DE2146167A1 - Lichtempfindliche Masse - Google Patents

Lichtempfindliche Masse

Info

Publication number
DE2146167A1
DE2146167A1 DE19712146167 DE2146167A DE2146167A1 DE 2146167 A1 DE2146167 A1 DE 2146167A1 DE 19712146167 DE19712146167 DE 19712146167 DE 2146167 A DE2146167 A DE 2146167A DE 2146167 A1 DE2146167 A1 DE 2146167A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
resin
parts
alkali
solution
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19712146167
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyoshi Kita Nonyasu Yumiki Keiichi Tokio Yamaguchi
Original Assignee
Konismroku Photo Industry Co , Ltd, Tokio
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konismroku Photo Industry Co , Ltd, Tokio filed Critical Konismroku Photo Industry Co , Ltd, Tokio
Publication of DE2146167A1 publication Critical patent/DE2146167A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G03F7/0236Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

2U6167
47 y 17
Anmelder : Konishiroku Photo Industry Co.,ltd.
1-10, 3-öhome, Mhoribashi-Muro-machi,
Ghuo-ku, Tokyo, Japan
Lichtempfindliche Masse
Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Masse für ein fotomechanisches Verfahren vom Posi-Posi-Typ. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine lichtempfindliche Masse, die zur Herstellung von sogenannten presensibilisierten Platten (nachfolgend als "PS-Platte" bezeichnet) verwendet wird, wobei die Masse auf- einen !Träger aufgetragen und getrocknet wird.
Es ist bekannt, dass Ester oder Amide von o-Chinondiazidsulfonsäure für lichtempfindliche Massen für das fotomechanische Verfahren verwendet werden. Diese o-öhinondiazid-Verbindungen haben die Eigenschaft, daß sie durch Einwirkung von aktiven Strahlen unter Bildung von freien Carbonsäuren zersetzt werden. Unter Ausnützung dieser Eigenschaften wird das Verfahren derart durchgeführt, daß nur die belichteten Teile in einer wässrigen Alkali-Lösung gelöst und dadurch entfernt werden, wobei Bilder entstehen, die aus den nicht belichteten Teilen bestehen. Ein Beispiel für eine derartige wässrige Alkali-Lösung ist beispielsweise eine wässrige Natriummetasilicat-Lösung. v/enn ausschliesslich eine solche o-Ohinondiazid-Verbindung für das lichtempfindliche Material verwendet wird, scheiden sich Kristalle ab, und das erhaltene Bild besitzt ausserdem eine geringe mechanische Festigkeit aufgrund einer
— ? —
209813/1733
unzureichenden Filmbildungs-Mhigkeit dieser Verbindung, so daß es schwierig ist damit eine grosse Zahl Kopien durch Druck zu erhalten. Deshalb wird als Träger zusammen mit der genannteo-Chinondiazid-Verbindung ein alkalilösliches Harz verwendet, z.B. ein Phenol-Formaldehyd-Novolak-Harz, o- oder m-CresoliOrmaldehyd-lTovolak-Harz oder m-Xylenol-Formaldehyd-lTovolak-Harz. Wenn ein solches System bildmässig belichtet und dann mit einer wässrigen Alkalilösung behandelt wird, wird in den nicht belichteten Teilen aufgrund der Widerstandsfähigkeit dieser Teile gegen Alkali das in Alkali lösliche Harz nicht gelöst, wobei ein Bild entsteht. Insbesondere dann, wenn das erhaltene Bild auf einen Metallträger eingeätzt werden soll, und in dem Pail, in dem das erhaltene Bild unmittelbar als Druckplatte verwendet werden soll, ist es wichtig ein in Alkal: lösliches Harz zu verwenden, das ausgezeichnete Eigenschaften besitzt. In diesem Sinne ist vorgeschlagen worden ein lichtempfindliches harzartiges Kondensationsprodukt aus o-Benzochinondiazid- oder o-Maphthochinon-diazid-Sulfonylchlorid mit einem alkalilöslichen Phenol-IOrmaldehyd-Harz oder o- oder m-Cresol-SOrmaldehyd-Harz vom Novolak-Typ zu verwenden=
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine lichtempfindliche Masse, die dadurch gekennzeichnet sind, daß sie ein Kondensationsprodukt eines in Alkali unlöslichen oder schwer löslichen p-substituierten Phenol-Formaldehyd-Harzes der allgemeinen Formel
worin R eine Alkyl-, Aryl·* Alkoxy-, Sulfoalkyl-, Aryloxy-, Carboalkoxy-, Aralkyl- oder Acetyl-G-ruppe ist, R1 und R2
20981 3/ 1733
"3" 2U6167
jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl- oder Alkoxy-Gruppe bedeuten und η für eine Zahl von 3 oder mehr steht,
mit einem SuIfonylchlorid von o-Benzochinondiazid oder o-Naphthochinondiazid enthält.
