DE60311696T2 - Photoempfindliche lithographische Druckplatte - Google Patents

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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung betrifft lichtempfindliche lithografische Druckplatten, insbesondere eine lichtempfindliche lithografische Druckplatte vom Positivtyp für die sogenannte direkte Herstellungsverwendung, die direkt von digitalen Signalen eines Computers und dergleichen hergestellt werden kann.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Als konventionelles System für die direkte Erzeugung einer Platte von digitalen Daten eines Computers sind (1) die Elektrofotografie, (2) das Fotopolymerisationssystem durch Kombination der Belichtung durch Ar-Laser mit Nachhärten, (3) ein Laminat aus einem empfindlichen Silbersalzmaterial auf einem lichtempfindlichen Harz, (4) ein Silbermaster-Typ, (5) die Zerstörung einer Silikongummischicht durch Entladungsbruch oder Laserstrahlen und dergleichen bekannt.
  • Das System, das die Elektrofotografie von (1) anwendet, erfordert eine komplexe Ladung, Belichtung, Entwicklung und ähnliche Behandlungen, und die Anlage hierfür wird komplex und groß. Das Verfahren von (2) erfordert einen Nacherwärmungsschritt und ebenfalls ein Plattenmaterial mit hoher Empfindlichkeit, so dass die Handhabung in einem hellen Raume schwierig wird. Die Verfahren von (3) und (4) haben den Nachteil, dass die Kosten aufgrund der komplexen Handhabung wegen der Verwendung von Silbersalzen hoch werden. Obwohl das Verfahren von (5) ein Verfahren mit verhältnismäßig hoher Vollständigkeit darstellt, hat es noch das Problem bezüglich der Entfernung von Silikonresten, die auf der Plattenoberfläche verbleiben.
  • Auf der anderen Seite ist die Entwicklung von Lasern in den letzten Jahren beachtlich, und insbesondere können nun ein hoher Feststofflaser mit hohem Ausstoß und kleiner Größe und ein Halbleiterlaser mit einem Lichterzeugungsbereich vom nahen Infrarot bis Infrarot leicht erhalten werden. Diese Laser sind deutlich nützlich als Belichtungslichtquelle bei der direkten Erzeugung einer Platte von digitalen Signalen eines Computers und dergleichen angesichts der Miniaturisierung des Plattenherstellungssystems, des Umgebungslichtes bei der Plattenerzeugung, der Plattenherstellungskosten und dergleichen.
  • Als konventionelles lithografisches Druckplattenmaterial beschreibt JP-B-46-27919 ein Verfahren, bei dem Bilder entsprechend der Information gebildet werden, indem ein Aufzeichnungsmaterial, das eine Polymerverbindung oder Zusammensetzung enthält, die vor dem Erwärmen unlöslich oder etwas löslich ist, aber in einem Lösungsmittel unter Einfluss von Wärme löslich werden kann, erwärmt wird. Ebenso offenbart JP-A-56-69192 ein wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einer wärmeempfindlichen Schicht, die ein Phenolharz vom Novolak-Typ und Ruß enthält. Diese Dokumente offenbaren nur Beispiele eines Falls, wenn Bilder ohne Verwendung von Laserstrahlen aufgezeichnet werden, und wenn Bilder unter Verwendung der genannten Laser mit einem Lichterzeugungsbereich vom nahen Infrarot bis Infrarot als Belichtungslichtquelle bei der direkten Erzeugung einer Platte von digitalen Daten eines Computers und dergleichen aufgezeichnet werden, war es nicht immer möglich, gute Druckstoffe wegen des Fettens, einer verminderten Druckresistenz oder dergleichen zu erzielen. Für den Erhalt von guten Druckstoffen ist es bei der Durchführung einer Alkalientwicklungsbehandlung nach der Belichtung notwendig, dass mit Licht bestrahlte Teile (Nicht-Bildteile) leicht aufgelöst werden, dass Teile, bei denen Licht nicht auferlegt wird (Bildteile) zurückbleiben und dass die zurückbleibenden Bildteile eine gute Dauerhaftigkeit haben. Das heißt, es wird überlegt, dass die Nicht-Bildteile schwer aufgelöst werden und die Bildteile aufgelöst werden können, wenn Laserstrahlen bei den genannten bekannten Techniken verwendet werden, und zwar aufgrund einer schlechten Bildaufzeichnungsfähigkeit.
  • EP 1 179 427 offenbart in Beispiel 2 eine infrarotempfindliche lithografische Druckplatte, umfassend eine lichtempfindliche Schicht, umfassend eine Mischung aus einem Cresol-Novolakharz, einem fluorhaltigen Novolakharz, einem Octylphenyl-Novolakharz und einem Infrarotabsorber.
  • US 4 123 279 offenbart ultraviolettempfindliche lithografische Druckplatten, umfassend eine lichtempfindliche Schicht, umfassend eine Mischung aus einem Cresol-Novolakharz, ein tert-Butylphenol-Novolakharz und ein o-Chinondiazid.
  • Jedoch sind Verbesserungen für die lichtempfindlichen lithografischen Druckplatten noch erforderlich, die durch die Techniken entwickelt werden, die oben offenbart sind, und zwar bezüglich der Tintenaufnahmefähigkeit (Bilddichte) und der Verarbeitungsfähigkeit, wenn die Aktivität der Entwicklungslösung geändert wird (Entwicklungsbreite).
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Ein Ziel der Erfindung liegt darin, die oben erwähnten Nachteile des Standes der Technik zu überwinden und hierdurch eine lichtempfindliche lithografische Druckplatte anzugeben, die bezüglich der Tintenaufnahmefähigkeit (Bilddichte) und der Verarbeitungsfähigkeit (Entwicklungsbreite) in einer ermüdeten Entwicklungslösung mit einer verminderten Aktivität ausgezeichnet ist.
  • Die erwähnten Probleme der Erfindung wurden durch folgende Mittel gelöst.
  • (1) Lichtempfindliche lithografische Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine lichtempfindliche Schicht (nachfolgend auch als Bildbildungsschicht bezeichnet) aufweist, die (A) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von substituierten Phenolen mit der folgenden Formel (I) mit Aldehyden, (B) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von Phenolen, ausgewählt aus Cresol, Phenol und Xylenol mit Aldehyden und (C) eine Licht-Wärme-(fotothermische)-Umwandlungssubstanz enthält.
  • Formel (I):
    Figure 00040001
  • In der Formel (I) bedeuten R1 und R2 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom, und R3 ist eine Alkyl- oder Cycloalkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen.
  • Detaillierte Beschreibung der Erfindung
  • Die Lichtempfindliche lithografische Druckplatte der Erfindung wird nachfolgend detailliert beschrieben.
  • Die lichtempfindliche lithografische Druckplatte dieser Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass sie eine lichtempfindliche Schicht aufweist, die (A) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von substituierten Phenolen mit der folgenden Formel (I) mit Aldehyden, (B) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von Phenolen, ausgewählt aus Cresol, Phenol und Xylenol, mit Aldehyden, und (C) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz enthält.
  • Zunächst wird (A) das Herz, hergestellt durch Kondensation von substituierten Phenolen mit der Formel (I) mit Aldehyden (nachfolgend manchmal als Harz (A) oder Komponente (A) bezeichnet) detailliert beschrieben.
  • Formel (I):
    Figure 00050001
  • In der Formel (I) bedeuten R1 und R2 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom. Die Alkylgruppe ist bevorzugt eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, mehr bevorzugt eine Alkylgruppe mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen. Das Halogenatom ist irgendeines von Fluor, Chlor, Brom und Iod, bevorzugt Chlor oder Brom. Ebenso bedeutet R3 eine Alkyl- oder Cycloalkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen.
  • Erläuternde Beispiele der substituierten Phenole mit der Formel (I), die als Komponente des Harzes (A) verwendet werden, umfassen Isopropylphenol, tert-Butylphenol, tert-Amylphenol, Hexylphenol, Cyclohexylphenol, 3-Methyl-4-chlor-6-tert-butylphenol, Isopropylcresol, tert-Butylcresol und tert-Amylcresol. Bevorzugt sind tert-Butylphenol und tert-Butylcresol.
  • Beispiele der Aldehyde, die in dem Harz (A) verwendet werden, umfassen aliphatische und aromatische Aldehyde, wie Formaldehyd, Acetaldehyd, Acrolein, Crotonaldehyd. Bevorzugt ist Formaldehyd oder Acetaldehyd.
  • Das Molekulargewicht im Gewichtsmittel des Harzes (A) ist bevorzugt 500 bis 50.000, mehr bevorzugt 700 bis 20.000, besonders bevorzugt 1.000 bis 10.000.
  • Ebenso ist das Verhältnis des Harzes (A) zu den gesamten Feststoffkomponenten in der lichtempfindlichen Schicht der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung bevorzugt von 0,1 bis 20 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,2 bis 10 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,2 bis 5 Gew.-%. Ein Verhältnis von weniger als 0,1 Gew.-% zeigt eine geringe Zugabewirkung, und bei mehr als 20 Gew.-% wird die Empfindlichkeit reduziert, so dass beide Fälle nicht gewünscht sind.
  • Nachfolgend wird (B) das erwähnte Harz detailliert beschrieben, hergestellt durch Kondensation von Phenolen, ausgewählt aus Cresol, Phenol und Xylenol mit Aldehyden gemäß dieser Erfindung (nachfolgend als Harz (B) oder Komponente (B) bezeichnet).
  • Solche, die bezüglich des Harzes (A) beschrieben wurden, können als Aldehyde veranschaulicht werden, die im Harz (B) verwendet werden.
  • Als Harz (B), das erfindungsgemäß verwendet wird, können ein Phenolformaldehydharz, ein m-Cresolformaldehydharz, ein p-Cresolformaldehydharz, m-/p-gemischtes Cresolformaldehydharz, ein Phenol/Cresol- (m-, p- oder m-/p-Mischung)-gemischtes Formaldehydharz und ähnliche Novolakharze und Pyrogallol-Acetonharze veranschaulicht werden.
  • Ebenso ist das Molekulargewicht im Gewichtsmittel bevorzugt 500 oder mehr, mehr bevorzugt 1.000 bis 700.000. Das Molekulargewicht im Zahlenmittel ist bevorzugt 500 oder mehr, mehr bevorzugt 750 bis 650.000. Es ist gewünscht, dass der Dispersionsgrad (Molekulargewicht im Gewichtsmittel/Molekulargewicht im Zahlenmittel) von 1,1 bis 10.
  • Zusätzlich ist die Menge des Harzes (B), das in der Erfindung in der lichtempfindlichen Schicht, bezogen auf die gesamten Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte verwendet wird, bevorzugt von 10 bis 95 Gew.-%, mehr bevorzugt 20 bis 90 Gew.-%. Wenn der Gehalt weniger als 10 Gew.-% ist, gibt es den Fall, dass es aufgrund einer geringen Druckresistenz-Verbesserungswirkung durch die Brennbehandlung nicht verwendet werden kann.
  • Es ist gewünscht, weiterhin ein wasserunlösliches Alkaliwasserlösliches Harz (nachfolgend als alkalilösliches Harz bezeichnet) zusätzlich zum Harz (B) zu der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte der Erfindung zuzugeben.
  • Beispiele des alkalilöslichen Harzes umfassen Polyhydroxystyrol, Polyhydroxystyrolhalogenid, N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid-Copolymer und Hydrochinonmonomethacrylat-Copolymer, ebenso wie die Sulfonylimidpolymere gemäß JP-A-7-28244, die Carboxylgruppenhaltigen Polymere gemäß JP-A-7-36184 und dergleichen. Zusätzlich können die Acrylharze mit phenolischen Hydroxylgruppen gemäß JP-A-51-34711, die Sulfonamidgruppenhaltigen Acrylharze gemäß JP-A-2-866, Urethanharze und ähnliche verschiedene wasserlösliche Polymerverbindungen auch verwendet werden. Es ist gewünscht, dass diese alkalilöslichen Polymerverbindungen ein Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 500 bis 200.000 und ein Molekulargewicht im Zahlenmittel von 200 bis 60.000 haben. Solche alkalilöslichen Polymerverbindungen können allein oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden und werden in einer Zugabemenge von 80 Gew.-% oder weniger, bezogen auf die gesamte Zusammensetzung, verwendet.
