JPS5934293B2 - 感光性組成物 - Google Patents
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- JPS5934293B2 JPS5934293B2 JP52044588A JP4458877A JPS5934293B2 JP S5934293 B2 JPS5934293 B2 JP S5934293B2 JP 52044588 A JP52044588 A JP 52044588A JP 4458877 A JP4458877 A JP 4458877A JP S5934293 B2 JPS5934293 B2 JP S5934293B2
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- -1 aromatic azide compound Chemical class 0.000 claims description 15
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 3-Pentadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 claims description 3
- FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-azidophenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LYUXQQGPJXZWPV-UHFFFAOYSA-N 1,6-diazidopyrene Chemical compound C1=C2C(N=[N+]=[N-])=CC=C(C=C3)C2=C2C3=C(N=[N+]=[N-])C=CC2=C1 LYUXQQGPJXZWPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 1-azido-4-[(e)-2-(4-azidophenyl)ethenyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 2
- BMNGOGRNWBJJKB-UHFFFAOYSA-N 1-azidopyrene Chemical compound C1=C2C(N=[N+]=[N-])=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 BMNGOGRNWBJJKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VEKUGVLTYZFWOX-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-5-azidobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1NC1=CC=CC=C1 VEKUGVLTYZFWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 2-hexylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 4-Dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 4-n-Butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(O)C=C1 CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 4-n-Pentylphenol Chemical compound CCCCCC1=CC=C(O)C=C1 ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NTDQQZYCCIDJRK-UHFFFAOYSA-N 4-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 NTDQQZYCCIDJRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 claims description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N bis(4-azidophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 claims description 2
- RYNBACWGOZCQIF-UHFFFAOYSA-N methyl 5-azido-2-(4-methoxyanilino)benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1NC1=CC=C(OC)C=C1 RYNBACWGOZCQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N p-tert-Amylphenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 NRZWYNLTFLDQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 claims description 2
