DE3017696A1

DE3017696A1 - Lichtempfindliches bilderzeugungsmaterial

Info

Publication number: DE3017696A1
Application number: DE19803017696
Authority: DE
Inventors: Tetsuo Ishihara; Keizi Kubo
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1979-05-11
Filing date: 1980-05-08
Publication date: 1980-11-13
Also published as: US4307172A; JPS55164647U

Description

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial (Abbildungsmaterial), das in großem Umfange für graphische Zeichnungen (Muster), für die Herstellung von Druckvorlagen und für die Herstellung von Druckplatten verwendet werden kann; sie betrifft insbesondere ein Bilderzeugungsmaterial (Abbildungsmaterial) mit einer Dreischichtenstruktur aus einem transparenten Substrat, einer ein alkohollösliches Polyamid enthaltenden Polyamidschicht und einer lichtempfindlichen Photoresistschicht.

Ein Bilderzeugungsmaterial mit dem vorstehend angegebenen DreiSchichtenaufbau ist bereits aus der japanischen Offenlegungsschrift 116 303/77 bekannt. In einem solchen Bilderzeugungsmaterial wird ein Bild erzeugt durch Belichten und anschließendes Entwickeln und Ätzen, wobei diese Arbeitsgänge nacheinander durchgeführt werden. Bezüglich der Bilderzeugung unter Anwendung dieser Verfahrensschritte wurde in den japanischen Patentanmeldungen 35 210/79 und 27 522/79 ein verbessertes Verfahren vorgeschlagen, bei dem die Entwicklung und die Ätzung gleichzeitig mit einer Behandlungslösung durchgeführt werden.

Bei diesen konventionellen HLderzeugungsverfahren treten jedoch Probleme auf, die in der Praxis gelöst werden müssen, wie z.B. ein unzureichender Spielraum bei der Ätzung, eine ungenügende Schärfe des erzeugten Bildes (ungenügender Spielraum bei der Entwicklung) und eine unzureichende mechanische Festigkeit des erzeugten Bildes.

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Unter verschiedenen Gesichtspunkten wurden nun umfangreiche Versuche durchgeführt in dem Bestreben, diese Probleme zu lösen, beispielsweise in bezug auf die Behändlungslösung zur Erzeugung von Bildern nach dem vorstehend erwähnten Verfahrensvorschlag. Im Zuge dieser Untersuchungen wurde beispielsweise eine lichtempfindliche Photofesist-Zubereitung bzw. -Masse gefunden, die in den japanischen Patentanmeldungen 31 579/79, 38 092/79, 38 093/79 und 36 370/79 beschrieben ist.

Bei weiteren Untersuchungen wurde jedoch festgestellt, daß bei dem Bilderzeugungsmaterial des vorstehend beschriebenen Typs die Lösung der obengenannten Probleme von der Dicke der lichtempfindlichen Photoresistschicht und der Polyamidschicht stark beeinflußt wird.

Erfindungsgemäß wurde nun gefunden,, daß ein lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial· mit einem Dreischichtenaufbau aus einem transparenten Substrat, einer: Polyamidschicht (i), die als Hauptkomponente ein alkoho^osliches Polyamid enthält und eine Dicke von 2 bis 11 pn aufweist, und einer lichtempfindlichen Photoresistschicht (H) einer Dicke von 0>5 bis 5 pm in beaig auf die Entwicklungseigenschaften, die Ätzeigenschaften, die irechahiSi he Festigkeit des erzeugten Bildes und die Opazität .'. (Ondurchlässigkeit) für aktinische Strahlung sehr ausgewogen ist und ein ausgezeichnetes Bilderzeugungsmaterial (Abbildungsmaterial) darstellt.

Gemäß einem Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein

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lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es auf einem transparenten Substrat die beiden folgenden Schichten (i) und (II) aufweist:

(I) Eine Polyamidschicht, die als Hauptkomponente ein alkohollösliches Polyamid enthält und eine Dicke von 2 bis 11 um aufweist, und

(II) eine lichtempfindliche Photoresistschicht einer Dicke von 0,5 bis 5 tun, die auf die Polyamidschicht aufgebracht ist.