  • Die Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz (C), die erfindungsgemäß verwendet wird, ist nicht besonders beschränkt, mit dem Vorbehalt, dass sie eine Substanz ist, die Wärme durch Absorption von Infrarotlicht erzeugt, und es können nicht nur infrarotabsorbierende Farbstoffe, sondern ebenfalls andere verschiedene Pigmente, die als infrarotabsorbierende Pigmente oder infrarotabsorbierende Farbstoffe bekannt sind, als die veranschaulichten verwendet werden.
  • Als Pigmente können kommerziell erhältliche Pigmente und Pigmente verwendet werden, die in Color Index (C. I.) Handbook, "Recent Pigment Handbook" (herausgegeben durch Japan Association of Pigment Techniques, veröffentlicht in 1977), "Recent Pigment Application Techniques" (CMC Publikation, veröffentlicht in 1986) und "Printing Ink Techniques" (CMC Publikation, veröffentlicht in 1984) beschrieben sind.
  • Die Arten des Pigmentes umfassen ein schwarzes, gelbes, orangefarbenes, braunes, rotes, purpurfarbenes, blaues, grünes, Fluoreszenz- und Metallpulverpigment, ebenso wie polymergebundene Pigmente. Als Erläuterung können ein unlösliches Azopigment, Azoschüppchenpigment, kondensiertes Azopigment, Chelatazopigment, Phthalocyaninpigment, Anthrachinonpigment, Perylen- oder Perynonpigment, Thioindigopigment, Chinacridonpigment, Dioxazinpigment, Isoindolinonpigment, Chinophthalonpigment, gefärbtes Schüppchenpigment, Azinpigment, Nitrosopigment, Nitropigment, natürliches Pigment, Fluoreszenzpigment, anorganisches Pigment, Ruß und dergleichen verwendet werden.
  • Diese Pigmente können ohne Durchführung einer Oberflächenbehandlung oder durch Auferlegen einer Oberflächenbehandlung verwendet werden. Beispiele der Oberflächenbehandlungsverfahren umfassen ein Verfahren, bei dem ein Harz oder Wachs oberflächenbeschichtet ist, ein Verfahren, bei dem ein oberflächenaktives Mittel zum Anhaften gebracht wird und ein Verfahren, bei dem eine reaktive Substanz (z.B. Silankupplungsmittel, Epoxyverbindung, Polyisocyanat oder dergleichen) an die Pigmentoberfläche gebunden wird. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind in "Properties and Application of Metal Soap" (Saiwai Shobo), "Printing Ink Techniques" (CMC Publikation, veröffentlicht in 1984) und "Recent Pigment Application Techniques" (CMC Publikation, veröffentlich in 1986) beschrieben.
  • Der Teilchendurchmesser des Pigmentes liegt bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,01 bis 10 μm, mehr bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,05 bis 1 μm, besonders bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,1 bis 1 μm. Ein Pigmentteilchendurchmesser von weniger als 0,01 μm ist bezüglich der Stabilität der Dispersion in einer Aufzeichnungsschicht-Beschichtungslösung nicht gewünscht, das Überschreiten von 10 μm ist bezüglich der Gleichförmigkeit der Aufzeichnungsschicht nicht gewünscht.
  • Als Verfahren zum Dispergieren des Pigmentes können bekannte Dispergiertechniken, die bei der Tintenproduktion, Tonerproduktion und dergleichen verwendet werden, eingesetzt werden. Beispiele der Dispergiermaschine umfassen Ultraschalldispergieranlagen, Sandmühle, Atomisiergerät, Perlmühle, Supermühle, Kugelmühle, Impeller, Disperser, KD-Mühle, Kolloidmühle, Dynatron, Dreiwalzenmühle, Kompressionskneter und dergleichen. Details sind in "Recent Pigment Application Techniques" (CMC Publikation, veröffentlicht in 1986) beschrieben.
  • Als Farbstoff können kommerziell erhältliche Farbstoffe und bekannte Verbindungen verwendet werden, die in den Literaturstellen beschrieben sind (z.B. "Dyestuff Handbook", herausgegeben von Society of Organic Synthesis Chemistry, veröffentlicht in 1970). Beispielsweise können ein Azofarbstoff, Metallkomplexazofarbstoff, Pyrazolonazofarbstoff, Anthrachinonfarbstoff, Phthalocyaninfarbstoff, Carboniumfarbstoff, Chinoniminfarbstoff, Methinfarbstoff, Cyaninfarbstoff und ähnliche Farbstoffe veranschaulicht werden.
  • Erfindungsgemäß sind unter diesen Pigmenten oder Farbstoffen solche, die Infrarotlicht oder nahes Infrarotlicht absorbieren, mehr bevorzugt, weil sie zur Verwendung bei einem Laser geeignet sind, der Infrarotlicht oder nahes Infrarotlicht emittiert.
  • Als ein solches Pigment, das Infrarotlicht oder nahes Infrarotlicht absorbiert, wird Ruß geeignet verwendet. Ebenso umfassen Beispiele des Farbstoffes, der Infrarotlicht oder nahes Infrarotlicht absorbiert, Cyaninfarbstoffe gemäß JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 und dergleichen, Methinfarbstoffe gemäß JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595 und dergleichen, Naphthochinonfarbstoffe gemäß JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 und dergleichen, Squaryliumpigmente gemäß JP-A-58-112792 und dergleichen und Cyaninfarbstoffe gemäß GB-Patent 434,875.
  • Zusätzlich kann als Farbstoff der nahe Infrarotabsorptionssensibilisator gemäß dem US-Patent 5,156,938 auch geeignet verwendet, und die substituierten Arylbenzo(thio)pyryliumsalze gemäß US-Patent 3,881,924, Trimethinthiapyryliumsalze gemäß JP-A-57-142645 (US-Patent 4,327,169), Pyryliumverbindungen gemäß JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061, Cyaninpigmente gemäß JP-A-59-216146, Pentamethinthiopyryliumsalze und dergleichen gemäß US-Patent 4,283,475, Pyryliumverbindungen und dergleichen gemäß JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702 un, als kommerzielle Produkte, Epolight III-178, Epolight III-130, Epolight III-125 und dergleichen, hergestellt von Epolin, besonders bevorzugt verwendet.
  • Zusätzlich können die nahes Infrarot absorbierenden Farbstoffe mit den Formeln (I) und (II) gemäß der Beschreibung des US-Patentes 4,756,993 als andere Beispiele von besonders bevorzugten Farbstoffen genannt werden.
  • Diese Pigmente oder Farbstoffe können bei einem Verhältnis von 0,01 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 0,1 bis 10 Gew.-% und besonders bevorzugt 0,5 bis 10 Gew.-% bei Farbstoffen oder besonders bevorzugt 3,1 bis 10 Gew.-% bei Pigmenten, bezogen auf die gesamten Feststoffkomponenten, zugegeben werden.
  • Die Empfindlichkeit wird niedrig, wenn die Zugabemenge der Pigmente oder Farbstoffe weniger als 0,01 Gew.-% ist, und wenn sie 50 Gew.-% übersteigt, geht die Gleichförmigkeit der Umgebungsschicht verloren und die Dauerhaftigkeit der Bildgebungsschicht wird schlecht. Diese Farbstoffe oder Pigmente können zu der gleichen Schicht von anderen Komponenten oder zu einer getrennt angeordneten Schicht zugegeben werden.
  • Nachfolgend werden andere Komponenten beschrieben, die bei der Herstellung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung zur Verwendung bei der Bildgebungsschicht entsprechend der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung gegeben werden.
  • Nach Bedarf können cyclische Säureanhydride, Phenole und organische Säuren zur lichtempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden, um die Empfindlichkeit zu verbessern. Zusätzlich können ein Ausdruckmittel für den Erhalt von sichtbaren Bildern unmittelbar nach der Belichtung, ein Farbstoff als Bildfärbungsmittel, andere Füllstoffe und dergleichen ebenfalls zugegeben werden.
  • Beispiele der cyclischen Säureanhydride umfassen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3,6-Endoxy-Δ4-tetraphydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Succinsäureanhydrid, Pyromellitsäureanhydrid und dergleichen gemäß der Beschreibung des US-Patents 4,115,128. Als Phenole können Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan, 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan und dergleichen veranschaulicht werden.
  • Beispiele der organischen Säuren umfassen Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylsulfate, Phosphonsäuren, Phosphinsäuren, Phosphorsäureester, Carbonsäuren und dergleichen gemäß JP-A-60-88942, JP-A-2-96755 und dergleichen, und erläuternde Beispiele umfassen p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylsulfat, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluinsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 1,4-Cyclohexen-2,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure, Ascorbinsäure und dergleichen.
  • Das Verhältnis der obigen cyclischen Säureanhydride, Phenole und organischen Säuren in der lichtempfindlichen Zusammensetzung ist bevorzugt von 0,05 bis 15 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%.
  • Als Ausdruckmittel für den Erhalt von sichtbaren Bildern unmittelbar nach der Belichtung kann eine Kombination aus einer lichtempfindlichen Verbindung, die eine Säure durch Belichtung freisetzt, und ein organischer Farbstoff, der den Farbton durch Bildung eines Salzes mit der Säure ändert, veranschaulicht werden.
  • Beispiele der lichtempfindlichen Verbindung, die eine Säure durch Belichtung freisetzt, umfassen o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalogenid gemäß JP-A-50-36209, Trihalogenmethyl-2-pyron und Trihalogenmethyl-s-triazin gemäß JP-A-53-36223; verschiedene o-Naphthochinondiazidverbindungen gemäß JP-A-55-62444; 2-Trihalogenmethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazolverbindungen gemäß JP-A-55-77742; Diazoniumsalze und dergleichen.
  • Diese Verbindungen können allein oder als Mischung verwendet werden und deren Zugabemenge liegt bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.
  • Zumindest einer oder mehrere organische Farbstoffe, die den Farbton durch wechselseitiges Reagieren mit einem Foto-Disintegrationsprodukt einer Verbindung ändern, die eine saure Substanz durch Foto-Disintegration erzeugt, werden in der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung verwendet.
  • Als solche organischen Farbstoffe können Pigmente vom Diphenylmethansystem, Triarylmethansystem, Thiazinsystem, Oxazinsystem, Phenazinsystem, Xanthensystem, Anthrachinonsystem, Iminonaphthochinonsystem und. Azomethinsystem verwendet werden. Deren erläuternde Beispiele sind die folgenden.
  • Brilliantgrün, Eosin, Ethylviolett, Erythrocin B, Methylgrün, Kristallviolett, basisches Fuchsin, Phenolphthalein, 1,3-Diphenyltriazin, Alizarinrot S, Thymolphthalein, Methylviolett 2B, Chinaldinrot, Bengalrosa, Thymolsulfophthalein, Xylenolblau, Methylorange, Orange IV, Diphenylthiocarbazon, 2,7-Dichlorfuorescein, p-Methylrot, Kongorot, Benzopurpurin 4B, α-Naphthylrot, Nile Blau 2B, Nile Blau A, Phenacetalin, Methylviolett, Malachitgrün, p-Fuchsin, Oil Blue #603 (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Pink #312 (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Red 5B (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Scarlet #308 (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Red OG (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Red RR (hergestellt von Orient Chemical Industry), Oil Green #502 (hergestellt von Orient Chemical Industry), Spiron Red BEH Special (hergestellt von Hodogaya Chemical Industry), Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Chemical Industry), Patent Pure Blue (hergestellt von Sumitomo Mikuni Chemical Industry), Sudan Blue II (hergestellt von BASP), m-Cresolpurpur, Cresolrot, Rhodamin B, Rhodamin 6G, Fast Acid Violet R, Sulfo Rhodamin B, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon, 2-Carboxyanilino-4-p-dihydroxyethylaminophenylimino-naphthochinon, p-Methoxybenzoyl-p'-diethylamino-o'-methylphenyliminoacetanilid, Cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilid, 1-Phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolon, 1-β-Naphthyl-4-p-diethylaminohenylimino-5-pyrazolon und dergleichen.
