DE4006284A1 - Vorsensibilisierte platte fuer die verwendung zum herstellen lithographischer druckplatten - Google Patents
Vorsensibilisierte platte fuer die verwendung zum herstellen lithographischer druckplattenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine
vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zum
Herstellen lithographischer Druckplatten, die es
ermöglicht, das Drucken ohne Verwendung von
Befeuchtungswasser (dampening water) durchzuführen.
Es sind bereits verschiedene Arten vorsensibilisierter
Platten für die Verwendung zum Herstellen
lithographischer Druckplatten, die kein
Befeuchtungswasser (dampening water) erfordern (im
folgenden als "wasserfreie PS-Platten" bezeichnet) für
die Durchführung lithographischer Druckoperationen ohne
Verwendung von Befeuchtungswasser vorgeschlagen worden.
Unter diesen zeigen diejenigen, die auf einem Substrat
eine lichtempfindliche Harzschicht und eine
Silikongummischicht in dieser Reihenfolge umfassen,
ausgezeichnete Eigenschaften, wie es beispielsweise in
den JP-PS 54-26923 (1979) und 55-22781 (1980)
beschrieben ist.
Die in diesen wasserfreien PS-Platten verwendete
Silikongummischicht wird im allgemeinen durch teilweises
Vernetzen eines Polymers mit hohem Molekulargewicht, das
eine Polysiloxanstruktur als hauptsächliches Grundgerüst
umfaßt, mit einem Vernetzungsmittel erhalten. Weiterhin
sind als lichtempfindliche Harzschichten
photopolymerisierbare lichtempfindliche
Zusammensetzungen, photodimerisierbare lichtempfindliche
Zusammensetzungen oder lichtempfindliche
Zusammensetzungen vom Diazotyp verwendet worden, die im
Fall von positiv arbeitenden vorsensibilisierten Platten
für die Verwendung zum Herstellen lithographischer
Druckplatten (im folgenden als "PS-Platten" bezeichnet)
nach der Belichtung gehärtet werden. Im allgemeinen wird
zur Bildung von Bildern auf diesen PS-Platten mit der
zuvor beschriebenen Schichtstruktur die
lichtempfindliche Harzschicht durch Bestrahlung mit
Licht gehärtet, falls es notwendig ist, indem eine
Photoadhäsion an der Grenze zwischen der
lichtempfindlichen Schicht und der darauf aufgebrachten
Silikongummischicht während der Belichtung hervorgerufen
wird, um sie fest zu binden und gleichzeitig die
Penetration eines Entwicklers in die Platte und damit
die Auflösung der lichtempfindlichen Schicht zu
verhindern, wodurch Nicht-Bildbereiche gebildet werden,
die die Silikongummischicht umfassen. Auf der anderen
Seite können Bildbereiche durch Permeieren des
Entwicklers in die lichtempfindliche Schicht durch die
Silikongummischicht gebildet werden, um einen Teil oder
das Ganze der nicht gehärteten lichtempfindlichen
Schicht aufzulösen und dann die Silikongummischicht auf
der nicht gehärteten lichtempfindlichen Schicht mittels
physikalischer Kräfte zu entfernen. Es ist wichtig, die
Entfernung von Nicht-Bildbereichen während der
Entwicklung und des anschließenden Druckbetriebes zu
verhindern, indem die lichtempfindliche Harzschicht fest
an die Silikongummischicht geheftet wird, wenn die
Bilder auf eine solche Weise gebildet werden. Aus diesem
Grund sind verschiedene lichtempfindliche
Zusammensetzungen vorgeschlagen worden. Beispielsweise
ermöglicht es eine in den JP-OS 63-253949 (1988) und
63-280250 (1988) offenbarte photopolymerisierbare
lichtempfindliche Zusammensetzung, in der ein
Allylmethacrylat-Copolymer als Bindemittel verwendet
wird, die Adhäsion zwischen einer lichtempfindlichen
Schicht und einer Silikongummischicht in einem gewissen
Ausmaß sicherzustellen, wenn die Zusammensetzung für die
auf die Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung
aufzubringende Silikongummischicht sorgfältig ausgewählt
wird und somit die Bildung von Bildern ermöglicht. Die
Qualität der so gebildeten Bilder ist jedoch immer noch
unzureichend.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine
wasserfreie PS-Platte mit einer verbesserten Adhäsion
zwischen einer lichtempfindlichen Schicht und einer
Silikongummischicht bereitzustellen, die deshalb
ausgezeichnete Bild-bildende Eigenschaften aufweist.
Nach verschiedenen umfangreichen Untersuchungen zur
Lösung dieser Aufgabe ist festgestellt worden, daß eine
wasserfreie PS-Platte mit ausgezeichneten bild-bildenden
Eigenschaften durch Inkorporieren eines
photopolymerisierbaren Monomers mit einer speziellen
funktionellen Gruppe in die lichtempfindliche
Harzschicht der wasserfreien PS-Platte, die auf einem
Substrat die lichtempfindliche Schicht und eine
Silikongummischicht in dieser Reihenfolge umfaßt,
erhalten werden kann. Die vorliegende Erfindung baut auf
diesen Ergebnissen auf.
Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf eine
wasserfreie PS-Platte, die auf einem Substrat eine
lichtempfindliche Harzschicht und eine
Silikongummischicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei
die Silikongummischicht durch Vernetzung durch Reaktion
einer
mit einer -CH=CH-Gruppe gebildet
wird, wobei die lichtempfindliche Harzschicht umfaßt:
- 1. ein Monomer oder ein Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppe und mindestens einer Allylgruppe; und
- 2. einen Photopolymerisationsstarter.
Die wasserfreie PS-Platte muß eine lithographische
Druckplatte zur Verfügung stellen, deren Flexibilität
ausreicht, daß die Druckplatte in eine übliche
Druckpresse gesetzt werden und den darauf während des
Druckbetriebes ausgeübten Belastungen widerstehen kann.
Daher umfassen Beispiele für typische Substrate für
wasserfreie PS-Platten beschichtetes Papier, eine
Metallplatte, beispielsweise eine Aluminiumplatte, einen
Kunststoffilm, beispielsweise einen
Polyethylenterephthalat-Film, eine Gummiplatte oder
Zusammensetzungen davon. Die Oberfläche des Substrates
kann mit einer Grundschicht oder ähnlichem überzogen
sein, um das Auftreten einer Hofbildung zu verhindern
sowie für weitere Zwecke.
Für die Herstellung der Grundschicht können verschiedene
Materialien verwendet werden, um die Adhäsion zwischen
dem Substrat und der lichtempfindlichen Harzschicht zu
verbessern, um so eine Hofbildung zu vermeiden, Bilder
zu färben und/oder die Druckeigenschaften der
resultierenden lithographischen Druckplatte zu fördern.