Gegenstand der Erfindung ist insbesondere ein lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial (Abbildungsmaterial) aus einem transparenten Substrat, einer Polyamidschicht (i), die als Hauptkomponente ein alkohollösliches Polyamid enthält und eine Dicke von 2 bis 11 um aufweist, und einer lichtempfindlichen Photoresistschicht (il) einer Dicke von 0,5 bis 5 um.

Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung näher erläutert.

Die beiliegende Zeichnung zeigt den Querschnitt einer Ausfiihrungsform des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Bilderzeugungsmaterials, wobei die Bezugsziffern 1, 2 und 3 jeweils ein transparentes Substrat, eine Polyamidschicht und eine lichtempfindliche Photoresistschicht darstellen.

Als transparentes Substrat können erfindungsgemäß beispielsweise Folien bzw. Platten und Filme aus Polymeren, wie Polyäthylenterephthalat, Polypropylen, Polystyrol,

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Polycarbonat und Celluloseacetat, sowie Glasplatten verwendet werden.

Erfindungsgemäß wird die alkohollösliche Polyamidschicht •gebildet als eine Schicht, die. als für optische Strahlung undurchlässige (opake) Schicht wirkt. Zur Herstellung der alkohollösliehen Polyamidschicht können bekannte alkohollösliche Polyamide, wie z.B. Copolymer-Nylons, wie Nylon 6/66, Nylon 6/66/610, Nylon 6/66/610/612 und Nylon 6/66/12 sowie Ή-Alkoxyalkyl- und andere Derivate von Polyamiden verwendet werden. In den N-Alkoxyalkyl-Derivaten von Polyamiden enthält jede der Alkoxy- und Alkylgruppen vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome und der Alkoxyalkylierungsgrad beträgt in der Regel IO bis 40 %, vorzugsweise 15 bis 35 %. Wenn der Alkoxyalkylierungsgrad weniger als 10 % beträgt, ist die Stabilität der Lösung des N-Alkoxyalkylpolyamids gering und es tritt leicht eine Gelierung auf. Tfenn der Alkoxyalkylierungsgrad 40 % übersteigt, ist das Alkoxyalkylpolyamid sehr weich und klebrig und die Festigkeit des daraus resultierenden Überzugsfilms ist gering und desTialb ist die Verwendung eines solchen AIkoxyalkylpolyamids nicht bevorzugt.

Diese iPolyamide können in Form einer Mischung von 2 oder mehreren verwendet werden und eine lüschung aus einem Copolymer-Nylon und feinem N-Alkoxyalky !polyamid ist bevorzugt. In dieser Mischung beträgt der Gehalt an N-AIkoxy.alky!polyamid mindestens 40 Gew.-% und weniger als 100 Gew.-%_fund vom Standpunkt der Filmfestigkeit, der . Trüb'ungseigenschaftenj der Ätzeigenschaften und der Blok-

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kierungseigenschaften beim Herstellungsverfahren aus betrachtet beträgt der Gehalt an N-Alkoxyalkylpolyamid vorzugsweise 50 bis 90 Gew.-%.

Bevorzugt ist ferner die Verwendung einer Mischung aus dem obengenannten N-Alkoxyalkylpolyamid und einem Celluloseesterderivat, wie Cellulosenitrat, Celluloseacetatpropionat, Celluloseacetatbutyrat oder Cellulosepropionat, In dieser Mischung wird der Gehalt an dem N-Alkoxyalkylpolyamid auf einen Wert innerhalb des Bereiches von 80 bis 99,9 Gew.-% eingestellt.

Der Polyamidschicht kann ein Farbstoff oder ein Pigment zugesetzt werden. Ein öllöslicher Farbstoff ist bevorzugt. Beispiele für solche Farbstoffe oder Pigmente sind Neozapon Red GE (hergestellt von der Fa. BASF), Varifast Red No. 3306 (hergestellt von der Fa. Orient Kagaku), Spilon Orange GRM (hergestellt von der Fa. Hodogaya Kagaku), WDR-3 und Lithol Toner Light (hergestellt von der Fa. Holland Color & Chemical). Der Farbstoff oder das Pigment wird vorzugsweise in einer Menge von 15 bis 30 Gew.-% zugesetzt. Die Polyamid schicht wirkt auch als für aktinische Strahlung undurchlässige (opake) Schicht. Wenn es erwünscht ist, eine ausreichende Opazität (Undurch- ; lässigkeit) für aktinische Strahlung zu erzielen, wird der Gehalt an Farbstoff oder Pigment relativ erhöht. Ausserdem ist es bevorzugt, einen Farbstoff oder ein Pigment mit einer hohen Kompatibilität (Verträglichkeit) mit dem alkohollösliehen Polyamid zu verwenden.

