DE2943379C2

DE2943379C2 -

Info

Publication number: DE2943379C2
Application number: DE2943379A
Authority: DE
Inventors: Takashi Kusatsu Shiga Jp Fujita; Masao Ohtsu Shiga Jp Iwamoto
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1978-10-26
Filing date: 1979-10-26
Publication date: 1991-09-19
Also published as: GB2034911B; FR2440018A1; GB2034911A; US4358522A; DE2943379A1; FR2440018B1; CA1153605A

Description

Die Erfindung betrifft eine Flachdruckplatte und insbesondere eine negativ arbeitende vorsensibilisierte Flachdruckplatte für den Trockenflachdruck, die wesentlich verbesserte Entwicklungseigenschaften aufweist.

Beim herkömmlichen Offsetdruck werden Bildbereiche und Nichtbildbereiche durch unterschiedliche chemische Oberflächeneigenschaften (olephil bzw. hydrophil) der bildmäßig auf der Oberfläche einer Druckplatte erzeugten Bereiche erhalten, wobei die mit Wasser befeuchteten Nichtbildbereiche einen Wasserfilm aufweisen, der als farbabstoßende Schicht wirkt. Der Offsetdruck ist heutzutage weit verbreitet, da die Druckplatte relativ leicht hergestellt werden kann und die Druckerzeugnisse bei geringen Kosten hohen Qualität aufweisen.

Die Verwendung von Befeuchtungswasser bringt jedoch die folgenden Probleme mit sich:

(a) die Aufrechterhaltung des Druckfarben/Wasser-Gleichgewichts ist schwierig und erfordert Erfahrung, was einer Energieeinsparung und Automation entgegensteht;
(b) bei Druckbeginn oder bei Neubeginn des Druckens nach einer Pause muß eine große Zahl von Blättern gedruckt werden, bis sich das Druckfarben/Wasser-Gleichgewicht stabilisiert, so daß ein hoher Ausschuß anfällt;
(c) aufgrund der Anwesenheit von Wasser expandiert und schrumpft das Papier, wodurch die Druckqualität beeinträchtigt werden kann;
(d) aus der Emulgierung der Druckfarbe durch Befeuchtungswasser ergeben sich Schwierigkeiten hinsichtlich der Punkt- und Farbreproduzierbarkeit;
(e) die Druckmaschine muß mit einem Befeuchtungssystem ausgerüstet werden, so daß sie größer wird.

Zur Behebung dieser Schwierigkeiten sind verschiedene Untersuchungen über Trocken-Flachdruckplatten durchgeführt worden, bei denen eine Silicongummischicht als farbabstoßende Schicht verwendet wird. Derartige Druckplatten lassen sich grob in zwei Klassen einteilen, nämlich Druckplatten, bei denen der Silicongummi unter einer lichtempfindlichen Schicht liegt, und Druckplatten, bei denen der Silicongummi über einer lichtempfindlichen Schicht liegt.

Die erstgenannte Ausführungsform hat die folgenden fundamentalen Nachteile. Aufgrund der wasser- und/oder ölabstoßenden Eigenschaften des als farbabstoßende Schicht verwendeten Silicongummis ist es mit herkömmlichen Beschichtungsmethoden unmöglich, eine lichtempfindliche Substanz zufriedenstellend auf die Siliconschicht aufzubringen. Es muß daher ein Verfahren angewandt werden, bei dem eine auf einen getrennt hergestellten Polymerfilm aufgebrachte lichtempfindliche Substanz unter Druck mit einer auf einem Träger gebildeten Siliconschicht verbunden wird. Dieses Verfahren ist jedoch im Vergleich zu den herkömmlichen Beschichtungsverfahren sehr aufwendig und kann leicht zu Oberflächenfehlern der Druckplatte führen, die auf Fremdstoffen, z. B. Staub oder Luftblasen, zwischen den verbundenen Schichten beruhen. Außerdem lösen sich die auf der Siliconschicht erzeugten Bildbereiche unter dem Einfluß äußerer Kräfte während des Druckens leicht ab, insbesondere in Kleinpunktraster-Bereichen. Derartige Flachdruckformen, bei denen die lichtempfindliche Schicht mit Silicongummi unterschichtet ist, zeigen daher beim Drucken von Kopien mit 133 oder 150 Rasterlinien keine ausreichende Haltbarkeit.

Im Falle der Verwendung des anderen Flachdruckplattentyps, bei dem der Silicongummi über der lichtempfindlichen Schicht liegt, muß für die Herstellung von Negativkopien als empfindliche Schicht eine positiv lichtempfindliche Substanz verwendet werden, nämlich eine photosolubilisierbare Substanz. Beim Belichten der Druckplatte erfolgt eine Photolyse der belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht, die in dem Entwickler löslicher werden und zusammen mit der Silicongummischicht entfernt werden, so daß die belichteten Bereiche als Bildbereiche wirken. Als Beispiel für eine derartige lichtempfindliche Schicht ist in der US-PS 35 11 178 die Verwendung von Diazoniumsalzen beschrieben. Diazoniumsalze besitzen jedoch geringe thermische Stabilität, so daß die Herstellung von Druckplatten mit stabilen Eigenschaften schwierig ist.