Die licht empfindliche Masse gemäß der vorliegenden Erfindung besitzt eine ausgezeichnete Lagerfähigkeit, hat ausgezeichnete filmbildende Eigenschaften und zeigt in den unbelichteten Teilen eine starke Beständigkeit gegen Alkali. Das erhaltene Bild wird selbst dann nicht zerstört, wenn es lange Zeit in eine Flüssigkeit mit einem pH-Wert von etwa 13 eingetaucht wird. Ausserdem zeigt die Mischung gemäß der Erfindung keine Lösungsverluste im Bildteil während der Entwicklung, und, da in der p-Stellung eine oleophile Gruppe vorhanden ist, hat der Bildteil der Masse gute oleophile Eigenschaften. Ausserdem hat ein Relief bild, das daraus hergestellt ist, eine ausgezeichnete Säurebeständigkeit und mechanische Festigkeit, die benötigt werden, wenn das Bild fotogeätzt werden soll.
Das p-substituierte Phenol-IOrmaldehyd-Harz, das gemäß der Erfindung zur Kondensation mit o-Benzochinondiazid oder o-Naphthochinondiazid-Sulfonylchlorid verwendet wird, ist ein in Alkali unlösliches oder schwer lösliches p-substituiertes Phenol-Formaldehyd-Harz mit einer linearen Struktur, das Methylen-Bindungen in der Ortho-Stellung zur Hydroxylgruppe des Benzolkernes aufweist, und das in der p-Steilung substituiert ist. Das p-substituierte Phenol-Formaldehyd-Harz hat die oben bereits wiedergegebene allgemeine Formel. Dieses Harz, das eine Alkyl- oder Aryl-Gruppe in der p-Position als Substituenten enthält, ist stärker oleophil als ein in Alkali lösliches Harz vom Novolak-Typ, das keinen Substituenten in der p-Stellung aufweist. Es können deshalb vorteilhafte physikochemische Eigenschaften erzielt werden.
Typische Beispiele für Harze der oben genannten Art sind nachfolgend angegeben. Die gemäß der Erfindung verwendbaren Harze
209813/1 733
2H6167
sind jedoch, nicht auf diese Beispiele "beschränkt.
(1) p-Cresol-SOrmaldehyd-Harz
(2) p-t-Butylptienol-Formaldehyd-Harz
(3) p-Äthylphenol-iOrmaldehyd-Harz
(4) p-Propylphenol-Formaldehyd-Harz
(b) p-Is opropylphenol-IOrmaldehyd-Harζ
(6) p-n-Butylpaenol-IOrmaldehyd-Harz
(7) p-Benzylphenol-IOrmaldehyd-Harz
(8) p-Phenylphenol-IOrmaldehyd-Harz
(9) p-Methoxyphenol-Formaldehyd-Harz
(10) p-Benzyloxyphenol-IOrmaldehyd-Harz
(11) p-Carboxyathyljtenol-Formaldehyd-Harz
(12) A^ayl-p-Hydroxybenzolsulfonat-Formaldehyd-Harz
(13) p-Acetophenol-Formaldehyd-Harz
Die nachfolgenden Herstellungsbeispiele erläutern die Herstellung der Kondensationsprodukte aus den oben genannten Harzen mit o-Benzochinondiazid oder o-Naphthochinondiazid-Sulfonylchlorid.