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Erfindungsgemäß ist es unerläßlich, daß die Dicke der Polyatnidschicht 2 bis 11 um, vorzugsweise 4 bis 10 um beträgt. Vom Standpunkt der Ätzgeschwindigkeit und der Bildschärfe aus betrachtet ist eine geringere Dicke der Polyamidschicht bevorzugt, wenn jedoch die Dicke der Polyamidschicht weniger als 2 um beträgt, ist das Abziehen (Abschälen) eines ein Bild tragenden Teils von dem Substrat schwierig und zur Erzielung einer ausreichenden Opazität (^durchlässigkeit) für dtinische Strahlung ist es erforderlich, den Farbstoff oder das Pigment in einer grossen Menge zu verwenden, was zu einer Abnahme der Adhäsion führt. Vom Standpunkt der mechanischen Festigkeit des erzeugten Bildes und der Opazität (Undurchlässigkeit) für aktinische Strahlung aus betrachtet ist eine größere Dikke der Polyamidschicht bevorzugt, wenn jedoch die Dicke 11 um überschreitet, ist für die Durchführung der Ätzbehandlung ein langer Zeitraum erforderlich und die Bildschärfe nimmt ab und es können keine guten Ergebnisse erzielt werden. .

Zusätzlich zu dem obengenannten Farbstoff oder Pigment können verschiedene Zusätze der Polyamidschicht zugegeben werden. Beispielsweise können Zusätze, wie Weichmacher, Antioxidationsmittel, Antistatikmittel, Ültraviolett-Absorptionsmittel, thermische Stabilisatoren und organische und anorganische Gleitmittel, je nach Bedarf in geringen Mengen zugegeben werden.

Die lichtempfindliche Photoresistschicht enthält eine bekannte Verbindung, wie z.B. eine o-Chinondiazid-Verbin-

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dung, eine Azld-Verbindung oder eine Diazo-Verbindung, oder zur Herstellung der lichtempfindlichen Fhotoresistschicht kann eine lichtempfindliche Zubereitung bzw. Zusammensetzung verwendet werden, wie sie in den obengenannten japanischen Patentpublikationen 31 579/79, 38 029/79 und 36 370/79 vorgeschlagen worden ist. Vom Standpunkt der Entwicklungseigenschaften aus betrachtet ist eine geringere Dicke.der lichtempfindlichen Photoresistschicht bevorzugt, vom Standpunkt der Filmfestigkeit und Leichtigkeit der Durchführung der Beschichtung aus betrachtet ist es jedoch bevorzugt, daß die Dicke der lichtempfindlichen Photoresistschicht 0,5 bis 5 pm beträgt. Di« lichtempfindliche Photoresistschicht wird nachfolgend näher beschrieben.

Die lichtempfindliche Photoresistschicht wird hergestellt aus einer lichtempfindlichen Photoresist-Masse bzw. -Zubereitung. Als lichtempfindliches Mittel, das für die Herstellung der licHempfindlichen Photoresist^Zubereitung bzw. -Masse verwendet werden kann, können beispielsweise eingesetzt werden: Azidverbindungen, o-Chinon-Diazidverbindungen und in einem organischen Lösungsmittel lösliche Diazoverbindungen, wie in "Light-Sensitive Systems", Seiten 321 bis 352, von Jaromir Kosar, publiziert von John Wiley & Sons Incorporated, beschrieben. Nachfolgend werden einige typische derartige Verbindungen angegeben, die Erfindung ist jedoch keineswegs auf die Verwendung dieser Verbindungen beschränkt.

