DE2422428C3 - Vorsensibilisierte Flachdruckplatte und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform - Google Patents
Vorsensibilisierte Flachdruckplatte und Verfahren zur Herstellung einer FlachdruckformInfo
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Description
in der R1 ein Wasserstoffatom oder einen
unsubstituierten oder halogensubstituierten Phenylrest, R2 ein Wasserstoffatom oder eine
Methylgruppe, R3 einen zweiwertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen,
R4 eine Methyl- oder Trifluorpropylgruppe bedeutet, a den Wert O oder 1 hat, I, m und η :>o
positive ganze Zahlen sind, wobei η größer als 25 isi, der Quotient n/l 25 bis 2000 und der
Quotient n/m 2$ bis 50 betragen, und
(b) aus einem Photosensibilisator besteht.
2. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß R1 ein Wasserstoffatom, R2 eine
Methylgruppe, R3 eine Trimethylengruppe und R4
eine Methylgruppe bedeutet
3. Flachdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Photosensibilisator jo
4-Phenylphenol,4-Nitroanilin, Picramid,
2,6-Dichlor-4-nitroanilin,2,4-Dinitropr.ienoI,
gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht
(a) aus einem photopolymerisierbaren Organopolysiloxan der allgemeinen Formel IV
C6H5SiO3
CH3
SiO
R4
R4
(IV)
Γ R1 R2
(CH3).
Il
in der R1 ein Wasserstoffatom oder einen
unsubstituierten oder halogensubstituierten -in Phenylrest, R2 ein Wasserstoffatom oder eine
Methylgruppe, R3 einen zweiwertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen,
R4 eine Methyl- oder Trifluorpropylgruppe bedeutet, a den Wert 0 oder 1 hat, /, m und η 4-,
positive ganze Zahlen sind, wobei η größer als 25 ist, während die Quotienten n/l und n/m 25
bis 2000 bzw. 23 bis 50 betragen,
(b) aus einem Photosensibilisator und
(c) aus einem Lösungsmittel besteht, >n die beschichtete Platte trocknet, die Schichtseite der
Platte bildmäßig mit energiereichem Licht belichtet und dadurch eine Polymerisation und Härtung in den
belichteten Bereichen bewirkt,
die belichtete Platte entwickelt, wobei die unbelich- >*>
teten Bereiche entfernt und in diesen Bereichen die Oberfläche der Platte freigelegt werden und die
belichteten Bereiche nachhärtet.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man als Lösungsmittel Methyläthylke- mi
ton, Methylisobutylketon, Benzol, Toluol, Xylol,
Benzaldehyd, Acetophenon,
4,4'-Diaminobenzophenon,
4,4'-Bisdimethylbenzophenon,Benzochinon,
Anthrachinon, 1^^-Naphthochinon,
3-Methyl-13-diazo-l ,9-benzanthron,
Malachitgrün, Methylenblau, Chromgrün,
Rhodaminblau,
2,4,6-Triphenylpyrylium-perchlorat,
2,4,6-Triphenylthiapyrylium-perchlorat,
2,4,6-TriphenyIpyrylium-fluoboratoder
2,4,6-Triphenylthiapyrylium-fluoborat
ist
4. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform, bei dem man die Oberfläche einer Platte mit
einem polymerisjerbaren und aushärtbaren Gemisch beschichtet, dadurch gekennzeichnet, daß das
Gemisch
(a) aus einem photopolymerisierbaren Organopolysiloxan der allgemeinen Formel IV
(IV)
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man als energiereicnes Licht Ultraviolett-Licht verwendet
7. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die bildmäßige Belichtung nach
Kontakt mit einer positiven Vorlage auf der beschichteten Platte erfolgt und die Schichtseite mit
energiereichem Licht durch die Vorlage belichtet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß di* Härtung der Schicht soweit erfolgt,
daß die bildmäßig belichteten Bereiche der Schicht in organischen Lösungsmitteln unlöslich sind.
9. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man zum Entwickeln ein organisches
Lösungsmittel verwendet.
10. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Nachhärtung durch Erwärmen auf
höhere Temperatur erfolgt.
11. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Platte aus Metall oder
Kunststoff verwendet.
| QH5SiO3 | m | CH3 | |
| T | SiO | ||
| I | R+ | ||
Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierle Flachdruckplatte und ein Verfahren zur Herstellung einer
Flachdruckform, mit der ohne Feuchtwasser gedruckt
werden kann.
Im Gegensatz zum Hochdruck- und Tiefdruckverfahren, bei denen die druckenden Bereiche erhaben bzw. in
der Oberfläche der Druckform eingearbeitet sind, liegen
beim Flachdruckverfahren druckende und nichtdrukkende Bereiche der Druckform in einer Ebene.
Die Theorie des konventionellen Flachdruckverfahrens beruht auf der Unverträglichkeit von Ol und
Wasser. Bei der Druckformenherstellung werden die nichtdruckenden Bereiche der Flachdruckform durch
chemische oder mechanische Bearbeitung wasseraufnahmefähig (hydrophil) gemacht, während die druckenden Bereiche ,so präpariert werden, daß sie; Wasser
abstoßen, aber Fettfarbe annehmen, also oleophil sind
Letzteres geschieht durch Auftragen eines Fettgrundes auf die Druckformenoberfläche. Beim eigentlichen
Druckvorgang wird die gesamte Flachdruckform erst mit Wasser gefeuchtet und hierauf mit Druckfarbe
eingefärbt Entsprechend der Vorbehandlung der Flachdruckform nehmen dabei die nichtdruckenden
Bereiche Wasser an und stoßen deshalb die Druckfarbe ab, während umgekehrt die druckenden Bereiche
Wasser abstoßen und deshalb die Druckfarbe annehmen. Auf diese Weise kann das zu reproduzierende Bild
in der Flachdruckpresse auf den Druckträger übertragen werden.
Die praktische Durchführung des Flachdruckverfahrens ist mit einigen Schwierigkeiten behaftet So kann
die Feuchtlösung während des Druckvorgangs über die Farbwalzen auch an die Druckfarben gelangen und
diese emulgieren; emulgierte Druckfarbe neigt zum Tonen. Darüber hinaus wird das Feuchtwasser auch auf
den Druckträger, meist Papier, übertragen, verschmutzt dieses und veranlaßt es zur Wellenbildung und zur
Änderung der Dimension. Diese Schwierigkeiten machen sich durch Passerdifferenzen besonders unangenehm bemerkbar bei Mehrfarbenarbeiten, bei denen
der Druckträger mehrere Male zu bedrucken ist π
Während des Druckvorgangs ist es sehr schwierig, das sogenannte Wasser-Farbe-Gleichgewicht konstant
zu halten. Schwankungen im Wasser-Farbe-Gleichgewicht aber führen zu Tonwertschwankungen im Druck
und damit zu beträchtlichen Abweichungen des Druckes vom zu '(!produzierenden Original während der
Auflage.
