüben.

• Gemäß d'er Erfindung wurde jedoeh festgestellt, daß ein SiliconJiautsehuk mit einem G-ehalt an einem licktempfindlichen Material innerhalb einerbestimmten Grenze in seinen Eigenschilf ten al§ d'ruckfarbeabv/eisendes Material in PS-Platten nicht schlechter ist als ein reiner Siliconkautschuk und daß es vorteilhart ist, einen Aufbau herzustellen,

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Obgleich die Einzelheiten des Aufbaus der Überzugsschicht aus einer Mischung von einem. Siliconkautschuk und einem licht empfindlichen Material gemäß der Erfindung unklar sind , gibt es eine Anzahl von strukturellen Möglichkeiten: ein Aufbau, "bei welchem der Siliconkautschuk in einer Matrix des lichtempfindlichen Materials dispergiert ist; ein Aufbau, "bei welchem das lichtempfindliche Material in einer Matrix des Siliconkautschuks diaper-' giert ist; ein Komplex aus den Torstehend genannten zwei Aufbauart-eii; und. ein Aufbau, bei welchem feine Teilchen des Siliconkautschuks· und des lichtempfindlichen Materials in Form eines unregelmäßigen Mosaiks gemischt sind.

In jedem Pail kann ein Überzugsflüssigkeitsgeiuisch aus einem lichtempfindlichen Material und ein Silicon- - kautschuk zur Bildung einer gemischten Überzugsschicht eine von sich aus heterogene Dispersion oder eine homogene

,Lösung sein, worin eine Phasentrennimg. zwischen den beiden Komponenten im Verlauf des I-iischens, Überziehens und Trocknens unfl. der Bildung des getrockneten Überzugsfilrns aus einer heterogenen Kisehung von einem lichtempfindlichen Material und einem SiIiconksmtschule stattfindet.

Die keine Hydrpphilisierungslösung erfordernde PS-Platte gemäß der Erfindung wird in allgemeinen hergestellt, indenman eine Lösung in eineia organischen Lösungsmittel eines lichtempfindlichen Materials und eine Lösung in einen orga- ~ nisehen Lösungsmittel eines Siliconkautschuke mischt, uri eine Übersugsflüssigkeit su "bilden und die Überzug-flüssig— keit einmal auf einen 5?ri£ser unter Bildung eines er>:achichtigen Übersugsfilms aufbringt.-Das organische Löcim ;snit lol . des lichtenipfindliciien Iiat--:rials und des SilicorJatiitachu]:^ kann jev/eils das gleiche sein und ge ei" hg te I3eiS|.-ielo~Hinfasseii Ketone, v/ie Ke^thylätLv'lketon, Kcthylisobutyllieton, Cyclohexanon oder dgl. Diese Lösungsmittel können allein oder in Form von Mischungen in beliebigen Verhältnissen . ^ur Anwendung gelangen. Die Konzentration des lichtempfindlichen Materials in der organischen Lösung liegt

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BAD ORiGlNAL

zweckmäßig in Bereich von ■■ etwa 0,1 bis 10 Gew.-5£ und -vorzugsweise im Bereich von etwa 0,4 bis 5 Gew.—$ und die Kon- ' zentration des Siliconkautschüks in der organischen Lösung . liegt zweckmäßig im. B er eich von etwa 0,1 bis 10 Gew.-^ und Vorzugsweise im Bereich von etwa 1 bis 3 Gew.—^. Her Überzugsfilm wird auf etwa 100 bis 150 C, vorzugsweise etwa 110 bis 125 C erhitzt, um ein Härten des Siliconkautschuks herbeizuführen, wobei eine fertiggestellte "PS-Platte., die keine Hydrophilierungsrösüng erfordert_? mit,einer gemischten Überzugsschicht aus einem lichtempfindlichen. Material und einem Siliconkautschuk erhalten wird. Die Dauer' der Erhitzung für .die Bewirkung der Härtung des Silieonkautschuks . mit dem lichtempfindlichen Material kann zweckmäßig im Be- " reich von -etwa 5 bis "-;5Q Minuten, vorzugsweise im Bereich ■' ■ ■ von etwa 5 bis "15 Minuten und insbesondere im Bereich "von . etwa 5 Minuten be-i 120 C liegen. Es wird entweder eine

Platte für ein negatives-Arbeiten oder" eine Platte für ,. ein positives. Arbeiten allein durch die Änderung des verwendeten lichtempfindlichen Materials erhalten.

Beispiele für lichtempfindliche Materialien für ein negatives Arbeiten, wie z.B. ."Diazoverbindungen, sind in den US-Patentschriften 2 649 373, 2714 066_s 3 751 257 beschrieben, und .p-Chinondiäzide sind in den US-Patentschriften 2 754 209, 2 975 053, 2994 608, 2995 442 und 3 029 146 beschrieben.

