DE3045979A1

DE3045979A1 - Vorsensibilisierte negativ-flachdruckform fuer den trocken-flachdruck

Info

Publication number: DE3045979A1
Application number: DE19803045979
Authority: DE
Inventors: Takashi Kusatsu Shiga Fujita; Norio Otsu Shiga Kawabe; Takao Otsu Shiga Kinashi
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1979-12-05
Filing date: 1980-12-05
Publication date: 1981-09-03
Also published as: DE3045979C2; FR2471622A1; JPS6154222B2; JPS5680046A; GB2064803B; GB2064803A; FR2471622B1; CA1164267A

Description

BESCHREIBUNG

Die Erfindung betrifft eine Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck und ein Verfahren zu ihrer Herstellung. Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf einen neuen Typ einer vorsensibilisierten, negativ arbeitenden Flachdruckforin bzw. -platte zur Anwendung für den Trocken-Flachdruck und ein Verfahren zu ihrer Herstellung.

Es wurden bereits zahlreiche Vorschläge für negativ arbeitende Flachdruckformen für den Trocken-Flachdruck gemacht, die eine Siliconkautschukschicht aufweisen, welche eine lichtempfindliche Schicht überdeckt, die auf einem Trägersubstrat aufgebracht ist,

So wird beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 16044/1971 eine vorsensibilisierte Flachdruckplatte beschrieben, in der eine. Siliconkautschukschicht mit Hilfe einer Klebmittelschicht auf einer unter der Einwirkung von Licht löslich werdenden lichtempfindlichen Schicht des Diazonium-Typs haftet, welche wiederum auf einer Aluminiumplatte aufgetragen ist. Die Platte wird durch einen Negativ- film mit aktinischem Licht belichtet, um die lichtempfindliche Schicht In dem belichteten Bereich löslich zu machen, dann wird die löslich gemachte lichtempfindliche Schicht mit Hilfe eines Entwicklers herausgelöst und gleichzeitig wird die darüber angebrachte Siliconkautschukschicht entfernt, so daß die als Trägersubstrat vorliegende Aluminiumplatte in den belichteten Bereichen in Form der Bildbereiche freiliegt.

Auch in den offengelegten japanischen Patentanmeldungen Nr. 8306/1974 und Nr. 7320/1974 und der japanischen Patentanmeldung Nr. 131797/1978 wird eine negativ arbeitende Flach-

130036/06A7
COPY *

platte für den Trocken-Flachdruck beschrieben, welche den vorstehend beschriebenen Aufbau hat. In dieser Flachdruckplatte werden die löslich gemachte photoempfindliche Schicht und die auf dieser aufgebrachte Siliconkautschukschicht durch die Entwicklung entfernt und die freigelegten Bereiche des Trägersubstrats stellen die Bildbereiche dar. In diesen vorstehend beschriebenen Druckformen hat der Bilcibereich eine ähnliche Struktur wie der einer Tiefätz-Form, in der die farbaufnehmenden Teile aus Vertiefungen fcestehen (nachstehend auch als 'Zellen" bzw. "Poren" bezeichnet), welche durch Entfernen der löslich gemachten photoempf lndl:i chen Schicht und der darüber angeordneten Siliconkautschuki-.chicht ausgebildet worden sind. Bei einer solchen Druckform war es daher bisher erforderlich, auf die Druckplatte eine größere Menge an Druckfarbe aufzutragen, um zu gewährleisten, daß die Druckfarbe während des Druckvorgangs ausreichend in dem Zellenbereich haftet. Dies führt jedoch zu einer starken Erhöhung des verbrauchten Volumens an Druckfarbe, wodurch nicht nur eine Erhöhung der Druckkosten, sondern auch schwerwiegende Probleme im Hinblick auf den Druckeffekt, nämlich bei der Reproduktion der Gradation, verursacht werden. Wenn beispielsweise Druckfarbe auf eine Druckplatte aufgetragen wird, so daß eine wünschenswerte optische Dichte des sogenannten festen Anteils der erzielten Abdrucke erreicht wird, so wird die Druckfarbe von der Formwalze einer Druckmaschine in die Zellen auf der Form, die ein Punktrasterbild in den sogenannten -Lichtspitzen-Teilen des Abdruckes bilden sollen, nicht ausreichend übertragen, insbesondere in die Zellen, die sehr kleine Rasterpunkte mit einem Durchmesser in der Größenordnung von mehreren 10 μΐη bilden. Somit neigen die Punkte auf dem Abdruck dazu, deformiert zu werden oder manchmal tritt wegen der fehlenden übertragung von Farbe in die Zellen ein Auslassen von Punkten auf. Wenn die Menge der au^r die Formoberfläche aufgetragenen Farbe erhöht wird, um diese Unregelmäßigkeiten der Form der Punkte auszuschalten, so wird andererseits die optische Dichte der

130036/0647

'BADORlGfNAL

— ο —

festen Anteils zu hoch, wodurch die Ausgeglichenheit des Druckeffekts verlorengeht oder manchmal auch schwerwiegende Probleme im Hinblick auf die Druckqualität auftreten können, beispielsweise die, daß Rasterpunkte in den Schattenbereichen nicht reproduziert werden.

