JPS60169852A - 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法 - Google Patents
湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法Info
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- JPS60169852A JPS60169852A JP59025489A JP2548984A JPS60169852A JP S60169852 A JPS60169852 A JP S60169852A JP 59025489 A JP59025489 A JP 59025489A JP 2548984 A JP2548984 A JP 2548984A JP S60169852 A JPS60169852 A JP S60169852A
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- photosensitive
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- dampening water
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水
不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法に関し、更に詳細
には、その実用特性の改良特に印刷時の耐刷性、耐溶剤
性の改良に関するものである。
不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法に関し、更に詳細
には、その実用特性の改良特に印刷時の耐刷性、耐溶剤
性の改良に関するものである。
従来のオフセット方式による平版印刷では、像形状に構
成された界面化学的に性質の異々る工程の表面に１画像
部（親油性）と非画像部（親水性）の機能を付与し、非
画像部に湿し水を供給して水膜を形成させることによシ
インキ反撥層としている。この平版オフセット印刷版は
、製版が比較的簡単で低コストであシ、シかも高品質の
印刷物が得られるという利点を有しているため、現在最
も広〈実施されている。しかし湿し水を用いることが不
可避の要件であるためそれに起因する数々の問題点があ
る。たとえば■水とインキのバランス調整がむずかしく
熟練を要する、このため印刷作業の自動化、省力化の障
害となる。■印刷スタ゛−ト時、水とインキのバランス
が安定するまで時間がかかシ損紙率が高い、■水による
紙の伸縮があり見当ずれを発生しやすい、■インキの乳
化によシ網点の形状がくずれ、インキの付きが悪くなシ
、網点再現性に問題が出る１等である。
成された界面化学的に性質の異々る工程の表面に１画像
部（親油性）と非画像部（親水性）の機能を付与し、非
画像部に湿し水を供給して水膜を形成させることによシ
インキ反撥層としている。この平版オフセット印刷版は
、製版が比較的簡単で低コストであシ、シかも高品質の
印刷物が得られるという利点を有しているため、現在最
も広〈実施されている。しかし湿し水を用いることが不
可避の要件であるためそれに起因する数々の問題点があ
る。たとえば■水とインキのバランス調整がむずかしく
熟練を要する、このため印刷作業の自動化、省力化の障
害となる。■印刷スタ゛−ト時、水とインキのバランス
が安定するまで時間がかかシ損紙率が高い、■水による
紙の伸縮があり見当ずれを発生しやすい、■インキの乳
化によシ網点の形状がくずれ、インキの付きが悪くなシ
、網点再現性に問題が出る１等である。
このような問題点を根本的に解決するために。
十数年程前から、シリコーンゴム層をインキ反撥層とす
る、湿し水を用いずに平版印刷を行う研究が開始された
。特公昭４４−２３０４２号公報は、インキ反撥層とし
てシリコーンゴムを用いることを示した最初の文献であ
り、その後も、特公昭４６−１６０４４号、特開昭４８
−９４５０４号、特開昭４９−７００５号、特開昭５０
−５０１０２号、特開昭５５−５９４６６号、特開昭５
６−８００４６号、特開昭５６−８００４７号公報等に
、種々のタイプのものが提案されている。この□ような
シリコーンゴム上層型湿し水不要平版印刷版は、一般に
、下層の感光層を溶解し、その上層部にあるシリコーン
ゴム層とともに除去して画像部を形成する方法と、基板
上に光接着性感光層あるいは光剥離性感光層を設け％露
光により光接着しなかった部分のシリコーンゴム層を膨
潤除去するか、あるいは露光により光剥離を起した部分
のシリコーンゴム層を膨潤除去する。いわゆる感光層上
のシリコーンゴム層のみを選択的に膨潤除去する方法と
がある。前者の方法では、シリコーンゴム層と感光層の
接着強度を十分高く設計しても、感光層から溶出除去さ
れるため、画像形成性が悪くなったシ、現像不良の現象
が現われたりすることは少ない。従ってシリコーンゴム
層上にカバーフィルムを持たないよう々湿し水不要感光
性平版印刷版を製造した場合にも、シリコーンゴムの密
着強度の安定し友、耐スクラッチ性、耐摩擦性のある印
刷版を製造することが出来、しかもこのような印刷版か
ら得られる刷版は、高い耐刷性が期待出来る。これに対
し後者の方法では、印刷実技上インクが薄盛シ出来ると
いう特徴はあるが、シリコーンゴム層と感光層の接着強
度をあまり上げすぎると現像が出来なくなり、従ってシ
リコーンゴム層上にカバーフィルムを持たないような湿
し水不要感光性平版印刷版を製造した場合、その耐スク
ラッチ性、耐摩擦性を十分な程度まで上げることは困難
であシ、高耐刷性湿し水不要平版印刷版を後者の方法で
得ることは困難である。
る、湿し水を用いずに平版印刷を行う研究が開始された
。特公昭４４−２３０４２号公報は、インキ反撥層とし
てシリコーンゴムを用いることを示した最初の文献であ
り、その後も、特公昭４６−１６０４４号、特開昭４８
−９４５０４号、特開昭４９−７００５号、特開昭５０
−５０１０２号、特開昭５５−５９４６６号、特開昭５