Beispiele dafür umfassen die durch Belichten einer
Vielzahl von lichtempfindlichen Polymeren erhaltenen, um
sie vor dem Auftragen der lichtempfindlichen Harzschicht
zu härten, wie es in der JP-OS 60-22903 (1985) offenbart
ist; die durch Härten durch Erwärmen von Epoxyharzen
erhaltenen, wie in der JP-OS 62-50760 (1987) offenbart;
und die durch Härten von Gelatinefilmen erhaltenen, wie
in der JP-OS 63-133151 (1988) offenbarten. Darüber
hinaus ist die Verwendung eines gehärteten Kaseinfilmes
genauso effektiv.
Zusätzlich kann die Grundschicht weiterhin ein Polymer
mit einem Glasübergangspunkt von nicht mehr als
Raumtemperatur umfassen, beispielsweise Polyurethane,
Polyamide, Styrol/Butadiengummis, Carboxyl-modifizierte
Styrol/Butadiengummis, Acrylnitril/Butadiengummis,
Carbonsäure-modifizierte Acrylnitril/Butadiengummis,
Polyisoprene, Acrylatgummis, Polyethylene, chlorierte
Polyethylene und chlorierte Polypropylene. Die Menge
dieser zuzufügenden Polymere ist nicht kritisch.
Die Grundschicht kann weiterhin in Abhängigkeit von den
vorstehend genannten Zwecken Zusatzmittel umfassen,
beispielsweise Farbstoffe, pH-Indikatoren, Mittel oder
Zusammensetzungen zum Erhalten eines sichtbaren Bildes
unmittelbar nach der bildweisen Belichtung,
Photopolymerisationsstarter, Adhäsionsverbesserer
(beispielsweise polymerisierbare Monomere, Diazoharze,
Silan-Kupplungsmittel, Titanat-Kupplungsmittel oder
Aluminium-Kupplungsmittel), weiße Pigmente und/oder
Siliziumoxidpulver. Die Menge der aufzutragenden
Grundschicht liegt im allgemeinen im Bereich von 2-20 g/m²
(nach dem Trocknen bestimmt).
Die zum Erhalten der erfindungsgemäßen wasserfreien
PS-Platte verwendete lichtempfindliche Harzschicht kann
aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung erhalten
werden, die
- 1. ein photopolymerisierbares Monomer oder ein Oligomer mit mindestens einer (Meth)acryloylgruppe und mindestens einer Allylgruppe umfaßt;
- 2. einen Photopolymerisationsstarter. Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin als ggf. zuzufügende Bestandteile
- 3. eine polymere Verbindung mit Filmbildungsfähigkeit und
- 4. ein Monomer oder ein Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppe und ohne Allylgruppen enthalten.
Jeder Bestandteil der lichtempfindlichen Zusammensetzung
wird im folgenden im Detail erläutert.
Beispiele für diese Monomere oder Oligomere sind
Reaktionsprodukte eines eine Allylgruppe enthaltenden
Isocyanates, beispielsweise Allylisocyanat,
mit einer eine Hydroxylgruppe enthaltenden
(Meth)acrylatverbindung, beispielsweise
Hydroxyethyl(meth)acrylat, Hydroxypropyl(meth)acrylat,
Polyethylenglycolmono(meth)acrylat,
Polypropylenglycolmono(meth)acrylat,
Pentaerythrittri(meth)acrylat,
Dipentaerythrittetra(meth)acrylat oder eine der durch
die folgenden Formeln dargestellte Verbindung:
(wobei R ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe
bedeutet); Reaktionsprodukte eines eine Allylgruppe
enthaltenden Glycidylethers, beispielsweise
Allylglycidylether, mit einem eine Carboxylgruppe
enthaltenden (Meth)acrylat, beispielsweise
(Meth)acrylsäure, (Meth)acryloxyethylhydrogenphthalat,
(Meth)acryloxyethylhydrogensuccinat,
(Meth)acryloxyethylhydrogenmalat,
(Meth)acryloxyethylhydrogentetrahydrophthalat und
(Meth)acryloxyethylhydrogenhexahydrophthalat;
Reaktionsprodukte eines eine Allylgruppe enthaltenden
Alkohols, beispielsweise Allylalkohol oder
2-Allyloxyethylalkohol, mit den vorstehend genannten
(Meth)acrylaten, die eine Carboxylgruppe enthalten,
oder deren Säurechloride.
Die Menge des photopolymerisierbaren Monomers oder
Oligomers liegt bevorzugt im Bereich von 5 bis 65 Gew.-%,
insbesondere bevorzugt im Bereich von
10 bis 45 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
lichtempfindlichen Harzschicht.
Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare
Photopolymerisationsstarter sind vicinale
Polyketaldonylverbindungen, offenbart im US-Patent
23 67 660; α-Carbonylverbindungen, offenbart in den
US-PS 23 67 661 und 23 67 670; in der US-PS
24 48 828 offenbarte Acyloinether; in der US-PS
27 22 512 offenbarte aromatische Acyloinverbindungen,
die mit einer α-Kohlenwasserstoffgruppe substituiert
sind; in den US-PS 30 46 127 und 29 51 758 offenbarte
vielkernige Chinonverbindungen; in der US-PS 35 49 367
offenbarte Kombinationen von Triarylimidazoldimeren mit
p-Aminophenylketon; in der US-PS 38 70 524 offenbarte
Verbindungen vom Benzothiazoltyp; Verbindungen vom
Benzothiazoltyp/Verbindungen vom
Trihalomethyl-s-triazintyp, offenbart in der US-PS
42 39 850; in der US-PS 37 51 259 offenbarte Acridin- und
Phenazinverbindungen sowie in der US-PS 42 12 970
offenbarte Oxadiazolverbindungen; in den US-PS
39 54 475 und 41 89 323 offenbarte Verbindungen vom
Trihalomethyl-s-triazintyp mit chromophoren Gruppen;
JP-OS 53-133428 (1978), 60-105667 (1985) und 62-58241
(1987) und der japanischen Patentanmeldung 61-227489
(1986); sowie Peroxyesterverbindungen, die
Benzophenongruppen enthalten, offenbart in den JP-OS
59-197401 (1984) und 60-76503 (1985).
Die Menge des Photopolymerisationsstarters liegt
bevorzugt im Bereich von 0,1-20 Gew.-%, besonders
bevorzugt 1-10 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtfestgewicht der lichtempfindlichen
Zusammensetzung.