Herstellungsbeispiel 1
4-d g p-Cresol-Formaldehyd-Harz und b$ g 1,2-Benzochinondiazid-(2)-4-sulfonylchlorid werden in b'00 ml Dioxin gelöst. Zu dieser Lösung werden bei 45 0C unter Rühren allmählich 300 ml einer In-Matriumcarbonatlösung gegeben, wobei der pH-Wert der lösung unter 8 gehalten wird. Nach einstündigem Rühren wird die Reaktionsflüssigkeit in verdünnte Salzsäure eingegossen, und der ölige Niederschlag wird durch Dekantieren gewonnen und dann mit einer grossen Menge Wasser gerührt, wobei nach kurzer Zeit eine pulverige Substanz abgeschieden wird. Diese pulverförmige Substanz wird durch. Filtration abgetrennt, mit Methanol gewaschen, bei einer Temperatur unter 45 0O getrocknet, wiederum in 300 ml Aceton gelöst, filtriert und dann in eine grosse Menge Wasser eingegossen, wobei ein pulverförmiger Niederschlag ausgefällt wird» Dieser Nieder·
209813/1733
schlag wird durch Filtration gewonnen und dann "bei einer Temperatur unter 450C getrocknet, wobei ein gelbes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0C allmählich zu zersetzen beginnt, und das selbst bei Temperaturen über 300 0C nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 85 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosolve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
Herstellungsbeispiel 2
32 g p-t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz und 39 g 1,2-Naphthochinondiazid-(2)-5-sulfonylchlorid werden in 400 ml Dioxan gelöst. Zu dieser lösung werden bei 40 0O allmächlich unter Rühren 150 ml einer In-Natriumcarbonatlösung gegeben, wobei der pH-Wert der lösung unter 8 gehalten wird. Nachdem 30 Minuten gerührt worden ist, wird die Reaktionsflüssigkeit, ,in verdünnte Salzsäure eingegossen. Die abgeschiedene ölige Substanz wird durch Dekantieren abgetrennt und dann mit einer grossen Menge Wasser gerührt, wobei nach kurzer Zeit ein fester Niederschlag abgeschieden wird. Dieser Feststoff wird durch Filtration gewonnen, mit Methanol gewaschen, bei einer Temperatur unter 45 0C getrocknet, wiederum in 300 ml Methylcellosolve gelöst, filtriert und dann in eine grosse Menge Wasser unter Rühren eingegossen, wobei nach kurzer Zeit ein pulverförmiger Niederschlag abgeschieden wird. Dieser Niederschlag wird durch Filtration gewonnen und dann bei einer Temperatur unter 450O getrocknet, wobei ein gelblich-braunes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0C allmählich zu zersetzen beginnt und selbst bei Temperaturen über 300 0C nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 56 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosolve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
Herstellungsbeispiel 3
36 g p-Phenylphenol-Formaldehyd-Harz und 40 g 1,2-Naphthochinondiazid-(2)-5-sulfonylchlorid werden in 350 ml Dioxan
209813/1733
2U6167
gelöst. Zu dieser Lösung werden bei Zimmertemperatur allmählich, unter Rühren 150 ml einer In-Natriumcarbonatlösung gegeben, wobei der pH-Wert der Lösung unter 8 gehalten wird. Anschliessend wird die Reaktionsflüssigkeit in gleicher Weise wie im Herstellungsbeispiel 2 beschrieben behandelt, wobei ein gelblich-braunes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0O allmählich zu zersetzen beginnt und selbst bei Temperaturen über 300 0O nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 55 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosolve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
Herstellungsbeispiel 4
27 g p-Phenylphenol-Formaldehyd-Harz und 40 g 1,2-Naphthochinondiazid-(2)-4-sulfonylchlorid werden in 350 ml Dioxan gelöst. Zu dieser Lösung werden bei 45 bis 50 0C allmählich unter Rühren 75 ml einer 2n-Pyridin-Dioxan-Lösung gegeben, wobei der pH-Wert der Lösung unter 8 gehalten wird. Nachdem die Reaktion weitere 30 Minuten lang durchgeführt wurde, wurde die Reaktionsflüssigkeit in verdünnte Salzsäure eingegossen. Die dabei ausgefällte ölige Substanz wird durch Dekantieren gewonnen und dann mit einer grossen Menge Wasser gewaschen, wobei sich in kurzer Zeit ein Feststoff abscheidet. Dieser Peststoff wird durch Filtration gewonnen, mit Methanol gewaschen, bei einer Temperatur unter 450C getrocknet, wiederum in 300 ml Methylcellosolve gelöst, filtriert und dann in eine grosse Menge Wasser unter Rühren eingegossen, wobei sich nach kurzer Zeit ein pulverförmiger Niederschlag abscheidet. Dieser Niederschlag wird durch Filtration gewonnen und dann bei einer Temperatur unter 45 0C getrocknet, wobei ein gelbes pulver-
o förmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 C allmählich zu zersetzen beginnt und selbst bei Temperaturen über 300 0C nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 45 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosulve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
209813/ 1733
Herstellungsbeispiel 5
27 g p-Methoxyphenol-Formaldehyd-Harz und 40 g 1,2-Maphthoehinondiazid-(2)-5-sulfonylchlorid werden in 400 ml Dioxan gelöst. In diese lösung werden allmählich 150 ml einer 1n-ITatriumcarbonat-lösung eintropfen gelassen, bis die lösung schwach alkalisch wird. Anschliessend wird die Reaktionsflüssigkeit in gleicher Weise wie im Herstellungsbeispiel 1 beschrieben behandelt, wobei ein gelblich-braunes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0C allmählich zu zersetzen beginnt und bei Temperaturen über 300 0C noch nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 55 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosolve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
Herstellungsbeispiel 6
20 g p-Methoxyphenol-Formaldehyd-Harz und 40 g 1,2-Naphthochinondiazid-(2)-5-sulfonylchlorid werden in 400 ml Dioxan gelöst. Diese lösung wird in gleicher Weise wie im Herstellungsbeispiel 1 beschrieben bei Zimmertemperatur mit 75 ml einer 2n-Pyridin-Dioxan-lösung kondensiert, wobei ein gelbes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0C allmählich zu zersetzen beginnt und selbst bei über 300 0C nicht schmilzt. Die Ausbeute beträgt 36 g. Dieses Harz ist unlöslich in Alkali, leicht löslich in Methylcellosalve und schwer löslich in Methanol und Äthanol.
Herstellungsbeispiel 7
17,ö g p-Carboxyäthylphenol-Pormaldehyd-Harz und 26,8 g 1,2-Naphthoehinondiazid-(2)-5-sulfonylchlorid werden in 200 ml Dioxan gelöst. Diese lösung wird wie im Herstellungsbeispiel 1 beschrieben bei 40 bis 45 0C mit 100 ml einer 1n-Natriumcarbonat-lösung kondensiert, wobei ein gelbes pulverförmiges Harz erhalten wird, das sich bei 100 0C allmählich zu zersetzet beginnt und selbst über 300 0C nicht schmilzt. Die Ausbeute
209813/1733
beträgt 33.1 g. Dieses Harz ist unlöslich, in Alkali, leicht löslich in Methylcellosolve und schwer löslich in Methanol.
Kondensationsprodukte der anderen beispielsweise genannten Harze können ebenfalls nach den Herstellungsverfahren erhalten werden, die in den obigen Herstellungsbeispielen beschrieben sind.
Diese Kondensationsprodukte können allein verwendet werden. Sie !tonnen jedoch auch manchmal mit zweckmässigen Mengen von in Alkali löslichen Harzen vom Novolak-Typ vermischt waden. Durch Änderung des Mischungsverhältnisses dieser beiden Arten von Harzen kann die Entwicklungsfähigkeit der erhaltenen lichtempfindlicten Schicht mit einer wässrigen Alkalilosung frei kontrolliert werden. Eine lichtempfindliche Masse, die das oben beschriebene Kondensationsprodukt enthält, wird auf einen geeigneten Träger wie eine Alum^&mplatte, Zinkplatte Kupferplatte, Kunststoffilm oder Papier aufgetragen und dann getrocknet, wobei eine PS-Platte erhalten wird. In diesem FaIl ist es bevorzugt, daß der Anteil des Kondensationsproduktes 0.1 bis 20 Gewichtsteile und der des in Alkali lösliches Novolak-Harzes 0 bis 10 Gewichtsteile pro 100 Gewichtsteile des angewandten organischen Lösungsmittels beträgt. Beispiele für organische Lösungsmittel, die in diesem EaIl verwendet werden können, sind Aceton, Dioxan, Methylcellosolve und A'thylcellosolve. Die oben beschriebenen lichtempfindlichen Massen können in aneich bekannter Weise übliche Zusatzstoffe enthalten.