Um diese Schwierigkeiten zu beseitigen, kann es wirkungsvoll sein, die Schichtdicke der aufzulösenden photoempfindlichen Schicht zu vermindern und dadurch die Zelltiefe zu vermindern. Es ist "jedoch sehr schwierig und praktisch undurchführbar, eine photoempfindliche Schicht einer Dicke, wie sie erforderlich ist, um die vorstehenden mit dem Druck in Zusammenhang stehenden Schwierigkeiten zu lösen, auszubilden, z.B. mit einer Filmdicke von etwa 0,1 \xm. Darüber hinaus führt das Dünnerwerden der photoempfindlichen bzw. lichtempfindlichen Schicht zu einen erhöhten physikalischen und chemischen Einfluß durch das Träcersubstrat, wobei z.B. die Reproduzierbarkeit und die Beständigkeit des Bildes in vielen Fällen störend beeinflußt werden.

Die bisl· er bekannten negativ arbeitenden Flachdruckplatten für den Trocken-Flachdruck zeigen somit Nachteile im Hinblick auf das Haften der Druckfarbe etc. und eignen sich somit weniger fur die praktische Anwendung.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die vorstehend beschriebenen Nachteile auszuschalten und eine neue Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung zur Verfügung zu stellen, die gute Druckqualitäl. in allen Bereichen des Bildes zeigt. Andere Aufgaben und Vorteile der Erfindung sind aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.

Gegenstand de-r Erfindung ist 'eine vorsensibilisierte Negativ-

130036/0647

BAD ORIGINAL

Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck , diii gekennzeichnet ist durch

(1) ein Trägersubstrat,

(2) eine auf dem Trägersubstrat aufgebrachte und an diesem haftende oleophile photoempfindliche Schicht und

(3) eine Druckfarbe abweisende SiliccnkauLschukschicht, die auf der photoempfindlichen Schichi aufgebracht ist und an dieser haftet,

wobei die photoempfindliche Schicht sowohl vor als auch nach der Belichtung mit aktinischem Licht im wesentlichen unlöslich im Entwickler ist und befähigt ist, in den mit aktinischem Licht belichteten Bereichen die Siliconkautschukschicht freizugeben, und die Siliconkautschukschicht befähigt ist, in den belichteten Bereichen durch den Entwickler entfernt zu werden.

Gegenstand der Erfindung ist außerdem eine vorsensibilisierte Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck, die einen Bildbereich aufweist, der durch die photoempf-ndliche Schicht gebildet wird, die auf einem Trägersubstrat aufgebracht ist, und die einen.bildfreien Bereich aufweist, der durch eine Siliconkautschukschicht gebildet ist, die auf dieser photoempfindlichen Schicht aufgebracht ist.

Erfindungsgegenstand ist außerdem ein Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten Negativ-Flachdruckform für den Trocken Flachdruck, bei dem eine Druckformmatrix (printing master), bestehend aus einem Trägersubstrat,.einer auf. diesem aufgebrachten photoempfindlichen Schicht, die schwe;rlöslich oder unlöslich in Entwicklern ist, und einer auf dieser photoempfindlichen Schicht aufgebrachten Siliconkautschukschicht, bildmäßig belichtet wird und anschließend die belichtete Druckformmatrix mit einem Entwickler behandelt wird, so daß nur die belichteten Bildbereiche der Siliconkautschukschicht entfernt werden.

130036/06Λ7 GÖPY BAD

Durch die Erfindung wird somit eine vorsensibilisierte Negativ-Flachdruckform zugänglich, für die beim Negativ-Flachdruck kein Wasser zum Befeuchten erforderlich ist und die aus einem Trägersubstrat, einer auf dem Trägersubstrat aufgebrachten, unter Lichteinwirkung die Freisetzung ermöglichenden photoempfindlichen Schicht und einer auf der photoempfindlichen Schicht aufgebrachten Siliconkautschukschicht besteht. Wenn diese Druckform durch einen Negativfilm belichtet und danach mit einem Entwickler behandelt wird, ward nur die auf der belichteten photoempfindlichen Schicht aufgebrachte Siliconkautschukschicht entfernt, während die photoempfindliche Schicht als solche zurückbleibt und einei. Bildbereich ausbildet. Befeuchtungswasser ist nicht erfordei lieh, wenn das Drucken mit dieser Flachdruckform durchgeführt wird.

Die Erfindung wird nachstehend ausführlicher beschrieben. Die erfindungsgemäß vorliegende photoempfindliche Schicht ist in Entwicklern schwerlöslich' oder unlöslich. Es handelt sich um eine Licht-Trennschicht, d.h. eine unter der Einwirkung von Licht eine Freigabe bewirkende Schicht, die ermöglicht, daß beim Entwicklen nur die darauf aufgebrachte Siliconkautschukschicht entfernt wird, so daß die belichteten Bereiche der photoempfindlichen Schicht unverändert zurückbleiben, ohne· praktisch entfernt zu werden.