Es sind auch lichtempfindliche Schichten bekannt, die ein o-Chinondiazid als lichtempfindliche Substanz enthalten. Diese lichtempfindlichen Schichten werden für positiv arbeitende vorsensibilisierte Platten, Wipe-on-Platten und Photoresists verwendet. In diesn o-Chinondiazide enthaltenden lichtempfindlichen Schichten erfolgt eine Wolff-Umlagerung, wobei das o-Chinondiazid in den belichteten Bereichen in die Carbonsäure überführt wird, so daß die belichteten Bereiche in der als Entwickler verwendeten wäßrigen alkalischen Lösung löslicher sind. Verwendet man jedoch eine derartige lichtempfindliche Schicht für Trockenflachdruckplatten, die aus einem Schichtträger, der lichtempfindlichen Schicht und einer darauf aufgebrachten Silicongummischicht bestehen, so kann der wäßrige Entwickler aufgrund der Anwesenheit der extrem wasserabstoßenden Siliconschicht nicht zu der lichtempfindlichen Schicht durchdringen, so daß keine Entwicklung möglich ist. Es ist daher erforderlich, einen Entwickler zu verwenden, der hauptsächlich aus einem organischen Lösungsmittel besteht, welches die Siliconschicht durchdringt. Untersuchungen der Erfinder haben gezeigt, daß bei Verwendung eines polaren Lösungsmittels, z. B. eines Alkohols oder Ketons, als Entwickler ein geringer Löslichkeitsunterschied zwischen belichteten und nicht belichteten Bereichen besteht, so daß grundsätzlich die Möglichkeit der Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht gegeben ist. Im Falle von o-Chinondiaziden enthaltenden lichtempfindlichen Schichten, wie sie gewöhnlich für positiv arbeitende vorsensibilisierte Platten oder Wipe-on-Platten verwendet werden, ist jedoch eine derartige Entwicklung mit einem organischen Lösungsmittel nicht in Betracht gezogen worden, da selbst beim Überschichten der lichtempfindlichen Schicht mit Silicongummi zur Herstellung einer Trockenflachdruckplatte eine Entwicklung im praktischen Sinne nur schwer durchführbar ist. Wie in den Vergleichsbeispielen noch näher erläutert werden wird, werden vor der vollständigen Entfernung der belichteten Bereiche durch den Entwickler auch die nicht-belichteten Bereiche durch den Entwickler angegriffen, so daß sich die Siliconschicht in den Nichtbildbereich teilweise ablöst und Druckfarbe beim Drucken dort haften bleibt, so daß keine exakte Bildreproduzierbarkeit gewährleistet ist. Diese Erscheinung tritt insbesondere in Schattenbereichen der Silicongummischicht auf, die aus kleinen Punkten bestehen.

Aus der GB-PS 14 44 381 ist eine Trockenflachdruckplatte bekannt, die aus einem Schichtträger, einer lichtempfindlichen Schicht mit einem o-Chinondiazid und einer Silicongummischicht mit einer Silan-Bindungskomponente aufgebaut ist. Der Anteil an Silan-Binder beträgt, bezogen auf den Silicongummi, 4,8 bis 66,7 Gew.-%.

Die US-PS 35 11 178 betrifft Flachdruckplatten, bei denen eine haftungsvermittelnde Schicht als Zwischenschicht eingesetzt werden kann. Ein Hinweis auf die Verwendung von Aminosilan finden sich aber in dieser Druckschrift nicht.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine negative arbeitende, vorsenibiliserten Flachdruckplatte für den Trockenflachdruck bereitzustellen, die die vorstehend genannten Probleme löst und ausgezeichnete Verarbeitbarkeit, wie verbesserte Entwicklungsgeschwindigkeit, gute Bildreproduzierbarkeit und hohe Haltbarkeit beim Langzeitdruck aufweist.

Die erfindungsgemäße Flachdruckplatte hat den Vorteil, das selbst bei Verwendung eines Entwicklungslösungsmittels, das eine brauchbare Entwicklungsgeschwindigkeit ermöglicht, die lichtempfindliche Schicht in den nicht-belichteten Bereichen nicht angegriffen wird, so daß z. B. selbst beim Belichten durch einen 150-Linien-Negativfilm eine exakte Punktreproduktion von Glanzlicht- bis zu Schattenbereichen erzielt wird. Außerdem besitzt die Druckform ausreichende Haltbarkeit, da der Bildbereich, der beim Drucken die äußeren Kräfte über die Druckfarbe aufnimmt, des Schichtträger ist.