Beispiele für lichtempfindliche Materialien für ein positives Arbeiten, wie z.B. o-Chinondiazide,.sind in den US-Patentschriften2 772 972, 2767 092, 2766 118, 2859 112,

2 907 655," 3 046 110, 3046 111,; 3 046 112, 3Ö46 113, 3046 ii4, '3 046 115, 3046 116, 3 046 118, 3046· 119, 3046 121, 3046 122,

3 046 123, 3046 124, 306I 430 und 3 106 465 beschrieben.'

Besonders bevorzugte o-Chinondiazide sind ein Ester von ' 2-Diazo-1-napllthol-4-sulfonsäure ^ünd ein Ester von 2-Diazo-

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2-naphthol-5-sulfonsäure, worin die Estergruppe den Rest eines polymeren Phenols umfaßt, der durch .die Wechselwirkung eines mehrwertigen Phenols und eines Ketons erhalten wurde. Das polymere Phenol ist vorzugsweise ein Produkt, das durch die Umsetzung von Aceton mit Pyrogallol bei Raumtempteratur in Gegenwart eines Katalysators, z.B. von Phosphoroxychlorid, erhalten wurde, - .

Das Umsetzungsverhältnis von dem Säurechlorid zu dem polymeren Phenol kann im Bereich von etwa 1 :O,6 bis etwa 1 :2 liegen, wobei bevorzugte Verhältnisse im Bereich von 1:1* bis etwa 1 :1,8 liegen.

Die PS-Platte gemäß der Erfindung wird durch, ein positives oder negatives. Bild belichtet und mit einer geeigneten Entwicklerlösung behandelt, wie dies in den vorstehend angegebenen US-Patentschriften, die negativ arbeitende Platten oder positiv arbeitende Platten umfassen, beschrieben ist, um eine Druckplatte zu erhalten. Im Falle einer negativ arbeitenden Platte werden die belichteten Bereiche, d.h. die Bildbereiche, unter Zurücklassen der äruckfarbaufnahmefähigen Oberflächen weggelöst. Im Falle von positiv arbeitenden Platten werden die belichteten bildfreien Bereiche gehärtet, und die nicht entwickelten unbelichteten Bereiche, d.h. die Bildbereiche, werden unter Zurücklassen von druckfarbaufnahmefähigen Oberflächen weggelöst. In beiden Fällen wird der Siliconkautschuk in den Bildbereichen entfernt, wobei- Ausnehmungen zurückbleiben, und in diesen Bereichen ist die Druckfarbabweisfähigkeit beseitigt. Wenn eine Druckfarbe auf die so erhaltene Platte aufgebracht wird, haftet sie an den Bildbereichen und haftet überhaupt nicht an den bildfreien Bereichen aufgrund der Anwesenheit des-druckfarbeabweisenden Siliconkaütschuks. Auf diese Weise können Drucke von guter Qualität ohne die Verwendung einer Hydrophil!sierungslösung erhalten werden.

Im einzelnen kann bei der praktischen Ausführung gemäß der Erfindung als lichtempfindliches Material irgendeines der

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bekannten lichtempfindlichen Materialien für negatives und positives Arbeiten, die in den gebräuchlichen PS-Platten zur Anwendung gelangen, verwendet-werden. Das lichtempfindliche Material, das bei der Herstellung der PS-Platten verwendet werden kann, die keine HydrophilTsierungaliSsung gemäß der Erfindung erfordern, umfaßt, z.B. o-Chinondiazide undHetero- oder Isopolysäuren von p-Diazpdiphenylaminen,,wie.sie in den gebräuchlichen Platten, für positives Arbeiten, wie in den US-Patentschriften Nrn. 2 772 972, 2 767 092, 2 766 118,

2 859 112, 2 907 655, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 112, 3 046 113, _:

3 046 114, 3 046 115, 3 046 II6, 3 046 118, 3 046 119, 3 046 121, 3. 046 122, 3 046 123, 3 046 124,·3 061 430 und 3 106 465 beschrieben, verwendet werden. Obgleich diese Verbindungen in positiv arbeitenden Platten bei den üblichen PS-Platten verwendet werden, werden' PS-Platten für ein negatives Arbeiten

. erhalten, wenn sie bei der Herstellung von PS-Platten,'die keine Hydrophilisierungslösung gemäß der Erfindung erfordern, zur Anwendung gelangen. Andererseits umfaßt ,das lichtempfindliche Material, das bei der Herstellung von PS-Platten für positives Arbeiten gemäß der Erfindung zur Anwendung gelangen kann, z.B. solche Materialien für die Herstellung von den üblichen negativ arbeitenden PS-Platten, wie in den US-Patent-