Eine solche Licht-Trennschicht wird erhalten, indem eine bekannte, unter Lichteinwirkung löslich werdende photoempfindliche Verbindung durch Vernetzung dieser Verbindung mit einer polyfunktionellen Verbindung oder durch Modifizieren einer in der Verbindung vorhandenen funktionellen Gruppe mit einer mcnofu:iktionellen Verbindung in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich gemacht wird. Zur Veranschaulichung von geeigneten unter Lichteinwirkung löslich werdenden photo-

130036/0S47

empfindlichen Verbindungen seien Chinondiazide erwähnt, wie sie normalerweise für vorsensibilisierte Positivplatten, Wipe-on-Platten oder Photoresists verwendet werden, wie Ester von Benzochinon-1,2-diazid-sulfonaten oder Naphthochinon-1,2-diazid-sulfonaten und Polyhydroxyverbindungen, z.B. Ester aus Benzochinon-1,2-diazid-sulfochlorid und Polyhydroxyphenyl, Ester aus Naphthochinon-1,2-diazid-sulfochlorid und Pyrogallol-aceton-Harz und Ester aus Naphthochinon-1,2-diazidsulfochlorid und Phenol-Formaldehyd-Novo:akharzen, oder Komplexe von Diazoniumverbindungen mit ar organischen oder organischen Säuren, beispielsweise photoempfindliche Komplexe von Diazodiphenylamin und Phosphowolframsäure.

Zu geeigneten Methoden zur Einführung einer vernetzten Struktur in eine derartige unter Lichteinwirkung löslich werdende photoempfindliche Verbindung gehört eine Methode, gemäß der reaktive Gruppen, beispielsweise Hydroxyl- und Aminogruppen, die in der photoempfindlichen Verbindung vorhanden sind, mit einem polyfunktionellen Vernetzungsmittel vernetzt werden.

Zu Beispielen für geeignete Vernetzungsmittel gehören Polyisocyanate, z.B. Paraphenylendiisocyanat, 2,4- oder 2,6-Toluoldiisocyanat, 4,4'-Diphenylmethandiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat,Isophorondiisocyanat oder Addukte dieser Verbindungen und Polyepoxyverbindungen, z.B. Polyäthylenglycol-diglycidyläther, Polypropylenglycol-diglycidylather, Bisphenol A-diglycidyläther und Trimethylolpropan-triglycidyläther. Es ist erforderlich, daß der Härtungsvorgang mit Hilfe dieser Vernetzungsmittel unter Bedingungen durchgeführt wird, unter denen die photoempfindliche Substanz ihre Lichtempfindlichkeit nicht verliert, gewöhnlich bei einer Temperatur von nicht mehr als 120⁰C. Zu'diesem Zweck wird ein Katalysator oder dergleichen angewendet.

130036/0647

Andere geeignete Methoden, um eine derartige unter Lichteinwirkung löslich werdende photoempfindliche Verbindung in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich zu machen besteht darin, daß man beispielsweise eine in dieser photoempfindlichen Verbindung vorhandene funktionelle Gruppe urethanisiert, verestert oder amidisiert. Die Verbindung, die mit dieser funktionelleii Gruppe der photoempfindlichen Verbindung umgesetzt werden soll, kann entweder eine niedermolekulare oder eine relativ hochmolekulare Verbindung sein. Wahlweise kann ein Vinylmonomeres auf die photoempfindliche Verbindung pfropfpolyrnerisiert werden.

Eine besonders bevorzugte photoempfindliche Schicht, die erfindungsgenäß verwendet wird, wird durch Vernetzen oder Modifizieren eines Teilesters aus Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfochlorj d und Phenol-Formaldehyd-Novolakharz mit einem poly- oder monofunktionellen Isocyanat erhalten.

Der photoempi indlichen Schicht können weitere Bestandteile einverleibt werden, um die Filmbildungseigenschaft oder die Haftung an dem Trägersubstrat zu verbessern, oder Farbstoffe, um das Bild zum Zeitpunkt der Entwicklung oder Belichtung sichtbar zu machen, vorausgesetzt, daß diese zugesetzten anderen Bestandteile die erfindungsgemäße Wirkung nicht beeinträchtigen.

Die Dick j der erfindungsgemäß verwendeten Licht-Trennschicht liegt im Bereich von etwa 0,1 bis 100 μπι, vorzugsweise von etwa 0,5 bis 10 p.m. Eine geringere Dicke führt leicht zur Ausbildung von Defekten, wie zur Bildung von Nadellöchern zum Zeitpunkt der Beschichtung, während eine größere Dicke in wirtschaftlicher Hinsicht nachteilig ist.

Die erfindungsgemäß verwendete Siliconkautschukschicht besteht hauptsächlich aus einem linearen Organopolysiloxan mit einem Molekulargewicht von mehreren 1000 bis mehreren 100 000,

130036/06A7

BAD ORIGINAL

das die folgende wiederkehrende Einheit cufweist

worin η eine ganze Zahl von nicht weniger als 1 bedeutet und R für eine C₁ bis C. ,.-Alkyl-, -Alkenyl oder Phenylgruppe steht, wobei vorzugsweise 60 % oder mehr der Gruppen R Methylgruppen bedeuten. Ein solches lineares Organopolysiloxan kann mit einem organischen Peroxid vermischt und der Wärmebehandlung unterworfen werden, wobei ein mäßig vernetzter Siliconkautschuk gebildet wird.