Bei der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte enthält die lichtempfindliche Schicht, die auf den Schichtträger aufgebracht ist und diesen bedeckt, eine o-Chinondiazidverbindung und nicht mehr als 20 Gewichtsprozent, vorzugsweise nicht mehr als 15 Gewichtsprozent, ethanollösliche Komponenten. Die o-Chinondiazidverbindung weist eine 1,2-Chinondiazid- oder 1,2-Naphthochinondiazid-Struktur im Molekül auf und wird gewöhnlich in Form eines Esters oder Amids verwendet, das durch Umsetzen seines Sulfonsäurederivats, z. B. o-Chinondiazidsulfochlorid, und einer hydroxyl- oder aminogruppenhaltigen Verbindung (vorzugsweise Polymeren) erhalten wurde. Diese o-Chinodiazidverbindung kann gegebenenfalls mit einem Binderharz vermengt werden, um die filmbildenden Eigenschaften zu verbessern oder für andere Zwecke, vorausgesetzt, daß der Gehalt an ethanollöslichen Komponenten der lichtempfindlichen Schicht nicht mehr als 20 Gewichtsprozent, vorzugsweise nicht mehr als 15 Gewichtsprozent beträgt. o-Chinondiazide enthaltende lichtempfindliche Schichten, wie sie in handelsüblichen positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platten, Wipe-on-Platten und Photoresists verwendet werden können, weisen - obwohl ihre Struktur und Zusammensetzung weitgehend unbekannt ist - einen Gehalt an ethanollöslichen Komponenten von üblicherweise 40 bis 70 Gewichtsprozent auf, so daß sie für den erfindungsgemäßen Aufbau unbrauchbar sind. Der Gehalt an ethanollöslichen Komponenten bezieht sich erfindungsgemäß auf den Wert, der nach einstündigem Rühren der lichtempfindlichen Schicht mit überschüssigem Ethanol unter Sicherheitslicht und Filtrieren durch ein G3-Glasfilter gemessen wird. Eine bevorzugte lichtempfindliche Schicht besteht im wesentlichen aus Naphtho chinon-1,2-diazid-5-sulfonaten von Novolaken mit einem Veresterungsgrad von nicht weniger als 35%, vorzugsweise 35 bis 65%. Die Novolake sind Phenolharze, die durch Kondensation von Phenol oder m-Kresol mit Formaldehyd erhalten werden. Im Gegensatz zu den bekannten Diazoniumsalzen weist die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht nicht nur zufriedenstellende filmbildende Eigenschaften auf, sondern ist auch thermisch und in direktem Kontakt mit der Oberfläche eines metallischen Trägers sehr stabil. Ein Veresterungsgrad von weniger als 35% ist unerwünscht, da dann der Gehalt an ethanollöslichen Komponenten mehr als 20 Gewichtsprozent beträgt und somit die Beständigkeit der nicht-belichteten lichtempfindlichen Schicht gegenüber dem Entwickler abnimmt. Bei Veresterungsgraden von mehr als 65% werden andererseits die Entwicklungsgeschwindigkeit der belichteten Bereich und die filmbildenden Eigenschaft der lichtempfindlichen Schicht beeinträchtigt, während hinsichtlich der Beständigkeit der unbelichteten Bereiche gegenüber dem Entwicklungslösungsmittel kein wesentliches Problem besteht.

Die lichtempfindliche Schicht hat vorzugsweise eine Dicke von 0,5 bis 5 µm. Zu große Schichtdecken sind unwirtschaftlich, während bei zu kleinen Schichtdicken leicht Pinholes in der lichtempfindlichen Schicht entstehen können.

Der lichtempfindlichen Schicht können Farbstoffe zugesetzt werden, um das Bild bei der Entwicklung sichtbar zu machen. Hierzu eignen sich Ölfarbstoffe und basische Farbstoffe, z. B. "C. I. Solvent Green 3", "C. I. Solvent Blue 25", "C. I. Solvent Red 27" und Kristallviolett. Um das Bild bei der Entwicklung sichtbar zu machen, verwendet man vorzugsweise pH-Indikatoren, Leukopigmente oder Spiropyrane.

Die Silicongummischicht hat vorzugsweise eine Dicke von 0,5 bis 10 µm. Zu kleine Schichtdicken verursachen eine schlechte Haltbarkeit beim Drucken, während zu große Schichtdicken unwirtschaftlich sind und das Entfernen des Silicongummis während der Entwicklung erschweren, so daß die Bildreproduzierbarkeit beeinträchtigt wird.

Brauchbare Silicongummis werden dadurch erhalten, daß man ein lineares Diorganopolysiloxan (vorzugsweise Dimethylpolysiloxan) als Grundpolymer geringfügig vernetzt. Die Vernetzungsdichte kann als R/Si-Verhältnis in der folgenden Formel ausgedrückt werden und bei brauchbaren Silicongummis beträgt diese Dichte 1,95 bis 2,10, vorzugsweise 1,99 bis 2,01. Ein spezielles Silicon-Grundpolymer hat die folgenden Struktureinheiten:

in der n eine ganze Zahl von nicht weniger als 2 ist, die Gruppen R gleich oder verschieden sind und Alkyl-, Halogenalkyl-, Vinyl-, Aryl- oder Cyanoalkylreste mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen bedeuten, wobei vorzugsweise mindestens 60% der Reste R Methylgruppen sind.