６−８００４６号、特開昭５６−８００４７号公報等に
、種々のタイプのものが提案されている。この□ような
シリコーンゴム上層型湿し水不要平版印刷版は、一般に
、下層の感光層を溶解し、その上層部にあるシリコーン
ゴム層とともに除去して画像部を形成する方法と、基板
上に光接着性感光層あるいは光剥離性感光層を設け％露
光により光接着しなかった部分のシリコーンゴム層を膨
潤除去するか、あるいは露光により光剥離を起した部分
のシリコーンゴム層を膨潤除去する。いわゆる感光層上
のシリコーンゴム層のみを選択的に膨潤除去する方法と
がある。前者の方法では、シリコーンゴム層と感光層の
接着強度を十分高く設計しても、感光層から溶出除去さ
れるため、画像形成性が悪くなったシ、現像不良の現象
が現われたりすることは少ない。従ってシリコーンゴム
層上にカバーフィルムを持たないよう々湿し水不要感光
性平版印刷版を製造した場合にも、シリコーンゴムの密
着強度の安定し友、耐スクラッチ性、耐摩擦性のある印
刷版を製造することが出来、しかもこのような印刷版か
ら得られる刷版は、高い耐刷性が期待出来る。これに対
し後者の方法では、印刷実技上インクが薄盛シ出来ると
いう特徴はあるが、シリコーンゴム層と感光層の接着強
度をあまり上げすぎると現像が出来なくなり、従ってシ
リコーンゴム層上にカバーフィルムを持たないような湿
し水不要感光性平版印刷版を製造した場合、その耐スク
ラッチ性、耐摩擦性を十分な程度まで上げることは困難
であシ、高耐刷性湿し水不要平版印刷版を後者の方法で
得ることは困難である。
ところで湿し水不要平版印刷版のうち、支持体上に、感
光層、シリコーンゴム層をこの順に設けてなるシリコー
ンゴム上層部の湿し水不要感光性平版印刷版に於て、こ
れをネガティブワーキングとするには、感光層として先
回溶化型の感光性物質を選ぶ必要がある。このような構
成を持つ湿し水不要感光性平版印刷版の例は特公昭４６
−１６０４４号公報に示されている。この版構成では露
光部の感光層は光分解されて現像液に可溶性となシ、上
層部のシリコーンゴム層とともに除去されるので露光部
が画像部となる。一方、非画像部、すなわち未露光部の
先回溶化型感光性物質は現像処理後もその感光性を保っ
ており、太陽光あるいは室内螢光燈等によ多感光し可溶
性になる。
光層、シリコーンゴム層をこの順に設けてなるシリコー
ンゴム上層部の湿し水不要感光性平版印刷版に於て、こ
れをネガティブワーキングとするには、感光層として先
回溶化型の感光性物質を選ぶ必要がある。このような構
成を持つ湿し水不要感光性平版印刷版の例は特公昭４６
−１６０４４号公報に示されている。この版構成では露
光部の感光層は光分解されて現像液に可溶性となシ、上
層部のシリコーンゴム層とともに除去されるので露光部
が画像部となる。一方、非画像部、すなわち未露光部の
先回溶化型感光性物質は現像処理後もその感光性を保っ
ており、太陽光あるいは室内螢光燈等によ多感光し可溶
性になる。
ところで、印刷版は、印刷工程に於ける版面洗浄あるい
は印刷インキとの接触など、現像溶媒に類似の有機溶剤
に触れる機会が考えられる。この場合現像工程までいか
に良好な画像再現が得られていても、それ以降に再露光
を受けて感光層が可溶化するにしたがって、有機溶媒に
侵されて非画像部が、その上層のシリコーンゴム層とと
もに脱落し、版面での画像再現性が保持出来なくなると
いう致命的な欠陥をもっている。
は印刷インキとの接触など、現像溶媒に類似の有機溶剤
に触れる機会が考えられる。この場合現像工程までいか
に良好な画像再現が得られていても、それ以降に再露光
を受けて感光層が可溶化するにしたがって、有機溶媒に
侵されて非画像部が、その上層のシリコーンゴム層とと
もに脱落し、版面での画像再現性が保持出来なくなると
いう致命的な欠陥をもっている。
このような問題を解決するために、湿し水不要ネガ製感
光性平版印′刷版を露光、現像後、熱処理することによ
シ定着する方法が提案されている（特開昭５５−６０９
４７号および特開昭５７−１９２９５６号公報）。しか
しこれらの公報に示されている方法は、熱処理装置を必
要とし、しかもこのような熱処理条件では画像部の定着
が不十分であり、処理後の曝光によシ画像部が可溶化し
、網点画像の調子が変化するという欠点がある。一方、
特開昭５７−２０５７４０号公報には、露光。
光性平版印′刷版を露光、現像後、熱処理することによ
シ定着する方法が提案されている（特開昭５５−６０９
４７号および特開昭５７−１９２９５６号公報）。しか
しこれらの公報に示されている方法は、熱処理装置を必
要とし、しかもこのような熱処理条件では画像部の定着
が不十分であり、処理後の曝光によシ画像部が可溶化し
、網点画像の調子が変化するという欠点がある。一方、
特開昭５７−２０５７４０号公報には、露光。
現像後、塩基処理をする方法が開示されている口しかし
この方法は、前述の、基板上に光剥離性感光層、シリコ
ーンゴム層を順次塗設してなる湿し水不要ネガ型感光性
平版印刷版を露光し、元剥離を起こした部分のシリコー
ンゴム層のみを選択的に膨潤除去する方法に対しては有
効である（同公報実施例５参照）が、感光層を溶解しそ
の上部にあるシリコーンゴム層とともに除去して画像部
を形成する方法に対しては、満足すべき効果を与えない
（同公報実施例１および２）。
この方法は、前述の、基板上に光剥離性感光層、シリコ
ーンゴム層を順次塗設してなる湿し水不要ネガ型感光性
平版印刷版を露光し、元剥離を起こした部分のシリコー
ンゴム層のみを選択的に膨潤除去する方法に対しては有
効である（同公報実施例５参照）が、感光層を溶解しそ
の上部にあるシリコーンゴム層とともに除去して画像部
を形成する方法に対しては、満足すべき効果を与えない
（同公報実施例１および２）。
したがって本発明の目的は、製版後、唾光されても、そ
の性能を劣化することがないような、湿し水不要ネガ型
平版印刷版の製版法を提供することである。
の性能を劣化することがないような、湿し水不要ネガ型
平版印刷版の製版法を提供することである。
本発明の上記目的は、感光性平版印刷版を画像露光、現
