DE2350211A1

DE2350211A1 - Verfahren zur herstellung einer vorsensibilisierten trockenen flachdruckplatte

Info

Publication number: DE2350211A1
Application number: DE19732350211
Authority: DE
Inventors: Shinzo Kishimoto; Asaji Kondo; Shizuo Miyano; Kenichiro Yazawa
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1972-10-05
Filing date: 1973-10-05
Publication date: 1974-04-18
Also published as: JPS5612860B2; GB1442374A; JPS4957903A

Description

PATENTANWALT«=.

DR. E. WIEGAND DIPLING. W. ΝΙΕΜλΝΝ DR. M. KÖHLER DlPL-ING. C GERNHARDT

MÖNCHEN HAMBURG

TELEFON; 55547ί 8000 ^tUNCHEN 2,

TELEGRAMME: KARPATENT . MATHILDENSTRASSE

W 41 795/73 ?· Oktober 1973

Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-shi_? Kanagawa (Japan)

Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte; sie betrifft insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer vorsensi» bilisierten trockenen Flachdruckplatte unter Verwandung einer BeSchichtungsmasse, die aus einer Mischung aus spe~ ziell ausgewählten Arten und Mengen von Silikongummis besteht. . .

Eine vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte stellt .eine Verbesserung der sogenannten konventionellen vorsensibilisierten Flachdruckplatte dar. Eine konventionelle, daraus hergestellte Fiachdruckplatti aiß durch Walzen beim

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Offset-Drucken mit- Wasser benetzt oder befeuchtet werdenj durch Aufbringen einer Silikonkautschukschicht auf die vorsensibilisierte Flachdruckplatte erhält man jedoch eine Flachdruckplatte, die beim Drucken nicht mit Wasser benetzt zu werden braucht. Eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte dieses Typs \d.rd als "vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte" bezeichnet und sie ist beispielsweise in der bekanntgemachten japanischen Patentanmeldung 23 042/69 (US-Patentanmeldung Nr. 706 286), in der bekannt gemach ten japanischen Patentanmeldung Nr. 16 044/71 (US-Patentschrift 3 511 178), in der bekanntgemachten japanischen Patentanmeldung 2361/72 (US-Patentschrift 3 606 922) und in der US-Patentschrift 3 632 375 beschrieben. Die darin beschriebene Flachdruckplatte weist eine Silikonkautschukschicht auf, die aufgebracht worden ist, um von den ausgezeichneten Wasserabstoßungseigenschaften der Silikonkautschukschicht Gebrauch zu machen. Das heißt, bei einer Flachdruckplatte, die aus einer vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte hergestellt ist, sind nur die bildfreien Bezirke mit dem Silikonkautschuk bedeckt, während die Bildbezirke aus einem Druckfarbe aufnehmenden Material bestehen, so daß beim Aufbringen von Druckerfarbe die Druckerfarbe nur an den Bildbezirken, nicht jedoch an den bildfreien Bezirken haftet. Bei einer Druckplatte dieses verbesserten" Typs wird von den Druckerfarbeabstoßungseigenschaften des Silikonkautschuks voller Gebrauch gemacht und die Verwendung von benetzendem Wasser ist nicht erforderlich.

Die in den oben genannten Vorveröffentlichungen beschriebenen

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Erfindungen sind zwar im Prinzip ausgezeichnet, in der Praxis sind sie aber dennoch nicht zufriedenstellend, weil die Silikonkautschukschicht nicht schnell und wirksam"aufgebracht werden kann. So muß beispielsweise zum Aufbringen einer Sili·^ leonkaut schukschicht auf eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material die Silikongummi-Überzugsschicht, gemäß einer

in den vorgenannten Vorveröffentlichungen beschriebenen Ausführungsform 5 bis 10 Minuten lang auf 95^JC und weitere 10 Minuten lang auf 120 C erhitzt werden und man muß die Silikongummi-Überzugsschicht gemäß einer anderen Ausführungs^ form 72 Stunden lang bei Normaltemperatur stehen lassen* Auf diese Weise ist es natürlich schwierig, unter Anwendung dieser üblichen Beschichtungsverfahren auf wirksame und grpß*- technische Weise vorsensibilisierte trockene Flachdruck-' platten herzustellen»

Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren anzugeben, mit dessen Hilfe es möglich ist, auf wirksame Weise vorsensibilisierte trockene Flaehdruckplatten mit aus»? ■ gezeichneten Druckerfarbeabweisungseigensehaften herzu^· stellen. Ziel der Erfindung ist es ferner, ein Verfahren zur wirksamen Herstellung von vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatten anzugeben, aus denen negativ und positiv arbeitende Druckplatten hergestellt werden können.

Nach, umfangreichen Untersuchungen wurde nun ein Verfahren entwickelt, mit dessen Hilfe es möglich ist, vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatten auf wirksame Weise herzu-

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stellen. Es v.mrde nämlich gefunden, daß bei Verwendung einer Mischung aus in spezifischer Weise ausgewählten Arten und Mengen von Silikonguramis innerhalb von einigen •10 Sekunden oder innerhalb etwa 1 Minute eine Silikonkautschukschicht aufgebracht werden kann.

Gegenstand der Erfindung ist demzufolge ein Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte durch Aufbringen einer Silikonkautschukschicht auf eine Schicht aus lichtempfindlichem Material, die auf einen Träger aufgebracht ist. Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man auf. die Schicht aus dem lichtempfindlichen Material als Beschichtungsmasse für die Herstellung der Silikonkautschukschicht eine Mischung aus" einem bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-Silikongummi und einem Two-Shot-Silikonguinmi vom Additionsreaktions-Typ im Gewichtsverhältnis des ersteren zu letzterem in der Mischung von 1:0,5 bis 1:10 aufbringt.