Beispiele für diese polymeren Verbindungen umfassen
Methyacrylsäure-Copolymere, Acrylsäure-Copolymere,
Crotonsäure-Copolymere, Maleinsäure-Copolymere,
teilweise veresterte Maleinsäure-Copolymere, saure
Cellulosederivate, Polyvinylpyrrolidon,
Polyethylenoxide, alkohollösliche Nylons, Polyester,
ungesättigte Polyester, Polyurethane, Polystyrole,
Epoxyharze, Phenoxyharze, Polyvinylbutyraldehyd,
Polyvinylformaldehyd, Polyvinylchlorid,
Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol, der partiell mit
Acetal modifiziert ist, wasserlösliche Nylons,
wasserlösliche Urethane, Gelatine und wasserlösliche
Cellulosederivate.
Weiterhin umfassen solche polymeren Verbindungen mit
film-bildenden Fähigkeiten solche, die eine Gruppe
haben, die photopolymerisierbare oder photovernetzbare
olefinische ungesättigte Doppelbindungen in ihren
Seitenketten tragen. Beispiele solcher polymerer
Verbindungen umfassen Copolymere von Allyl(meth)acrylat/
(Meth)acrylsäure/ggf. weiterer Zusatz polymerisierbaren
Vinylmonomers und deren Alkalimetallsalze oder
Aminsalze, wie in der JP-OS 59-53836 offenbart ist;
solche, die durch Umsetzen von
Hydroxyethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/Alkyl(meth)
acrylat-Copolymeren und ihren Alkalimetallsalzen oder
Aminsalzen mit einem (Meth)acrylsäurechlorid erhalten
werden, wie es in der JP-PS 59-45979 offenbart ist;
solche, die durch Zufügen von Pentaerythrittriacrylat zu
Maleinsäureanhydrid-Copolymeren durch Halbveresterung
erhalten werden und deren Alkalimetallsalze oder
Aminsalze, wie es in der JP-OS 59-71048 (1984) offenbart
ist; solche, die durch Zufügen von
Monohydroxyalkyl(meth)acrylat,
Polyethylenglycolmono(meth)acrylat oder
Polypropylenglycolmono(meth)acrylat zu einem Styrol/
Maleinsäureanhydrid-Copolymer durch Halbveresterung
erhalten werden, sowie ihre Alkalimetallsalze oder
Aminsalze; solche, die durch Umsetzen eines Teils der
Carboxylgruppen von (Meth)acrylsäure-Copolymeren oder
Crotonsäure-Copolymeren mit einem Glycidyl(meth)acrylat
erhalten werden und deren Alkalimetallsalze oder
Aminsalze; solche, die durch Umsetzen von
Hydroxyalkyl(meth)acrylat-Copolymeren,
Polyvinylformaldehyd oder Polyvinylbutyraldehyd mit
Maleinsäureanhydrid oder Itaconsäureanhydrid erhalten
werden, sowie ihre Alkalimetallsalze oder Aminsalze;
solche, die durch Umsetzen von
Hydroxyalkyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-Copolymere
mit einem 1 : 1 Addukt von 2,4-Tolylendiisocyanat und
Hydroxyacryl(meth)acrylat, erhalten werden, sowie deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze; teilweise mit
Allylglycidylether umgesetzte (Meth)acrylsäure-Copolymere
sowie deren Alkalimetallsalze oder Aminsalze, wie es in
der JP-OS 59-53836 (1984) offenbart ist;
Vinyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-Copolymere und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze;
Allyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymere;
Vinyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonat-Copolymere;
Allyl(meth)acrylat/Natriumacrylamid-1,1-dimethyl-
ethylensulfonat-Copolymere; Vinyl(meth)acrylat/Natrium
acrylamid-1,1-dimethylethylensulfonat-Copolymere;
2-Allyloxyethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure-
Copolymere; und 2-Allyloxyethyl(meth)acrylat/
2-(Meth)acryloxyethylhydrogensuccinat-Copolymere.
Die Menge der zuzusetzenden polymeren Verbindung liegt
im allgemeinen im Bereich von 30-94 Gew.-%, bevorzugt
50-90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Beispiele für diese Monomere oder Oligomere mit
mindestens einer photopolymerisierbaren (Meth)acrylat-
Gruppe ohne Allylgruppen, die wahlweise verwendet
werden, umfassen monofunktionelle Acrylate oder
Methacrylate, beispielsweise Polyethylenglycolmono
(meth)acrylate, Polypropylenglycolmono(meth)acrylate,
Phenoxyethyl(meth)acrylate, 2-(Meth)acryloxyethyl
hydrogenphthalate und 2-(Meth)acryloxyethylhydrogen
succinate; polyfunktionelle Acrylate oder Methacrylate,
beispielsweise Polyethylenglycoldi(meth)acrylate,
Trimethylolethantri(meth)acrylate, Neopentylglycoldi
(meth)acrylate, Pentaerythrittri(meth)acrylate,
Pentaerythrittetra(meth)acrylate, Dipentaerythrit
hexa(meth)acrylate, Hexandioldi(meth)acrylate,
Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether,
Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylate,
Natrium(meth)acrylate; solche, die durch Zufügen von
Ethylenoxid oder Propylenoxid zu Polyalkoholen,
beispielsweise Glycerin oder Trimethylolethan, und
anschließendes Umsetzen des Produktes mit (Meth)acrylat
erhalten werden; Urethanacrylate, offenbart in den
JP-PS 48-41708 (1973) und 50-6034 (1975) und der JP-OS
51-37193 (1976), Polyesteracrylate, offenbart in der
JP-OS 48-64183 (1973) und den JP-PS 49-43191 (1974)
und 52-30490 (1977) und Epoxyacrylate, die durch
Umsetzen von Epoxyharzen mit (Meth)acrylsäure erhalten
werden; und N-Methylolacrylamidderivate, die im
US-Patent 45 40 649 offenbart sind. Außerdem ist es
möglich, photohärtbare Monomere oder Oligomere, die im
"Bulletin of Japan Adhesives Society, Band 20, Nr. 7, S. 300-308"
beschrieben sind, zu verwenden.
Die Gesamtmenge von Bestandteil (1) und Bestandteil (4)
liegt im allgemeinen im Bereich von 6-70 Gew.-% und
bevorzugt von 10-50 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtfestgewicht der lichtempfindlichen
Zusammensetzung.
Zusätzlich zu den vorstehend genannten Bestandteilen
umfaßt die lichtempfindliche Zusammensetzung bevorzugt
einen Wärmepolymerisationsinhibitor. Beispiele für
nützliche Wärmepolymerisationsinhibitoren sind
Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol,
Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon,
4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol),
2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und
2-Mercaptobenzimidazol.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin
Farbstoffe oder Pigmente zum Färben der
lichtempfindlichen Harzschicht und/oder pH-Indikatoren
oder Leukofarbstoffe als Mittel oder Zusammensetzungen
zum Erhalten eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach
der bildweisen Belichtung umfassen.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann weiterhin
in Abhängigkeit vom Zweck eine kleine Menge einer
Silikonverbindung, beispielsweise Polydimethylsiloxan,
Methylstyrol-modifiziertes Polydimethylsiloxan,
Olefin-modifiziertes Polydimethylsiloxan,
Polyether-modifiziertes Polydimethylsiloxan,
Silankupplungsmittel, Silicondiacrylat oder
Silicondimethacrylat enthalten.