像処理後、画像露光の際の露ｙｃ量の５係以上のａｍ露
光量となるように全面曝光し、つづいて塩基処理するこ
とによシ達成される。
像処理後、画像露光の際の露ｙｃ量の５係以上のａｍ露
光量となるように全面曝光し、つづいて塩基処理するこ
とによシ達成される。
すなわち本発明は、支持体上に、オルトキノンシアノド
化合物を含む感光層およびシリコーンゴム層なこの順に
塗設して々る感光性平版印刷版を、画像露光および現像
処理したのち、画像露光の際の露光量の５チ以上の嶌光
量となるように全面曝光し、つづいて塩基性化合物で処
理することを特徴とする、湿し水不要ネガ型感光性平版
印刷版の製版法である。
化合物を含む感光層およびシリコーンゴム層なこの順に
塗設して々る感光性平版印刷版を、画像露光および現像
処理したのち、画像露光の際の露光量の５チ以上の嶌光
量となるように全面曝光し、つづいて塩基性化合物で処
理することを特徴とする、湿し水不要ネガ型感光性平版
印刷版の製版法である。
本発明に使用されるオルトキノンジアジド化合物は、分
子内に２−ジアゾ−１−ナフトール構造を有する化合物
であり通常、スルホン酸誘導体、たとえばスルホン酸ク
ロリドと水酸基、アミノ基を持つ化合物との反応により
得られる。一般に。
子内に２−ジアゾ−１−ナフトール構造を有する化合物
であり通常、スルホン酸誘導体、たとえばスルホン酸ク
ロリドと水酸基、アミノ基を持つ化合物との反応により
得られる。一般に。
従来の湿し水を用いるポジ型感光性平版印刷版に使用出
来るものであれば、どのような骨格構造のものでも使用
することが出来る。これらのうち、ノボラック樹脂の２
−ノアシー１−ナフトールスルホン酸エステルおよびア
セトンとピロガロールの縮合重合によって得られたポリ
ヒドロキシフェニルの２−ジアゾ−１−ナフトールスル
ホン酸エステルが好ましく、とｐわけ後者の化合物が好
ましい口 本発明のシリコーンゴム層に使用されるシリコーンゴム
はインキ反撥性層を形成することができるものであれば
良く、たとえば−液性常温硬化型シリコーンゴム、二液
性剥ｍｉ 用シリコーンゴム、二液性付加反応型シリコ
ーンゴム、特公昭５６−１２８６０号公報記載の一液常
温硬化型シリコーンゴムと二液性付加反応ｍ シＩＪ
コーン−ｒ ムとの混合物などが挙げられる。
来るものであれば、どのような骨格構造のものでも使用
することが出来る。これらのうち、ノボラック樹脂の２
−ノアシー１−ナフトールスルホン酸エステルおよびア
セトンとピロガロールの縮合重合によって得られたポリ
ヒドロキシフェニルの２−ジアゾ−１−ナフトールスル
ホン酸エステルが好ましく、とｐわけ後者の化合物が好
ましい口 本発明のシリコーンゴム層に使用されるシリコーンゴム
はインキ反撥性層を形成することができるものであれば
良く、たとえば−液性常温硬化型シリコーンゴム、二液
性剥ｍｉ 用シリコーンゴム、二液性付加反応型シリコ
ーンゴム、特公昭５６−１２８６０号公報記載の一液常
温硬化型シリコーンゴムと二液性付加反応ｍ シＩＪ
コーン−ｒ ムとの混合物などが挙げられる。
本発明に使用される湿し水不要ネガを感光性平版印刷版
の層構成は、支持体、プライマ一層、感光層、接着層、
シリコーンゴム層の順に層を重ねたものである。場合に
よってはプライマ一層接着層を省略することが出来る。
の層構成は、支持体、プライマ一層、感光層、接着層、
シリコーンゴム層の順に層を重ねたものである。場合に
よってはプライマ一層接着層を省略することが出来る。
感光層の厚さはほぼ０．２〜３μ、シリコーンゴム層の
厚さは０．５〜１０μ程度が適当である。シリコーンゴ
ム層の厚さは調子再現性の点からはできる限夛薄い方が
よくまた耐刷性、印刷汚れの点からはある程度の厚さを
必要とするので通常１６０〜３．０μが望ましい。プラ
イマ一層および接着層はその機能を十分発揮し得る範囲
内で出来る限シ薄い方が好ましい。
厚さは０．５〜１０μ程度が適当である。シリコーンゴ
ム層の厚さは調子再現性の点からはできる限夛薄い方が
よくまた耐刷性、印刷汚れの点からはある程度の厚さを
必要とするので通常１６０〜３．０μが望ましい。プラ
イマ一層および接着層はその機能を十分発揮し得る範囲
内で出来る限シ薄い方が好ましい。
上記感光層にエポキシ樹脂を含有させると、現像処理後
に行う定着の効果を向上させることができ、また印刷版
の耐溶剤性も向上させることができる。このようなエポ
キシ樹脂の代表的な例としてハ、エビクミルヒドリンと
ビスフェノールＡ等の多価フェノールとの反応生成物、
あるいはノボラック型フェノール樹脂とエビクミルヒド
リンとの反応生成物であるノボラック型エポキシ樹脂な
どを誉げることかできる。このようガエポキシ樹脂は、
感光層Ｃ固形分）の０〜５０重量％１好咬しくは０〜２
０重量％含有させることができる。
に行う定着の効果を向上させることができ、また印刷版
の耐溶剤性も向上させることができる。このようなエポ
キシ樹脂の代表的な例としてハ、エビクミルヒドリンと
ビスフェノールＡ等の多価フェノールとの反応生成物、
あるいはノボラック型フェノール樹脂とエビクミルヒド
リンとの反応生成物であるノボラック型エポキシ樹脂な
どを誉げることかできる。このようガエポキシ樹脂は、
感光層Ｃ固形分）の０〜５０重量％１好咬しくは０〜２
０重量％含有させることができる。
このような湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版を１画像
露光し、現像する。画像露光は、たとえば、富士写真フ
ィルム株式会社製ステップタグレットを焼付けたばあい
、４段目がペタとなるのに要する程度の露光量で行う。
露光し、現像する。画像露光は、たとえば、富士写真フ
ィルム株式会社製ステップタグレットを焼付けたばあい
、４段目がペタとなるのに要する程度の露光量で行う。
現像剤としてはアルコール類、例えばエタノール、イノ
グロビルアルコール、Ｉｎ−ｙ’口ピルアルコール、メ
チルグリコール、エチルグリコール。
グロビルアルコール、Ｉｎ−ｙ’口ピルアルコール、メ
チルグリコール、エチルグリコール。