4₉4^I-

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- ίο -

oxy-^V-diazidodiphenyl, A^'-Diazidostllben, 4,4'-Diazidochalcon, 2,6-Dl-(4'-azidobenzal)cyclohexanon und 1-Azldopyren. .

o-Chlnondlazld-Verblndungen^ Ester der 1,2-Bensochinondiazido-(2)-4-«ulfonsäure, 1,2-Naphthochinon-diazido-(2)-4-sulfonsäure und l,2-Naphthochinon-diazido-(2)-5-sulfonsäure mit Phenol-Formaldehyd-Harzen und Ester der 1,2-Benzochlnon-dlazldo-(2)-4-sulfonsäure, 1,2-Napht hochlnon-diazido-(2)-4-sulfonsäure und 1,2-Naptth)chinondiazido-(2)-5-sulfonsäure mit Polyhydroxyphenol und 2,3,-4-Trlhydroxybenzophenon·

Dlazido-Verblndungem Reaktionsprodukte von p-Diazidodlphenylamln/Formaldehyd-Kondensatei mit p-Toluolsulfonsäure und 2-Hydroxy-4-metho3«ybenzophenon-5-sulfonsäure·

Diese Verbindungen können einzeln verwendet werden, zur Erhöhung der mechanischen Festigkeit des erzeugten Bildes und zur Verbesserung der Filmbildungseigenschaften werden diese Verbindungen jedoch vorzugsweise in Form von Mischungen mit alkalilöslichen Phenol-Formaldehyd-Harzen, Styrol/Maleinsäureanhydrid-Harzen und anderen Harzen verwendet.

Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen und Vergleichsbeispielen näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.

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3Q17696 - li -

Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 und 2

Die nachfolgend angegebene Beschichtungsmasse wurde in Form einer Schicht in der in der weiter unten folgenden Tabelle I angegebenen Dicke auf einen biaxial orientierten Polyäthylenterephthalat (PET>Film aufgebracht zur Herstellung einer Polyamidschicht.

Beschichtungsmasse

N-methoxyliertes Nylon 6 7 Gew.-Teile

alkohollösliches 6/66/610 Copolymer-

Nylon 3 Gew.-Teile

Farbstoff (Neozapon Red GE/Neozapon

Orange RE = 3:1) variabel (geändert in

Abhängigkeit von der Dicke der Polyaminschicht)

Methanol 70 Gew.-Teile

Toluol 20 Gew.-Teile

Dann wurde eine lichtempfindliche positive Beschichtungslösung mit der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung hergestellt, filtriert und in Form einer Schicht in einer Dicke von etwa 3 um auf die erhaltene Polyamidschicht aufgebracht zur Herstellung einer lichtempfindlichen Photoresistschicht.

Lichtempfindliche positive Beschichtungslösung

Alkalilösliches Kresol-Novolak-Harz 10 Gew.-Teile

l,2-Naphthochinon-diazido-(2)-5-sulfonylchlorid/alkalilösliches Phenol-Novolak-HaraKondensat. 5 Gew.-Teile

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Methyläthylketon/Äthylcellosolveacetat/Butylacetat (6:3:1) 100 Gew.-Teile

Das dabei erhaltene lichtempfindliche Bilderzeugungsmaterial wurde mit einer 2 KW Superhochdruck-Quecksilberlampe in einem Abstand von 1 tn 2 Minuten lang durch einen N.egativ r Film bildmäßig belichtet. Das belichtete lichtempfindliche Material wurde entwickelt durch Behandlung mit einer 4 %-igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung in eLner Schale bei 25 C und die belichteten Bereiche wurden aus der lichtempfindlichen Photoresistschicht entfernt. Nach dem Entwickeln wurde das lichtempfindliche Material 30 Sekunden lang mit fließendem Wasser gespült und dann getrocknet. Das entwickelte lichtempfindliche Bilderzeugungsmaterial, das resistfreie Flächen aufwies, wurde mit absorbierender Baumwolle, die mit einer Ätzlösung imprägniert war, die aus einer wäßrigen Lösung mit 20 Gew.-% Natriumtoluolsulfonat bestand, leicht gerieben. Durch diese Behandlung wurde die Polyamidschicht in den offenen Bildbereichen der Photoresist schicht von dem PET-FiIm vollständig entfernt. Der BelichtungsSpielraum der Photoresistschicht, der Ätzspielraum der Polyamidschicht und die Qualität des dabei erhaltenen^ ein Bild tragenden Materials wurden bewertet_r wobei die in der folgenden Tabelle I angegebenen Ergebnisse erhalten wurden.