Außerdem wird dem linearen Polysiloxan eil Vernetzungsmittel zugesetzt, welches ein sogenanntes Raumtemperatur-Vulkanisationsmittel (Niedertemperatur-Vulkanisationsmittel) darstellt, wie es für Siliconkautschuk verwendet wird, wozu beispielsweise Acetoxysilane, Ketoximinosilane, Alkoxysilane, Äminosilane und Amidosilane gehören. Durch Verwendung dieser Vernetzungsmittel in Kombination mit einem Hydroxyl-Endgruppen aufweisenden linearen Organopolysiloxan werden Siliconkautschuke des Deacetyl-Typs (deacetic acid type), Deoxim-Typs, Dealkohol-Typs, Deamin-Typs und Deamid-Typs erhalten. Im allgemeinen wird zu diesen Siliconkautschuken zusätzlich eine geringe Menge einer Organozinnverbindung oder dergleichen als Katalysator zugesetzt. " . .

130036/0647 GOPY

Die Dicke der Siliconkautschukschicht liegt im Bereich von etwa 0,5 bis 10 um. Eine geringere Dicke kann zu Schwierigkeiten im Hinblick auf die Dauerhaftigkeit beim Drucken führen, während eine größere Dicke nicht nur nachteilig in wirtschaftlicher Hinsicht ist, sondern auch im Gegensatz zu der -srfindungsgemäßen Aufgabe steht, wonach die Zellen flacher gemacht werden sollen; darüber hinaus wird es schwierig, die Siliconkautschukschicht während der Entwicklung zu entfernen, wodurch eine verschlechterte Bildreproduzierbarkeit verursacht wird.

Bei der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte sind außerdem die Haftung zwischen dem Trägersubstrat und der photoempfindlichen Schicht und zwischen der photoempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht so wichtig für das grundsätzliche Verhalten und die Arbeitsweise der Platte, wie die Bildreproduzierbarkeit und die Dauerhaftigkeit beim Drucken, daß erforderlichenfalls eine Haftschicht bzw. Klebmittelschicht zwischen den vorstehend genannten Schichten ausgebildet werden kann oder daß eine das Haftvermögen verbessernde Komponente jeder der vorstehend genannten Schichten einverleibt werden kann. Speziell für das Haftvermögen zwischen der photoempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht ist es wirksam, zwischen den beiden Schichten eine bekannte Silicon-Grundierschicht oder Silan-Kupplungsmittelschicht vorzusehen öler der photoempfindlichen Schicht oder der Siliconkautschukschicht einen Silicon-Primer oder ein Silan-Kupplungsmittel einzuverleiben.

Das Träctersubstrat sollte so flexibel sein, daß es in einer üblichen Flachdruckmaschine befestigt werden kann, und sollte fest genug s^in, um der während des Drückens angelegten Belastung zu widerstehen. Typisch für geeignete Trägersubstrate sind MetallpLatten, wie aus Aluminium, Kupfer und Stahl, Kunst-

130036/0647

stoff-Folien, wie aus Polyethylenterephthalat, und beschichtete Papiere. Auf diesen Platten oder Folien kann eine weitere Uberzugsschicht aufgebracht werden, um die Lichthofbildung zu vermeiden oder um andere Ziele zu Verfolger, und die so beschichteten Platten oder Folien können als I'.asissubstrate verwendet werden.

Zum Schützen der Siliconkautschukschicht, die als Oberflächenschicht in den wie vorstehend aufgebauten Flachdruckplatten für den Trockenflachdruck vorliegt oder aach zu anderen Zwecker kann ein dünner Schutzfilm auf die Oberfläche der Siliconkautschukschicht aufgetragen werden.

Die vorstehend beschriebene Flachdruckplatte für den Trocken-Flachdruck gemäß der Erfindung wird beispielsweise auf folgende Art hergestellt. Zuerst wird auf das Trägersubstrat eine Lösung einer die photoempfindliche Schicht bildenden Zusammensetzung aufgetragen, was unter Anwendung einer üblichen Beschichtungsvorrichtung, wie einer gleichsinnig laufenden Walzenauftragmaschine, einer Luftrakel-Beschichtungsvorrichtung oder einer Mayer-Stab-Beschichtungsvorrichtung, oder mit Hilfe einer rotierenden Auftragvorricntung, wie einer Wirbelbeschichtungsvorrichtung, erfolgen kann. Anschließend wird die Schicht getrocknet und erforderlichenfalls wärmegehärtet und dann wird erforderlichenfalls in der gleichen Weise eine Haftschicht auf der photoempfindlichen Schicht aufgetragen, wonach getrocknet wird. Schließlich wird eine Siliconkautschuklösung in gleicher Weise aufgetragen, wonach eine Wärmebehandlung, normalerweise bei einer Temperatur von 100 bis 120⁰C,mehrere Minuten lang durchgeführt wird, um die Härtung bis zu einem ausreichenden Grad zu ermöglichen, so daß eine Siliconkautschukschicht gebildet wird. Erforderlichenfalls kann die so gebildete Siliconkautschukschicht mit Hilfe

130036/0647

BAD ORIGINAL

einer Laminiervorrichtung oder dergleichen mit einem Schutzfilm überzogen werden.

Die erfindungsgemäße Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck, die in der vorstehend beschriebenen Weise hergestellt wurde, wird durch eine Negativ-Bildvorlage mit aktinischem Licht belichtet, die im Vakuum in engen Kontakt mit der Platte cfebra-ht wird. Die für diese Beiichtungsstufe verwendete Lichtqualle sollte eine ausreichende Menge an Ultraviolettstrahlung (üLtraviolett-Licht) erzeugen und als Lichtquelle zu diesem Zweck eignen sich Quecksilberlampen, Kohlebogenlampen, Xenoilampen, Metallhalogenid-Lampen oder Fluoreszenzlampen .