Ein lichtempfindliches Material, daß die Masse gemäß der Erfindung aufweist, hat die Eigenschaft, daß es in den nicht belichteten Bildteilen Wiederstandsfähig gegen eine wässrige Alkalilosung ist aufgrund der Alkali-Beständigkeit des Kondensationsprodukin während in den belichteten Teilen das o-Ohinondiazid unter der Einwirkung des Lichtes in die entsprechende Carbonsäure übergeführt wird, die leicht mit einer wässrigen Alkalilosungterausgelöst werden kann, wobei ein
209813/1733
Bild entstellt.
Die lichtempfindliche Masse ist sehr stabil und kann länger als ein Jahr gelagert werden, wenn die Lagerung im Dunkeln erfolgt. Ausserdem kann eine PS-Platte, die durch Auftragen der Masse gemäß der Erfindung auf einen Träger erhalten und dann getrocknet wird, länger als ein Jahr "bei kühler und dunkler lagerung gelagert werden. Die PS-Platte kann nach verschiedenen Verfahren verwendet werden. Beispielsweise kann ein Original, das ein linien- oder Rasterbild enthält, in dichten Kontakt mit der lichtempfindlichen Oberfläche der PS-Platte gebracht werden. Anschliessend wird diese Anordnung belichtet. Die Platte wird dann mit einer wässrigen Alkalilösung entwickelt, wobei ein Reliefbild vom Positiv-Positiv- £yp erhalten werden kann. Als lichtquelle für die Belichtung wird vorzugsweise eine Kohlenbogenlampe, Xenonlampe, Quecksilberlampe, leuchtröhre ("chemical lamp") fotografische Blitzlichtlampe oder Wolframfadenlampe verwendet. Typische Beispiele für wässrige Alkalilösungen, die zur Entwicklung verwendet werden, sind wässrige lösungen von Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Kalziumhydroxid, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriummei^aborat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Natriumphosphat, Natriumhydrogenphosphat, Natriummei^asilicat und Natriumformat. Die Konzentration dieser lösungen schwankt in Abhängigkeit von der Art der lösung. Sie liegt aber vorzugsweise im Bereich von 0.1 bis 10 Gew.^. Das so erhaltene Reliefbild hat eine starke Wiederstandsfähigkeit gegen Säuren und ist sehr wiederstandsfähig gegenüber einer Ätzlösung von Salpetersäure oder Ferrichlorid, so daß sie in vorteilhafter Weise verwendet werden können zur Herstellung von Druckpressen-Druckplatten, Tiefdruck-Druckplatten, Typenschildern oder gedruckten Schaltungen. Ausserdem haben die Reliefbilder nicht nur eine vorteilhafte Affinität für öle, so daß sie für liüpgraphische Druckplatten verwendet werden können, sondern sie besitzen auch eine hohe Druckbeständigkeit. Wie bereits oben erwähnt, ist deshalb eine PS-Platte, die unter Verwendung der lichtempfindlichen Masse gemäß der Erfindung hergestellt
- 10 -
209813/1733
worden ist, auss er ordentlich -vorteilhaft verwendbar.
Die Torliegende Erfindung wird anhand der nachfolgenden Beispiele weiter erläutert. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese Beispiele "beschränkt.