  • Besonders bevorzugte organische Farbstoffe sind Farbstoffe vom Triarylmethansystem. Unter den Farbstoffen vom Triarylmethansystem sind solche, die Sulfonsäureverbindungen als Gegenionen haben, wie in JP-A-62-2932471 und dem japanischen Patent 2,969,021 gezeigt ist, besonders nützlich.
  • Diese Farbstoffe können alleine oder als Mischung verwendet werden, und deren Zugabemenge ist bevorzugt von 0,3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung zur Verwendung in der lichtempfindlichen Schicht. Zusätzlich können sie zusammen mit anderen Farbstoffen und Pigmenten nach Bedarf verwendet werden, und deren Verwendungsmenge ist bevorzugt 70 Gew.-% oder weniger, mehr bevorzugt 50 Gew.-% oder weniger, bezogen auf das Gesamtgewicht der Farbstoffe und Pigmente.
  • Zusätzlich dazu können verschiedene Additive zur Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht für verschiedene Ziele gegeben werden, einschließlich verschiedener Harz mit hydrophoben Gruppen zur Verbesserung der Tintendichte von Bildern, wie Octylphenolformaldehydharze, t-Butylphenolformaldehydharze, t-Butylphenolbenzaldehydharze, Kolophonium-modifizierte Novolakharze, o-Naphthochinondiazidsulfonsäureester von diesen modifizierten Novolakharzen und dergleichen; und Plastifizierer zur Verbesserung der Flexibilität von Beschichtungsfilmen, wie Dibutylphthalat, Dioctylphthalat, Butylglykolat, Tricresylphosphat, Dioctyladipat und dergleichen. Deren Zugabemenge ist bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,01 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das gesamte Gewicht der Zusammensetzung.
  • Zusätzlich können bekannte Härter zur Verbesserung der Abriebresistenz der Beschichtungsfilme zu diesen Zusammensetzungen gegeben werden. Beispiele dieser Harze umfassen ein Polyvinylacetalharz, Polyurethanharz, Epoxyharz, Vinylchloridharz, Nylon, Polyesterharz, Acrylharz und dergleichen, die alleine oder als Mischung verwendet werden können. Deren Zugabemenge ist bevorzugt innerhalb des Bereiches von 2 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.
  • Zusätzlich können nicht-ionische oberflächenaktive Mittel, wie solche gemäß JP-A-62-251740 und JP-A-4-68355, und ampholytische oberflächenaktive Mittel wie sie in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 beschrieben sind, zu der Zusammensetzung zur Verbreiterung der Entwicklungsbreite gegeben werden. Erläuternde Beispiele der nicht-ionischen Tenside umfassen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Starinsäuremonoglycerid, Polyoxyethylensorbitanmonooleat, Polyoxyethylennonylphenylether und dergleichen, und erläuternde Beispiele der ampholytischen Tenside umfassen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycin-Hydrochlorid, Amorgen K (Warenname, hergestellt von Daiichi Kogyo Pharmaceutical, N-Tetradecyl-N,N-betain-Typ), 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolimbetain, Levon 15 (Handelsname, hergestellt von Sanyo Kasei, Alkylimidazolin-System) und dergleichen.
  • Das Verhältnis der obigen nicht-ionischen Tenside und der ampholytischen Tenside, die die Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht ausmachen, ist bevorzugt von 0,05 bis 15 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%.
  • Zur Verbesserung der Anwendungsoberflächenqualität können oberflächenaktive Mittel wie solche vom Fluorsystem gemäß JP-A-62-170950 zur Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht gegeben werden.
  • Die Zugabemenge ist bevorzugt von 0,001 bis 1,0 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,005 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Zusammensetzung.
  • Zusätzlich kann ein gelber Farbstoff, bevorzugt ein gelber Farbstoff, dessen Absorptionsfähigkeit bei 417 nm 70 % oder mehr der Absorbenz bei 436 nm ist, zur Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht gegeben werden.
  • Wenn ein lichtempfindliches Material für die lithografische Druckplatte aus einer Harzzusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht erhalten wird, wird es zunächst als eine Bildgebungsschicht auf einem angemessenen Träger angeordnet. Die Harzzusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht wird in dem einzelnen oder in gemischten organischen Lösungsmitteln, die unten beschrieben sind, aufgelöst oder dispergiert, auf den Träger geschichtet und dann getrocknet.
  • Als organisches Lösungsmittel können irgendwelche konventionell bekannten verwendet werden, aber solche mit einem Siedepunkt innerhalb des Bereiches von 40 bis 200°C, besonders 60 bis 160°C, werden aufgrund des vorteilhaften Durchführens des Trocknens ausgewählt.
  • Beispiele des organischen Lösungsmittels umfassen Methylalkohol, Ethylalkohol, n- oder iso-Propylalkohol, n- oder iso-Butylalkohol, Diacetonalkohol und ähnliche Alkohole, Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylbutylketon, Methylamylketon, Methylhexylketon, Diethylketon, Diisobutylketon, Cyclohexanon, Methylcyclohexanon, Acetylaceton und ähnliche Ketone, Benzol, Toluol, Xylol, Cyclohexan, Methoxybenzol und ähnliche Kohlenwasserstoffe, Ethylacetat, n- oder Isopropylacetat, n- oder Isobutylacetat, Ethylbutylacetat, Hexylacetat und ähnliche Essigsäureester, Methylendichlorid, Ethylendichlorid, Monochlorbenzol und ähnliche Halogenide, Isopropylether, n-Butylether, Dioxan, Dimethyldioxan, Tetrahydrofuran und ähnliche Ether, Ethylenglykol, Methylcellosolve, Methylcellosolveacetat, Ethylcellosolve, Diethylcellosolve, Cellosolveacetat, Butylcellosolve, Butylcellosolveacetat, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykolmethylethylether, Diethylenglykoldiethylether, Propylenglykol, Propylenglykolmonomethylether, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethylether, Propylenglykolmonoethyletheracetat, Propylenglykolmonobutylether, 3-Methyl-3-methoxybutanol und ähnliche, mehrwertige Alkohole und Derivate davon, und Dimethylsulfoxid, N,N-Dimethylformamid und ähnliche spezielle Lösungsmittel, die geeignet alleine oder als Mischung verwendet. Zusätzlich ist es geeignet, den Feststoffanteil in der Beschichtungszusammensetzung auf eine Konzentration von 2 bis 50 Gew.-% einzustellen.
  • Gemäß der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung umfassen Beispiele des Verfahrens zum Beschichten der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht das Walzenbeschichten, Tauchbeschichten, Luftmesserstreichbeschichten, Gravurbeschichten, Gravuroffsetbeschichten, Drahtumspinnen, Sprühbeschichten und ähnliche Verfahren, und die Beschichtungsmenge ist bevorzugt von 0,3 bis 4,0 g/m2 als Gewicht nach dem Trocknen. Wenn die Beschichtungsmenge reduziert wird, kann die Belichtungsquantität für den Erhalt von Bildern vermindert werden, aber die Filmstärke wird vermindert. Wenn die Beschichtungsmenge erhöht wird, ist eine größere Belichtungsquantität erforderlich, aber der lichtempfindliche Film wird stark; beispielsweise wenn er als Druckplatte verwendet wird, wird eine Druckplatte mit hoher Druckzahl (hohe Druckresistenz) erhalten.
  • Das Trocknen der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht, die auf dem Träger geschichtet ist, wird im Allgemeinen durch erwärmte Luft durchgeführt. Das Erwärmen wird innerhalb des Bereiches von bevorzugt 30 bis 200°C, besonders 40 bis 140°C, durchgeführt. Das Trocknen kann nicht nur durch ein Verfahren, bei dem die Temperatur auf einem konstanten Wert während des Trocknens gehalten wird, sondern ebenfalls durch ein Verfahren durchgeführt werden, bei dem sie schrittweise erhöht wird. Zusätzlich werden gute Ergebnisse in einigen Fällen erhalten, wenn die Trocknungsluft entfeuchtet ist. Es ist gewünscht, dass die erwärmte Luft zur Beschichtungsfläche bei einer Rate von 0,1 bis 30 m/s, besonders 0,5 bis 20 m/s, zugeführt wird.
  • Matte Schicht: Zur Verkürzung der Vakuumierzeit beim Durchführen der Kontaktbelichtung unter Verwendung eines Vakuumdruckrahmens und ebenfalls zur Verhinderung des Ausblutens von Drucken ist es gewünscht, eine matte Schicht auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht, die auf obige Weise angeordnet ist, vorzusehen. Erläuternde Beispiele umfassen ein Verfahren, bei dem eine matte Schicht so angeordnet wird, wie es in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582 und JP-B-61-28986 beschrieben ist, und ein Verfahren, bei dem ein festes Pulver heißgeschmolzen wird, wie in JP-B-62-62337 beschrieben ist.
  • Der in der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte zu verwendende Träger ist ein dimensionsstabiles flaches Material, und solche, die bisher als Träger von Druckplatten verwendet wurden, sind hierin enthalten und können geeignet eingesetzt werden. Beispiele solche Träger umfassen Papier, Papier, das mit Kunststoffen laminiert ist (z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol und dergleichen), Metallplatten, beispielsweise aus Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierung), Zink, Eisen, Kupfer und dergleichen, Filme aus Kunststoff, wie Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und dergleichen, und Papier oder Kunststofffilme, auf denen die genannte Metalle laminiert oder niedergeschlagen sind, wobei Aluminiumplatten bevorzugt sind. Reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten sind in den Aluminiumplatten enthalten. Verschiedene Verbindungen werden als Aluminiumlegierung verwendet, und Legierungen aus Aluminium mit Metallen wie Silizium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Wismut, Nickel und dergleichen werden verwendet. Diese Zusammensetzungen enthalten Verunreinigungen in einem vernachlässigbaren Ausmaß zusätzlich zu etwas Eisen und Titan.
  • Der Träger wird nach Bedarf oberflächenbehandelt. Es ist gewünscht, eine hydrophile Behandlung bei der Trägeroberfläche der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte durchzuführen. Bei einem Träger mit einer Oberfläche aus Metall, insbesondere Aluminium, ist es gewünscht, eine Oberflächenbehandlung, wie eine Steinbehandlung, Tränkbehandlung in Natriumsilicat, Kaliumborzirkonat, Phosphat oder eine ähnliche wässrige Lösung oder eine anodische Oxidationsbehandlung durchzuführen. Zusätzlich kann eine Aluminiumplatte, hergestellt durch Durchführen einer Steinbehandlung und dann Tränkbehandlung in eine wässrige Natriumsilicatlösung gemäß US-Patent 2,714,066 und eine Aluminiumplatte, hergestellt durch Durchführen einer anodischen Oxidationsbehandlung und anschließendes Tränken in eine wässrige Alkalimetallsilicatlösung gemäß US-Patent 3,181,461 ebenfalls geeignet verwendet werden.
  • Die erwähnte anodische Oxidationsbehandlung wird beispielsweise durch Elektrifizieren unter Verwendung einer Aluminiumplatte als Anode in Elektrolyten von Phosphat, Chromsäure, Schwefelsäure, Borsäure und ähnlichen anorganischen Säuren, Oxalsäure, Sulfaminsäure und ähnlichen organischen Säuren oder wässrigen Lösungen oder nichtwässrigen Lösungen von Salzen davon, alleine oder einer Kombination von zwei oder mehreren davon, durchgeführt.
  • Ebenso wirksam ist ein Elektroniederschlag von Silicat gemäß US-Patent 3,658,662. Diese hydrophilen Behandlungen werden nicht nur durchgeführt, um die Trägeroberfläche hydrophil zu machen, sondern ebenfalls um eine unerwünschte Reaktion mit der lichtempfindlichen Zusammensetzung, die darauf vorgesehen ist, zu verhindern, und um eine Adhäsivität mit dem lichtempfindlichen Schicht zu verbessern. Vor dem Durchführen der Steinbehandlung der Aluminiumplatte kann nach Bedarf eine Vorbehandlung der Oberfläche durchgeführt werden, um Walzenöl von der Oberfläche zu entfernen und die klare Aluminiumoberfläche auszusetzen.
