DE2757056A1 - Photosensitive masse fuer die herstellung photographischer aufzeichnungsmaterialien - Google Patents
Photosensitive masse fuer die herstellung photographischer aufzeichnungsmaterialienInfo
- Publication number
- DE2757056A1 DE2757056A1 DE19772757056 DE2757056A DE2757056A1 DE 2757056 A1 DE2757056 A1 DE 2757056A1 DE 19772757056 DE19772757056 DE 19772757056 DE 2757056 A DE2757056 A DE 2757056A DE 2757056 A1 DE2757056 A1 DE 2757056A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photosensitive
- compound
- photosensitive composition
- phenolic
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- -1 aromatic azido compound Chemical class 0.000 claims description 25
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 8
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 3-Pentadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 5
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 3,4-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 3
- KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-xylenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C)=C1 KUFFULVDNCHOFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 2-hexylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 4-Dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 claims description 2
- YUDRVAHLXDBKSR-UHFFFAOYSA-N [CH]1CCCCC1 Chemical compound [CH]1CCCCC1 YUDRVAHLXDBKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 claims description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 1
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 25
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- BMNGOGRNWBJJKB-UHFFFAOYSA-N 1-azidopyrene Chemical compound C1=C2C(N=[N+]=[N-])=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 BMNGOGRNWBJJKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KVVSCMOUFCNCGX-UHFFFAOYSA-N cardol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC(O)=CC(O)=C1 KVVSCMOUFCNCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 11',12',14',15'-Tetradehydro(Z,Z-)-3-(8-Pentadecenyl)phenol Natural products OC1=CC=CC(CCCCCCCC=CCC=CCC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 3-Delta8-pentadecenylphenol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N Cardanol Chemical compound OC1=CC=CC(CCCCCCC\C=C/C\C=C/CC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N 0.000 description 3
- FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N Cardanoldiene Natural products CCCC=CCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- UFMJCOLGRWKUKO-UHFFFAOYSA-N cardol diene Natural products CCCC=CCC=CCCCCCCCC1=CC(O)=CC(O)=C1 UFMJCOLGRWKUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N p-tert-Amylphenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 1-azido-4-[(e)-2-(4-azidophenyl)ethenyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPVUUNHKRMVXML-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 CPVUUNHKRMVXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000226021 Anacardium occidentale Species 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 241000577395 Thenus Species 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000020226 cashew nut Nutrition 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010466 nut oil Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- XDZUKIGDGNQFBD-UHFFFAOYSA-N phenol;4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 XDZUKIGDGNQFBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 235000013904 zinc acetate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08G8/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
- C08G8/08—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
- C08G8/24—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ with mixtures of two or more phenols which are not covered by only one of the groups C08G8/10 - C08G8/20
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08L61/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine photosensitive Masse für die Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien und Photoresistschichten mit mindestens einer aromatischen Azidoverbindung und
mindestens einem in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslichen Polymeren, hergestellt durch Kondensation von Formaldehyd und
einer phenolischen Komponente in Gegenwart eines sauren Katalysators.
Die erfindungsgemäßen photosensitiven Massen lassen sich durch Bestrahlung mit aktinischer Strahlung härten, und zwar zu Produkten,
die eine sehr hohe Widerstandsfähigkeit gegenüber wäßrigen alkalischen Lösungen aufweisen.
Es ist allgemein bekannt, daß sich photosensitive Massen mit
einer aromatischen Azidoverbindung und einer vergleichsweise hoch molekularen Verbindung mit einem phenolischen Hydroxylrest,
z.B. einem Phenpl-Novolakharz und einem Kresol-Novolakharz mit einem vergleichsweise geringen Molekulargewicht, das in wäßrigen
alkalischen Lösungen löslich ist, zur Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien, und zwar lithographischer Aufzeichnungsmaterialien oder Aufzeichnungsmaterialien für den Flachdruck,
für den Reliefdruck oder Intagliodruck oder zur Herstellung von Photoresistmaterialien zum Atzen eines Metallgegenstandes oder
einer Metallplatte nach einer Bildvorlage eignen.
Seit jüngster Zeit ist des weiteren bekannt, daß lineare Vinylpolymere mit Hydroxylgruppen, beispielsweise Hydroxypolystyrole
als Komponente für photosensitive Massen für die Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien des angegebenen Typs
verwendet werden können. Die bekannten Beschichtungsmassen lassen
sich auf die Oberfläche eines Trägers auftragen, worauf die erzeugte Schicht bildweise belichtet und mit einer Entwicklungsflüssigkeit, beispielsweise einer wäßrigen alkalischen Lösung
entwickelt wird, wobei die nicht exponierten Teile der Schicht entfernt werden.
Nachteilig an den bekannten photosensitiven Massen ist jedoch,
die Unterschiede in der Löslichkeit in der alkalischen Entwicklungsflüssigkeit zwischen den exponierten Bereichen und den nicht exponierten Bereichen der photosensitiven Schicht vergleichsweise gering
sind, weshalb es schwierig ist, den Entwicklungsprozeß derart zu steuern, daß einwandfrei entwickelte Bilder erhalten werden. Es
hat sich gazeigt, daß insbesondere in den Fällen, in denen die
aus den photosensitiven Massen erzeugte Schicht kontinuierlich antwickelt wird, Probleme bei der Entwicklung auftreten, da die
Konzentration Jes Alkalis in der Entwicklungsflüssigkeit und die Entwicklungsdauer genau auf vorbestimmte Werte eingestellt sein
sollen. Des weiteren haben die unter Verwendung der bekannten photosensitiven Massen hergestellten Druckplatten den Nachteil,
daß ihre Fett-Empfindlichkeit gegenüber Druckfarbe vergleichsweise
gering ist.