- Schriften 2 649 373, 2 714 066, 3 751 257, 2 754 209, ^2 975 053, 2 994 608, 2 995 442 und 3 029 146 beschrieben, z.B. Kondensate von p-Diazqdiphenylamin mit Formaldehyd, p-Chinondiazide, Azidverbindungen, 'Polyvinylcinnamate, ■ Polyvinylcinnamilidene, PoIy-(cinnamoyloxyäthylacrylat), Poly(cinnamoyloxyäthylmethacrylat), Copolymere von derartigen Acfylaten und Methacrylaten und lichtempfindliche ungesättigte Polyester, die durch_vKondensation von p-Phenylendiacrylsäure mit einem: mehrwertigen Alkohol mit einer Cyclohexylgruppe im Molekül gebildet wurden. Die ungesättigten Polyester, die zweckmäßigerweise verwendet werden können, sind Polykondensate mit Molekulargewichten""von etwa 1 000 bis zu mehreren 10 .000 aus einer p-Phenylendiacrylsäure oder deren Estern mit einem mehrwertigen Alkohol, der eine

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Cyclohexylgruppe im Molekül enthält, z.B. 1 ,Λ-Bihydroxycyclohexan, 1 -Oxy-A—methyloXcyclohexan und 1,4-Dimethylol— cyclohexane

Als Siliconkautschuk kann ein einfach zusammengesetzter· (single package) kalthärtender Siliconkautschuk (der sogenannte Einfach-Siliconkautschuk (one-shot sillconeresiri), ein doppelt zusammengesetzter kalthärtender Siliconkautschuk (der sog. Zweifacli-Sillconkautsctiuk (two-siiot silicone resin)) sowie ein Gemisch hiervon verwendet werden.

Der Siliconkautschuk von der einfachen Zusammensetzungsart umfaßt solche mit Dimethylpolysiloxanketten, die endständig Acetyl-, Oxim-, Alkyl- oder Aminogruppen tragen. Der Siliconkautschuk der einfachen Zusammensetzungsart ist eine lineare Verbindung mit sich wiederholenden Einheiten der nachstehenden allgemeinen Struktur,

R«

l·

Si
ί

- O

η - 2 - 2000

worin die Reste R¹ gleich oder verschieden sein können und eine einwertige Alkyl- oder' Arylgruppe oder eine Cyanoarylgruppe darstellen. Im allgemeinen sind weniger als' 2-3 Mol-% der R'-Gruppen Vinylphenyl oder Halogenpixeny-1 oder Phenyl, wobei jedoch am allgemeinsten der Rest R^r eine Methylgruppe darstellt.

Diese Siliconkautschuke enthalten die folgenden endständigen Gruppen,

R«

- Si - O -

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worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis. 3 Kohlenstoffatomen bedeutet und R¹ die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt,_;

-:.■■■ ' ^: ■^K" ' · ■■ ■"'. ■ ■=

(AcO) - Si - 0■-

worin Ac eine Acetylgruppe dars-teXleiund R¹ die vorstehend angegebene Bedeutung besitztj ^ .

"-'■■' ■■". . ■ ■ . R·' :"'.. .J.-".-" "■"■■■-■"·/--. (ENHO)₂ - Bi - O - ; . ' ■

worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen darstellt und R¹ die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt · und - - . _ ' ■■■■--"'■

worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoff atomen darstellt und R¹ die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt.

Siiiconkautschuke vom einfachen Zusammensetzungstyp bilden .ein Siliconelastomeres von hohem Molekulargewicht bei Härtung mittels Hydrolyse- (an den vorstehend beschriebenen endständigen Gruppen). Bei Hydrolyse sind die ausgeschiedenen Verbindungen Essigsäure, Alkohol, Oxim oder dgl. in Abhängigkei"t von der endständigen substituenten Gruppe. In Abhängigkeit von den freigesetzten Komponenten sind die im Handel erhältlichen Siliconkautschükmaterialien in vier Arten klassifiziert, nämlich de-Essigsäureart» de-Oximart, de-Alkoholart und Desaminierungsart. Die de-Alkoholart wird bevorzugt·.

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Die de-Essigsäureart ist im Handel erhältlich unter der Bezeichnung KE-41RTV (RTV Abkürzung für Raumtemperaturvulkanisation) und KE-42RTV (erhältlich von Shin-Etsu Chemical. Industries Co., Ltd.) SH-781RTV, SH-9731RTV, SH-9732RTV, SH-9737RTV und SH-914ORTV (im Handel erhältlich von Toray-Silicone Co.) w.obei diese Arten die allgemeine Formel · .

R.'