  • Für den zuerst genannten Fall wird Trichlen oder ein ähnliches Lösungsmittel, ein oberflächenaktives Mittel oder dergleichen verwendet. Für den zuletzt genannten Fall wird ein Verfahren, das Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid oder ein ähnliches Alkaliätzmittel verwendet, in großem Umfang durchgeführt.
  • Als Steinbehandlung ist das mechanische, chemische oder elektrochemische Verfahren wirksam. Das mechanische Verfahren umfasst das Kugelpolieren, Blaspolieren und Bürstenpolieren, worin eine Wasserdispersionsaufschlämmung von Bimsstein oder einem ähnlichen Abriebsmaterial mit einer Nylonbürste gerieben wird, als chemisches Verfahren ist ein Verfahren zum Tränken in eine gesättigte wässrige Lösung aus einem Mineralsäurealuminiumsalz gemäß JP-A-54-31187 geeignet, und als elektrochemisches Verfahren ist ein Verfahren zum Durchführen einer Wechselstromelektrolyse in sauren Elektrolyten, wie Salzsäure, Salpetersäure oder einer Kombination davon wünschenswert. Unter diesen Oberflächenaufrauhbehandlungen ist ein Oberflächenaufrauhverfahren, bei dem ein mechanisches Oberflächenaufrauhen mit einem elektrochemischen Oberflächenaufrauhen gemäß JP-A-55-137993 kombiniert wird, besonders wünschenswert wegen der hohen Adhäsivstärke der lipidempfindlichen Bilder am Träger. Es ist gewünscht, das Steinbehandeln durch das genannte Verfahren so durchzuführen, dass die Mittellinienoberflächenrauhigkeit (Ra) der Aluminiumplattenoberfläche in einen Bereich von 0,3 bis 1,0 μm fällt. Nach Bedarf wird die auf diese Weise gekörnte Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und chemisch geätzt.
  • Die Ätzbehandlungslösung wird im Allgemeinen aus wässrigen Lösungen von Basen oder Säuren ausgewählt, die Aluminium auflösen. In diesem Fall sollte eine Beschichtung, die von dem Aluminium verschieden ist, das von den Ätzlösungskomponenten stammt, nicht auf der geätzten Oberfläche gebildet werden. Bevorzugte Beispiele des Ätzmittels umfassen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natrium-tertiäres Phosphat, Natrium-sekundäres Phosphat, Kalium-tertiäres Phosphat, Kalium-sekundäres Phosphat und ähnliche basische Substanzen; und Schwefelsäure, Perschwefelsäure, Phosphorsäure, Salzsäure, Salze davon und ähnliche saure Substanzen, aber Salze von Metallen mit niedrigerer Ionisierungstendenz als Aluminium, wie Zink, Chrom, Nickel, Kupfer und dergleichen, sind nicht gewünscht, weil sie eine nicht notwendige Beschichtung auf der Ätzoberfläche bilden. Bei der Anwendung der Konzentration und der Temperatur dieser Ätzmittel ist es am meisten gewünscht, dass die Auflösungsrate von Aluminium oder der Legierung 0,3 bis 40 g/m2 pro 1 Minute Tränkzeit wird, aber dies kann größer oder kleiner als dieser Bereich sein.
  • Das Ätzen wird beispielsweise durch Tränken einer Aluminiumplatte in die genannte Ätzlösung oder durch Auftragen der Ätzlösung auf die Aluminiumplatte durchgeführt, und es ist gewünscht, die Behandlung so durchzuführen, dass die Ätzmenge innerhalb des Bereiches von 0,5 bis 10 g/m2 fällt. Als genanntes Ätzmittel ist es gewünscht, eine wässrige Lösung einer Base angesichts der charakteristischen schnellen Ätzgeschwindigkeit zu verwenden. Weil Schmutz in diesem Fall gebildet wird, wird im Allgemeinen ein Entschmutzen durchgeführt. Als Säure, die beim Entschmutzen verwendet wird, wird Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure, Borfluorwasserstoffsäure oder ähnliches verwendet. Nach Bedarf wird die ätzbehandelte Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen und einer anodischen Oxidation unterworfen. Die anodische Oxidation kann durch ein Verfahren durchgeführt werden, das allgemein auf diesem Gebiet verwendet wird.
  • Beispielsweise kann eine anodische Oxidationsbeschichtung auf der Aluminiumträgeroberfläche gebildet werden, wenn ein kontinuierlicher oder Wechselstrom auf Aluminium in einer wässrigen Lösung oder nicht-wässrigen Lösung aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Sulfaminsäure, Benzolsulfonsäure oder dergleichen oder einer Kombination von zwei oder mehreren davon auferlegt wird.
  • Die Bedingungen für die anodischen Oxidationsbehandlungen können im Allgemeinen bestimmt werden, weil sie sich auf verschiedene Weisen in Abhängigkeit von den zu verwendenden elektrolytischen Lösungen ändern, aber sie liegen im Allgemeinen innerhalb der Bereiche von 1 bis 80 Gew.-% als Konzentration der elektrolytischen Lösung, von 5 bis 70°C als Lösungstemperatur, von 0,5 bis 60 A/dm2 als Stromdichte, von 1 bis 100 V als Spannung und von 30 Sekunden bis 50 Minuten als Elektrolysezeit. Unter diesen anodischen Oxidationsbehandlungen sind ein Verfahren gemäß dem britischen Patent 1,412,768, bei dem die anodische Oxidation in Schwefelsäure bei hoher Stromdichte durchgeführt wird, und ein Verfahren bevorzugt, das im US-Patent 3,511,661 beschrieben ist, bei dem die anodische Oxidation unter Verwendung von Phosphorsäure als elektrolytisches Bad durchgeführt wird. Die Aluminiumplatte, auf der eine Oberflächenaufrauhbehandlung und anodische Oxidation auf oben beschriebene Weise durchgeführt ist, kann weiterhin einer hydrophilen Behandlung nach Bedarf unterworfen werden, und bevorzugte Beispiele umfassen solche Verfahren, bei denen sie mit einer wässrigen Lösung aus einem Alkalimetallsilicat, wie Natriumsilicat gemäß den US-Patenten 2,714,066 und 3,181,461, mit Kaliumborzirkonat gemäß JP-B-36-22063 und Polyvinylphosphonat gemäß dem US-Patent 4,153,461 behandelt wird.
  • Organische Unterschicht: Zur Verminderung der restlichen lichtempfindlichen Schicht in den Nicht-Bildteilen ist es gewünscht, eine organische Unterschicht auf der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte der Erfindung vor dem Beschichten der lichtempfindlichen Schicht anzuordnen. Die organische Verbindung, die in einer solchen organischen Unterschicht verwendet wird, wird beispielsweise ausgewählt aus Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, 2-Aminoethylphosphonsäure und ähnlichen Aminogruppen-haltigen Phosphonsäuren, Phenylphosphonsäure, Napthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure, Ethylendiphosphonsäure und ähnlichen organischen Phosphonsäuren, die Substituentengruppen haben können, Phenylphosphat, Naphthylphosphat, Alkylphosphat, Glycerophosphat und ähnlichen organischen Phosphorsäuren, die Substituentengruppen haben können, Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure, Glycerophosphinsäure und ähnlichen organischen Phosphinsäuren, die Substituentengruppen haben können, Glycin, β-Alanin und ähnlichen Aminosäuren und Triethanolaminhydrochlorid und ähnlichen Aminhydrochloride mit Hydroxylgruppen, die als Mischung von zwei oder mehreren verwendet werden können.
  • Zusätzlich ist es gewünscht, dass eine Verbindung mit einer Oniumgruppe in der organischen Unterschicht enthalten ist. Verbindungen mit einer Oniumgruppe sind detailliert in JP-A-2000-10292, JP-A-2000-108538 und dergleichen beschrieben.
  • Zusätzlich dazu kann zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus Polymerverbindungen mit einer strukturellen Einheit, veranschaulicht durch Poly(p-vinylbenzoesäure) oder dergleichen im Molekül verwendet werden. Erläuternde Beispiele umfassen ein Copolymer aus p-Vinylbenzoesäure mit Vinylbenzyltriethylammoniumsalz und einem Copolymer aus p-Vinylbenzoesäure mit Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid.
  • Diese organische Unterschicht kann durch folgende Verfahren angeordnet werden. Das heißt, ein Verfahren, bei dem sie angeordnet wird, indem eine Lösung durch Auflösen der genannten organischen Verbindung in Wasser oder Methanol, Ethanol, Methylethylketon oder einem ähnlichen organischen Lösungsmittel oder einem gemischten Lösungsmittel davon hergestellt wird, und ein Verfahren, bei dem eine Aluminiumplatte in eine Lösung getränkt wird, hergestellt durch Auflösen der genannten organischen Verbindung in Wasser oder Methanol, Ethanol, Methylethylketon oder einem ähnlichen organischen Lösungsmittel oder einem gemischten Lösungsmittel davon, unter Bewirkung der Adsorption der genannten organischen Verbindung, und wobei dann die organische Unterschicht angeordnet wird, indem die Platte mit Wasser oder ähnlichem gewaschen und anschließend getrocknet wird. Beim zuerst genannten Verfahren kann eine Lösung aus der genannten organischen Verbindung mit einer Konzentration von 0,005 bis 10 Gew.-% durch verschiedene Verfahren geschichtet werden. Beispielsweise kann irgendeines der Stangenbeschichtung, Walzenbeschichtung, Sprühbeschichtung, Vorhangbeschichtung und ähnliches verwendet werden. Beim zuletzt genannten Verfahren ist die Konzentration der Lösung von 0,01 bis 20 Gew.-%, bevorzugt 0,05 bis 5 Gew.-%, die Tränktemperatur ist von 20 bis 90°C, bevorzugt 25 bis 50°C, und die Tränkperiode ist von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, bevorzugt 2 Sekunden bis 1 Minute.
  • Die hier zu verwendende Lösung kann innerhalb eines pH-Bereiches von 1 bis 12 durch Einstellen des pH mit Ammonium, Triethylamin, Kaliumhydroxid oder einer ähnlichen basischen Substanz und Salzsäure, Phosphorsäure oder einer ähnlichen sauren Substanz verwendet werden. Ebenso kann ein gelber Farbstoff zugegeben werden, um die Farbtonreproduzierbarkeit der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte zu verbessern. Zusätzlich kann eine Verbindung mit der folgenden Formel (a) ebenfalls zugegeben werden: (HO)x-R5-(COOH)y.
  • Mit dem Vorbehalt, dass R5 eine Arylengruppe mit 19 oder weniger Kohlenstoffatomen ist, die eine Substituentengruppe hat, und dass x und y jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 1 bis 3 sind. Erläuternde Beispiele der Verbindung mit der Formel (a) umfassen 3-Hydroxybenzoesäure, 4-Hydroxybenzoesäure, Salicylsäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 2-Hydroxy-3-naphthoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, 10-Hydroxy-9-anthracencarbonsäure und dergleichen. Die Beschichtungsmenge der organischen Unterschicht nach dem Trocknen ist bevorzugt von 1 bis 100 mg/m2, mehr bevorzugt von 2 bis 70 mg/m2. Eine ausreichende Druckresistenzleistung kann nicht erhalten werden, wenn die Beschichtungsmenge kleiner als 1 mg/m2 ist. Gleiches gilt, wenn sie größer als 100 mg/m2 ist.