Aus der japanischen Patentanmeldung 48-43284 ist eine photosensitive Masse mit einer Azidoverbindung und einem Kondensationspolymeren aus Cardanol, Anacardol oder Cardol bekannt, das aus Cashew-Nußöl, Phenol und Formaldehyd gewonnen wird. Die aus der japanischen
Patentanmeldung bekannten photosensitiven Massen weisen an sich eine gute Photosensitiv!tat auf. Bei den erwähnten Verbindungen
Cardanol, Anacardol und Cardol handelt es sich um Phenolderivate mit einem Alkenylrest in Form einer Seitenkette mit 15 C-Atomen
und einer oder mehreren Doppelbindungen. Infolgedessen weisen Novolak-Harze mit deratigen Phenolderivaten aufgrund der hohen
Reaktivität der Doppelbindung in der Seitenkette die Eigenschaft
der leichten Photohärtung auf. Nachteilig an den bekannten photosensitiven Massen »it de« beschriebenen Νονόlak-Harz-Typ ist jedoch,
daß die Massen die Tendenz haben, bei der längeren Aufbewahrung QualitätseinbuAen zu erleiden, und zwar aufgrund der hohen
Reaktionsfähigkeit der Doppelbindung. Infolgedessen nimmt die Löslichkeit der photosensitiven Schicht in wäßrigen alkalischen
Lösungen ab, wenn derartige photosensitive Massen auf einen Träger
aufgetragen werden und das beschichtete Material eine längere Zeitspanne lang aufbewahrt wird. Infolgedessen ist die Zeitspanne,
die zur vollständigen Lösung der nicht exponierten Bezirke der
•o*m/§i?t
photosensitiven Schicht orforderlich ist, unerwünscht lang, wenn
das Aufzeichnungsmaterial nach seiner Herstellung eine vergleichsweise längere Zeitspanne aufbewahrt worden ist. Wird somit 3in
Aufzeichnungsmaterial des beschriebenen Typs über eine länger?
Zeitspanne hinweg aufbewahrt, so wird der Unterschied in der Löslichkeit in wäßrigen alkalischen Lösungen zwischen den exponierten
Bereichen und den nicht axponierten Bereichen der Schicht derart vermindert, daß die photosensitive Schicht praktisch nicht mehr
verwendbar ist.
Gegenstand der Erfindung ist ss sine photosensitive Beschichtungsmasse anzugeben, die sich in ein gehärtetes Harz mit einer sehr
hohen Widerstandsfähigkeit gegenüber wäßrigen alkalischen Lösungen überführen läßt, wenn sie eine kurze Zeitspanne lang mit aktinischer Strahlung belichtet wird, und die sich des weiteren leicht
und schnell entwickeln läßt.-Des weiteren sollte eine photosensitive Masse angegeben werden, die durch eine besonders hohe Stabilität bezüglich ihrer Lichtempfindlichkeitseigenschaften und Entwicklungseigenschaften auch nach längerer Lagerung gekennzeichnet
ist. Schließlich sollten sich mit einer erfindungsgemäßen photosensitiven Masse des weiteren Druckplatten herstellen lassen, die
durch eine besonders vorteilhafte Druckfarbenerapfindlichkeit gekennzeichnet sind.
Gegenstand der Erfindung ist eine photosensitive Masse für die
Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien und Photoresistschichten mit mindestens einer aromatischen Azidoverbindung
und mindestens einem in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslichen Polymeren, hergestellt durch Kondensation von Formaldehyd und
einer phenolischen Koeponente in Gegenwart eines sauren Katalyse^
tors, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie ein in wäßrigen alkalischen Lösungen lösliches Polymer enthält, das hergestellt wurde
durch Kondensation von Formaldehyd, einer phenolischen Verbindung der Formel (I):
(D
809643/0171
in der R1 Tür einsn WasserstoffatOLi oder sinen Methylrest steht
und mindestens sinar phsnolisehen Verbindung der folgenden Formel (II)
und (III) :
OK (II)
R.
OH
(III)
worin bedeuten:
R, und R.
einen Alkylrest mit 3 bis 15 C-Atomen, einen Phenylrest oder einen Cyclohexylrest und
jeweils einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen
in Gegenwart eines sauren Katalysators.
Das in der photosensitivenMasse enthaltene Polymer, das in wäßrigen
alkalischen Lösungen löslich ist, ist dadurch gekennzeichnet, daß es als nicht verzichtbare Kondensationskomponenten sowohl eine
phenolischs Verbindung der Formel (I) mit einem vergleichsweise
geringem Molekulargewicht enthält und mindestens eine weitere andere phenolische Komponente der Formeln (II) und (III) von vergleichsweise großem Molekulargewicht. Der im einzelnen vorteilhafteste Aufbau des Polymeren kann dabei weiteitgehend den erforderlichen Eigenschaften des Polymeren angepaßt werden, beispielsweise den Entwicklungseigenschaften mit der alkalischen Entwicklung flüssigkeit.
Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn das Gewichtsverhältnis der phenolischen Verbindung der Formel (I) zu der anderen phenolischen Verbindung oder den? anderen phenolischen Verbin-
809843/0578
düngen der Formeln (II) und (III) bei etwa 90:10 bis 30:70 liegt.
Als vorteilhaft hat es sich des weiteren erwiesen, wsrn die Formal
dehydnenge, bezogen auf das Gesamtgewicht der phenolisehen Verbindungen
der Formeln (I) und (II) und (III) bei 50 bis 90 MoI-I
liegt.
In einer photosensitiven Masse nach der Lrfindung kann die phenolische
Verbindung der Formel (I) aus entweder Phenol oder Kresol
bestehen.