Beispiel 1
77 g des Kondensationsproduktes aus 39 Gewichtsteilen 1 ,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid mit 32 Gewichtsteilen p-t-Butylphenol-Formaldehyd-Harz (Herstellungsbeispiel 2) und 2 g Methylviolett wurden in einem Liter Methylcello solve gelöst, und die erhaltene Lösung wurde filtriert, wobei eine lichtempfindliche Flüssigkeit erhalten wurde. Diese lichtempfindliche Flüssigkeit wurde unter Verwendung einer Walzen-Beschichtungsvorriehtung auf eine Zinkplatte mit polierter Oberfläche aufgetragen und dann getrocknet, wobei eine PS-Batte erhalten wurde. Die empfindliche Oberfläche der so hergestellten PS-Platte wurde in dichten Kontatt mit einem positiven Original gebracht, und die Anordnung wurde in einen Vakuumdrucker gegeben und mit einer fluoreszierenden Lampe 5 Minuten lang belichtet. Anschliessend wurde die belichtete Platte mit eier 33^igen wässrigen Matriumhydroxid-Lösung entwickelt, wobei die belichteten Teile gelöst und entfernt wurden. Es wurde ein positives Resistbild mit ausgezeichneter mechanischer Festigkeit und Säurebeständigkeit erhalten. Dieses Bild wurde mit Wasser geeschen, in einem heissen trockenen Luftstrom getrocknet und dann 2 Minuten auf 160 °0 erhitzt. Die so behandelte Zinkplatte wurde mit Salpetersäure in einer Schnellätzmaschine unter Verwendung eines oberflächenaktiven Mittels dem tonerfreien Ätzvorgang unterworfen, wobei ein praktisch brauchbares fotografisches Reliefbild für den Druck erhalten wurde.
Beispiel 2
24 g des Kondensationsproduktes aus 40 Gewichtsteilen
209813/1733
1, 2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid mit 27 Gewichts-" teilen p-Phenylphenol-Formaldehyd-Harz (Herstellungsbeispiel 4) und 60 g eines in Alkali löslichen Phenol-Formaldehyd-Novolak-Harzes wurden in einem Liter Methylcellosolve gelöst, und die erhaltene Lösung wurde filtriert, wobei eine lichtempfindliche Flüssigkeit erhalten wurde. Diese lichtempfindliche Flüssigkeit wurde unter Verwendung einer Walzenauftragsmaschine auf eine Kupferplatte mit einer gründlich polierten Oberfläche aufgetragen, wobei bei über 60 0C getrocknet wurde, so daß ein gleichmässiger Film gebildet wurde. Die so erhaltene lichtempfindliche Platte wurde in der Kälte im Dunkeln gelagert. Die Platte war auf diese Weise mehr als 1 Jahr lagerfähig. Die lichtempfindliche Oberfläche dieser Platte wurde in dichten Kontakt mit einem positiven Original gebracht, und die Anordnung wurde in einer Leuchtröhre ("chemical lamp") 5 Minuten lang belichtet. Anschliessend wurde die belichtete Platte mit einer wässrigen Alkalilösung entwickelt, die durch Auflösen von 30 g Natriumphosphat und 10 g Natriumhydroxid in 1 Liter Wasser erhalten wurde. Das Entwickeln wurde durch Bewegen der Platte in einer Wanne bewirkt, die diese Lösung enthielt. Dabei wurden die belichteten Teile gelöst und entfernt, und es wurde ein positives Resistbild erhalten. Nach gründlichem Waschen mit Wasser und Trocknen wurde die Platte ohne weitere Behandlung unter Verwendung von einer Ferrichlorid-Lösung der sogenannten Dow-Ätzung unterworfen. Dabei wurde eine ausgezeichnete Relief-Druckplatte erhalten.
Beispiel 3
21 g des Kondensationsproduktes aus 40 Gewichtsteilen 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid mit 27 Gewichtsteilen p-Methoxyphenol-Formaldehyd-Harz (Herstellungsbeispiel b) und 60 g eines in Alkali löslichen m-Cresol-Formaldehyd-Novolak-Harzes wurden in einem Liter Methylcellosolve gelöst. Die erhaltene Lösung wurde unter Herstellung einer lichtempfindlichen Jlüssigkeit filtriert. Diese lichtempfindliche - 12 -
209813/1733
2H6167
Flüssigkeit wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte aufgetragen, wobei eine lichtempfindliche Platte erhalten wurde. Die lichtempfindliche Oberfläche dieser Platte wurde in dichte Kontakt mit einem positiven Bild gebracht, und die Anordnung wurde in einem Vakuumdrucker eine Minute lang mit einer 30 Ampere Kohlenbogenlampe aus einer Entfernung von 50 cm belichtet. Anschliessend wurde die belichtete Platte mit einer siebenprozentigen wässrigen Natriummet^asilicat-Lösung entwickelt, wobei die belichteten Teile gelöst und entfernt wurden. Es/iurde ein ausgezeichnetes positives Bild erhalten. Nach gründlichem Waschen mit Wasser wurde die Platte wasserhaltend gemacht und in einem Offsetdrucker unter Verwendung von anfeuchtendem Wasser eingesetzt, wobei eine grosse Zahl ausgezeichneter Kopien dieses Bildes erhalten wurde.