  • Rückschicht: Nach Bedarf wird eine Rückschicht auf der Rückseite des Trägers angeordnet. Als eine solche Rückschicht wird bevorzugt eine Beschichtungsschicht verwendet, umfassend Metalloxide, hergestellt durch Durchführen einer Hydrolyse und Kondensationspolymerisation der organischen Polymerverbindungen, beschrieben in JP-A-5-45885, und die organischen und anorganischen Metallverbindungen gemäß JP-A-6-35174. Im Hinblick auf diese Beschichtungsschichten sind Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OC3H7)4, Si(OC4H9)4 und ähnliche Alkoxyverbindungen von Silizium kostengünstig und leicht erhältlich, und Beschichtungsschichten aus Metalloxiden, die von diesen erhalten sind, sind besonders wünschenswert wegen ihrer ausgezeichneten Entwicklungslösungsresistenz.
  • Die lichtempfindliche lithografische Druckplatte, die auf obige Weise hergestellt ist, wird im Allgemeinen einer Bildbelichtung und Entwicklungsbehandlung unterworfen. Als Lichtquelle von aktivem Licht, das bei der Bildbelichtung verwendet wird, ist eine Lichtquelle mit einer Emissionswellenlänge innerhalb des Bereiches von nahem Infrarot bis Infrarot gewünscht, und ein Feststofflaser oder Halbleiterlaser ist besonders gewünscht.
  • Die Entwicklungslösung, die bei der Entwicklungsbehandlung der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte der Erfindung verwendet werden kann, ist eine Entwicklungslösung mit einem pH-Wert innerhalb des Bereiches von 9,0 bis 14,0, bevorzugt innerhalb des Bereiches von 12,0 bis 13,5. Eine konventionell bekannte wässrige Alkalilösung kann in der Entwicklungslösung verwendet werden (nachfolgend als Entwicklungslösung mit einem Auffüller bezeichnet). Beispielsweise können Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natrium-tertiäres Phosphat, Kalium-tertiäres Phosphat, Ammonium-tertiäres Phosphat, Natrium-sekundäres Phosphat, Kalium-sekundäres Phosphat, Ammonium-sekundäres Phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid und ähnliche anorganische Alkalisalze genannt werden. Ebenfalls enthalten sind Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin und ähnliche organische Alkalimittel. Diese wässrigen Alkalilösungen können alleine oder als eine Mischung von zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Unter den genannten wässrigen Alkalilösungen ist eine Entwicklungslösung, die die Wirkung der Erfindung ausübt, eine wässrige Lösung mit pH 12 oder mehr, eine sogenannte "Silicatentwicklungslösung", umfassend ein Alkalisilicat als Base oder ein Alkalisilicat, hergestellt durch Mischen einer Base mit einer Siliziumverbindung, und die andere mehr bevorzugte Entwicklungslösung ist eine sogenannte "Nicht-Silicatentwicklungslösung", die kein Alkalisilicat enthält, sondern einen nicht-reduzierenden Zucker (eine organische Verbindung mit Pufferwirkung) und eine Base enthält.
  • Im zuerst genannten Fall kann die Entwicklungsfähigkeit der wässrigen Lösung aus dem Alkalimetallsilicat durch das Verhältnis von Siliziumdioxid (SiO2) als Komponente des Silicates zum Alkalimetalloxid M2O (im Allgemeinen ausgedrückt als molares [SiO2]/[M2O)-Verhältnis bezeichnet) und deren Konzentrationen eingestellt werden, und geeignete Beispiele umfassen eine wässrige Natriumsilikatlösung gemäß JP-A-54-62004, worin das molare SiO2Na2O-Verhältnis von 1,0 bis 1,5 (nämlich [SiO2]/[Na2O] ist von 1,0 bis 1,5) ist, und der SiO2-Gehalt von 1 bis 4 Massen-% ist, und eine wässrige Alkalimetallsilicatlösung gemäß JP-B-57-7427, worin [SiO2]/[M] von 0,5 bis 0,75 (nämlich [SiO2]/[M2O] = 0,5 bis 0,75) ist und die SiO2-Konzentration 1 bis 4 Massen-% ist, worin die Entwicklungslösung zumindest 20 % Kalium enthält, bezogen auf die Grammatome der gesamten darin existierenden Alkalimetalle.
  • Zusätzlich ist die sogenannte "Nicht-Silicatentwicklungslösung", die kein Alkalisilicat enthält, sondern einen nicht-reduzierenden Zucker und eine Base, auch für die Anwendung bei der Entwicklung des lithografischen Druckplattenmaterials dieser Erfindung geeignet. Wenn die Entwicklungsbehandlung des lithografischen Druckplattenmaterials unter Verwendung dieser Entwicklungslösung durchgeführt wird, tritt die Verschlechterung der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht nicht auf und die Bilddichte der lichtempfindlichen Schicht kann besser aufrechterhalten werden.
  • Es ist gewünscht, dass diese Entwicklungslösung zumindest eine Verbindung, ausgewählt aus nicht-reduzierenden Zuckern, und zumindest eine Base als Hauptkomponenten enthält und der Flüssig-pH innerhalb des Bereiches von 9,5 bis 13,5 ist.
  • Solche nicht-reduzierenden Zucker sind Saccharide, die keine freie Aldehydgruppe und Ketongruppe aufweisen und keine reduzierende Eigenschaft zeigen und in Oligosaccharide vom Tehalosetyp, worin reduzierende Gruppen wechselseitig gebunden sind, Glycoside, worin reduzierende Gruppen von Sacchariden und Nicht-Sacchariden gebunden sind und Zuckeralkohole klassifiziert werden, hergestellt durch Reduzieren von Sacchariden durch Hydrierung, und alle von diesen können geeignet verwendet werden. Die Oligosaccharide vom Trehalosetyp umfassen Sucrose und Trehalose, und Beispiele der Glycoside umfassen Alkylglycosid, Phenolglycosid, Senfglycosid und dergleichen. Ebenso umfassen Beispiele der Zuckeralkohole D,L-Arabit, Ribit, Xylit, D,L-Sorbit, D,L-Mannit, D,L-Idit, D,L-Talit, Dulcit, Allodulicit und dergleichen. Zusätzlich werden Maltit, erhalten durch Hydrierung von Disaccharid, und ein reduziertes Material (reduzierter Stärkesirup), erhalten durch Hydrierung von Oligosaccharid, geeignet verwendet. Besonders bevorzugte nicht-reduzierende Zucker unter diesen sind Zuckeralkohole und Sucrose und D-Sorbit, Sucrose und reduzierter Stärkesirup sind besonders wünschenswert, weil sie die Pufferwirkung innerhalb eines angemessenen pH-Bereiches zeigen und kostengünstig sind.
  • Diese nicht-reduzierenden Zucker können alleine oder als eine Mischung von zwei oder mehreren verwendet werden, und deren Anteil in der Entwicklungslösung ist bevorzugt von 0,1 bis 30 Gew.-%, mehr bevorzugt 1 bis 20 Gew.-%.
  • Eine ausreichende Pufferwirkung kann nicht bei einem kleineren Verhältnis als diesem Bereich erhalten werden, und ein größeres Verhältnis als dieser Bereich führt zur Schwierigkeit bei der Durchführung einer hohen Konzentration und führt ebenfalls zu einem Problem bezüglich erhöhter Materialkosten. In diesem Zusammenhang wird, wenn ein reduzierender Zucker in Kombination mit einer Base verwendet wird, das Problem verursacht, dass die Farbe der Lösung sich periodisch in braun ändert, der pH ebenfalls graduell vermindert wird und hierdurch die Entwicklungseigenschaft reduziert wird.
  • Ein konventionell bekanntes Alkalimittel kann als Base verwendet werden, das mit dem nicht-reduzierenden Zucker kombiniert wird. Beispielsweise können Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tertiäres Phosphat, Kalium-tertiäres Phosphat, Ammonium-tertiäres Phosphat, Natrium-sekundäres Phosphat, Kalium-sekundäres Phosphat, Ammonium-sekundäres Phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat und ähnliche anorganische Alkalimittel genannt werden. Ebenso nützlich sind Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin und ähnliche organische Alkalimittel.
  • Diese Alkalimittel können alleine oder als Mischung von zwei oder mehreren verwendet werden. Bevorzugt unter diesen sind Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid, weil die pH-Einstellung innerhalb eines breiteren pH-Bereiches möglich wird, indem ihre Menge zum nicht-reduzierenden Zucker gesteuert wird. Natrium-tertiäres Phosphat, Kalium-tertiäres Phosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und dergleichen sind ebenfalls wegen ihrer eigenen Pufferwirkungen bevorzugt.
  • Diese Alkalimittel werden zugegeben, um den pH-Wert der Entwicklungslösung innerhalb des Bereiches von 9,0 bis 13,5 einzustellen, und obwohl die Zugabemenge auf der Basis des gewünschten pHs und der Art und Zugabemenge des nichtreduzierenden Zuckers bestimmt wird, ist ein mehr bevorzugter pH-Wert von 10,0 bis 13,2.
  • Eine alkalische Pufferlösung mit einer schwachen Säure und einer anderen starken Base als Saccharide kann zusammen mit der Entwicklungslösung verwendet werden. Es ist gewünscht, dass die schwache Säure, die in einer solchen Pufferlösung verwendet wird, eine Dissoziationskonstante (pKa) von 10,0 bis 13,2 hat.
  • Eine solche schwache Säure wird aus solchen ausgewählt, die in IONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION, veröffentlicht durch Pergamon Press, und dergleichen beschrieben sind, und Beispiele umfassen 2,2,3,3-Tetrafluorpropanol-1 (pKa 12,74), Trifluorethanol (pKa 12,37), Trichlorethanol (pKa 12,24) und ähnliche Alkohole, Pyridin-2-aldehyd (pKa 12,68), Pyridin-4-aldehyd (pKa 12,05) und ähnliche Aldehyde, Salicylsäure (pKa 13,0), 3-Hydroxy-2-naphthoesäure (pKa 12,84), Catechol (pKa 12,6), Gallensäure (pKa 12,4), Sulfosalicylsäure (pKa 11,7), 3,4-Dihydroxysulfonsäure (pKa 12,2), 3,4-Dihydroxybenzoesäure (pKa 11,94), 1,2,4-Trihydroxybenzol (pKa 11,82), Hydrochinon (pKa 11,56), Pyrogallol (pKa 11,34), o-Cresol (pKa 10,33), Resorcinol (pKa 11,27), p-Cresol (pKa 10,27), m-Cresol (pKa 10,09) und ähnliche Verbindungen mit phenolischer Hydroxylgruppe, 2-Butanonoxim (pKa 12,45), Acetoxim (pKa 12,42), 1,2-Cycloheptandiondioxim (pKa 12,3), 2-Hydroxybenzaldehydoxim (pKa 12,10), Dimethylglyoxim (pKa 11,9), Ethandiamidodioxim (pKa 11,37), Acetophenonoxim (pKa 11,35) und ähnliche Oxime und Adenosin (pKa 12,56), Inosin (pKa 12,5), Guanin (pKa 12,3), Cytosin (pKa 12,2), Hypoxanthin (pKa 12,1), Xanthin (pKa 11,9) und ähnliche Nucleinsäure-bezogenen Substanzen und Diethylaminomethylphosphonsäure (pKa 12,32), 1-Amino-3,3,3-trifluorbenzoesäure (pKa 12,29), Isopropylidendiphosphonsäure (pKa 12,10), 1,1-Ethylendiphosphonsäure (pKa 11,54), 1-Hydroxy-1,1-ethylidendiphosphonat (pKa 11,52), Benzimidazol (pKa 12,86), Thiobenzamid (pKa 12,8), Picolinthioamid (pKa 12,55), Barbitursäure (pKa 12,5) und ähnliche schwache Säuren.
  • Unter diesen schwachen Säuren sind Sulfosalicylsäure und Salicylsäure bevorzugt. Als Basen, die mit diesen schwachen Säuren kombiniert werden, werden Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid geeignet verwendet. Diese Alkalimittel werden alleine oder als Mischung von zwei oder mehreren verwendet. Die genannten verschiedenen Alkalimittel werden verwendet, indem der pH innerhalb eines gewünschten Bereiches durch deren Konzentration und Kombination eingestellt wird.