Zum Vergleich würde ein lichtempfindliches Vergleichs-Bilderzeugungsmaterial mit einer Polyamidschicht mit einer Dicke außerhalb des oben angegebenen erfindungsgemässen Bereiches hergestellt und auf die gleiche Weise wie

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oben angegeben bewertet. Die dabei erhaltenen Ergebnisse sind ebenfalls in der folgenden Tabelle I angegeben.

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	Prob©	Dicke der Photore-	Polvatiiidschicht Dicke Farb-	stoff menge (Gew.-Teile)	Tabelle I	Entwick- Lunker- lungsge- bildung schwind ig*' keit	keine .	Bewertung der schicht	gut	Polyamid-
		sistschicht	(pm) I	4		gut	keine	Ätzge- Haftung schwin- an PET digkeit	gut	Film- Rand festig- ätzung keit
	Beisp.	1 3-4	4-5	3,5	Bewertung der Photore sist schicht	gut	keine	gut	gut	. gut gering
O co ο	Beisp.	2 3-4	5-6	2	Beschich- tungsei genschaf ten	gut	keine keine	gut		gut gering
O	Beisp.	3: 3-4	8-9	10 15	gut	gut gut		gut	gut gering
CD	Vgl. Beisp. Vgl. ßeisp.	ι ³-⁴ 2 ³"⁴	1-2 12-13	gut		zu hoch zu hoch	gering gering stark gut gut stark
0935			. gut
		gut gut

SI. cn

Wie aus den Ergebnissen der vorstehenden Tabelle I hervorgeht, waren die gemäß den Beispielen 1 bis 3 hergestellten erfindungsgeraäßen Bilderzeugungsmaterialien frei von Defekten und es wurde gefunden, daß aus diesen Materialien hergestellte, ein Bild tragende Materialien wertvolle Vorlagen (Muster) für die Herstellung von Druckplatten waren.

Beispiele 4 und 5 und Vergleichsbeispiele 3 und 4

Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 angegeben wurde eine Polyamidschicht hergestellt, wobei diesmal jedoch kein Farbstoff zugegeben wurde, und es wurde die gleiche positive Photoresist-Zubereitung wie in den Beispielen 1 bis 3 in Form einerSchicht in der in der nachfolgenden Tabelle II angegebenen Dicke auf die Polyamidschicht aufgebracht. Das dabei erhaltene Bilderzeugungsmaterial wurde wie in den Beispielen 1 bis 3 angegeben entwickelt, geätzt und bewertet, wobei die in der Tabelle II angegebenen Ergebnisse erhalten wurden.

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Probe Dicke der Dicke der
Photore- Polyamidsist schicht schicht

Tabelle II

Bewertung der Photoresist-

schicht

Beschich- Entwick- Lunkertungseilungsgebildung genschaf- schwindigten keit

Bewertung der Polyamidschicht

Ätzge- Haftung Film·* Randschwinan PET festig- ätzung digkeit keit

ö CD CD ■C-	Beisp.4 Beisp.5	2 3-4	8-9 8-9	gut ^l gut	gut gut	keine keine	gut gut	gut gut	gut gut	gering gering	I
0/9	Vgl. Beisp.3	<0,5	8-9	schlecht	zu hoch	festgestellt	gut	gut	gut	gering	σι ■
cn	Vgl. Beisp.4	7-8	9-9	gut	zu gering	keine	gut	gut	gut	gering

CJ) CD

Beispiel 6

Eine lichtempfindliche Photoresist-Zubereitung mit der nachfolgend angegebenen Zusammensetzung wurde in Form einer Schicht in einer Dicke von etwa 3 pn auf die gleiche Polyamidschicht wie in Beispiel 3 aufgebracht zur Herstellung einer Photoresistschicht vom negativ arbeitenden Typ.