- MVPFPGOWZLIWRV-UHFFFAOYSA-N 1-azido-4-[[3-[(4-azidophenyl)methylidene]cyclohexylidene]methyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=C(CCC1)CC1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MVPFPGOWZLIWRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2N=CSC2=C1 IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- KVVSCMOUFCNCGX-UHFFFAOYSA-N cardol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC(O)=CC(O)=C1 KVVSCMOUFCNCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- UFMJCOLGRWKUKO-UHFFFAOYSA-N cardol diene Natural products CCCC=CCC=CCCCCCCCC1=CC(O)=CC(O)=C1 UFMJCOLGRWKUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- PCNMALATRPXTKX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1=CCC(C)(O)C=C1 PCNMALATRPXTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 11',12',14',15'-Tetradehydro(Z,Z-)-3-(8-Pentadecenyl)phenol Natural products OC1=CC=CC(CCCCCCCC=CCC=CCC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZNOMHUYXSAUPB-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=C(CCC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 UZNOMHUYXSAUPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCDLXRUGKUKJGT-UHFFFAOYSA-N 2-(4-azidophenyl)-6-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound S1C2=CC(C)=CC=C2N=C1C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 DCDLXRUGKUKJGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical class CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 3-Delta8-pentadecenylphenol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 YLKVIMNNMLKUGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 244000226021 Anacardium occidentale Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N Cardanol Chemical compound OC1=CC=CC(CCCCCCC\C=C/C\C=C/CC=C)=C1 JOLVYUIAMRUBRK-UTOQUPLUSA-N 0.000 description 1
- FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N Cardanoldiene Natural products CCCC=CCC=CCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 FAYVLNWNMNHXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000020226 cashew nut Nutrition 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000010466 nut oil Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I pentasodium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O HWGNBUXHKFFFIH-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 235000013904 zinc acetate Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0125—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G8/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08G8/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes
- C08G8/08—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
- C08G8/24—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ with mixtures of two or more phenols which are not covered by only one of the groups C08G8/10 - C08G8/20
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L61/00—Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L61/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C08L61/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性組成物に関するものであり、更に詳しく
述べるならば、露光によつて、アルカリ水溶液に対して
極めて高い抵抗性を有する硬化樹脂を形成することので
きるアルカリ可溶性感光性樹脂に関するものである。
述べるならば、露光によつて、アルカリ水溶液に対して
極めて高い抵抗性を有する硬化樹脂を形成することので
きるアルカリ可溶性感光性樹脂に関するものである。
フエノール性水酸基を有する高分子化合物、例えば、フ
エノールノボラツク樹脂、クレゾールノボラツク樹脂な
どのような比較的低分子量のアルカリ可溶性ノボラツク
樹脂と、芳香族アジド化合物とを含有する感光性樹脂組
成物は、既に、フオトレリーフ又はフオトレジストとし
て、各種印刷版材、又は、金属エツチング用被覆材料と
して、広く実用に供されている。
エノールノボラツク樹脂、クレゾールノボラツク樹脂な
どのような比較的低分子量のアルカリ可溶性ノボラツク
樹脂と、芳香族アジド化合物とを含有する感光性樹脂組
成物は、既に、フオトレリーフ又はフオトレジストとし
て、各種印刷版材、又は、金属エツチング用被覆材料と
して、広く実用に供されている。
また近年、ヒドロキシポリスチレンなどのような水酸基
を有する直鎖状ビニル樹脂も、同様の用途に使用可能な
ことが知られている。これら従来の感光性組成物は、基
材表面に塗布され、所望画像に応じて露光され、次にア
ルカリ水溶液などの現像液により現像処理され、未露光
部分が溶解除去される。しかしながら、前記のような従
来の感光性組成物が用いられた場合、露光部分と未露光
部分との、アルカリ水溶液に対する溶解度の差が比較的
小さかつた。このため現像条件のコントロールが難かし
く(ラチチユードが狭い)、特に連続的現像を行なうと
きは、現像液のアルカリ濃度および現像時間を正確に調
整することが必要で、操作が繁雑であつた。また、上記
のような従来の感光性組成物から得られた印刷版材は、
印刷インキに対する感脂性が比較的低いという欠点があ
つた。また、カシユーナツツオイルから得られる刀ノレ
ダノール、アナカドール、又は、カードルと、フエノー
ルとの、ホルムアルデヒド共縮合物と、アジド化合物と
の組成物も良好な感光性を有することが知られている(
特公昭48−43284号公報)。
を有する直鎖状ビニル樹脂も、同様の用途に使用可能な
ことが知られている。これら従来の感光性組成物は、基
材表面に塗布され、所望画像に応じて露光され、次にア
ルカリ水溶液などの現像液により現像処理され、未露光
部分が溶解除去される。しかしながら、前記のような従
来の感光性組成物が用いられた場合、露光部分と未露光
部分との、アルカリ水溶液に対する溶解度の差が比較的
小さかつた。このため現像条件のコントロールが難かし
く(ラチチユードが狭い)、特に連続的現像を行なうと
きは、現像液のアルカリ濃度および現像時間を正確に調
整することが必要で、操作が繁雑であつた。また、上記
のような従来の感光性組成物から得られた印刷版材は、
印刷インキに対する感脂性が比較的低いという欠点があ
つた。また、カシユーナツツオイルから得られる刀ノレ
ダノール、アナカドール、又は、カードルと、フエノー
ルとの、ホルムアルデヒド共縮合物と、アジド化合物と
の組成物も良好な感光性を有することが知られている(
特公昭48−43284号公報)。
上記カルダノール、アナカドール、又は、カードルは、
いずれも炭素数15のアルケニル基を有するフエノール
誘導体であつて、側鎖中に二重結合を有している。従つ
て、このようなフエノール誘導体を含むノボラツク樹脂
は、前記二重結合の存在により光硬化性がすぐれている
が、しかしながら、このような感光性組成物は、前記フ
エノール誘導体中の二重結合の存在のため貯蔵中に変質
し易いという欠点がある。従つて、このような感光性組
成物を支持体に塗布し、長期間貯蔵すると、そのアルカ
リ可溶性が貯蔵時間が増すに従つて低下する。従つて、
このような感光材料を長期間の貯蔵後に使用すると、ア
ルカリ水溶液による未露光部分の溶解に要する時間が長
くなり、やがて露光部分と未露光部分とのアルカリ可溶
性の差が小さくなつて、使用不能になつてしまうという
欠点がある。本発明の目的は、短時間の露光によりアル
カリ水溶液に対し極めて高い抵抗性を有する硬化樹脂を
与えることができ、かつ、短時間内に現像可能な感光性
組成物を提供することである。
いずれも炭素数15のアルケニル基を有するフエノール