Um die Beschichtungseigenschaften der lichtempfindlichen
Zusammensetzung zu verbessern, kann ein
Fluor-enthaltendes oberflächenaktives Mittel oder ein
Fluor-enthaltendes Mittel für die
Oberflächenorientierung in die lichtempfindliche
Zusammensetzung eingebracht werden.
Weiterhin kann der lichtempfindlichen Zusammensetzung
ein Diazoharz zur Verbesserung der Adhäsion zwischen der
lichtempfindlichen Harzschicht und der Grundschicht
zugesetzt werden.
Die Menge dieser der lichtempfindlichen Zusammensetzung
zuzufügenden Zusatzmittel beträgt im allgemeinen nicht
mehr als 10 Gew.-%, bezogen aus das Gesamtgewicht der
Zusammensetzung.
Weiterhin ist es möglich, der lichtempfindlichen
Zusammensetzung Siliziumoxidpulver oder hydrophobes
Siliziumoxidpulver, dessen Oberfläche mit einem
(Meth)acryloylgruppen- und/oder Allylgruppen
enthaltenden Silankupplungsmittel behandelt worden ist,
in einer Menge von nicht mehr als 50 Gew.-% der
Zusammensetzung zuzufügen, um die Adhäsion zwischen der
lichtempfindlichen Harzschicht und der darauf
aufgebrachten Silikongummischicht zu verbessern.
Die resultierende lichtempfindliche Zusammensetzung wird
zuerst in einem geeigneten Lösungsmittel, beispielsweise
2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Methyllactat,
Ethyllactat, Propylenglycolmonomethylether, Methanol,
Ethanol, Methylethylketon und Wasser, gelöst, die
entweder alleine oder in Kombination eingesetzt werden
können, und dann auf die Obefläche eines Substrates
aufgetragen. Die Menge der lichtempfindlichen
Zusammensetzung (ausgedrückt im Gewicht, das nach dem
Trocknen bestimmt wird), die auf das Substrat
aufgetragen wird, liegt geeigneterweise im Bereich von
0,1-10 g/m² und bevorzugt 0,5-5 g/m².
Die Silikongummischicht, die durch eine
Additionsreaktion zwischen einer → SiH-Gruppe und einer
-CH=CH-Gruppe vernetzt ist und in der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, kann durch Umsetzen eines
polyvalenten Wasserstofforganopolysiloxans mit einem
Polysiloxan, das mindestens zwei -CH=CH-Bindungen in
einem Molekül enthält, erhalten werden. Diese Schicht
wird bevorzugt durch Härten einer Zusammensetzung, die
die folgenden Bestandteile umfaßt, um eine Vernetzung zu
erhalten, erzeugt.
- (a) 100 Gewichtsteile eines Organopolysiloxans mit mindestens zwei Alkenylgruppen (wünschenswerterweise Vinylgruppen), die direkt an Siliziumatome in einem Molekül gebunden sind;
- (b) 0,1-1000 Gewichtsteile eines Organowasserstoff polysiloxans mit mindestens zwei → SiH-Bindungen in dem Molekül; und
- (c) 0,00001-10 Gewichtsteile eines Katalysators für die Additionsreaktion.
Die Alkenylgruppen des Bestandteils (a) können entweder
am Ende oder in der Mitte der Molekülkette vorhanden
sein. Das Organopolysiloxan kann weitere organische
Gruppen enthalten, beispielsweise substituierte oder
unsubstituierte Alkyl- und/oder Arylgruppen zusätzlich
zu den Alkenylgruppen. Der Bestandteil (a) kann eine
geringe Anzahl Hydroxylgruppen in dem Molekül enthalten.
Der Bestandteil (b) reagiert mit dem Bestandteil (a)
unter Bereitstellung einer Silikongummischicht und dient
außerdem dazu, eine Adhäsion zwischen der
lichtempfindlichen Schicht an die resultierende
Silikongummischicht bereitzustellen. Das Wasserstoffatom
des Bestandteils (b) kann entweder am Ende oder in der
Mitte der Molekülkette vorhanden sein. Der Bestandteil
(b) kann weitere organische Gruppen außer dem
Wasserstoffatom enthalten, beispielsweise jene aus der
Gruppe, die in Verbindung mit Bestandteil (a) oben
aufgeführt worden sind. Es ist bevorzugt, daß mindestens
60% der Gesamtanzahl der organischen Gruppen der
Bestandteile (a) und (b) Methylgruppen sind, wodurch die
Farbstoffabweisung der resultierenden
Silikongummischicht stark verbessert wird. Die
Bestandteile (a) und (b) können eine lineare, zyklische
oder verzweigte Molekülstruktur haben. Das
Molekulargewicht mindestens einer dieser Verbindungen
übersteigt bevorzugt 1000, um so eine
Silikongummischicht mit ausgezeichneten physikalischen
Eigenschaften bereitzustellen; bevorzugt übersteigt das
Molekulargewicht des Bestandteils (a) 1000.
Spezielle Beispiele des Bestandteils (a) sind α, ω-
Divinylpolydimethylsiloxan und
Methylvinylsiloxan/Dimethylsiloxancopolymere, die
Methylgruppen an ihren beiden Enden aufweisen. Besondere
Beispiele für Bestandteil (b) sind Polydimethylsiloxan
mit Wasserstoffatomen an seinen beiden Enden, α, ω-
Dimethylpolymethylhydrogensiloxan,
Methylhydrogensiloxan/Dimethylsiloxancopolymere mit
Methylgruppen an seinen beiden Enden und zyklisches
Polymethylhydrogensiloxan.
Der Katalysator für die Additionsreaktion, Bestandteil
(c) kann aus den gebräuchlichen ausgewählt werden. Es
ist bevorzugt eine Verbindung vom Platintyp. Beispiele
solcher Platinverbindungen sind metallisches Platin,
Platinchlorid, Chlorplatinsäure und mit Olefinen
koordiniertes Platin.
Die Zusammensetzung zum Erhalten einer
Silikongummischicht kann weiterhin einen
Vernetzungsinhibitor enthalten, beispielsweise ein
Vinylgruppen enthaltendes Organosiloxan, z. B.
Tetracyclo(methylvinyl)siloxan, einen eine C-C
Dreifachbindung enthaltenden Alkohol, Aceton,
Methylethylketon, Methanol, Ethanol und
Propylenglycolmonomethylether, um die
Härtungsgeschwindigkeit (rate) der Zusammensetzung zu
steuern.