Nach der Belichtung wird die Platte mit einem Entwicklerkissen abgerieben, welches einen Entwickler enthält, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wird, Wehrend die lichtempfindliche Schicht, die durch Vernetzen oder Modifizieren in dem Entwickler schwerlöslich oder unlöslich genacht wurde, ohne wesentliche Verminderung ihrer Dicke zurückbleibt, wobei die belichtete Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht einen für Druckfarbe aufnahmefähigen Bereich darstellt.

Geeignete Entwickler, die für die Zwecke der Erfindung verwendet werden können, umfassen aliphatische Kohlenwasserstoffe (z.B. Hexan, Heptan, Ga&olin (Benzin), Kerosin), aromatische Kohlenwasser .stoffe (z.B. Toluol, Xylol) oder halogenierte Kohlenwasserstoffe (z.B. Trichlene), die befähigt sind, Siliconkautschuk anzuquellen, und diesen Entwicklern sind die nachstehenden polaren Lösungsmittel einverleibt : Alkohol- (z.B. Methanol, Äthanol), Äther (z.B. ÄthylcellosoJve, Dioxan), Ketone (z.B. Aceton, Methyläthylke-t on) , Ester (z.B. Äthylacetat, Cellosolveacetat) .

130036/06A7

Das theoretische Prinzip der Bilderzeugung mit Hilfe der unter Lichteinwirkung eine Freisetzung bewirkenden, photoempfindlichen Schicht gemäß der Erfindung ist unbekannt; es wird jedoch angenommen, daß es auf der Änderung der Haftung der photoempfindlichen Schicht gegenüber der Siliconkautschukschicht beruht, die durch eine Änderung der Polarität der photoempfindlichen Schicht bei der Belichtung oder eine Änderung der Quelleigenschaften der photoempfindlichen Schicht gegenüber dem Entwicklungslösungsmittel verursacht wird. Die Tiefe der feinen Zellen, welche die Druckfarbe-aufnehmenden Bereiche der auf diese Weise hergestellten Druckform bilden, ist um die Dicke der photoempfindlichen Schicht geringer als die Tiefe der Zellen in üblichen negativ arbeitenden Flachdruckforruen für den Trocken-Flachdruck, in denen die löslich gemachte photoempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen weggelöst wird und gleichzeitig die darüber angeordnete Siliconkautschukschicht entfernt wird. Der freizulegende Druckfarbe aufnehmende Bereich kann aus einem für Druckfarbe hochaufnahmefähigen Harz bestehen. Aus diesem Grund kann bei Verwendung der erfindungsgemäßen Flachdruckplatte ein extrem guter Druck erreicht werden, der frei von dem sogenannten Auslassen von feinen Punkten ist.

Darüber hinaus läßt sich der Bildbereich _r. der durch die photoempfindliche Schicht als Oberflächenschicht gebildet wird, leicht mit Farbstoffen färben, während die bildfreien Bereiche, die aus der Siliconkautschukschicht als Oberflächenschicht bestehen, nicht gefärbt werdenj es ist daher möglich, die Druckplatte zu überprüfen, wobei nur der Bildbereich gefärbt ist. Wenn es notwendig wird, die Druckfarben-Aufnahmefähigkeit der betreffenden Bildbereiche zu beseitigen, beispielsweise aufgrund von Korrekturen oder dergleichen, wird eine Siliconkautschuklösung auf den betreffenden Teil aufgetragen, um den

13003 6/0647

BAD ORIGINAL

Bildbereich mit einem Siliconkautschukfilm zu überziehen. Da die photoempfindliche Schicht des Bildbereiches besonders gute Haftung an dem Siliconkautschukfilm zeigt, der auf dem zu beseitigenden Teil ausgebildet ist, zeigt dieser genannte Bereich ausgezeichnete Beständigkeit beim Drucken.

Die Erfindung· wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen eingehender erläutert. Die dort angegebenen Teile sind Gewichts: teile.

Beispiel 1

(A) Aui ein3 mit einer chemischen ümwandlungsschicht überzogene Aluminiamplatte (0,3 mm dick, Produkt der Sumitomo Light Metal Industries) wurde eine Lösung der nachstehenden Zusammensetzung zur Ausbildung einer photoempfindlichen Schicht aufgetragen, wonach eine 2 Minuten dauernde Wärmebehandlung bei 120^cC erfolgte, wobei eine 2,6 um dicke photoempfindliche Schicht gebiLdet wurde :

(a) Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz (Sumilightresin PR 50235, Produkt der Sumitomo Durez Co., Ltd.) mit einem prozentualen Veresterungsgrad von

44 % 100 Teile

(b) 4,4-Diphenylmethandiisocyanat 20 Teile

(c) Dibutylzinndilaurat 0,2 Teil

(d) Methylcellosolveacetat 2000 Teile

Auf die so ausgebildete photoempfindliche Schicht wurde dann eine Siliconkautschuklösung der nachstehenden Zusammensetzung aufgetragen, wonach 2 Minuten lang auf 120⁰C erhitzt wurde, um die Färtung durchzuführen, wobei eine 2,2 \m dicke Silicon-