Erfindungsgemäß verwendbare Silicongummis werden durch Kondensation eines derartigen Silicon-Grundpolymers mit den folgenden Silicon-Vernetzungsmitteln erhalten:

(1) R - Si - (OR′)₃
(2) R - Si - (OAc)₃
(3) R - Si - (ON = CR′₂)₃

Hierbei hat R die vorstehende Bedeutung, R′ ist ein Alkylrest, z. B. Methyl oder Ethyl, und Ac eine Acetylgruppe.

Um bei der Vernetzung einen Silicongummi zu erhalten, können neben den genannten Komponenten auch Organometall-Carbonsäuresalze von Metallen, wie Zinn, Zink, Kobalt oder Blei, z. B. Dibutylzinnlaurat, Zinn(IV)octoat oder Kobaltnaphthenat, zugesetzt werden.

Um die Zähigkeit des Silicongummis zu verbessern und einen Silicongummi zu erhalten, der der beim Druck auftretenden Reibungskraft standhält, kann dem Silicongummi ein Füllstoff zugemischt werden.

Der erfindungsgemäß verwendete Schichtträger sollte ausreichend flexibel sein, damit es in eine Lithographiepresse eingebaut werden kann, und fest genug, um der normalerweise von der Lithographiepresse ausgeübten Kraft standzuhalten. Repräsentative Schichtträger sind beschichtetes Papier, Metalle oder Kunststoffe, wie Polyethylenterephthalat. Auf diese Schichtträger kann eine weitere Beschichtung aufgebracht werden, um eine Lichthofbildung zu vermeiden, oder für andere Zwecke.

Die erfindungsgemäße Flachdruckplatte ist wie vorstehend erläutert aufgebaut, jedoch kann eine Klebstoffschicht als Bindekomponente zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Silicongummischicht vorgesehen sein. Die Klebstoffsicht, die zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der darauf gebildeten Silicongummischicht angeordnet ist, verbindet die beiden Schichten.

Diese Klebstoffschichten sind Schichten aus einem Aminosilan der allgemeinen Formel

R_mR′_nSi(OR′′)_4-m-n

in der R ein unsubstituierter oder monosubstituierter aminogruppenhaltiger Alkylrest ist, R′ und R′′ Alkyl- oder Arylreste sind, m den Wert 1 oder 2 und n den Wert 0 oder 1 haben, wobei m+n den Wert 1 oder 2 hat. Typische Aminosilane dieser Art sind γ-Aminopropyltriethoxysilan und γ-[N-(2-Aminoethyl)-amino]-propyltrimethoxysilan. Obwohl nicht vollständig geklärt ist, weshalb das Aminosilan als Klebstoffschicht geeignet ist, wird angenommen, daß das Aminosilan nicht nur chemische Bindungen zur oberen Silicongummischicht ausbildet, sondern auch mit dem o-Chinondiazid der unteren lichtempfindlichen Schicht reagiert und dadurch feste Bindungen zwischen den beiden Schichten ergibt. Da die Siliconschicht somit mit der lichtempfindlichen Schicht über die Klebstoffschicht fest genug für die praktische Verwendung bei der Plattenherstellung und in Druckverfahren verbunden wird, besitzt die erhaltene Druckform hohe Haltbarkeit. Aminosilane werden auch deshalb eingesetzt, weil ihre Reaktion mit dem Chinondiazid die Beständigkeit der lichtempfindlichen Schicht im unbelichteten Zustand gegenüber organischen Lösungsmitteln verbessert. Hinsichtlich der Dicke der Klebstoffschicht ist es im Grunde ausreichend, wenn eine mono- oder mehrmolekulare Schicht vorliegt, jedoch wird aus praktischen Erwägungen eine Dicke von 10 nm bis 0,5 µm bevorzugt. Zu große Schichtdicken sind nicht nur unwirtschaftlich, sondern beeinträchtigen auch die Permeation des Entwicklers zur lichtempfindlichen Schicht.