Phenolische Verbindungen der Forriel (II) sind beispielsweise
Phenylphenol, Cyclohexylphenol, Isopropylphenol, n-tert.-Butylphenol,
p-n-Butylphenol, p-tert.-Amylphenol, p-n-Amylphenol,
p-tert.-Octylphenol, p-n-Octylphenol, p-Nonylphenol, p-Dodecyl-
phenol, Hexylphenol sowie m-Pentadecylphenol.
Phenolische Verbindungen der Formel (III) sind: 2,4-Xylenol, 3,4-Xylenol, 3,5-Xylenol, Carvacrik sowie Thymol.
Die Verbindungen der Formeln (I), (II) und (III) sowie Formaldehyd
lassen sich in Gegenwart eines sauren Katalysators, wie beispielsweise Chlorwasserstoffsäure, Oxalsäure, Zinkacetat oder Magnesiumacetat, d.h. also in Gegenwart eines Katalysators wie er üblicherweise zur Herstellung von üblichen Phenolharzen verwendet wird,
kondensieren, und zwar unter Herstellung neuer Novolak-Harze, die in wäßrigen alkalischen Lösungen löslich sind. Die Herstellung
der Kondensationspolymeren kann dabei nach üblichen bekannten Methoden erfolgen, wie sie für die Herstellung der üblichen bekannten Novolak-Harze angewandt werden.
Die aromatische Azidoverbindung kann aus einer der üblichen bekannten Azidoverbindungen bestehen, die üblicherweise zur Herstellung
von photosensitiven Massen des angegebenen Typs verwendet werden. Vorzugsweise besteht die aromatische Azidoverbindung aus: 4,4'-Diazidostilben; 4,4'-Diazidochalton; 4,4'-r>iazidobenzophenon; 2,6-Bis(41-azidobenzyliden)cyclohexanon; 1-Azldopyren; 1,6-Diatidopyren; 2-(4l-Methoxyanilino)-S-azidobenzoesäuremethylester; 2-Anilino-5-azidobenzoesiIure; 2-(4f-Azidophenol)-6-methylbentothia-
809843/0678
zol oder 2-(4'-Azidophenyl)-(naphtho-1',2'-4,5-oxazol).
Der in; Einzelfalls optimale Gehalt an aromatischer Azidoverbindunj^
in der photosensitiven Masse kann verschieden sein. Als vorteilhaft hat es sich in der Regel erwiesen, wenn die Masse etwa 5 bis
40, insbesondere 10 bis 30 Gew.-I Azidoverbindung, bezogen auf
das Gewicht das in der photosensitiven Masse verwendeten Polymeren enthält.
Die Herstellung eines photographischen oder photosensitiven Aufzeichnungsmaterial ausgehend von einer photosensitivsn 'fasse nach
der Erfindung kann nach folgender Methode erfolgen:
Die photosensitive Masse wird in einem geeigneten organischen Lösungsiaittsl, beispielsweise einem Äthyl englykoläther, Äthylenglykolacetat, Cyclohexanon, Carbitol, Dioxan, Butylacetat oder
einem kurzkettigen aliphatischen Alkohol untsr Erzeugung einer
ßeschichtungsmasse gelöst, die vorzugsweise einen Feststoffgehalt
von 1 bis 30 Gew.-% aufweist. Die hergestellte Beschichtun^smasse
wird dann auf die Oberfläche eines Trägers aufgetragen, z.B. auf die Oberfläche einer Metallplatte, beispielsweise aus Aluminium,
Zink oder Kupfer oder auf eine Folie oder Platte aus plastischem Material, z.B. aus einem Polyester, Polypropylen oder auf eine
Folie oder Platte aus Celluloseacetat oder auch auf einen Parierträger. Andererseits kann beispielsweise als Träger auch sin
Laminat aus Papier und einer oder mehreren Schichten oder Lagen der angegebenen Materialien der gewünschten nicke verwendet werden.
Das Aufbringen der Beschichtungsmasse auf den Träger kann nach üblichen bekannten Methoden erfolgen, beispielsweise durch Sprühbeschichtung, durch Eintauchbeschichtung oder durch Beschichtung
mittels einer Auftragswalze oder durch Wirbelbeschichtung. Nach Auftragen der Beschichtungslösung auf die Trägeroberfläche wird
die aufgetragene Schicht durch Verdampfen des organischen Lösungsmittels getrocknet.
«09843/0$?·
Auf die erhaltene photosensitive Schicht kann dann beispielsweise
ein negativer Filiu aufgebracht werden, wodurch die Schicht durch
diesen Film mit aktinischer Strahlung belichtet wird. Als Strahlungsquellen geeignet sind beispielsweise Xohlebogenlanpen, Quecksilberlamperi
sowie Xenonlampen. Bei der Belichtung werden die exponisrtsn Bezirke der photosensitiven Schicht gehärtet, wobei sie in waP.rijjen
alkalischen Lösungen unlöslich werden.
bine in der beschriebenen '.Veise exponierte photosensitive Schicht
kann dann unter Verwendung einer alkalischen Hntwicklun^sflüssigkeit
entwickelt werden, beispielsweise riit einer wäßrigen Lösung von rtatriujumetasilicat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Matriumcarbonat,
Trinatriumphosphat oder 'lischungen von zwei oder mehreren der angegebenen Verbindungen. Die wäßrige alkalische Entwicklungsflüssigkeit kann des weiteren auch ein organisches Lösungsmittel
enthalten, beispielsweise Methylalkohol, Äthylalkohol und Dioxan und/oder eine übliche anionische oder nicht ionogene oberflächenaktive
Verbindung als Hilfsentwicklerverbindung.