Sobald diese drei Bestandteile miteinander vermischt
sind, findet die Additionsreaktion statt und das Härten
wird eingeleitet. Die Härtungsgeschwindigkeit nimmt
schnell zu, wenn die Reaktionstemperatur erhöht ist.
Daher wird die Zusammensetzung bevorzugt bei einer
Temperatur gehalten, bei der die Eigenschaften des
Substrates und der lichtempfindlichen Harzschicht sich
nicht ändern, um so die Topfzeit der Zusammensetzung
auszudehnen und die für das Härten der Zusammensetzung
auf der lichtempfindlichen Harzschicht erforderliche
Zeit zu verkürzen. Dies kann weiterhin eine sehr stabile
Adhäsion der resultierenden Silikongummischicht an die
lichtempfindliche Harzschicht zur Verfügung stellen.
Wenn es notwendig ist, kann die Zusammensetzung weiter
zusätzlich zu den vorstehend genannten Bestandteilen
bekannte Mittel umfassen, um der Gummischicht adhäsive
Eigenschaften zu verleihen, beispielsweise
Alkenyltrialkoxysilane; hydroxylgruppenhaltige
Organopolysiloxane, die Bestandteile von
Silikongummischichten vom Kondensationstypus sind;
und/oder hydrolisierbare funktionelle Gruppen
enthaltende Silane (oder Siloxane). Die Zusammensetzung
kann weiterhin bekannte Füllmittel, beispielsweise
Siliciumdioxid, zum Erhöhen der Festigkeit der
resultierenden Gummischicht umfassen.
Im Anschluß an den Plattenherstellungsprozeß dient die
erfindungsgemäße Silikongummischicht der wasserfreien
PS-Platte als eine farbstoffabweisende Schicht. Daher
wird, wenn ihre Dicke zu gering ist, die
Farbstoffabweisung zu niedrig und die Schicht ist
verletzungsempfindlich, während dann, wenn die Dicke zu
groß ist, die Entwickelbarkeit der resultierenden
wasserfreien PS-Platte verschlechtert ist. Daher liegt
die Dicke der Silikongummischicht bevorzugt im Bereich
von 0,5 bis 5 µm.
Die in der vorliegenden Erfindung zu verwendende
Silikongummischicht vom Additionstyp ist während des
Härtens relativ unabhängig von Feuchtigkeit; weiterhin
kann eine schnelle Vernetzung erhalten werden und die
gewünschten physikalischen Eigenschaften der
Silikongummischicht können daher leicht erhalten werden.
Die Silikongummischicht vom Kondensationstyp wird in
Abhängigkeit von der Art des verwendeten
Vernetzungsmittels unzureichend gehärtet, wenn
Carboxylgruppen in der lichtempfindlichen Harzschicht
vorhanden sind. Auf der anderen Seite kann die
Silikongummischicht vom Additionstyp ausreichend
gehärtet werden, selbst wenn Carboxylgruppen vorhanden
sind. Das Härten der Silikongummischicht des
letztgenannten Typs ist nämlich beinahe unabhängig von
der Anwesenheit von Carboxylgruppen in der
lichtempfindlichen Harzschicht und die resultierenden
PS-Platten können mit einem Entwickler behandelt werden,
der im wesentlichen Wasser oder alkalisches Wasser
enthält. Die gewünschte wasserfreie PS-Platte kann daher
leicht entworfen werden.
Die wasserfreie PS-Platte kann weiterhin eine Vielzahl
von Silikongummischichten auf der vorstehend genannten
Silikongummischicht enthalten. Darüberhinaus ist es
möglich, eine adhäsive Bindung zwischen der
lichtempfindlichen Harzschicht und der
Silikongummischicht zum Zwecke der Förderung der
adhäsiven Kraft zwischen beiden und der Unterdrückung
eines giftigen Effektes von in der Silikongummischicht
vorhandenen Katalysatoren bereitzustellen.
Weiterhin kann ein Überzug, der aus einem transparenten
Film zusammengesetzt ist, beispielsweise aus
Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid,
Polyvinylidenchlorid, Polyvinylalkohol,
Polyethylenterephthalat oder Cellophan, ggf. auf die
Oberfläche der Silikongummischicht aufgetragen werden,
oder ein solcher Film kann mit der Silikongummischicht
laminiert werden, um die Oberfläche der Schicht zu
schützen.
Die erfindungsgemäße wasserfreie PS-Platte wird dem
Licht durch ein transparentes Original ausgesetzt und
dann mit einem Entwickler entwickelt, der fähig ist, ein
Teil oder das Ganze der lichtempfindlichen Harzschicht
auf den Bildbereichen (oder nicht belichteten Bereichen)
aufzulösen oder zu quellen, oder einen Entwickler, der
zum Quellen der Silikongummischicht fähig ist. In diesem
Fall wird die Entwicklung so durchgeführt, daß sowohl
die die Bildbereiche betreffende lichtempfindliche
Schicht als auch die Silikongummischicht entfernt werden
oder nur die die Bildbereiche betreffende
Silikongummischicht entfernt wird, in Abhängigkeit von
der Stärke des Entwicklers.
Als erfindungsgemäß verwendbarer Entwickler kann jeder
zum Entwickeln gebräuchlicher wasserfreier PS-Platten
bekannte Entwickler verwendet werden. Bevorzugte
Beispiele dafür sind aliphatische Kohlenwasserstoffe,
beispielsweise Hexan, Heptan "Isopar E, H und G"
(Warennamen aliphatischer Kohlenwasserstoffe, die von
der ESSO CHEMICALS INC. erhältlich sind), Gasolin und
Kerosin; aromatische Kohlenwasserstoffe, beispielsweise
Toluol und Xylol; oder halogenierte Kohlenwasserstoffe,
beispielsweise Trichloräthylen, zu dem das folgende
polare Lösungsmittel zugesetzt wird, oder ein polares
Lösungsmittel selbst.
- (i) Alkohole, beispielsweise Methanol, Ethanol, Propanol, Benzylalkohol, Ethylenglycolmonophenylether, 2-Methoxyethanol, 2-Ethoxyethanol, Carbitolmonoethylether, Carbitolmonomethylether, Triethylenglycolmonoethylether, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether, Dipropylenglycolmono methylether, Polyethylenglycolmonomethylether, Propylenglycol, Polypropylenglycol, Triethylenglycol und Tetraethylenglycol.
- (ii) Ketone, beispielsweise Acetone und Methylethylketon.
- (iii) Ester, beispielsweise Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Butyllactat, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Carbitolacetat, Dimethylphthalat und Diethylphthalat.
- (iv) Weitere polare Lösungsmittel, beispielsweise Triethylphosphat und Trikresylphosphat.