誘導体であつて、側鎖中に二重結合を有している。従つ
て、このようなフエノール誘導体を含むノボラツク樹脂
は、前記二重結合の存在により光硬化性がすぐれている
が、しかしながら、このような感光性組成物は、前記フ
エノール誘導体中の二重結合の存在のため貯蔵中に変質
し易いという欠点がある。従つて、このような感光性組
成物を支持体に塗布し、長期間貯蔵すると、そのアルカ
リ可溶性が貯蔵時間が増すに従つて低下する。従つて、
このような感光材料を長期間の貯蔵後に使用すると、ア
ルカリ水溶液による未露光部分の溶解に要する時間が長
くなり、やがて露光部分と未露光部分とのアルカリ可溶
性の差が小さくなつて、使用不能になつてしまうという
欠点がある。本発明の目的は、短時間の露光によりアル
カリ水溶液に対し極めて高い抵抗性を有する硬化樹脂を
与えることができ、かつ、短時間内に現像可能な感光性
組成物を提供することである。
本発明の他の目的は、長時間の貯蔵によつても感光性お
よび現像性の変化の極めて少ない感光性組成物を提供す
ることである。
よび現像性の変化の極めて少ない感光性組成物を提供す
ることである。
本発明の更に他の目的は、感脂性のすぐれた印刷版材を
与えることのできる感光性組成物を提供することである
。
与えることのできる感光性組成物を提供することである
。
上記目的は、本発明の感光性組成物、すなわち、下記一
般式(1)の化合物と、〔但し式中、R,は水素原子、
又は、メチル基を表わす〕、下記一般式(}および皿の
化合物の少なくとも1種と、〔但し式中、R2は、フエ
ニル基、シクロヘキシル基、又は炭素原子3〜15のア
ルキル基を表わす〕′V
四〔但し式中、R3およびR4は、
それぞれ炭素数1〜3のアルキル基を表わす〕ホルムア
ルデヒドとを、酸性触媒の存在下に、縮合して得られる
少なくとも1種のアルカリ水溶性重合体と、少なくとも
1種の芳香族アジド化合物とを含有する感光性組成物に
よつて達成される。
般式(1)の化合物と、〔但し式中、R,は水素原子、
又は、メチル基を表わす〕、下記一般式(}および皿の
化合物の少なくとも1種と、〔但し式中、R2は、フエ
ニル基、シクロヘキシル基、又は炭素原子3〜15のア
ルキル基を表わす〕′V
四〔但し式中、R3およびR4は、
それぞれ炭素数1〜3のアルキル基を表わす〕ホルムア
ルデヒドとを、酸性触媒の存在下に、縮合して得られる
少なくとも1種のアルカリ水溶性重合体と、少なくとも
1種の芳香族アジド化合物とを含有する感光性組成物に
よつて達成される。
本発明り感光性組成物に含まれるアルカリ水可溶性の重
合体は、分子量の比較的小さな一般式(1)の化合物と
、分子量の比較的大きな一般式()および/又は(自)
の化合物との両者を含むことを特徴とするものである。
この重合体の組成は、所望される特性に応じて、例えば
要求されるアルカリ水現像性に応じて定めることができ
る。一般には、前記重合体を縮合により生成する際、一
般式(1)の化合物の、前記一般式()および(11)
の化合物から選ばれた少なくとも1種に対する重量比が
90:10ないし30:70であり、かつ、前記ホルム
アルデヒドの量が、前記一般式(1)の化合物と、前記
一般式(…)および(W)の化合物との総モル数に対し
、50ないし90モル%であることが好ましい。本発明
の感光性組成物において、一般式(1)の化合物として
、フエノール又はクレゾールが用いられる。また、一般
式()の化合物としては、フエニルフエノール、シクロ
ヘキシルフエノール、イソプロピルフエノール、ヘキシ
ルフエノール、p一Tert−、又は、p−n−ブチル
フエノール、p一Tert−、又は、p−n−アミルフ
エノール、p−Tert−、又は、p−n−オクチルフ
エノール、p−ノニルフエノール、p−ドデシルフエノ
ール、又は、m−ペンタデシルフエノールなどが用いら
れる。更に、一般式皿の化合物としては、2,4−,3
,4一又は3,5−キシレノール、カルバクロール又は
チモールを用いることができる。上記一般式(1),(
n)および(11の化合物とホルムアルデヒドとは、慣
用の酸性触媒、例えば、塩酸、シユウ酸、酢酸亜鉛、酢
酸マグネシウムなどの存在により、慣用方法により縮合
し、アルカリ水可溶性ノボラツク樹脂を生成する〇本発
明の感光性組成物に含まれる芳香族アジド化合物に対し
、格別の限定はなく、従来、感光材フ料として慣用され
ているものを用いることができる。
合体は、分子量の比較的小さな一般式(1)の化合物と
、分子量の比較的大きな一般式()および/又は(自)
の化合物との両者を含むことを特徴とするものである。
この重合体の組成は、所望される特性に応じて、例えば
要求されるアルカリ水現像性に応じて定めることができ
る。一般には、前記重合体を縮合により生成する際、一
般式(1)の化合物の、前記一般式()および(11)
の化合物から選ばれた少なくとも1種に対する重量比が
90:10ないし30:70であり、かつ、前記ホルム
アルデヒドの量が、前記一般式(1)の化合物と、前記
一般式(…)および(W)の化合物との総モル数に対し
、50ないし90モル%であることが好ましい。本発明
の感光性組成物において、一般式(1)の化合物として
、フエノール又はクレゾールが用いられる。また、一般
式()の化合物としては、フエニルフエノール、シクロ
ヘキシルフエノール、イソプロピルフエノール、ヘキシ
ルフエノール、p一Tert−、又は、p−n−ブチル
フエノール、p一Tert−、又は、p−n−アミルフ
エノール、p−Tert−、又は、p−n−オクチルフ
エノール、p−ノニルフエノール、p−ドデシルフエノ
ール、又は、m−ペンタデシルフエノールなどが用いら