Um diese Schwierigkeiten zu beheben, sind Versuche unternommen worden, Rachdruckformen zu entwikkeln, die nicht mehr gefeuchtet werden müssen. Bisher
konnte aber keine brauchbare Lösung gefunden werden, ,So ist es zum Beispiel bekannt, auf eine
Aluminiumplatte eine mit Diazoverbindungen sensibilisierte Schicht und darauf eine Dimethylpolysiloxan-Kautschuk-Schicht aufzubringen. Diese Flachdruckplat- in
te wird unter einer pot.Hiven Kopiervorlage belichtet,
um die Photoschicht an den belichteten Bereichen wasserunlöslich zu machen, während die nicht belichteten Bereiche der Schicht bis zur Aluminiumplatte
wegentwickelt werden. Auf der Flachdruckform bleibt >> so an den belichteten Bereichen eine lichtgehärtete
Diazoschicht und eine darüberliegende Silikonkautschukschicht zurück. Die Kautschukschicht ist Druckfarben abstoßend; vgl. GB-PS 11 4ö 618.
Nach dem in der US-PS 35 11 178 beschriebenen mi Verfahren wird eine diazosensibilisierte Flachdruckplatte folgendermaßen hergestellt:
Auf eine Aluminiumplatte wird erst eine diarosensibilisierte Schicht, sodann eine Klebeschicht und hierauf
schließlich eine Schicht aus Silikonkautschuk aufge- tr, bracht. Diese Schichten werden durch ein transparentes
Negativ belichtet. In diesem Falle ist die diazosensibilisierte Schicht vor der Pelichtung wasserunlöslich. Sie
wird erst durch die Belichtung zersetzt, so daß die
darüberliegende Silikonkautschukschicht an den belichteten Bereichen entfernt werden kann.
In der· beiden genannten Beispielen liegt auf der lichtempfindlichen Diazoschicht jeweils eine Druckfarben abstoßende SUikonkautschukschicht Bei der Belichtung ist deshalb die Kopiervorlage nicht in unmittelbarem Kontakt mit der lichtempfindlichen Schicht Durch
Lichtstreuung entsteht dabei zwangsläufig eine unscharfe Abbildung der Kopiervorlage in der lichtempfindlichen Schicht Eine weitere Unscharfe kommt darüber
hinaus noch dadurch zustande, daß die Entfernung der Silikonkautschukschicht an den druckenden Bereichen
erst durch eine lichtinduzierte Veränderung der darunterliegenden Diazoschicbt ermöglicht wird. Dadurch ist es bei der Entwicklung auch aus diesem
Grunde unmöglich, scharfe Kanter, zu erhalten. Schließlich ist das Aufbringen von zwei oder gar drei
Schichten nacheinander auf die Trägerplatte ein komplizierter und langwieriger Vorgang, wozu endlich
dann noch der Kopier- und Fr>twicklungsprozeß hinzukommt
Es ist bereits eine Flachdruckform und ein Verfahren zu ihrer Herstellung entwickelt worden, um die
vorstehend beschriebenen Unzulänglichkeiten zu vermeiden; vgl. DE-OS 22 07 495. Nach diesem Verfahren
wird eine Trägerplatte aus Aluminium mit einer photopolymerisierbaren Schicht versehen. Im einzelnen
enthält die Schicht mindestens ein photopolymerisierbures Silikon, einen Photosensibilisator und ein Lösungsmittel. Das photopolymerisierbare Silikon besteht aus
mindestens einer organischen Silikonverbindung der allgemeinen Formel I
R1 R2
R4
I I I
il
ο
in der R1 ein Wasserstoffatom oder einen unsubstituierten oder halogensubstituie.-ten Phenylrest, R2 ein
Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R3 einen unsubstituierten oder halogensubstituierten zweiwertigen Kohlenwasserstoff rest mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, R4 einen unsubstituierten oder haiogensubstituierten einwertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 10
Kohlenwasserstoffatomen und X eine Hydroxylgruppe oder einen Alkoxyrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
bedeutet, a den Wert 0,1 oder 2 und b den Wert 0,1 oder
2 hat, mit der Maßgabe, daß die Summe von a + b gleich 0,1 oder 2 ist.
Das photopolymerisierbare Silikon kann aber auch folgende allgemeine Formel II aufweisen
R1 R2
I i
HC=C-C-O— (R'- O)
P
-SiXnO^n, „
(11)
in der R1, R2, R3, R4 und X die vorstehende Bedeutung
haben, /den Wert 0 oder 1 hat und m und π jeweils den
Wert 0, 1 oder 2 haben, mit der Maßgabe, daß die Summe von m + η gleich 0,1 oder 2 ist.
Die vorstehend b ;,«chriebene Schicht wird unter einer
positiven Kopiervorlage mit UV-Licht oder starkem sichtbarem Licht belichtet, anschließend entwickelt und
nachgehärtet. Es entsteht in den belichteten Bereichen
ein fester, unlöslicher und gegen Hitze, Chemikalien und Korrosion widerstandsfähiger Or<?anosiloxan-Film, der
Druckfarben abstößt, während die Schicht in den unbelichteten Bereichen durch Lösungsmittel wegentwickelt
wird. Auf diese Weise wird eine Flachdruckplatte erhalten, die trocken ohne Anwendung von
Feuchtwasser verdruckt werden kann.
Weitere Untersuchungen auf dem Gebiet der Flachdruckformenherstelhing brachten folgendes Ergebnis.
Bei den Versuchen war beobachtet worden, daß die photopoiymeriserbare Schicht beim Belichten mehr
oder minder weich wurde, so daß die Schichtoberfläche auch bei reduziertem Anpreßdruck von der aufliegenden
positiven Kopiervorlage beschädigt wurde. Weiterhin wurde festgestellt, daß die Photopolymerisation der
Verbindungen der allgemeinen Formel I durch die Anwesenheit einer höheren Konzentration eines lichtempfindlichen
polymerisierbaren Restes der allgemeinen Formel III
R, R2
i i
HC=C-C-O —
HC=C-C-O —
(Uli
noch verbessert werden konnte. R1 und R2 haben die
ι o.-stehend angegebene Bedeutung.
Die verbesserte Photopolymerisationsfähigkeit die ses Restes macht die Schicht beim Belichten nod
weicher. Weiterhin ergab sich, daß die durch Belichter durch eine positive Kopiervorlage, anschließende!
Entwickeln und Nachhärten erhaltene polymerisicr« Schicht auf der Druckplatte die Druckfarbe weniger gu
abstieß und zum Tonen neigte.
In diesem Zusammenhang wurde weiterhin festge
stellt, daß die Auflagenbeständigkeit der Flachdruck platte verschieden und vom Molekulargewicht dei
verwendeten photopolymerisierbaren Silikonvofbin
dung abhängig war. Und zwar ergab ein niedrigere; Molekulargewicht eine geringere Haltbarkeit de
Druckform im Auflagendruck.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eiru
Flachdruckplatte und ein Verfahren zur Herstellung einer flachdruckform zu schaffen mit welcher bei hohe?
Lichtempfindlichkeit der vorsensibilisierten Flachdruck platte ohne Anwendung von Femhiwassser eine hohe
Auflage guter Qualität erreicht werden kann.