Beispiel 4
40 g des Kondensationsproduktes aus 65 Gewichtsteilen 1,2-Benzochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid mit 48 Gewichtsteilen p-Cresol-Formaldehyd-Harz (Herstellungsbeispiel 1) wurden in einem Liter Methylcellosolve gelöst, und die erhaltene lösung wurde filtriert. Es wurde so eine lichtempfindliche flüssigkeit erhalten. Diese lichtempfindliche Flüssigkeit wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte aufgetragen und dann getrocknet. Die erhaltene lichtempfindliche Platte wurde wie im Beispiel 3 beschrieben behandelt, wobei eine ausgezeichnete Druckplatte erhalten wurde.
Patentansprüche
- 13 -
209813/1733

Claims (1)

  1. 2U6167
    Patentansprüche
    lichtempfindliche Masse, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Kondensationsprodukt eines in Alkali unlöslichen oder schwer löslichen p-substituierten Phenol-iOrmaldehyd-Harzes der allgemeinen Formel
    / n
    worin R eine Alkyl-, Aryl-, Alkoxy-, Sulfoalkyl-,· Aryloxy-, Oarboalkoxy-, Aralkyl- oder Acetyl-Gruppe ist, R.J und R2 jweils ein Wasserstoff atom oder eine Alkyl- oder Alkoxy-Gruppe bedeuten und η für eine Zahl Ton 3 oder mehr steht,
    mit einem Sulfonylchlorid von o-Benzochinondiaaid oder o-Naphthoehinondiazid enthalt.
    lichtempfindliche Masse gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich ein in Alkali lösliches Hovolak-Harz enthält.
    Iiichteupündliche Masse gemäß Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie Aceton, Dioxan, Methylcellosolve und/oder ithylcellosolve als organisches Lösungsmittel enthält.
    Lichtempfindliche Masse gemäß Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie das genannte Kondensationsprodukt in einer Menge von 0.1 bis 20 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteilen des organischen Lösungsmittels und das NOvolals Harz in einer Menge von 0.0 bis 10 Gewichtsteilen pro
    209813/1733
    2H6167
    100 Gewichtsteilen organisches Lösungsmittel enthält.
    Verfahren zur Herstellung einer fotografischen Reliefdruckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Masse gemäß Ansprüchen 1 bis 4 auf einen Träger aufgetragen, die erhaltene presensibilisierte Platte bildmässig belichtet und die belichtete Platte mit einer wässrigen Alkalilösung behandelt wird.
    JJr.T/hu
    209813/1733
DE19712146167 1970-09-16 1971-09-15 Lichtempfindliche Masse Pending DE2146167A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8050570A JPS505083B1 (de) 1970-09-16 1970-09-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2146167A1 true DE2146167A1 (de) 1972-03-23

Family

ID=13720154

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19712146167 Pending DE2146167A1 (de) 1970-09-16 1971-09-15 Lichtempfindliche Masse

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS505083B1 (de)
DE (1) DE2146167A1 (de)
GB (1) GB1329888A (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5036206A (de) * 1973-08-03 1975-04-05
DE2512933A1 (de) * 1974-03-25 1975-10-02 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche planographische druckplatte
EP0010749A1 (de) * 1978-11-04 1980-05-14 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
EP0021716A1 (de) * 1979-06-16 1981-01-07 Konica Corporation Kondensationsprodukt und lithographische Druckplatten, die dieses Produkt enthalten
EP0070624A1 (de) * 1981-06-22 1983-01-26 Philip A. Hunt Chemical Corporation Novolak-Harz und eine dieses enthaltende positive "Photoresist"-Mischung
EP0110214A1 (de) * 1982-11-12 1984-06-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3009873A1 (de) * 1979-03-16 1980-09-25 Daicel Chem Photoempfindliche masse
JPS561044A (en) * 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
DE3043967A1 (de) 1980-11-21 1982-06-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
EP0155231B2 (de) * 1984-03-07 1997-01-15 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
DE3418477A1 (de) * 1984-05-18 1985-11-21 Rütgerswerke AG, 6000 Frankfurt Strahlungshaertendes bindemittel und verfahren zur herstellung flaechiger gebilde
US4632891A (en) * 1984-10-04 1986-12-30 Ciba-Geigy Corporation Process for the production of images