(AcO)₂ -Si-O-

besitzen, worin R eine Alkylgruppe mit C-. - Cv und Ac eine Acetylgruppe bedeutet; -

der De-Oximtyp ist im Handel als KE-44RTV und KE-45RTV (vertrieben von Shin-etsu Chemical Industries Co., Ltd) und SH-780-RTV und PRX-305=Mspersion (vertrieben von Toray-Silicone Co.) erhältlich, wobei diese Siliconkautschukmaterialien die allgemeine Formel

besitzen, worin R eine. Alkylgruppe mit C. - C-, darstellt. Der'de-Alkoholtyp ist im Handel als DC-3140RTV (vertrieben von Dow-Corning Co.) und Silaseal E (vertrieben von Fuji Kobunshi Co., Ltd.) erhältlich und der Desaminierungstyp ist im Handel als Elastseal 33, Elastseal 34, Elastseal 50 und Elastseal 59 (vertrieben von Wacker Chemie Co.) erhältlich, wobei diese Typen die folgende allgemeine Formel-

. - (EKHO)₂ - Si - O

besitzen, worin R eine -Alkylgruppe mit C. - C, darstellt.

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Siliconkaui;iSGliuksi:offi von zweifacher Zusammensetzung (two package-type,silieone rubbers) sind grundsätzlich yon zwei Arten, nämlich einer Kondensationsart und einer Additionsart.

Siliconkautschuke von der zweifachen Zusammensetzungsart vom Additionstyp ergeben sich im allgemeinen aus der nachstehenden schematisch angegebenen Umsetzung

• RJ R! £' R» f [- J ' :·■■■-

A-O-¹Si-CH=GH₀ +-H-Si-G-B--M-O'-Si-CHp-GHp-Si-O-B Γ ² I - I ² -²I, . R« R! R« R?

oder aus der folgenden schematisch dargestellten Umsetzung,

f . ■■■. f-:■ .ν f - : τ

A-O-Si-CHU-CH=GHp + H-Si-P-B—^Ä-O-Si-CH^eHp-CH^Si-O-B

V ^{z 2} ι I ^ ^ ^. I

R· -.·■- R· E¹ R¹ .

worin R¹ die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt.

In den vorstehenden Reaktionsschemen wurden die Symbole

-·■''■"■""■"■ ■.-""■" "" verwendet" A und B zur Darstellung des Organosiloxanrestes/i der an diese additipnspplymerisierenden endständigen Gruppen gebunden ist. A und B können¹ gleich oder_verschieden sein, und deren Zusammensetzung kann variieren, da das wesentliche Merkmal von diesen Organosiloxanen auf den endständigen Gruppen beruht,. die additionspolymerisierbar sind, wobei Palladium- oder Platinverbindungen, als Katalysator verwendet werden und aufgrund der Additionspolymerisatipn zwischen den ungesättigten Gruppen _f z.B, Vinylgruppe oder Ally!gruppe und der

ί "."■""■ - ■ ^{; :} ' -· ⁽■ ■■ ■ ■- ■ -^: " ■

- 0 - Si - HrEinheit,. findet eine Härtung des Kautschuks -

£, statt. -

4098 1 9/093 &

Somit ist' der Siliconkautschuk von zweifacher Zusammensetzung #in Material, bei welchem der Katalysator und das Siloxan getrennt sind und "bei Verwendung gemischt werden..

Ein spezifisches Beispiel für einen Siliconkautschuk der zweifachen Zusammensetzung vom Additionsr e akt ionstyp umfaßt eine Mischung als eine Komponente von einem Organo— polysiloxan mit einer Vinylgruppe im Molekül und einem Organohyarogenpolysiloxan, z.B. eine Mischung von Verbindungen mit endständigen Gruppen der nachstehenden allgemeinen Formel,

- 0 - Si - CH = CH-

end'ständige Gruppe von Polyorganösiloxari

R¹

I -

- O - Si - H ■ί ' .

endständige Gruppe von Organohydrogenpolysiloxan

worin R' die vorstehend angegebene Bedeutung besitzt, und ei nen Katalysator als zweite Komponente, z.B. eine Platinver— bindung oder eine Palladiumverbindung. - - ' H₂PtCIg wird häufig als Katalysator verwendet. Die beiden Komponenten werden unmittelbar vor Gebrauch miteinander vereinigt. ■ ■ -

■Im Handel erhältliche Siliconkautschuke vom Ä&cLx-tions— typ umfassen KE-1O3RTV, KE-106RTV und KE 13OORTV (vertrieben von Shin-etsu Chemical Industries Co., Ltd.) und SH-9555HTV (vertrieben von the Toray,Silicone Co.), worin. R¹ eine Alkylgruppe mit (C₁ - C₅) bedeutet. .

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Der Siliconkautschuk von zweifacher Zusammensetzung vemKondensationstyp wird im allgemeinen gemäß dem nachstehenden Reaktionsschema erhalten, .-■■:·"

- . ' " R¹: ■ ' '"■■'"-.- B» .· ."■■■■■ ■'- ^" ^:

A-O- Si - OE '+ B - 0 - Si-OH

. A-O-Si-O-Si-QB + HOH

worin R', R, ""A wiä. B die vorsteherLd angegebene Bedeutung

in .

besitzen, wobei die endständigen Gruppen, diefdie Kondensa tionsreaktion eingehen können, durch die folgenden Formeln dargestellt werden können. . -.·._■

ι i ·

„ ii - OR

xmä.