Gegenstand der Erfindung ist eine vorsensibilisierte Flachdruc'<;ilatte mit einei· lichtempfindlichen Schicht
die ein photopolymerisierbares Organopolysiloxan mil äthylenisch ungesättigten Kohlenstoffbindungen enthält,
.lic dadurch gekennzeichnet ist, daß die lichtempfindliche
Schicht
(a) aus einem pho!or>olymerisierbaren Organopolysiloxan
rfer allgemeinen Formel IV
R: ICH,),,
C-C-O-R1- SiO, . „
O
C„ H5Si O3
CH,
SiO
SiO
R4
(IV)
in der R1 ein Wasserstoffatom oder einen unsubstituierten
oder halogensubstituierten Phenylrest, R2 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R3
einen zweiwertigen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, R4 eine Methyl- oder
Trifluorpropylgruppe bedeutet, a den Wert O oder 1
hat, /, m und π positive ganze Zahlen sind, wobei π
größer als 25 ist, der Quotient n/l 25 bis 2000 und der Quotient n/m 2,5 bis 50 betragen, und
(b) aus einem Photosensibilisator besteht.
(b) aus einem Photosensibilisator besteht.
Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung einer nachdruckform, bei dem man die
Oberfläche einer Platte mit einem polymerisierbaren und aushärtbaren Gemisch beschichtet, das dadurch
gekennzeichnet ist, daß das Gemisch aus
(a) dem photopoiymeriserbaren Organopolysiloxan der allgemeinen Formel IV,
(b) einem Photosensibilisator und
(c) einem Lösungsmittel besteht,
die beschichtete Platte trocknet, die Schichtseite der
Platte bildmäßig mit energiereichem Licht belichtet und dadurch eine Polymerisation und Härtung in den
belichteten Bereichen bewirkt,
die belichtete Platte entwickelt und die unbelichteten Bereiche entfernt und in diesen Bereichen die
Oberfläche der Platte freilegt und die belichteten Bereiche nachhärtet
Die Flachdruckplatte der Erfindung hat folgende Eigenschaften:
1 ^ Eine Feuchtünff ist überfloss!*'"
2) es wird eine hohe Originaltreue und ein scharfes Druckbild erreicht;
60
3) es werden extrem saubere und klare Druckt erhalten und
4) die Flachdruckplatte hat eine sehr hohe Auflagen beständigkeit.
In den Zeichnungen wird die Herstellung dei
erfindungsgemäßen Flachdruckform erläutert. Fig.] zeigt die Platte 1. Auf dieser liegt eine Schicht 2 mil
einer Schichtdicke von 3 bis ΙΟμπι. Die Schicht 2 wire
durch Beschichten der Platte mit einer Lösung des photopolymerisierbaren Organopolysiloxans und mindestens
einem Photosensibilisator in einem organischer Lösungsmittel und anschließendem Trocknen erhalten
Als organische Lösungsmittel werden Ketone, wie Methyläthylketon und Methylisobutylketon, aromatische
Kohlenwasserstoffe, wie Benzol, Toluol und X; Ol und chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Trichlorethylen
und Tetrachlorethylen, verwendet
Als Photosensibilisatoren dienen Amino-, Nitro- oder
Phenolverbindungen, vorzugsweise 4-Phenyiphenol
4-NitroaniIin, Picramid, 2,6-Dichlor-4-nitroanilin, 2,4-Dinitrophenol,
Aldehyde und Ketone, wie Benzaldehyd Acetophenon, 4,4'-Diaminobenzophenon, 4,4'-Bisdimethylbenzophenon
(Michlers Keton), Chinonverbindungen, wie Benzochinon, Anthrachinon, 1,2-Naphthochinon,
Antimonverbindungen, wie 3-Methyl-l,3-diazo-l,9-benzanthron;
Farbstoffe, wie Malachitgrün, Methylenblau, Chromgrün, Rhodaminblau und Pyryliumsalze, wie
2,4,6-Triphenylpyrylium-perchlorat 2,4,6-Triphenylthia
pyryliumperchlorat; 2,4,6-Triphenylpyrylhim-fluobora
und2,4^-Tripheny!th!2pyry!iU!T!-f!uoborat
Der Photosensibilisator wird durch absorbiertes Lieh
angeregt und reagiert dann mit dem Organopolysiloxar
der allgemeinen Formel (V, indem er seine aufgenommene
Energie an das Organopolysiloxan abgibt und dadurch die Photopolymerisation anregt und beschleunigt.
Fig. 2 zeigt ein als Kopiervorlage dienendes Positiv 3, welches Buchstaben, Symbole, Figuren, Bilder oder
andere Muster enthalten kann. Es wird in direktem Kontakt tiit der lichtempfindlichen Schicht 2 mit Licht 4
belichtet. Nach der Belichtung und der anschließender Entwicklung und Fixierung der Flachdruckplatte bleibt
in den von Licht getroffenen Bereichen eh Film von gehärtetem Organopolysiloxan zurück. Dieser Film ist
widerstandsfähig gegen Hitze, Chemikalien und Korrosion und selbstverständlich unlöslich in der verwendeten
Ent'vicklerlösung. Außerdem besitzt er beim Druck eine
hohe Ai'flagenbeständigkeit. In der Fig.3 sind solche
gehärteten Filmpartien mit 2' gekennzeichnet. Die unbelichteten Bereiche der Schicht werden durch ein
Lösungsmittel bis zur Trägerplatte 1 wegentwickelt.
Zusammenfassend ist zu sagen, daß die druckfertige t !andrückplatte gemäß der Erfindung aus einer Platte
1 besteht, die.· -m den nichtdruckenden Bereichen einen
Film aus einem photopolymerisierten Organopolysiloxan
2' trägt.
Als Platte 1 können alle auch bisher im Flachdruck bereits benutzten Platten verwendet werden und zwar
Platten aus Kupfer, Aluminium, Edelstahl, Zink, Eisen, vernickelte Kupfer- oder Eisenplatten, verchromte
Eisenplatten und Platten aus verschiedenen Kunststoffen.
Die "latte I muß einheitlich stark sein und sie muß eine glatte Oberfläche besitzen, so daß keine Schwierigkeiten
bei der Beschichtung mit der Lösung der photopolymerisierbaren Masse gemäß der Erfindung
auftreten. Die Plattenoberfläche muß fettfrei sein. Außerdem müssen alle Schmutz- oder Oxidreste auf
herkömmliche Art vor der Beschichtung entfernt werden, um eine einheitliche Schicht zu gewährleisten.
In manchen Fällen ist es angebracht, die zu beschichtende Plattenoberfläche aufzurauhen, um eine bessere
Haftung der Schicht 2 auf der Platte zu erreichen.
Weiterhin ist es vorteilhaft, um die Haftung der Schicht 2 auf der Platte 1 zu verbessern, die
Plattenoberfläche vor der eigentlichen Beschichtung mit einer Haftschicht zu versehen. Als Haftschichten
eignen sich Schichten aus Silanen, wie
Vinyltris-(2-methoxyäthoxy)-silan,
3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan,
3-MethacryIoxypropyltrimethoxysilan,
N-(3-Trimethoxysilylpropyl)-äthylendiaminund
3-AminopropyItriäthoxysilan.
Vinyltris-(2-methoxyäthoxy)-silan,
3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan,
3-MethacryIoxypropyltrimethoxysilan,
N-(3-Trimethoxysilylpropyl)-äthylendiaminund
3-AminopropyItriäthoxysilan.