Die Bedingungen, unter denen die Belichtung und Entwicklung erfolgen,
können unter Verwendung eines Stufenkeiles ausgewählt werden, beispielsweise einem Stufenkeil des Typs Nr. 2, Hersteller Eastman
Kodak Company. Als zweckmäßig hat es sich erwiesen, die Entwicklung bei einer Temperatur von etwa 20 bis 35°C durchzuführen. Die Entwicklungsdauer
beträgt zweckmäßig 45 Sekunden bis 2 Minuten.
Eine erfindungsgemäße photosensitive Masse kann zusätzlich zu dem beschriebenen Novolak-Harz des weiteren ein oder mehrere übliche
phenolische Harze, modifizierte phenolische Harze und/oder andere Polymer-Harze enthalten, solange diese Harze in wäßrigen alkalischen
Lösungen löslich sind und sich durch Exponierung mitaktinischer
Strahlung in Gegenwart der aromatischen Azidoverbindung härten
und in alkalischen wäßrigen Lösungen unlöslich machen lassen. Des weiteren kann eine erfindungsgemäße photosensitive Masse Additive
enthalten, die beispielsweise die Beschichtungseigenschaften der
Masse verbessern und/oder die mechanische Festigkeit der herzustellenden photosensitiven Schichten erhöhen. So können einer erfindungsgemäßen
photosensitiven Masse als Additiv beispielsweise
809843/0571
Cellulosederivate, Acrylpolyjrere, Polyvinylpyrrolidon und "aleinsäurecopolymer-2 zugesetzt werden. Schließlich kann eine erfindungsgeroä^e photosensitive Masse auch noch einen Farbstoff, ein Pigr.ent,
ein rhotoscnsibilisierun^smittel und/oder andere übliche Additive
enthalten.
Eine ausgehend von einer erf.indungsgenii"en photosensitiven Masse
hergestellte photosensitive Schicht weist eine hohe Empfindlichkeit gegenüber aktir.ischer Strahlung auf, die sich in eine starre
oder faste Schicht aus einem gehärteten Harz mit ausgezeichneter Widerstandsfähigkeit gegenüber w'ißrigen alkalischen Lösungen überführen läßt. Durch Verwendung einer photosensitiven Masse nach der
Lrfindung läßt sich die Belichtungsdauer, die zur vollständigen
Härtung der photosensitiven Schicht erforderlich ist, merklich verkürzen, in Vergleich zu der Belichtungszeit, die im Falle üblicher bekannter photosensitiver Massen erforderlich ist. Da des
weiteren der Unterschied im Löslichkeitsverhalten in wäßrigen alkalischen Lösungen zwischen den exponierten Bereichen und den
nicht exponierten Bereichen beträchtlich ist, läßt sich die Entwicklung einer photosensitiven Schicht mit einer wäßrigen alkalischen Lösung schnell durchführen, wobei ausgezeichnet scharfe
Bilder erhalten werden.
Die erfindungsgemäße photosensitive Masse und ein aus dieser hergestelltes photographisches Aufzeichnungsmaterial haben eine ausgezeichnete chemische Stabilität und können infolgedessen ohne
Verminderung der Qualität über längere Zeitspannen hinweg aufbewahrt werden.
Abgesehen von den erwähnten vorteilhaften Eigenschaften weisen die
gehärteten photosensitiven Schichten «ine ausgezeichnete Druckfarbenempfindlichkeit auf. Infolgedessen lassen sich die erfindungsgemäßen photosensitiven Massen zur Herstellung von vorteilhaften Druckplatten, beispielsweise Flachdruckplatten oder lithographischen Platten und Intaglioplatten verwenden.
809843/0578
Die aus einer erfindungsgercäßen photossnsitiven Masse hergestellten
gehärteten Schichten weisen des weiteren einen ausgezeichneter Widerstand gegenüber Ätzlösungen für Metallgegenstände auf. Demzufolge
lassen sich die· erfindungsgei^'ßen photosensitiven Massen
in vorteilhafter iVeise auch zur Herstellung von Photoresistschichten venvendan, die nach erfolgter Belichtung einem Atzprozeß
unterworfen werden. Die erfindungsg-mäCen photosensitiven Massen
eignen sich des weiteren in vorteilhafter Weise zur Herstellung eines zweiten Originalblattes einer Zeichnung, das für Vervielfältigungszwecke
verwendet v/erden kann.
Im folgenden soll zunächst die Herstellung der Polymeren (Novolak-Harze)
beschrieben werden, die in \tfä(?rigen alkalischen Lösungen
löslich sind und die sich zur Herstellung einer erfindungsgemUPen
photosensitiven Masse nach der Erfindung eignen.
In einen 1 Liter fassenden, 3-Hals-Kolben, ausgerüstet mit einem
abgedichteten Rührer, Rückflußkühler und Thermometer wurde die
folgende Mischung eingefüllt:
A Phenol 3,2 Mole
B p-tert.-Octylphenol 1,5 Mole
C Formaldehyd (37tig) 3,9 Mole
B/(A+B) - 50 Gew.-I.
Die Mischung des Kolben wurden 8 Stunden lang unter Rühren auf
eine Temperatur von 1OO°C erhitzt. Daraufhin wurde die Reaktionsmischung unter vermindertem Druck auf eine Temperatur von 180 bis
19O0C gebracht, um nicht umgesetzten Formaldehyd und phenolische
Verbindungen sowie Wasser aus der Reaktionsmischung zu entfernen. Auf diese Weise wurden 540 g des Novolak-Harzes mit einem Schmelzpunkt
von 96 bis 1000C erhalten.