Bei Verwendung einer Klebstoffschicht werden die verschiedenen genannten Effekte erzielt. Es hat sich jedoch gezeigt, daß ohne Vorsehen einer derartigen Klebstoffschicht eine weiterer Effekt erzielt werden kann, nämlich eine Verbesserung der Entwicklungsgeschwindigkeit zusätzlich zu den genannten Effekten, wenn man das Aminosilan mit einer Silicongummimasse vermischt und die erhaltene Mischung direkt auf die lichtempfindliche Schicht aufträgt. Bei Verwendung einer derartigen aminosilanhaltigen Siliconschicht wird eine ausreichende Verbindung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconschicht erzielt, selbst wenn keine Klebstoffschicht verwendet wird, und der Entwickler dringt schneller zu der lichtempfindlichen Schicht vor, da keine Klebstoffschicht vorhanden ist, die als Sperrschicht für den Entwickler wirkt. Selbst bei kurzen Kontaktzeiten zwischen der Druckplatte und dem Entwickler, wie dies bei Verwendung eines Entwicklungsapparats der Fall ist, löst sich die lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen leicht und ermöglicht eine äußerst zufriedenstellende Entwicklung. Weshalb das Aminosilan in der Silicongummischt als Bindekomponente wirkt, ist nicht vollständig geklärt, jedoch wird angenommen, daß das Aminosilan nicht nur chemische Bindungen mit der Silicongummischicht ausbildet, sondern auch mit der o-Chinondiazidkomponente der unteren lichtempfindlichen Schicht reagiert und dadurch eine feste Bindung zwischen den beiden Schichten ergibt. Falls in diesem Fall die lichtempfindliche Schicht große Mengen an ethanollöslichen Komponenten enthält, wie dies bei lichtempfindlichen Schichten von handelsüblichen positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platte etc. der Fall ist, beeinträchtigen diese Komponenten die Reaktion zwischen dem Aminosilan und dem o-Chinondiazid, so daß es schwierig ist, eine wirksame Bindung zwischen der Silicongummischicht und der lichtempfindlichen Schicht zu erzielen. Andererseits ist die o-Chinondiazidkomponente in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht in höchst wirksamer Weise an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht vorhanden, so daß äußerst geringe Aminosilanmengen zur Erzielung einer wirksamen Bindung ausreichen. Dies ist von besonderer Bedeutung, da es nicht leicht ist, in der Silicongummischicht andere Moleküle zu lösen und zu dispergieren, weshalb eine Erhöhung der Zusatzmenge an Aminosilan eine Kohäsion und Abscheidung des Aminosilans bewirkt, die mit einer geringeren Transparenz der Silicongummischicht und einer wesentlichen Festigkeitsabnahme (insbesondere der Kratzfestigkeit) aufgrund der abnehmenden Kohäsionskraft des Silicongummis verbunden ist. Es gelingt somit nicht, eine Silicongummischicht mit hoher Haltbarkeit beim Drucken zu erhalten.

Aus diesen Gründen beträgt die Aminosilanmenge in der Silicongummischicht 1 bis 4,5 Gewichtsprozent. Der Zusatz einer derart geringen Aminosilanmenge in der Silicongummischicht ermöglicht es, daß diese ausreichend fest für die praktische Verwendung bei der Plattenherstellung und dem Druckverfahren mit der lichtempfindlichen Schicht verbunden wird, ohne daß die Festigkeit der Silicongummischicht beeinträchtigt wird. Man erhält daher eine Druckplatte von hoher Haltbarkeit. Das Zumischen des Aminosilans ist auch deshalb erwünscht, da seine Reaktion mit dem o-Chinondiazid die Beständigkeit der lichtempfindlichen Schicht im unbelichteten Zustand gegenüber organischen Lösungsmitteln verbessert.

Die derart aufgebaute Silicongummischicht, die die Oberfläche der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte bildet, ist etwas klebrig, so daß insofern Probleme auftreten können, als Staub leicht an den Schichten haften kann oder der Negativfilm bei der Belichtung im Vakuum nur schwer anliegt. Auf die Oberfläche der Silicongummischicht kann daher ein Schutzfilm aufgebracht werden. Die Art dieses Schutzfilms ist nicht beschränkt, solange er ein Anhaften von Staub oder eine Beschädigung der Plattenoberfläche bei der Handhabung verhindert. In diesem Fall sollte der Schutzfilm vor dem Belichten entfernt werden. Damit der Schutzfilm auch während der Belichtung verwendet werden kann, muß er eine Transparenz aufweisen, die den Durchtritt von UV-Strahlen ermöglicht, und eine Dicke von nicht mehr als 100 µm, vorzugsweise nicht mehr als 15 µm, haben, um eine Beeinträchtigung der Bildtreue bei der Belichtung zu vermeiden.

Beispiele für derartige Schutzfilme sind Kunststoffilme, die den genannten Anforderungen genügen, z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylalkohol, Polyethylenterephthalat und Cellophan. Diese Schutzfilme sollten vor oder während der Entwicklung durch Abziehen oder Ablösen entfernt werden.

Die erfindungsgemäße Flachdruckplatte kann z. B. auf folgende Weise hergestellt werden.

Zunächst wird auf einen Schichtträger eine Lösung einer lichtempfindlichen Substanz auf übliche Weise aufgetragen, z. B. mit einer Umkehrwalze, einer Luftrakel, einem Mayer-Stabbeschichter oder einem Rotationsapplikator, z. B. einer Schleuderscheibe, worauf man trocknet, gegebenenfalls auf die erhaltene lichtempfindliche Schicht auf dieselbe Weise eine Klebstoffschicht aufträgt, nach dem Trocknen auf die Klebstoffschicht auf dieselbe Weise eine Silicongummilösung aufbringt, dann einige Minuten bei einer Temperatur von gewöhnlich 100 bis 120°C wärmebehandelt, um eine ausreichende Härtung zu bewirken, so daß die Siliconschicht fest auf der lichtempfindlichen Schicht haftet. Gegebenenfalls wird die Silicongummischicht dann mit Hilfe eines Laminators oder dergleichen mit einem Schutzfilm überzogen.