Sie können allein oder in Mischung mit teilweise hydrolysierten oder cohydrolysierten Produkten verwendet
werden. Das Aufbringen der Haftschicht auf die Plattenoberfläche 1 kann mit konventionellen Methoden,
wie durch Aufrollen, Aufbürsten oder Aufsprühen, durchgeführt werden.
Nachstehend werden die photopolymerisierbaren Organopolysiloxane der allgemeiner. Formel IV, die die
Hauptkomponente der Schicht 2 darstellen, näher erläutert. Diese Organopolysiloxane müssen folgenden
Anforderungen genügen:
(1) Sie müssen sich zu einer gleichmäßgen Schicht auf
der Trägerplatte vergießen lassen. Getrocknet muß die Schicht so widerstandsfähig sein, daß eine
Beschädigung der Oberfläche beim Beschichten im Kontakt mit der Kopiervorlage 3 unmöglich ist
(2) Sie müssen beim Belichten mit UV-Licht oder starkem sichtbarem Licht in vertretbar kurzer Zeit
auspolymerisieren und eine gegen Entwicklerlösungen widerstandsfähige Schicht bilden.
(3) Die aus ihr durch Belichtung, Entwicklung und Fixierung entstehende lichtgehärtete Schicht 2'
muß beim Druckprozeß ein gutes Druckfarben abstoßendes Verhalten aufweisen, ohne daß
Feuchtwasser Verwendung findet.
(4) Die aus ihr gebildete Schicht 2'muß widerstandsfähig
sein und eine hohe Auflagenbeständigkeit aufweisen.
Die Anwesenheit des Strukturelements der allgemeinen Formel V
R1
C = C-C- O —R3—SiOj_„
(V)
in den photopolymerisierbaren Organopolysiloxanen der allgemeinen Formel IV erhöht die Polymerisationsgeschwindigkeit erheblich.
Die Anwesenheit des Strukturelements der allgemeinen Formel VI
[CH5SiO3I
(VI)
erhöht die Widerstandsfähigkeit der getrockneten unbelichteten Schicht 2 und vermindert ihre Klebrigkeit.
Endlich erhöht die Anwesenheit des Struktnrelements der allgemeinen Formel VII
CH,
SiO
SiO
R4
(VII)
die Druckfarben abstoßende Wirkung des lichtgehärteten Films 2'. Darüber hinaus erhöht jedes der
beschriebenen Strukturelemente die Auflagenbeständigkeit der fertigen Druckplatte beim Fortdruck.
Vorzugsweise hat η einen möglichst großen Wert, mindestens über 25, um ein gutes Farbabstoßverhalten
der nichtdruckenden Bereiche 2' der fertigen Drucken form zu erreichen und um deren Auflagenbeständigkeit
zu erhöhen.
Weiterhin ist die Widerstandsfähigkeit der getrockneten
Schicht 2 und ihre Klebrigkeit bei der Belichtung abhängig vom Wert n/m. Wird dieser Bereich kleiner, so
nimmt auch die Druckfarben abstoßende Wirkung und die Auflagenbeständigkeit ab, während die Widerstandsfähigkeit
vor und bei der Belichtung zunimmt. Oder anders ausgedrückt, wird der Wert n/m größer, so
wird das DruckverhaJten der Platte verbessert, aber die
Widerstandsfähigkeit der unbelichteten Schicht 2 nimmt ab, so daß diese beim Auflegen der Kopiervorlage vor
der Belichtung leicht beschädigt werden kann. Der Wen n/m soll deshalb von 25 bis 50, vorzugsweise von 5 bis
25 betragen.
Der Wert n/I beeinflußt die Photopolymerisation des
Organopolysiioxans sowie das Farbabsioßverhalten
nicht bildführender Teile der Platte. Es kann gesagt werden, daß bei kleinerem Wert von n/d die
Photopolymerisierbarkeit zunimmt, während das Farbabsioßverhalten
und die Auflagenbeständigkeit abnimmt. Oder anders ausgedrückt, wird n/l größer,
verbessert sich das Farbabstoßverhalten der Schicht, ihre Photopolymerisierbarkeit aber wird verzögert, und
es sind längere Belichtungszeiten nötig. Der Wert von
n/7 soll deshalb von 25 bis 2000, vorzugsweise von 50 bis
1000 betragen.
Der photo(.olymerisierbare organische Rest der
allgemeinen Formel VIII
R'
O-
(VIII)
aus dem Strukturelement der allgemeinen Formel V kann beispielsweise ein Acryloxy-, Methacryloxy-,
Cinnamoylnxy- nrlpr Halncrpnrinnamovloxvrest S'fin.
Das photopolymerisierbare Organopolysiloxan der
allgemeinen Formel IV wird durch Cokodensation der Siloxane mit den Strukturelementen der allgemeinen
Formel VI und VII mit Organosilanen oder Organosiloxanen der allgemeinen Formel IX
R1 R-
(CHj)11
C — C —C-O- R-'-Si —O3.. fc
Ii I "τ
ο x„
(IX)
hergestellt. R1, R2 und R3 haben die vorstehend
angegebene Bedeutung. X stellt eine Hydroxylgruppe oder einen Alkoxyrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen
dar. a hat den Wert 0 oder 1, b hat den Wert 0, 1 oder 2, mit der Maßgabe, daß die Summe von (a + Zugleich 0,1,
2 oder 3 ist.
Nachstehend werden einige Beispiele für Herstellungsmethoden gegeben.
(1) Dimethyldichlorsilan, Methyltrifluorpropyldichlorsilan,
Phenyltrichlorsilan und ein Silan der allgemeinen Formel IX, in d°r (a + b)=3 ist, werden der
Cohydrolyse unterworfen, der sich Waschen und Neutralisation anschließt. Es folgt die Kondensationsreaktion,
die ein Copolymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades ergibt.
(2) Dimethyldichlorsilan, Methyltrifluorpropyldichlorsilan
und Phenyltrichlorsilan werden zunächst cohydrolysiert und neutralisiert, und das entstandene
Produkt wird mit einem Alkoxysilan der allgemeinen Formel IX vermischt, in der (a + b)—3 ist, worauf eine Kondensation erfolgt,
um schließlich ein Copolymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades zu erhalten.
(3) Ein Organopolysiloxan der allgemeinen Formel X
Cl-
CH3
-SiO-
CH,
Si-Cl
Si-Cl
(X)
in der R4 die vorstehend angegebene Bedeutung hat, wird mit einem Hydrolyseprodukt des Phenyltrichlorsilans
der Struktureinheit der allgemeinen Formei VI in Gegenwart eines Chiorwasserstoffakzeptors
umgesetzt Das erhaltene Block-Copo-
lymerisat wird dann einer Kondensationsreaktion mit einem Alkoxysilan der allgemeinen Formel IX,
in der (a + o)=3 ist, unterworfen, um schließlich ein Copolymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades
zu erhalten.
(4) Das gemäß Methode (3) erhaltene Organopolysiloxan wird einer Kondensationsreaktion mit einem
Cohydrolyseprodukt von Phenyltrichlorsilan und einem Silan der allgemeinen Formel IX, in der
(a + b)=3 ist, unterworfen, um ein Copolymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades zu erhalten.