- Si -

- 0 - Si - OH

Eine geeignete Katalysatorkomponente ist SnCl^, . ·

Im Handel erhältliche. SiliGonkautschuke vom Kondensationstyp umfassen KE-IORTVj KE-12RTV, KE-15RTV_s KE-1TRTV, KE-102RTV (vertrieben von SMn-etsu Chemical Industries Cp.,Ltd.) und SH-9551RTV,. SH-9552RTV, ÖH-9553RTV und-.SH 9554RTV (vertrieben von Toraj-Silicone Co.), worin R' eine Alkylgruppe mit

4098 1 97 093$ "'V

* - C-, bedeutet.

Wenn die Haftung zwischen der Überzugsschicht aus der Mischung aus einem lichtempfindlichen Material und einem -Siliconkautschuk gemäß der Erfindung und einem Träger schlecht ist, kann ein gebräuchliches Haft- oder Hilfsmittel verwendet werden, um die Haftung zu verbessern. Als Haft- oder Hilfsmittel wird ein Siliconprimer verwendet. Als Silicone·- primer werden Lösungen in nicht polaren Lösungsmitteln von Monomeren oder Substanzen mit niedrigem Molekulargewicht, z.B. kohlenstoff—iunktionellen organischen Silanen, z.B. Alkylsilanol, Ester hiervon, Organoalkoxysilan und Alkylvinylsilane (beispielsweise Toray Silicone PR X 304, Frimer SH506 oberflächenaktives Mittel und Toshiba Silicone Primer-ME-11)bevorzugt verwendet.

Diese Silanverbindungen besitzen organische Gruppen von zwei Arten von unterschiedlicher Reaktivität, z.B.

R -

worin R z.B. eine Alkyl-, eine Alkylamino-, eine Aminoalkyl-, eine Amino-, eine Alkoxyaryl-, eine Methycryloxy-, eine Glycidioxy-, eine Cycloalkyl- oder ähnliche Gruppe sein kann.

CH₂=CH-SiCl, - (Vinyltrichlorosilan ) ;

HpN(GHp)PKH-CHo-CH₃^CH₉ ⁴Si-(OCH_x)P /Ti-(Dünethoxymethyläv d. <«: d d d \ ^ ^ ( silylpropyl) )

CH, VAthylendiamin J ;

CH₂=C-COO(CH₂),-Si(O-CH,), (r-Methacryloxypropyl-

·* . Trimethoxysilan ) ;

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)-ζ . (Methyl-Trimethoxysilanf.)·;

₃ * (Phenyl-TrimethOxysilan .·) ; .

CH₂=GH-Si(OCO-CH^)₃ ' ' (Vinyltrisäcetoxysilan .) ;

Y S-CH₀-CBp-Si(OCH,), ß-(3,if Epoxycycloiiexyl)äthyl-

\ -_/- ^d *■ . . Triiiethoxysilari ". ' ;

CH₀-CH-CH₀(CH₀)_xSi(OCHi), (^GlycidoxypropyltriEethoxy- V/ - eilan )

Der gemäß der Erfirfdmig"verwendete Trager umfaßt Aluminiumplatten, Zinkplätten, Eisenplätten und älinliehe Metällplatten, wie sie in gebräuchlichen PS-Platten verwendet werden, wie dies in den US-Patentschriften 2 119 03I und 3 751 257 beschrieben ist. Diese träger Können als solche verwendet werden oder z.B. nach einer Körnung., Die Aluminiumplatte kann einer chemischen Behandlung oder einer anodischen Oxydation unterworfen werden. Neben diesen Metällplatten können auch Filme von Polyester oder Acetylcellulose mit einer guten Dimensionsstabilität als Träger zur Anwendung gelangen. Ein leicht zugänglicher Träger, der verwendet werden kann, ist ein sogenanntes Schichtpapier, bestehend aus einem mit einem Künststoff odei* mit einer Aluminiumfolie beschichteten Papier. Gewünschtenfalls > kann der Träger mit einem Primer oder Polymer als Hilfsmaterial versehen werden. .

Die Entwicklungslösung", di& für die keine Hydrophilisie- rungslösung oder wässrige Lösung benötigenden PS-Platte gemäß der Erfindung verwendet wird, ist eine Behandlungslösung,, wie sie für den Zweck einer physikalischen Unterscheidung zwischen den belichteten Bereichen und den unbelichteten Bereichen der gemischten Überzugsschicht von einem Siliconkautschuk^ und einem

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lichtempfindlichen Material gemäß der Erfindung und zur Entfernung des Siliconkautschuks in dem Bildbereich verwendet wird._ Die Eigenschaften, die für die bei dem Verfahren gemäß der Erfindung zu verwendende Entwicklerlösung erforderlich sind, sind die folgenden:

(1) Die Entwicklerlösung darf nicht die Siliconkautschukschicht zerstören;

(2) sie muß jedoch in den Siliconkautschuk eindringen;

(3) sie muß selektiv die Bereiche, in welchen das lichtempfindliche Material infolge der Belichtung verändert worden ist, von den Bereichen, in welchen das lichtempfindliche Material unverändert zurückbleibt, unterscheiden.