ｎ−プロビルダリコール％ ｎ−ブチルグリコール、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノｎ−ブチルエーテル、ペンノルアルコール等に水、あ
るいはシリコーンプム層を膨潤させるような石油系溶剤
、ヘキサン、ヘプタン、イーツバラフイン系炭化水素溶
剤を含むような混合物が適している。
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノｎ−ブチルエーテル、ペンノルアルコール等に水、あ
るいはシリコーンプム層を膨潤させるような石油系溶剤
、ヘキサン、ヘプタン、イーツバラフイン系炭化水素溶
剤を含むような混合物が適している。
画像露光、現像処理後、曝光処理を行う。曝光処理は、
画像露光の際の適正露光量の５幅以上の露光量となるよ
うに行う。５％以下では、その後、塩基処理を行っても
十分な定着効果が得られない。
画像露光の際の適正露光量の５幅以上の露光量となるよ
うに行う。５％以下では、その後、塩基処理を行っても
十分な定着効果が得られない。
また、曝光の際の露光量の上限は特にないが、画像露光
の際の適正露光量の５００チ以上になると、適正な定着
が行なわれなくなる傾向があり、また。
の際の適正露光量の５００チ以上になると、適正な定着
が行なわれなくなる傾向があり、また。
不経済でもあるので、一般に画像露光時の適正露光量の
５係〜３００ｉ好ましくは１０係〜１００％、さらに好
ましくは１０〜５０係とするのが適当である。
５係〜３００ｉ好ましくは１０係〜１００％、さらに好
ましくは１０〜５０係とするのが適当である。
曝光処理したのち、塩基性化合物で処理する。
この曝光後の処理に使用される塩基性化合物としては、
例えばアミン類、アルカリ金属アルコラード、アルカリ
金属アミドなどを挙げることが出来る。例えばアミン類
としては、脂肪族鎖式アミン、脂肪族環式アミン、芳香
族アミン、ヘテロ環式アミンの一級、二級、三級アミン
およびモノアミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミ
ンなどのポリアミンを含むものであり、さらに、具体的
には、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、ｎ−またはｉｓｏプロピルアミン、ジプ
ロピルアミン、トリゾロビルアミン、ブチルアミン、ノ
グチルアミン、トリグチルアミン、アミルアミン、シア
ミルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミン
、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、エ
タノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノール
アミン、ベンジルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジ
エチルペンシルアミン、ジエチルペンシルアミン、ｏ−
、ｍ −またＩ／ｉｐ−メトキシベンジルアミン。
例えばアミン類、アルカリ金属アルコラード、アルカリ
金属アミドなどを挙げることが出来る。例えばアミン類
としては、脂肪族鎖式アミン、脂肪族環式アミン、芳香
族アミン、ヘテロ環式アミンの一級、二級、三級アミン
およびモノアミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミ
ンなどのポリアミンを含むものであり、さらに、具体的
には、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、ｎ−またはｉｓｏプロピルアミン、ジプ
ロピルアミン、トリゾロビルアミン、ブチルアミン、ノ
グチルアミン、トリグチルアミン、アミルアミン、シア
ミルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミン
、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、エ
タノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノール
アミン、ベンジルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジ
エチルペンシルアミン、ジエチルペンシルアミン、ｏ−
、ｍ −またＩ／ｉｐ−メトキシベンジルアミン。
Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、β−フェニルエチル
アミン、ε−フェニルアミルアミン、δ−フェニルアミ
ルアミン、γ−フェニルノロピルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメチルア
ニリン、トルイジン、ナフチルアミン、フェニレンジア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン、ウロトロビンピロール、ピリジン、キノリン、ヒド
ラジン、フェニルヒドラジン、ジフェニルヒドラジン、
ヒドロキシルアミン、ＲａＬ ／’ＩＪ シンｈ アラ
ニン、フェニルアラニン、水酸化テトラアルキルアンモ
ニウムなどが用いられる。
アミン、ε−フェニルアミルアミン、δ−フェニルアミ
ルアミン、γ−フェニルノロピルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメチルア
ニリン、トルイジン、ナフチルアミン、フェニレンジア
ミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン、ウロトロビンピロール、ピリジン、キノリン、ヒド
ラジン、フェニルヒドラジン、ジフェニルヒドラジン、
ヒドロキシルアミン、ＲａＬ ／’ＩＪ シンｈ アラ
ニン、フェニルアラニン、水酸化テトラアルキルアンモ
ニウムなどが用いられる。
アルカリ全島アルコラードとしてはナトリウム、カリウ
ム、リチウムのメチラート、エチラート、プロピラード