(5) Ein Gemisch aus einem Diorganopolysiloxan mit endständiger Hydroxylgruppe der allgemeinen
Formel XI
HO-
/CH,
Si O
R4
R4
Il
(Xl)
in der R4 die vorstehend angegebene Bedeutung hat, einem Hydrolyseprodukt des Phenyltrichlorsilans
mit der Struktureinheit der allgemeinen Formel VI und einem Silan der allgemeinen Formel
IX, in der (a + b)=3 ist, oder seinem Hydrolyseprodukt, wird einer Kondensationsreaktion unterworfen,
um ein Copolymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades zu erhalten.
(6) Das Diorganopolysiloxan mit endständiger Hydroxylgruppe der allgemeinen Formel XI wird mit Phenyltrichlorsilan in Gegenwart eines Chlorwasserstoffakzeptors umgesetzt. Das Reaktionsprodukt wird anschließend der Hydrolyse unterworfen, und das enstandene Hydrolyseprodukt mit einem Silan der allgemeinen Formel IX kondensiert, in der (a + b)—3 ist, oder mit seinem Hydrolyseprodukt, um ein Polymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades zu erhalten.
(6) Das Diorganopolysiloxan mit endständiger Hydroxylgruppe der allgemeinen Formel XI wird mit Phenyltrichlorsilan in Gegenwart eines Chlorwasserstoffakzeptors umgesetzt. Das Reaktionsprodukt wird anschließend der Hydrolyse unterworfen, und das enstandene Hydrolyseprodukt mit einem Silan der allgemeinen Formel IX kondensiert, in der (a + b)—3 ist, oder mit seinem Hydrolyseprodukt, um ein Polymerisat des erwünschten Polymerisationsgrades zu erhalten.
Beispiele für Silane der allgemeinen Formel IX, in der (a + b)= 3 ist, sind Chlorsilane, wie
Acryloxymethyltrichlorsilan,
3-Methacryloxypropyltrichlorsilan,
3-Acryloxypropylmethyldichlorsilan,
3-Acryloxypropylmethyldimethoxysilan,
Methacryloxymethyltrihydroxysilan,
3-MethacryIoxypropylmethoxydichlorsilan,
Cinnamoyloxymethyltrichlorsilan,
Chlorcinnamoyloxymethyltrimethoxysiian,
3-CinnamoyloxypropyItrimethoxysilan,
3-CinnamoyloxypropyItrichiorsiian,
3-MethacryIoxypropyltrimethoxydisilan,
Monoadditionsprodukte von Trichlorsilan an Äthylenglykol-diacrylat oder Äthylenglykol-dimethacrylat und Monoadditionsprodukte von Methyldichlorsilan an Triäthylenglykol-dimethacrylat und weiterhin Silane, bei denen ein Teil der direkt an die Siliciumatome gebundenen Chloratome in den vorstehend beschriebenen Chlorsilanen durch andere Halogenatome, Acyloxyreste, Hydroxylgruppen oder Alkoxyreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ersetzt ist, und deren partielle Kondensationsprodukte.
Acryloxymethyltrichlorsilan,
3-Methacryloxypropyltrichlorsilan,
3-Acryloxypropylmethyldichlorsilan,
3-Acryloxypropylmethyldimethoxysilan,
Methacryloxymethyltrihydroxysilan,
3-MethacryIoxypropylmethoxydichlorsilan,
Cinnamoyloxymethyltrichlorsilan,
Chlorcinnamoyloxymethyltrimethoxysiian,
3-CinnamoyloxypropyItrimethoxysilan,
3-CinnamoyloxypropyItrichiorsiian,
3-MethacryIoxypropyltrimethoxydisilan,
Monoadditionsprodukte von Trichlorsilan an Äthylenglykol-diacrylat oder Äthylenglykol-dimethacrylat und Monoadditionsprodukte von Methyldichlorsilan an Triäthylenglykol-dimethacrylat und weiterhin Silane, bei denen ein Teil der direkt an die Siliciumatome gebundenen Chloratome in den vorstehend beschriebenen Chlorsilanen durch andere Halogenatome, Acyloxyreste, Hydroxylgruppen oder Alkoxyreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ersetzt ist, und deren partielle Kondensationsprodukte.
Den erfindungsgemäß verwendeten photopolymerisierbaren Organopolysiloxanen können außer den
"orstehend beschriebenen Lösungsmitteln und Photosensibilisatoren noch weitere Zusätze einverleibt
werden, wie gegenüber den photopolymerisierbaren
Organopolysiloxanen inerte Lösungsmittel, die aus halogensubstituierten Kohlenwasserstoffen, Estern,
Äthern und Alkoholen bestehen. Diese Lösungsmittel dienen als Verdünnungsmittel. Die Zusätze können auch
thermische Polymerisationsinhibitoren sein, wie Hydrochinon und Benzochinon, Amine, Hydrazinderivate,
Aldehyde und Ascorbinsäure und bekannte Füllstoffe, die gewöhnlich dem photopolymerisierbaren Organopolysiloxan
zugesetzt werden, wie feinverteiltes Siliciumdioxid.
Die thermischen Polymerisationsinhibitoren können in einem verhältnismäßig breiten Mengenbereich
eingesetzt werden; vorzugsweise ist jedoch der Bereich von etwa O1Ot bis 1,0 Gewichtsprozent, bezogen auf das
Gewicht des photopolymerisierbaren Organopolysiloxans der aligemeinen Formel IV einzuhalten. Der
Inhibitor verbessert die Lagerfähigkeit der Masse, verhindert die Polymerisation unter Lichtausschluß und
schützt die Masse von thermischer Polymerisation,
wenn die Schicht 2 durch Verdampfen des Lösungsmittels getrocknet wird.
Als positive Kopiervorlage 3 zur Herstellung der
erfindungsgemäßen Flachdruckform wird ein nach einem photographischen Verfahren hergestelltes positives
oder negatives Durchsichtsbild verwendet. Geeignete Lichtquellen zur Durchstrahlung des Positivs 3 sind
z. B. Xenonlampen und Nieder-, Mittel- und Hochdruck-Quecksilberlichtbogenlampen,
die eine ultraviolettreiche Strahlung erzeugen können.
Die Herstellung der erfindungsgemäßen Flachdruckform erfolgt durch Beschichten der Trägerplatte 1 mit
der vorstehend beschriebenen polymerisierbaren Masse. Man erhält eine Schicht 2, auf die die positive
Kopiervorlage 3 aufgelegt wird. Die Anordnung wird mit Licht bestrahlt und anschließend der Entwicklung,
Trocknung und thermischen Aushärtung unterzogen, um auf diese Weise eine photopolymeriserte, ausgehärtete
Schicht 2' zu bilden, die eine ausgezeichnete Hitze-, Lösungsmittel- oder Abriebsbeständigkeit besitzt. Man
führt den Belichtungsvorgang vorzugsweise in luft- oder sauerstoffarmer Atmosphäre durch, beispielsweise in
einem abgedichteten Kunststoffbehälter, der unter vermindertem Druck oder unter Vakuum steht.