Außerdem ist es möglich, Entwickler zu verwenden, die
durch Zufügen von Wasser zu den vorstehend genannten
Entwicklern vom organischen Lösungsmitteltyp erhalten
werden, und solche, die durch Solubilisieren der
vorstehend genannten organischen Lösungsmittel in Wasser
mittels eines oberflächenaktiven Mittels oder etwas
ähnlichem erhalten werden, wozu ein alkalisches Mittel
(beispielsweise Natriumcarbonat, Monoethanolamin,
Diethanolamin, Triethanolamin, Natriumsilikat,
Kaliumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und
Natriumborat) zugesetzt werden kann; außerdem
Leitungswasser selbst oder ein alkalisches Wasser
selber.
Diese Entwickler können einen Farbstoff, beispielsweise
Kristallviolett oder Astrazonrot für die gleichzeitige
Färbung der Bildbereiche mit der Entwicklung enthalten.
Die Entwicklung der wasserfreien PS-Platte der
vorliegenden Erfindung kann auf jede bekannte Weise
durchgeführt werden, beispielsweise, indem die
Oberfläche der Platte mit einem entwicklerhaltigen
Kissen gerieben wird oder indem ein Entwickler auf die
Oberfläche der Platte gegossen wird und die
Plattenoberfläche dann mit einer Entwicklungsbürste
gerieben wird. Auf diese Weise werden die Anteile der
Silikongummischicht und der lichtempfindlichen
Harzschicht, die die Bilder bilden, entfernt, und als
Ergebnis ist die Oberfläche des Substrates oder der
Grundschicht freigelegt, wobei die freigelegten Teile
als farbstoffaufnehmende Teile dienen. Alternativ können
nur die Teile der Silikongummischicht, die die Bilder
bilden, durch das vorstehend beschriebene
Entwicklungsverfahren entfernt werden. In diesem Fall
wird die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht
belichtet und die belichteten Teile dienen ebenso als
farbstoffaufnehmende Teile.
Die erfindungsgemäße wasserfreie PS-Platte umfaßt auf
einem Substrat eine lichtempfindliche Harzschicht und
eine Silikongummischicht vom Additionstyp in dieser
Reihenfolge, wobei die lichtempfindliche Harzschicht ein
Monomer oder ein Oligomer mit mindestens einer
(Meth)acryloylgruppe und mindestens einer Allylgruppe
umfaßt und einen Photopolymerisationsstarter; sowie eine
polymere Verbindung mit filmbildender Fähigkeit und ein
Monomer oder ein Oligomer mit mindestens einer
photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppe ohne
Allylgruppen als wahlweise vorhandene Bestandteile. Die
Adhäsion zwischen der Silikongummischicht vom
Additionstyp und der lichtempfindlichen Harzschicht wird
verbessert und ausgezeichnete bildbildende Eigenschaften
der PS-Platte sind sichergestellt.
Die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele
erläutern die Erfindung.
Auf die Oberfläche einer glatten 1S Aluminiumplatte mit
einer Dicke von 0,3 mm, die auf übliche Weise entfettet
worden ist, wurde die folgende Zusammensetzung als
Grundschicht aufgetragen, so daß deren aufgetragene
Menge 10 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) betrug, und
dann bei 120°C 2 Minuten erhitzt, um den aufgetragenen
Film zu trocknen und zu härten.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung mit der folgenden
Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche der
Aluminiumplatte, auf die die Grundschicht aufgetragen
worden war, aufgetragen, so daß die Menge der
aufgetragenen Zusammensetzung 3 g/m² (gewogen nach dem
Trocknen) betrug und dann bei 100°C eine Minute lang
getrocknet.
Anschließend wurde die Zusammensetzung für
Silikongummischichten mit der folgenden Zusammensetzung
auf die so gebildete lichtempfindliche Harzschicht so
aufgetragen, daß die aufgetragene Menge 2,0 g/m² (nach
dem Trocknen gewogen) betrug und dann bei 140°C 2
Minuten getrocknet, um so eine gehärtete
Silikongummischicht zu erhalten.
Die so gebildete Silikongummischicht wurde mit einem auf
einer Seite mattierten Polypropylenfilm mit einer Dicke
von 9 µm laminiert, um eine wasserfreie PS-Platte zu
erhalten.
Auf die PS-Platte wurde ein positiver Film gelegt, unter
Vakuum in Kontakt mit der Platte gebracht, 30
Zähleinheiten (counts) unter Verwendung eines FT26V UDNS
ULTRA-PLUS FLIP-TOP PLATE MAKER (erhältlich von der Nu
Arc Co., Ltd.) belichtet und anschließend der
Laminatfilm entfernt. Die so behandelte Platte wurde
eine Minute lang in einen Entwickler eingetaucht, der 12
Gewichtsteile Benzylalkohol, 5 Gewichtsteile
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, 1 Gewichtsteil
Triethanolamin und 82 Gewichtsteile Wasser umfaßte und
dann mit einem Entwicklerkissen gerieben, um die
lichtempfindliche Harzschicht und die
Silikongummischicht der Nicht-Bildbereiche zu entfernen.
Auf diese Weise wurde eine lithographische Druckplatte,
die kein Befeuchtungswasser erforderte, erhalten, wobei
die Bilder des positiven Filmes zuverlässig auf der
gesamten Oberfläche der lithographischen Druckplatte
reproduziert worden waren.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit der folgenden
Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche eines
Aluminiumsubstrates mit einer darauf aufgebrachten
Grundschicht, wie sie in Beispiel 1 verwendet wurde,
aufgetragen und bei 100° eine Minute getrocknet. Die
Überzugsmenge betrug 3,0 g/m² (nach dem Trocknen
bestimmt).
Anschließend wurde die folgende Zusammensetzung für
eine Silikongummischicht auf die lichtempfindliche
Harzschicht aufgetragen, so daß die aufgetragene Menge
2,0 g/m² (bestimmt nach dem Trocknen) betrug, und dann
2 Minuten bei 140°C getrocknet, um so eine gehärtete
Silikongummischicht zu erhalten.
Die so erhaltene Silikongummischicht wurde mit einem auf
einer Seite mattiertem Polypropylenfilm mit einer Dicke
von 9 µm laminiert, um so eine wasserfreie PS-Platte zu
erhalten.
Die wasserfreie PS-Platte wurde belichtet und dann, wie
in Beispiel 1, entwickelt, um so eine lithographische
Druckplatte mit zuverlässig reproduzierten Bildern zu
erhalten, die kein Befeuchtungswasser erfordert. Dieses
Ergebnis zeigt, daß die PS-Platte hinsichtlich ihrer
bildbildenden Eigenschaften ausgezeichnet war.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit der folgenden
Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche eines
Aluminiumsubstrats mit einer Grundschicht darauf, wie
sie in Beispiel 1 verwendet wurde, aufgetragen, so daß
die Überzugsmenge 3,0 g/m² (bestimmt nach dem Trocknen)
betrug, und dann bei 100°C eine Minute getrocknet.