れる。更に、一般式皿の化合物としては、2,4−,3
,4一又は3,5−キシレノール、カルバクロール又は
チモールを用いることができる。上記一般式(1),(
n)および(11の化合物とホルムアルデヒドとは、慣
用の酸性触媒、例えば、塩酸、シユウ酸、酢酸亜鉛、酢
酸マグネシウムなどの存在により、慣用方法により縮合
し、アルカリ水可溶性ノボラツク樹脂を生成する〇本発
明の感光性組成物に含まれる芳香族アジド化合物に対し
、格別の限定はなく、従来、感光材フ料として慣用され
ているものを用いることができる。
好ましい芳香族アジド化合物としては、4,4′一ジア
ジドスチルベン、4,4′−ジアジドカルコン、4,4
′−ジアジドベンゾフエノン、2,6−ビス(4′−ア
ジドベンジリデン)シクロヘキサノン、1−アジドピレ
ン、1,6−ジアジドピレン、2−(4′−メトキシア
ニリノ)−5−アジド安息香酸メチルエステル、2−ア
ニリノ−5−アジド安息香酸、2−(4′−アジドフエ
ニル)−6−メチルベンゾチアゾール、2−(4′−ア
ジドフエニル)−(ナフト−1Z2′−4,5−オキサ
ゾール)などがある。本発明の感光性組成物中の芳香族
アジド化合物の含有量は所望に応じて適宜定めることが
できるが一般には、アルカリ水可溶性重合体重量に対し
、5〜40%であることが好ましく、10〜30%であ
ることが更に好ましい。本発明の感光性組成物を、所要
に応じて適当な溶剤、例えば各種セロソルブ、カルビト
ール、シクロヘキサノン、ジオキサン、酢酸ブチルなど
に、適当な濃度、例えば、1〜30重量%で溶解して使
用してもよい。本発明の感光性組成物から製造された感
光材料は、露光により、アルカリ水に対し極めて抵抗性
の高い硬化樹脂を与え、感度が高いので、従来の感光性
組成物に比して露光時間を著るしく短縮することができ
る。また、本発明の感光性組成物から製造された感光材
料は、露光部と、未露光部のアルカリ水に対する抵抗性
の差が著るしく大きいので、アルカリ水現像の安定性が
すぐれている。更に、本発明の感光性組成物および、そ
lしから製造された感光材料は、化学的に安定性が高い
ので、長期間にわたつて品質の低下なしに貯蔵すること
ができ、かつ、感脂性がすぐれている。従つて、本発明
の感光性組成物は、感光材料として広い用途、例えば、
レリーフとしてワイポン版、PS版など、およびレジス
トとして凸版、凹版などの印刷版材として用いられ、或
は、金属エツチング用マスク、フオトマスク、および複
写用第二原図などにも用いられる。本発明の感光件組成
物から、感光材料を作成するには、まず、本発明の感光
性組成物を適当な有機溶剤に、好ましくは、1〜30重
量%の濃度になるように溶解する。
ジドスチルベン、4,4′−ジアジドカルコン、4,4
′−ジアジドベンゾフエノン、2,6−ビス(4′−ア
ジドベンジリデン)シクロヘキサノン、1−アジドピレ
ン、1,6−ジアジドピレン、2−(4′−メトキシア
ニリノ)−5−アジド安息香酸メチルエステル、2−ア
ニリノ−5−アジド安息香酸、2−(4′−アジドフエ
ニル)−6−メチルベンゾチアゾール、2−(4′−ア
ジドフエニル)−(ナフト−1Z2′−4,5−オキサ
ゾール)などがある。本発明の感光性組成物中の芳香族
アジド化合物の含有量は所望に応じて適宜定めることが
できるが一般には、アルカリ水可溶性重合体重量に対し
、5〜40%であることが好ましく、10〜30%であ
ることが更に好ましい。本発明の感光性組成物を、所要
に応じて適当な溶剤、例えば各種セロソルブ、カルビト
ール、シクロヘキサノン、ジオキサン、酢酸ブチルなど
に、適当な濃度、例えば、1〜30重量%で溶解して使
用してもよい。本発明の感光性組成物から製造された感
光材料は、露光により、アルカリ水に対し極めて抵抗性
の高い硬化樹脂を与え、感度が高いので、従来の感光性
組成物に比して露光時間を著るしく短縮することができ
る。また、本発明の感光性組成物から製造された感光材
料は、露光部と、未露光部のアルカリ水に対する抵抗性
の差が著るしく大きいので、アルカリ水現像の安定性が
すぐれている。更に、本発明の感光性組成物および、そ
lしから製造された感光材料は、化学的に安定性が高い
ので、長期間にわたつて品質の低下なしに貯蔵すること
ができ、かつ、感脂性がすぐれている。従つて、本発明
の感光性組成物は、感光材料として広い用途、例えば、
レリーフとしてワイポン版、PS版など、およびレジス
トとして凸版、凹版などの印刷版材として用いられ、或
は、金属エツチング用マスク、フオトマスク、および複
写用第二原図などにも用いられる。本発明の感光件組成
物から、感光材料を作成するには、まず、本発明の感光
性組成物を適当な有機溶剤に、好ましくは、1〜30重
量%の濃度になるように溶解する。
有機溶剤としては、例えばエチレングリコール−エーテ
ル類、エチレングリコールアセテート類、シクロヘキサ
ノン、ジオキサン、酢酸ブチル、およびアルコール類な
どが用いられる。上記溶液を適当な支持体、例えばアル
ミニウム、亜鉛、銅などの金属板、ポリエステル、ポリ
プロピレン、セルローズアセテートなどのプラスチツク
フイルム、紙、又は、前記フイルム又は金属板をラミネ
ートした紙などの表面に均一に塗布する。この塗布法と
しては、スプレー法、含浸法、ボイラー又はロールによ
るコーテイング法などがある。塗布後、塗布膜を乾燥し
て有機溶剤を除去する。このようにして製造された感光
材料の膜面に所望のネガ画像を重ね合わせ、活性光線を
照射する。照射のためには、例えばカーボンアーク灯、
水銀ランプ、キセノンランプなどを用いることができる
。これによつて感光材料の感光性組成物膜の露光部分は