Demgemäß kann die Zusammensetzung der Entwicklerlösung in geeigneter Weise in Übereinstimmung mit dem verwendeten lichtempfindlichen Material gewählt werden.

Das lichtempfindiiche Material und der Siliconkautschuk werden in einem Gewichtsverhältnis von lichtempfindlichem Material zu Siliconkautschuk im Bereich von 0,1 bis 1,1» vorzugsweise von 0,2 bis 1,1 und insbesondere von 0,3 bis 0,9 gemischt. Die Überzugsmischung kann in einer Dicke von etwa 1 bis 10 Mikron aufgebracht werden, und eine Druckplatte von guter praktischer Qualität wird erhalten, wenn die Dicke 2-5 Mikron beträgt.

Zur Veranschaulichung des Aufbaus · und des Plattenherstellungsverfahrens unter Verwendung der PS-Platte gemäß der Erfindung wird nachstehend Bezug auf die Zeichnun^enommen.

In Fig. 1 zeigt (a) eine Querschnittsansicht einer PS-Platte vom positiven Typ gemäß der Erfindung, (b) zeigt eine Querschnittsansicht bei Belichtung, (c) zeigt eine Querschnittsansicht der Platte nach Entwicklung und (d) zeigt eine Querschnitt sansicht einer Druckplatte, auf welche eine Druckfarbe aufgebracht wurde. In Fig. 1 bezeichnet das Bezugszeichen 10 einen Träger, 11 eine Überzugs schicht aus einer Mischung, von

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einem lichtempfindlichen Material und einem..Siliconkautschuk, .12 einen positiven Bildfilm, 13 die unlöslich gemachten Bereiche nach Belichtung, 14 die "^druckfarbeaufnahmefähigen Oberflächen, die durch die Entfernung von lichtempfindlicherSchicht mittels einer Entwicklerlösung^:" gebildet wurden,imd 15 bezeich>net die Druckfarbe.' : ■

,_.,- Fig. 2 zeigt eine -PS-Platte, die keine Hydrophilisierungs^- '■"· " lösung gemäß derErfindung erfordert, wobei (a) eine Querschnitts— ansicht einer PS-Platte vom^:negativen Typ gemäß der Erfindung zeigt, (b) ist^ eine Querschnittsänsicht^ beiBelichtuhg, (c) ist eine Querschnittsansicht der Platte nach Belichtung und (d) ist die Querschnittsansicht-einer Druckplatte, auf welche-reine Druckfarbe aufgebracht wurde.,. In JFig. 2. bezeichnet das Biezugszeieheii _: 20 einen Träger, 21 eine Überzugsschicht aus -einer Mischung von einem lichtempfindlichen Material, und^ einem: Siliconkautschuk, 22 einen negativen Bildfilm, 2j>: die bei; Belichrtung löslich ge- \ machten Bereiche, 2hν die farbaiifnahmefähigen Objerflächen, die bei Entwicklung freigelegt wurden und 25 eine Druckfarbe.V

Die gemäß der Erfindung; hervorgebrachten Vorteile sind nachstehend zusammengestellt: _{: ;} ^:y

(1) Da die PS-Platte gemäß der Erfindung einen einschichtigen Aufbau aufweist j gibt eskein^Problem bezüglichder Haftung zwischen einer Siliconschicht und einer lichtempfindlichen Schicht, wie dies bei den bisherigen PS^Platten von mehrschichtigem Aufbau der Fall war. : ; ^

(2) Eine-Druckplatte für negatives Arbeiten ebenso wie für psitives Arbeiten kann mühelos hergestellt werden, indem man lediglich das verwendete lichtempfindliche Material ändert.

(3) Bei den bekannten PS-Platt en, bei welchen ein Siliconkautschuk über eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht ist, ist die Dicke der Siliconkautschukschicht begrenzt, wahrend bei den PS-Platten gemäß der Erfindung keine Beschränkung der Dicke vorhanden ist.. . . ' -

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(4) Das lichtempfindliche Material dient als Füllstoff zur Erhöhung der Festigkeit der Siliconkautschukschicht.

(5) Eine Druckplatte, die aus der PS-Platte gemäß der Erfindung hergestellt wurde,, gibt einen scharfen Druck aufgrund eines sehr hohen Auflösungsvermögens der PS-Platte, was auf deren einschichtigen Aufbau zurückzuführen ist.