130036/0647

kautschukschicht gebildet wurde :

(a) Dimethylpolysiloxan (Molekulargewicht etwa 80 000, mit HydroxyI-

Endgruppen) 100 Teile

(b) Äthyltriacetoxysilan 5 Teile

(c) Dibutylzinndiacetat 0,2 Tel

(d) y*-Aminopropyltriäthoxysilan 3 Teile

(e) Iso Par E 1650 Teile

Auf die so erhaltene Druckform-Matrix wurie iir Vakuum in bekannterweise ein Negativfilm mit einem Rasterbild von 175 Linien enghaftend aufgelegt und die Anordlung wurde dann mit Hilfe einer Metallhalogenldlampe unter einem Abstand von 1 m 60 Sekunden lang bildmäßig belichtet. Die Platte wurde dam in eine Mischlösung aus Äthanol/Iso Par E (Produkt der Esso Chemical) im Verhältnis 20/80 eingetaucht und leicht mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wodurch die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde und die Oberfläche der photoempfindlichen Schicht freigelegt wurde, wobei ein Bild erzeugt wurde, welches mit dem Originalfilm übereinstimmte.

Die Oberflächenbedingungen der so erhaltenen Druckplatte wurden mit einem Oberflächen-Rauhigkeits-Prüfgerät des Nadel-Typs geprüft, wobei festgestellt wurde, duß die Oberfläche der photoempfindlichen Schicht in dem durch die Entwicklung freigelegten Bereich sehr glatt war und duß die Dicke der photoempfindlichen Schicht, die 2,6 μΐη betrug, nicht vermindert war.

(B) Andererseits wurde auf der gleichen vorstehend beschriebenen Aluminiumplatte eine phötoempfindliche Schicht der nachstehenden Zusammensetzung aufgetragen, deren Dicke 2,6 μπι betrug, wonach eine Wärmebehandlung während 2 Minuten

130036/0647
!AD ORIGINAL

_■ ₂₀ . ·■ 30^5979

bei 12O⁰C durchgeführt wurde :

(a) Näphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz (Sumilightresin PR 50235, Produkt der Sumitomo Durez Co., Ltd.) mit einem Veresterungsgrad von 44 %

Dann wurde auf der so ausgebildeten photoempfindlichen Schicht die gleiche Siliconkautschukschicht aufgebracht, die vorstehend unter (A) beschrieben wurde, wobei die gleiche Dicke e:.ngehalten wurde, wonach 2 Minuten bei 120⁰C wärmebehandelt wurde. Die nachstehende Belichtung und Entwicklung wurden : η gl2icher Weise wie vorstehend unter (A) durchgeführt, wobei äie photoempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen aufgelöst wurde und gleichzeitig die darüber liegende Siliconkautschukschicht entfernt wurde, so daß in diesen Bereichen die Aluminiumplatte freigelegt wurde. Auf diese Weise wurde aine Druckplatte hergestellt.

Die genü.ß (A) und (B) erhaltenen Druckplatten wurden jeweils in einei Offsetpresse (Komori Sprint 2 Color) befestigt und der Druck wurde unter Verwendung von "Aqualess ST Cyan" (Produkt der Toyo Ink Manufacturing Co.) ohne Verwendung von Befeuchtungswasser durchgeführt. Das Drucken erfolgte bei einem Ga ad dor optischen Dichte des festen Bereiches auf dem Abdruck von ?.,0 bis 0,7, während das Anhaften von Druckfarbe in den Li<:hspii zen-Bereichen (Punktdurchmesser 50 bis 70 μπι) durch eine Lupe mit dem Auge beobachtet werden konnte (50-fache Vergrößerung). Dabei wurde gefunden, daß die optische Dichte des festen Anteils, bei der die Haftung der Druckfarbe schlecht wurde (einiges oder völliges Weglassen von Punkten), in Platte (A¹ 0,8 bis 0,9 und-in Platte (B) 1,3 bis 1,4 betrug. Bei der gleichen Menge der Druckfarbe zeigte Platte (A) eine bemer-

30 036/0 647 _BAD0RlGINAL COPY

kenswerte Verbesserung des Haftens der Druckfarbe in den Punktbereichen.

Beispiel 2

Auf eine 0,24 nun dicke Aluminiumplatte (Produkt der Sumitomo Light Metal Industries) wurde eil Resolharz (Sumilightresin PC-1, Produkt der Sumitono Duiez Co., Ltd.) aufgetragen, so daß eine Dicke von 2 μΐη erreicht wurde, wonach eine 3-minütige Wärmebehandlung bei 180⁰C durchgeführt wurde, um die Härtung zu bewirken. Auf di'ase Keise wurde ein Trägersubstrat erhalten. Dann wurde eLne Lösung für eine photoempfindliche Schicht der nächstahenoen Zusammensetzung auf das Trägersubstrat aufgetragen und ducch 2-minütiges Erhitzen auf 120⁰C gehärtet, wobei eine 2,4 μΐη dicke photoempfindliche Schicht gebildet wurde :