Als Entwicklerlösungen können aromatische und aliphatische Kohlenwasserstoffe, chlorierte aliphatische
Kohlenwasserstoffe und Ketone verwendet werden, wie Benzol, Toluol, Xylol, Cyclohexan, Methyläthylketon,
Methylisobutylketon, Trichloräthylen und Tetrachloräthylen, einzeln oder als Gemische.
Der genaue Mechanismus zur Bildung der unlöslichen Schicht 2" ist nicht bekannt Wenn die mit der
photpoiymerisierbaren Masse beschichtete und getrocknete Trägerplatte i belichtet wird, wird vermutlich
der in der Masse entnaltene Photosensibilisator durch Lichtenergie angeregt und der ungesättigte Rest der
allgemeinen Formel VIII in der gleichen Masse wird zur Polymerisation angeregt, was zur Ausbildung einer
ausgehärteten unlöslichen Schicht in den bestrahlten Bereichen führt Der ungesättigte Rest der allgemeinen
Formel VIII bleibt in den unbelichteten Bereichen unverändert und polymerisiert nicht und kann daher
leicht durch ein Lösungsmittel entwickelt werden.
Die fertige erfindungsgemäße Flachdruckform besteht wie aus F i g. 3 zu ersehen ist, aus der Trägerplatte
1, auf deren Oberfläche die nichtdruckenden Bereiche durch die Schicht 2' und die druckenden Bereiche durch
die freie Oberfläche der Trägerplatte gekennzeichnet sind. Die hauptsächlich aus dem photopolymerisierte.i
Organopolysiloxan begehende Schicht 2' der allgemeinen Formel IV stößt Druckfarbe ab und hat eine geringe
Farbhaftung. Wenn die Druckfarbe beim Druckvorgang mit einer Walze auf die Druckformoberfläche gebracht
wird, wird die Druckfarbe nicht auf die nich'dmckenden
Bereiche übertragen, sondern nur auf die druckenden, unbelichteten Bereiche, wie sie in Fig.4 mit 5
bezeichnet sind. Diese Farbübertragung beruht auf der Tatsache, daß die Adhäsion zwischen der Druckfarbe
und den nichtdruckenden Bereichen, d. h. der polymerisierten, ausgehärteten Schicht 2', schwächer ist als die
Adhäsion zwischen der Druckfarbe und der Walze oder als die Kohäsionskraft der Druckfarbenmoleküle. Daher
ist kein Feuchtwasser nötig.
Die erfindungsgemäße Flachdruckform kann sehr leicht hergestellt werden, indem man zunächst die
Oberfläche der Trägerplatte mit der photopolymerisierbaren Masse beschichtet, diese Schicht trocknet, eine
r>A~:«:. ι c ,j:„ » ι »~ c^u:„u. —π . ι
ι ujuirruiiagt aui Uli» £ιίι w-iviiv-n- onm.ni auiicgl UlIU
danach die Anordnung belichtet. Sodann erfolgt eine Entwicklung und Nachhärtung. Dieses einfache Verfahren
erleichtert ihre gewerbliche Anwendung. Darüber hinaus sind die auf der Trägerplatte gebildeten
Abbildungen klar und scharf, mit sehr gutem Auflösungsvermögen und hoher Originaltreue.
Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Flachdruckform beruht auf ihrem ausgezeichneten Druckverhalten,
bedingt durch die großen Unterschiede der physikalischen Eigenschaften, die zwischen den drukkenden
Bereichen in der Oberfläche der Trägerplatte 1 und den nichtdruckenden Bereichen auf der polymerisierten,
ausgehärteten Schicht bestehen.
Nach der Erfindung wird sowohl die Photopolymerisierbarkeit der Beschichtungsmasse als auch die
Abstoßung der Druckfarbe und die Härte der entstandenen Schicht dadurch stark verbessert, daß die
Masse als Hauptbestandteil das photopolymerisierbare Organopolysiloxan der allgemeinen Formel IV enthält,
das aus den Struktureirheiten V, VI und VII in bestimmten Mengenverhältnissen besteht. Die Bezeichnungen
/,mund π der jeweiligen Struktureinheiten V, VI
und VII werden einzeln und in Abhängigkeit voneinander — dadurch gekennzeichnet, daß / '"ir die
Photopolymerisierbarkeit, m für die Härte und π für die Farbabstoßung verantwortlich ist
In den Beispielen 1 bis 6 wird die Herstellung von verschiedenen erfindungsgemäß verwendbaren photpoiymerisierbaren
Organopolysiloxanen erläutert. Die Beispiele 7 bis 11 sind Vergleichsbeispiele. Die
charakteristischen Eigenschaften der verschiedenen Flachdruckplatten, die aus den einzelnen photopolymerisierbaren
Organopolysiloxanen hergestellt wurden, werden in Beispiel 12 erläutert. Teile bedeuten
Gewichtsteile.
124 Teile einer 30prozentigen Lösung von Λ,ω-Dihydroxydimethylpolysiloxanen
der Formel
HO
CH,
Si-O
Si-O
/so
in Toluol und 62 Teile einer 30prozentigen Lösung des Hydrolyseproduktes von Phenyltrichlorsilan in Toluol
werden zusammengegeben und mit 5,0 Teilen 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, 0,001 Teilen Hydrochinon und 0,46 Teilen p-ToluolsuIfonsäure versetzt. Das
Gemisch wird eiiiir weiteren Kondensationsreaktion
unterworfen, indem man das Gemisch unter Rückfluß 48 Stunden in Toluol zum Sieden erhitzt und das
Reaktionswasser abtrennt Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 28,4 cSt
und mit einem Feststoffgehalt von 30 Prozent
247 Teile einer 15prozentigen Lösung von öM
croxydimethylpolysiioxan der Formel
HO
CH,
SiO
CH J
-H
in Toluol und 60 Teile einer 15prozentigen Lösung des
Hydrolyseproduktes von Phenyltrichlorsilan in Toluol werden zusammengcgeben und mit 0,25 Teilen 3-Methacryloxypropyltrimeihoxysilan, 0,01 Tt ilen Dibutylhydroitytoluol und 0,1 Teilen Dibutylzinr.idilnurat versetzt.
Das Gemisch wird einer weiteren Kondensationsreaktion unterworfen, indem man das Gemisch unter
Rückfluß 8 Stunden in Toluol zum Sieden erhitzt und das Reaktionswasser abtrennt Man erhält eine Lösung
eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 32,0 sSt und mit einem Feststoffgehalt von 15 F'rozent.