809843/0579
Dieses Verfahren wurde noch sechsmal wiederholt, wobei jedoch diesual anstelle dss p-tert.-Octylphenols die in der folgenden
Tabelle angegebenen phenolischen Verbindungen in den dort angegebenen Konzentrationen verwendet wurden. In dar folgenden Tabelle
sind das weiteren die Schmelzpunkte der hergestellten Novolak-Harze angegeben.
| Η3Γ- ste11uns |
A |
Phenol-Vs rbιndung
3 B( |
A+3) (ι) | Schmelzpunkt des Novolak-Harzes (OC) |
| 1 | Phenol | p-tert.-Octylphenol | 50 | 90 - |
| 2 | Il | m-Pantadecylphenol | 20 | 35 - |
| 3 | m-Kresol | p-tert.-Butylpheno1 | 58 | 101 - |
| 4 | Phenol | p-Nonylphenol | 50 | 90 - |
| 5 | Il | p-tert.-Amylphenol | 60 | 95 - |
| 6 | • I | 3,5-Xylenol | 63 | 96 - |
| 7 | Il | p-Phenylphenol | 53 | 98 - |
| - 95 | ||||
| - 90 | ||||
| ■ 106 | ||||
| ■ 96 | ||||
| • 101 | ||||
| - 103 | ||||
| - 104 |
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern.
Beispiel 1 bis 6 sowie Vergleichsbeispiel 1
In jeden der Beispiele 1 bis 6 wurde eina photosensitive Beschichtungsmasse folgender Zusammensetzung hergestellt:
1-Azidopyren 2 Gew.-Teile
^ovolak-Harz genäß Tabelle 2 10 Gew.-Teile
Athylenglykolmonoäthyläther 100 Gew.-Teile
Die hergestellte Beschichtungslösung wurde nach den Wirbelbeschichtungsverfahren bei 60 Umdrehungen pro Minute auf die Oberfläche
einer Zinkplatte aufgebracht. Die aufgebrachte Schicht wurde dann bei einer Temperatur von 800C in einem Luftumwälzofen getrocknet.
Auf diese Weise wurde eine photosensitive Schicht mit einer Dicke
809843/0579
von 3 Mikron erhalten.
Auf die photosensitive Schicht wurde nunmehr ein StuCenkeil
(Nr. 2, Hersteller Eastman Kodak Conpany) aufgetragen, worauf die photosensitive Schicht durch den Stufenkeil belichtet wurde.
Die Belichtung erfolgte mit einer 2 K!V Übersnannungs-Quecksilberlampe,
die in einer Hntfernung vom Stufenkeil von 1 m aufgestellt
worden war. Die Belichtungsdauer betrug 70 Sekunden.
Die exponierte photosensitive Schicht wurde lann rut einer wäßrigen
Natriumhydroxidlösung in einem Entwicklungstrog entwickelt. Die Konzentration der Natriumhydroxidlösung wurde derart eingestellt,
daß die Mindestentwicklungsdauer, die zur vollständigen Entfernung
der nicht exponierten Teile der photosensitiven Schicht erforderlich war, genau 60 Sekunden betrug. Nach der Entwicklung wurde
die Anzahl an verbliebenen Stufen in der entwickelten Schicht bestimmt.
Die Hntwicklungsoperation wurde auf das 2-fache, 3-fach, 4-fache
und 5-fache der angegebenen Mindestentwicklungsdauer verlängert. Nach Beendigung jeder verlängerten Entwicklungsdauer wurde die
Anzahl von verbliebenen Stufen in der entwickelten Schicht festgestellt.
Im Falle des Vergleichsbeispieles 1 wurde das gleiche Verfahren angewandt, mit der Ausnahme jedoch, daß ein m-Kresol-Novolak-Harz
des Standes der Technik verwendet wurde.
Die erhaltenen Ergebnisse der Beispiele 1 bis 6 und des Vergleichsbeispieles
sind in der folgenden Tabelle 2 zusammengestellt.
Anzahl verbliebensr Stufen
Beispisl
Nr.
Nr.
Novolak-Harz gemäß Herstellungsbeispiel
Minimum-Entwicklungsdauer
(60 Sek.)
2x Mininum-
Entwicklun^s·
dauer
3x Minimurc-
Entvicklur.jjs-
dauer
4x Minir.ium-
Hntwicklunp,s-
■lauer
5x "iinir.iurr:-
Entv.icklungs-
dauc-r
1
2
3
· 4
S
S
1 2 3 4 5 6
Vergleichs- n-Kresol-Novobeispiel 1 lak-Harz
13
12
12,5
12,5
12,5
12,5
11,5
10,5 8,5 9,5
9,5
6,5
9,5
7,5
8,5
9
8,5
5,5
6,5
8,5
4,5
8,5
5,5
7,5
7,5
6,5
3,5
Aus den in der Tabelle 2 zusammensestsllten Daten ergibt sich
eindeutig, daß die ausgehend vor «iner rhotosensitiven Masse
nach der Erfindung hergestellten yihotosensitiven Schichten verbesserte
Photoempfindlichkeiten aufweisen, die etwa 2 bis etwa 4 χ so groß sind wie die Photoempfindlichkeit der photosensitiven
Schicht des Vergleichsbeispiels 1. Nach der Belichtung hatten die gehärteten und unlöslich gemachten Harze eine ausgezeichnete Widerstandsfähigkeit
gegenüber der Entwicklungsflüssigkeit. Dies bedeutet, daß sich die ausgehend von photosensitiven Massen nach
der Erfindung hergestellten photosensitiven Schichten unter verschiedenen Entwicklungsbedingungen entwickeln lassen.