  • Zur Verbesserung der Beschleunigung der Entwicklungsfähigkeit, Dispersion des Entwicklungsrestes und tintenphilen Eigenschaften der Bildteile auf der Druckplatte können verschiedene oberflächenaktive Mittel und organische Lösungsmittel zur Entwicklungslösung nach Bedarf gegeben werden. Als gewünschte oberflächenaktive Mittel können anionische, kationische, nicht-ionische und ampholytische oberflächenaktive Mittel genannt werden.
  • Bevorzugte Beispiele der oberflächenaktiven Mittel umfassen Polyoxyethylenalkylether, Polyoxyethylenalkylphenylether, Polyoxyethylenpolystyrylphenylether, Polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylether, Glycerinfettsäure-Partialester, Sorbitanfettsäure-Partialester, Pentaerythritfettsäure-Partialester, Propylenglykolmonofettsäureester, Sucrosefettsäure-Partikalester, Polyoxyethylensorbitanfettsäure-Partialester, Polyoxyethylensorbitolfettsäure-Partikalester, Polyethylenglykolfettsäure-Partialester, Polyglycerinfettsäure-Partikalester, Polyoxyethylenmodifizierte Rizinusöle, Polyoxyethylenglycerinfettsäure-Partikalester, Fettsäurediethanolamide, N,N-Bis-2-hydroxyalkylamine, Polyoxyethylenalkylamin, Triethanolaminfettsäureester, Trialkylaminoxid und ähnliche nicht-ionische Tenside, Fettsäuresalze, Abietinsäure, Hydroxyalkansulfonsäuresalze, Alkansulfonsäuresalze, Dialkylsulfosuccinsäureestersalze, geradkettige Alkylbenzolsulfonsäuresalze, verzweigte Alkylbenzolsulfonsäuresalze, Alkylnaphthalinsulfonsäuresalze, Alkylphenoxypolyoxyethylenpropylsulfonsäuresalze, Polyoxyethylenalkylsulfophenylethersalze, N-Methyl-N-oleyltaurin-Natriumsalz, N-Alkylsulfosuccinatmonoamid-Dinatriumsalz, Petrolsulfonsäuresalze, sulfatiertes Rindertalgöl, Schwefelsäureestersalze von Fettsäurealkylester, Alkylschwefelsäureestersalze, Polyoxyethylenalkyletherschwefelsäureestersalze, Fettsäuremonoglyceridschwefelsäureestersalze, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelsäureestersalze, Polyoxyethylenstyrylphenyletherschwefelsäureestersalze, Alkylphosphorsäureestersalze, Polyoxyethylenalkyletherphosphorsäureestersalze, Polyoxyethylenalkylphenyletherphosphorsäureestersalze, Teilverseifungsprodukte von Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymer, Teilverseifungsprodukte von Olefin/Maleinsäureanhydrid-Copolymer, Naphthalinsulfonat-Formalin-Kondensationsprodukte und ähnliche anionische Tenside, Alkylaminsalze, Tetrabutylammoniumbromid und ähnliche quaternäre Ammoniumsalze, Polyoxyethylenalkylaminsalze, Polyethylenpolyamin-Derivat und ähnliche kationische Tenside und Carboxybetaine, Aminocarbonsäuren, Sulfobetaine, Aminoschwefelsäureester, Imidazoline und ähnliche ampholytische Tenside. Unter den oben genannten oberflächenaktiven Mitteln kann der Ausdruck Polyoxyethylen durch Polyoxymethylen, Polyoxypropylen, Polyoxybutylen und ähnliche Polyoxyalkylene ersetzt werden, und solche Tenside sind ebenfalls enthalten.
  • Bevorzugte oberflächenaktive Mittel sind oberflächenaktive Mittel vom Fluorsystem, die eine Perfluoralkylgruppe im Molekül enthalten. Beispiele solcher Tenside vom Fluorsystem umfassen Perfluoralkylkohlensäuresalz, Perfluoralkylsulfonsäuresalz, Perfluoralkylphosphorsäureester und ähnliche Anionentypen, Perfluoralkylbetain und ähnliche ampholytische Typen, Perfluoralkyltrimethylammoniumsalze und ähnliche Kationentypen und Perfluoralkylaminoxid, Perfluoralkylethylenoxid-Additionsprodukt, Perfluoralkylgruppen- und hydrophile Gruppen-haltige Oligomere, Perfluoralkylgruppen- und lipophile Gruppen-haltige Oligomere, Perfluoralkylgruppen-, hydrophile Gruppen- und lipophile Gruppen-haltige Oligomere, Perfluoralkylgruppen- und lipophile Gruppen-haltiges Urethan und ähnliche nicht-ionische Typen. Die genannten oberflächenaktiven Mittel können alleine oder als Mischung von zwei oder mehreren verwendet werden und werden zur Entwicklungslösung innerhalb des Bereiches von 0,001 bis 10 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,01 bis 5 Gew.-%, zugegeben.
  • Verschiedene Entwicklungsstabilisatoren können in der Entwicklungslösung verwendet werden. Gewünschte Beispiele umfassen Polyethylenglykol-Additionsprodukte von Zuckeralkoholen, Tetrabutylammoniumhydroxid und ähnliche Tetraalkylammoniumsalze, Tetrabutylphosphoniumbromid und ähnliche Phosphoniumsalze und Diphenyliodoniumchlorid und ähnliche Iodoniumsalze gemäß JP-A-6-282079. Ebenso können anionische Tenside oder ampholytische Tenside gemäß JP-A-50-51324, die wasserlöslichen kationischen Polymere gemäß JP-A-55-95946 und die wasserlöslichen ampholytischen Polymerelektrolyte gemäß JP-A-56-142528 veranschaulicht werden.
  • Weiterhin enthalten sind die organischen Borverbindungen, an die Alkylenglykol addiert wird, wie in JP-A-59-84241 beschrieben ist, die wasserlöslichen Tenside vom Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Blockpolymertyp gemäß JP-A-60-111246, die Polyoxyethylen-Polyoxypropylensubstituierten Alkylendiaminverbindungen gemäß JP-A-60-129750, das Polyethylenglykol mit einem Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 300 oder mehr gemäß JP-A-61-215554, die fluorhaltigen Tenside mit kationischen Gruppen gemäß JP-A-63-175858 und die wasserlöslichen Ethylenoxidadditionsverbindungen, erhalten durch Addition von 4 mol oder mehr Ethylenoxid an eine Säure oder Alkohol, und wasserlösliche Polyalkylenverbindungen gemäß JP-A-2-39157.
  • Nach Bedarf wird ein organisches Lösungsmittel zur Entwicklungslösung gegeben. Als ein solches organisches Lösungsmittel ist ein Lösungsmittel mit einer Löslichkeit in Wasser von etwa 10 Gew.-% oder weniger gewünscht, und bevorzugt wird es ausgewählt aus solchen mit 5 Gew.-% oder weniger. Beispiele umfassen 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenyl-1-propanol, 4-Phenyl-1-butanol, 4-Phenyl-2-butanol, 2-Phenyl-1-butanol, 2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcaclohexanol, 3-Methylcyclohexanol, 4-Methylcyclohexanol, N-Phenylethanolamin, N-Phenyldiethanolamin und dergleichen.
  • Der Gehalt des organischen Lösungsmittels ist von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf Gesamtgewicht der verwendeten Lösung. Weil die Verwendungsmenge eng mit der Verwendungsmenge des oberflächenaktiven Mittels zusammenhängt, ist es gewünscht, die Menge des oberflächenaktiven Mittels zu erhöhen, wenn sich die Menge des organischen Lösungsmittels erhöht. Das organische Lösungsmittel wird nicht vollständig aufgelöst, wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels klein ist, und eine große Menge des organischen Lösungsmittels wird verwendet, so dass die Sicherheit einer guten Entwicklungsfähigkeit nicht erwartet werden kann.
  • Ein Reduktionsmittel kann weiterhin zur Entwicklungslösung gegeben werden. Dies verhindert die Färbung der Druckplatte. Beispiele von gewünschten organischen Reduktionsmitteln umfassen Thiosalicylsäure, Hydrochinon, Metol, Methoxychinon, Resorcin, 2-Methylresorcin und ähnliche Phenolverbindungen und Phenylendiamin, Phenylhydrazin und ähnliche Aminverbindungen. Zusätzlich umfassen Beispiele von gewünschten anorganischen Reduktionsmitteln Natriumsalz, Kaliumsalz, Ammoniumsalz und ähnliche von schwefliger Säure, schweflige Wasserstoffsäure, Phosphorsäure, Hydrogenphosphorsäure, Dihydrogenphosphorsäure, Thioschwefelsäure, Dithionsäure und ähnliche anorganische Säuren.
  • Besonders ausgezeichnet unter diesen Reduktionsmitteln sind Sulfite. Diese Reduktionsmittel sind bevorzugt innerhalb des Bereiches von 0,05 bis 5 Gew.-% in der Entwicklungslösung bei der Verwendung enthalten.
  • Eine organische Carbonsäure kann ebenfalls zur Entwicklungslösung gegeben werden. Bevorzugte organische Carbonsäuren sind eine aliphatische Carbonsäure und eine aromatische Carbonsäure mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen. Erläuternde Beispiele der aliphatischen Carbonsäure umfassen Capronsäure, Enanthylsäure, Caprylsäure, Laurinsäure, Myristinsäure, Palmitinsäure, Stearinsäure und dergleichen, von denen besonders bevorzugt Alkansäuren mit 8 bis 12 Kohlenstoffatomen sind. Zusätzlich können sie ungesättigte Fettsäuren mit Doppelbindungen in den Kohlenstoffketten oder solche mit verzweigten Kohlenstoffketten sein. Die aromatische Carbonsäure ist eine Verbindung, bei der die Carboxylgruppe am Benzolring, Naphthalinring, Anthracenring oder dergleichen substituiert ist, und erläuternde Beispiele umfassen o-Chlorbenzoesäure, o-Chlorbenzoesäure, o-Hydroxybenzoesäure, p-Hydroxybenzoesäure, o-Aminobenzoesäure, p-Aminobenzoesäure, 2,4-Dihydroxybenzoesäure, 2,5-Dihydroxybenzoesäure, 2,6-Dihydroxybenzoesäure, 2,3-Dihydroxybenzoesäure, 3,5-Dihydroxybenzoesäure, Gallensäure, 1-Hydroxy-2-naphthoesäure, 3-Hydroxy-2-naphthoesäure, 2-Hydroxy-1-naphthoesäure, 1-Naphthoesäure, 2-Naphthoesäure und dergleichen, von denen Hydroxynaphthoesäure besonders effektiv ist.
  • Es ist gewünscht, die erwähnte aliphatische und aromatische Carbonsäure als Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalze zu verwenden, um deren Löslichkeit in Wasser zu erhöhen. Obwohl der Gehalt der organischen Carbonsäure in der Entwicklungslösung, die erfindungsgemäß verwendet wird, nicht besonders beschränkt ist, ist ein Gehalt von weniger als 0,1 Gew.-% bezüglich der Wirkung nicht ausreichend, und ein Gehalt von 10 Gew.-% oder mehr hat keine proportional verbesserte Wirkung, sondern kann die Auflösung von anderen Additiven, die gemeinsam verwendet werden, verhindern. Demzufolge ist die Zugabemenge bevorzugt von 0,1 bis 10 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,5 bis 4 Gew.-%, bezogen auf die Entwicklungslösung bei der Verwendung.
  • Nach Bedarf kann in der Entwicklungslösung ein Antiseptikum, Färbemittel, Verdicker, Antischäummittel, Wasserweichmacher und dergleichen enthalten sein. Beispiele des Wasserweichmachers umfassen Polyphosphorsäure und deren Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalz, Ethylendiamintetraessigsäure, Diethylentriaminpentaessigsäure, Triethylentetraminhexaessigsäure, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure, Nitrilotriessigsäure, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure, 1,3-Diamino-2-propanoltetraessigsäure und ähnliche Aminopolycarbonsäuren und deren Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze, Aminotri(methylenphosphonsäure), Ethylendiamintetra(methylenphosphonsäure), Diethylentriaminpenta(methylenphosphonsäure), Triethylentetraminhexa(methylenphosphonsäure), Hydroxyethylethylendiamintri(methylenphosphonsäure) und 1-Hydroxyethan,1,1-diphosphonsäure und deren Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze.