Unter dem hier verwendeten Ausdruck "Silikongummi¹¹ ist ein nicht-gehärtetes linearesprganopolysiloxan, d.h. ein lineares Organopolysiloxan mit nicht-umgesetzten endständigen funktionellen Gruppen_?zu verstehen, das unter bestimmten Bedingungen gehärtet werden kann. Unter dem hier verwendeten Ausdruck "Silikonkautschuk" ist ein beim Härten des Silikongummisgebildetes Organopolysiloxan zu verstehen. Das Silikongummi unterscheidet sich von dem Silikonkautschuk in Bezug auf die Verschiedenheit ihrer jeweiligen physikalischen Eigenschaften, da das Silikongurami in Kohlen-

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Wasserstoffen, halogenierten Kohlenwasserstoffen, Ketonen, Äthern und dgl., wie n«Heptan, Toluol und Benzol, löslich ist, während der Silikonkautschuk in solchen Lösungsmitteln schwer—löslich ist.

Bei der üblichen Herstellung einer vorserisibilisierten trockenen Flachdruckplatte wird auf einen Träger eine lichtempfindliche Schicht aufgebracht und auf die lichtempfindliche Schicht wird dann ein mit einem Lösungsmittel verdünntes Silikongummi aufgebracht und die Silikongummischicht wird anschließend getrocknet und gehärtet unter Bildung einer Silikonkautschukschicht. Es ist jedoch schwierig, bei Verwendung irgendeines beliebigen der verschiedenen handelsüblichen Silikongummis eine Silikonkautschukschicht herzustellen. Es wurde nun jedoch gefunden, daß die folgenden drei Punkte wichtige Fakto™ ren für die wirksame Herstellung von yorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatten darstellen:

1) Das Silikongummi muß schnell zu aem Silikonkautschuk ausgehärtet werden oder die zum Trocknen der Silikongummischicht bis .s±e gegen Fingerabdruck beständig ist, erforderliche Zeit muß abgekürzt werden und außerdem muß ein Silikongummi verwendet werden,das zu einem solchen Zustand getrocknet und gehärtet werden kann, in dem es gegen Fingerabdruck beständig ist, oder in dem es unter Druck bei einer Temperatur und innerhalb einer Zeit, bei denen das lichtempfindliche Material normalerweise gleich denaturiert oder abgebaut wird, beim Erhitzen nicht denaturiert oder abgebaut' wird _f wenn möglich, unter den Bedingungen von 1 Minute bei 100 C oder von

30 Sekunden bei 120°C.

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2) In Bezug auf die Beziehung zwischen der Schicht aus dem lichtempfindlichen Material und der darauf aufgebrachten Silikonkautschukschicht muß die Haftfestigkeit zwischen den Schichten hoch genug sein, um der Entwicklung der vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte und dem Druckvorgang unter Verwendung der aus der vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte hergestellten Druckplatte und dgl., zu widerstehen .jUnd die darauf aufgebrachte Silikongummi"· und Silikonkautschukschicht darf das lichtempfindliche Material nicht beeinträchtigen."

3) Die SiI ikon gurr.mibe schichtung smas se muß so beständig sein, daß ihre Topfzeit mehr als 5 Stunden beträgt, ohne daß das Gummi durch Härten geliert.

Es wurde nun gefunden, daß die vorstehend angegebenen Ziele der Erfindung dadurch erreicht werden können, daß man eine Kombination von in spezifischer Weise ausgewählten Silikongummis innerhalb eines spezifischen Bereiches von Mischungsverhältnissen verwendet. Das heißt, die Hauptmerkmale der vorliegenden Erfindung bestehen, wie oben angegeben, in der Verwendung einer Kombination aus einem One-Shot-Silikongummi, das bei Normaltemperatur aushärtet, und einem Two«Shot-Sili~ koiigummi vom Additionsreaktions-Typ und in der Anwendung eines Mischungsverhältnisses dieser Materialien innerhalb eines Bereiches von 0,5 bis .10, vorzugsweise von 1 bis 3, insbesondere von 1 Gewichtsteil der zuletzt genannten Verbindung auf 1 Gewichtsteil der zuerst genannten Verbindung.

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Bei dem bei Normaltemperatur aushärtenden Qne-Shot-Sililcongummi handelt es sich um eine lineare Verbindung,die wiederkehrende Einheiten der folgenden allgemeinen Formel aufweist

R¹

Si - 0

R¹

η - 2 bis 2000,

worin die Reste R¹, die gleich oder voneinander verschieden sein können, eine monovalente Alkyl- oder Arylgruppe oder
eine Cyano aryl gruppe bedeuten. Im allge.me5.nen bedeuten weniger als 2 bis 3 Mol-% der R¹-Reste Vinylphenyl oder Halogenvinyl oder Phenyl, in der Praxis bedeutet R* jedoch am
häufigsten eine Methylgruppe.

Das One-Shot-Silikongummi enthält die folgenden Endgruppen

R¹

(RO)₂ -Si-O

worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen bedeutet,

R¹

(AcO)₂ -Si-O

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worin Ac eine Acetylgruppe bedeutet, und

Si - O

worin R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen bedeutet»

Bei der Hydrolyse (an den vorstehend beschriebenen Endgruppen)wird das One-Shot-Silikonkautschuk zu einem.Silikonelastomeren mit einem hohen Molekulargewicht. Bei der Hydrolyse werden je nach dem Substituenten der Endgruppe Essigsäure, ein Alkohol oder ein Oxim eliminiert. Aufgrund dieses Unterschiedes hinsichtlich der eliminierten Gruppe handelt es sich um ein solches vom deacetylierten Typ, vom Deoxim-Typ oder vom

■ Dealkohol-Typ. Geeignete, bei Normaltemperatur aushärtende One-Shot—Silikongummis sind lineare OrganopoIysiloxane vom deacetylierten Typ mit endständigen Acetoxygruppen und lineare Organopolysiloxane vom Deoxim-Typ mit enständigen

. Oximgruppen. Beispiele für handelsübliche Silikongummis dieses Typs sind folgende:

_^TJE^:_ KE-41,. KE-42 und dgl. der Firma Shinetsu Chemical Industries Co. _s

SH-781, SH-9731, SH-9732 und dgl. der Firma Toray Silicone Co., wobei diese Silikongurnmisdie folgende allgemeine Formel haben

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R
(AcO)₀ - Si - O

worin R Alkyl (C, - C~) und Ac Acetyl bedeuten,

Heoxim-Τγρ: KE-44 und dgl, der Firma Shinetsu Chemical Industries Co., PRX-305-Dispersion der Firma Toray Silicone Co., wobei .diese Silikongummis die folgende allgemeine Formel haben

V S Γ

C=N-O K Si-O

/■ /

worin R Alkyl (C, - C„) bedeutet und R' wie oben definiert ist.