、などが、またアミドとしてはナトリウム、カリウム、
リチウムのアミド、ジエチルアミド、ジプロピルアミド
などが用いられる。リチウムヒドロキシド、ナトリウム
ヒドロキシド、カリウムヒドロキシド等のアルカリ金属
水酸化物も使用することが出来る。
ム、リチウムのメチラート、エチラート、プロピラード
、などが、またアミドとしてはナトリウム、カリウム、
リチウムのアミド、ジエチルアミド、ジプロピルアミド
などが用いられる。リチウムヒドロキシド、ナトリウム
ヒドロキシド、カリウムヒドロキシド等のアルカリ金属
水酸化物も使用することが出来る。
これ等の塩基は卑独あるいは混合して、液状あるいは気
相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものあ
るいは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合溶媒は
水または有機溶剤または両者の混合のいずれでも良い。
相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものあ
るいは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合溶媒は
水または有機溶剤または両者の混合のいずれでも良い。
液状で処理する場合は塩基または塩基溶液に浸漬するだ
けでよくまた気相で処理することも可能である。処理時
間は塩基の濃度によって適宜選択出来るが通常約１分〜
１０分で十分であり、処理に際しては定着がある程度以
上進行すればそれ以上時間をかけて処理しても効果とし
ては同じである。処理温度は特に制限されないが２通常
１０℃〜３０℃程度で行えばよいＯ 〔発明の効果〕 本発明によシ製版された印刷版は、太陽光や螢光灯の光
に曝光されても、その調子再現性、耐刷性、耐スクラッ
チ性等のすぐれた特性がほとんど劣化しない。このよう
に本発明によれば、高温での熱処理を必要とすることな
く、高耐刷性、高耐スクラッチ性を有する湿し水不要ネ
ガ型感光性平版印刷版が得られる。
けでよくまた気相で処理することも可能である。処理時
間は塩基の濃度によって適宜選択出来るが通常約１分〜
１０分で十分であり、処理に際しては定着がある程度以
上進行すればそれ以上時間をかけて処理しても効果とし
ては同じである。処理温度は特に制限されないが２通常
１０℃〜３０℃程度で行えばよいＯ 〔発明の効果〕 本発明によシ製版された印刷版は、太陽光や螢光灯の光
に曝光されても、その調子再現性、耐刷性、耐スクラッ
チ性等のすぐれた特性がほとんど劣化しない。このよう
に本発明によれば、高温での熱処理を必要とすることな
く、高耐刷性、高耐スクラッチ性を有する湿し水不要ネ
ガ型感光性平版印刷版が得られる。
以下、実施例によシ本発明の詳細な説明する。
実施例１
通常の方法で脱脂したアルミニウム板に、トーレシリコ
ーン社製のシランカッシリング剤Ｓ 、Ｈ−６０２０（
Ｎ−β（アミノエチル）ｒ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン）１重量部をエタノール５００重量部に溶解し
た溶液を塗布し乾燥した。
ーン社製のシランカッシリング剤Ｓ 、Ｈ−６０２０（
Ｎ−β（アミノエチル）ｒ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン）１重量部をエタノール５００重量部に溶解し
た溶液を塗布し乾燥した。
この層の上に、さらに、アセトンとピロガロールの縮合
重合によシ得られるポリヒドロキシフェニルの２−ジア
ゾ−１−ナフトール−５−スルホン酸エステル（米国特
許第５６５５７０９号明細啓中記載の化合物）１０重量
部を、１２０重量部のメチルセロソルブアセテートと６
０重量部のメチルエチルケトン混合溶媒に溶解して得ら
れる感光液を乾燥重量で１ｒ／ｍ２ 塗布し、乾燥した
・次にトーレシリコーン社製のシランカップリング剤５
Ｈ−６０２０（（Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノ
ゾロピルトリメトキシシラン）〕１１重量をキシレン５
００重量部に溶解した溶液をヂ過し、上記感光層上に塗
布し、さらに信越シリコ−ｙＫＥ４１Ｔ（１液型ＲＴＶ
脱酢酸ｆｆ１）？を置部、信越シリコーンに５７０９（
２液型離形用シリコーン）５．６重量部卦よび触媒ＣＡ
Ｔ−ＰＳ（信越化学社製）０．０４重量部をアイツノ４
− Ｑ（Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａ１社製）１５０重
量部に溶解したものを乾燥重量で２１７ｍ２ になるよ
うに塗布した。１００℃で２分間乾燥し、暗所に一晩放
置し、硬化を完了させた。この湿し水不要感光性平版印
刷版上にネガフィルムと富士写真フィルム（株）社製ス
テップタブレットとを密着させ、ＢＴＣＡＳＣＯＲ社製
バキュームプリンターにより３０秒間露光した。この版
をエチルアルコール７５重量部およびアイツノｆ ａ
２５重重部よシなる現像液ヲ含ませたハニロン・リッツ
ぐラド（ハニーファイバー社製）で５分間擦ったところ
、露光部分の感光層およびその上のシリコーンゴム層は
除去され、未露光部非画像部はなんらの変化をうけずシ
リコーンゴム層はそのまま残っていた。また同時に焼付
ケたステップタブレットの６段以上のシリコーンゴムＮ
はそのまま残っていた。上記の製版された版を上記プリ
ンターを用いて１８秒間全面曝光したのち、エチレンジ
アミン１重量部およびエタノール９９重量部から成る塩
基性処理液で１分間浸漬処理し、水洗乾燥した。得られ
た版が十分定着されているかどうかを確認するため、さ
らに上記プリンターにて６０秒間全面曝光したのちエチ
ルアルコール７５重量部およびアイツノ４−Ｇ２５重量
部からなる現像液を含ませたハニロンリソノぞラドで３
分間擦ったところ１版面は全く損傷を受けず、またステ
ップタブレットも６段以上のシリコーンゴム層はそのま
ま残っていた。他方上記の露光現像した版を１０秒間の
全面曝光を行なわないで前記の塩基性処理液で１分間浸