  • Der optimale Wert für einen solchen Wasserweichmacher ändert sich in Abhängigkeit von der Chelatisierung, Härte des verwendeten Wassers und der Menge des harten Wassers, ist aber im Allgemeinen innerhalb des Bereiches von 0,01 bis 5 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,01 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf die Entwicklungslösung bei der Verwendung. Eine Zugabemenge von weniger als diesem Bereich kann nicht ausreichend die gewünschte Wirkung erzielen, und bei einer größeren Zugabemenge als diesem Bereich werden eine Entfärbung und ähnliche nachteilige Wirkungen bei den Bildteilen ausgeübt. Die verbleibende Komponente der Entwicklungslösung ist Wasser. Angesichts des Transportes ist es vorteilhaft, die Entwicklungslösung als konzentrierte Lösung durch Verminderung des Wassergehaltes vor der Verwendung herzustellen und zum Zeitpunkt der Verwendung diese mit Wasser zu verdünnen. Ein angemessener Konzentrationsgrad in diesem Fall ist so, dass jede Komponente nicht getrennt und ausgefällt wird.
  • Die Entwicklungslösung gemäß JP-A-6-282079 kann ebenfalls als Entwicklungslösung der erfindungsgemäßen lithografischen Druckplatte verwendet werden. Dies ist eine Entwicklungslösung, die ein Kieselsäure-Alkalimetallsalz mit einem molaren SiO2/M2O (M ist ein Alkalimetall)-Verhältnis von 0,5 bis 2,0 und eine wasserlösliche Ethylenoxid-Additionsverbindung enthält, erhalten durch Zugabe von 5 oder mehr Mol Ethylenoxid zu einem Zuckeralkohol mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen. Der Zuckeralkohol ist ein mehrwertiger Alkohol, der einem Saccharid entspricht, dessen Aldehydgruppe und Ketongruppe reduziert sind und hierdurch in die erste bzw. zweite Alkoholgruppe umgewandelt werden. Erläuternde Beispiele des Zuckeralkohols umfassen D,L-Threit, Erythrit, D,L-Arabit, Ribit, Xylit, D,L-Sorbit, D,L-Mannit, D,L-Idit, D,L-Talit, Dulcit, Allodulicit und dergleichen, und ebenfalls enthalten sind Di-, Tri-, Tetra-, Penta- und Hexaglycerine, hergestellt durch Kondensieren der entsprechenden Zuckeralkohole. Die genannte wasserlösliche Ethylenoxidadditionsverbindung wird erhalten durch Addition von 5 oder mehr Mol Ethylenoxid an 1 mol des genannten Zuckeralkohols. Zusätzlich kann nach Bedarf die Ethylenoxidadditionsverbindung einer Blockcopolymerisation mit Propylenoxid innerhalb eines solchen Bereiches unterworfen werden, dass die Löslichkeit aufrechterhalten werden kann. Diese Ethylenoxidadditionsverbindungen können alleine oder als Kombination von zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Die Zugabemenge dieser wasserlöslichen Ethylenoxidadditionsverbindungen ist bevorzugt von 0,001 bis 5 Gew.-%, mehr bevorzugt 0,001 bis 2 Gew.-%, bezogen auf die Entwicklungslösung (Arbeitslösung).
  • Zur Verbesserung der Beschleunigung der Entwicklungsfähigkeit, der Dispersion des Entwicklungsrestes und der tintenphilen Eigenschaften der Bildteile auf der Druckplatte können die erwähnten verschiedenen oberflächenaktiven Mittel und organischen Lösungsmittel zu dieser Entwicklungslösung nach Bedarf zugegeben werden.
  • Die lichtempfindliche lithografische Druckplatte, die unter Verwendung einer Entwicklungslösung mit einer solchen Zusammensetzung verarbeitet ist, wird einer Nachbehandlung durch Waschen mit Wasser, einer Spüllösung mit einem oberflächenaktiven Mittel und dergleichen und einer Endbearbeitungslösung oder einer Schutzgummilösung, umfassend Gummi arabicum, Stärkederivate und dergleichen als Hauptkomponente unterworfen. Diese Behandlungen können in verschiedenen Kombinationen für die Nachbehandlung der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung verwendet werden.
  • In den letzten Jahren wird zur Rationalisierung und Standardisierung der Plattenherstellungsarbeiten eine automatische Entwicklungslösung für die PS-Platte in großem Umfang auf dem Gebiet des Formplattendrucks verwendet. Diese automatische Entwicklungsmaschine umfasst im Allgemeinen einen Entwicklungsteil und ein Nachbehandlungsteil und umfasst eine PS-Plattentransportanlage, jeweilige Verarbeitungslösungsbehälter und eine Sprühanlage, worin eine PS-Platte nach der Belichtung horizontal transportiert wird, während die Entwicklung und die Nachbehandlung durch Sprühen einer jeden aufgepumpten Verarbeitungslösung durch eine Sprühdüse durchgeführt wird. Ebenso sind ein Verfahren, bei dem die Entwicklungsbehandlung durch Tränken einer PS-Platte durch Transportieren dieser in einen Verarbeitungslösungsbehälter, der mit einer Verarbeitungslösung gefüllt ist, unter Verwendung einer eingetauchten Führungswalze durchgeführt wird, und ein Verfahren bekannt, bei dem eine Platte nach der Behandlung mit Wasser gewaschen wird, indem eine vorbestimmte kleine Menge an Waschwasser zur Plattenoberfläche geführt wird und das Abfallwasser als Verdünnungswasser der Entwicklungslösung-Mutterlösung zurückgeführt wird.
  • In einer solchen automatischen Behandlung kann die Behandlung durch Ergänzen einer jeden Behandlungslösung mit dem jeweiligen Auffüller als Antwort auf die Behandlungsmenge, Arbeitszeit und dergleichen durchgeführt werden. Ebenso kann ein sogenanntes wegwerfbares Behandlungssystem verwendet werden, bei dem die Behandlung unter Verwendung einer im Wesentlichen nicht verwendeten Behandlungslösung durchgeführt wird. Die lithografische Druckplatte, erhalten durch eine solche Behandlung, wird mit einer Offset-Druckmaschine befestigt und zum Drucken einer großen Anzahl von Blättern verwendet.
  • Beispiele
  • Diese Erfindung wird weiterhin auf der Basis von Beispielen beschrieben. Jedoch wird diese Erfindung nicht durch diese Beispiele beschränkt.
  • (Beispiele 1 und 5 und Vergleichsbeispiel 1)
  • [Herstellung des Trägers]
  • Die Oberfläche eines Aluminiumblattes gemäß JIS A 1050 wurde mit einer Rotationsnylonbürste unter Verwendung einer Bimsstein-Wassersuspension als Abriebsmaterial gekörnt. Die Oberflächenrauhigkeit (durchschnittliche Mittellinienrauhigkeit) in diesem Fall war 0,5 μm. Nach dem Waschen mit Wasser wurde sie in eine 10%ige wässrige Natriumhydroxidlösung, erwärmt auf 70°C zum Ätzen getränkt, so dass die aufgelöste Menge des Aluminiums 6 g/m3 wurde. Nach Waschen mit Wasser wurde dies durch Tränken für 1 Minute in 30%ige wässrige Salpetersäurelösung neutralisiert und anschließend sorgfältig mit Wasser gewaschen. Dann erfolgte die Durchführung einer 20 Sekunden dauernden elektrolytischen Aufrauhbehandlung in einer 0,7%igen wässrigen Salpetersäurelösung unter Verwendung von Rechteckwellen-Wechselstrom mit einer Anodenspannung von 13 Volt und einer Kathodenspannung von 6 Volt, und die Oberfläche wurde durch Tränken in eine Lösung mit 50°C aus 20%iger Schwefelsäure und dann mit Wasser gewaschen.
  • Eine poröse anodische Oxidationsbeschichtungsbildungsbehandlung des Aluminiumblattes nach der Oberflächenaufrauhung wurde in einer 20%igen wässrigen Schwefelsäurelösung unter Anwendung von kontinuierlichem Strom durchgeführt. Durch Durchführen der Elektrolyse bei einer Stromdichte von 5 A/dm5 und Einstellen der Elektrolysezeit wurde ein Substrat mit einer Anodenoxidationsbeschichtung von 4,0 g als Gewicht/m2 auf der Oberfläche hergestellt. Ein Substrat (a) mit einem Abdichtverhältnis von 60 % wurde durch Behandeln dieses Substrates für 10 Sekunden in einer Dampfkammer, gesättigt bei 100°C unter 1 Atmosphäre Druck hergestellt.
  • Das Substrat (a) wurde mit 2,5 Gew.-%iger wässriger Lösung aus Natriumsilicat bei 30°C für 10 Sekunden behandelt, um die Oberfläche hydrophil zu machen, die folgende Unterbeschichtungslösung wurde aufgetragen und dann wurde der Beschichtungsfilm bei 80°C 15 Sekunden getrocknet, unter Erhalt eines Trägers [A] zur Verwendung bei einer lithografischen Druckplatte. Die Bedeckungsmenge des Beschichtungsfilmes nach dem Trocknen war 15 mg/m2. [Unterschichtlösung]
    – Das folgende Polymer mit einem
    Molekulargewicht von 28.000 0,3 g
    – Methanol 100 g
    – Wasser 1 g
    Figure 00420001
  • [Bildung der Aufzeichnungsschicht]
  • Die folgende lichtempfindliche Lösung 1 wurde auf den somit erhaltenen unterbeschichteten Träger (A] auf eine Beschichtungsmenge von 1,8 g/m2 geschichtet und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht (Aufzeichnungsschicht) getrocknet, unter Erhalt eines Vorläufers für eine lithografische Druckplatte 1. [Lichtempfindliche Lösung 1]
    – Zugabeharz (gemäß Tabelle 1) (Harz (A)) 0,03 g
    – Novolakharz (Harz (B)) (m/p-Cresol (6/4),
    Molekulargewicht im Gewichtsmittel 7.000,
    nicht-reagiertes Cresol 0,5 Gew.-%) 0,90 g
    – Ethylmethacrylat/Isobutylmethacrylat/
    Methacrylsäure (35/35/30 mol-%)-Copolymer 0,10 g
    – Cyanin-Farbstoff A (die folgende Struktur) 0,1 g
    – Phthalsäureanhydrid 0,05 g
    – p-Toluolsulfonsäure 0,002 g
    – Ethylviolett, bei dem das Gegenion in
    6-Hydroxy-β-naphthalinsulfonsäure umge
    wandelt war 0,02 g
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser F-176)
    (Feststoffgehalte 20 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,015 g
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser MCF-312)
    (Feststoffgehalte 30 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals Inc.) 0,035 g
    – Methylethylketon 12 g
    Cyaninfarbstoff A:
    Figure 00430001
  • (Beispiele 6 bis 10 und Vergleichsbeispiel 2)
  • Die folgende lichtempfindliche Lösung 2 wurde hergestellt. Diese lichtempfindliche Lösung 2 wurde auf den gleichen Träger [A], wie er bei Beispiel 1 verwendet wurde, bis zu einer Beschichtungsmenge von 1,3 g/m2 geschichtet und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet, unter Erhalt eines lithografischen Druckplattenvorläufers 2. [Lichtempfindliche Lösung 2]
    – Zugabeharz (gemäß Tabelle 2) (Harz (A)) 0,12 g
    – Copolymer 1 (später detailliert beschrieben) 0,75 g
    – Novolakharz (Harz (B)) (Molekulargewicht
    im Gewichtsmittel 4.500, nicht-reagiertes
    Cresol (0,4 Gew.-%) 0,25 g
    – p-Toluolsulfonsäure 0,003 g
    – Tetrahydrophthalsäureanhydrid 0,03 g
    – Cyanin-Farbstoff A 0,017 g
    – Victoria Pure Blue BOH, bei dem das Gegenion
    in ein 1-Naphthalinsulfonsäureanion umgewandelt
    war 0,015 g
    – 3-Methoxy-4-diazodiphenylaminhexafluor
    phosphat 0,02 g
    – n-Dodecylstearat 0,03 g
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser F-176)
    (Feststoffgehalte 20 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) siehe Tabelle 4
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser MCF-312)
    (Feststoffgehalte 30 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals Inc.) siehe Tabelle 4
    – γ-Butyllacton 10 g
    – Methylethylketon 10 g
    – 1-Methoxy-2-propanol 8 g
  • [Synthese des Copolymers 1]
  • Ein Anteil von 31,0 g (0,36 mol) Methacrylsäure, 39,1 g (0,36 mol) Ethylchlorformiat und 200 ml Acetonitril wurden in einen 500 ml Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, Kondensatorrohr und Tropftrichter, gegeben und die Mischung wurde unter Kühlen in einem Eiswasserbad gerührt. Zu dieser Mischung wurden tropfenweise 36,4 g (0,36 mol) Triethylamin durch den Tropftrichter über 1 Stunde gegeben. Nach Vollendung der tropfenweisen Zugabe wurde das Eiswasserbad entfernt und die Mischung bei Raumtemperatur 30 Minuten gerührt.
