SU378792A1 - Светочувствительный материал12 - Google Patents

Светочувствительный материал12

Info

Publication number
SU378792A1
SU378792A1 SU1442788A SU1442788A SU378792A1 SU 378792 A1 SU378792 A1 SU 378792A1 SU 1442788 A SU1442788 A SU 1442788A SU 1442788 A SU1442788 A SU 1442788A SU 378792 A1 SU378792 A1 SU 378792A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
epoxy
block copolymer
material12
light
sensitive
Prior art date
Application number
SU1442788A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to SU1442788A priority Critical patent/SU378792A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU378792A1 publication Critical patent/SU378792A1/ru

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

Изобретение относитс  к области светочувствительных материалов дл  печатани  способом офсетной и высокой печати.
Известен светочувствительный материал, состо щий из подложки и копировального сло  на основе светочувствительного диазосоединени  - ортохинондиазида и пленкообразующего св зующего новолачной фенолформальдегидной смолы.
Однако применение этого материала не позвол ет получить хорошее качество печатных оттисков, так как копировальный слой известного состава не обеспечивает хорошие защитные и пленкообразующие свойства на печатных формах, и кроме того, печатные формы на основе известного материала не выдерживают требуемых тиражей.
Дл  повышени  тиражеустойчивости печатных форм и улучшени  качества изображени  предлагаетс  светочувствительный материал, состо щий из подложки и копировального сло  на основе хинондиазида и эпоксидноноволачных блоксополимеров, которые преимущественно содержат не более 50% эпоксидной смолы.
Копировальный слой включает эпоксидноноволачные блоксополимеры, содержащие 10-50 вес. ч. эпоксидной смолы и 90- 50 вес. ч. новолачной фенольно-формальдегидной смолы, полученные путем химического
йзаимоДёйстёи  й)( hpn 120° в те 4енйе 14 час и ортохиноДиазиды типа (продукт № 11, № 30 или № 27).
Дл  получений КопироЁалЬного сло  Ортохннондиазиды раствор ют в этилцеллозольве и смешивают с раствором эпоксидно-новолачного блоксополимера в смеси растворителей (диметилформамид, ацетон в соотношеНИИ 1,5:1). Полученный раствор фильтруют через 24 час. Соотношение эпоксидно-новолачного блоксополимера к ортохинондиазиду составл ет 1:1. Концентраци  раствора ортохинондиазида с эпоксидно-новолачным блоксополимером составл ет 8-10%.
Пример. 100 вес. ч. эпоксидно-новолачного блоксополимера (полученного при взаимодействии 30 вес. ч. эпоксидной смолы с
70 вес. ч. новолачной смолы при 120°С в течение 30 мин) раствор ют в 1000 вес. ч. смеси растворителей (диметилформамид: ацетон в соотношении 1,5:1)-раствор I. 100 вес. ч. ортохинондиазида раствор ют в 800 вес. ч.
этилцеллозольва - раствор П.
Полученные растворы I и II сливают, перемешивают в течение 30 мин при комна1тной температуре. Через 24 час раствор фильтруют , получают готО|ВЫЙ светочувствительный
состав.
Светочувствительный состав нанос т на поверхность пластин в центрифуге при вращении 108 об/мин и 40-50°С с последующим высушиванием в течение 10 мин. Высушенпую .пластину экспонируют в копировальной раме ;в течение 12-15 лшн светом дуговых фонарей . Отэкспонированнзю пластину про вл ют в раковине-мойке в течение 4 мин и тщательно промывают, обрабатывают гидрофилизирующим раствором, тщательно зажиривают тинктурой и закатывают краской. После чего промывают, обрабатывают 5%-ной серной кислотой и снова промывают, корректируют и покрывают защитным слоем.
Готовую форму выдерживают в сушильном шкафу при 50°С в течение 5 мин.
Предмет изобретени 

Claims (2)

1.Светочувствительный материал, состо щий из подлол ки и копировального сло  на
основе светочувствительного диазосоединенн -хинондиазида и пленкообразующего св зующего , отличающийс  тем, что, с целью повышени  тиражеустойчивости печатных форм и улучшени  качества изображени , в
качестве пленкообразующего св зующего применен эпоксидно-новолачный блоксополимер .
2.Материал по п. 1, отличающийс  тем, что применен эпоксидно-новолачный блоксополимер , содержащий не более 50% эпоксидной смолы.
SU1442788A 1970-05-22 1970-05-22 Светочувствительный материал12 SU378792A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1442788A SU378792A1 (ru) 1970-05-22 1970-05-22 Светочувствительный материал12

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1442788A SU378792A1 (ru) 1970-05-22 1970-05-22 Светочувствительный материал12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU378792A1 true SU378792A1 (ru) 1973-04-18

Family

ID=20453400

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1442788A SU378792A1 (ru) 1970-05-22 1970-05-22 Светочувствительный материал12

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU378792A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4690886A (en) * 1984-02-14 1987-09-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for making negative working O-quinone diazide containing dry planographic printing plate utilizing multiply light exposure, development and basic treatment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4690886A (en) * 1984-02-14 1987-09-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for making negative working O-quinone diazide containing dry planographic printing plate utilizing multiply light exposure, development and basic treatment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3634082A (en) Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether
US3785825A (en) Light-sensitive quinone diazide compounds,compositions,and presensitized lithographic plate
US3130048A (en) Presensitized printing plates comprising naphthoquinone-1, 2-diazide reproduction layrs
US3219447A (en) Material for the photo mechanical manufacture of printing plates and method for converting the same into printing plates
JPS623411B2 (ru)
JPS6358440A (ja) 感光性組成物
JPS561044A (en) Photosensitive composition
US3416922A (en) Resinous printing plate compositions containing light-sensitive nitrones
US3235384A (en) Reproduction layers for planographic and offset printing plates
JPS55527A (en) Photosensitive planographic plate
US3640992A (en) Naphthoquinone diazide sulfonic acid ester
US3179518A (en) Presensitized printing foil having as a coating thereon a light-sensitive diazo compound with polyvinyl phosphonic acid
US4758497A (en) Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds
IE903222A1 (en) Radiation sensitive compositions
US4618562A (en) Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor
US3230087A (en) Light-sensitive polymeric diazonium and azidoacrylamido reproduction materials and process for making plates therefrom
DE1097273B (de) o-Chinondiazide enthaltende Kopierschichten fuer Flachdruckformen
US5380618A (en) Micropattern-forming material having a low molecular weight novolak resin, a quinone diazide sulfonyl ester and a solvent
SU378792A1 (ru) Светочувствительный материал12
DE1053930B (de) Lichtempfindliches Material fuer die Herstellung von Druckplatten auf photomechanischem Wege
GB997170A (en) Photographic process using cynine dye bases
US5213930A (en) Electrophotographic lithograph printing plate material having a mixture of sensitizing dyes
GB2029592A (en) Storage stable lithographic printing plates
DE2151068A1 (de) Photolackzusammensetzung
US6420087B1 (en) Direct positive lithographic plate