漬処理した版を、さらに６０秒間全面曝光したのち、上
記現像液を含ませたハニロンリソノ臂ツドで６分間擦っ
たところ、感光層および該感光層上のシリコーンゴム層
はほとんどすべて支持体から除去されてしまった。すな
わち上記条件では定着は行なわれなかつた。
重合によシ得られるポリヒドロキシフェニルの２−ジア
ゾ−１−ナフトール−５−スルホン酸エステル（米国特
許第５６５５７０９号明細啓中記載の化合物）１０重量
部を、１２０重量部のメチルセロソルブアセテートと６
０重量部のメチルエチルケトン混合溶媒に溶解して得ら
れる感光液を乾燥重量で１ｒ／ｍ２ 塗布し、乾燥した
・次にトーレシリコーン社製のシランカップリング剤５
Ｈ−６０２０（（Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノ
ゾロピルトリメトキシシラン）〕１１重量をキシレン５
００重量部に溶解した溶液をヂ過し、上記感光層上に塗
布し、さらに信越シリコ−ｙＫＥ４１Ｔ（１液型ＲＴＶ
脱酢酸ｆｆ１）？を置部、信越シリコーンに５７０９（
２液型離形用シリコーン）５．６重量部卦よび触媒ＣＡ
Ｔ−ＰＳ（信越化学社製）０．０４重量部をアイツノ４
− Ｑ（Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａ１社製）１５０重
量部に溶解したものを乾燥重量で２１７ｍ２ になるよ
うに塗布した。１００℃で２分間乾燥し、暗所に一晩放
置し、硬化を完了させた。この湿し水不要感光性平版印
刷版上にネガフィルムと富士写真フィルム（株）社製ス
テップタブレットとを密着させ、ＢＴＣＡＳＣＯＲ社製
バキュームプリンターにより３０秒間露光した。この版
をエチルアルコール７５重量部およびアイツノｆ ａ
２５重重部よシなる現像液ヲ含ませたハニロン・リッツ
ぐラド（ハニーファイバー社製）で５分間擦ったところ
、露光部分の感光層およびその上のシリコーンゴム層は
除去され、未露光部非画像部はなんらの変化をうけずシ
リコーンゴム層はそのまま残っていた。また同時に焼付
ケたステップタブレットの６段以上のシリコーンゴムＮ
はそのまま残っていた。上記の製版された版を上記プリ
ンターを用いて１８秒間全面曝光したのち、エチレンジ
アミン１重量部およびエタノール９９重量部から成る塩
基性処理液で１分間浸漬処理し、水洗乾燥した。得られ
た版が十分定着されているかどうかを確認するため、さ
らに上記プリンターにて６０秒間全面曝光したのちエチ
ルアルコール７５重量部およびアイツノ４−Ｇ２５重量
部からなる現像液を含ませたハニロンリソノぞラドで３
分間擦ったところ１版面は全く損傷を受けず、またステ
ップタブレットも６段以上のシリコーンゴム層はそのま
ま残っていた。他方上記の露光現像した版を１０秒間の
全面曝光を行なわないで前記の塩基性処理液で１分間浸
漬処理した版を、さらに６０秒間全面曝光したのち、上
記現像液を含ませたハニロンリソノ臂ツドで６分間擦っ
たところ、感光層および該感光層上のシリコーンゴム層
はほとんどすべて支持体から除去されてしまった。すな
わち上記条件では定着は行なわれなかつた。
実施例２
実施例１の感光液を次の組−成に置き換える以外 。
は全く同様の方法で、湿し水不要平版印刷版を作成した
。即ちアセトンとピロガロールの縮合重合により得られ
るポリビトロキシフェニルの２−ジアゾ−１−ナフトー
ル−５−スルホン酸エステル８．５重量部とエポキシ樹
脂（エビコー）１００７゜シェル石油（株）製）１．５
重量部を１２０ 重量部のメチルセロソルブアセテート
と６ｏ重量部のメチルエチルケトン混合溶媒に溶解し、
感光液を調製した。乾燥後の塗布重量は１ｆ／ｍ２であ
った。
。即ちアセトンとピロガロールの縮合重合により得られ
るポリビトロキシフェニルの２−ジアゾ−１−ナフトー
ル−５−スルホン酸エステル８．５重量部とエポキシ樹
脂（エビコー）１００７゜シェル石油（株）製）１．５
重量部を１２０ 重量部のメチルセロソルブアセテート
と６ｏ重量部のメチルエチルケトン混合溶媒に溶解し、
感光液を調製した。乾燥後の塗布重量は１ｆ／ｍ２であ
った。
次に実施例１と同様な方法で未定着の印刷版を製版した
。防板を実施例１記載のバキュームグリンターを用いて
１０秒間ａ旧全面曝光し、次いでトリエタノールアミン
１０重量部とエタノール９０重量部とから成る塩基性溶
液に１分間浸漬し水洗乾燥した。
。防板を実施例１記載のバキュームグリンターを用いて
１０秒間ａ旧全面曝光し、次いでトリエタノールアミン
１０重量部とエタノール９０重量部とから成る塩基性溶
液に１分間浸漬し水洗乾燥した。
実施例１と同様な方法で定着が行なわれたか否か確認し
たところ、非画像部のシリコーンゴム層は全く損傷を受
けていないことがわかった。す−なわち、非画像部は完
全に定着されていた。
たところ、非画像部のシリコーンゴム層は全く損傷を受
けていないことがわかった。す−なわち、非画像部は完
全に定着されていた。
実施例５
実施例２の感光液のエポキシ樹脂の代りにエポキシ樹脂
（フェノキシ樹１ｉ＝ＩＰＫＨＨユニオンカーバイド社
製）を用い湿し水不要感光性平版即刷版を作成した。こ
れを実施例１と同様の方法で露光・現像し、未定着の刷
版を得た。このようにして得られた刷版を実施例１と同
様の方法で全面曝光し。
（フェノキシ樹１ｉ＝ＩＰＫＨＨユニオンカーバイド社
製）を用い湿し水不要感光性平版即刷版を作成した。こ
れを実施例１と同様の方法で露光・現像し、未定着の刷
版を得た。このようにして得られた刷版を実施例１と同
様の方法で全面曝光し。
次いでベンジルアミン２重量部、エタノール９８重量部
とから成る塩基性溶液に１分間浸漬し定着を完了させた
。得られた刷版を実施例１と同様な試験を行ったところ
非画像部は完全に定着されてｂることかわかった。
とから成る塩基性溶液に１分間浸漬し定着を完了させた
。得られた刷版を実施例１と同様な試験を行ったところ
非画像部は完全に定着されてｂることかわかった。
２、発明の名称 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の