  • Ein 51,7 g (0,30 mol)-Anteil von p-Aminobenzolsulfonamid wurde zu dieser Reaktion gegeben und die resultierende Mischung 1 Stunde gerührt, während bei 70°C in einem Ölbad inkubiert wurde. Nach Vollendung der Reaktion wurde die Mischung in 1 1 Wasser unter Rühren dieses Wassers gegeben, und die erhaltene Mischung wurde 30 Minuten gerührt. Diese Mischung wurde filtriert, zum Sammeln des Präzipitates, aus dem eine Aufschlämmung mit 500 ml Wasser erzeugt wurde, und dann wurde diese Aufschlämmung filtriert und der somit erhaltene Feststoff wurde getrocknet, unter Erhalt eines weißen Feststoffes aus N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid (Ausbeute 46,9 g).
  • Danach wurden 4,61 g (0,0192 mol) N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,58 g (0,0258 mol) Ethylmethacrylat, 0,80 g (0,015 mol) Acrylonitril und 20 g N,N-Dimethylacetamid in einen 20 ml-Dreihalskolben, ausgerüstet mit einem Rührer, Kondensatorrohr und einem Tropftrichter gegeben, und die Mischung wurde unter Erwärmen bei 65°C in einem Heißwasserbad gerührt. Ein 0,15 g Anteil "V-65" (hergestellt von Wako Pure Chemical Industries) wurde zu dieser Mischung gegeben, und die resultierende Mischung 2 Stunden in einem Stickstoffstrom unter Halten bei 65°C gerührt. Eine Mischung aus 4,61 g N-(p-Aminosulfonylphenyl)methacrylamid, 2,58 g Ethylmethacrylat, 0,80 g Acrylnitril, N,N-Dimethylacetamid und 0,15 g "V-65" wurden weiterhin tropfenweise zu dieser Reaktionsmischung durch den Tropftrichter über 2 Stunden zugegeben. Nach Vollendung der tropfenweisen Zugabe wurde die somit erhaltene Mischung 2 Stunden bei 65°C gerührt. Nach Vollendung der Reaktion wurde die Mischung mit 40 g Methanol gemischt und gekühlt, die resultierende Mischung in 2 1 Wasser unter Rühren dieses Wassers gegeben, die Mischung wurde 30 Minuten gerührt und dann das Präzipitat durch Filtrat gesammelt und getrocknet, unter Erhalt von 15 g eines weißen Feststoffes.
  • Das Molekulargewicht im Gewichtsmittel (Polystyrol-Standard) dieses spezifischen Copolymers 1 war 53.000, wenn durch Gelpermeationschromatographie gemessen wurde.
  • (Beispiele 11 bis 16 und Vergleichsbeispiel 3)
  • Die folgende lichtempfindliche Lösung 3A wurde auf den gleichen Träger [A], der bei Beispiel 1 verwendet wurde, beschichtet und bei 100°C 2 Minuten getrocknet, unter Erhalt der Schicht (A). Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war 1,04 g/m2.
  • Danach wurde die folgende lichtempfindliche Lösung 3B darauf geschichtet und 2 Minuten bei 100°C getrocknet, unter Erhalt der Schicht (B) (obere Schicht) unter Erhalt eines lithografischen Druckplattenvorläufers 3. Die gesamte Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Lösungen nach dem Trocknen war 1,2 g/m2. [Lichtempfindliche Lösung 3A.]
    – Copolymer 1 0,75 g
    – Cyanin-Farbstoff A 0,04 g
    – p-Toluolsulfonsäure 0,002 g
    – Tetrahydrophthalsäureanhydrid 0,05 g
    – Farbstoff, hergestellt durch Umwandeln des
    Gegenions von Victoria Pure Blue BOH in
    ein 1-Naphthalinsulfonsäureanion 0,015 g
    – Polymer C vom Fluorsystem (Defenser F-176)
    (Feststoffgehalte 20 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) siehe Tabelle 4
    – γ-Butyllacton 8 g
    – Methylethylketon 7 g
    – 1-Methoxy-2-propanol 7 g
    [Lichtempfindliche Lösung 3B]
    – Zugabeharz (gemäß Tabelle 3) (Harz (A)) 0,015 g
    – Novolakharz (Harz (B)) (Molekulargewicht
    im Gewichtsmittel 4.500, nicht-reagiertes
    Cresol (0,5 Gew.-%) 0,25 g
    – Cyanin-Farbstoff A 0,05 g
    – n-Dodecylstearat 0,02 g
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser F-176)
    (Feststoffgehalte 20 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) siehe Tabelle 4
    – Polymer vom Fluorsystem (Defenser MCF-312)
    (Feststoffgehalte 30 %), hergestellt von
    Dainippon Ink & Chemicals Inc.) siehe Tabelle 4
    – Methylethylketon 7 g
    – 1-Methoxy-2-propanol 7 g
  • [Auswertung der Entwicklungsbreite]
  • Ein Testmuster wurde in einer Bildform der somit erhaltenen lichtempfindlichen lithografischen Druckplattenvorläufer 1 bis 5 der Erfindung und der Druckplatte von Vergleichsbeispiel 1 unter Verwendung von Trendsetter, hergestellt von Creo, bei einer Strahlstärke von 9 W und einer Trommelumdrehungsgeschwindigkeit von 150 U/min geschrieben.
  • Zunächst wurde jeder lithografische Druckplattenvorläufer unter den obigen Bedingungen belichtet und für eine Entwicklungszeit von 25 Sekunden unter Verwendung von PS Processor 900H, hergestellt von Fuji Photo Film, entwickelt und mit der folgenden Alkalientwicklungslösung A beladen, während die Temperatur der Lösung bei 28°C gehalten wurde. Dann wurde das Vorhandensein oder die Abwesenheit von Färbungen und Flecken, die durch schlecht entwickelte Aufzeichnungsschichtreste verursacht wurden, verifiziert. Danach wurde die Behandlung durch Verdünnen mit Wasser wiederholt, und die Leitfähigkeit der Entwicklungslösung nach der Entwicklung wurde gemessen. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 1 gezeigt. Ein Ergebnis mit einem großen Unterschied zwischen dem oberen Grenzwert und dem unteren Grenzwert wird als ausgezeichnet bewertet.
  • [Auswertungsverfahren der Bilddichte]
  • Beim Drucken einer jeden lithografischen Druckplatte, erhalten durch Entwicklung bei etwa der Zentralteil-Leitfähigkeit der Entwicklungsbreite durch Rislon Printer, hergestellt von Komori Corporation unter Verwendung von DIC-GEOS (N) japanischer Tinte (hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) als Tinte, wurde der Druck so gestartet, dass die Tintenwalze und das Druckpapier nach Kontaktieren einer Tränkwalze mit der Plattenoberfläche und 10-maligem Walzen zugeführt wurden und die Anzahl der Blätter des Druckpapiers, die erforderlich waren, um das Bild auf dem Druckpapier korrekt zu reproduzieren, wurde zum Auswerten der Bilddichte gezählt. <Zusammensetzung der Alkalientwicklungslösung A>
    – SiO2-K2O (K2O/SiO2 = 1/1 (molares Verhältnis)) 4,0 Gew.-%
    – Zitronensäure 0,5 Gew.-%
    – Polyethylenglykol-modifiziertes Sorbit
    (durchschnittlich 30 Einheiten Additions
    produkt) 1,0 Gew.-%
    – Wasser 50 Gew.-%
  • Tabelle 1
    Figure 00490001
  • Aufgrund der Ergebnisse von Tabelle 1 waren die lichtempfindlichen lithografischen Druckplattenvorläufer der Erfindung in der Lage, eine ausgezeichnete Dichte und Entwicklungsbreite zu realisieren.
  • Zusätzlich wurden die lichtempfindlichen lithografischen Druckplatten 6 bis 15 der Erfindung und die Druckplatten der Vergleichsbeispiel 2 und 3 durch Laden einer Alkalientwicklungslösung B in den genannten PS Processor 900H und Verdünnen mit Wasser auf obige Weise bei einer Flüssigkeitstemperatur von 28°C für eine Entwicklungsperiode von 14 Sekunden behandelt, und die Entwicklungsbreite wurde auf gleiche Weise bewertet. <Zusammensetzung der Alkalientwicklungslösung B>
    – D-Sorbit 2,5 Gew.-%
    – Natriumhydroxid 0,85 Gew.-%
    – Diethylentriaminpenta(methylen
    sulfonsäure)-5Na-Salz 0,05 Gew.-%
    – Wasser 50,0 Gew.-%
  • Tabelle 2
    Figure 00500001
  • Tabelle 3
    Figure 00510001
  • Aufgrund der Ergebnisse von den Tabellen 2 und 3 waren die lichtempfindlichen lithografischen Druckplatten der Erfindung in der Lage, eine ausgezeichnete Tintendichte und Entwicklungsbreite zu realisieren.
  • Gemäß der lichtempfindlichen lithografischen Druckplatte dieser Erfindung kann die Tintenaufnahmefähigkeit (Bilddichte) und Entwicklungsbreite verbessert werden, indem ein Harz mit einer spezifischen Struktur in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist.

Claims (10)

  1. Lichtempfindliche, lithografische Druckplatte, umfassend eine lichtempfindliche Schicht, umfassend: (A) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von substituierten Phenolen mit der Formel (I) mit Aldehyden; (B) ein Harz, hergestellt durch Kondensation von Phenolen, ausgewählt aus Cresol, Phenol und Xylenol, mit Aldehyden; und (C) eine Licht-Wärme-Umwandlungssubstanz:
    Figure 00520001
    worin R1 und R2 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder ein Halogenatom sind und R3 eine Alkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen oder Cycloalkylgruppe mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen ist.
  2. Lichtempfindliche, lithografische Druckplatte nach Anspruch 1, worin die Aldehyde des Harzes (A) zumindest eines von Formaldehyd, Acetaldehyd, Acrolein und Crotonaldehyd sind.
  3. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin die Aldehyde des Harzes (A) zumindest eines von Formaldehyd und Acetaldehyd sind.
  4. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin die Aldehyde des Harzes (B) zumindest eines von Formaldehyd, Acetaldehyd, Acrolein und Crotonaldehyd sind.
  5. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin die Aldehyde des Harzes (B) zumindest eines von Formaldehyd und Acetaldehyd sind.
  6. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin das Harz (A) ein Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 500 bis 50.000 hat.
  7. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin das Harz (B) ein Molekulargewicht im Gewichtsmittel von 1.000 bis 700.000 hat.
  8. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin das Harz (B) ein Molekulargewicht im Zahlenmittel von 750 bis 650.000 hat.
  9. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, worin das Verhältnis des Harzes (A) zum gesamten Feststoffgehalt in der lichtempfindlichen Schicht von 0,1 bis 20 Gew.% ist.
  10. Lichtempfindliche, lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, weiterhin umfassend ein alkalilösliches Harz.
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