Die erfindungsgemäß hergestellte Flachdruckplatte wird durch ein Negativdia, das im Vakuum in engem Kontakt mit der Form ist, mit aktinischem Licht bestrahlt. Die verwendete Lichtquelle sollte ausreichend UV-Licht erzeugen, wie z. B. Quecksilberlampen, Kohlebögen, Xenonlampen, Metallhalogenidlampen oder Leuchtstoffröhren.

Die belichtete Druckplatte wird gegebenenfalls nach Entfernen des Schutzfilms in einen Entwickler getaucht und an der Oberfläche leicht mit einem weichen Entwicklungsbausch gerieben, so daß sich die lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen in dem Entwickler löst und sich der entsprechende Teil der oberen Silicongummischicht leicht unter Freilegung des Schichtträgers abziehen läßt. Andererseits löst sich die lichtempfindliche Schicht in den unbelichteten Bereichen nicht in dem Entwickler, so daß die über die Bindekomponente fest mit der lichtempfindlichen Schicht verbundene Siliconschicht nicht angegriffen wird, selbst wenn man sie stark mit dem Bausch reibt, sondern auf der Plattenoberfläche bleibt.

Der erfindungsgemäß verwendete Entwickler muß die Siliconschicht durchdringen und nur die belichtete lichtempfindliche Schicht lösen. Es können z. B. die folgenden polaren organischen Lösungsmittel verwendet werden: Alkohole, wie Methanol und Ethanol, Ether, wie Ethylglykol und Dioxan, Ketone, wie Aceton und Methylethylketon, Ester, wie Ethylacetat nd Ethylglykolacetat. Diese polaren organischen Lösungsmittel verwendet werden, um die Löslichkeit oder Quellung des Silicons zu regeln und das Eindringen des Entwicklers zu verbessern: aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie Hexan, Heptan, Benzin und Kerosin, aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol und Xylol, sowie halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Trichlorethylen. Der Entwickler kann auch mit Wasser versetzt werden, um seine Brennbarkeit zu verringern, jedoch ist es in diesem Fall erwünscht, daß der Entwickler hauptsächlich aus einem organischen Lösungsmittel besteht.

Die Beispiele erläutern die Erfindung.

Beispiel 1

Eine durch chemische Umwandlung beschichtete Aluminiumplatte wird mit einer 7gewichtsprozentigen Dioxanlösung eines Naphthochinon- 1,2-diazid-5-sulfonats eines Phenolnovolaks mit einem Veresterungsgrad von 44% (errechnet aus dem IR-Spektrum; ethanollöslche Bestandteile 9,7 Gewichtsprozent) mit Hilfe einer Sprühscheibe beschichtet und dann 3 Minuten bei 60°C zu einer 2,7 µm dicken lichtempfindlichen Schicht getrocknet. Diese wird dann mit einer Sprühscheibe mit einer 0,5gewichtsprozentigen Isoparaffinlösung von γ-Aminopropyltriethoxysilan beschichtet und dann 30 Sekunden bei 120°C getrocknet, worauf man mit der Sprühscheibe eine 7prozentige Isoparaffinlösung einer Siliconmasse der folgenden Zusammensetzung aufbringt und durch 4minütiges Härten bei 120°C eine Silicongummischicht mit einer Dicke von 2,2 µm erzeugt:

(a) Dimethylpolysiloxan (Molekulargewicht etwa 80 000; Hydroxyl-Endgruppen)
100 Teile
(b) Ethyltriacetoxysilan	5 Teile
(c) Dibutylzinndiacetat	0,2 Teile

Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm mit einem Punktraster von 150 Linien belichtet. Hierauf taucht man in Ethanol und reibt leicht mit einem Bauwollvlies, wobei sich die belichteten Bereiche leicht entfernen lassen und die belichteten Oberfläche der Aluminiumplatte freilegen, während die Silicongummischicht in den nicht belichteten Bereichen fest haften bleibt, so daß ein Bild entsteht, das eine genaue Reproduktion des Negativfilms ist.

Die Druckform wird in eine Offsetpresse eingespannt und zum Drucken mit einer cyanfarbenen, wasserfreien Druckfarbe ohne Befeuchtungswasser verwendet, wobei Kopien mit sehr guter Bildreproduktion (5 bis 95% Punkte von 150 Linien) erhalten werden. Selbst nach dem Druck von 50 000 Kopien ist weder eine Färbung in den Nichtbildbereichen noch eine Beschädigung der Plattenoberfläche zu beobachten, sondern die Platte befindet sich in einem Zustand, der für den weiteren Druckeinsatz geeignet ist. Über die gesamte Druckzeit ist keine Änderung der Bildreproduzierbarkeit festzustellen.