硬化し、アルカリ水不溶性になる。次に、この感光材料
をアルカリ水溶液、例えば、メタケイ酸ソーダ、力性ソ
ーダ、力性カリ、炭酸ソーダ、第三燐酸ソーダなどの水
溶液、又は、これらの混合水溶液、或は、所望に応じ、
これらアルカリ水溶液とメタノール、エタノール、ジオ
キサンなどの有機溶剤、又は、アニオン系、又は、ノニ
オン系の慣用界面活性剤との混合液により現像される。
ル類、エチレングリコールアセテート類、シクロヘキサ
ノン、ジオキサン、酢酸ブチル、およびアルコール類な
どが用いられる。上記溶液を適当な支持体、例えばアル
ミニウム、亜鉛、銅などの金属板、ポリエステル、ポリ
プロピレン、セルローズアセテートなどのプラスチツク
フイルム、紙、又は、前記フイルム又は金属板をラミネ
ートした紙などの表面に均一に塗布する。この塗布法と
しては、スプレー法、含浸法、ボイラー又はロールによ
るコーテイング法などがある。塗布後、塗布膜を乾燥し
て有機溶剤を除去する。このようにして製造された感光
材料の膜面に所望のネガ画像を重ね合わせ、活性光線を
照射する。照射のためには、例えばカーボンアーク灯、
水銀ランプ、キセノンランプなどを用いることができる
。これによつて感光材料の感光性組成物膜の露光部分は
硬化し、アルカリ水不溶性になる。次に、この感光材料
をアルカリ水溶液、例えば、メタケイ酸ソーダ、力性ソ
ーダ、力性カリ、炭酸ソーダ、第三燐酸ソーダなどの水
溶液、又は、これらの混合水溶液、或は、所望に応じ、
これらアルカリ水溶液とメタノール、エタノール、ジオ
キサンなどの有機溶剤、又は、アニオン系、又は、ノニ
オン系の慣用界面活性剤との混合液により現像される。
露光および現像条件は、コダツク社製、ステツプタブレ
ツト/F62の残段数が、所望段数になるように規定さ
れるが、現像は一般に、20〜35℃の温度で45秒〜
2分間行なわれる。本発朋の感光性組成物に用いられる
アルカリ水可溶性重合体(ノボラツク樹脂)の製造法を
下記合成例により具体的に説明する。合成例 1〜7 合成例1において、シール付撹拌棒、コンデン゛サ一、
および温度計を有する三ロフラスコ(1リツトル容量)
中に下記原料を装入した。
ツト/F62の残段数が、所望段数になるように規定さ
れるが、現像は一般に、20〜35℃の温度で45秒〜
2分間行なわれる。本発朋の感光性組成物に用いられる
アルカリ水可溶性重合体(ノボラツク樹脂)の製造法を
下記合成例により具体的に説明する。合成例 1〜7 合成例1において、シール付撹拌棒、コンデン゛サ一、
および温度計を有する三ロフラスコ(1リツトル容量)
中に下記原料を装入した。
上記混合物を100℃に加熱し、8時間撹拌してノボラ
ツク樹脂を製造し、その後、減圧下に180〜190℃
に加熱し、未反応のホルムアルデヒド、単量体および水
を除去し、540gのノボラツク樹脂を得た。
ツク樹脂を製造し、その後、減圧下に180〜190℃
に加熱し、未反応のホルムアルデヒド、単量体および水
を除去し、540gのノボラツク樹脂を得た。
この樹脂の融点は96〜100℃であつた。合成例2〜
7において、合成例1の操作を繰り返した。
7において、合成例1の操作を繰り返した。
但し、合成例1において使用された、p一Tert−オ
クチルフエノールおよびその使用量の代りに、第1表に
示されているフエノール化合物を、第1表に示されてい
る量で使用した。得られたノボラツク樹脂の融点を第1
表に示す。本発明の感光性組成物中には、前述の特定ノ
ボラツク樹脂の他に、アルカリ可溶性の通常のフエノー
ル樹脂、変性フエノール樹脂およびアルカリ可溶性で、
芳香族アジドの存在で、露光により硬化しアルカリ不溶
性となり得る樹脂を含んでいてもよい。更に、本発明の
感光性組成物は、感光性組成物溶液の塗工性を改善し、
塗工膜の強度を改善し、或は、塗工膜の耐酸腐食性を改
善するための物質、例えば、セルローズ誘導体、アクリ
ル樹脂、ビニルピロリドン、マレイ7酸共重合体などを
含んでいてもよい。更に、本発明の感光性組成物は、染
料、顔料、増感剤、その他の添加剤を含んでいてもよい
。本発明の感光性組成物を下記実施例により、更に詳し
く説明する。
クチルフエノールおよびその使用量の代りに、第1表に
示されているフエノール化合物を、第1表に示されてい
る量で使用した。得られたノボラツク樹脂の融点を第1
表に示す。本発明の感光性組成物中には、前述の特定ノ
ボラツク樹脂の他に、アルカリ可溶性の通常のフエノー
ル樹脂、変性フエノール樹脂およびアルカリ可溶性で、
芳香族アジドの存在で、露光により硬化しアルカリ不溶
性となり得る樹脂を含んでいてもよい。更に、本発明の
感光性組成物は、感光性組成物溶液の塗工性を改善し、
塗工膜の強度を改善し、或は、塗工膜の耐酸腐食性を改
善するための物質、例えば、セルローズ誘導体、アクリ
ル樹脂、ビニルピロリドン、マレイ7酸共重合体などを
含んでいてもよい。更に、本発明の感光性組成物は、染
料、顔料、増感剤、その他の添加剤を含んでいてもよい
。本発明の感光性組成物を下記実施例により、更に詳し
く説明する。
実施例1〜6及び比較例1
実施例1〜6において、合成例1〜6の共縮合ノボラツ
ク樹脂を用い下記組成の感光性組成物の溶液を作製し、
亜酪板上に、ボイラーを用いて、60rFの回転数で塗
布し、次に、通風乾燥機中で、80℃で乾緩し、厚さ3
μの感光性組成物の皮膜を形成した。
ク樹脂を用い下記組成の感光性組成物の溶液を作製し、
亜酪板上に、ボイラーを用いて、60rFの回転数で塗
布し、次に、通風乾燥機中で、80℃で乾緩し、厚さ3
μの感光性組成物の皮膜を形成した。
この皮膜上にコダツク製のステツプタブレツト/V).