Die photosensitiven Schichten der Beispiele 1 bis 6 waren sehr stabil, so daß sogar nach 6 Monaten Lagerung keine Veränderung
in der Photoempfindlichkeit und den Entwicklungseigenschaften
festzustellen war. Wurde beispielsweise die photosensitive Schicht
des Beispieles 1 direkt nach ihrer Herstellung bildweise exponiert, so lag die Entwicklungsdauer, in welcher die nicht-exponierten
Teile der Schicht vollständig entfernt werden konnten, bei 60 Sekunden. Wurde eine entsprechende Schicht 6 Monate nach ihrer Herstellung
in entsprechender Weise belichtet und entwickelt, so betrug die Entwicklungsdauer 66 Sekunden. Hieraus ergibt sich, daß sich die
Photosensitivität und die Entwicklungseigenschaften der photosensitiven
Schichten nach einer Aufbewahrungszeit von 6 Monaten
praktisch nicht verändern. Entsprechende Ergebnisse wurden beispielsweise im Falle der Schicht des Beispieles 2 erhalten.
Zu Vergleichszwecken wurde die photosensitive Schicht des Standes
der Technik, hergestellt ausgehend von einem Novolak-Harz, bestehend
aus dem Kondensationsprodukt aus Formaldehyd, Phenol und Cardanol
mit einer Doppelbindung den!gleichen Test unterworfen.
Wurde die photosensitive Schicht bildweise direkt nach ihrer
Herstellung exponiert, so lag die Entwicklungsdauer für die exponierte Schicht bei 50 Sekunden. Wurde die Schicht jedoch
einen Monat lang aufbewahrt, so lag die Entwicklungsdauer bereits
bei 200 Sekunden, d.h. sie betrug bereits das 4-fache der Zeitspanne, die erforderlich war bei Verwendung des frisch hergestellten
Materials.
809843/067·
Die erhaltenen Versuchsergebnisse zeigen somit, daß sich ausgehend
von photosensitiven Massen nach der Erfindung photosensitive
Schichten herlassen, die Ober eine lange Zeitspanne lang extrem stabil sind.
Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt, mit der Ausnahme jedoch, daß anstelle von p-tsrt.-Octylphenol bei der
Herstellung des Novolak-IIarzes, das in Beispiel 1 verwendet wurde,
p-tsrt.-Nonylphenol verwendet wurde. Die im Einzelfalle verwendete
Konzentration an p-tert.-Nonylphenol ergibt sich aus der folgenden
Tabelle 3.
Im Falls des Vergleichsbeispieles 2 wurde wie im Falle des Beispieles 7 verfahren, mit der Ausnahme jedoch, daß kein p-tert.-Nonylphenol verwendet wurde. Die Ergebnisse der Beispiele 7 bis 11
sowie des Vergleichsbeispieles 2 sind in der folgenden Tabelle 3 zusammengestellt.
- 18 -
|
Beispiel
Nr. |
Gehalt an
p-tert.- Nonylphenol (I) |
20 | Mindest- Entwicklungs- dausr (60 Sek.) |
2x Mindest- Entwicklungs- dauer |
3x Uindest- Entwicklungs- dauer |
4x Mindest- Entwicklungs- dauer |
5x Mindsst- Entwicklungs- dauer |
|
Vergleichs- O
beispiel 2 |
40 | 10,5 | 6 | 4,5 | 3,5 | 2'5 | |
| Beispiel 7 |
50 | 11,5 | 8 | 6 | 5 | OO 4,5 |
|
| ; 8 | 60 | 12 | 9 | 8 | 7 | 6,5 | |
| 9 | 70 | 13 | 10,5 | 9,5 | 9 | 3,5 | |
| 10 | 12,5 | 10 | 9 | 8,5 | 8 | ||
| 11 | 12,5 | 10 | 9 | 3,5 | 8 |
- 19 -Beispiel3r. 12 bis 14 sowie Vergleichsbeispiel 3
In Falle der Beispiele 12 und 13 wurde das in den Beispielen
1 und 4 beschriebene Verfahren wiederholt, nit der Ausnahme jedoch, daf diesnal 2-(4'-Methoxyanilino)-5-azidobenzoesä"ureraethylester anstelle von 1-Azidopyren verwendet wurde.
Ir. Talle des Beispieles 14 wurde das in Beispiel 1 beschriebene
Verfahren wiederholt, nit der Ausnahme jedoch, daß das Novdakiiarz ge näß Herstsllungsbeispiel 7 und 2-(4'-Methoxyanilino)-5-azidobenzoesäurenethylester anstelle des Novolalc-Harzes von Herstellungsbeispiel 1 und 1-Azidopyren verwendet wurden.
lsi Falle des Vergleichsbeispieles 3 wurde das Verfahren des
Vergleichsbeispieles 1 wiederholt, niit der Ausnahme jedoch, daß
2- (4l-Methoxyanilino)-5-azidobenzossäurejnethylester anstelle von
1-Azidopyren verwandet wurde.
Die Ergebnisse der Beispiele 12 bis 14 sowie des Vergleichsbeispieles 3 sind in der folgenden Tabelle 4 zusammengestellt.
- 20 -
809843/057$
mn-
Anzahl vcn Reststufen
s t. au ar
Beispiel Nr.