Vergleichsbeispiele 1 und 2; Beispiele 2 bis 7

Unter Verwendung von Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonaten von Phenolnovolaken mit den in Tabelle I genannten unterschiedlichen Veresterungsgraden werden Druckformen wie in Beispiel 1 hergestellt.

Tabelle I

Jede der Druckplatten wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet. Die Plattenoberfläche wird in Ethanol getaucht und leicht mit einem Baumwollflies gerieben, um eine Entwicklung zu bewirken, worauf man mit schwarzer, wasserfreier Druckfarbe einfärbt. Die Auswertungsergebnisse sind in Tabelle II genannt. Die Bewertungen beziehen sich auf die Anzahl von Reibungen, wobei man die Plattenoberfläche in Ethanol mit einem Entwicklungsbausch mit einer Auflast von 50 g/cm² reibt, bis ein 30-µm-Punkt entwickelt werden kann:

0 bis 100mal
gut
100 bis 300mal	befriedigend
mehr als 300mal	schlecht

Tabelle II

In den Vergleichsbeispielen 1 und 2 wird die lichtempfindliche Schicht in den nicht-belichteten Bereichen während der Entwicklung angegriffen, so daß der Schattenbereich nicht reproduziert wird. Im extremen Fall zeigt die obere Siliconschicht ein geflecktes Muster und blättert ab, so daß keine gute Bildreproduzierbarkeit erreicht wird.

Vergleichsbeispiel 3

Die Oberfläche einer positiven vorsensibilisierten Platte wird mit Wasser gewaschen, getrocknet und dann zunächst mit Aminosilan und dann mit Silicongummi wie in Beispiel 1 beschichtet. Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet und dann in einem Entwickler aus Ethanol oder einem Gemisch aus Ethanol/Isoparaffin (Gewichtsverhältnis 8 : 2) entwickelt. In beiden Fällen löst sich die lichtempfindliche Schicht in den nicht-belichteten Bereichen in dem Entwickler, so daß keine gute Reproduzierbarkeit erzielt wird. Der Gehalt an ethanollöslichen Komponenten in der lichtempfindlichen Schicht der Platte beträgt 64%.

Vergleichsbeispiel 4

Eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit für Wipe-on-Platten wird mit Ethylglykol auf das Doppelte verdünnt und mit einer Sprühscheibe auf eine gebürstete Aluminiumplatte aufgetragen. Hierauf stellt man wie in Beispiel 1 eine Druckplatte her. Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet und dann in einem Gemisch aus 1-Propanol/Wasser (3 : 1) entwickelt. Hierbei fallen die Punkte der Silicongummischicht im Schattenbereich zusammen mit der lichtempfindlichen Schicht ab, so daß keine gute Bildreproduzierbarkeit erzielt wird. Der Gehalt an ethanollöslichen Komponenten in der lichtempfindlichen Wipe-on-Schicht beträgt 44%.

Beispiel 8

Eine 250-µm-Polyesterfolie wird mit Hilfe einer Sprühscheibe mit einer 10gewichtsprozentigen Cyclohexanonlösung eines Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonats eines Phenolnovolaks mit einem Veresterungsgrad von 50% (ethanollösliche Komponenten 8%) beschichtet und dann 3 Minuten bei 60°C getrocknet, worauf man mit der Sprühscheibe eine 0,5prozentige n-Butanollösung von γ-[n-(2-Aminoethyl)-amino]-propyltrimethoxysilan aufbringt und anschließend 30 Sekunden bei 120°C trocknet. Schließlich trägt man mit der Sprühscheibe dieselbe 7prozentige Isoparaffinlösung einer Siliconmasse wie in Beispiel 1 und härtet 4 Minuten bei 120°C.

Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet. Bei der Entwicklung der Plattenoberfläche in Äthanol zeigt sich, daß sich der belichtete Bereich leicht unter Freilegung der belichteten Oberfläche der Polyesterfolie ablöst, während die Silicongummischicht in den nicht-belichteten Bereichen fest haftet, so daß eine genaue Reproduktion des Negativfilms erhalten wird.

Die hergestellte Druckform wird in einen Offset-Duplikator eingespannt und zum Drucken ohne Verwendung von Befeuchtungswasser eingesetzt. Selbst nach dem Druck von 20 000 Kopien ist weder eine Färbung der Nichtbildbereiche noch eine Beschädigung der Plattenoberfläche zu beobachten, sondern die Platte befindet sich in einem Zustand, der für das weitere Drucken geeignet ist. Über die gesamte Druckzeit ist keine Änderung der Bildreproduzierbarkeit festzustellen.