Lichtempfindliche Photoresist-Zubereitung

Alkalilösliches Phenol-Novolak-Harz 10 Gew.-Teile 2,6-Di-(4'-azidobenzal)cyclohexanon 2 Gew.-Teile

Äthylcellosolveacetat/Methyläthylketon/-

Toluol (2:1:1) 100 Gew.-Teile

Das dabei erhaltene Bilderzeugungsmaterial wurde mit einer 2 KW-Superhochdruck-Quecksilberlampe in einem Abstand von 1 m 2 Minuten lang durch einen Positivfilm bildmäßig belichtet und mit einer 0,3 %-igen wäßrigen Natriumhydroxidlösung entwickelt zur Entfernung der Photoresistschicht von den unbelichteten Bereichen. Nach der Entwicklung wurde das Bilderzeugungsmaterial 30 Minuten lang mit fließendem Wasser gespült und getrocknet.

Das Photoresistmaterial—freie Flächen aufweisende entwickelte Bilderzeugungsmaterial wurde mit absorbierender Baumwolle, die mit der gleichen Ätzlösung wie sie in den Beispielen 1 bis 3 verwendet worden war, imprägniert war, leicht gerieben, wodurch die Polyamidschicht in den offenen Bildflächen der Photoresistschicht von dem Polyesterfilm entfernt wurde. Das dabei erhaltene, ein Bild

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tragende Material war ausgezeichnet und frei von Defekten.

Wenn die Dicke der Photoresistschicht so geändert wurde, daß sie den in dem Vergleichsbeispiel 3 oder 4 angegebenen Wert hatte, waren die erzielten Ergebnisse ebenso schlecht wie in dem Vergleichsbeispiel 3 oder 4.

Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch für den Fachmann sdbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.

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Claims

PATENTANWÄLTE A. GRÜNECKER

H. KINKEUDEY

DR-ING

W. STOCKMAIR

DA-ING-AaE (CALTECH)

K. SCHUMANN

DR RER NAT.- 00"L-PHYS

P. H. JAKOB

OfPl_-ING

G. BEZOLD

DR BER NAT· OCPL-CHEM.

β MÜNCHEN

MAXIMIUANSTRASSS

P 15 049

a. Mai 1980

Daicel Chemical Industries, Ltd.

1, Teppocho, Sakai-shi, Osaka, Japan

Lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial Patentansprüche

1. Lichtempfindliches Bilderzeugungsmaterial, dadurch g e kennzeichnet, daß es auf einem transparenten Substrat die folgenden beiden Schichten (i) und (II) aufweist:

(i) Eine Polyamidschicht, die als Hauptkomponente ein alkohollösliches Polyamid enthält und eine Dicke von 2 bis 11 um aufweist, und

(II) eine auf die Polyamidschicht (I) aufgebrachte licht empfindliche Photoresistschicht einer Dicke von 0,5 bis 5 um.

2, Bilderzeugungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Polyamidschicht (I) innerhalb

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TELEFON (OSS) 22 28 82

TELEX O0-2OSBO

TELEQRAMME MÖNÄPAT

TELEKOPtERER

des Bereiches von 4 bis IO um liegt.

3. Bilderzeugungsmäterial nach Anspruch L und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Polyaraidschicht (I) enthält oder besteht aus einem Copolyamid und einem N-Alkoxyalkylpolyamid. -

4. BilderzeugungsmateriaL nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Polyamidschicht (I) zusätzlich einen öllöslichen Farbstoff enthält.

5. Bilderzeugungsmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem transparenten Substrat um eine Folie oder einen Film aus einem Polymeren, ausgewählt aus der Gruppe Polyäthylenterephthalat, Polypropylen, Polystyrol, Polycarbonat und Celluloseacetat, handelt, und daß es sich bei dem Polyamid um mindestens einen Vertreter aus der Gruppe Nylon 6/66, Nylon 6/66/610, Nylon 6/66/61/612 und Nylon 6/66/12 und der N-AlkoxyalkyIderivate dieser Nylons, worin die Alkoxy- und Alkylgruppen jeweils 1 bis 8 Kohlenstoffatome aufweisen, handelt.

6. Bilderzeugungsmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Polyamidschicht hergestellt wurde aus einem N-Alkoxyalkylpolyamid mit jeweils 1 bis 8 Kohlenstoffatomen in den Alkoxy- und Alkylgruppen und einem Cellulosederivat,

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