1022 Teile Toluol werden mit 258 Teilen Dimethyldichlorsilan und 53 Teilen Phenyltrichlorsilan versetzt,
und das Gemisch wird zur Hydrolyse in 1124 Teile
Wasser eingetropft Danach wird mit Wasser gewaschen, neutralisiert und getrocknet. Man erhält eine
15prozentige Lösung eines Cohydrolyseproduktes des Siloxans, 1200 Teile dieser Cohydrolyseprodukt-Lösung
werden mit 7,4 Teüen 3-Methacryloxypropylmethyldimethoxysilan, 0,1 Teilen Methoxyhydrochinon und 0.4
Teilen Zinndioctoat versetzt. Das Gemisch wird anschließend einer Kondensationsreaktion unterzogen,
indem man das Gemisch unter Rückfluß 5 Stunden in Toluol zum Sieden erhitzt und düs Reaktionswasser
abtrennt. Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 20,1 cSt und mit einem
Feststoffgehalt von 15 Prozent
86 Teile einer 15prozentigen Lösung des Hydrolyseprodukts von Phenyltrichlorsilan in Toluol werden mit
0,23 Teilen Pyridin als Chlorwasserstoffakzeptor versetzt. Das Gemisch wird unter kräftigem Rühren 1
Stunde bei Raumtemperatur der Hydrolysereaktion unterworfen, indem man 247 Teile einer 15prozentigen
Toluollösung des Siloxans der Formel
Cl-
/CH, \
Si-O
(CH,
Si-O
CH,
-Si-Cl
jicm CH,
gewaschen, um das Pyridin-hydi ochlorid und nichtum
gesetztes Pyridin abzutrennen. Man erhält eine 15prozentige Siloxanlösung. Diese Lösung wird mit O^
Teilen 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan und 0,1
Teilen Dibutylzinndilaurat versetzt, anschließend f
Stunden unter Rückfluß in Toluol zum Sieden erhitzi und das Reaktionswasser abgetrennt Man erhält ein«
Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität vor 35,0 cSt und mit einem Feststoffgehalt von 15 Prozent
194 Teile einer 20prozentigen Lösung des Hydrolyse
Produktes von Phenyltrichlorsilan in Toluol werdei tropfenweise mit 236 Teilen Pyridin als Chlorwasser
Stoffakzeptor sowie 743 Teilen einer 20prozentiger Toluollösung eines Siloxans der Formel
Cl-
(CH, \
Si-O
CH, j
CH3
-Si-CI
CH3
versetzt und I Stunde umgesetzt Das ReaJctionsgemiscl
wird mit Wasser gewaschen, um das Pyridin-hydrochlo rid und nichtumgcsetztes Pyridin abzutrennen. Nacl
dem Trocknen wird eine 15prozenüge Siloxanlösunj
erhalten. Die Lösung wird mit 436 Teilen 3-Methacryl
3D oxypropyltrimethoxysilan, 03 Teilen p-Toluolsulfonsäu
rc als Kondensationskatalysator und 0,1 Teilen Dibutyl
hydroxytoluol versetzt und 35 Stunden unter Rückflut in Toluol zum Sieden erhitzt Es wird eine Lösung eine;
Copolymerisats mit einer Viskosität von 10,6 cSt un<
mit einem Feststoffgehalt von 20 Prozent erhalten
64,5 Teile einer lOprozentigen Lösung des Hydrolyse
■in tropfenweise mit 0,23 Teilen Pyridin und 297 Teilei
einer lOprozentigen Toluollösung eines Siloxans de
Formel
Cl-
CH,
Si-O
\ CH,
/JW
CH,
-Si-Cl
CH,
eintropft. Anschließend wird das Reaktionsgemisch
versetzt und anschließend 1 Stunde bei Raumtempera
tür umgesetzt. Das Reaktionsgemisch wird mit Wassei gewaschen, um das Pyridin-hydrochlorid und nichtum
gesetztes Pyridin abzutrennen. Nach dem Trockner
wird die erhaltene lOprozentige Siloxanlösung mit 0,;
Teilen 3-Methacryloxytriäthyloxysilan und 0,1 Teilet
Zinndioctoat versetzt und 5 Stunden unter Rückfluß ir Toluol zum Sieden erhitzt Es wird eine Lösung eine;
Copolymerisats mit einer Viskosität von 18,9 cSt urii
ho mit einem Feststoffgehalt von 10 Prozent erhalten.
84,8 Teile Phenyltrichlorsilan und 52,1 Teile 3-Meth
acryloxypropyltriäthoxysilan werden in 203 Teiler t,5 Toluol gelöst. Die Lösung wird allmählich in 639 Teiler
Wasser bei einer Temperatur unterhalb 25° C zui Hydrolyse eingetropft. Daraufhin wird die wäßrig-saiz
saure Lösung abgetrennt. 290 Teile des erhaltener
Cohydrolyseprodukts werden mit 499 Teilen einer 30prozentigen Lösung eines Siloxans der Formel
(ch3
HO-
Si-O
CH3
CH3
in Toluol, 0,05 Teilen Hydrochinon und 2,0 Teilen p-Toluolsulfonsäure versetzt Die Lösung wird anschließend
30 Stunden unter Rückfluß in Toluol zum Sieden erhitzt Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats
einer Viskosität von 8,7 cSt und mit einem Feststoffgehalt von 30 Prozent
424 Teile Phenyltrichlorsilan und 5,2 Teile 3-Methacryloxypropyltrichlorsilan
werden in 1482 Teilen Toluol gelöst Die Lösung wird allmählich in 2151 Teile Wasser bei einer Temperatur unterhalb 25° C zur
Hydrolyse eingetropft Die erhaltene Cohydrolyseprodukt-Lösung wird mit 2ß Teilen Pyridin versetzt, und in
das Gemisch werden 1977 Teile einer lSprozentigen Lösung eines Siloxans der Formel
Cl-
εκ,
Si-O
CH3
/399
CH3
-Si-Cl
-Si-Cl
CH3
in Toluol eingetropft Das Gemisch wird 1 Stunde bei Raumtemperatur umgesetzt Durch Waschen mit
Wasser wird das Reaktionsprodukt vom gebildeten Pyridin-hydrochlorid und nichtumgesetztem Pyridin
befreit und anschließend getrocknet Die erhaltene 15prozentige Siloxanlösung wird mit 0,2 Teilen Dibutylhydroxytoluol
und 0,54 Teilen Dibutylzinndilaurat versetzt und 3 Stunden unter Rückfluß in Toluol zum
Sieden erhitzt Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 26,7 cSt und mit einem
Feststoffgehalt von 15 ProzenL
430 Teile einer 15prozentigen Lösung des Hydrolyseproduktes
von Phenyltrichlorsilan in Toluol werden mit 2,3 Teilen Pyridin und 2470 Teilen einer lSprozentigen
Lösung von Chlordimethylpolysiloxan der Formel
CH3
Cl Si-O Si-Cl
CH3
CH3
CH3
in Toluol versetzt und bei Raumtemperatur umgesetzt. Durch Waschen mit Wasser wird das Reaktiönspfödukt
vom gebildeten Pyridin-hydrochlorid und nichtumgesetztem Pyridin befreit. Die erhaltene Lösung des
Copolymerisats wird mit wiederum 62 Teilen 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, 0,5 Teilen Hydrochinon
und 0,5 Teilen Dibutylzinndilaurat versetzt und 5 Stunden unter Rückfluß in Toluol zum Sieden erhitzt.
Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 31,0 cSt und einem Feststoffgehalt von 15
Prozent.