製版法 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 （５２０）富士写真フィルム株式会社５、補正
命令の日付 自 発 ６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 明細書の記載を次のとおり訂正する。
製版法 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 （５２０）富士写真フィルム株式会社５、補正
命令の日付 自 発 ６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 明細書の記載を次のとおり訂正する。
Claims (2)
- （１） 支持体上に、オルトキノンジアジド化合物を含
む感光層およびシリコーンゴム層をこのｌ＠に塗設して
なる感光性平版印刷版を、画像露光および現像処理した
のち、画像露光の際の露光量の５チ以上の露光量となる
ように全面曝光し。 つづいて塩基性化合物で処理することを特徴とする、湿
し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法。 - （２）感光層がエポキシ樹脂を含んで込る。特許請求の
範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59025489A JPS60169852A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法 |
| CA000474189A CA1248388A (en) | 1984-02-14 | 1985-02-13 | Method for making dry planographic printing plate |
| US06/701,289 US4690886A (en) | 1984-02-14 | 1985-02-13 | Method for making negative working O-quinone diazide containing dry planographic printing plate utilizing multiply light exposure, development and basic treatment |
| EP85101635A EP0152114A3 (en) | 1984-02-14 | 1985-02-14 | Method for making a dry planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59025489A JPS60169852A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60169852A true JPS60169852A (ja) | 1985-09-03 |
Family
ID=12167467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59025489A Pending JPS60169852A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版の製版法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4690886A (ja) |
| EP (1) | EP0152114A3 (ja) |
| JP (1) | JPS60169852A (ja) |
| CA (1) | CA1248388A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6313046A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-20 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版の処理方法 |
| JPS6352145A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-05 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷版用現像液 |
| WO1997017634A1 (fr) * | 1995-11-10 | 1997-05-15 | Toray Industries, Inc. | Fluide de traitement pour realiser un plaque lithographie sans eau |
Families Citing this family (8)
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| CA1321315C (en) * | 1986-04-11 | 1993-08-17 | Yoichi Mori | Printing plate |
| US4826752A (en) * | 1986-06-25 | 1989-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry photosensitive lithographic plate comprising a silicon rubber layer containing an aromatic aminosilane |
| US4851508A (en) * | 1986-07-02 | 1989-07-25 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Polyester fibers having high strength and high modulus and process for producing the same |
| DE3731438A1 (de) * | 1987-09-18 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck |
| US5290665A (en) * | 1989-06-01 | 1994-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative |
| GB8920622D0 (en) * | 1989-09-12 | 1989-10-25 | Du Pont | Improvements in or relating to lithographic printing plates |
| US6358671B1 (en) * | 1996-09-18 | 2002-03-19 | Presstek, Inc. | Methods and compositions for imaging and cleaning lithographic printing plates |
| US6503693B1 (en) * | 1999-12-02 | 2003-01-07 | Axcelis Technologies, Inc. | UV assisted chemical modification of photoresist |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL27647C (ja) * | 1930-01-06 | |||
| GB1052699A (ja) * | 1963-12-03 | |||
| GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
| US3635709A (en) * | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
| US3511178A (en) * | 1967-01-06 | 1970-05-12 | Minnesota Mining & Mfg | Printing plate and method |
| US3634082A (en) * | 1967-07-07 | 1972-01-11 | Shipley Co | Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether |
| SU378792A1 (ru) * | 1970-05-22 | 1973-04-18 | Светочувствительный материал12 | |
| JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| US3890149A (en) * | 1973-05-02 | 1975-06-17 | American Can Co | Waterless diazo planographic printing plates with epoxy-silane in undercoat and/or overcoat layers |
| US4093461A (en) * | 1975-07-18 | 1978-06-06 | Gaf Corporation | Positive working thermally stable photoresist composition, article and method of using |
| JPS5353403A (en) * | 1976-10-22 | 1978-05-15 | Asahi Chemical Ind | Original form for press plate and method of producing waterrfree lithographic press plate adopting same |
| GB2034911B (en) * | 1978-10-26 | 1983-02-09 | Toray Industries | Dry planographic printing plate |
| JPS55161244A (en) * | 1979-06-01 | 1980-12-15 | Toray Ind Inc | Lithographic plate not requiring wetting water |
| JPS5680046A (en) * | 1979-12-05 | 1981-07-01 | Toray Ind Inc | Lithographic plate requiring no dampening water and its manufacture |
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-
1984
- 1984-02-14 JP JP59025489A patent/JPS60169852A/ja active Pending
-
1985
- 1985-02-13 US US06/701,289 patent/US4690886A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-02-13 CA CA000474189A patent/CA1248388A/en not_active Expired
- 1985-02-14 EP EP85101635A patent/EP0152114A3/en not_active Withdrawn
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Also Published As
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|---|---|
| CA1248388A (en) | 1989-01-10 |
| EP0152114A2 (en) | 1985-08-21 |
| US4690886A (en) | 1987-09-01 |
| EP0152114A3 (en) | 1987-06-16 |
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