Das Two-Shot-Silikongumaii vom Additionsreaktions-Typ entsteht im allgemeinen nach dem folgenden Reaktionsschema

R¹ R' R¹ R'¹

A-O-Si-CH=CH₀ + H-Si-O-B—> A-O-Si-CH₀-CH₀-Si-O-B

R' R¹ R¹ R⁽

oder nach dem folgenden Reaktionsschema

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E¹ " R¹ R* R¹

I III

A-O-Si-CH₀-GH=CH₀ -ί- H-Si-O-B—> A-O-Si-CH₀-CH₀-CH₀-Si-O-B

I I I ²²²I

R¹ R' R¹ R«

worin R¹ wie oben definiert ist.

In den obigen Formeln repräsentieren die Symbole A und B den an diese Endgruppen vom Additionspolymerisationstyp gebundenen Organesiloxanrest. A und B-können gleich oder voneinander verschieden sein und ihre Zusammensetzung kann variieren, da das wesentliche Merkmal dieser Organosiloxane die Endgruppierungen sind, die additionspolymeresierbar sind, wobei als Katalysator Palladium- oder Platinverbindungen verwendet werden und wobei durch Additionspolymerisation zwischen ungesättigten Gruppen, wie z.B. einer Vinylgruppe

oder Allylgruppe, und dem Rest
R¹

- 0 - Si - H das Gummi härtet. Bei dem sogenannten Two~Shot-

R¹ -

Silikongummi vom Additionsrealctions-Typ handelt es sich um ein solches, in dem der Katalysator und das Siloxan getrennt sind und bei der Verwendung miteinander gemischt werden.

Ein spezifisches Beispiel fü> ein Two-Shot-Silikongummi vom Additionsreaktions-Typ ist eine Mischung, die aus einem

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Organopolysiloxan mit einer Vinylgrupx^e in dem Molekül und einem Organohydrogenpolysiloxan, z.B. einer Mischung von Verbindungen mit Endgruppen der folgenden allgemeinen Formel · .

R¹

I
O - Si - CH = CH₀

I- ²

R¹

Endgruppe des Polyorganosiloxans

R¹

I
- O - Si - H

Endgruppe des Organohydrogenpolysiloxans

worin R* wie oben definiert ist, als der einen Komponente und einem Katalysator, z.B. einer Platinverbindung oder einer

' bestellt Palladiumverbindung, als der anderen KomponenteA Häufig wird H~PtCl_fi als Katalysator verwendet. Die beiden Komponenten werden unmittelbar vor ihrer Verwendung miteinander kombiniert. Geeignete Beispiele für handelsübliche Two-Shot-Silikongumtnis sind folgende:

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Polysiloxan:

KE-103 der Fa. Shinetsu Chemical Industries Co.

KE-106 der Fa. " ICE-1300 der Fa."

SH-9555 der Fa. Toray Silicone Co.

SH-9555 der Fa. "

.Katalysator;

CAT-103 der Fa. Shinetsu Chemical Industries Co.

CAT-RG der Fa. " CAT-1300 der Fa."

CAT-955.5 der Fa. Toray Silicone Co.

CAT-RG der Fa. Shinetsu Chemical Industries Co.

welche Endgruppen mit der oben angegebenen Formel aufweisen.

Im allgemeinen liegt das Molekulargewicht des Silikongunirais unterhalb etwa 100 000, bei dem Silikonkautschuk handelt es sich jedoch, wenn das Silikongummi polymerisiert ist, um ein Polyorganösiloxan, in welchem das durchschnittliche Molekulargewicht etwa 400 000 bis etwa 800 000 beträgt.

Das Gewichtsverhältnis zwischen dem bei Normaltemperatur aushärtenden Örie-Shot-Silikongummi und dem Two-Shot-Silikongummi vom Additionsreaktions-Typ beträgt, wie oben angegeben, 1:0,5 bis 10. Wenn der Mengenanteil des Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ weniger als 0,5 Gewichtsteile auf 1 Gewichtsteil des bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-Silikongummis beträgt, wird die Zeit, die zum Trocknen der Silikongummischicht erforderlich ist, bis die Schicht gegen Kontakt mit dem Finger ausreichend beständig ist, lang und die Trocknungstemperatux muß auch erhöht werden. Auch wenn der Mengenanteil des Two-Shot«

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Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ höher als 10 Gewichtsteile ist, wird die Topfzeit der Beschichtungsmasse kürzer als ein paar Stunden, wodurch eine solche Beschichtungsmasse unbrauchbar wird.

Das Silikonguirani wird in Form einer Lösung in einem organischen Lösungsmittel, z.B. einem gesättigten Kohlenwasserstoff, wie Pentan, Hexan,'Heptan, Toluol und dgl., einem aromatischen Kohlenwasserstoff, wie Benzol, Toluol, Naphtha und dgl., wobei Naphtha und Heptan bevorzugt sind, in einer Menge von einigen Gewichtsprozent bis einigen 10 Gewichtsprozent verwendet. Vorzugsweise v/erden beide Silikongummis miteinander gemischt, indem man .^zuerst das bei Normaltemperatur aushärtende One-Shot-Silikongummi mit der Kata-. ^satorkomponentenlÖsung des Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ mischt und dann die Polysiloxankomponente des Two-'Shot-Silikongummis· vom Additionsreaktions-Typ der Mischung zxisetzt.