(6) eine PS-Platte von außerordentlich guter Qualität kann bei niedrigen Kosten aufgrund der vorstehend geschilderten Eigenschaften (1) bis (5) hergestellt werden.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen näher erläutert, worin, wenn nichts anderes angegeben ist, sämtliche Teile und Prozentangaben auf Gewicht bezogen sind.

• Beispiel 1 -

In 30 ml Methyläthy!keton wurden 1,2 g des polymeren Diazooxyd-phenolesterharzes, wie in Beispiel 1 der britischen Patentschrift 1 113 759 beschrieben, als lichtempfindliche Verbindung und 1,5 g eines Siliconkautschuks, nämlich DC-3140RTV, d.h. ein Siliconkautschuk von einfacher Zusammensetzung vom de-Alkoholtyp (hergestellt von Dow-Corning Co.) gelöst. Der die lichtempfindliche Lösung enthaltende Siliconkautschuk wurde gleichförmig auf eine entfettete Aluminlumplatte in ausreichender Menge gegossen, um eine Schicht mit einer Trockendicke von 5 Mikron zu bilden. Nach Verdampfung des Lösungsmittels wurde die beschichtete Aluminiumplatte während 10 Minuten in einem Ofen bei 12O⁰C zum Härten des Siliconkautschuks erhitzt, wobei eine PS-Platte für negatives Arbeiten erhalten wurde, die gemäß der Erfindung keine Hydrophilisierungslösung erforderte. Ein Negativfilm wurde in Überlagerung auf die PS-Platte aufgebracht, und die Anordnung wurde während 2 Minuten unter Verwendung eines PS-Kopierapparates A-3_? (hergestellt von Fuji Photo Film Co^, Ltd) bestrahlt. Die belichtete Platte wurde mit einer Entwicklerlösung, bestehend aus einem 3:1

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(bezogen auf Volumen)-Gemisch von Isopropanol und Wasser behandelt, um die lichtempf indische Verbindung zusammen mit dem Siliconkautschuk in den bestrahlten Bereichen, d.h. in Bildbereichen, wegzulösen, wodurch die Oberfläche.der Aluminiumplatte freigelegt wird. Jas Verfahren wird bei Dunkelkammer-licht durchgeführt.. ■ ·-. . ■'-■

Die Behandlung wurde in einer Kopiermaschine (Davidson¹s

Duris 500 printing machine) angebracht, aus welcher der Mechanismus für das Aufbringen des HydrophiTisierungslösung entfernt ~worden war, und das Drucken oder· Kopieren wurde unter Verwendung einer Druckfarbe ("Speed King Black",,von Toyo Ink Co.) ausgeführt, wobei 1000 Kopien von guter Qualität erhaltenwurden. .

Nach dem Kopieren oder Drucken war die Platte nur leicht beschädigt. ·

Beispiel 2 :

In 133 ml einer -3:1 (bezogen auf Volumen)- Mischung von Methylethylketon und Cyclohexan wurde 1 g eines lichtempfindlichen ungesättigten^Polyesters, hergestellt durch Polykondensation von p-Phenylendiacrylsäure mit 1,4-Dihydroxyäthylcy.clohexan (Mol-Gewicht etwa 5000) in einem molaren Verhältnis von .1:1 als lichtempfindliche-Verbindung, 0,4 g von 1-Methyl-2-be^oylmethyleh-beta-naphthöthiazoiin als Sensibllisierungsmittel und 3 g Siliconkautschuk,- nämlich DG-3140RTV, gelöst. Die Überzugslösung wurde gleichförmig auf eine entfettete Aluminium- ^: platte in einer Trockehdicke von etwa 5 Mikron gegossen.- Nach Verdampfung des Lösungsmittels wurde die beschichtete^ Platte während 5 Minuten in einem¹Ofen bei 120°C getrocknet, wobei eine PS-Platte erhalten wurde, die keine Hydrophillsierungslösung erforderte. -; - .

Die PS-Platte wurde durch ein positives Filmbild während 60 Sekunden unter Verwendung einer PS-Kopiergerätes A-3 (hergestellt von Fuji Photo Film Co.,»Ltd.) belichtet und mit einer

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Mischimg von Cellusolveacetat, Propylenglycol und Wasser im Volumenverhältnis von 5:3:2 entwickelt , um die Oberfläche der Aluminiumplätte in den unbestrahlten Bereichen, d.h. den Bildbereichen, freizulegen. Bei Aufbringen einer Druckfarbe auf die Platte haftete diese an den freigelegten Aluminiumoberflächen an, jedoch nicht an den bildfreien Bereichen. In ähnlicher Weise, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurden 500 Kopien von guter Qualität erhalten. Nach dem Kopieren blieb die Platte im wesentlichen unbeschädigt zurück.

Beispiel 5

Die Arbeitsweise von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei 0,3 g 2,6-Di-(4'-azidobenzal^cyclohexanon anstelle von i-Methyl-2-benzoylmethylen-beta-naphthöthiazolin verwendet wurden, wobei eine PS-Platte erhalten wurde, die keine Hydrophilisierungslösung oder wässrige Lösung gemäß der Erfindung erforderte und die für ein positives Arbeiten geeignet war.