Ein Gemisch aus 1235 Teilen einer 15prozentigen Lösung eines Siloxans der Formel
HO
CH,
Si-O
Si-O
ICH3
/250
in Toluol, 26 Teilen einer lSprozentigen Lösung des Hydrolyseproduktes von Phenyltrichlorsilan in Toluol,
2£ Teilen 3-MethacryloxypropyItrimethoxysilan, 0,01
Teilen Hydrochinon und 0,6 Teilen Dibuty'zinndilaurat wird 7 Stunden unter Rückfluß in Toluoi zum Sieden
erhitzt und das Reaktionswasser und Methanol abgetrennt Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats
mit einer Viskosität von 13,OcSt und mit einem
Feststoffgehalt von 15 Prozent
Beispiel 11
Ein Gemisch von 64,5 Teilen einer lOprozentigen
Lösung des Hydrolyseproduktes von Phenyltrichlorsi-
2> lan in Toluol und 0,23 Teilen Pyridin wird tropfenweise
mit 297 Teilen einer lOprozentigen Lösung von Chlordimethylpolysiloxan der Formel
Cl-
CH3
Si-O
CH,
399
CH1
-Si-Cl
-Si-Cl
CH3
in Toluol versetzt und 1 Stunde bei Raumtemperatur umgesetzt. Durch Waschen mit Wasser wird das
Reaktionsprodukt vom gebildeten Pyridin-hydrochlorid und nichtumgesetztem Pyridin befreit und anschließend
getrocknet. Die erhaltene lOprozentige Siloxanlösung wird mit 0,025 Teilen 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan
und 0,1 Teilen Dibutylzinndilaurat versetzt und 10 Stunden unter Rückfluß in Toluol zum Sieden erhitzt.
Man erhält eine Lösung eines Copolymerisats mit einer Viskosität von 17,6cSt und mit einem Feststoffgehalt
von 10 Prozent
Beispiel 12
In der nachstehenden Tabelle I sind die Eigenschaften
von Flachdruckformen aufgeführt, die aus den verschiedenen photopolymerisierbaren Organopolysiioxanen
erhalten wurden. Die Herstellung der dabei verwendeten Organopolysiloxane mit wechselnden Werten für n,
n/m und n//ist in den Beispielen 1 bis 11 beschrieben.
Zur Herstellung der Druckformen werden jeweils 100 Teile des angegebenen Organopolysiloxans mit 3 Teilen
4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon vermischt. Die Gemische werden jeweils auf mit einer Haftschicht
versehenen Aluminiumplatten von 3 mm Stärke zu einer 10 μηι starken Organopolysiloxan-Schicht vergossen.
Als Haftschicht diente eine 0,05 μπι starke, vorher
auf die Aluminiumoberfläche aufgebrachte und getrocknete Schicht von 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan.
Die getrockneten photopolymerisierbaren Organopolysiloxan-Schichten
werden in direktem Kontakt mit einer positiven Kopiervorlage belichtet. Als Lichtquelle
dient eine Hochdruck-Quecksilberlampe mit einer Leistung von 110 W/cm2 und einer hauptsächlichen
spektralen Emmission von 365 nm. Die jeweils
wandte Belichtungszeit ist in der Tabelle angegeben.
Die belichteten Schichten werden mit einem Lösungsmittelgemisch von Methyläthylketon und Toluol im
Volumenverhältnis 1 :1 entwickelt Zum Schluß werden die entwickelten Platten 30 Minuten bei 180° C
thermofixiert
Geprüft werden die Widerstandsfähigkeit und Oberflächengüte der gegossenen Schichten vor der Belichtung, ferner das Druckfarben abstoBende Verhalten der nichtdruckenden Bereiche auf der fertigen Rachdruckplatte, die aus den lichtgehärteten Organopolysiloxanschichten bestehen. Die Auflagehöhe der Platten wurde auf einer Offsetpresse ermittelt Die Ergebnisse sind in der Tabelle zusammengefaßt
Geprüft werden die Widerstandsfähigkeit und Oberflächengüte der gegossenen Schichten vor der Belichtung, ferner das Druckfarben abstoBende Verhalten der nichtdruckenden Bereiche auf der fertigen Rachdruckplatte, die aus den lichtgehärteten Organopolysiloxanschichten bestehen. Die Auflagehöhe der Platten wurde auf einer Offsetpresse ermittelt Die Ergebnisse sind in der Tabelle zusammengefaßt
| Tabelle I | Organopolysiloxan von | 2 | Beispiel | gezeichnet | gut | 9 | 4 | 5 | gezeichnet | ***) | gut | 10 | 6 |
| 1 | 3 | gut | gut | ||||||||||
| über | 30 000 | ||||||||||||
| Struktur der Organopolysiloxan- | 500 | über | 40 000 | 500 | 500 | 200 | über | 250 | 400 | ||||
| verbindung: | 50 | 7,14 | 100 | 40000 | 10 | 5,0 | 6,67 | 40 000 | 83,3 | 8,0 | |||
| Wert von η | 3,33 | 500 | 4,0 | iloxan von Beispiel | 20 | 250 | 100 | 250 | 200 | ||||
| Wert von n/m | 25 | 70 | 33,3 | 8 | 40 | 45 | 70 | 75 | 60 | ||||
| Wert von nil | 150 | aus | 60 | aus | gut | schlecht | aus | ||||||
| Belichtungszeit (sec)*) | aus | gut | gezeichnet | ||||||||||
| Widerstandsfähigkeit der Schicht | reichend | 400 | gut | gut | |||||||||
| vor der Belichtung | aus | 2,0 | ***) | ||||||||||
| Farbabstoßende Eigenschaft | reichend | 200 | über | ||||||||||
| 15 000 | 50 | 40000 | |||||||||||
| Höhe der gedruckten Auflage | |||||||||||||
| ausreichend ausreichend | |||||||||||||
| p Tabelle 1 (Fortsetzung) | Organopolyf | Il | |||||||||||
| I | 7 | ||||||||||||
| I | |||||||||||||
| f Struktur der Organopolysiloxan- | mangelhaft mangelhaft | 400 | |||||||||||
| i. verbindung: | 20 | ***) | 8,0 | ||||||||||
| :| Wert von /; | 5,0 | 4000 | |||||||||||
| I Wert von n/m | 10 | **) | |||||||||||
| Wert von /;// | 170 | nicht | |||||||||||
| H Belichtungszeit (sec)*) | schlecht | trocknend | |||||||||||
| ': Widerstandsfähigkeit der Schicht | **) | ||||||||||||
| .<y vor der Belichtung | mangelhaft | *·) | |||||||||||
| Farbabstoßende Eigenschaft | ***) | ||||||||||||
| Höhe der gedruckten Auflage | |||||||||||||
*) Belichtet wurde so lange, bis unter einer 7stufigen Grauscala jeweils genügend Deckung erreicht war.
*·) Nicht geprüft.
***) Hin Drucken in der OfTsetpresse war nicht möglich.
***) Hin Drucken in der OfTsetpresse war nicht möglich.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Vorsensibilisierte Flachdruckplatte mit einer
lichtempfindlichen Schicht, die ein photopolymerisierbares Organopolysiloxan mit äthylenisch ungesättigten Kohlenstoffbindungen enthält, dadurch
" R1 R2 (CH3)O
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Publications (3)
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| DE2422428B2 DE2422428B2 (de) | 1978-11-09 |
| DE2422428C3 true DE2422428C3 (de) | 1979-07-12 |
Family
ID=12883955
Family Applications (2)
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Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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