2を重ね、2kWの超高圧水銀灯を用い、1mの距離か
ら、前記皮膜に70秒間の露光を施し、バツト中の25
℃の力性ソーダ水溶液の現像液で、現像した。このとき
未露光部の現像時間が60秒になるように力性ソーダの
濃度を各々調整した。現像時間は未露光部分が溶解除去
される時間(抜け時間)を基本として、更に現像時間を
第2表のように延長し(現像押し)、各時間毎に感光皮
膜のステツプ残り段数を求めた。この結果を第2表に示
す。
2を重ね、2kWの超高圧水銀灯を用い、1mの距離か
ら、前記皮膜に70秒間の露光を施し、バツト中の25
℃の力性ソーダ水溶液の現像液で、現像した。このとき
未露光部の現像時間が60秒になるように力性ソーダの
濃度を各々調整した。現像時間は未露光部分が溶解除去
される時間(抜け時間)を基本として、更に現像時間を
第2表のように延長し(現像押し)、各時間毎に感光皮
膜のステツプ残り段数を求めた。この結果を第2表に示
す。
なお第2表中の現像時間の延長割合100%とは、未露
光部の抜け時間の2倍であり、200%,300%)4
00%は、それぞれ、3倍、4倍、5倍を意味する。比
較のために、比較例1において通常のメタクレゾールノ
ボラツク樹脂を用いて、実施例1〜6と同様の操作を行
つた。その結果は第2表に示されている通りであつた。
上記の結果から、本発明の共縮合体ノボラツク樹脂を使
用すると、従来使われていたm−クレゾールノボラツク
樹脂に比べ、約2ないし4倍に感度が増加し、しかも現
像の安定性、即ちラチチユードが非常に広くなつた事が
判明した。
光部の抜け時間の2倍であり、200%,300%)4
00%は、それぞれ、3倍、4倍、5倍を意味する。比
較のために、比較例1において通常のメタクレゾールノ
ボラツク樹脂を用いて、実施例1〜6と同様の操作を行
つた。その結果は第2表に示されている通りであつた。
上記の結果から、本発明の共縮合体ノボラツク樹脂を使
用すると、従来使われていたm−クレゾールノボラツク
樹脂に比べ、約2ないし4倍に感度が増加し、しかも現
像の安定性、即ちラチチユードが非常に広くなつた事が
判明した。
又上述の感光性組成物の塗膜は非常に安定で、6ケ月間
常温で貯蔵した後でも、その現像性にほとんど変化が見
られなかつた。
常温で貯蔵した後でも、その現像性にほとんど変化が見
られなかつた。
すなわち、第2表中、実施例1の樹脂を使用した場合、
塗工直後の現像時間(未露光部を溶解除去するに要する
時間)が60秒であり、6ケ月後で+:)66秒で殆ん
ど変化がなかつた。実施例2の樹脂の場合には、同様に
60秒が66秒になつただけである。比較のため、二重
結合を含むカルダノールーフエノール共縮合ノボラツク
樹脂を使用して同様の試験を行つた所、現像時間が、当
初の50秒から、1ケ月後に4倍の200秒になつた。
この事刀)ら、本発明の感光性組成物の塗工皮膜は、非
常に安定である事がわかる。実施例7一11及び比較例
2 実施例1と同様の操作を線り返えした。
塗工直後の現像時間(未露光部を溶解除去するに要する
時間)が60秒であり、6ケ月後で+:)66秒で殆ん
ど変化がなかつた。実施例2の樹脂の場合には、同様に
60秒が66秒になつただけである。比較のため、二重
結合を含むカルダノールーフエノール共縮合ノボラツク
樹脂を使用して同様の試験を行つた所、現像時間が、当
初の50秒から、1ケ月後に4倍の200秒になつた。
この事刀)ら、本発明の感光性組成物の塗工皮膜は、非
常に安定である事がわかる。実施例7一11及び比較例
2 実施例1と同様の操作を線り返えした。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式( I )の化合物と、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )〔但し、式
中R_1は水素原子又はメチル基を表わす〕、下記一般
式(II)および(III)の化合物の少なくとも1種と、
▲数式、化学式、表等があります▼(II)〔但し、式中
R_2はフェニル基、シクロヘキシル基、又は炭素原子
3ないし15のアルキル基を表わす〕、▲数式、化学式
、表等があります▼(III)〔但し、式中R_3および
R_4はそれぞれ炭素数1ないし3のアルキル基を表わ
す〕、ホルムアルデヒドとを、酸性触媒の存在下に縮合
して得られる、少なくとも1種のアルカリ水可溶性重合
体と、少なくとも1種の芳香族アジド化合物とを含有す
ることを特徴とする感光性組成物。 2 前記重合体を縮合により生成するための、一般式(
I )の化合物の、前記一般式(II)および(III)の化
合物から選ばれた少ねくとも1種に対する重合比が、9
0:10ないし30:70であり、かつ前記ホルムアル
デヒドの量が、前記一般式( I )の化合物と、前記一
般式(II)および(III)の化合物との総モル数に対し
、50ないし90モル%である、特許請求の範囲第1項
記載の感光性組成物。 3 前記一般式( I )の化合物が、フェノール又はク
レゾールである特許請求の範囲第1項記載の感光性組成
物。 4 前記一般式(II)の化合物が、フェニルフェノール
、シクロヘキシルフェノール、イソプロピルフェノール
、p−tert−又はp−n−ブチルフェノール、p−
tert又はp−n−アミルフエノール、p−teat
又はp−n−オクチルフェノール、p−ノニルフェノー
ル、p−ドデシルフェノール、ヘキシルフェノール又は
、m−ペンタデシルフェノールである特許請求の範囲第
1項記載の感光性組成物。 5 前記一般式(III)の化合物が2,4−、3,4−
又は3,5−キシレノール、カルバクロール又はチモー
ルである特許請求の範囲第1項記載の感光性組成物。 6 前記芳香族アジド化合物の含有量が、前記重合体重
量に対し、5ないし40%である特許請求の範囲第1項
記載の感光性組成物。 7 前記芳香族アジド化合物が、4,4′−ジアジドス
チルベン、4,4′−ジアジドカルコン、4,4′−ジ
アジドベンゾフェノン、2,6−ビス(4′−アジドベ
ンジリデン)シクロヘキサン、1−アジドピレン、1,
6−ジアジドピレン、2−(4′−メトキシアニリノ)
−5−アジド安息香酸メチルエステル、2−アニリノ−
5−アジド安息香酸、2−(4′−アジドフェニル)−
6−メチルベンゾチアゾール、又は、2−(4′−アジ
ドフェニル)−(ナフト−1′,2′−4,5−オキサ
ゾール)である特許請求の範囲第1項記載の感光性組成
物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52044588A JPS5934293B2 (ja) | 1977-04-20 | 1977-04-20 | 感光性組成物 |
US05/861,348 US4148655A (en) | 1977-04-20 | 1977-12-16 | Photosensitive composition of aromatic azido compound |
GB52847/77A GB1594030A (en) | 1977-04-20 | 1977-12-19 | Photosensitive phenolic resin composition |
DE2757056A DE2757056B2 (de) | 1977-04-20 | 1977-12-21 | Photosensitive Masse für die Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52044588A JPS5934293B2 (ja) | 1977-04-20 | 1977-04-20 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS53130747A JPS53130747A (en) | 1978-11-15 |
JPS5934293B2 true JPS5934293B2 (ja) | 1984-08-21 |
Family