Novolak-Harz hergestellt
g e i.i aß
Mindest- 2x "'indsst-Entwicklun^»?-
^nt'/ dauer daurr
(60 Sek.) 3x Minclct- 4x iindest- 5x Mindest-
- F.ntv.-icl'lun^s- Hntwicklun^s- Entwicklun^s·
dauer dauer dauer
- F.ntv.-icl'lun^s- Hntwicklun^s- Entwicklun^s·
dauer dauer dauer
12
Herstellungsbeispiel 1
Herstellungsbeispiel 4
Herstellungsbeispiel 7
m-Kresol-Novolakgleichs-Harz
beispiel 3
13
14
Ver-
12,5 12
11,5 11
10 9,5 8,5
,5
7,5
4
4
7,5
Aus den in den Tabellen 3 und 4 zusammengestellten Paten ergibt
sicli eindeuti«, daß die drfindungssemaßen photosensitiv?*! \ufzeichnungsuaterialien
eine ausgezeichnete Photoenpf ir.dlichVeit
aufweisen und da/?, die nus >.1en photosensi ti v?n "'assen erz?u·*ten
geh-irteten und unlöslich gemachten Harze ?ine ausT^zsichner?
. Widerstands Fähigkeit gegenüber EntwicklungsflässifVei t?r ?.ufweisen.
Dies bedeutet, daß sich ausseiend aus Photosensitive!!
Massen nach der Erfindung hergestellte Schichten ur.tsr verschiedenen
Entwicklungshsdinpungen entv/ickeln lassen.
Claims (6)
1. Photosensitive Masse für die Herstellung photographischar
Aufzeichnungsmaterialien und Photoresistschichten Fit mindestens
einer aromatischen Azidoverbindung und mindestens einem in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslichen Polymeren,
hergestellt durch Kondensation von Formaldehyd und einer phenolischen Komponente in Gegenwart eines sauren Katalysators,
dadurch gekennzeichnet, daß die Masse ein in wäßrigen alkalischen Lösungen lösliches Polymer enthält, das hergestellt wurde
durch Kondensation von Formaldehyd, einer phenolischen Verbindung der Formel (I):
OH (I)
in der R« für ein Wasserstoffatom oder 3inen Methylrest steht
und mindestens einer phenolischen Verbindeng der folgenden Formeln (II) und (III):
(II) und
(III)
- 2 worin bedeuten:
R2 einen Alkylrest mit 3 bis 15 C-Atomen, einen
Phsnylrest oder einen Cyclohe-xylrest und
Rj und R^ jeweils ainen Alkylrest nit 1 bis 3 C-Atomen
in Gegenwart eines sauren Katalysators.
2. Photosensitive Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnst,
daf1 das Gewichtsverhültnis der phenolischen Verbindung der
Formel (I) zu der oder dsn phenolischen Verbindungen der
FoTKiel (II) und (III) bei 90:10 bis 3C: 70 liegt und daß ferner
die Fomaldehydiner^e, bezogen auf das Gesamtgewicht der phenolischen
Verbindungen der Formeln (I), (II) und (III) 50 bis
Mol.-I betraft.
3. Photosensitive Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß dis phenolische Verbindung der Fornel (I) aus Phenol oder
Krasol besteht.
4. Photosensitive Masse nach Ansnruch 1, dadurch eekennzeichnet,
da£ sie als pher.olische Verbindung der Formel (II) Phenylphenol,
Cyclohexylphenol, Isopropylphenol, ji-t2rt.-ButylT»henol, r>-ft·
Butylphenol, p-tert.-Aiaylnhenol, p-n-Amylphenol, p-tert.-Octylphenol,
p-n-Octylphenol, p-Nonylphenol, p-Dodecylphenol,
Hexylphenol und/oder m-Pentadecylphenol enthält.
5. Photosensitive Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie als phenolische Verbindung der Formel (II) 2,4-Xylenol,
3,4-Xylenol, 3,5-Xylenol, Carvacrol und/oder Thymol enthält.
6. Photosensitive Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt der Masse an der aromatischen Azidoverbindung
bei 5 bis 401, bezogen auf das Gewicht des Polymeren liegt.
rhotosensj tive ^iasse nac'i Anspruch 1, d.-vJurcb freKsnnzeicImet,
Ja:; sia als aromatische Azidoverbirnjun«1! enthalt: 4,4'-Diazidostilber; 4 ,4'-Hiazidocbalcon; 4 ,1 '-Mazidohenzophsnon; 2,6-■ii r. (4 '-azidobeiizyliden) cyclohexanon; 1-Azidonyren; 1 ,e-niazido- ^yren; 2-(4 f-Methoxyanilino)-S-azidobenzoesauTenethylsster;
Z-Anilino-S-azidone-nzoescure ; 2- (4' -Azi dopher.yl) -6-methylbenzotl'i '!2ol otier 2- (4 '-Azidophenyl)- (nanhtho-1 · ,2'-4,5-oxazol) .
Ja:; sia als aromatische Azidoverbirnjun«1! enthalt: 4,4'-Diazidostilber; 4 ,4'-Hiazidocbalcon; 4 ,1 '-Mazidohenzophsnon; 2,6-■ii r. (4 '-azidobeiizyliden) cyclohexanon; 1-Azidonyren; 1 ,e-niazido- ^yren; 2-(4 f-Methoxyanilino)-S-azidobenzoesauTenethylsster;
Z-Anilino-S-azidone-nzoescure ; 2- (4' -Azi dopher.yl) -6-methylbenzotl'i '!2ol otier 2- (4 '-Azidophenyl)- (nanhtho-1 · ,2'-4,5-oxazol) .