(a) Naphthochinon-1,2-diazid-5-salfoester von Phenolnovolakharz (wie

in Beispiel 1 beschrieben) 100 Teile

(b) 2,6-Toluoldiisocyanat 2 0 Teile

(c) Dibutylzinnlaurat 0,2 Teil

(d) Dioxan " 2000 Teile

Dann wurde eine Siliconkautschuklösung der nachstehenden Zusammensetzung auf die photoempfindliche Schicht aufgetragen und durch 2-minütiges Erhitzen auf 120⁰C gehärtet, wobei eine 2,1 u.m dicke Siliconkautschukschicht gebildet wurde :

(a) Dimethylpolysiloxan (Molekulargewicht etwa 80 000, mit HydroxyI-

Endgruppen) 100 Teile

(b) Vinyl-tri(methyläthylketoximo)-

silan 8 Teile

130036/0647
BAD ORIGINAL COPY

(c) Dibutylzinndiacetat 0,2 Teil

(d) Y- [N- (ß-Aminoäthyl) amino] propyltrimethoxysilan 2,5 Teile

(e) Iso Par E 1800 Teile

Die so erhaltene Druckform-Matrix wurde 60 Sekunden unter einem Abstand von 1 m mit einer Metallhalogenidlampe belichtet, wobei die Belichtung durch einen Negativfilm mit einem Rasterbild von 150 Linien erfolgte, der im Vakuum in dichtem Kontakt an der Platte haftete. Die Platte wurde dann in einen Entwickler eingetaucht (Iso Par E/Äthanol = 9/1), dor einen Farbstoff enthielt (Öl-Blau A) und leicht mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde. Auf diese Weise wurde eine Druckplatte mit einer freigelegten gefärbten photoempfindlichen Schicht erhalten, welche exakt das Bild des Negativfilms reproduzierte.

Beispiel 3

In 30 ml trockenes Dioxan wurden unter einem Stickstoff-Gasstron 10 j Phenylisocyanat und 20 mg Dibutylzinndilaurat gegeben, wonach 7 g Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolak mit einem Veresterungsgrad von 43 % unter Rühren ;uges3tzt wurden. Das Rühren wurde 3 Stunden bei Raumtemperatur fortgesetzt. Nach dem Stehenlassen über Nacht wurde 1 ml Wasser zugefügt, um verbliebenes Phenylisocyanat zu zersetzen. Das Reaktionsgemisch wurde filtriert, um &n Niederschlag zu entfernen. Das Filtrat wurde dann in einen großen Überschuß an Wasser gegossen, wobei eine Ausfällung stattfand, wonach der Niederschlag filtriert und getrocknet wurde. Es wurde ein gelbes Pulver erhalten.

130036/064 7

copy

Der erhaltene Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfoester von Phenolnovolakharz, der in dieser Weise mit Phenylisocyanat modifiziert worden war, wurde in Dioxan gälöst, so daß eine 5 gew.-%ige Lösung erhalten wurde. Diese Lösung wurde auf eine 0,3 mm dicke durch chemische Umwandlang beschichtete Aluminiumplatte aufgetragen und dann getrocknet, um eine 2,2 μπι dicke photoempfindliche Schicht auszubilden. Auf diese Schicht wurde dann in gleicher Weise wie in Beispiel 2 eine Siliconkautschukschicht aufgebracht. Die so eihaltene Druckform-Matrix wurde 60 Sekunden unter einem Abstand von 1m durch einen Negativfilm mit einem Rasterbild von 15C Linien, der im Vakuum in dichtem Kontakt mit der Platte stand, mit einer Metallhalogenidlampe belichtet. Die Platte wurde dann in eine aus Iso Par E/Äthanol(= 9/1) bestehende Lösuno eingetaucht und mit einem Entwicklerkissen abgerieben, wobei nur die Siliconkautschukschicht in den belichteten Bereichen entfernt wurde und eine freiliegende photoempfindliche Schicht zurückblieb, die ein getreues Abbild des Filmoriginals darstellte.

Die so erhaltene Druckplatte wurde im Hinblick auf ihre Oberflächenbedingungen unter Verwendung eines Oberflächen-Rauhigkeits-Prüfgeräts des Nadel-Typs'geprüft (TALYSURF, Produkt der Teijin Shoji). Dabei wurde gefunden, daß die Oberfläche der photoempfindlichen Schicht in den durch die Entwicklung freigelegten Bereichen glatt war und daß die Dicke der photoempfindlichen Schicht 2,2 um betrug.

Beispiel 4

Unter Verwendung jeder der in Beispielen 1 (A), 2 und 3 hergestellten Druckformen wurde das Drucken mit "Aqualess ST Magenta" (Produkt der 1'oyo Ink Manufacturing Co.) ohne Verwendung von Befeuchtungswasser mit Hilfe einer Offset-Druckpresse (Davidson Dualith 700) durchgeführt. Dabei erzeugten

130036/0647

BAD ORIGINAL

alle Druckformen schöne Abdrucke und selbst nach 20 000, 10 000 bzw. 10 000 Kopien waren die Oberflächen der Druckformen frei von Beschädigung, so daß sie zum weiteren Drucken verwendbar waren.