Beispiel 9

Die in Beispiel 4 verwendete Platte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet und dann mit verschiedenen Entwicklern entwickelt, wobei die in Tabelle III genannten Ergebnisse erzielt werden:

Tabelle III

Beispiel 10

Unter Verwendung eines Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonats (ethanollösliche Komponenten 17%) eines m-Kresolnovolaks mit einem Veresterungsgrad von 40% wird eine Druckplatte wie in Beispiel 1 hergestellt.

Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm belichtet. Hierauf taucht man die Plattenoberfläche in Ethanol und entwickelt unter leichtem Reiben mit einem Baumwollflies. Der belichtete Bereich läßt sich leicht unter Freilegung der belichteten Oberfläche der Aluminiumplatte ablösen, während die Silicongummischicht im nicht belichteten Bereich fest haften bleibt, so daß eine genaue Reproduktion des Negativfilms erhalten wird.

Beispiel 11

Eine durch chemische Umwandlung beschichtete Aluminiumplatte wird mit Hilfe einer Sprühscheibe mit einer 3gewichtsprozentigen Dioxanlösung desselben Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonats eines Phenolnovolaks wie in Beispiel 1 beschichtet und dann zu einer 1,2 µm dicken photoempfindlichen Schicht getrocknet. Andererseits wird eine 7prozentige Isoparaffinlösung derselben Siliconmasse wie in Beispiel 1 mit 4 Gewichtsprozent, bezogen auf die Siliconmasse, γ-Aminopropyltriethoxysilan vermischt. Nach gründlichem Rühren wird die homogene Mischung auf die lichtempfindliche Schicht aufgetragen, getrocknet und durch 4minütiges Erhitzen auf 120°C zu einer 2,2 µm dicken Silicongummischicht gehärtet.

Die erhaltene Druckplatte wird mit einer Metallhalogenidlampe 60 Sekunden in einem Abstand von 1 m durch einen Negativfilm mit einem Punktraster von 150 Linien belichtet. Die belichtete Platte wird dann mit einem Entwicklungsapparat bei einer Transportgeschwindigkeit von 30 cm/min unter Verwendung eines Entwicklers aus 8 Teilen Ethanol und 2 Teilen Isoparaffin entwickelt. Hierbei löst sich der belichtete Bereich leicht unter Freilegung der belichteten Oberfläche der Aluminiumplatte ab, während die Silicongummischicht im nicht belichteten Bereich fest haften bleibt, so daß eine genaue Reproduktion des Negativfilms erhalten wird.

Die Druckform wird in eine Offsetpresse eingespannt und zum Drucken unter Verwendung von wasserfreier cyanfarbener Druckfarbe ohne Verwendung von 150 Linien. Selbst nach dem Druck von 20 000 Kopien ist weder eine Einfärbung der Nichtbildbereiche noch eine Beschädigung der Plattenoberfläche zu beobachten, sondern die Platte ist in einem Zustand, der für das weitere Drucken geeignet ist. Über die gesamte Druckzeit ist keine Änderung der Bildreproduzierbarkeit festzustellen.

Claims

1. Lichtempfindliche Flachdruckplatte für den Trockenflachdruck mit einem Schichtträger, einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, die ein o-Chinondiazid und nicht mehr als 20 Gew.-% ethanollösliche Komponenten enthält, und einer auf die lichtempfindliche Schicht aufgebrachten Silicongummischicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Silicongummischicht über eine Klebstoffschicht, die im wesentlichen aus einem Aminosilan besteht, auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht ist, oder daß die Silicongummischicht als Bindungskomponente 1-4,5 Gew.-% eines Aminosilans enthält.

2. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das o-Chinondiazid ein Ester von Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäure ist.

3. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht im wesentlichen aus einem Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonat von Novolaken mit einem Veresterungsgrad von nicht weniger als 35% besteht.

4. Druckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Veresterungsgrad 35 bis 65% beträgt.

5. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aminosilan die Formel R_mR′_nSi(OR′′)_4-m-n hat, in der R ein unsubstituierter oder monosubstituierter aminogruppenhaltiger Alkylrest ist, R′ und R′′ Alkyl- oder Arylreste sind, m den Wert 1 oder 2 und n den Wert 0 oder 1 haben, wobei m+n den Wert 1 oder 2 hat.

6. Druckplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Aminosilan γ-Aminopropyltriethoxysilan ist.

7. Druckplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Aminosilan γ-[N-(2-Aminoethyl)-amino]-propyltrimethoxysilan- ist.

8. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Silicongummischicht ein vernetztes Diorganopolysiloxan enthält, das durch Härten eines Diorganosiloxans mit zentralen Struktureinheiten der Formel in der n eine ganze Zahl von nicht weniger als 2 ist, das Verhältnis R : Si in der Verbindung im Bereich von 1,95 bis 2,1 liegt und die Gruppen R gleich oder verschieden sind und Alkyl-, Halogenalkyl-, Vinyl-, Aryl- oder Cyanoalkylreste mit jeweils 1 bis 10 Kohlenstoffatomen bedeuten, erhalten worden ist.

9. Druckplatte nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Diorganopolysiloxan ein Dimethylpolysiloxan ist.