BAD ORIOHNAL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52044588A JPS5934293B2 (ja) | 1977-04-20 | 1977-04-20 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2757056A1 true DE2757056A1 (de) | 1978-10-26 |
| DE2757056B2 DE2757056B2 (de) | 1979-05-23 |
Family
ID=12695628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2757056A Ceased DE2757056B2 (de) | 1977-04-20 | 1977-12-21 | Photosensitive Masse für die Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4148655A (de) |
| JP (1) | JPS5934293B2 (de) |
| DE (1) | DE2757056B2 (de) |
| GB (1) | GB1594030A (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2486259A1 (fr) * | 1980-07-03 | 1982-01-08 | Rca Corp | Procede pour la realisation de configurations en relief de surface, en vue d'applications micro-lithographiques |
| US4737438A (en) * | 1985-10-30 | 1988-04-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative-working photosensitive composition comprising a diphenylamine-melamine condensate and an azide compound |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4247616A (en) * | 1979-07-27 | 1981-01-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive-acting photoresist composition |
| JPS56162744A (en) * | 1980-05-19 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Formation of fine pattern |
| JPS5730829A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-19 | Hitachi Ltd | Micropattern formation method |
| JPS5786830A (en) * | 1980-11-20 | 1982-05-31 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
| JPS57160128A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-02 | Hitachi Ltd | Fine pattern forming method |
| JPS57204124A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Forming method for minute pattern |
| US4554237A (en) * | 1981-12-25 | 1985-11-19 | Hitach, Ltd. | Photosensitive resin composition and method for forming fine patterns with said composition |
| JPS58116531A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | Fujitsu Ltd | ネガ型レジスト材料 |
| EP0087262A1 (de) * | 1982-02-22 | 1983-08-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positiv arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzungen |
| JPH0644149B2 (ja) * | 1985-06-28 | 1994-06-08 | 株式会社東芝 | 感光性組成物 |
| WO2002102867A1 (en) * | 2001-06-20 | 2002-12-27 | The Additional Director (Ipr), Defence Research & Development Organisation | 'high ortho' novolak copolymers and composition thereof |
| FI20030929A (fi) * | 2003-06-19 | 2004-12-20 | Nokia Corp | Menetelmä ja järjestelyjä langattoman tiedonsiirron toteuttamiseksi kulkuvälineessä |
| WO2012122022A1 (en) | 2011-03-10 | 2012-09-13 | 3M Innovative Properties Company | Filtration media |
| US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
| US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
| US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
| EP2883109A1 (de) | 2012-08-09 | 2015-06-17 | 3M Innovative Properties Company | Lichthärtbare zusammensetzungen |
| JP6245752B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-12-13 | 田岡化学工業株式会社 | 共縮合物及びその製造方法、並びに共縮合物を含有するゴム組成物 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2937085A (en) * | 1954-01-11 | 1960-05-17 | Ditto Inc | Composite photosensitive plate, and method of making printing plate therefrom |
| DE1597614B2 (de) * | 1967-07-07 | 1977-06-23 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliche kopiermasse |
| US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
-
1977
- 1977-04-20 JP JP52044588A patent/JPS5934293B2/ja not_active Expired
- 1977-12-16 US US05/861,348 patent/US4148655A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-19 GB GB52847/77A patent/GB1594030A/en not_active Expired
- 1977-12-21 DE DE2757056A patent/DE2757056B2/de not_active Ceased
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2486259A1 (fr) * | 1980-07-03 | 1982-01-08 | Rca Corp | Procede pour la realisation de configurations en relief de surface, en vue d'applications micro-lithographiques |
| US4737438A (en) * | 1985-10-30 | 1988-04-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative-working photosensitive composition comprising a diphenylamine-melamine condensate and an azide compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1594030A (en) | 1981-07-30 |
| US4148655A (en) | 1979-04-10 |
| DE2757056B2 (de) | 1979-05-23 |
| JPS53130747A (en) | 1978-11-15 |
| JPS5934293B2 (ja) | 1984-08-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2757056A1 (de) | Photosensitive masse fuer die herstellung photographischer aufzeichnungsmaterialien | |
| EP0050802B1 (de) | Lichtempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung einer Druckform aus dem Kopiermaterial | |
| DE3009873A1 (de) | Photoempfindliche masse | |
| DE2064079C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
| DE2943379C2 (de) | ||
| DE2306248C3 (de) | Durch Belichten löslich werdendes StofFgemisch und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
| EP0131780B1 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial | |
| DE3603372A1 (de) | Positive photoresistmischung | |
| DE1622301C2 (de) | Mit Alkali entwickelbare Kopierschicht | |
| DE1447016C3 (de) | Vorsensibilisierte Druckplatte | |
| DE2834921A1 (de) | Diazoniumverbindungen | |
| DE2146167A1 (de) | Lichtempfindliche Masse | |
| EP0164059A2 (de) | Perfluoralkylgruppen aufweisende Polymere, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck | |
| DE3900736A1 (de) | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch enthaltend einen mehrfunktionellen (alpha)-diazo-(beta)-ketoester, verfahren zu dessen herstellung und strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial enthaltend dieses gemisch | |
| EP0302359A2 (de) | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch | |
| EP0071881A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen aus einem lichtempfindlichen Material auf Basis von Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukten | |
| EP0553737A1 (de) | Strahlungsempfindliches Gemisch | |
| DE2032947C2 (de) | Verwendung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Herstellung von Farbprüffolien | |
| DE3201151A1 (de) | Positive lichtempfindliche masse und diese enthaltendes positives lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
| DE2357871A1 (de) | Trockene vorsensibilisierte planographische platten | |
| EP0315748B1 (de) | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichungsmaterial | |
| DE2725716A1 (de) | Flachdruckmatrize und verfahren zur herstellung einer trockenflachdruckform unter verwendung der flachdruckmatrize | |
| DE3935875A1 (de) | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefmustern | |
| DE3240935A1 (de) | Positiv abbildende, strahlungsempfindliche masse, positiv abbildendes, strahlungsempfindliches element und positiv abbildende, lithografische platte | |
| DE2450430C3 (de) | Lichtempfindliches, farbbildendes Aufzeichnungsmaterial |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OAP | Request for examination filed | ||
| OD | Request for examination | ||
| 8235 | Patent refused |