Nach dem Aufbringen der so hergestellten Silikongummimischung in Form einer Schicht auf eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material wird die Silikongummischicht sofort getrocknet und bei 60 bis 120 C, vorzugsweise 100 bis 120 G, 10 Sekunden bis 1 Minute lang, vorzugsweise 30 bis 60 Sekunden langhin einem Ofen gehärtet. Natürlich ist die Aushärtung der Silikongummis unter diesen Bedingungen nicht vollständig, die Silikongummischicht wird jedoch in einen solchen Zustand überführt, daß sie nach einer Behandlung, beispielsweise durch Drücken mit dem Finger, durch Zerschneiden der Platte, durch Auflegen

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einer Deckfolie und durch Auflaminieren von vielen Schichten solcher Platten nicht deformiert oder klebrig wird (die zum Erreichen dieses Zustandes erforderliche Zeit wird nachfolgend abgekürzt als "Fingerabdruck-Trockenzeit" bezeichnet) . ~ ' ■

Die Messung der Fingerabdruck-Trockenzeit wird zu dem Zeitpunkt durchgeführt, wenn die Aufbringung der Silikongummimischung in Form einer Schicht beendet ist. Wenn beispielsweise ein Polyäthylenlaminatpapier unter Druck mittels einer Walze auf die mit Sililcongummi beschichtete Schicht 1 Minute nach dem Aufbringen aufgelegt wird und das Polyäthylenlaminatpapier aufgrund seines Gewichtes nach unten fällt, wenn die Schichtanordnung umgedreht wird, wird:eine Fingerabdruck-Trockenzeit von 1 Minute angenommen, und außerdem wird die Fingerabdruck-Trockenzeit dadurch bestimmt, daß man sich vergewissert, daß dann, wenn nach der Berührung mit dem .Finger ein Polyäthylenlaminatpapier auf die mit Silikonguratni beschichtete Schicht aufgelegt wird und diese

2 1 Monat lang unter einem Druck von 1 kg/100 cm in Kontakt stehen gelassen wird, kein Fingerabdruck erhalten wird.

Die Silikongummimischung wird zur Herstellung einer Silikonkautschukschicht mit einer Trockenschichtstärke von vorzugsweise 2 bis 5 Mikron in einer Menge von 0,5 bis 2 kg/

2
100 cm <aufgebracht. Die erfindungsgemäß verwendeten gemii ten Silikongummis haben die folgenden Vorteile:

Α09816/08 8Λ

1) Wenn ein Lösungsmittel vorhanden ist, ist die Beschich~

der
tungsraasse aus/Silikongummimischung beständig und kann für einen Zeitraum von mehr als 5 Stunden gelagert werden, ohne daß eine Gelierung oder Härtung auftritt und es besteht ein ausreichender Spielraum zwisehen der Herstellung der SiIikongummibeschichtungsmasse und der Aufbringung in Form einer Schicht. Dies ist ein -wesentlicher Vorteil in der Praxis und bei der technischen Hersteilung von vorsensibilisierten trockenen Flachdiruckplatten.

2) Beim Verdampfen des Lösungsmittels beim Trocknen schreitet die Härtung der Silikongummischicht mit einer sehr hohen Geschwindigkeit' fort, was dazu führt, daß die SiIikongummischicht■eine Fingerabdrucke-Trockenzeit von innerhalb 1 Minute aufweist» Aufgrund dieses spezifischen Merkmals kann die zum Trocknen der Schicht verwendete Trocknungszone vereinfacht werden oder die Beschichtungsgeschwindigkeit bei der Herstellung der vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatten kann erhöht werden. Dies ergibt insbesondere Vorteile beim kontinuierlichen Aufbringen der Silikongummibeschichtungs'~ masse in Form einer Schicht. Dadurch kann die Kapazität zur Herstellung von vorsensibilis'ierten trockenen Flachdruckplatten stark erhöht werden. ' . .

3) Obgleich der Grund dafür noch nicht vollständig klar ist, weist die erfindungsgemäße Silikongummimasse das Charakteristikum auf, daß dann, wenn die Hasse in Form einer Schicht auf. die Oberfläche aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht wird, wie sie für eine negativ arbeitende oder eine

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positiv arbeitende vorsensibilisierte Flachdruckplatte verwendet wird, eine gute Haftung zwischen den Schichten erzielt wird, wodurch der vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte eine hohe Dauerhaftigkeit verliehen wird. Außerdem wurde gefunden, daß die erfindungsgemäße Siiikongumminiischung die lichtempfindlichen Materialien nicht nachteilig beeinflußt, beispielsweise ihre Empfindlichkeit nicht herabsetzt und ihre Entwicklung nicht schwierig macht,

Erfindungsgemäß können daher lichtempfindliche Materialien, die bisher für vorsensibilisierte Flachdruckplatten verwendet worden sind, eingesetzt werden. Das heißt, als Materialien für die lichtempfindlichen Schichten können eine Mischung aus einem geeigneten polymeren Bindemittel und einem Diazoharz, aus einer Komplexverbindung' einer Diazoverbindung mit einer anorganischen Säure oder einer organischen Säure, aus einem Chinondiazid und einem durch Licht vernetzbaren Photopolymerisats,z.B. eine Zusammensetzung, in der ein typisches lichtempfindliches Diazomittel für das negative Arbeiten verwendet wird, wie beispielsweise in den US-Patentschriften 2 649 373 und 3 211 553 beschrieben, und eine Zvisammensetzung, in der beispielsweise ein Formaldehydkondensat mit p-Diazodiphenylamin oder Orthochinondiazidoverbindungen zum positiven Arbeiten verwendet wird, eingesetzt werden» In diesem Falle.wird natürlich dann, wenn die Silikonkautschukschicht auf die lichtempfindliche Schicht für eine übliche, negativ arbeitende", vorsensibilisierte, trockene Flachdruckplatte aufgebracht wird, eine positiv arbeitende,vorsensibilisierte j trockene Flachdruckplatte erhalten und wenn die SiIi-

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lconkautschukschicht auf die Schicht.aus dem lichtempfindlichen Material für eine positiv arbeitendejVorsensibilisierte Flachdruckplatte aufgebracht wird, wird eine negativ arbeitende ,,vorsensibilisierte, trockene Flachdruckplatte erhalten. Durch Verwendung der erfindungsgemäßen Silikongummirnasse kann daher eine vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte sowohl für das negative Arbeiten als auch für das positive Arbeiten leicht hergestellt werden. Das Gewichtsverhältnis zwischen dem Bindemittel und dem lichtempfindlichen Material beträgt im allgemeinen 3:1 bis 1:3, vorzugsweise 2:1 bis 1:2, wobei die BeSchichtungsmenge innerhalb des Bereiches von

2 bis 3, vorzugsweise von 1,5 bis 2 g/m liegt.