Die in Beispiel 2 verwendete Zusammensetzung für eine
Silikongummischicht, aus der die durch die folgende
Formel dargestellte Verbindung:
entfernt worden war, wurde auf die so gebildete
lichtempfindliche Harzschicht so aufgetragen, daß die
Überzugsmenge 2 g/m² (bestimmt nach dem Trocknen)
betrug, und dann bei 140°C zwei Minuten getrocknet, um
eine gehärtete Silikongummischicht zu erhalten.
Die so erhaltene Silikongummischicht wurde mit einem auf
einer Seite mattierten Polyethylentherephthalatfilm mit
einer Dicke von 6,5 µm laminiert, um so eine wasserfreie
PS-Platte zu erhalten.
Die PS-Platte wurde 10 Zähleinheiten lang unter
Verwendung des gleichen Vakuumplattenherstellers wie es
in Beispiel 1 verwendet worden ist, belichtet,
anschließend wurde der Laminatfilm abgezogen, die Platte
inTriethylenglycol eingetaucht und bei 30°C eine
Minute gehalten und dann wurde die Plattenoberfläche
mit einem Entwicklerkissen in Wasser gerieben, um die
Silikongummischicht auf den nichtbelichteten Bereichen
zu entfernen. Auf diese Weise wurde eine
lithographische Druckplatte, die kein Befeuchtungswasser
erfordert, erhalten, wobei die Bilder des positiven
Filmes zuverlässig auf der ganzen Oberfläche der
lithographischen Druckplatte reproduziert worden waren.
Claims (18)
1. Vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zum
Herstellen lithographischer Druckplatten, die kein
Befeuchtungswasser erfordert und die auf einem Substrat
eine lichtempfindliche Harzschicht und eine
Silikongummischicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei
der Silikongummi durch die Reaktion einer
mit einer -CH=CH-Gruppe vernetzt ist, wobei die
lichtempfindliche Harzschicht umfaßt:
- (1) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens einer photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppe und mindestens einer Allylgruppe; und
- (2) einen Photopolymerisationsstarter.
2. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer oder Oligomer
aus der Gruppe ausgewählt ist, die ein Reaktionsprodukt
eines eine Allylgruppe enthaltenden Isocyanates mit
einem eine Hydroxylgruppe enthaltenden (Meth)acrylat;
ein Reaktionsprodukt eines eine Allylgruppe enthaltenden
Glycidylethers mit einem eine Carboxylgruppe
enthaltenden (Meth)acrylat und ein Reaktionsprodukt
eines eine Allylgruppe enthaltenden Alkohols mit einem
eine Carboxylgruppe enthaltenden (Meth)acrylat oder
deren Säurechloridgruppe umfaßt.
3. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß das eine Allylgruppe
enthaltende Isocyanat aus der Allylisocyanat,
umfassenden Gruppe ausgewählt ist.
4. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß das eine
Hydroxygruppe enthaltende (Meth)acrylat aus der
Hydroxyethyl(meth)acrylat, Hydroxypropyl(meth)acrylat,
Polyethylenglycolmono(meth)acrylat,
Polypropylenglycolmono(meth)acrylat,
Pentaerythrittri(meth)acrylat,
Dipentaerythrittetra(meth)acrylat und Verbindungen der
folgenden allgemeinen Formeln umfassenden Gruppe
ausgewählt ist:
wobei R ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe
bedeutet.
5. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der eine Allylgruppe
enthaltende Glycidylether Allylglycidylether ist.
6. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß das eine Carboxylgruppe
enthaltende (Meth)acrylat aus der (Meth)acrylsäure,
(Meth)acryloxyethylhydrogenphthalat,
(Meth)acryloxyethylhydrogensuccinat,
(Meth)acryloxyethylhydrogenmaleat,
(Meth)acryloxyethylhydrogentetrahydrophthalat und
(Meth)acryloxyethylhydrogenhexahydrophthalat umfassenden
Gruppe ausgewählt ist.
7. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der eine Allylgruppe
enthaltende Alkohol ein Allylalkohol oder
2-Allyloxyethylalkohol ist.
8. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des Monomers oder
Oligomers im Bereich von 5 bis 65 Gewichtsprozent,
bezogen auf das Gesamtfestgewicht der
lichtempfindlichen Harzschicht, liegt.
9. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des Monomers oder
Oligomers im Bereich von 10 bis 45 Gewichtsprozent,
bezogen auf das Gesamtfestgewicht der lichtempfindlichen
Harzschicht, liegt.
10. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß der
Photopolymerisationsstarter aus der
Vicinalpolyketaldonylverbindungen,
α-Carbonylverbindungen; Acyloinether, aromatische
Acyloinverbindungen, die mit einer
α-Kohlenwasserstoffgruppe substituiert sind,
vielkernige Chinonverbindungen, Kombinationen von
Triarylimidazoldimeren mit p-Aminophenylketonen;
Benzothiazolverbindungen; Kombinationen von
Benzothiazolverbindungen und
Trihalomethyl-s-Triazinverbindungen, Acridine,
Phenazine, Oxadiazole,
Trihalomethyl-s-triazinverbindungen mit chromophoren
Gruppen und Peroxyesterverbindungen, die eine
Benzophenolgruppe enthalten, umfassenden Gruppe
ausgewählt ist.
11. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem
der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des
Photopolymerisationsstarters im Bereich von 0,1 bis 20
Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtfestgewicht der
lichtempfindlichen Zusammensetzung, liegt.
12. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Menge des
Photopolymerisationsstarters im Bereich von 1 bis 10
Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtfestgewicht der
lichtempfindlichen Zusammensetzung, liegt.
13. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche
Harzschicht weiterhin eine polymere Verbindung mit einer
filmbildenden Fähigkeit umfaßt.
14. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Verbindung aus
der Gruppe ausgewählt ist, die Methacrylsäurecopolymere,
Acrylsäurecopolymere, Crotonsäurecopolymere,
Maleinsäurecopolymere, partiell veresterte
Maleinsäurecopolymere, saure Cellulosederivate,
Polyvinylpyrrolidon, Polyethylenoxide, alkohollösliche
Nylons, Polyester, ungesättigte Polyester,
Polyurethan, Polystyrol, Epoxyharze, Phenoxyharze,
Polyvinylbutyraldehyd, Polyvinylformaldehyd,
Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohole,
die teilweise mit Acetal modifiziert sind,
wasserlösliche Nylons, wasserlösliche Urethane,
Gelatine, wasserlösliche Cellulosederivate, Copolymere
von Allyl(meth)acrylate/(Meth)acrylsäure/ggf. anderen
additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze; Reaktionsprodukte von
Hydroxyethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/Alkyl(meth)
acrylatcopolymere und deren Alkalimetallsalzen oder
Aminsalzen mit einem (Meth)acrylsäurechlorid; polymere
Verbindungen, die durch Zufügen von
Pentaerythrittriacrylat zu
Maleinsäureanhydridcopolymeren durch Halbveresterung
erhalten werden, und deren Alkalimetallsalze oder
Aminsalze; polymere Verbindungen, die durch Zufügen von
Monohydroxyalkyl(meth)acrylat,
Polyethylenglycolmono(meth)acrylat oder
Polypropylenglycolmono(meth)acrylat zu einem
Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymer durch
Halbveresterung erhalten werden und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze; polymere Verbindungen,
die durch Umsetzen eines Teiles der Carboxylgruppen von
(Meth)acrylsäurecopolymeren oder Crotonsäurecopolymeren
mit Glycidyl(meth)acrylat erhalten werden und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze; polymere Verbindungen,
die durch Umsetzen von
Hydroxyalkyl(meth)acrylatcopolymeren,
Polyvinylformaldehyd oder Polyvinylbutyraldehyd mit
Maleinsäureanhydrid oder Itaconsäureanhydrid erhalten
werden und deren Alkalimetallsalze oder Aminsalze;
polymere Verbindungen, die durch Umsetzen von
Hydroxyalkyl(meth)arcrylat/(Meth)acrylsäurecopolymeren
mit einem 1 : 1-Addukt von 2,4-Tolylendiisocyanat und
Hydroxyacryl(meth)acrylat erhalten werden und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze; teilweise mit
Allylglycidylether umgesetzte (Meth)acrylsäurecopolymere
und deren Alkalimetallsalze oder Aminsalze;
Vinyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäurecopolymere und deren
Alkalimetallsalze oder Aminsalze;
Allyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonatcopolymere;
Vinyl(meth)acrylat/Natriumstyrolsulfonatcopolymere;
Allyl(meth)acrylat/Natriumacrylamid-1,1-dimethylethylen
sulfonatcopolymere;
Vinyl(meth)acrylat/Natriumacrylamid-1,1-dimethylethylen
sulfonatcopolymere;
2-Allyloxyethyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäurecopolymere;
und 2-Allyloxyethyl(meth)acrylat/2-(Meth)acryloxyethyl
hydrogensuccinatcopolymere umfaßt.
15. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 14,
dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche
Schicht weiter ein Monomer oder Oligomer mit mindestens
einer photopolymerisierbaren (Meth)acrylatgruppe umfaßt
und frei von Allylgruppen ist.
16. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß das Monomer oder Oligomer
mit mindestens einer photopolymerisierbaren
(Meth)acryloylgruppe und ohne Allylgruppen aus der
Gruppe ausgewählt ist, die umfaßt:
monofunktionelle Acrylate oder Methacrylate, ausgewählt aus der Polyethylenglycolmono(meth)acrylate, Polypropylenglycolmono(meth)acrylate, Phenoxyethyl(meth)acrylate, 2-(Meth)acryloxyethylhydrogenphthalate und 2-(Meth)acryloxyethylhydrogensuccinate umfassenden Gruppe; polyfunktionelle Acrylate oder Methacrylate, ausgewählt aus der Polyethylenglycoldi(meth)acrylate, Trimethylolethantri(meth)acrylate, Neopentylglycoldi(meth)acrylate, Pentaerythrittri(meth)acrylate, Pentaerythrittetra(meth)acrylate, Dipentaerythrithexa(meth)acrylate, Hexandioldi(meth)acrylate, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylate, Natrium(meth)acrylate umfassenden Gruppe; diejenigen, die durch Zufügen von Ethylenoxid oder Propylenoxid zu einem Polyalkohol aus der Glycerin oder Trimethylolethan umfassenden Gruppe und anschließendes Umsetzen des Produktes mit (Meth)acrylat erhalten werden; Urethanacrylate, Polyesteracrylate; Epoxyacrylate, erhalten durch Umsetzen von Epoxyharzen mit (Meth)acrylsäure; und N-Methylolacrylamidderivate.
monofunktionelle Acrylate oder Methacrylate, ausgewählt aus der Polyethylenglycolmono(meth)acrylate, Polypropylenglycolmono(meth)acrylate, Phenoxyethyl(meth)acrylate, 2-(Meth)acryloxyethylhydrogenphthalate und 2-(Meth)acryloxyethylhydrogensuccinate umfassenden Gruppe; polyfunktionelle Acrylate oder Methacrylate, ausgewählt aus der Polyethylenglycoldi(meth)acrylate, Trimethylolethantri(meth)acrylate, Neopentylglycoldi(meth)acrylate, Pentaerythrittri(meth)acrylate, Pentaerythrittetra(meth)acrylate, Dipentaerythrithexa(meth)acrylate, Hexandioldi(meth)acrylate, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylate, Natrium(meth)acrylate umfassenden Gruppe; diejenigen, die durch Zufügen von Ethylenoxid oder Propylenoxid zu einem Polyalkohol aus der Glycerin oder Trimethylolethan umfassenden Gruppe und anschließendes Umsetzen des Produktes mit (Meth)acrylat erhalten werden; Urethanacrylate, Polyesteracrylate; Epoxyacrylate, erhalten durch Umsetzen von Epoxyharzen mit (Meth)acrylsäure; und N-Methylolacrylamidderivate.
17. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Silikongummischicht
durch Härten einer die folgenden Bestandteile
umfassenden Zusammensetzung erhalten wird, um so eine
Vernetzung herbeizuführen:
- (a) 100 Gewichtsteile eines Organopolysiloxans mit mindestens zwei Alkenylgruppen, die direkt an Siliciumatome in einem Molekül gebunden sind;
- (b) 0,1 bis 1000 Gewichtsteile eines Organohydrogenpolysiloxans mit mindestens zwei in einem Molekül; und
- (c) 0,00001 bis 10 Gewichtsteile eines Katalysators für eine Additionsreaktion.
18. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 17,
die weiterhin eine Grundschicht auf dem Substrat umfaßt.
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|---|---|---|---|
| JP1046956A JPH02226249A (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
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1989
- 1989-02-28 JP JP1046956A patent/JPH02226249A/ja active Pending
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1990
- 1990-02-27 US US07/485,520 patent/US5059511A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-28 DE DE4006284A patent/DE4006284A1/de not_active Withdrawn
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| EP0504059A1 (de) * | 1991-03-13 | 1992-09-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Elektrofotografisches, fotoempfindliches Element, elektrofotografischer Apparat, Geräteeinheit und diese enthaltende Faksimilemaschine |
| US5374494A (en) * | 1991-03-13 | 1994-12-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, electrophotographic apparatus, device unit, and facsimile machine employing the same |
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| JPH02226249A (ja) | 1990-09-07 |
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