Beispiel 4 " .

Eine lichtempfindliche Lösung wurde durch Auflösen von 0,3 g von Poly-(cinnamoyloxyathylmethacrylat) mit einem Molekulargewicht von 30 000, 0,1 g 2,6-Di-(4'-azidobenzol)cyclohexanon und 0,7 g von DC-3140RTV in 133 ml einer Mischung von -Methyläthy!keton und Cyclohexanon im Volumenverhältnis von 3:1 hergestellt. Die Lösung wurde gleichförmig auf eine Aluminiumplatte gegossen und während 5 Minuten in einem Ofen bei 120°C erhitzt, wobei eine keine Hydrophilisierungslösung erfordernde PS-Platte gemäß der Erfindimg für ein positives Arbeiten erhalten wurde. Die PS-Platte wurde mit einer Entwicklerlösung, wie in Beispiel 1 beschrieben, behandelt, um eine Druckplatte von guter Qualität zu erhalten.

Beispiel 5 \

Die gleiche Arbeitsweise, wie in Beispiel 4 angegeben, wurde mit der Änderung wiederholt, daß 0,2 g 2,6-^i-O'-

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cyclohexanon als lichtempfindliche Verbindung und 1 g,vonDC-3i40RTV in 133 ml einer Mischung von Methyläthylketon und Cyclohexanon im Volumenverhältnis von 3si zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung verwendet wurden.
In ähnlicher Welse wurde eine keine Hydrophilsierungslösung benötigende PS-Platte von guter Qualität erhalten. Die Platte konnte mühelos mit n-Heptan entwickelt werden, · ~

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Claims

Patentansprüche , (I ,/Vorsensibilisierte Flachdruckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß sie auf einem Träger eine Beschichtung aus einer. Mischling von einem lichtempfindlichen Material und einem Siliconkautschuk aufweist. ^ 2. Vorserisibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch-1, f dadurch gekennzeichnet, daß^das lichtempfindliche Material ein o-Chinondiazid, eine Heteropoly- oder Isopolysäure von p-Diazodiphenylamin, eine Azidverbindung, ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd, ein p-Chinondiazid, PoIyvinylcinnamat, Polyvinylcinnamilidenj Poly-(cinnamoyloxyäthylacrylat) oder Mischpolymerisate hiervon, Poly-(einnamoyloxyäthylmethacrylat) oder Mischpolymerisate hiervon oder ein ungesättigter Polyester, der das Kondensationsprodukt von p-Phenylendiacrylsäur.e mit einem eine Cyclohexylgruppe enthaltenden mehrwertigen Alkohol umfaßt, ist. 3. Vorsensilbilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliconkautschuk ein Siliconkautschuk von einfacher Zusammensetzung (single package type silicone rubber) oder ein Siliconkautschuk von zweifacher Zusammensetzung (two-package type silicone rubber) ist. 4. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliconkautschuk von einfacher Zusammensetzung ein Siliconkautschuk vom de-Alkoholtyp, de-Essigsäuretyp, de-Oximtyp oder Desaminotyp ist und daß der Siliconkautschuk von zweifacher Zusammensetzung ein Siliconkautschuk vom Additionstyp oder Kondensationstyp ist«, f 5. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Siliconkautschuk ein Siliconkautschuk vom de-Alkoholtyp ist. 409819/0936 6. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekenhheichnet, daß das o-Chinondiazid ein Ester von 2-Diazo-1-naphthol-4-sulfonsäure oder ein Ester von 2-Diazo-1-naphthol-5-suifonsäure ist, worin die Estergruppierung der Rest eines.polymeren Phenols ist, das das Reaktionsprodukt von einem mehrwertigen Phenol:und einem Keton umfaßt. · ; " - m 7. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 6, f dadurch gekennzeichnetν daß das polymere Phenol das Reaktions- ^ produkt von Aceton und Pyrogallol ist. 8. Vorsensibilisierte Flächdruckplatte nach Anspruch;!, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger" eine Aluminiumplatte, Zinkpiatte, Eisenplatte, ein Polymerfilm oder ein. beschichtetes Papier-ist. - ■■■■■"■_■ : 9. Vorsens;ibillsierte Flachdruckplatte nach Anspruch T, dadurch'gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von lichtempfindlichem Material zu Siliconkautschuk im Bereich von ^ 0,1 zu 1,1 liegt.: , ; " 10. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Überzug oder die Beschichtung eine Dicke im Bereich von eiwa 1 bis 10 likron "besitZt. 11. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger ein mit einem Hilfsmaterial versehener Träger ist. ■: ■ :

1.

2. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der überzug einen optischen Sensibilisator enthält. · : ; ^ : \ ·

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