Ein typisches Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte wird nachfolgend näher erläutert.

Ein Träger, beispielsweise eine Aluininiumplatte, ein PoIyäthylenteraphthalatträger oder ein Papier, wird mit einem lichtempfindlichen Material oder einer Lösung einer Mischung aus einem lichtempfindlichen Material und einem Bindemittel,wie z.B. im Falle einer positiv arbeitenden trockenen Flachdruckplatte, ein .lichtempfindliches Diazomaterial und Schellack, wie in der bekanntgemachten japanischen Patentanmeldung Nr'. 24 404/72 beschrieben, ein lichtempfindliches Diazomaterial und ein Polyamid, wie in der US-Patentschrift 2 826 501 beschrieben, und im Falle einer negativ arbeitenden trockenen Flachdruckplatte, eine

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Kombination aus einem lichtempfindlichen Diazomaterial und Polyvinylidenchlorid, wie in der US'-Patentschrift 3 211 beschrieben, oder einer Kombination aus einer o-Chinondiazoverbindung und einem Plieholharz beschichtet und anschließend getrocknet. Nach dem Aufbringen einer geringen Menge einer Silikongrundierlösung, beispielsweise einer 10 bis 30 Gew.-% einer Verbindung der Formel enthaltenden Lösung

R"

X- Si - OR"

OR"

worin R" eine Alley !gruppe mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen und X eine kohlenstoffunktionellen Gruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, z.B. eine der folgenden Gruppen bedeutet, wie

₂₂₂₂₂₂-Si-f OCH₃)₃

CH₀-CFI-CH₀-O-CH₀CH₀-O-Si -(- OCH₀)
ν Δ j Z. Z. Z. J

Cl-(CH₂)₃Si-(OCH₃)₃
CH₂-CH-Si Cl₃
CH₉=CH-S- (OC H₇OCH,).,

-Si-(OCHJ.

und anschließendem Trocknen, wird eine 10 bis 30 Gew.-%ige' Heptanlösung einer Mischung aus dem bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-Silikongummi und dem Two-Shot-Silikongummi

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vom Additionsreaktioiis-Typ In Form einer Schicht aufgebracht und 1 Minute lang bei Temperaturen unterhalb 100 C oder 20 Sekunden lang bei 120 C getrocknet. Das obige Verfahren ist dann anwendbar, wenn der Träger eine Folie ist, es kann jedoch vorzugsweise auf . ein Massenproduktionssystem angewendet werden, in dem der Beschichtungsvorgang und der Trocknungsvorgang kontinuierlich auf eine kontinuierliche Trägerbahn angewendet werden, wobei dann die Bahn in einer Endstufe in Folien bzw. Blätter zerschnitten wird.

Aus der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte wird unter Anwendung der folgenden Stufen eine Druckplatte hergestellt, d.h. die vorsensibilisierte Flachdruckplatte wird durch ein Punktnegativ oder Punktpositiv belichtet, die belichtete vorsensibilisierte Platte wird mit einer Entwicklerlösung entwickelt und dann gewaschen und anschließend wird die Platte getrocknet. Eine geeignete Belichtung ist eine Belichtung mit einer 35 A-Lichtbogenlichtquelle für einen Zeltraum von 2 bis 4 Minuten in einem Abstand von. 61,0 cm (24 inches), wie in der US-Patentschrift 3 511 178 angegeben, oder mit einem Plane PS-A3-printer 160 W "National 20BA-37" für einen Zeitraum von 2 Minuten bei einem Abstand von 5,1 cm (2 inches). Diese Belichtungsmethoden sind· jedoch nicht wesentlich und es können auch andere bekannte Belichtungsmethoden angewendet werden.

Die Entwicklerlösung für die Durchführung der Entwicklung kann experimentell ausgewählt werden unter Berücksichtigung

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der Eigenschaften der Kombination aus dem lichtempfindlichen Material und dem Bindemittel für die lichtempfindliche Schicht, da die Entwicklerlösung jedoch die als oberste Schicht aufgebrachte Silikonkautschukschicht'passieren muß, muß die Silikonkautschukschicht eine Dicke von weniger als 10 Mikron, vorzugsweise von weniger als 5 Mikron_}aufweisen und außerdem kann eine Entwicklerlösung, in der nur ein wässriges Medium verwendet wird, nicht verwendet werden und es muß eine an einem organischen Lösungsmittel reiche Entwicklerlösung verwendet werden. Die Entwicklung kann in der Weise, durchgeführt werden, daß man die belichtete Platte 30 Sekunden lang bei 25 C in eine Entwicklerlösung eintaucht und sie mit einem Baumwo11tampon-reibt. Eine geeignete Entwicklerlösung ist der Eastman Kodak LN-Plattenentwickler der folgenden Zusammensetzung . '

Xylol · 40 Volumenteile

Metliylcel.losolveacetat 300 Volumenteile γ-Butyrolacton 80 Volumenteile

oder_tim Falle einer positiv arbeitenden Plattejein Entwickler mit beispielsweise der folgenden Zusammensetzung

Volumenteile Volumenteile Butylacetat 2 ' 2

n-Propanol 7 5

Wasser . 1 1

und dgl., d.h. eine Entwicklerlösung mit einem Gehalt an

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einem organischen Lösungsmittel von mehr als 70 Volumen-%. Wie bei der Belichtung können gewiin schtenf al Is auch andere Entwicklungs- und Behandlungslösungen verwendet'werden.

Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Darin sind alle Teile und Prozentsätze, wenn nichts anderes angegeben ist, auf das Gewicht bezogen.

Beispiel 1

Als Träger wurde eine gereinigte glatte Äluminiumplatte verwendet und das gesamte Verfahren wurde unter Sicherheitslicht durchgeführt. Die Bedingungen waren in allen erfindungsgemäßen Beispielen die gleichen.

Eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse, hergestellt durch Zugabe von 4 Teilen einer lichtempfindlichen Komplexverbindung von Diazophenylamin und PhosphorwoIframsäure als lichtempfindlichem Material zu 145 Teilen einer Methylcellosolvelösungmit 1 Teil darin gelöstem Saran (Molverhältnis 80/20) (ein Poljrvinyliden/Acrylnitril-Mischpolymerisat mit einem Molverhältnis innerhalb des Bereiches von 91/9 bis 80/20, ein Produkt der Firma Dow Chemical Co.) und 0,3 Teilen Chlorwassers toff säure ,wurde in Form einer Schicht auf die Aluminiumplatte aufgebracht und getrocknet. Die BeSchichtungsmenge

2 2

betrug 30 mg/0,093 m (1 ft ). Dann wurde eine Lösung, hergestellt durch Auflösen von 4 Teilen eines ρ-Diazodiphenylaminformaldehydharzes (Polymerisationsgrad etwa 1 bis 7, konden-

4 09816/0884.

siert mit 2 bis 3'Mol Formaldehyd pro Mol Formaldehydharz) in einem gemischten Lösungsmittel aus 20 Volumenteilen Methanol und 76 Volumenteilen Wasser,- in'Form einer Schicht

in einer Me:

getrocknet.

2 2

in einer Menge von 1 mg/0,093 ra (1 ft ) aufgebracht und

Herstellung der Silikonkautschukschicht: 7,5 g eines bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-Silikongummis vom deacetylierten Typ (SH-781 der Firma Toray Silicone Co.) wurden in 100 ml n-Heptan gelöst und nach dem Auflösen von 0,4 g einer Katalysatorkomponente eines Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ (GAT-RG der Firma Shinetsu Chemical Industries Co.) in der Lösung wurden 2,5 g einer Silikonkomponente des Two-Shot-Silikongumniis vom Additionsreaktions-Typ (SH-9555 der Firma Toray Silicone Go.) in der erhaltenen Lösung gelöst. Die so hergestellte

2 Beschichtungslösung wurde in einer Menge von 1,5 g/m auf die wie-oben vorbehandelte Platte in Form einer Schicht aufgebracht und dann sofort 50 Sekunden lang bei 120 C in einem Ofen getrocknet. Unter Anwendung dieses Verfahrens wurde eine vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte mit einer vollständig getrockneten Harzschicht hergestellt.

Herstellung der Druckplatte: Nach dem Belichten der vorsen~ sibilisierten Flachdruckplatte durch ein Punktnegativ wurde die Platte mit einem gemischten Lösungsmittel aus Butyiacetat, Propanol und Wasser in einem Volumenmischungsverhältnis von 2:5;1 entwickelt, mit Wasser gewaschen und ge-

trocknet· unter Bildung einer Druckplatte.

Unter Verwendung einer Offset-Druckmaschine, aus der ein Wasservorratsbehälter entfernt worden war, wurden unter Ver- \tfendung der Druckplatte 5000 Kopien hergestellt.

Beispiel 2

Herstellung der lichtempfindlichen Schichtj Eine lichtempfindliche Beschichtungsmasse, hergestellt durch Auflösen von 2 Teilen eines Chinondiazidharzes (welches das Reaktionsprodukt von Aceton, Pyrogallol und Orthochinondiazidsulfonylchlorid darstellte) und 1 Teil Epon-1031, einem Epoxyharz der Firma Shell Co., Ltd.,als Bindemittel, in 40 ml eines gemischten Lösungsmittels aus Cyclohexan und Methylethylketon in einem Volumenmischungsverhältnis von 1:1.wurde in Form einer Schicht auf eine mit Alkali behandelte Aluminiumplatte in einer

2 2

Schichtstärke von 30 mg/O-,093 m (1 ft ) aufgebracht und getrocknet. Dann wurde eine 57 %ige n-IIeptahlösung eines Grundierüberzugs PRX-304 (der Firma Toray Silicone Co.) in Form einer Schicht aufgebracht und getrocknet. ·

Herstellung der Silikonkautschukschicht: 6 g eines bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-Silikongummis vom deacetylierten Typ KE-41 der Firma Shinetsu Chemical Industries Co ₍ wurden in 90" ml n-Heptän gelöst und nach dem Auflösen wurden 0,4 g einer Katalysatorkomporiente eines Two~Shot-Silikongumrais vom Additionsreaktions-Typ CAT-RG (darin gelöst 5 g der PoIy-

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siloxankomponente des Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-T}^p SH-9555 der Firma Toray Silicone Co.) in der erhaltenen' Lösung.gelöst unter Bildung einer Silikongummibeschichtungsmasse« Die Beschichtungsmasse wurde unter Anwendung einer Tauchbeschichtungsmethode auf die oben behandelte Platte in Form einer Schicht aufgebracht und dann sofort 1 Minute lang bei 100 C in einem Ofen getrocknet« Die Dicke der so hergestellten Silikonkautschukschicht betrug 3 Mikron. Auf diese Weise wurde eine negativ arbeitende _tvorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte, bestehend aus einem Aluminiumträger, einer darauf aufgebracht Schicht aus einem lichtempfindlichen Chiiioixliazidmaterial und einer SiIikonkaut schukschicht, herge s te111.

Herstellung der Druckplatte: Die vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte wurde 15 Minuten lang unter Verwendung eines Piano PS Printer A-3 (Fuji Photo Film Co.) dtirch ein Punktnegativ belichtet, mit einem gemischten Lösungsmittel aus Butylacetat, Propanol und Wasser in einem Volumenverhältnis von 2:7:1 entwickelt, mit Wasser gewaschen und getrocknet unter Bildung einer trockenen Flachdruckplatte. Unter Verwendung einer Offset-Druckmaschine Hamaster 700 CD der Firma-Hamada Printing Machine Co., Ltd., aus der der Benetzungswasser-Vorratsbehälter entfert worden war, wurden unter Verwendung der Druckplatte 10 000 Kopien hergestellt und die Druckplatte war anschließend noch verwendbar. Bei der dabei verwendeten Druckerfarbe handelte es sich um eine handelsübliche Druckerfarbe für den Trockendruck der Firma Sun Chemical Co.

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Beispiel 3

Dieses Beispiel erläutert die Herstellung einer positiv arbeitenden}vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatte unter Verwendung eines durch Licht vernetzbaren Photopolymerisats als lichtempfindlichem Material.