ID=12695628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52044588A Expired JPS5934293B2 (ja) | 1977-04-20 | 1977-04-20 | 感光性組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4148655A (ja) |
JP (1) | JPS5934293B2 (ja) |
DE (1) | DE2757056B2 (ja) |
GB (1) | GB1594030A (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4247616A (en) * | 1979-07-27 | 1981-01-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive-acting photoresist composition |
JPS56162744A (en) * | 1980-05-19 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Formation of fine pattern |
IT1138814B (it) * | 1980-07-03 | 1986-09-17 | Rca Corp | Metodo per la formazione di disegni superficiali in rilievo con ultravioletto lontano e composizione protettiva fotoosensibile per questo metodo |
JPS5730829A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-19 | Hitachi Ltd | Micropattern formation method |
JPS5786830A (en) * | 1980-11-20 | 1982-05-31 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
JPS57160128A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-02 | Hitachi Ltd | Fine pattern forming method |
JPS57204124A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Forming method for minute pattern |
US4554237A (en) * | 1981-12-25 | 1985-11-19 | Hitach, Ltd. | Photosensitive resin composition and method for forming fine patterns with said composition |
JPS58116531A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | Fujitsu Ltd | ネガ型レジスト材料 |
EP0087262A1 (en) * | 1982-02-22 | 1983-08-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Positive acting photosensitive compositions |
JPH0644149B2 (ja) * | 1985-06-28 | 1994-06-08 | 株式会社東芝 | 感光性組成物 |
JPS62102241A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性組成物 |
US20050014086A1 (en) * | 2001-06-20 | 2005-01-20 | Eswaran Sambasivan Venkat | "High ortho" novolak copolymers and composition thereof |
FI20030929A (fi) * | 2003-06-19 | 2004-12-20 | Nokia Corp | Menetelmä ja järjestelyjä langattoman tiedonsiirron toteuttamiseksi kulkuvälineessä |
US20140048741A1 (en) | 2011-03-10 | 2014-02-20 | 3M Innovative Properties Company | Filtration media |
US8703385B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Photoresist composition |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
JP6469006B2 (ja) | 2012-08-09 | 2019-02-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光硬化性組成物 |
US8883402B2 (en) | 2012-08-09 | 2014-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable compositions |
JP6245752B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-12-13 | 田岡化学工業株式会社 | 共縮合物及びその製造方法、並びに共縮合物を含有するゴム組成物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2937085A (en) * | 1954-01-11 | 1960-05-17 | Ditto Inc | Composite photosensitive plate, and method of making printing plate therefrom |
DE1597614B2 (de) * | 1967-07-07 | 1977-06-23 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliche kopiermasse |
US3567453A (en) * | 1967-12-26 | 1971-03-02 | Eastman Kodak Co | Light sensitive compositions for photoresists and lithography |
-
1977
- 1977-04-20 JP JP52044588A patent/JPS5934293B2/ja not_active Expired
- 1977-12-16 US US05/861,348 patent/US4148655A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-19 GB GB52847/77A patent/GB1594030A/en not_active Expired
- 1977-12-21 DE DE2757056A patent/DE2757056B2/de not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS53130747A (en) | 1978-11-15 |
DE2757056B2 (de) | 1979-05-23 |
GB1594030A (en) | 1981-07-30 |
US4148655A (en) | 1979-04-10 |
DE2757056A1 (de) | 1978-10-26 |
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