GB8430377D0 (en) * 1984-12-01 1985-01-09 Ciba Geigy Ag Modified phenolic resins
GB8505402D0 (en) * 1985-03-02 1985-04-03 Ciba Geigy Ag Modified phenolic resins
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3506295B2 (ja) 1995-12-22 2004-03-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
US6511790B2 (en) 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP1211065B1 (de) 2000-11-30 2009-01-14 FUJIFILM Corporation Lithographische Druckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
CN101855026A (zh) 2007-11-14 2010-10-06 富士胶片株式会社 干燥涂布膜的方法和制造平版印刷版前体的方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
CN105082725B (zh) 2009-09-24 2018-05-04 富士胶片株式会社 平版印刷版原版
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5036206A (de) * 1973-08-03 1975-04-05
JPS5635854B2 (de) * 1973-08-03 1981-08-20
DE2512933A1 (de) * 1974-03-25 1975-10-02 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche planographische druckplatte
JPS50125806A (de) * 1974-03-25 1975-10-03
JPS5723253B2 (de) * 1974-03-25 1982-05-18
EP0010749A1 (de) * 1978-11-04 1980-05-14 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
US4275139A (en) * 1978-11-04 1981-06-23 Hoechst Aktiengesellschaft Light-sensitive mixture and copying material produced therefrom
EP0021716A1 (de) * 1979-06-16 1981-01-07 Konica Corporation Kondensationsprodukt und lithographische Druckplatten, die dieses Produkt enthalten
EP0070624A1 (de) * 1981-06-22 1983-01-26 Philip A. Hunt Chemical Corporation Novolak-Harz und eine dieses enthaltende positive "Photoresist"-Mischung
EP0110214A1 (de) * 1982-11-12 1984-06-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung

Also Published As

Publication number Publication date
JPS505083B1 (de) 1975-02-28
GB1329888A (en) 1973-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2146167A1 (de) Lichtempfindliche Masse
DE2146166A1 (de) Lichtempfindliche Masse
EP0006561B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2024243C3 (de) Verfahren zur Herstellung Diazoniumgruppen enthaltender, lichtempfindlicher Kondensationsprodukte und diese Kondensationsprodukte enthaltendes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2149527C2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Gemische
DE2306248C3 (de) Durch Belichten löslich werdendes StofFgemisch und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE3009873A1 (de) Photoempfindliche masse
EP0001254B1 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Kopiermasse enthaltend ein halogeniertes Naphthochinondiazid
DE2834921A1 (de) Diazoniumverbindungen
DE2352139A1 (de) Lichtempfindliche masse
EP0131780A1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
EP0010749A1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
DE1254466B (de) Kopiermaterial fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen und Verfahren zur Herstellung von Druckformen
EP0126875B1 (de) Lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das dieses Polykondensationsprodukt enthält
DE2507548C2 (de) Vorsensibilisierte lithographische Druckplatte und deren Verwendung zur Erzeugung von Bildern
DE1622675B1 (de) Lichtvernetzbare Schichten aus Polymeren
DE2757056B2 (de) Photosensitive Masse für die Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien
DE2032947C2 (de) Verwendung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Herstellung von Farbprüffolien
DE2124047A1 (de) Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende Zusammensetzungen
DE3100856A1 (de) Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE2245433C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE3144657A1 (de) Lichtempfindliche masse
DE2130283A1 (de) Vinylpolymere,Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende photosensitive Zusammensetzungen
DE1134887B (de) Kopierschichten zur Herstellung von Druckformen auf photomechanischem Wege
EP0224162B1 (de) Lichtempfindliches, Diazoniumgruppen enthaltendes Polykondensationsprodukt, Verfahren zu seiner Herstellung und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das dieses Polykondensationsprodukt enthält