Eine Beschichtungsmasse wurde hergestellt durch Auflösen von 5 g eines Polykondensationsprodukt.es eines p-Phenylendiacrylsäureesters (Molekülargewicht etwa 1000 bis 10 000) und einer äqtiimolaren Menge 1,4-Dihydroxyätliyloxycyelohexan als lichtempfindlichem Material vend 0,4 g eines l-Methyl-2-benzoylmethylen-ß-naphthothiazolin-Sensibilisators in 100 g Monochlorbenzoesäure und sie wurde in-Form einer Schicht auf einen&nodisierten Alurainiumträger in einer Trockenschichtstärke von etwa 2 Mikron aufgebracht.

Auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht wurde eine Silikon-Grundierlösung PRX-304 in Form einer dünnen Schicht aufgebracht und getrocknet. Es wurde eine Silikongummibeschichtungsmasse hergestellt durch Auflösen von 9 g eines bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-SiIikongummis vom Deoxim-Typ KE-44 der Firma Shinetsu Chemical Industries Co. in 100 ml n-Heptari, Auflösen der Katalysatorkomponente eines Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ CAT-RG" der Firma Shinetsu Chemical Industries Co. in der Lösung und anschließendes Auflösen einer Silikonkomponente dec Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Typ KE-1300 der Fay Shinetsu Chemical Industries

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Co. in der dabei erhaltenen Lösung und sie wurde in Form einer Schicht durch Strömungsbeschichtung (Aufgießen) auf-, gebracht und dann sofort 50 bis 60 Sekunden lang bei 95 C in einem Ofen getrocknet. Die dabei erhaltene Silikonkautschukschicht war nicht, klebrig und nach dem Fingerabdrucktest vollständig trocken.

Herstellung der Druckplatte: Nach dem Belichten, das in gleicher Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, wurde die vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte mit einem gemischten Lösungsmittel aus Cellosolveacetat, Propylenglykol und Wasser in einem Volumenverhältnis von 50:25:25 entwickelt, mit Wasser gewaschen und getrocknet unter Bildung einer Flachdruckplatte für das Offset~Drucken. Nach der Herstellung von 5000 Kopien war die Druckplatte noch verwendbar.

In diesen Beispielen wurden positiv arbeitende, vorsensibili sierte, trockene Flachdruckplatten hergestellt durch Aufbrin gen von Silikonkautschukschichten auf handelsübliche, konven tionelle, negativ arbeitende_tvorsensibilisierte Platten.

Eine Silikon-Grundierlösung PRX-304 der Firma Toray Silicone Co. wurde in Form einer dünnen Schicht auf eine vorsensibili sierte Flachdruckplatte, eine LN-Platte_saufgebracht, die das Kondensationsprodukt von 1,4-Dihydroxyäthyloxycyclohexan und p-Phenylendiacrylsäure mit einer Doppelbindung in dem Mole·? kül und l~Meth3/l-2-benzoylmethylen-ß-naphthothiazolin der

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Firma Eastman Kodak Co, enthielt, der Tes-t-Trägerplatte.

unter Bildung

Die aufgebrachten Silikongutnmimengen sind in der folgenden Tabelle zusammen mit der Trocknungstemperatur und der zui" Erzielung des Fingerabdruck-Trockenzustandes erforder« liehen Zeit angegeben.

Beispiel A _JL_„_ __ £

	100	g	B-I	g	*P '	mm	g	Tempe ratur	Zeit (Sek.)
Kontrolle	10	g		g		g	120	600
4	10	g	4	g	90	g	120 ..	10
5	20	g	4	g	90	g	60	60
6	30	g	4	g	80	g	70	60
7	40	g	• 4	g	70	g	80	60
8	50	g	4	g	60	g	90	60
9	60	g	10	50	90	60
10		10	40	90	60

(Λ) Deacetyliert.es _y bei Normal temperatur aushärtendes One-Shot- Silikongummi KE-41; .-.-■"

(B")- Two-Shot-Silikbngummi vom Additionsrealctions-Typ; (B-I) Katalysatorkomponente CAT-RG;
(|5-2) Polysiloxankomponente SH-9555;

(C) Die zur Erzielung des Fingerabdruck-Trockenzustand.es erforderliche Temperatur und Zeit

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Die oben angegebene Silikongiiramimischung wurde in Form einer 10 %igen n-Ileptanlösung aufgebracht.

Wie aus den in der vorstehenden Tabelle angegebenen Ergebnissen eindeutig hervergeht, betrug die zur Erzielting des Fingerabdruck-Trockenzustandes erforderliche Zeit bei · 120 C 600 Sekunden im Falle des Kontrollbeispiels, wobei in diesem Falle nur das bei Normaltemperatur aushärtende flüssige, One-Shot-Silikongutmni KE-41 verwendet wurde, die Zeit wurde jedoch in Beispiel4auf 1/60 derjenigen des Kontrollbeispiels vei:ringert und außerdem konnte die Zeit selbst bei Herabsetzung der Trocknungstemperatur auf 60 G, wie in Beispiel 5 angegeben, auf 1/10 derjenigen des Kontrollbeispiels herabgesetzt werden.

Jede der in den Beispielen 4 bis 10 hergestellten vorsensibilisierten trockenen Flachdruckplatten wurde belichtet, mit einem gemischten Lösungsmittel aus Cellosolveacetat, γ-Butyrolactam und Xylol in einem Volumenverhältnis von 300:80:40- entwickelt und.einem Drucktest unterzogen. Unter Verwendung einer Offset-Druckmaschine konnten in jedem Falle mehr als 5000 Kopien hergestellt werden, ohne daß mit Wasser benetzt wurde.

Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf bevorzugte spezifische Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch für den Fachmann klar, daß sie darauf nicht beschränkt ist und daß diese in vielerlei Hinsicht abge~ ändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.