130036/0647

Claims

SCHIFF ν. FÜNER STREHL SCH ÜBTE Lr-MOF Γ "&BSINGHAUS FINCK

MARIAHILFPLATZ 2 & 3, MÖNCHEN ΘΟ POSTADRESSE ι POSTFACH SBOIOO, D-BOOO MÖNCHE >l SB

ALSO PB 3I¹ESSIOmAL REPRESENTATIVES BEFORE 'Ht EUR DPEAN PATENT OFFICE

KARL LUlJWia SCHIFF (1Οβ4-1978)

OIPL. CHfM. DR. Al EXANOER V. FÜNER

DIPL. INQ PETER STHEHL

DIPL. CHEM. DR. URSULA SCHÜBEL-HOPF

OIPL. INS DIETER EBSINQHAUS

DR. INQ. DIETER FINCK

TELEFON (Ο8β) 48 QO 04
TELEX B-SSees AURO D

aufomarcpat München

TORAY INDUSTRIES, INC. DEA-*3 49 1

5. Dezember 1980

Vorsensibilisierte Negativ-Flachdruckform für
den Trocken-Flachdruck

PATENTANSPRÜCHE

1. Vorsensibilisierte Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck, gekennzeichnet durch

(1) ein Trägersubstrat,

(2) eine auf dem Trägersubstrat aufgebrachte oleophile photoempfindliche Schicht und

(3) eine.Druckfarbe abweisende Siliconkautschukschicht

die auf der photoempfindlichen Schicht aufgebracht ist, wobei die photoempfindliche Schicht sowohl vor als auch nach der Belichtung mit aktinischem Licht im wesentlichen unlöslich in Entwicklern ist und befähigt ist, die Siliconk.autschukschicht

130036/0647

- - ; : 3045978

in den mit aktinischem Licht belichteten ausgewählten Bereichen freizugeben, und' die Siliconkautschukschicht . befähigt ist, durch einen Entwickler in den belichteten Bildbereichen entfernt zu werden.

2. Vorsensibilisierte Negativ-Flachdruckform für den Trockenflachdruck, gekennzeichnet durch einen Bildbereich, der durch eine auf einem Trägersubstrat aufgebrachte photoempfindliche Schicht gebildet wird, und einen bildfreien Bereich, der durch eine Silicon-kautschukschichfgebildet wird, die auf der photoempfindlichen Schicht aufgebracht, ist.

3. Negettiv-Flachdruckform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die photoempfindliche Schicht durch Vernetzung einer Chinondiazid-Verbindung mit einer polyfunktionellen Verbindung in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich gemacht wurde.

4. Negcttiv-Flachdruckform nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als polyfunktioneile Verbindung eine Polyisocyanatverbindung verwendet wurde.

5. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 3, dadurch g e -

130036/0647

kennzeichnet, daß als polyfurktionelle Verbindung eine Polyepoxyverbindung verwendet wurde.

6. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die photoempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwerlöslich · oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid-Verbindung mit einem Monoisocyanat urethanisiert wurde.

7. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die photoempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwerlöslich- oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid-Verbindung verestert wurde.

8. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die photoempfindliche Schicht dadurch in Entwicklern schwerlöslich oder unlöslich gemacht wurde, daß eine Chinondiazid-Verbindung amidisiert wurde. ·

9. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die photoempfindliche Schicht in Entwicklern schwerlöslich . oder unlöslich gemacht wurde, indem eine Chinondiazid-Verbindung mit einem Vinylmonomeren der Pfropfpolymerisation unterworfen wurde.

13 0 0 3 6/0647

10. Negativ-Flachdruckform nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet , daß als Chinondiazid-Verbindung ein Ester aus Naphthochinon-1,2-diazid-sulfonat und einer Polyhydroxyverbindung verwendet worden i st.

11. Negativ-Flachdruckform nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Polyhydroxyverbindung ein Phenol-Formaldehyd-Novolakharz verwendet wurde.

12. Negativ-Flachdruckform nach einem der Ansprüche 1 bis

11, dadurch gekennzeichnet , daß die Dicke der photoempfindlichen Schicht im Bereich von 0,1 bis 100 μπι liegt.

13. Negativ-Flachdruckform nach einem der Ansprüche 1 bis

12, dadurch gekennzeichnet , daß die Siliconkautschukschicht ein vernetztes Diorganopolysiloxan enthält, das durch Härtung eines Diorganopolysiloxans mit der folgenden wiederkehrenden Einheit

Si

130036/06A7

erhalten wurde, worin η eine ganze Zahl von nicht weniger
als 1 ist und die Reste R gleich oder verschieden sind und jeweils für C₁ bis C₁--Alkylgruppen, Alkenyl- oder Phenylgruppen, wobei 60 % oder mehr der Reste R für Methylgruppen bedeuten, stehen.

14. Negativ-Flachdruckform nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet , daß die Dicke
der Silicon-Kautschukschicht im Bereich von etwa 0,5 bis
10 μπι liegt.

15. Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten
Negativ-Flachdruckform für den Trocken-Flachdruck, dadurch gekennzeichnet , daß man eine Druckform-Matrix, die aus einem Trägersubstrat, einer auf dem Trägersubstrat aufgebrachten in Entwicklern schwer löslichen oder unlöslichen photoempfindlichen Schicht und einer auf der photoempfindliche: Schicht aufgebrachten Siliconkautschukschich.t: besteht, bildmäßig belichtet und danach die belichtete Druckform-Matrix mit einem Entwickler behandelt, der lediglich die belichteten Bildbereiche der Siliconkautschukschicht entfernt..

130038/0647