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Claims

F a t-^ e nt a n s

1. Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisiei'ten, trockenen Flachdruckplatte, bestehend aus einem Träger, einer darauf aufgebrachten Schicht aus einem lichtempfindlichen Material und einer auf die Schicht aus dem lichtempfindlichen Material aufgebrachten Schicht aus einem Silikonkautschuk, dadurch gekennzeichnet, daß man auf die Schicht aus dem liehempfindliehen Material auf einem Träger eine Silikonschicht aufbringt durch Aufbringen einer Mischung aus einem bei Normal™ temperatur aushärtenden One-Shot-Silikongumini und einem Two-Shot-S11ikongummi vom Additionsreaktions-Typ in einem Gewichtsverhältnis von 1:0,5 bis 1:10 rmd Trocknen der Mischung.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ~ man die Silikongummimischung in Form einer Lösung in einem organischen Lösungsmittel aufbringt.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als organisches Lösungsmittel Hexan, Heptan oder Toluol verwendet.

4. Verfahren nach- Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Two-Shot-SiIikongumrni voai Additionsreaktions-Typ verwendet, das aus einer Katalysatorkomponente und einer Polysiloxankomponente besteht, und daß man eine

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Silikongiimraimiscbimg verwendet, die hergestellt wird durch Auflösen des bei Normaltemperatur aushärtenden One-Shot-SilikongiiTnmis in einem organischen Lösungsmittel zur Herstellung einer Lösung, durch Auflösen der Katalysatorkotnponente des Two-Shot-Silikongummis vom Additionsreaktions-Tj^p in dieser Lösung und anschließendes Auflösen der Polysiloxankornponcnte des Two-Shot-SiIikongummis vom Additionsreaktions-Typ in der Lösung.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Silikonkautschukschicht rait einer Dicke von weniger als 10 Mikron aufbringt.

6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als bei Normaltemperatur aushärtendes One~Shot-Silikongummi ein Silikonpolymerisat verwendet, das Einheiten der folgenden Struktur

R⁽

Si - 0 —

lL*

worin die Reste R^s, die gleich oder voneinander verschieden sein können, jeweils eine monovalente Alkyl-, Aryl- oder Cyanoary!gruppe und η die Zahl 2 bis etwa 2000 bedeuten, und als Endgruppenreste Reste aus der folgenden Gruppe enthält

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I '■

(RO)₂- Si - 0 - , .

R^r

(AcO)₂- Si - 0

und

= N-- 0-H-- Si - 0

worin R^r die oben angegebene Bedeutung hat, R eine Alky!gruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen und Ac eine Äcetylgruppe bedeuten _v

und daß man als Two-Shot-Silikongummi vom Additionsreaktions-Typ eine Mischung aus (1) mindestens einem Organosiloxan mit einer additionspolymerisierbaren Endgruppe und mindestens einem damit reaktionsfähigen Organohydrogensiloxan und (2)"einer Katalj'-satorkomponente zum Polymerisieren des Organosiloxans und des Organohydrogensiloxans der Komponente (1) verwendet.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daf3 die Endgruppe des Organo.siloxans mit einer additionspolymerisierbaren Endgruppe eine Vinyl- oder Allylgruppe ist.

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8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Organosiloxan eine additionspoiymerisierbare Endgruppe der allgemeinen Formel aufweist

R* R¹

A-O-Si- CH-CII₂ oder A-O-Si

R¹ R'

worin R¹ die in Anspruch 6 angegebenen Bedeutungen hat und A einen Organosiloxanpolymerisat-Rest bedeutet und das Organohydrogensiloxan die allgemeine Formel hat

R¹

H-Si-O-B
R¹

. worin R* die in Anspruch 6 angegebenen Bedeutungen hat · und B einen Organosiloxanpolymerisat-Rest bedeutet.

9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß man als Katalysator eine Platinverbindung oder eine Pallad iumve rb indung ve rwend e t.

10. Verfahren .zur Herstellung einer Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß man zuerst nach Anspruch 1 die vorsensibilisierte trockene Flachdruckplatte herstellt, dann diese Flachdruckplatte bildmäßig belichtet und entwickelt unter Erzeugung von Bildbezirken und bildfreien Bezirken auf der F1achdruckp1a11e.

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11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man als bei Normaltemperatur aushärtendes One-Shot-Silikongurnrai ein Silikonpolyrnerisat, das Einheiten der folgenden Struktur

• R¹

-Si - 0

R¹

worin die Reste R^f, die gleich oder voneinander verschieden sein können, jeweils eine monovalente Alkyl-, Aryl- oder Cyanoarylgruppe und η eine Zahl von 2 bis etwa 2000 bedeuten, und als Endgruppen Reste aus der Gruppe enthält

R¹.

(RO)₂- Si -"O- ,

R¹

(AcO)₀- Si-O-

und

N - 0--j—Si - O -

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worin R* wie oben definiert ist, R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen und Ac eine Acetylgruppe bedeuten,

und als Two-Shot-Si like ri gummi vom Additionsreaktions-Typ eine Mischung aus (1) mindestens einem Organosiloxan mit einer additionspolyrnerisierbaren Endgruppe und mindestens einem damit reaktionsfähigen Organoliydrogensiloxan und (2) einer Kataly sat orkomponente zur Polymerisation des Organosiloxans und des Organohydrogensiloxans der Komponente (1) verwendet.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Endgruppe des Organosiloxane mit einer additionspolymerisierbaren Endgruppe eine Vinylgruppe oder eine Allylgruppe ist.

13. Verfahren nach Anspruch H₅ dadurch gekennzeichnet, daß das Organosiloxan mit einer additionspolytnerisierbaren Endgruppe die allgemeine Formel hat

R¹ R^f

■ I I

A-O- Si - CH-CH₀ oder A-O-Si- GI-I₀-GH=CI-I₀

I ² I-

R^f R¹

worin R* die in Anspruch 11 angegebenen Bedeutungen hat und A einen Organosiloxanpolymerisatrest bedeutet, und das Organohydrogensiloxan die allgemeine Formel hat

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■-..··./-. ^Rf '■■·-■

H - Si - O' - B · '

K*

worin R¹ die in Anspruch 11 angegebenen Bedeutungen hat und B einen Organosiloxanpolymerisatrest bedeutet.

14. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß man als Katalysator eine P1atinverbindung oder eine PalladiuKiverbindung verwendet.

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